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JPS5811899B2 - polyamideimide composition - Google Patents

polyamideimide composition

Info

Publication number
JPS5811899B2
JPS5811899B2 JP54013251A JP1325179A JPS5811899B2 JP S5811899 B2 JPS5811899 B2 JP S5811899B2 JP 54013251 A JP54013251 A JP 54013251A JP 1325179 A JP1325179 A JP 1325179A JP S5811899 B2 JPS5811899 B2 JP S5811899B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
parts
polyamide
group
imide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP54013251A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS55106260A (en
Inventor
大村馨
木村武夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP54013251A priority Critical patent/JPS5811899B2/en
Publication of JPS55106260A publication Critical patent/JPS55106260A/en
Publication of JPS5811899B2 publication Critical patent/JPS5811899B2/en
Expired legal-status Critical Current

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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、優れた耐熱性、耐湿性、接着性および電気特
性を有する、特に電子部品に適用される組成物に関する
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to compositions having excellent heat resistance, moisture resistance, adhesion and electrical properties, particularly for application in electronic components.

近年、電子部品は高集積化、高信頼性が特に求めらてれ
いる。
In recent years, electronic components are particularly required to be highly integrated and highly reliable.

これにともなって、耐熱性、耐湿性、接着性および電気
特性の優れた電子部品用材料の開発が望まれているが、
実現されていないのが現状である。
Along with this, there is a desire to develop materials for electronic components that have excellent heat resistance, moisture resistance, adhesive properties, and electrical properties.
The current situation is that this has not been achieved.

この主な理由は、これまで知られている合成樹脂のほと
んどが、250℃以上の温度でその軟化点を越えるか、
分解点に接近するので、不安定になることにある。
The main reason for this is that most of the synthetic resins known so far either exceed their softening point at temperatures above 250°C, or
As it approaches the decomposition point, it becomes unstable.

これを解決するために、耐熱性ポリマーを用いることが
考えられるが、普通の耐熱性ポリマーはほとんどの溶媒
に不溶であるため、この場合はこれらをプレカーサーと
して使用しなければならなくなる。
To solve this problem, it is possible to use heat-resistant polymers, but since common heat-resistant polymers are insoluble in most solvents, they must be used as precursors in this case.

例えば、芳香族ポリアミド酸がよく知られているが、こ
のものは加水分解を起こしやすく貯蔵安定性が悪いとか
、耐熱性の芳香族ポリイミドまたは芳香族ポリアミドイ
ミドに転化させるためには300℃前後における熱処理
が必要であるため、熱処理によって悪影響を受ける電子
部品には適用できないとか、またこの熱処理時に発生す
る低分子化合物によってコンタミネーションを生じるな
どの欠点を有する。
For example, aromatic polyamic acid is well known, but it is prone to hydrolysis and has poor storage stability. In order to convert it into heat-resistant aromatic polyimide or aromatic polyamide-imide, it is necessary to heat it at around 300°C. Since it requires heat treatment, it has drawbacks such as not being applicable to electronic components that are adversely affected by heat treatment, and contamination caused by low molecular compounds generated during this heat treatment.

溶媒に一部可溶性のポリイミドまたはポリアミドイミド
も知られているが、これらのほとんどのものは耐熱性、
耐湿性、接着性などの特性が劣るものである。
Polyimides or polyamideimides that are partially soluble in solvents are also known, but most of these are heat resistant,
It has poor properties such as moisture resistance and adhesiveness.

また、150℃より高温で合成されるものは、一部加水
分解や架橋などが生じるため、上記実用特性を得るまで
の還元粘度を有するリニアポリマーを得るのが困難であ
る。
Further, when synthesized at a temperature higher than 150° C., some hydrolysis and crosslinking occur, making it difficult to obtain a linear polymer having a reduced viscosity sufficient to obtain the above-mentioned practical properties.

そのほか、電気特性を有する組成物としては、例えば銀
粒子とガラスフリットからなる組成物が知られている。
In addition, as a composition having electrical properties, for example, a composition consisting of silver particles and glass frit is known.

この組成物は、最終的に500〜1000℃という高温
下で焼成する必要があるため、高い精度を得ることが困
難である、コストがかさむ、サラミツクのような耐熱性
基板以外のものには適用できない、他の部品を搭載した
ものにも適用できない、などの欠点があった。
This composition needs to be fired at a high temperature of 500 to 1000 degrees Celsius, making it difficult to obtain high precision and expensive, and is not suitable for substrates other than heat-resistant substrates such as salami. There were drawbacks such as the fact that it was not possible, and that it could not be applied to devices equipped with other parts.

本発明の目的は、耐熱性、耐湿性、接着性、貯蔵安定性
に優れた、電子部品に適用される組成物に関する。
An object of the present invention is to relate to a composition that has excellent heat resistance, moisture resistance, adhesiveness, and storage stability and is applicable to electronic components.

また、高精度で高信頼性の、導電性、抵抗性または絶縁
性を有する組成物に関する。
The present invention also relates to a highly accurate and highly reliable composition having electrical conductivity, resistance, or insulation.

本発明は、極性有機溶媒に可溶な芳香核の1゜3の位置
に結合を有する特定の芳香族ポリアミドイミド100重
量部とこの芳香族ポリアミドイミドを実質的に溶解しう
る溶媒10〜10000重量部とを主成分とする組成物
、極性有機溶媒に可溶な芳香核の1,3の位置に結合を
有する特定の芳香族ポリアミドイミド100重量部に金
属、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物、金属ケイ化
物、ケイ素、ケイ素酸化物、ケイ素窒化物、ケイ素炭化
物、ホウ素、ホウ素窒化物、炭素およびこれらの混合物
から選ばれた少なくとも一種である粒状体100〜40
00重量部が分散されている組成物、および極性有機溶
媒に可溶な芳香核の13の位置に結合を有する特定の芳
香族ポリアミドイミド100重量部とこの芳香族ポリア
ミドイミドを実質的に溶解しつる溶媒10−10000
重量部および金属、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化
物、金属ケイ化物、ケイ素、ケイ素窒化物、ケイ素炭化
物、ホウ素、ホウ素窒化物、炭素およびこれらの混合物
から選ばれた少なくとも一種である粒状体100〜40
00重量部からなる組成物を提供するものである。
The present invention consists of 100 parts by weight of a specific aromatic polyamideimide having a bond at the 1°3 position of the aromatic nucleus which is soluble in a polar organic solvent, and 10 to 10,000 parts by weight of a solvent that can substantially dissolve this aromatic polyamideimide. 100 parts by weight of a specific aromatic polyamideimide having bonds at the 1 and 3 positions of the aromatic nucleus soluble in polar organic solvents, and metals, metal oxides, metal nitrides, and metals. Granules 100 to 40 that are at least one selected from carbides, metal silicides, silicon, silicon oxides, silicon nitrides, silicon carbides, boron, boron nitrides, carbon, and mixtures thereof
00 parts by weight of the composition, and 100 parts by weight of a specific aromatic polyamideimide having a bond at the 13 position of the aromatic nucleus which is soluble in a polar organic solvent, and this aromatic polyamideimide is substantially dissolved. Vine solvent 10-10000
Parts by weight and granules that are at least one member selected from metals, metal oxides, metal nitrides, metal carbides, metal silicides, silicon, silicon nitrides, silicon carbides, boron, boron nitrides, carbon, and mixtures thereof. 100-40
00 parts by weight.

本発明に用いられる極性有機溶媒に可溶な、芳香核の1
.3の位置に結合を有する特定の芳香族ポリアミドイミ
ドとしては、 一般式 (ただし、式中のRは水素原子、ハロゲン原子又は炭素
数1〜4のアルキル基、Xは酸素原子、硫黄原子、スル
ホニル基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、メチレ
ン基、エチレン基またはジメチルメチレン基であり、こ
れらはたがいに同一であっても異なっていてもよい)で
表わされる二価の残基、nは2以上の整数である〕 で表わされる、還元粘度0.3〜1.5のものが用いら
れる。
1 of the aromatic nuclei soluble in the polar organic solvent used in the present invention
.. A specific aromatic polyamideimide having a bond at position 3 has the general formula (wherein R is a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and X is an oxygen atom, a sulfur atom, or a sulfonyl atom). a divalent residue represented by a carbonyl group, a carbonyloxy group, a methylene group, an ethylene group, or a dimethylmethylene group, which may be the same or different; n is 2 or more; An integer having a reduced viscosity of 0.3 to 1.5 is used.

好ましくは、上記一般式のArが式 (ただし、Rは水素原子またはメチル基、Xは酸素原子
、硫黄原子、スルホニル基、カルボニル基、メチレン基
またはエチレン基である) で表わされる二価の残基であるポリアミドイミドが用い
られる。
Preferably, Ar in the above general formula is a divalent residue represented by the formula (wherein R is a hydrogen atom or a methyl group, and X is an oxygen atom, a sulfur atom, a sulfonyl group, a carbonyl group, a methylene group, or an ethylene group). The base polyamideimide is used.

さらに好ましくは、上記一般式のArが式本発明を用い
られる上記芳香族ポリアミドイミドは、有機溶媒中15
0℃以下の温度で合成されたものが好ましい。
More preferably, the aromatic polyamide-imide used in the present invention, in which Ar of the general formula is 15
Those synthesized at a temperature of 0° C. or lower are preferred.

150℃より高い温度で合成されたものは、一部加水分
解や架橋が起こるため、実用特性が得られるほどの還元
粘度を有するリニアポリマーとならない。
If the polymer is synthesized at a temperature higher than 150° C., some hydrolysis or crosslinking will occur, and therefore the linear polymer will not have a reduced viscosity sufficient to provide practical properties.

よって、本発明では、有機溶媒中150℃以下、好まし
くは130℃以下の温度で合成された、還元粘度0.3
〜1.5、好ましくは0.4〜1.3のりニアポリマー
が望ましい。
Therefore, in the present invention, the reduced viscosity is 0.3, which is synthesized in an organic solvent at a temperature of 150°C or lower, preferably 130°C or lower.
~1.5, preferably 0.4-1.3 linear polymers are desirable.

還元粘度が0.3より小さいと、保護、材料やエンカプ
シュレーション材料などとして用いたときの膜の強度が
弱く、またその他の実用特性も不充分であり、特に信頼
性が悪くなる。
If the reduced viscosity is less than 0.3, the strength of the film when used as a protection material, encapsulation material, etc. will be weak, and other practical properties will be insufficient, and reliability will be particularly poor.

また、還元粘度が1.5より大きくなると高濃度溶液が
得にくくなり、作業性が悪くなる。
Furthermore, if the reduced viscosity is greater than 1.5, it becomes difficult to obtain a highly concentrated solution, resulting in poor workability.

これらの芳香族ポリアミドイミドは、例えば一般式 で表わされるビスイミドジカルボン酸トジフェニル−3
,3′−ジイソシアネートを、一般式ビスイミドジカル
ボン酸とメタフェニレンジイソシアネートを、あるいは
式 で表わされるビスイミドジカルボン酸と一般式0CN−
Ar又はA′r−NCOで表わされるジイソシアネート
を、有機溶媒中150℃以下の温度で反応させることに
よって製造することができる。
These aromatic polyamideimides are, for example, todiphenyl-3 bisimidodicarboxylate represented by the general formula
, 3'-diisocyanate, bisimidodicarboxylic acid of the general formula and metaphenylene diisocyanate, or bisimidodicarboxylic acid of the general formula and 0CN-
It can be produced by reacting a diisocyanate represented by Ar or A'r-NCO in an organic solvent at a temperature of 150 DEG C. or lower.

ただし、上記各式中のA、A’rおよびA”rは、前記
したものと同じ意味を有する。
However, A, A'r and A''r in each of the above formulas have the same meanings as described above.

これらの芳香族ポリアミドイミドは、N、N−ジメチル
ホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、ジメチ
ルスルホキシド、N−メチル−2−ピロリドン、ヘキサ
メチルホスホルアミドから選ばれた少なくとも1種の溶
媒に溶解することが必要であり、本発明には上記溶媒が
使用される。
These aromatic polyamideimides are dissolved in at least one solvent selected from N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, N-methyl-2-pyrrolidone, and hexamethylphosphoramide. Therefore, the above-mentioned solvents are used in the present invention.

また、使用される溶媒が、N−メチル−2−ピロリドン
またはヘキサメチルホスホルアミドを少なくとも5重量
%含有する単独溶媒または混合溶媒系の場合は、本発明
の組成物の実用特性がさらに向上する。
Further, when the solvent used is a single solvent or a mixed solvent system containing at least 5% by weight of N-methyl-2-pyrrolidone or hexamethylphosphoramide, the practical properties of the composition of the present invention are further improved. .

これは結晶性、内部応力、ぬれと関係して、耐熱性、耐
湿性、接着性および電気特性などの実用特性が向上する
ものと考えられる。
This is thought to be related to crystallinity, internal stress, and wetting, and improves practical properties such as heat resistance, moisture resistance, adhesiveness, and electrical properties.

更に、ポットライフ、コーテイング性、ラミネート性、
印刷性などの作業性の面においても好ましい結果を与え
る。
Furthermore, pot life, coating properties, lamination properties,
It also gives favorable results in terms of workability such as printability.

