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JPS58122532A - ホログラム記録材料 - Google Patents

ホログラム記録材料

Info

Publication number
JPS58122532A
JPS58122532A JP57005695A JP569582A JPS58122532A JP S58122532 A JPS58122532 A JP S58122532A JP 57005695 A JP57005695 A JP 57005695A JP 569582 A JP569582 A JP 569582A JP S58122532 A JPS58122532 A JP S58122532A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hologram
light
photosensitive
diffraction efficiency
hologram recording
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP57005695A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshizumi Ikegami
池上 佳住
Hirofumi Okuyama
奥山 弘文
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP57005695A priority Critical patent/JPS58122532A/ja
Priority to DE8383300224T priority patent/DE3363215D1/de
Priority to US06/458,850 priority patent/US4517266A/en
Priority to EP83300224A priority patent/EP0084452B1/en
Publication of JPS58122532A publication Critical patent/JPS58122532A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/72Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
    • G03C1/73Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds
    • G03C1/733Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds with macromolecular compounds as photosensitive substances, e.g. photochromic
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/001Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/127Spectral sensitizer containing

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はホログラム記録材料、特にホログラムスキャナ
、ホログラムレンズその他光路変換、集光等の光部品に
適用できる0 従来のホログラム材料としては銀塩写真重クロム酸ゼラ
チン、サーモグラスチック フォトポリマなどが用いら
れているが、高回折効率、高解偉性、記録書生の容易性
、耐光性、耐湿熱すべての要求を満たすものはない。最
も多く使用される銀塩写には湿度に弱く、記録後の処理
が峻しく安定性に欠け、また高回折効率、高解像性を有
する重クロム酸ゼラチンもまた同様の欠点を有してiる
本発明は上述の点に鎌みなされ友もので、高回折効率、
高解像性から耐光性、耐湿熱にすぐれその上、記録後の
処理が簡単であるという、今までにない特性上著しく優
れたホログラム記録材料を提供することにある。
本発明の目的は光照射された環状シス−α−ジカルボニ
ル化合物から発生したラジカルによるビニルカルバゾー
