JPS58118560A - ビスフエノ−ル誘導体の製造法 - Google Patents
ビスフエノ−ル誘導体の製造法Info
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- JPS58118560A JPS58118560A JP21249681A JP21249681A JPS58118560A JP S58118560 A JPS58118560 A JP S58118560A JP 21249681 A JP21249681 A JP 21249681A JP 21249681 A JP21249681 A JP 21249681A JP S58118560 A JPS58118560 A JP S58118560A
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式(I)
1;中、ILは(51/−4のフルキル基を示す)で示
されるビスフェノール誘導体の製造方法に関する。
されるビスフェノール誘導体の製造方法に関する。
一般弐〇)で示されろビスフェノール誘導体は本発明者
らが初めて合成し、すでに特許出願を行っている新規化
合物であって、その製造法についても2.2/−メチレ
ンビス(6−t−ブチル−4−アルキルフェノール)と
8.8−一テオシプロピオン酸ジクロライドを反応させ
る方法について開示している。
らが初めて合成し、すでに特許出願を行っている新規化
合物であって、その製造法についても2.2/−メチレ
ンビス(6−t−ブチル−4−アルキルフェノール)と
8.8−一テオシプロピオン酸ジクロライドを反応させ
る方法について開示している。
しかし、かかる製造法による場合には、収率が60〜6
0%と低く、シかも反応生成物の精製はカラムクロマト
法を用いるなど工業的製法として必ずしも満足し得るも
のではなかった。
0%と低く、シかも反応生成物の精製はカラムクロマト
法を用いるなど工業的製法として必ずしも満足し得るも
のではなかった。
そこで、本発明者らはかかる合成法のもつ欠点を改良し
、工業的により有利に一般式(I)で示されるビスフェ
ノール誘導体を製造する方法について更に検討の結果、
ビスフェノールモノアクリレートと特定の硫黄化合物を
反応させることにより高収率で目的物が得られ、しかも
不純物の生成も少ないなどの工業的に非常にすぐれた効
果が得られることを見出し、本発明に至つrこ 。
、工業的により有利に一般式(I)で示されるビスフェ
ノール誘導体を製造する方法について更に検討の結果、
ビスフェノールモノアクリレートと特定の硫黄化合物を
反応させることにより高収率で目的物が得られ、しかも
不純物の生成も少ないなどの工業的に非常にすぐれた効
果が得られることを見出し、本発明に至つrこ 。
すなわち本発明は、一般式位)
(式中、几は前記と同じ意味を有する。)で示されるビ
スフェノールモノアクリレートとアルカリ金属水硫化物
またはアルカリ金属硫化物(以下、これらをアルカリ金
属硫黄化合物とよぶ)とを反応させることを特徴とする
前記一般式(Ilで示されるビスフェノール誘導体の製
造法である。
スフェノールモノアクリレートとアルカリ金属水硫化物
またはアルカリ金属硫化物(以下、これらをアルカリ金
属硫黄化合物とよぶ)とを反応させることを特徴とする
前記一般式(Ilで示されるビスフェノール誘導体の製
造法である。
本発明において、ビスフェノールモノアクリレートとア
ルカリ金属硫黄化合物との反応は通常溶媒中で行われる
が、その溶媒としてはたとえばジクロロメタン、クロロ
ホルム等のハロゲン化炭化水素が用いられる。
ルカリ金属硫黄化合物との反応は通常溶媒中で行われる
が、その溶媒としてはたとえばジクロロメタン、クロロ
ホルム等のハロゲン化炭化水素が用いられる。
またビスフェノールモノアクリレートとアルカリ金属硫
黄化合物との反応モル比は通常2二0.8〜1.6であ
り、好ましくは2 : 0.9〜1.8である。
黄化合物との反応モル比は通常2二0.8〜1.6であ
り、好ましくは2 : 0.9〜1.8である。
反応温度は約20℃から使用する溶媒の還流温度の範囲
であるが、通常は還流温度で行われる。
であるが、通常は還流温度で行われる。
この反応において触媒の使用は有効である。
触媒としては水酸化トリメチルベンジルアンモニウム、