溶媒の配合量は、前記芳香族ポリアミドイミド100重
量部に対し、10〜10000重量部、好ましくは20
〜2000重量部がよい。
The blending amount of the solvent is 10 to 10,000 parts by weight, preferably 20 parts by weight, based on 100 parts by weight of the aromatic polyamideimide.
~2000 parts by weight is preferable.

この量が10重量部より少ないと加工性、接着性が低下
し、10000重量部より多くなると作業性、接着性が
低下しピンホールなども生じ易くなる。
If this amount is less than 10 parts by weight, workability and adhesive properties will be reduced, and if this amount is more than 10,000 parts by weight, workability and adhesive properties will be reduced and pinholes will likely occur.

また、特に上記芳香族ポリアミドイミド100重量部に
対して、溶媒20〜200重量部を配合したものは、固
体または半固体状物を示し、加熱溶融するので、加熱成
形、加熱接着などが可能となる。
In addition, especially those containing 20 to 200 parts by weight of a solvent to 100 parts by weight of the above-mentioned aromatic polyamide-imide exhibit a solid or semi-solid state and are melted by heating, making it possible to perform heat molding, heat bonding, etc. Become.

加熱条件としては、50〜300℃、好ましくは、10
0〜200℃がよい。
The heating conditions are 50 to 300°C, preferably 10
The temperature is preferably 0 to 200°C.

前記芳香族ポリアミドイミドおよび芳香族ポリアミドイ
ミドと溶媒からなる組成物に分散される粒状体とは、本
発明の組成物に導電性、電気抵抗性、電気絶縁性または
誘電性などの電気特性を与えるものをいい、金属、金属
酸化物、金属窒化物金属炭化物、金属ケイ化物、ケイ素
、ケイ素酸化物、ケイ素窒化物、ケイ素炭化物、ホウ素
、ホウ素窒化物、炭素およびこれらの混合物から選ばれ
た少なくとも一種のものが用いられる。
The aromatic polyamide-imide and the granules dispersed in the composition comprising the aromatic polyamide-imide and a solvent impart electrical properties such as conductivity, electrical resistance, electrical insulation, or dielectricity to the composition of the present invention. At least one selected from metals, metal oxides, metal nitrides, metal carbides, metal silicides, silicon, silicon oxides, silicon nitrides, silicon carbides, boron, boron nitrides, carbon, and mixtures thereof. are used.

その形状は、一般に微粒子であれはよく、球形、角形状
、針状、フレーク状等なんでもよい。
Generally, the shape thereof may be fine particles, and may be any shape such as spherical, angular, acicular, flake, etc.

その粒径としては、通常20Åないし500μの範囲で
選ばれる。
The particle size is usually selected in the range of 20 Å to 500 μ.

具体例としては、Au、Ag、Pd、Ru、Pt。Rh
、Ir、TI、Mo、Zn、Mn、Mg、Cd、Cr、
Nb。
Specific examples include Au, Ag, Pd, Ru, and Pt. Rh
, Ir, TI, Mo, Zn, Mn, Mg, Cd, Cr,
Nb.

Ge、Zr、Cu、Ni、AI、Sn、Pb、Bi、I
n、Fe。
Ge, Zr, Cu, Ni, AI, Sn, Pb, Bi, I
n, Fe.

Co、Ti、W、Ta、Hf、Y、Ba、Be、Si、
C,Bおよびこれらの合金またはこれらの酸化物、窒化
物、炭化物、ケイ化物でもよく、さらにこれらの混合物
であってもよい。
Co, Ti, W, Ta, Hf, Y, Ba, Be, Si,
It may be C, B, alloys thereof, oxides, nitrides, carbides, silicides thereof, or mixtures thereof.

これらのなかで、導電性粒状体としては、Au。Among these, Au is used as the conductive particulate material.

Ag、Pd、Pt、Cu、Ni、Al、Sn、Mo、M
n、Co。
Ag, Pd, Pt, Cu, Ni, Al, Sn, Mo, M
n, Co.

W、これらの合金及びこれらの混合物が好ましく、Au
、Ag、Pa、Pi、Cu、Ni、Al、Sn これら
の合金およびこれらの混合物から選ばれることがさらに
好ましい。
W, alloys thereof and mixtures thereof are preferred; Au
, Ag, Pa, Pi, Cu, Ni, Al, Sn, alloys thereof, and mixtures thereof.

抵抗性粒状体としては、5n02−Ta205゜Mo0
3−B、ZnO,CdC−ZnO,Ag−Pd0゜Ag
−Pd0−Pd、Ni02−Ag、C−B−Ag。
As a resistive granule, 5n02-Ta205゜Mo0
3-B, ZnO, CdC-ZnO, Ag-Pd0°Ag
-Pd0-Pd, Ni02-Ag, C-B-Ag.

Ag−Pd0−8b203.C−B、Cu2O−CuO
Ag-Pd0-8b203. C-B, Cu2O-CuO
.

In203yIn2035b20a、Tt203,5n
02゜5n02−8b20syIro2pRhOyRu
02#TaNjjTiN、TiN−Ti、TaN−Ta
、WC,WC−W 。
In203yIn2035b20a, Tt203,5n
02゜5n02-8b20syIro2pRhOyRu
02#TaNjjTiN, TiN-Ti, TaN-Ta
, WC, WC-W.

C,CoSi、ZrSi、Taxi、MnSi、MoS
i。
C, CoSi, ZrSi, Taxi, MnSi, MoS
i.

NiSi、TiSi、およびこれらの混合物から選ばれ
るのが好ましい。
Preferably, it is selected from NiSi, TiSi, and mixtures thereof.

絶線性または誘電性粒状体としては、SiO。SiO is used as the insulating or dielectric granule.

5102.51sN42SICITa20s)At20
3tTi02.Hf02tZr02.Y2O5tBaT
ioa。
5102.51sN42SICITa20s)At20
3tTi02. Hf02tZr02. Y2O5tBaT
ioa.

BN+Be01COOtPbOtB20atB120a
tBaOおよびこれらの混合物が好ましく、SiO,5
i02゜Si3N4.SiC,Ta2O3,Az2o、
、TlO2+BaTi0a、BN、Bed、Cod、
PbO,B203tB1203tBaOおよびこれらの
混合物から選ばれることがさらに好ましい。
BN+Be01COOtPbOtB20atB120a
tBaO and mixtures thereof are preferred, SiO,5
i02°Si3N4. SiC, Ta2O3, Az2o,
, TlO2+BaTi0a, BN, Bed, Cod,
More preferably it is selected from PbO, B203tB1203tBaO and mixtures thereof.

これらの粒状体の配合量は、極性有機溶媒可溶性の芳香
族ポリアミドイミド100重量部当り、100〜400
0重量部、好ましくは200〜2000重量部の範囲で
選ばれる。
The blending amount of these granules is 100 to 400 parts by weight per 100 parts by weight of aromatic polyamideimide soluble in polar organic solvent.
0 parts by weight, preferably in the range of 200 to 2000 parts by weight.

配合量が100重量部未満では、導電性、抵抗性等所望
の電気特性が得られないし、4000重量部を越えると
、組盛物ケ溶媒を含まない場合に、ひび割れ等の好まし
くない現象を伴う。
If the amount is less than 100 parts by weight, desired electrical properties such as conductivity and resistance cannot be obtained, and if it exceeds 4,000 parts by weight, undesirable phenomena such as cracking may occur when the composite does not contain a solvent. .

本発明組成物は、前記の成分以外に特に他の成分を添加
しなくても十分な特性を示すが、所望ならば、接着性、
微粒性の分散性をさらに向上させるために、シランカッ
プリング剤やエポキシ樹脂H脂などを添加することもで
きる。
The composition of the present invention exhibits sufficient properties even without the addition of other components other than those described above, but if desired, adhesive properties,
In order to further improve the dispersibility of fine particles, a silane coupling agent, epoxy resin H fat, etc. can also be added.

その際の添加量は、前記の有機極性溶媒可溶性の芳香族
ポリアミドイミド100重量部に対して、エポキシ樹脂
の場合は2〜100重量部、シランカップリング剤の場
合は2〜60重量部が好ましい範囲である。
In this case, the amount added is preferably 2 to 100 parts by weight in the case of an epoxy resin, and 2 to 60 parts by weight in the case of a silane coupling agent, relative to 100 parts by weight of the aromatic polyamideimide soluble in the organic polar solvent. range.

上記範囲よりも少ない場合は添加効果が認められず、多
過ぎる場合は耐熱性が悪くなる。
If the amount is less than the above range, no effect will be observed, and if it is too much, the heat resistance will deteriorate.

本発明に使用されるエポキシ樹脂は公知のものでよい。The epoxy resin used in the present invention may be any known epoxy resin.

たとえば昭晃堂1970年発行、垣内弘編、「エポキシ
樹脂」第3,4章に記載されている。
For example, it is described in Chapters 3 and 4 of "Epoxy Resin" published by Shokodo in 1970, edited by Hiroshi Kakiuchi.

このエポキシ樹脂は、1分子あたり少なくとも平均2個
以上のエポキシ基をもち、分子の残部は炭素鎖またはエ
ーテル結合、エステル結合或いはアミン結合などで中断
された炭素鎖からなるという特徴を有する。
This epoxy resin has an average of at least two epoxy groups per molecule, and the remainder of the molecule is characterized by carbon chains or carbon chains interrupted by ether bonds, ester bonds, or amine bonds.

好適なエポキシ樹脂としては、エチレングリコール、グ
リセリン、トリメチロールプロパンなどの多価アルコー
ル、レゾルシノール、ハイドロキノン、カテコール、フ
ロログリシツールなどの多価フェノール、2,2−ビス
−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパン、4.4’−
ジヒドロキシジフェニルメタン、ノボラック樹脂などの
ポリフェノール、p−ヒドロキシ安息香酸、テレフタル
酸などのポリカルボン酸、o−トルイジンなどのアミン
化合物と、エピハロヒドリンおよびアルキレンオキシド
のようなエポキシドの過剰量との接触反応によって得ら
れるものがある。
Suitable epoxy resins include polyhydric alcohols such as ethylene glycol, glycerin, and trimethylolpropane, polyhydric phenols such as resorcinol, hydroquinone, catechol, and phloroglycitur, and 2,2-bis-(4-hydroxyphenyl)-propane. , 4.4'-
Obtained by contact reaction of polyphenols such as dihydroxydiphenylmethane and novolak resins, polycarboxylic acids such as p-hydroxybenzoic acid and terephthalic acid, and amine compounds such as o-toluidine with an excess amount of epoxides such as epihalohydrin and alkylene oxide. There is something.

これらエポキシ樹脂については米国特許第2,592,
560号明細書に多数記載されている。
These epoxy resins are described in U.S. Patent No. 2,592,
Many of them are described in the specification of No. 560.

さらに詳しくは、ビスフェノールAとエピクロルヒドリ
ンとの反応により得られ、式 (式中m1は0〜数10の平均値をもつ。
More specifically, it is obtained by the reaction of bisphenol A and epichlorohydrin, and is expressed by the formula (where m1 has an average value of 0 to several tens).

)で表わされるエポキシ樹脂、あるいはノボラック樹脂
とエピクロルヒドリンとの反応物で、式(式中のm2は
0〜約5の平均値をもつ。
), or a reaction product of a novolac resin and epichlorohydrin, and m2 has an average value of 0 to about 5.

)で表わされるノボラックエポキシ樹脂などが特に好適
である。
) are particularly suitable.

本発明の粒状体含有組成物を製造するには、先ず粉砕法
、真空蒸発法、化学的な析出方法などにより得られた粒
状体を、前記の芳香族ポリアミドイミドおよび特定の溶
媒に混合し、ポリアミドイミドが溶媒に完全に溶解する
までかきまぜて分散させる。
To produce the granule-containing composition of the present invention, first, granules obtained by a pulverization method, vacuum evaporation method, chemical precipitation method, etc. are mixed with the aromatic polyamide-imide and a specific solvent, Stir until the polyamideimide is completely dissolved in the solvent to disperse.

分散させる手段としては、ボールミルなどが用いられる
As a means for dispersing, a ball mill or the like is used.

粒状体を均一に分散させるとは。粒状体の分散に大きな
かたよりがないことを意味する。
What does it mean to uniformly disperse granules? This means that there is no large deviation in the dispersion of the granules.

以上のようにして、ポリアミドイミドと溶媒とに、粒状
体が分散された組成物が得られる。
In the manner described above, a composition in which granules are dispersed in polyamideimide and a solvent is obtained.

つぎに、この組成物から、必要に応じて、蒸発、熱処理
その他の方法で溶媒を完全に除去すれば、ポリアミドイ
ミドに粒状体が分散された組成物が得られる。
Next, if necessary, the solvent is completely removed from this composition by evaporation, heat treatment, or other method to obtain a composition in which granules are dispersed in polyamideimide.

本発明の組成物はいずれも100℃前後の低温処理で十
分に調製することができる。
All of the compositions of the present invention can be sufficiently prepared by low temperature treatment at around 100°C.