ル環の水素引抜き反応で生じるビニルカルバゾール重合
体の架橋反応を利用している。この反応で起こる露光領
域と非露光領域に?ける耐溶媒性の差異を利用して、尋
媒処理によシレリーフバター/を形成せしめることによ
って達成される。環状シスーα−ジカルボニル化合物は
り桟部に吸収を持つ上、ラジカル発生が励起三項状態を
経るため、いわゆる三重項増感が可能とな9、各種色素
を利用して波長増感が可能である。
本発明は露光領域において耐溶媒性が向上するために、
俗媒処理によって非露光領域を選択的に溶解せしめ、レ
リーフパターンを形成する材料に関する。露光領域では
光照射により生じたカルボニルラジカルがカルバゾール
環の3または61位の水Xを引抜きカルバゾール環が架
矯しそれ故に分子量が増加するために屈折率が増大する
とともに耐溶媒性が増すものと考えられ、溶解処理によ
って非露光部はWe@するか、なかば溶解した状態とな
った後非鑓媒による収縮作用によりレリーフパターンが
形成場れると考えられる。
本発明で用いられる環状シスーα−ジカルボニル化&物
は重合開始剤として開示(特開昭48−84183)さ
れているが重合体に適用することにより特注上者しくす
ぐれた記録材料を得る本発明に到達したものである。本
発明の特徴としては環状7スーα−ジカルボニル化合物
はり桟部に吸収を自゛し、待に2,3ボルナンジオンは
480M付近に中程度の彊にの吸収帯を有することから
アルゴンレーザ感光性でめシ、かつよく知られているよ
うにカルボニル化合物は励起三重項状態を経由して光化
学反応を行うためいわゆる三重項増感が可能なために三
重項増感oJ能な励起電子エネルギー準位を有する各種
増感剤の使用により高感度化および感光波長領域の拡大
が可能である。
本発明に使用されるビニルカルバゾール重合体としては
ハロタ?、アルキル、アミン、ニトロ。
チオシアノなどで置換されていてもよく、また他の電合
体との共連合でもよい。
本発明に用いられる環状シスーα−ジカルボニル化合物
としては、283−ボルナンジオン、2.2゜Δ5−テ
トラメチルーテトラヒドロ−3,4−フランジオン、パ
ラバン酸(ノミダゾールトリオン)インドール−2,3
−ジオン(イサチン)、LX。
4.4−テトラメチルテトラリン−2,3−ジオン、3
−メチル−1,2−シクロペンタジジオンなどが上げら
れる。
増感剤としては、ビス(p−アミノフェニル−α、β−
不飽IFO)ケトン類1%にミヒラーケトン、ビス−(
アルキルアミノ)−アクリジン染料、特にアクリジンル
ンジ、アクリジンイエローシアニン染料、スチリル染料
塩基、p−アミノブエールケトン。ジフェニルメタン系
、トリフ【ニルメタン系、色素類が使用可能である。
この他ローズベンガルローグミン6G、フ、ルオレッセ
ン、フルオレッセンナトリウム(ウラニン)。
チオフラビン及びオイルオレンジ等も有用である。
以F本発明のホログラム記録材料を実施例で説明する。
〔実施例1〕 ポリビニルカルバゾール(亜南産業、商品名ツビコール
210 分子1i13万)112.3−ボルナンジオン
(イーストマンコダック)025f ミヒラーケトン(イーストマンコダック)α01dlモ
ノクロロベンゼン([束化学)lof上記組成の感光性
溶液を、フOx’70xl工のガラス板に、乾燥後の感
材の膜厚が2μとなるようにスピンコード法により暗所
にて塗布した後、60℃x15分間オーブンキで乾燥し
た後、ホログラム記録量感光板を作成した。Cの感光板
を第1図に示すアルゴンレーザ(488nm)を用いた
2光束干渉装置によって単純回路格子パターン(空間周
波数1000本/a、>を記録し、トルエシキ7レン混
合溶媒蒸気中で現偉し九後、n−ベンクジ中で浸漬処理
した。次いで風乾しホログラムを得九。回折効率は50
%であった。この時、入射光量は25 mW/a11で
露光時間は60秒であった。
因みにこの耐湿性を調べるために60℃、95係の恒温
恒湿槽中に放置したが、1o日後でも回折効率及びブラ
ッグ角の変化は全く認められなかった。
次いでホログラムの耐光性を調べるためにアルゴンレー
ザ(波長48 snm、光強度28W/d)を10時間
照射し九が全く変化は認められなかった。また超高圧水
銀灯(365nm領域の強度20 m W/Cd )を
照射し九が約3時間経過後、黄色に変化し回折効率は約
1%低下し九が、以後の低Fはな(10時間経過後もそ