水酸化トリエチルベンジルアンモニウム、水酸化テトラ
ブチルアンモニウム等の水酸化四級アンモニウムが用い
られ、その使用量は原料のビスフェノールモノアクリレ
ートに対して0.01〜10重量%、好ましくは0.1
〜5重tXである。
水酸化トリエチルベンジルアンモニウム、水酸化テトラ
ブチルアンモニウム等の水酸化四級アンモニウムが用い
られ、その使用量は原料のビスフェノールモノアクリレ
ートに対して0.01〜10重量%、好ましくは0.1
〜5重tXである。
本発明において用いられる一般式(I)′Q示さレロビ
スフェノールモノアクリレートとしては、2.2′−メ
チレジビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノール)
モノアクリレート、2.2’−メチレジビス(6−t−
ブチル−4−エチルフェ/−ル)モノアクリレート、2
.2′−メチレンビス(4,6−ジーt−ブチルフェノ
−Jし)モノアクリレートおよび2.2′−メチレンビ
ス(4’−5ea−ブチル−6−t−ブチルフェノール
)モノアクリレートなどが例示され、またアルカリ金属
硫黄化合物として、アルカリ金属水硫化物としては水硫
化ナトリウム、水硫化カリウムなどが、アルカリ金属硫
化物としては硫化ナトリウム、硫化カリウムなどが例示
される。
スフェノールモノアクリレートとしては、2.2′−メ
チレジビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノール)
モノアクリレート、2.2’−メチレジビス(6−t−
ブチル−4−エチルフェ/−ル)モノアクリレート、2
.2′−メチレンビス(4,6−ジーt−ブチルフェノ
−Jし)モノアクリレートおよび2.2′−メチレンビ
ス(4’−5ea−ブチル−6−t−ブチルフェノール
)モノアクリレートなどが例示され、またアルカリ金属
硫黄化合物として、アルカリ金属水硫化物としては水硫
化ナトリウム、水硫化カリウムなどが、アルカリ金属硫
化物としては硫化ナトリウム、硫化カリウムなどが例示
される。
尚、使用するアルカリ金属硫黄化合物は固体状でもよい
が、通常はその水溶液として使用される。
が、通常はその水溶液として使用される。
以下、実施例により本発明を説明する。
温度計、攪拌装置、冷却管を備えた100−四ロフラス
コに、2.2’−メチレンビス(6−t−ブチル−4−
メチルフェノール)モノアクリレート7.9of (0
−02%ル)、80重量%水硫化ナトリウム水1.86
F(0,01モル)、クロロホルム501および403
111%水酸化トリメチルベンジルアンそ二つA O−
4f (0,001%ル) 全仕込み、容器内の空気を
窒素で置換した後、昇温し、60〜62℃で8時間保温
し、その後、801置%水硫化ナトリウム0−87 f
(0−002T−ル)を追加し、60〜62℃で更に
1時間保温する。その後80℃まで冷却し、希塩酸を用
いて酸性化し、1時間エアレーシッンする。その後クロ
ロホルム層を水洗、分液し、有機膚ニツlj−、りOo
ホルムを減圧留去することにより、淡黄色のビスC2
−(2−ヒドロキシ−8−t−ブチル−6−メチルベシ
ジル)−4−メチル−6−t−ブチルフェニル〕−8゜
8′−チオジプロピオネートの粗生成物を8.11(収
率98%)得た。この粗生成物をn −ヘキサジ20w
tから再結晶することにより白色結晶を6.2 F (
収率75%)争得た。
コに、2.2’−メチレンビス(6−t−ブチル−4−
メチルフェノール)モノアクリレート7.9of (0
−02%ル)、80重量%水硫化ナトリウム水1.86
F(0,01モル)、クロロホルム501および403
111%水酸化トリメチルベンジルアンそ二つA O−
4f (0,001%ル) 全仕込み、容器内の空気を
窒素で置換した後、昇温し、60〜62℃で8時間保温
し、その後、801置%水硫化ナトリウム0−87 f
(0−002T−ル)を追加し、60〜62℃で更に
1時間保温する。その後80℃まで冷却し、希塩酸を用
いて酸性化し、1時間エアレーシッンする。その後クロ
ロホルム層を水洗、分液し、有機膚ニツlj−、りOo
ホルムを減圧留去することにより、淡黄色のビスC2
−(2−ヒドロキシ−8−t−ブチル−6−メチルベシ
ジル)−4−メチル−6−t−ブチルフェニル〕−8゜
8′−チオジプロピオネートの粗生成物を8.11(収