本発明の組成物を用いて、優れた耐熱性、耐湿性を有す
る、高精度、高信頼性の導体回路基板、抵抗回路基板、
絶縁基板、回路用基板、多層回路基板、ハイブリッド回
路基板、コンデンサーおよびその他のIC1能動素子、
受動素子、変換素子などのelectrical el
ement(s)を得ることができる。
A conductor circuit board, a resistor circuit board, which has excellent heat resistance and moisture resistance, has high precision and high reliability, using the composition of the present invention,
Insulating substrates, circuit boards, multilayer circuit boards, hybrid circuit boards, capacitors and other IC1 active elements,
Electrical elements such as passive elements and conversion elements
element(s) can be obtained.

ここで、導体回路基板とは、基板上に導体回路が形成さ
れたものをいう。
Here, the conductor circuit board refers to a board on which a conductor circuit is formed.

抵抗回路基板とは、基板上に抵抗回路が形成されたもの
をいう。
A resistive circuit board is a board on which a resistive circuit is formed.

回路用基板とは、基板の全面に金属箔が形成されたもの
をいう。
A circuit board is a board with metal foil formed on the entire surface of the board.

多層回路基板とは、基板上に導体回路または抵抗回路が
、絶縁層を介して2層以上形成されたものをいう。
A multilayer circuit board refers to a board in which two or more conductor circuits or resistance circuits are formed with insulating layers interposed therebetween.

ハイブリッド回路基板とは、基板上に導体回路および抵
抗回路を少なくとも有するものをいう。
A hybrid circuit board is one that has at least a conductor circuit and a resistance circuit on the board.

回路基板とは、基板上に回路配線のみを有するものをい
う。
A circuit board refers to a board having only circuit wiring on the board.

electrical elementとは、モノリシ
ックIC、ハイブリッドIC1抵抗、コンデンサー、コ
イル、ダイオード、トランジスタ、磁電変換素子、光電
変換素子、熱電変換素子、圧電素子、ディスプレイ素子
などのIC1受動素子、能動素子、変換素子をいう。
Electrical element refers to IC1 passive elements, active elements, and conversion elements such as monolithic ICs, hybrid IC1 resistors, capacitors, coils, diodes, transistors, magnetoelectric conversion elements, photoelectric conversion elements, thermoelectric conversion elements, piezoelectric elements, and display elements. .

実装回路基板とは、回路基板上にelectrical
element(s)を搭載したものをいう。
A mounted circuit board is a circuit board with electrical components mounted on it.
A device equipped with element(s).

絶縁基板を得る方法としては、前記芳香族ポリアミドイ
ミドと前記溶媒とからなる組成物又はこれに絶縁性粒状
体が分散された組成物を、紙又はガラス繊維、ガラスク
ロス、炭素繊維などの繊維からなる基材に含浸させて積
層するか、プラスチック、金属、ガラス、セラミックか
らなる基板上に全面又はパターン状にコーティング又は
印刷するか、上記組成物より溶媒を除去して得たフィル
ム状物を基板上に全面又はパターン状にラミネートする
か、或いは所望する型に入れて成形する方法などがある
As a method for obtaining an insulating substrate, a composition comprising the aromatic polyamideimide and the solvent or a composition in which insulating particles are dispersed is prepared from paper or fibers such as glass fiber, glass cloth, and carbon fiber. or by coating or printing the entire surface or pattern on a substrate made of plastic, metal, glass, or ceramic, or by removing the solvent from the above composition and using it as a substrate. There are methods such as laminating the entire surface or pattern on the surface, or molding it in a desired mold.

回路用基板を得る方法としては、前記芳香族ポリアミド
イミドと前記溶媒とを主成分とする組成物又はこれに絶
縁性粒状体を分散させた組成物を用いて、ポリイミドフ
ィルムなどの基板の全面に、エツチング可能な銅箔など
の金属箔を接着させる方法などがある。
As a method for obtaining a circuit board, a composition containing the aromatic polyamide-imide and the solvent as main components or a composition in which insulating particles are dispersed is used to coat the entire surface of a substrate such as a polyimide film. There are methods such as bonding metal foil such as etched copper foil.

このようにして得られた回路用基板の金属箔を、所望の
回路パターン状にエツチングすれば、回路基板を得るこ
とができる。
A circuit board can be obtained by etching the metal foil of the circuit board thus obtained into a desired circuit pattern.

また、上記回路用基板を得る方法において、銅箔などの
金属箔を回路パターン状に打抜いたものを前記組成物を
用いて基板上に接着させた場合は、回路基板を得ること
ができる。
Furthermore, in the method for obtaining a circuit board, a circuit board can be obtained by punching out a metal foil such as a copper foil into a circuit pattern and adhering it onto a board using the composition.

導体回路基板は、前記芳香族ポリアミドイミドと前記溶
媒および導電性粒状体からなる組成物を、絶縁基板上に
回路パターン状に印刷するか、或いは上記組成物から溶
媒を除去して得たフィルム状物をパターン状にラミネー
トする事により得られ、抵抗回路基板は前記芳香族ポリ
アミドイミドと前記溶媒および抵抗性粒状体からなる組
成物を、絶縁基板上に回路パターン状に印刷するか、或
いは上記組成物から溶媒を除去して得たフィルム状物を
パターン状にラミネートする事により得られる。
The conductive circuit board is a film obtained by printing a composition consisting of the aromatic polyamide-imide, the solvent, and conductive particles on an insulating substrate in the form of a circuit pattern, or by removing the solvent from the composition. A resistive circuit board can be obtained by laminating materials in a pattern, and a resistive circuit board can be obtained by printing a composition consisting of the aromatic polyamide-imide, the solvent, and the resistive granules on an insulating substrate in a circuit pattern, or by laminating the above composition into a circuit pattern. It is obtained by laminating a film-like material obtained by removing the solvent from a material in a pattern.

多層回路基板は、上記導体回路基板又は抵抗回路基板上
に、前記芳香族ポリアミドイミドと前記溶媒又はこれに
絶縁性粒状体を分散させた組成物を、全面又は多層化す
る部分のみ、或いはスルーホール接続を行う場合はそれ
に適したパターン状に、コーテング又は印刷するか、或
いは上記組成物から溶媒を除去して得たフィルム状物を
上記と同様、全面又はパターン状にラミネートして、そ
の上に更に導体回路基板又は抵抗回路基板を得る場合と
同様にして、導体回路又は抵抗回路を形成して得られる
The multilayer circuit board is a conductor circuit board or a resistor circuit board, and the aromatic polyamide-imide and the solvent or a composition in which insulating particles are dispersed therein are applied on the entire surface or only in a multilayered part or through holes. When making a connection, it is coated or printed in a suitable pattern, or a film obtained by removing the solvent from the above composition is laminated on the entire surface or in a pattern in the same way as above. Furthermore, a conductor circuit or a resistance circuit can be formed in the same manner as in the case of obtaining a conductor circuit board or a resistance circuit board.

ハイブリッド回路基板は、上記と同様な方法を用いて、
絶縁基板上に導体回路および抵抗回路を形成する事によ
り得られる。
The hybrid circuit board is manufactured using a method similar to that described above.
It can be obtained by forming a conductor circuit and a resistance circuit on an insulating substrate.

保護層を有する回路基板は、前記芳香族ポリアミドイミ
ドと前記溶媒又はこれに絶縁性粒状体を分散させた組成
物を、導体回路基板、抵抗回路基板、多層回路基板、ハ
イブリッド回路基板の全面又は少なくとも回路上にコー
ティング又は印刷するか、或いは上記組成物から溶媒を
除去して得たフィルム状物を全面又はパターン状にラミ
ネートして得られる。
The circuit board having a protective layer is prepared by applying the aromatic polyamide-imide and the solvent, or a composition in which insulating particles are dispersed therein, to the entire surface or at least of a conductor circuit board, resistance circuit board, multilayer circuit board, or hybrid circuit board. It can be obtained by coating or printing on a circuit, or by laminating a film obtained by removing the solvent from the above composition on the entire surface or in a pattern.

実装回路基板は、回路基板の回路上にIC1能動素子、
受動素子、変換素子のelectrical elc−
ment(s)を、前記芳香族ポリアミドと前記溶媒お
よび導電性粒状体からなる組成物を用いて、ダイボンデ
ィングなどの方法で結合させる事により得られる。
The mounted circuit board has an IC1 active element on the circuit of the circuit board,
Passive elements, conversion elements electrical elc-
ment(s) using a composition consisting of the aromatic polyamide, the solvent, and the conductive particles, by bonding them by a method such as die bonding.

または、絶縁基板上にIC1能動素子、受動素子、変換
素子のelectrical element(s)を
、前記芳香族ポリアミドイミドと前記溶媒又はこれに絶
縁性粒状体を分散させた組成物で接着させる事により得
られる。
Alternatively, the electrical elements (s) of the IC1 active element, passive element, and conversion element may be adhered onto an insulating substrate using the aromatic polyamide-imide and the solvent, or a composition in which insulating particles are dispersed therein. It will be done.

この場合はワイヤーボンディングなどの方法により回路
との接続が行われる。
In this case, connection to the circuit is performed by a method such as wire bonding.

コンデンサーは、前記芳香族ポリアミドイミドと前記溶
媒又はこれに誘電性粒状体を分散させた組成物を、金属
などの電極上にコーティング又は印刷してその上に更に
電極を設けるか、上記組成物から溶媒を除去して得たフ
ィルム状物を電極上にラミネートしてその上に更に電極
を設けるか、或いは上記組成物から溶媒を除去して得た
フィルムの上下に、金属を蒸着又はスパッタするか、導
電性粒状体を分散させた本発明の組成物を印刷して電極
を形成させることにより得られる。
The capacitor can be made by coating or printing a composition in which the aromatic polyamideimide and the solvent or dielectric particles are dispersed therein on an electrode such as a metal, and further providing an electrode thereon, or by forming an electrode from the above composition. Either the film obtained by removing the solvent is laminated on the electrode and an electrode is further provided on it, or the metal is vapor-deposited or sputtered on the top and bottom of the film obtained by removing the solvent from the above composition. , can be obtained by printing the composition of the present invention in which conductive particles are dispersed to form an electrode.

リード線を有するelectrical elemen
t(s)は、メタルフレームなどのリード線とIC1能
動素子、受動素子、変換素子のelectrical
element(s)を、前記芳香族ポリアミドイミド
と前記溶媒および導電性粒状体からなる組成物で結合さ
せる事により得られる。
electrical element with lead wire
t(s) is the electrical connection between lead wires such as metal frames, IC1 active elements, passive elements, and conversion elements.
It is obtained by bonding element(s) with a composition consisting of the aromatic polyamideimide, the solvent and the conductive particles.

エンカブシュレートされたelectrical e
le−ment(s)は、IC1能動素子、受動素子、
変換素子のelectrical element(s
)を、前記芳香族ポリアミドイミドと前記溶媒又はこれ
に絶縁性粒状体を分散させた組成物中に浸漬する方法な
どにより得られる。
embossed electrical e
le-ment(s) is IC1 active element, passive element,
electrical element(s) of the conversion element
) is obtained by immersing the aromatic polyamide-imide in the solvent or a composition in which insulating particles are dispersed.

本発明の組成物は、優れた耐熱性、耐湿性、接着性およ
び電気特性を有しており、さらに、この組成物を用いて
得られる絶縁基板、回路用基板、導体回路基板、抵抗回
路基板、多層回路基板、ハイブリッド回路基板、実装回
路基板、コンデンサーおよびその他のIC1能動素子、
受動素子、変換素子のelectrical elem
ent(s)も、耐熱性、耐湿性に優れ、高精度、高信
頼性を有するものである。
The composition of the present invention has excellent heat resistance, moisture resistance, adhesiveness, and electrical properties, and furthermore, insulating substrates, circuit boards, conductive circuit boards, and resistive circuit boards obtained using this composition. , multilayer circuit boards, hybrid circuit boards, mounted circuit boards, capacitors and other IC1 active elements,
Passive elements, conversion elements electrical elements
ent(s) also has excellent heat resistance and moisture resistance, and has high precision and high reliability.

耐熱性はもちろん、特に耐湿性は、電子部品の信頼性と
の関係で重要である。
Not only heat resistance but especially moisture resistance is important in relation to the reliability of electronic components.

本発明の組成物は、上記以外にも広汎な応用用途を有す
るものである。
The composition of the present invention has a wide range of applications other than those mentioned above.

次に本発明をより具体的に説明するために実施例を述べ
るが、本発明は、これら実施例に限定されるものではな
い。
EXAMPLES Next, Examples will be described to more specifically explain the present invention, but the present invention is not limited to these Examples.

なお、実施例において、抵抗値はいずれも、ユニバーサ
ルデジタルメーター2502(ヨコカワデンキ社製)を
用いて測定した。
In addition, in the examples, all resistance values were measured using a universal digital meter 2502 (manufactured by Yokokawa Denki Co., Ltd.).