の値に変化はなかった。
このように耐湿熱及び耐光性に関してもすぐれているこ
とをm11gした。
なお第1図はホログラム作製用三光束干渉装置である。
1はレーザー、2はスリット、3,6゜7はミラー、番
はビームスプリッタ、5はシャッター、8,9はコリメ
ータレンズ、10は感光板を示す。
〔実施例2〜4〕 ホログラム感光材の膜厚と回折効率の隣保を調べる為に
上記例と全く同様にしてホログラムを作成した。実施例
1と異なるのは感材の膜厚のみで、膜厚を4.6.8μ
mの場合の回折効率データを第1表にまとめて示す。
第1表 〔実施例5」 ポリビニルカルバゾール(ツビコール210)1g 2.3−ボルナンジオン(イーストマンコダック) α
021 ミモラーケント(イーストマンコダック)α021 テトラヒドロ7ラン(関東化学)6f モノクロロベンゼン(関東化学)  51上記組成の感
光液を実施例1と同様にガラス板(70×グOx1g)
にスピンコードした後、熱乾燥(60″CX l 5分
)し、ホログラム記録用感光板を44た。この感光板を
使用して第2図に示す光学系でホログラムコピーを作成
した。使用マスター23は写真乾板24上に交さ角60
°の平面波で作製(光源:Hθ−Noレーザ)した振幅
ホログラム26である。コピー光源としては超高圧水銀
灯21 (U8H−250D ウシオ電機)を使用し、
レンズ22で平行光とされたコピー光29はマスター2
3に対し、ブラッグ角O入射し、露光時間は2分でめっ
九。なお、ホログラム記録用感光板26は前述の如くガ
ラス板2フ上に感光I[28を形成したものである。露
光後は実施例1と同様にしてトルエンキシレン混合溶媒
蒸気中で現像しn−ぺ/夕/中で浸漬処理を行い、次い
で風乾してコピーホログラムを得た。得られたホログラ
ムは全面均一で1回折効率53%、感材膜厚は2.5μ
であった。
〔実施例6〜9〕 実施例5と同様にホログラムとコピーを作製し、回折効
率を測定した。実施例5と異なるのは感材の膜厚を変え
たことで以下まとめて第2表に示す。
因みにこれらコピーホログラムへの再生光の入射角度に
対する回折効率依存性を感材の膜厚tをパラメータとし
て測定した。その結果を8g3図に示す。第3図は縦軸
に回折効率、横軸にコピーホログラムへの再生光の入射
角度のブラッグ角Oからのずれ角ψでプロットしたコピ
ーホログラムの回折効率の再生角度依存性を示すグラフ
である。
感材の膜厚tがz5μm、!:#いと再生角度依存性は
小さいが、回折効率は低く約504@度である〇一方感
材のM摩tが厚くなるにつれて、再生角度依存性が大き
くなると共に回折効率も高くなる。
さらに感材膜厚tがへ8μmの実施例6について露光時
間に対する回折効率変化を第4図に示す◎第4図は縦軸
に回折効率、横軸に露光時間でプロットしたものである
。図から回折効率は露光時間が5〜6分の時最大とな)
、それ以上露光時間を長くしても回折効率は低下する。
〔実施例101 ポリビニルカルバゾール(ツビコール210)f 均3−ボルナンジオン(イーストマ/コダック)α02
9 アクリジンオレンジ(イーストマンコダック)αogy
    − クロロホルム(関東化学)  log 上記組成の感光液を実施例1と同様にガラス板(70x
70xlu)にスピンコードし死後、熱乾燥(60℃x
15分)し、膜43μmの感光板を得た。この感光板を
第1図に示すアルゴンレーザ(5xtanm)を用いた
三光束干渉装置によって琲純回折格子パターン(空間周
波数1000本/u)を記録しトルエン蒸気中で現像し
た後、n−ベンタン中で浸漬処理し九。次いで風乾し、
ホログラムを倚九。入射光量はl Om W /cd 
、露光量時間30秒であり、回折効率70%が得られた
〔実施例11) ポリビニルカルバゾール(ツビコール210)1 43−ボルナンジオン(イーストマンコダック)α02
f テオフラミン(イーストマンコダック)0027クロロ
ホルム(イーストマンコダッ、り)   xoy上記実
施例と同様にしてホログラムを作成し友。
この場合アルゴンレーザの波長は488nmでめり、露
光時間20秒、入射光量10 mWで回折効〔実施例1
2〕 ポリビニルカルバゾール(ツビコール210 )f 2.3−ボルナンジオン(イーストマンコダック)α0
2f ローダミン6G(関東化学)   αa2pモノクロロ
ベンゼン(関東化学)   l Oy上記実施例と同様