率98%)得た。この粗生成物をn −ヘキサジ20w
tから再結晶することにより白色結晶を6.2 F (
収率75%)争得た。
融点 101.5〜108.0℃
元素分析 Csx H70068
H8
計算値% 75.9 8.6 8.9測定値%
75.8 8.7 8.8−四日フラスコに、
2.2’−メチレンビス(6−1−ブチル−4−メチル
フェノール)モノアクリレート7.901 (0,02
モル)、18W量%硫化ナトリウム水7.2 F (0
,012モル)、クロロホルム509および40]i1
%水酸化トリメチルベンジルアンモニウム0.41 (
0,001モル)を仕込み、容器内の空気を窒素置換し
た後、昇温し、60〜62℃で4時間保温し、その後8
0℃まで冷却し、希塩酸を用いて酸性化し、1時間エア
レージM ンj ル。その後、クロロホルム層を水洗、
分液し、有機層につき、クロロホルムを減圧留去するこ
とにより淡黄色のビス(2−(2−ヒドロキシ−B−t
−ブチル−5−メチルベンジル)−4−メチル−6−t
−ブチJレフェニル]−8,8’−チオジプロピオネー
トの粗生成物8.Of (収率97%)得た。この粗生
成物をn−ヘキサン20−から再結晶することにより白
色結晶を5.91 (収率71%)を得た。
75.8 8.7 8.8−四日フラスコに、
2.2’−メチレンビス(6−1−ブチル−4−メチル
フェノール)モノアクリレート7.901 (0,02
モル)、18W量%硫化ナトリウム水7.2 F (0
,012モル)、クロロホルム509および40]i1
%水酸化トリメチルベンジルアンモニウム0.41 (
0,001モル)を仕込み、容器内の空気を窒素置換し
た後、昇温し、60〜62℃で4時間保温し、その後8
0℃まで冷却し、希塩酸を用いて酸性化し、1時間エア
レージM ンj ル。その後、クロロホルム層を水洗、
分液し、有機層につき、クロロホルムを減圧留去するこ
とにより淡黄色のビス(2−(2−ヒドロキシ−B−t
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−ブチJレフェニル]−8,8’−チオジプロピオネー
トの粗生成物8.Of (収率97%)得た。この粗生
成物をn−ヘキサン20−から再結晶することにより白
色結晶を5.91 (収率71%)を得た。
物理的性質は実施例1の生成物と同様であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 (式中、Rは01〜4のアルキル基を示す)で示される
ビスフェノールモノアクリレートとアルカリ金属水硫化
物またはアルカリ金属硫化物とを反応させろことを特徴
とする一般式(式中、Bは前記と同じ意味を有する)で
示されるビスフェノール誘導体の製造法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21249681A JPS58118560A (ja) | 1981-12-29 | 1981-12-29 | ビスフエノ−ル誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21249681A JPS58118560A (ja) | 1981-12-29 | 1981-12-29 | ビスフエノ−ル誘導体の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58118560A true JPS58118560A (ja) | 1983-07-14 |
Family
ID=16623617
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21249681A Pending JPS58118560A (ja) | 1981-12-29 | 1981-12-29 | ビスフエノ−ル誘導体の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58118560A (ja) |
-
1981
- 1981-12-29 JP JP21249681A patent/JPS58118560A/ja active Pending
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