実施例1〜6および比較例1 表1に示した基材を、表Iの芳香族ポリアミドイミド1
00重量部、N−メチル−2−ピロリドン600重量部
およびN、N−ジメチルアセトアミド400重量部から
なる組成物に含浸させ、その後100℃で3時間、つい
で150℃で2時間処理した。
Examples 1 to 6 and Comparative Example 1 The base materials shown in Table 1 were replaced with aromatic polyamideimide 1 of Table I.
00 parts by weight, 600 parts by weight of N-methyl-2-pyrrolidone, and 400 parts by weight of N,N-dimethylacetamide.

得られた含浸物を10枚重ねて200℃、30分間、1
00kg/−の条件で加圧成形して、30cm×30c
m×1.6mmの耐熱性基板を作成した。
10 sheets of the obtained impregnated material were stacked and heated at 200°C for 30 minutes.
Pressure molded under the condition of 00kg/-, 30cm x 30c
A heat-resistant substrate of m×1.6 mm was prepared.

得られた耐熱性基板を400℃で30分間耐熱性テスト
した結果、重量減少率は表1に示した如く非常に少なく
、そりなどは見られず、優れた耐熱性および寸法安定性
を有していた。
As a result of a heat resistance test of the obtained heat-resistant substrate at 400°C for 30 minutes, the weight loss rate was very small as shown in Table 1, and no warpage was observed, indicating that it had excellent heat resistance and dimensional stability. was.

更に、得られた基板は400℃のダイボンディングに充
分耐えるものであった。
Furthermore, the obtained substrate could sufficiently withstand die bonding at 400°C.

尚、重量減少率は、 の式から算出した。In addition, the weight reduction rate is Calculated from the formula.

実施例 7〜12 各種基板上に、表2に示した如くの芳香族ポリアミドイ
ミド100重量部と、溶媒としてN−メチル−2−ピロ
リドン600重量部およびN、N−ジメチルアセトアミ
ド400重量部を用いた組成物をコーティングし、10
0℃で3時間真空乾燥して、芳香族ポリアミドイミド積
層物を得た。
Examples 7 to 12 100 parts by weight of aromatic polyamideimide as shown in Table 2, 600 parts by weight of N-methyl-2-pyrrolidone and 400 parts by weight of N,N-dimethylacetamide were used as solvents on various substrates. Coat the composition and apply 10
Vacuum drying was performed at 0° C. for 3 hours to obtain an aromatic polyamideimide laminate.

得られた積層物の表面は平滑であり、また得られた積層
物の芳香族ポリアミドイミド側を、260℃の溶融ハン
ダに20秒間接触させたり、或いは1%の水酸化カリウ
ム水溶液に24時間浸漬してもふくれなどの異常は認め
られず、耐熱性、接着性、耐アルカリ性は良好であった
The surface of the obtained laminate was smooth, and the aromatic polyamide-imide side of the obtained laminate was brought into contact with molten solder at 260°C for 20 seconds, or immersed in a 1% potassium hydroxide aqueous solution for 24 hours. No abnormalities such as blistering were observed, and heat resistance, adhesion, and alkali resistance were good.

尚、得られた積層物の芳香族ポリアミドイミド側の表面
抵抗は、50℃、90%RH,で3日間処理した後1.
JISC6481−1968に準じて測定した。
The surface resistance of the aromatic polyamideimide side of the obtained laminate was 1. after being treated at 50° C. and 90% RH for 3 days.
Measured according to JISC6481-1968.

実施例13〜18および比較例2 デュポン社製ポリイミドフィルム「カプトン」(膜厚7
5μ)と電解銅箔(膜厚35μで、実施例13〜15は
上記ポリイミドフィルムと同じ大きさのもの、実施例1
6〜18は回路パターン状に打抜いたもの)を、表3に
示した芳香族ポリアミドイミドおよび溶媒からなる固体
または半固体状の組成物を用いて、150℃で30分間
、ついで200℃で30分間加熱圧着して接着した。
Examples 13 to 18 and Comparative Example 2 Polyimide film “Kapton” manufactured by DuPont (film thickness 7
5μ) and electrolytic copper foil (film thickness 35μ, Examples 13 to 15 are the same size as the above polyimide film, Example 1
6 to 18 are punched into circuit patterns) at 150°C for 30 minutes and then at 200°C using a solid or semisolid composition consisting of aromatic polyamideimide and a solvent shown in Table 3. The adhesive was bonded by heating and pressing for 30 minutes.

次いで、400℃で30分間耐熱性テストを行い、その
後の銅箔の引きはがし強度は表3に示した通りであり、
優れた耐熱性と接着性を有していた。
Next, a heat resistance test was conducted at 400°C for 30 minutes, and the peel strength of the copper foil after that was as shown in Table 3.
It had excellent heat resistance and adhesive properties.

尚、引きはがし強度はJIS C6481−1968
に準じて測定した。
In addition, the peel strength is JIS C6481-1968.
Measured according to.

更にJiS C6481−1968に準じて耐燃性を
測定した結果も優れたものであった。
Furthermore, the flame resistance was measured according to JiS C6481-1968 and the results were also excellent.

実施例 19〜24 表4に示した芳香族ポリアミドイミドと溶媒からなる牛
固体または固体状の組成物を作成し、これを熱プレスを
用いて、150℃30分間、ついで200℃30分間、
100kg/cm2の条件で加圧成形したのち、200
℃で2時間熱処理して200μのフィルムを作成した。
Examples 19 to 24 A solid or solid composition consisting of aromatic polyamideimide and a solvent shown in Table 4 was prepared, and this was heated using a heat press at 150°C for 30 minutes, then at 200°C for 30 minutes.
After pressure molding under the conditions of 100 kg/cm2,
A 200μ film was prepared by heat treatment at ℃ for 2 hours.

体積固有抵抗をJISC6481−1968に準じて測
定し、透湿量をJIS Z0208に従い測定した。
Volume resistivity was measured according to JIS C6481-1968, and moisture permeability was measured according to JIS Z0208.

結果を表4に示したが、優れた電気特性と耐湿性を有し
ていた。
The results are shown in Table 4, and it was found that it had excellent electrical properties and moisture resistance.

実施例 25 メタフェニレンジアミンと無水トリメリット酸から得ら
れたビスイミドジカルボン酸とジフェニル−3,3′−
ジインシアネートから合成されたポリアミドイミド(還
元粘度0.5)100重量部にN−メチル−2−ピロリ
ドン240重量部及びNN−ジメチルアセトアミド16
0重量部を加えて上記ポリアミドイミドを溶解し、次い
で平均粒径700Åの真空蒸発法で調整した銀の超微粒
子400重量部を加えてボールミルを用いて均一に分散
させた。
Example 25 Bisimidodicarboxylic acid obtained from metaphenylene diamine and trimellitic anhydride and diphenyl-3,3'-
240 parts by weight of N-methyl-2-pyrrolidone and 16 parts by weight of NN-dimethylacetamide were added to 100 parts by weight of polyamideimide (reduced viscosity 0.5) synthesized from diincyanate.
0 parts by weight were added to dissolve the polyamideimide, and then 400 parts by weight of ultrafine silver particles prepared by vacuum evaporation with an average particle size of 700 Å were added and uniformly dispersed using a ball mill.

このようにして得られた組成物はペースト状であった。The composition thus obtained was in the form of a paste.

次にこれを導電性の樹脂ペーストに使用できるかどうか
テストするために、この組成物をアルミナ基板上に幅1
mm、長さ2cmの導体ラインを20本スクリーン印刷
(約50μ厚〕した。
Next, to test whether this could be used in a conductive resin paste, this composition was deposited on an alumina substrate with a width of 1 mm.
20 conductor lines with a length of 2 cm and a thickness of about 50 μm were screen printed.

100℃で30分間熱処理して溶媒を充分除去した後、
このパターンの1本の抵抗を測定したところ0.2Ω以
下であり、基板との接着性も良好であった。
After heat treatment at 100°C for 30 minutes to sufficiently remove the solvent,
When the resistance of one line of this pattern was measured, it was 0.2Ω or less, and the adhesion to the substrate was also good.

次に、耐熱性をテストするために400℃で1時間熱処
理した。
Next, in order to test heat resistance, heat treatment was performed at 400° C. for 1 hour.

その後の抵抗値は0.3Ω以下であり、はとんど熱処理
前と変化がなく、また基板からの剥離もなく接着性も優
れたものがあった。
The resistance value after that was 0.3Ω or less, almost unchanged from before the heat treatment, and there was no peeling from the substrate and excellent adhesion.

実施例 26 パラフェニレンジアミンと無水トリメリット酸から得ら
れたビスイミドジカルボン酸とメタフェニレンジイソシ
アネートから合成されたポリアミドイミド(還元粘度0
.7)100重量部に、N−メチル−2−ピロリドン4
30重量部及びトルエン70重量部を加えて、上記ポリ
アミドイミドを溶解し、次いで真空蒸発法で調製した平
均粒径700Åの銀の超微粒子と平均粒径0.5μのパ
ラジウムを重量比で1対lで混合した金属微粒子の混合
物250重量部を加えて、ホールミルを用いて均一に分
散させてベースド状の組成物を得た。
Example 26 Polyamideimide (reduced viscosity 0
.. 7) N-methyl-2-pyrrolidone 4 to 100 parts by weight
30 parts by weight and 70 parts by weight of toluene were added to dissolve the polyamideimide, and then ultrafine silver particles with an average particle size of 700 Å prepared by vacuum evaporation method and palladium with an average particle size of 0.5 μ were mixed in a weight ratio of 1:1. 250 parts by weight of the metal fine particle mixture mixed in Step 1 was added and uniformly dispersed using a hole mill to obtain a base-like composition.

このようにして得られた組成物を実施例25と同様に処
理した。
The composition thus obtained was treated in the same manner as in Example 25.

抵抗値は0.3Ω以下であり、接着性も良好であった。The resistance value was 0.3Ω or less, and the adhesiveness was also good.

次に、実施例25と同様にして耐熱性をテストしたとこ
ろ、抵抗値は0.4Ω以下であり、基板からの剥離もな
く接着性も優れていた。
Next, when the heat resistance was tested in the same manner as in Example 25, the resistance value was 0.4Ω or less, and there was no peeling from the substrate and the adhesiveness was excellent.

実施例 27 4.4′−ジアミノジフェニルと無水トリメリット酸か
ら得られたビスイミドジカルボン酸とメタフェニレンジ
イソシアネートから合成されたポリアミドイミド(還元
粘度’0.4)100重量部に、N、N−ジメチルアセ
トアミド400重量部を加えて、上記ポリアミドイミド
を溶解し、次いで平均粒径0.8μの酸化ルテニウムの
微粒子500重量部を加えてボールミルを用いて均一に
分散させた。
Example 27 N, N- 400 parts by weight of dimethylacetamide was added to dissolve the polyamideimide, and then 500 parts by weight of fine particles of ruthenium oxide having an average particle size of 0.8 μm were added and uniformly dispersed using a ball mill.

このようにして得られたペースト状組成物が、抵抗性の
樹脂ペーストとして使用できるかどうかテストするため
に、この組成物を用いアルミナ基板上に幅1間、長さ2
cmの抵抗ラインを20本スクリーン印刷(約50μ厚
)した。
In order to test whether the paste-like composition thus obtained could be used as a resistive resin paste, this composition was applied to a 1-width and 2-length strip on an alumina substrate.
20 cm resistance lines were screen printed (approximately 50 μm thick).

100℃で30分間熱処理して溶媒を十分除去した後、
このパターンの1本の抵抗を測定したところ15にΩで
あり、基板との接着性も良好であった。
After sufficiently removing the solvent by heat treatment at 100°C for 30 minutes,
When the resistance of one of the patterns was measured, it was 15.OMEGA., and the adhesion to the substrate was also good.

次に耐熱性をテストするために400℃で30分間熱処
理した。
Next, in order to test heat resistance, heat treatment was performed at 400° C. for 30 minutes.

その後の抵抗値は15KQであり、熱処理前と変化がな
く、また基板からの剥離もなく接着性も優れたものであ
った。
The resistance value after that was 15KQ, which was unchanged from before the heat treatment, and there was no peeling from the substrate and the adhesiveness was excellent.

実施例 28 メタフェニレンジアミンと無水トリメリット酸から得ら
れたビスイミドジカルボン酸とメタフェニレンジイソシ
アネートから得られたポリアミドイミド(還元粘度0.
3)100重量部、エポキシ樹脂(旭化成社製「AER
−669j)10重量N−メチル−2−ピロリドン43
0重量部、トルエン70重量部に平均粒径10μの銅微
粒子500重量部が均一こと分散されてなるペースト状
組成物を、ガラスエポキシ積層基板上に、所定のパター
ン状にスクリーン印刷し、次いで150℃で30分間熱
処理して、プリント回路板を得た。
Example 28 Polyamideimide obtained from bisimido dicarboxylic acid obtained from metaphenylene diamine and trimellitic anhydride and metaphenylene diisocyanate (reduced viscosity 0.
3) 100 parts by weight, epoxy resin (AER manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.
-669j) 10wt N-methyl-2-pyrrolidone 43
A paste composition consisting of 500 parts by weight of fine copper particles having an average particle size of 10 μm uniformly dispersed in 0 parts by weight and 70 parts by weight of toluene was screen printed in a predetermined pattern on a glass epoxy laminated substrate, and then 150 parts by weight A printed circuit board was obtained by heat treatment at ℃ for 30 minutes.