にホログラムを作成し九。この場合入射光ii25 m
W/cd、露光時間10秒で回折効率は40%を得た。
〔実施例13〕 ポリビニルカルバゾール(ツビコール210)1 43−ボルナンジオ/(イーストマンコダック)α02
f エチルオ゛レンジ(イーストマンコダック)α02fジ
メチルホルムアミド(関東化学)   10を上記実施
例と同様にしてホログラムを作成し九〇仁の場合入射光
量10 m w /’ *露光時間50秒で回折効率6
5%が得られた。
本発明によれば 1)高空間周波数で高回折効率である。
2)耐湿熱、耐光性にすぐれる0 3)記録後の処理が比較的簡単でめる〇のホログラムが
得られるので、ホログラムの低コスト化、高信頼化が可
能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図はホログラム作製用三光束干渉装置のブロック図
、第2図はホログラムコピー光学系を示す図、第3図は
ホログラムの回折効率の再生角依存性を示すグラフ、第
4図はコピーホログラムの回折効率の露光量依存性を示
す図でめる。 l:レーザ、2ニスリツト、31へ7:ミラー、4:ビ
ームスプリツタ、6:シャッタ、8,9:コリメータレ
ンズ、lO:感光板、21:超高圧水銀灯、22:コリ
メータレンズ、23:マスタホログラム、26:感光板
。 第1 図 3       2     ( 第2図 手続補正書山如 〔鴫・1・1”38 特許庁長官 殿 l、事件の表示 昭和57年特許順第 5695号 2、発明の夕瑯 ホログラム記録材料 3、  ?#正をする者 事件との関係  特許出願人 住所 神奈川県用崎市中原区上小田中1015番地(5
22)名称富 士 通 株 式 会 社4、代理人 住所 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地富士
通株式会社内 明   細   書 1、発明の名称 ホログラム記録用感光材料及びホログラム製造方法 2、特許請求の範囲 l)ビニルカルバ′ゾール環を含む重合体光照射により
ラジカルを発生する環状シス−α−ジカルボニル化合物
光増感剤もしくは分光増感剤として色素類を含むことを
特徴とするホログラム記録材料。 許請求の範囲第1項記載のホログラム記録材料。 (ただしSl は励起−重環状態のポテンシャルエネル
ギー、τlは三重項状態のポテンシャルエネルギー) 3)環状シスーα−ジカルボニル化合物が2.3−ボル
ナンジオンであることを特徴とする特許請求の卸、四糖
1項記載のホログラム配録材料。 4)色素類がチオフラビン類であることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載のホログラム記録材料。 5)ビニルカルバゾール環を含む重合体、光照射により
ラジカルを発生する環状シス−α−ジカルボニル化合物
、そして増感剤を含む感光材料を輻射線の干渉パターン
を形成し、形成されたパターンを有する感光材料をその
材料が不溶かつ膨潤可能な第1の溶媒中で膨潤化処理し
、そして次に前記材料に関して非溶媒である第2の溶媒
中で収縮化処理することを含んでなるホログラム製造方
法。 3、発明の詳細な説明 (11発明の技術分野 本発明は、ホログラフィに関し、さらに詳しく述べると
、重合体の架橋反応を利用したホログラム記録用感光材
料及びかかる感光材料を使用してホログラムを製造する
方法に関する。 (2)技術の背景 ホログラフィ−は、簡単に述べると、光波の干渉性を用
い、物体から出る波面を例えば写真感光材料などのよう
な記録材料に記録し、それを照明して波面を再生する技
術であり、また、ホログラムは、ホログラフィに2いて
、物体から出る光波を、それと干渉性がある光波と干渉
させて、例えば写真感光材料などのようか記録材料に記
録したものである。 (3)  従来技術と問題点 実用域に達しているホログラム用記録材料としては、例
えば、銀塩りようが写真感光材料のほか、重クロム酸ゼ
ラチン、サーモプラスチ、りなど、多くの材料が公知で
ある。しかしながら、このような公知のホログラム用記
録材料は、以下に述べるようなそれに望ましい特性をす
べて満足させ得るものでもなく、また、作業性にも劣っ
ている。 ホログラム用記録材料に望ましい特性としては例えば、 (1)  高解健度を有すること、 (2)高感度であること、 (3)耐湿熱性にすぐれていること、 (4)耐光性にすぐれていること、 (5)記録及び再生処理が簡単であること、などをあげ