このようにして得られた導体の比抵抗は1.5×10−
4Ω・cmであり、270℃、60秒のはんだ耐熱に十
分耐え、接着性も良好であった。
The resistivity of the conductor thus obtained is 1.5×10−
It had a resistance of 4 Ω·cm, was sufficiently resistant to soldering heat at 270° C. for 60 seconds, and had good adhesion.

実施例 29 メタフェニレンジアミンとトリメリット酸無水物とから
合成したビスイミドジカルボン酸とパラフェニレンジイ
ソシアネートから製造されたポリアミドイミド(還元粘
度0.8)100重量部、N−メチル−2−ピロリドン
240重量部、N。
Example 29 100 parts by weight of polyamideimide (reduced viscosity 0.8) manufactured from bisimidodicarboxylic acid synthesized from metaphenylene diamine and trimellitic anhydride and paraphenylene diisocyanate, 240 parts by weight of N-methyl-2-pyrrolidone. Department, N.

N−ジメチルアセトアミド160重量部に、平均粒径1
.8μの銀の微粒子400重量部を均一に分散させてな
るペースト状組成物を、ポリイミドフィルム上に、所定
のパターン状にスクリーン印刷し、次いで100℃で3
0分間熱処理して、プリント回路板を得た。
To 160 parts by weight of N-dimethylacetamide, an average particle size of 1
.. A paste composition prepared by uniformly dispersing 400 parts by weight of 8μ fine silver particles was screen printed on a polyimide film in a predetermined pattern, and then heated at 100°C for 3
A printed circuit board was obtained by heat treatment for 0 minutes.

このようにして得られた導体の比抵抗は4.0×10−
4Ω・cmであり、400℃、30分の耐熱テストに十
分耐え、接着性も良好であった。
The specific resistance of the conductor thus obtained was 4.0×10−
It had a resistance of 4 Ω·cm, sufficiently withstood a heat resistance test at 400° C. for 30 minutes, and had good adhesion.

実施例 30 メタフェニレンジアミンとトリメリット酸無水物とから
合成したビスイミドジカルボン酸と4゜41−ジイソシ
アナートジフェニルから製造されたポリアミドイミド(
還元粘度0.6)100重量部と、N−メチル−2−ピ
ロリドン240重量部、N、N−ジメチルアセトアミド
160重量部に、平均粒径10μの炭素微粒子250重
量部と平均粒径20μのホウ素微粒子250重量部を均
一に分散させてなるペースト状組成物を用いて、ガラス
基板上に幅1rft1n、長さ2cmのラインをスクリ
ーン印刷(約50μ厚)し、次いで100℃で30分間
熱処理して、抵抗回路を得た。
Example 30 Polyamideimide (produced from bisimidodicarboxylic acid synthesized from metaphenylenediamine and trimellitic anhydride and 4°41-diisocyanatodiphenyl)
reduced viscosity 0.6), 240 parts by weight of N-methyl-2-pyrrolidone, 160 parts by weight of N,N-dimethylacetamide, 250 parts by weight of carbon fine particles with an average particle size of 10 μm, and boron with an average particle size of 20 μm. Using a paste composition in which 250 parts by weight of fine particles were uniformly dispersed, a line with a width of 1 rft 1 nm and a length of 2 cm was screen printed (approximately 50 μ thick) on a glass substrate, and then heat treated at 100° C. for 30 minutes. , a resistor circuit was obtained.

このようにして得られた抵抗体は400Ωの抵抗を有し
、270℃の耐熱テストに十分耐え、接着性も良好であ
った。
The resistor thus obtained had a resistance of 400Ω, sufficiently withstood a heat resistance test at 270° C., and had good adhesive properties.

実施例 31 3.3’−ジアミノジフェニルエーテルとトリメリット
酸無水物から合成したビスイミドジカルボン酸と3,3
’−ジイソシアナートジフェニルから製造されたポリア
ミドイミド(還元粘度0.5)100重量部と、N、N
−ジメチルアセトアミド300重量部に、平均粒径20
μの酸化インジウム微粒子400重量部が分散されてな
るペースト状組成物を用いて、ポリイミドフィルム上に
幅■朋、長さ2crrLのラインをスクリーン印刷(約
50μ厚)し、次いで100℃で1時間熱処理して、抵
抗回路を得た。
Example 31 Bisimidodicarboxylic acid synthesized from 3.3'-diaminodiphenyl ether and trimellitic anhydride and 3,3
'-100 parts by weight of polyamideimide (reduced viscosity 0.5) produced from diphenyl diisocyanate, N, N
- 300 parts by weight of dimethylacetamide, average particle size 20
Using a paste-like composition in which 400 parts by weight of indium oxide microparticles of μ μ are dispersed, a line with a width of 2 cm and a length of 2 crrL is screen printed (approximately 50 μ thick) on a polyimide film, and then heated at 100° C. for 1 hour. A resistance circuit was obtained by heat treatment.

このようにして得られた抵抗体は10にΩの抵抗を有し
、270℃の耐熱テストに十分耐え、接着性も良好であ
った。
The resistor thus obtained had a resistance of 10Ω, sufficiently withstood a heat resistance test at 270° C., and had good adhesive properties.

実施例 32 3.3’−ジアミノジフェニルメタンとトリメリット酸
無水物とから合成したビスイミドジカルボン酸トメタフ
エニレンジイソシアナートから製造されたポリアミドイ
ミド(還元梢度1.5)100重量部に、N−メチル−
2−ピロリドン240重量部及びN、N−ジメチルアセ
トアミド160重量部を加えて、上記ポリアミドイミド
を溶解し、次いで平均粒径20μの窒化タンタル300
重量部を加えてボールミルを用いて均一に分散させた。
Example 32 100 parts by weight of polyamideimide (reduction degree 1.5) produced from bisimidodicarboxylic acid tomethphenylene diisocyanate synthesized from 3.3'-diaminodiphenylmethane and trimellitic anhydride was added with N. -Methyl-
240 parts by weight of 2-pyrrolidone and 160 parts by weight of N,N-dimethylacetamide were added to dissolve the polyamideimide, and then 300 parts by weight of tantalum nitride with an average particle size of 20 μm was added.
Parts by weight were added and uniformly dispersed using a ball mill.

このようにして得られた組成物はペースト状であった。The composition thus obtained was in the form of a paste.

この組成物を実施例25と同様に処理したところ、抵抗
値は45にΩであり、接着性も良好であった。
When this composition was treated in the same manner as in Example 25, the resistance value was 45Ω, and the adhesiveness was also good.

次に、400℃で30分間熱処理して耐熱性をテストし
たところ、抵抗値及び接着性に変化は見られなかった。
Next, when the heat resistance was tested by heat treatment at 400° C. for 30 minutes, no change was observed in the resistance value and adhesiveness.

実施例 33 メタフェニレンジアミンと無水トリメリット酸から得ら
れたビスイミドジカルボン酸と4,4’−ジイソシアナ
ートジフェニルスルホンから製造されたポリアミドイミ
ド(還元粘度0.5)100重量部に、N、N−ジメチ
ルアセトアミド300重量部を加えて、上記ポリアミド
イミドを溶解し、次いで平均粒径20μの炭化タングス
テン400重量部を加えて、ボールミルを用いて均一に
分散させてペースト状の組成物を得た。
Example 33 N, 300 parts by weight of N-dimethylacetamide was added to dissolve the polyamideimide, and then 400 parts by weight of tungsten carbide having an average particle size of 20μ was added and uniformly dispersed using a ball mill to obtain a paste composition. .

この組成物を実施例25と同様にスクリーン印刷し、1
00℃で1時間熱処理した。
This composition was screen printed in the same manner as in Example 25, and 1
Heat treatment was performed at 00°C for 1 hour.

抵抗値はIOKΩであり、接着性も良好であった。The resistance value was IOKΩ, and the adhesiveness was also good.

次に、400℃で30分間熱処理して耐熱性をテストし
たところ、抵抗値及び接着性に変化は見られなかった。
Next, when the heat resistance was tested by heat treatment at 400° C. for 30 minutes, no change was observed in the resistance value and adhesiveness.

実施例 34 4.41−ジ(m−アミノフェノキシ)ジフェニルエー
テルと無水トリメリット酸から得られたビスイミドジカ
ルボン酸と3,31−ジイソシアネートジフェニルから
製造したポリアミドイミド(還元粘度o、5)ioo重
量部に、N−メチル−2−ピロリドン240重量部及び
N−N−ジメチルアセトアミド160重量部を加えて、
上記ポリアミドイミドを溶解し、次いでケイ化タンタル
270重量部とアルミニダム30重量部を窒素雰囲気中
で1200℃の温度で1時間熱処理した平均粒径20μ
の微粒子350重量部を加えC、ボールミルを用いて均
一に分散させた。
Example 34 Polyamideimide (reduced viscosity o, 5) prepared from 4.41-di(m-aminophenoxy)diphenyl ether, bisimidodicarboxylic acid obtained from trimellitic anhydride, and 3,31-diisocyanate diphenyl (reduced viscosity o, 5) ioo parts by weight 240 parts by weight of N-methyl-2-pyrrolidone and 160 parts by weight of N-N-dimethylacetamide were added to
The above polyamide-imide was dissolved, and then 270 parts by weight of tantalum silicide and 30 parts by weight of aluminum were heat-treated at a temperature of 1200°C for 1 hour in a nitrogen atmosphere.The average particle size was 20μ.
350 parts by weight of the fine particles were added and uniformly dispersed using a ball mill.

このようにして得られた耐熱性抵抗材料組成物はペース
ト状であった。
The heat-resistant resistance material composition thus obtained was in the form of a paste.

この組成物を実施例25と同様に処理したところ、抵抗
値はIOKΩであった。
When this composition was treated in the same manner as in Example 25, the resistance value was IOKΩ.

次に、耐熱性をテストするために400℃で30分間熱
処理した。
Next, in order to test heat resistance, heat treatment was performed at 400° C. for 30 minutes.

その後の抵抗値は熱処理前と変化がなく、基板からの剥
離もなく接着性も優れたものであった。
The resistance value after that was unchanged from before the heat treatment, and there was no peeling from the substrate and the adhesiveness was excellent.

実施例 35 2,4−トルイレンジアミンとトリメリット酸無水物と
から合成したビスイミドジカルボン酸と3.3′−ジイ
ソシアナートジフェニルから得られたポリアミドイミド
(還元粘度1.0)100重量部、シランカップリング
剤(日本ユニカー社製「A−1100」)2重量部、エ
ポキシ樹脂(無化成社製「AER−669」)10重量
部、N−メチル−2−ピロリドン430重量部、トルエ
ン70重量部に、平均粒径0.8μの酸化アルミニウム
微粒子400重量部が均一に分散されたペースト状組成
物を用いて、アルミナ基板全面に5μ厚に塗布し、次い
で150℃で30分間熱処理して、絶縁基板を得た。
Example 35 100 parts by weight of polyamideimide (reduced viscosity 1.0) obtained from bisimido dicarboxylic acid synthesized from 2,4-toluylene diamine and trimellitic anhydride and 3,3'-diisocyanatodiphenyl , 2 parts by weight of silane coupling agent ("A-1100" manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.), 10 parts by weight of epoxy resin ("AER-669" manufactured by Mukasei Co., Ltd.), 430 parts by weight of N-methyl-2-pyrrolidone, 70 parts by weight of toluene. Using a paste composition in which 400 parts by weight of aluminum oxide fine particles with an average particle size of 0.8 μm were uniformly dispersed, it was applied to the entire surface of the alumina substrate to a thickness of 5 μm, and then heat-treated at 150° C. for 30 minutes. , an insulating substrate was obtained.

このようにして得られた絶縁基板は、400℃の耐熱テ
ストに十分耐え、接着性も良好であった。
The thus obtained insulating substrate sufficiently withstood a heat resistance test of 400° C. and had good adhesion.

実施例 36 メタフェニレンジアミンと無水トリメリット酸から得ら
れたビスイミドジカルボン酸と4.4’−ジイソシアネ
ートベンゾフェノンから製造されたポリアミドイミド(
還元粘度1.2)100重量部、N、N−ジメチルアセ
トアミド500重量部に、平均粒径10μの二酸化ケイ
素400重量部を均一に分散させた組成物を型に流し込
み、100℃で1時間、ついで200℃で1時間熱処理
して、30cm×30cm×0.5mmの絶縁基板を得
た。
Example 36 Polyamideimide prepared from bisimidodicarboxylic acid obtained from metaphenylene diamine and trimellitic anhydride and 4,4'-diisocyanate benzophenone (
Reduced viscosity 1.2) A composition in which 400 parts by weight of silicon dioxide having an average particle size of 10 μm was uniformly dispersed in 100 parts by weight and 500 parts by weight of N,N-dimethylacetamide was poured into a mold and heated at 100°C for 1 hour. Then, heat treatment was performed at 200° C. for 1 hour to obtain an insulating substrate of 30 cm x 30 cm x 0.5 mm.

この絶縁基板は400℃、30分間の耐熱テストに十分
耐え、そりなどもなく寸法精度は良好であった。
This insulating substrate sufficiently withstood a heat resistance test at 400° C. for 30 minutes, and had good dimensional accuracy without warping.

実施例 37 4.4’−ジアミノジフェニルスルフィドとトリメリッ
ト酸無水物から合成したビスイミドジカルボン酸トメタ
フエニレンジイソシアネートから得られたポリアミドイ
ミド(還元粘度0.7)100重量部に、シランカップ
リング剤(日本ユニカー社製「A−1100」)5重量
部、およびジメチルスルホキシド400重量部を加えて
、上記ポリアミドイミドを溶解し、次いで平均粒径5μ
の金微粒子500重量部を加えて、ボールミルを用いて
均一に分散させて、ペースト状の組成物を得た。
Example 37 100 parts by weight of polyamideimide (reduced viscosity 0.7) obtained from bisimidodicarboxylic acid tomethphenylene diisocyanate synthesized from 4.4'-diaminodiphenyl sulfide and trimellitic anhydride was subjected to silane coupling. 5 parts by weight of agent ("A-1100" manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) and 400 parts by weight of dimethyl sulfoxide were added to dissolve the above polyamideimide, and then the average particle size was 5 μm.
500 parts by weight of fine gold particles were added thereto and uniformly dispersed using a ball mill to obtain a paste-like composition.

この様にして得られた組成物を実施例25と同様にスク
リーン印刷し、150℃で30分間熱処理した。
The composition thus obtained was screen printed in the same manner as in Example 25, and heat treated at 150° C. for 30 minutes.

抵抗値は0.2Ω以下であり、接着性も良好であった。The resistance value was 0.2Ω or less, and the adhesiveness was also good.

次に、実施例25と同様にして耐熱性をテストしたとこ
ろ、抵抗値は0.2Ω以下であり、基板からの剥離もな
く接着性も優れていた。
Next, when the heat resistance was tested in the same manner as in Example 25, the resistance value was 0.2Ω or less, and there was no peeling from the substrate and the adhesiveness was excellent.

実施例 38 4.4′−ジアミノジベンジルとトリメリット酸無水物
から合成したビスイミドジカルボン酸とメタフェニレン
ジイソシアネートから得られたポリアミドイミド(還元
粘度0.5)100重量部に、N、N−ジメチルホルム
アミド500重量部を加えて、上記ポリアミドイミドを
溶解し、次いで平均粒径3μのニッケル微粒子600重
量部を加えて、ボールミルを用いて均一に分散させて、
ペースト状の組成物を得た。
Example 38 4. N, N- Add 500 parts by weight of dimethylformamide to dissolve the polyamideimide, then add 600 parts by weight of nickel fine particles with an average particle size of 3 μm, and uniformly disperse using a ball mill.
A paste-like composition was obtained.

この様にして得られた組成物を実施例25と同様にスク
リーン印刷し100℃で30分間熱処理した。
The composition thus obtained was screen printed in the same manner as in Example 25 and heat treated at 100° C. for 30 minutes.

抵抗値は0.3Ω以下であり、接着性も良好であった。The resistance value was 0.3Ω or less, and the adhesiveness was also good.

次に、実施例25と同様にして耐熱性をテストしたとこ
ろ、抵抗値は0.4Ω以下であり、基板からの剥離もな
く接着性も優れていた。
Next, when the heat resistance was tested in the same manner as in Example 25, the resistance value was 0.4Ω or less, and there was no peeling from the substrate and the adhesiveness was excellent.

実施例 39 メタフェニレンジアミンと無水トリメリット酸から得ら
れたビスイミドジカルボン酸と2,4−トルイレンジイ
ソシアネートから合成したポリアミドイミド(還元粘度
1.0)100重量部に、ヘキサメチルホスホルアミド
400重量部を加えて、上記ポリアミドイミドを溶解し
、次いで平均粒径5μのスズ微粒子500重量部を加え
て、ボールミルを用いて均一に分散させて、ペースト状
の組成物を得た。
Example 39 400 parts by weight of hexamethylphosphoramide was added to 100 parts by weight of polyamideimide (reduced viscosity 1.0) synthesized from bisimido dicarboxylic acid obtained from metaphenylene diamine and trimellitic anhydride, and 2,4-toluylene diisocyanate. Parts by weight were added to dissolve the polyamideimide, and then 500 parts by weight of tin fine particles having an average particle size of 5 μm were added and uniformly dispersed using a ball mill to obtain a paste composition.

この様にして得られた組成物を実施例25と同様にスク
リーン印刷し、150℃で30分間熱処理した。
The composition thus obtained was screen printed in the same manner as in Example 25, and heat treated at 150° C. for 30 minutes.

抵抗値は0.3Ω以下であり、接着性も良好であった。The resistance value was 0.3Ω or less, and the adhesiveness was also good.

次に、実施例47と同様にして耐熱性をテストしたとこ
ろ、抵抗値は0.3Ω以下であり、基板からの剥離もな
く接着性も優れていた。
Next, when the heat resistance was tested in the same manner as in Example 47, the resistance value was 0.3Ω or less, and there was no peeling from the substrate and the adhesiveness was excellent.

実施例 40 メタフェニレンジアミンとトリメリット酸無水物から合
成したビスイミドカルボン酸と3.3’−ジイソシアナ
ートジフェニルエーテルから得られたポリアミドイミド
(還元粘度0.4)100重量部と、N、N−ジメチル
アセトアミド400重量部を加えて、上記ポリアミドイ
ミドを溶解し、次いで平均粒径10μの5n02微粒子
400重量部を加えて、ボールミルを用いて均一に分散
させてペースト状の組成物を得た。
Example 40 100 parts by weight of polyamideimide (reduced viscosity 0.4) obtained from bisimidocarboxylic acid synthesized from metaphenylene diamine and trimellitic anhydride and 3,3'-diisocyanatodiphenyl ether (reduced viscosity 0.4), N, N - 400 parts by weight of dimethylacetamide was added to dissolve the polyamideimide, and then 400 parts by weight of 5N02 fine particles having an average particle size of 10 μm were added and uniformly dispersed using a ball mill to obtain a paste-like composition.

この様にして得られた組成物を実施例25と同様にスク
リーン印刷し、100℃で30分間熱処理した。
The composition thus obtained was screen printed in the same manner as in Example 25, and heat treated at 100° C. for 30 minutes.

抵抗値は15にΩであり、400℃で30分間の耐熱テ
ストに十分耐え、接着性も良好でめった。
It had a resistance value of 15Ω, sufficiently withstood a heat resistance test at 400° C. for 30 minutes, and had good adhesion.

実施例 41〜44 メタフェニレンジアミンと無水トリメリット酸から合成
したビスイミドジカルボン酸とジフェニル−3,3′−
ジイソシアネートから得られた種々の還元粘度を有する
ポリアミドイミド100重量部と、N−メチル−2−ピ
ロリドン400重量部を加えて、上記ポリアミドイミド
を溶解し、次いで平均粒径5μの下記第5表に示した微
粒子500重量部を加えて、それぞれボールミルを用い
て均一に分散させ、ペースト状の組成物を得た。
Examples 41-44 Bisimidodicarboxylic acid and diphenyl-3,3'- synthesized from metaphenylenediamine and trimellitic anhydride
100 parts by weight of polyamideimide having various reduced viscosities obtained from diisocyanates and 400 parts by weight of N-methyl-2-pyrrolidone were added to dissolve the above polyamideimide, and then the polyamideimide having an average particle size of 5 μm was added to Table 5 below. 500 parts by weight of the indicated fine particles were added and uniformly dispersed using a ball mill to obtain a paste-like composition.

この様にして得られたそれぞれの組成物を実施例25と
同様にスクリーン印刷し、150℃で30分間熱処理し
た。
Each of the compositions thus obtained was screen printed in the same manner as in Example 25, and heat treated at 150°C for 30 minutes.

抵抗値、400℃での30分間の耐熱テスト、接着性の
結果は第5表の如くであった。
The results of resistance value, heat resistance test at 400° C. for 30 minutes, and adhesiveness are as shown in Table 5.

、実施例 45〜48 メタフェニレンジアミンと無水トリメリット酸から合成
したビスイミドジカルボン酸とジフェニル−3,3′−
ジイソシアネートから得られた榎々の還元粘度を有する
ポリアミドイミド100重量部に、N、N−ジメチルア
セトアミド400重量部を加えて、上記ポリアミドイミ
ドを溶解し、次いで第6表に示した平均粒径10μの微
粒子500重量部を加えて、それぞれボールミルを用い
て均一に分散させ、ペースト状の組成物を得た。
, Examples 45-48 Bisimidodicarboxylic acid and diphenyl-3,3'- synthesized from metaphenylenediamine and trimellitic anhydride
400 parts by weight of N,N-dimethylacetamide was added to 100 parts by weight of a polyamideimide obtained from a diisocyanate and having a reduced viscosity of Enoki to dissolve the polyamideimide, and then the average particle size shown in Table 6 was 10μ. 500 parts by weight of fine particles were added thereto and uniformly dispersed using a ball mill to obtain a paste-like composition.

この様にして得られたそれぞれの組成物を実施例36と
同様に処理した。
Each of the compositions thus obtained was treated in the same manner as in Example 36.

400℃での30分間の耐熱テストおよび寸法精度の結
果を第6表に示した。
The results of the heat resistance test at 400° C. for 30 minutes and the dimensional accuracy are shown in Table 6.

実施例 49 35μ厚の銅張積層板をエツチングして得た1層目配線
を有する回路基板上に、式 (還元粘度:1.0)の芳香族ポリアミドイミド100
重量部とN−メチル−2−ピロリドン600重量部およ
びN、N−ジメチルアセトアミド400重量部からなる
組成物を、乾燥後の組成物の厚さが50μになる様にス
クリーン印刷した後、150℃で1時間熱処理してクロ
スオーバ用絶縁層を形成した。
Example 49 Aromatic polyamideimide 100 of the formula (reduced viscosity: 1.0) was placed on a circuit board having a first layer wiring obtained by etching a 35 μ thick copper-clad laminate.
A composition consisting of 600 parts by weight of N-methyl-2-pyrrolidone and 400 parts by weight of N,N-dimethylacetamide was screen printed so that the thickness of the composition after drying was 50μ, and then heated at 150°C. A heat treatment was performed for 1 hour to form a crossover insulating layer.

このクロスオーバー用絶縁層上に、式(還元粘度:0.
5)の芳香族ポリアミドイミド100重量部と、N−メ
チル−2−ピロリドン300重量部およびN、N−ジメ
チルアセトアミド200重量部、および平均粒径1.8
μの銀微粒子900重量部からなる組成物を、乾燥後の
厚さが30μになる様にスクリーン印刷した後、150
℃で30分間熱処理して2層目の導体配線を形成した。
On this crossover insulating layer, a formula (reduced viscosity: 0.
5) 100 parts by weight of the aromatic polyamideimide, 300 parts by weight of N-methyl-2-pyrrolidone, 200 parts by weight of N,N-dimethylacetamide, and an average particle size of 1.8.
A composition consisting of 900 parts by weight of fine silver particles of 150 μm was screen printed so that the thickness after drying was 30 μm.
A second layer of conductive wiring was formed by heat treatment at .degree. C. for 30 minutes.

この導体の比抵抗は1.0×10−4Ω・cmであり、
1層目配線と2層目配線に電圧100Vを印加して測定
した。
The specific resistance of this conductor is 1.0 x 10-4 Ωcm,
The measurement was performed by applying a voltage of 100 V to the first layer wiring and the second layer wiring.

上記絶縁層の層間絶縁抵抗は3×106MΩであった。The interlayer insulation resistance of the insulating layer was 3×10 6 MΩ.

その後、2層配線を有す る回路基板上に、式(還元
粘度:1.O)の芳香族ポリアミドイミド100重量部
とN−メチル−2−ピロリドン600重量部およびN、
N−ジメチルアセトアミド400重量部からなる組成物
を、乾燥後のその厚さが100μになる様にスクリーン
印刷した後、150℃で1時間熱処理して保護層を形成
した。
Thereafter, 100 parts by weight of an aromatic polyamideimide of the formula (reduced viscosity: 1.0), 600 parts by weight of N-methyl-2-pyrrolidone and N,
A composition consisting of 400 parts by weight of N-dimethylacetamide was screen printed to a dry thickness of 100 μm, and then heat treated at 150° C. for 1 hour to form a protective layer.

得られた多層回路基板は、70℃、90%RHで100
0時間処理した後も、導体の比抵抗および絶縁層の層間
絶縁抵抗の変化が見られず、優れた安定性を有していた
The obtained multilayer circuit board was heated to 100°C at 70°C and 90%RH.
Even after the treatment for 0 hours, no change was observed in the specific resistance of the conductor and the interlayer insulation resistance of the insulating layer, indicating excellent stability.