ることができる。 近年、上述のようか要件を満たすものとして、有機ハロ
ゲンの高感度性を利用したポリビニルカルバゾール系の
ホログラム用高分子記録材料が提案さnている(例えば
、特開昭53−15153号公報、同54−10134
3号公報及び同54−102140号公報を参照された
い)。このよりな配録材料は、架橋反応を利用して2り
かっ架橋剤としてハロゲン含有化合物を使用している。 このタイプの記録材料は、解倫性、感度及び耐環墳性(
耐湿熱性、耐光性など)にすぐれているというものの、
長波長に感光性をもたがいかあるいけ長波長感覚性でも
安定性に欠けるという欠点を有している。なぜなら、か
かる材料の感光波長は、ハロゲン含有化合物の感光波長
に依存しており、台木増感が困難であるからである。 (4)発明の目的 本発明の目的は、より長波長にも感度含有するような、
改良された感度、解倫性、耐湿熱性及び耐光性を具えて
′いるホログラム記録用感光材料を提供することにある
。 (5)発明の構成 本発明は l)ビニルカルバゾール環を含む重合体光照射によりラ
ジカルを発生する環状シス−α−ジカルボニル化合物、
光増感剤もしくは分光増感剤として色素類を含むことを
特命とするホログラム配録材料。 2) 上記11状シス−α〜ジカルボニル化合物と色素
類との間に下記(1)式を満すことを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載のホログラム記録材料。 (友だしSIは励起−重環状態のポテンシャルエネルギ
ー、T11d三重項状態のポテンシャルエネルギー) 3)環状シスーα−ジカルボニル化合物が2゜3−ボル
ナンジオンであることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載のホログラム記録材料。 4)色素類がチオフラビ゛ン類であることを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載のホログラム記録材料。 5)ビニルカルバ゛ゾール環を含む重合体、光照射によ
りラジカルを発生する環状シス−α−ジカルボニル化合
物、そして増感剤を含む感光材料を、輻射線の干渉パタ
ーンを形成し、形成されたパターンを有する感光材料を
その材料が不溶かつ膨潤可能な第1の溶媒中で膨潤化処
理しそして次に前記材料に関して非溶媒である第2の溶
媒中で収縮化処理することを含んでなる、ホログラム製
造方法により達成される。 本発明者らは、上記目的を達成すべく研究を行なつた結
果、ラジカルによって置換可能な反応位置が存在してい
る芳香環又はヘテロfJ#を有している重合体に架橋剤
としての光励起によってラジカルを放出可能な環状シス
−α−ジカルボニル化合物及び増感剤を′併用すること
によって所期の感光材料を提供し得るということを見い
出した。すなわち、本発明は、環状シス−α−ジカルボ
ニル化合物の光励起で生じたラジカルの水素引き抜き反
応によって高分子鎖の架橋を行ない、それによって高分
子重合体中に密度分布を記録することに特徴がある。付
言すると、力為かる環状シスーα−ジカルボニル化合物
の多くは、可視光を吸収するため、安定なレーザ光源を
必要とするホログラム記録に好都合である。 本発明に従うと、さらに、ラジカルによって置換可能な
反応位置が存在している芳香環又はヘテoJを有してい
る1合体、光励起によってラジカルを放出可能な環状シ
ス−α−ジカルボニル化合物、そして増感剤を含んでな
る感光材料のMI、を輻射線の干渉パ゛ターンに露出し
てホログラフィ、夕干渉パターンを形成し、形成された
パターンを有する感光材料をその材料が不溶かり膨潤可
能な第1の溶傅中で膨潤化処理し、そして次に前記材料
に関して非溶媒である第2の溶媒中で収縮化処理するこ
とを含んでなる、ホログラム製造方法もまた提供される
。 本発明a且釣は下記(1)式の如く光照射された環状シ
ス−α−ジカルボニル化合物から発生したラジカルによ
るビニルカルノ々゛ゾール甲の水素引抜き反応で生じる
ビニルカルバ゛ゾール重合体の架橋反応を利用している
。 −c−c−−と−C− この反応で起こる露光領域と非露光領域における耐溶剤
性の差異を利用して、溶媒処理によりレリーフパターン
を形成せしめることによって達成される。環状シス−α
−ジカルボニル化合物は可視部に吸収を持つ上、ラジカ
ル発生が励起三重項状態を経るため、いわ中る三重順増
感が可能となり、各種色素を利用して波長増感が可能で
ある。 本発明は露光′惟域において耐溶剤性が向上するために
、溶媒処理によって非露光@蛾を選択的に溶解せしめ、
りり−7パターンを形成する材料に関する。露光領域で
は光照射により生じたカルボニルラジカルがカルバゾー
ル環の3または6位の水素を引抜きカルバゾール環が架
橋しそれ故に分子量が増加するために屈折率が増大する
とともに耐溶剤性が増すものと考えられ、溶媒処理によ
って非露光部は膨潤するか、なかば溶解した状態となっ
た後非溶媒による収縮作用によりレリーフパターンが形
成されると考えられる。 ラジカル発生が励起三重項状態を経るために三重項増感
可能な励起電子エネルギー準位を有する各種増感剤の使
用により高感度化および感光波長領域の拡大が可能であ
る。 本発明は着感色素として著しい効果をもつチオフラビ゛
ン類を用いることにより、感度の高いホログラム記録材
料を提供することにある。 チオフラビン類が他の色素に比べ著しい増感効果を有す
る原因としては以下の事が判明した。 (1)チオフラビンの一重項、三重項間の遷移確率が大
きい。 (2)チオフラビン、2.3−ボルナンジオンの三重項
エネルギー準位がきわめて近い位皺にある。 この九めチオフラビンの吸収し念大エネルギーは2.3
−ボルナンジオンの三重項エネルギー準位ヲ軽るラジカ
ル反応を著しく促進させ、その結果ポリビニルカルバゾ
ールの重合反応、つまりホログラム記録に寄与するもの
と考えられる。 第1図は有機色素分子の析念的なエネルギー準位構造と
関係する遷移を示したものである。一般に有機化合物の
電子はすべて対になっているので、電子の基底状態はス
ピン1″FfE項状態(So)であり、励起状ドμには
11項(Sl)と3重項(Tl)の状態がある。千ねぞ
れの電子状態は分子の揚動および回転エネルギーに応じ
て分離しているが、振動準位間のエネルギー差は150
0 cm−’程度、又、回転準イ☆IU1では1〜15
m−’程度であるから、多原子分子の電子状部は振動、
回転準位が互いに重なり合ってほぼ連続的なバンド状に
なっている。 一般にIM項状′態5o−4tの遷移はスピン許容のた
め極めて強い吸収を生じ、S1状態に励起された分子は
その一部のエネルギーを緩和によって振動や回転に与え
、Sl中の最低準位810に達した後、そこからのSo
状態の各単位Soiへの遷移によってけい光を生じる。 とのけい光の寿命Fi遷移確率が大きいため相当短(1
0’ Sec程度テアル。 81状態にある分子の一部は非放射遷移によってT1状
態に緩和する確率をもつており、それに続<1゛1→S
oの遷移によってりん光を生じる。T1状態の寿命は条
件によってかなり異なるが、その遷移がスピン禁制であ
るため、一般に10sec程度と長くなっている。 第2図は本発明の環状シス−α−ジカルボニル化合物で
ある。2.3ボルナンジオンの一11E項(al)及び
三重項(T1)のエネルギー準位と増感色素としてのチ
オフラビン、アクリジンオレンジ、省ヒラーケトンの各
々の一重項(sl)、三重項(T1)のエネルギー準位
を示す図である。図で縦軸は波数でエネルギーを示した
。 2.3ボルナンジオンの三重項エネルギー準位(T1)
d 17800cm−’である。 一方増感色素としてのチオフラビンのT+は18000
crR−’、ミヒラーケトンのT1 は21600tm
−’、アクリジンオレンジのT】は+ 6400cm−
’である。 列部からの励起光(Arv−ザ)により増感色素は基底
−を頂廿−(So)から励起−事項状態(Sl)に励起
さね、次いで非放射遷移によって三重項状態(Ts)に
緩和する。 3重項状態は比較的寿命の長い励起状態であるから、瞬
間的に多量の光で励起すれば、3重項状態に励起された
分子がある時間かなりの濃度で存在することが可能にな
る。 ところで、励起光により基底−事項状態(sO)から励
起−事項状態、(Sl)に励起され、次いで非放射遷移
により三重項状態(Tl)に緩和した色素の三重項エネ
ルギーが、ラジカル発生剤となる2、3ボルナンジオン
の三重項にエネルギーを与えるためには下式を満す必要
があると考えられん51(2,3ホルナンジ#”)>S