実施例 50 ガラスエポキシ積層板上に、式 (還元粒度:0.6)の芳香族ポリアミドイミド100
重量部と、N−メチル−2−ピロリドン300重量部お
よびN、N−ジメチルアセトアミド200重量部、およ
び平均粒径1.8μの銀微粒子900重量部からなる組
成物を、乾燥後のその厚さが40μになる様にスクリー
ン印刷した後、150℃で30分間熱処理して導体部を
形成した。
Example 50 Aromatic polyamideimide 100 of the formula (reduced particle size: 0.6) was deposited on a glass epoxy laminate.
parts by weight, 300 parts by weight of N-methyl-2-pyrrolidone, 200 parts by weight of N,N-dimethylacetamide, and 900 parts by weight of fine silver particles with an average particle size of 1.8 μm. After screen printing so that the diameter of the conductor was 40 μm, a conductor portion was formed by heat treatment at 150° C. for 30 minutes.

この導体の比抵抗は1.0×10−4Ω・cmであった
The specific resistance of this conductor was 1.0×10 −4 Ω·cm.

次いで、式(還元粒度:0.8)の芳香族ポリアミドイ
ミド100重量部と、N−メチル−2−ピロリドン40
0重量部、および平均粒径5μのカーボン微粒子400
重量部からなる組成物を、幅Lrnrrt、長さ2cm
、乾燥後のその厚さが40μになる様にスクリーン印刷
した後、150℃で2時間熱処理して抵抗ラインを形成
した。
Next, 100 parts by weight of aromatic polyamideimide of the formula (reduced particle size: 0.8) and 40 parts by weight of N-methyl-2-pyrrolidone were added.
0 parts by weight, and 400 carbon fine particles with an average particle size of 5μ
A composition consisting of parts by weight was prepared with a width Lrnrrt and a length of 2 cm.
After screen printing, the thickness after drying was 40 μm, and heat treatment was performed at 150° C. for 2 hours to form a resistance line.

この抵抗値は400Ωであった。This resistance value was 400Ω.

その後、式(還元粘度:1.0)の芳香族ポリアミドイ
ミド100重量部と、N−メチル−2−ピロリドン60
0重量部およびN、N−ジメチルアセトアミド400重
量部からなる組成物を、乾燥後のその厚さが100μに
なる様にスクリーン印刷した稜150℃で1時間熱処理
して保護層を形成した。
Thereafter, 100 parts by weight of aromatic polyamideimide of the formula (reduced viscosity: 1.0) and 60 parts by weight of N-methyl-2-pyrrolidone were added.
A protective layer was formed by heat-treating a screen-printed edge of a composition consisting of 0 parts by weight and 400 parts by weight of N,N-dimethylacetamide at 150° C. for 1 hour so that the thickness after drying was 100 μm.

得られたハイブリッド回路基板は、70℃、90%RH
で1000時間処理した後も、導体の比抵抗および抵抗
体の抵抗値に変化がなく、優れた安定性を有していた。
The obtained hybrid circuit board was heated at 70°C and 90% RH.
Even after being treated for 1000 hours, there was no change in the specific resistance of the conductor or the resistance value of the resistor, and it had excellent stability.

実施例 51 GAPASの発光ダイオードとメタルフレームからなる
リード線を、式 (還元粘度:0.4)の芳香族ポリアミドイミド100
重量部と無化成社製エポキシ樹脂AER−33125重
量部と、N−メチル−2−ピロリドン400重量部およ
び平均粒径1,8μの銀微粒子500重量部からなる組
成物を用いて、150℃で30分間の熱処理をして接着
させた。
Example 51 A lead wire consisting of a GAPAS light emitting diode and a metal frame was made of aromatic polyamideimide 100 of the formula (reduced viscosity: 0.4).
Using a composition consisting of 5 parts by weight of epoxy resin AER-33125 parts by weight manufactured by Mukasei Co., Ltd., 400 parts by weight of N-methyl-2-pyrrolidone, and 500 parts by weight of fine silver particles with an average particle size of 1.8 μm, The adhesive was bonded by heat treatment for 30 minutes.

その後、350℃、2分の条件でワイヤーボンディング
を行ったが、充分対えるものであった。
Thereafter, wire bonding was performed at 350° C. for 2 minutes, and the results were satisfactory.

実施例 52 シリコンタンタル抵抗体を、式 (還元粘度:1.O)の芳香族ポリアミドイミド100
重量部とN−メチル−2−ピロリドン600重量部およ
びN、N−ジメチルアセトアミド400重量部からなる
組成物中に浸漬して、150℃で30分間熱処理した。
Example 52 A silicon tantalum resistor was made of aromatic polyamideimide 100 of the formula (reduced viscosity: 1.O).
parts by weight, 600 parts by weight of N-methyl-2-pyrrolidone, and 400 parts by weight of N,N-dimethylacetamide, and heat-treated at 150°C for 30 minutes.

得られた抵抗体の70℃、90%RH11000時間処
理後の抵抗変化率は0.1%以下であり、優れた安定性
を有していた。
The resistance change rate of the obtained resistor after treatment at 70° C. and 90% RH for 11,000 hours was 0.1% or less, and had excellent stability.

実施例 53 (還元粘度:1.0)の芳香族ポリアミドイミド100
重量部と、N−メチル−2−ピロリドン1200重量部
およびN、N−ジメチルアセトアミド800重量部から
なる組成物を、150℃で1時間、次いで200℃で1
時間処理して得られた10μ厚のフィルムの両面に、A
gを1cm×1園の大きさで1μ厚にスパッタして電極
を形成した。
Example 53 Aromatic polyamideimide 100 (reduced viscosity: 1.0)
A composition consisting of 1200 parts by weight of N-methyl-2-pyrrolidone and 800 parts by weight of N,N-dimethylacetamide was heated at 150°C for 1 hour and then at 200°C for 1 hour.
On both sides of the 10μ thick film obtained by time treatment
An electrode was formed by sputtering G to a thickness of 1 μm in a size of 1 cm×1 square.

このようにして得られたコンデンサーの容量は6×10
−4μFであり、400℃で30分間の耐熱性テストに
充分耐えるものであった。
The capacitance of the capacitor thus obtained is 6×10
-4 μF, which sufficiently withstood a heat resistance test at 400° C. for 30 minutes.

実施例 54 (還元粘度:0.5)の芳香族ポリアミドイミド100
重量部と、N−メチル−2−ピロリドン300重量部、
N、N−ジメチルアセトアミド200重量部、および平
均粒径1,8μの銀微粒子500重量部からなる組成物
を、シリコンチップに付着させた後、アルミナセラミッ
ク基板に接着させて150℃で1時間熱処理した。
Example 54 Aromatic polyamideimide 100 (reduced viscosity: 0.5)
parts by weight, and 300 parts by weight of N-methyl-2-pyrrolidone.
A composition consisting of 200 parts by weight of N,N-dimethylacetamide and 500 parts by weight of fine silver particles with an average particle size of 1.8 μm was adhered to a silicon chip, and then adhered to an alumina ceramic substrate and heat-treated at 150° C. for 1 hour. did.

これを400℃のホットプレート上に置き、50gの力
でPu11 gaugeを用いてはねたがはずれず、優
れた耐熱接着性を有していた。
This was placed on a hot plate at 400° C. and bounced off using Pu11 gauge with a force of 50 g, but did not come off and had excellent heat-resistant adhesion.

実施例 55 (還元粘度:0.6)の芳香族ポリアミドイミド100
重量部と、N−メチル−2−ピロリドン300重量部、
N、N−ジメチルアセトアミド200重量部、および平
均粒径1,8μの銀微粒子500重量部からなる組成物
を用いて、Ag−Pd系の高温焼成厚膜ペーストを焼成
して得たアルミナセラミック回路基板の回路と、発光ダ
イオードを結合させて150℃で1時間熱処理した。
Example 55 Aromatic polyamideimide 100 (reduced viscosity: 0.6)
parts by weight, and 300 parts by weight of N-methyl-2-pyrrolidone.
An alumina ceramic circuit obtained by firing an Ag-Pd-based high-temperature firing thick film paste using a composition consisting of 200 parts by weight of N,N-dimethylacetamide and 500 parts by weight of fine silver particles with an average particle size of 1.8 μm. The circuit on the board and the light emitting diode were combined and heat treated at 150° C. for 1 hour.