t(色素)T+(色素)〉TI(2,3ボルナンジオン
)本発明に使用されるビニルカルバ′ゾール重合体とし
てはハロゲン、アルキル、アミノ、ニトロ。 チオシアノなどで置換されていてもよく、マた他の重合
体との共重合体でもよい。 本発明に用いられる環状シス−α−ジカルボニル化合物
としてfl、  2. 3−ボルナンジオン、2.2 
。 55−テトラメチル−テトラヒドロ−3,4−フランジ
オン、パラバン酸(イミダゾールトリオン)インドール
−2,3−ジオン(イサチン)、1.1゜44−テトラ
メチルテトラリン−2,3−ジオン、3−メチル−1,
2−シクロペンタジオンなトポ上げられる。 本発明に用・いられる色素類としては、前記チオフラビ
ン類の他にビスCPアミノフェニルα、β−不飽和)ケ
トン類、ビス(アルキルアミノ)アクリジン染料、シア
ニン染料、スチリル染料、地基。 P−アミノフェニルケトンなどを使用することができる
。 本発明によるホログラム記録用感光材料は、上述のよう
な成分、すなわち重合体、架橋剤及び増感剤を任意の濃
度で適宜溶媒に溶解もしくは分散させ、′得られた溶液
もしくは分散液をそのままフィルム化するかもしくはガ
ラスプラスチックなどの支持体上に塗布することによっ
てV@製することができる。 この14合、イφ用する架橋剤のfけ重合体の全量を基
準として、約05〜50viチ、好ましくは1〜5重量
%、また増感剤のit、は同じく重合体の全′lllを
基準にして約0.1〜50重製チ、好ましくは05〜1
o重Hチであるのが有利である。 さらに必要に応じて上述の成分に加えて、例えば用塑剤
、還元剤、酸化防止剤などのような添加剤を適宜加える
ことにもまた可能である。 本発明による感光材料を使用したホログラム記録は例ス
ば第3図示のようかホログラムコピー光学系で行うこと
ができる。図示の光学系の場合、V−ザー1から発した
レーザ光はシャ、り2を通過後、コリメー′ターレンズ
3を通り、原版4に照射さnた後感光板5にホログラム
を記録することができる。 本発明に従うと、高回折効率及び高解儂度を有しかつ耐
環境性にすぐれたホログラムを比較的に各局に得ること
ができ、そしてホログラムの量産も可能である。 (6)発明の実施例 次に、下記の実施例によってさらに詳しく本発明を説明
する。 〔実施例1〕 ポリビニルカルバ′ゾール(、亜屑産業、商品名ツビコ
ール2101重量分子量56万)1g 2.3−ボルナンジオン      0.025 gチ
オフラビン            0.01  gク
ロロホルム           10  M上記組成
の感光性溶液を70X70X1鰭のガラス板に、乾燥後
のMK光材料がルス〃4μmに欧るようにスピンコード
法により暗所で塗布した後、60℃×15分間オーブン
で乾燥した後、ホログラム記録用感光板を作成した。こ
の感光@を第3klに示すアルゴンレーザ(488nm
)’に用いたホログラムコピー作成光栄系ホログラム記
靜ヲ行い、グz4図(al〜(C)の工程図に示す如く
トルエン蒸気中でJ、Ll、 (;j l、た後、n−
ペンタン中で浸漬処理した。ψ41n(a)は露光工程
、(b)け膨潤化工程、(c)は収縮往工程を示す。 41に斤°4光層、42け支持体、43ij:1光領域
、44けJi−バ光領琥、45ijホログラム原版、4
6けレーザ光をカモ−「。 次いで臘乾し、ホログラム會べIた。空間周波数100
 rl不/關、回折効率75チであった。 この時のIL”l光10光旬は4110 rnJ/rl
でアッタ。 因みにこの耐侵性を調べるために60℃、95Vσ)有
さI晶り〕溝槽中に放置したが、10日後でも回折々ノ
率ルびブラツク色の変化は全く認められなかった。 次いでホログラムの耐光性を調べるためにアルゴンレー
ザ(波長488 nm 、光強度28W/cd)を10
時間照射し九が全く変化は認められなかった。また超高
圧水銀灯(365nm領域の強度20mW/cd )を
照射したが約3時間経過後、黄色に変化し回折効率は約
1%低下したが、以稜の低下はなく10時間経過後もそ
の値に変化はなかった。 このように耐溝熱及び耐光性に関してもすぐれているこ
とを確りした。 〔実施例2〜4〕 ホログラム感光材の膜厚と回折効率の関係を調べる為に
上記例と全く同様にしてホログラムを作成した。実施例
1と異かるりは感材の膜厚のみで、膜厚を2. 6. 
8μmの場合の回折効率データを第1表にまとめて示す
。 第  1  表 〔実施例5〕 ポリビニルカルバゾール(ツビコール210)1g 2.3−ボルナンジオン        0.02gミ
モミヒラーケトント         0.02gテト
ラヒドロフラン            5gモノクロ
ロベンゼン           5g上記船成の感光
液を実施例1と同様にガラス板(70X70X1mm)
にスピンフートした後、熱乾fi(60℃xlS分)L
、、ホログラム記録用感光板を得た。この感光板を使用
して第5図に示す光学系でホログラムコピーを作成した
。使用マスター23は写真乾板24上に交さ角60の平
面波で作製(光源: )le−14e  レーザ)した
振幅ホログラム25である。コピー光源としては超高圧
水錯灯21(USH′−250Dウシオ電機)′fr使
用し、レンズ22で平行光とされたコピー光29Fiマ
スター23に対し、ブラッグ角θで入射し、露光時間は
2分であった。なお、ホログラム記録用感光板26ij
ガラス板27上に感光膜28を形成したものである。露
光後は実施例1と同様にしてトルエンキシレン混合溶媒
蒸気中で現俸しn−ペンタン中で浸漬処理を行い、次い
で風乾してコピーホログラムを得た。得られたホログラ
ムは全面均一で、回折効率53チ、感材慶厚は2.5声
であった。 〔実施例6,7〕 実施例1と同様にしてホログラムコピーによりホログラ
ムを作成した。実施例1と異なるのは、チオフラビンに
変えてzfa類の増感色素を用いてその増感効果つまり
回折効率を比較し友。 得られた結果゛を表2に示す。 表   2 色素の含有量を変化させた場合の、感光材料の光感度を
第6図に示す。第6図は縦軸に感度(回折効率50チを
得るに必要彦露光エネルギー)、横軸に色素含有量でプ
ロットしたものである。 0−0はチオフラビン、ロー[]はミヒラーケトン、△
−△はアクリジンオレンジの感度を各々示す。 第6図から色素としてチオフラビンを含む感光材料の光
N−1!1′t1色素としてミヒラーケトン、アクリジ
ンオレンジを含む感光材料に比較し、高い光感1与を不
することが判る。 (7)分明の効果 不発、明によむげ 1)高空間開e数でυ1回折効率である。 2)耐湿熱、耐光性に丁ぐれる。 3)  ad録後の処理が比較的簡単である。 ノホログラムが得られるので、ホログラムの低コスト化
、高信頼化が可能となる。 4、図面の簡単な説明 第1図は有機色素分子の概念的なエネルギ一単位構造を
示す図、第2図は、2.3ボルナンジオン、チオ7ラビ
ン、アクリジンオレンジ、ミヒラーケトンの各々の一1
項及び三重項のエネルギー準位を示す図、第3図は本発
明に用いたホログラムコピー光学系を示す図、第4図は
本発明のホログラム製造工程を示す図、第5図は本発明
に用いた別のホログラムコピー光学系を示す図、第6図
はホログラム記録用感光材料の感度と色素含有量の関係
を示す図である。 1:レーザー、2:シャッタ、3:レンズ、4!原版、
5:感光板、41:感光層、42:支持体、43:露光
領域、44:非霧光領域、45:ホログラム原版、46
;レーザー光。 皐2粘

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)ビニルカルバゾール環を含む重合体、光照射により
    ラジカルを発生する環状シス−a−ジカルボニル化合物
    を含むことを特徴とするホログラム記録材料。 2)光増感剤もしくは分光増感剤として有機過酸化物ま
    たは各楕色素類を含むことを特徴とする特許請求の範囲
    fg1項記載のホログラム記録材料。
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