その後、350℃、2分の条件でワイヤーボンディング
を行ったが、充分耐えるものであった。
Thereafter, wire bonding was performed at 350° C. for 2 minutes, and the wire bonding was sufficiently resistant.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 一般式 %式% (ただし、式中のRは水素原子、ハロゲン原子又は炭素
数1〜4のアルキル基、Xは酸素原子、硫黄原子、スル
ホニル基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、メチレ
ン基、エチレン基またはジメチルメチレン基であり、こ
れらはたがいに同一であっても異なっていてもよい)で
表わされる二価の残基、nは2以上の整数である〕 で表わされる、還元粘度0.3〜1.5の、極性有機溶
媒に可溶な芳香族ポリアミドイミド100重量部と、N
、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセト
アミド、ジメチルスルホキシド、N−メチル−2−ピロ
リドン、ヘキサメチルホスホルアミドから選ばれた少な
くとも一種の溶媒10〜10000重量部とを主成分と
することを特徴とするポリアミドイミド組成物。 (ただし、Rは水素原子またはメチル基、Xは酸素原子
、像黄原子、スルホニル基、カルボニル基、メチレン基
またはエチレン基である) で表わされる二価の残基である特許請求の範囲第1項記
載のポリアミドイミド組成物。 求の範囲第1項記載のポリアミドイミド組成物。 4 溶媒が、N−メチル−2−ピロリドン又はヘキサメ
チルホスホルアミドを少なくとも5重量%含有するもの
である特許請求の範囲第1項記載のポリアミドイミド組
成物。 5 溶媒配合が、ポリアミドイミド100重量部に対し
て20〜200重量部である特許請求の範囲第1項又は
第4項記載のポリアミドイミド組成物。 6 芳香族ポリアミドイミド100重量部に対して、エ
ポキシ樹脂2〜100重量部および/又はシランカプリ
ング剤2〜60重量部が添加された特許請求の範囲第1
項記載のポリアミドイミド組成物。 7 エポキシ樹脂が下記の式 (式中m、は0〜数10の平均値をもつ)または (式中m2は0〜約5の平均値をもつ) で示されるものである特許請求の範囲第6項記載のポリ
アミドイミド組成物。 8 一般式 (ただし、式中のRは水素原子、ハロゲン原子又は炭素
数1〜4のアルキル基、Xは酸素原子、硫黄原子、スル
ホニル基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、メチレ
ン基、エチレン基またはジメチルメチレン基であり、こ
れらはたがいに同一であっても異なっていてもよい)で
表わされる二価の残基、nは2以上の整数である〕 で表わされる、還元粘度0.3〜1.5の、極性有機溶
媒に可溶な芳香族ポリアミドイミド100重量部に、導
電性、電気抵抗性、電気絶縁性または誘電性などの電気
特性を与える電気特性付与粒状体100〜4000重量
部が、均一に分散されている粒状体含有ポリアミドイミ
ド組成物。 (ただし、Rは水素原子またはメチル基、Xは酸素原子
、硫黄原子、スルホニル基、カルボニル基、メチレン基
またはエチレン基である) で表わされる二価の残基である特許請求の範囲第8項記
載の粒状体含有ポリナミドイミド組成物。 求の範囲第8項記載の粒状体含有ポリアミドイミド組成
物。 11 芳香族ポリアミドイミド100重量部に対して、
エポキシ樹脂2′〜100重量部および/又はシランカ
プリング剤2〜60重量部が添加された特許請求の範囲
第8項記載の粒状体含有ポリアミドイミド組成物。 12 エポキシ樹脂が下記の式 (式中m1は0〜数10の平均値をもつ)または (式中m2は0〜約5の平均値をもつ) で示されるものである特許請求の範囲第11項記載の粒
状体含有ポリアミドイミド組成物。 13 電気特性付与粒状体が、金属、金属酸化物、金属
窒化物、金属炭化物、金属ケイ化物、ケイ素ケイ素酸化
物、ケイ素窒化物、ケイ素炭化物、ホウ素、ホウ素窒化
物、炭素およびこれらの混合物から選ばれた少なくとも
一種である特許請求の範囲第8項記載の粒状体含有ポリ
アミドイミド組成物。 14 電気特性付与粒状体が、Au、Ag、Pd、pt
。 Cu、Ni、Al、Sn、これらの合金およびこれらの
混合物から選ばれた少なくとも一種である特許請求の範
囲第8項又は第13項記載の粒状体含有ポリアミドイミ
ド組成中。 15 電気特性付与粒状体が、5nO2−Ta2O5゜
Mo03−B、ZnO,Cd0−ZnO,Ag−Pd0
゜Ag−Pd0−Pd、Ni02−Ag、C−B−Ag
。 AAg−Pd0−8b20’、C−B 、Cu20zC
uO。 ■n203.■n203−8b203.Tt203,5
n02゜SnO25b203 p RuO2y、TaN
pTINyTiN−TipTaN Ta’y”WCy
WCWp Cy Co51pZrSi 、Taxi、M
nSi、MoSi、NiSi、TiSiおよびこれらの
混合物から選ばれた少なくとも一種である特許請求の範
囲第8項記載の粒状体含有ポリアミドイミド組成物。 16電気特憔付与粒状体がCoO,PbO,B203p
BL+03.Bad、Sin、5i02.Si3N、、
SiC。 Ta2O3,At203.TiO2,BaTi03yB
N。 BeOおよびこれらの混合物から選ばれた少なくとも一
種である特許請求の範囲第8項又は第13項記載の粒状
体含有ポリアミドイミド組成!。 17 一般式 (ただし、式中のRは水素原子、ハロゲン原子又は炭素
数1〜4のアルキル基、Xは酸素原子、硫黄原子、スル
ホニル基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、メチレ
ン基、エチレン基またはジメチルメチレン基であり、こ
れらはたがいに同一であっても異なっていてもよい)で
表わされる二価の残基、nは2以上の整数である〕 で表わされる、還元粘度0.3〜1.5の、極性有機溶
媒に可溶な芳香族ポリアミドイミド100重量部と、N
、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセト
アミド、ジメチルスルホキシド、N−メチル−2−ピロ
リドン、ヘキサメチルホスホルアミドから選ばれた少な
くとも一種の溶媒10〜10000重量部とを主成分と
し、これに導電性、電気抵抗性、電気絶縁性または誘電
性などの電気特性を与える電気特性付与粒状体100〜
4000重量部が量均−に分散されていることを特徴と
する粒状体含有ポリアミド組成物。 であり、A″rが式 (たたし、Rは水素原子またはメチル基、Xは酸素原子
、硫黄原子、スルホニル基、カルボニル基、メチレン基
またはエチレン基である) で表わされる二価の残基である特許請求の範囲第17項
記載の粒状体含有ポリアミドイミド組成物。 の範囲第17項記載の粒状体含有ポリアミドイミド組成
物。 20 溶媒が、N−メチル−2−ピロリドン又ハヘキサ
メチルホスホルアミドを少なくとも5重量%含有するも
のである特許請求の範囲第17項記載の粒状体含有ポリ
アミドイミド組成物。 21 溶媒が、ポリアミドイミド100重量部に対し
て20〜200重量部である特許請求の範囲第17項又
は第20項記載の粒状体含有ポリアミドイミド組成物。 22芳香族ポリアミドイミド100重量部に対してエポ
キシ樹脂2〜100重量部および/またはシランカプリ
ング剤2〜60重量部が添加された特許請求の範囲第1
7項記載の粒状体含有ポリアミドイミド組成物。 23 エポキシ樹脂が下記の式 (式中m1は0〜数ioの平均値をもつ)または (式中m2は0〜約5の平均値をもつ) で示されるものである特許請求の範囲第17項記載の粒
状体含有ポリアミドイミド組成物。 24 電気特性付与粒体状が、金属、金属酸化物、金属
窒化物、金属炭化物、金属ケイ化物、ケイ素ケイ素酸化
物、ケイ素窒化物、ケイ素炭化物、ホウ素、ホウ素窒化
物、炭素およびこれらの混合物から選ばれた少なくとも
一種である特許請求の範囲第17項記載の粒状体含有ポ
リアミドイミド組成物。 25 電気特性付与粒状体が、Au、Ag、Pd、Pt
。 Cu、Ni、A7.Sn、これらの合金およびこれらの
混合物から選ばれた少なくとも一種である特許請求の範
囲第17項又は第24項記載の粒状体含有ポリアミドイ
ミド組成物。 26 電気特性付与粒状体が、5HO2−Ta2O5゜
Mo03−B、ZnO,Cd0−ZnO,Ag−Pd0
゜Ag−Pd0−Pd、Ni02−Ag 、C−B−A
g 。 Ag−Pd0−8b2O3,C−B、Cu2O−CuO
。 In2O3,In2O3−8b203.Tl2O3,5
n02゜5n02−8b203.RuO2,TaN、T
iN、TiN−Ti。 TaN−Ta、WC,WC−W、C,CoSi、ZrS
i。 TaSi、MnSi、MoSi、NiSi、TiSiお
よびこれらの混合物から選ばれた少なくとも一種である
特許請求の範囲第17項記載の粒状体含有ポリアミドイ
ミド組成物。 27 電気特性付与粒状体がCo0yPbO,B20s
tBi203.BaO,SiO,5i02.Si3N4
.sic。 Ta205.At20s、TiO2,BaTiO3,B
N。 BeOおよびこれらの混合物から選ばれた少なくとも一
種である特許請求の範囲第17項又は第24項記載の粒
状体含有ポリアミドイミド組成物
[Scope of Claims] 1 General formula % Formula % (wherein R is a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and X is an oxygen atom, a sulfur atom, a sulfonyl group, a carbonyl group, a carbonyl group) oxy group, methylene group, ethylene group or dimethylmethylene group, which may be the same or different, n is an integer of 2 or more] 100 parts by weight of an aromatic polyamideimide having a reduced viscosity of 0.3 to 1.5 and soluble in a polar organic solvent;
, N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, N-methyl-2-pyrrolidone, and hexamethylphosphoramide. Characteristic polyamide-imide composition. (However, R is a hydrogen atom or a methyl group, and X is an oxygen atom, a yellow atom, a sulfonyl group, a carbonyl group, a methylene group, or an ethylene group.) The polyamide-imide composition described in . The polyamide-imide composition according to item 1. 4. The polyamide-imide composition according to claim 1, wherein the solvent contains at least 5% by weight of N-methyl-2-pyrrolidone or hexamethylphosphoramide. 5. The polyamide-imide composition according to claim 1 or 4, wherein the solvent is blended in an amount of 20 to 200 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyamide-imide. 6 Claim 1, in which 2 to 100 parts by weight of an epoxy resin and/or 2 to 60 parts by weight of a silane coupling agent are added to 100 parts by weight of aromatic polyamideimide.
The polyamide-imide composition described in . 7 The epoxy resin is represented by the following formula (wherein m has an average value of 0 to several tens) or (wherein m2 has an average value of 0 to about 5) The polyamide-imide composition according to item 6. 8 General formula (wherein R is a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and X is an oxygen atom, a sulfur atom, a sulfonyl group, a carbonyl group, a carbonyloxy group, a methylene group, an ethylene group, or (dimethylmethylene group, which may be the same or different), n is an integer of 2 or more, with a reduced viscosity of 0.3 to 1. 100 parts by weight of aromatic polyamideimide soluble in a polar organic solvent of No. 5, 100 to 4000 parts by weight of electrical property-imparting granules imparting electrical properties such as conductivity, electrical resistance, electrical insulation, or dielectricity. , a polyamide-imide composition containing uniformly dispersed particles. (However, R is a hydrogen atom or a methyl group, and X is an oxygen atom, a sulfur atom, a sulfonyl group, a carbonyl group, a methylene group, or an ethylene group.) Claim 8 is a divalent residue represented by The granulate-containing polynamide-imide composition as described. A granular material-containing polyamide-imide composition according to claim 8. 11 For 100 parts by weight of aromatic polyamideimide,
The polyamide-imide composition containing granules according to claim 8, wherein 2' to 100 parts by weight of an epoxy resin and/or 2 to 60 parts by weight of a silane coupling agent are added. 12. Claim 11, wherein the epoxy resin is represented by the following formula (wherein m1 has an average value of 0 to several tens) or (wherein m2 has an average value of 0 to about 5) The granular material-containing polyamide-imide composition described in 1. 13 The electrical property-imparting granules are selected from metals, metal oxides, metal nitrides, metal carbides, metal silicides, silicon silicon oxides, silicon nitrides, silicon carbides, boron, boron nitrides, carbon, and mixtures thereof. 9. The granular-containing polyamide-imide composition according to claim 8, which is at least one type of granular material. 14 The electrical property-imparting particles are Au, Ag, Pd, pt
. The granular-containing polyamide-imide composition according to claim 8 or 13, which is at least one selected from Cu, Ni, Al, Sn, alloys thereof, and mixtures thereof. 15 The electrical property imparting particles are 5nO2-Ta2O5゜Mo03-B, ZnO, Cd0-ZnO, Ag-Pd0
゜Ag-Pd0-Pd, Ni02-Ag, C-B-Ag
. AAg-Pd0-8b20', C-B, Cu20zC
uO. ■n203. ■n203-8b203. Tt203,5
n02゜SnO25b203 p RuO2y, TaN
pTINyTiN-TipTaN Ta'y”WCy
WCWpCyCo51pZrSi, Taxi, M
The polyamide-imide composition containing granules according to claim 8, which is at least one selected from nSi, MoSi, NiSi, TiSi, and mixtures thereof. 16 Electrolytic granules are CoO, PbO, B203p
BL+03. Bad, Sin, 5i02. Si3N...
SiC. Ta2O3, At203. TiO2, BaTi03yB
N. The granular-containing polyamide-imide composition according to claim 8 or 13, which is at least one selected from BeO and mixtures thereof! . 17 General formula (wherein R is a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and X is an oxygen atom, a sulfur atom, a sulfonyl group, a carbonyl group, a carbonyloxy group, a methylene group, an ethylene group, or (dimethylmethylene group, which may be the same or different), n is an integer of 2 or more, with a reduced viscosity of 0.3 to 1. 100 parts by weight of an aromatic polyamideimide soluble in a polar organic solvent of .5 and N
, N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, N-methyl-2-pyrrolidone, and 10 to 10,000 parts by weight of at least one solvent selected from hexamethylphosphoramide, and Electric property imparting granules 100 to impart electrical properties such as conductivity, electrical resistance, electrical insulation or dielectricity
A polyamide composition containing granules, characterized in that 4000 parts by weight are uniformly dispersed therein. and A″r is a divalent residue represented by the formula (R is a hydrogen atom or a methyl group, and The polyamide-imide composition containing granules according to claim 17, wherein the polyamide-imide composition contains granules according to claim 17. 20 The solvent is N-methyl-2-pyrrolidone or hahexamethyl The granular-containing polyamide-imide composition according to claim 17, which contains at least 5% by weight of phosphoramide. 21. A patent in which the solvent is 20 to 200 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyamide-imide. The granular material-containing polyamide-imide composition according to claim 17 or 20.22-2 to 100 parts by weight of an epoxy resin and/or 2 to 60 parts by weight of a silane coupling agent per 100 parts by weight of aromatic polyamide-imide. Added Claim No. 1
The granular material-containing polyamide-imide composition according to item 7. 23. Claim 17, wherein the epoxy resin is represented by the following formula (wherein m1 has an average value of 0 to several io) or (wherein m2 has an average value of 0 to about 5) The granular material-containing polyamide-imide composition described in 1. 24 The electrical property-imparting granules are made of metal, metal oxide, metal nitride, metal carbide, metal silicide, silicon silicon oxide, silicon nitride, silicon carbide, boron, boron nitride, carbon, and mixtures thereof. The granular-containing polyamide-imide composition according to claim 17, which is at least one selected one. 25 Electric property imparting particles are Au, Ag, Pd, Pt
. Cu, Ni, A7. The polyamide-imide composition containing granules according to claim 17 or 24, which is at least one selected from Sn, alloys thereof, and mixtures thereof. 26 The electrical property imparting particles are 5HO2-Ta2O5゜Mo03-B, ZnO, Cd0-ZnO, Ag-Pd0
゜Ag-Pd0-Pd, Ni02-Ag, C-B-A
g. Ag-Pd0-8b2O3, C-B, Cu2O-CuO
. In2O3, In2O3-8b203. Tl2O3,5
n02゜5n02-8b203. RuO2, TaN, T
iN, TiN-Ti. TaN-Ta, WC, WC-W, C, CoSi, ZrS
i. The polyamide-imide composition containing granules according to claim 17, which is at least one selected from TaSi, MnSi, MoSi, NiSi, TiSi, and mixtures thereof. 27 Electric property imparting granules are Co0yPbO, B20s
tBi203. BaO, SiO, 5i02. Si3N4
.. sic. Ta205. At20s, TiO2, BaTiO3, B
N. The granular-containing polyamide-imide composition according to claim 17 or 24, which is at least one selected from BeO and mixtures thereof.
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JPH03110800U (en) * 1990-02-27 1991-11-13
JPH04119999U (en) * 1991-04-10 1992-10-27 アールシーエス技研株式会社 discharger
JP2019189730A (en) * 2018-04-24 2019-10-31 ユニチカ株式会社 Polyamide-imide composition and use thereof

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61218627A (en) * 1985-03-23 1986-09-29 Sumitomo Chem Co Ltd Thermosetting heat-resistant resin composition

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54143462A (en) * 1978-04-28 1979-11-08 Asahi Chem Ind Co Ltd Granule-containing polyamideimide composition

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54143462A (en) * 1978-04-28 1979-11-08 Asahi Chem Ind Co Ltd Granule-containing polyamideimide composition

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03110800U (en) * 1990-02-27 1991-11-13
JPH04119999U (en) * 1991-04-10 1992-10-27 アールシーエス技研株式会社 discharger
JP2019189730A (en) * 2018-04-24 2019-10-31 ユニチカ株式会社 Polyamide-imide composition and use thereof

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Publication number Publication date
JPS55106260A (en) 1980-08-14

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