JPS58108090A - Memory circuit - Google Patents
Memory circuitInfo
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- JPS58108090A JPS58108090A JP56205120A JP20512081A JPS58108090A JP S58108090 A JPS58108090 A JP S58108090A JP 56205120 A JP56205120 A JP 56205120A JP 20512081 A JP20512081 A JP 20512081A JP S58108090 A JPS58108090 A JP S58108090A
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- G11—INFORMATION STORAGE
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- G11C7/06—Sense amplifiers; Associated circuits, e.g. timing or triggering circuits
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- Static Random-Access Memory (AREA)
- Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は単一基板中に多数形成されたメモリセル毎に情
報を記憶させる高密度メモリ回路に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a high-density memory circuit that stores information in each memory cell formed in large numbers on a single substrate.
従来、この種の記憶回路は第1図にその構成を示す回路
群(以後行回路と呼ぶことにする)を多数具備し、各々
の行回路に含まれるメモリセルを選択するための機構、
選択されたメモリセルのデ □−夕を外部と入力
及び出力するだめの機構、及び上記行回路と上記機構を
制御するだめの機構等を具備している。行回路は第1図
に示すように、N個(Nは1以上の偶数であるとする。Conventionally, this type of memory circuit has a large number of circuit groups (hereinafter referred to as row circuits) whose configuration is shown in FIG. 1, and a mechanism for selecting memory cells included in each row circuit.
It is provided with a mechanism for inputting and outputting data of a selected memory cell to and from the outside, and a mechanism for controlling the row circuit and the mechanism. As shown in FIG. 1, there are N row circuits (N is an even number of 1 or more).
)のメモリセルMC,、MC2,・・・・・・MCfl
MCg、、 、 MCH、2個のブリチャージ回路pc
、、 pc2、センス増幅回路SA 、データ入出力回
路DIO12本のビット線BL、、 BL2.2個のダ
ミーセル回路DC,,DC2より構成されており、プリ
チャージ回路PC2、ダミーセル回路DC1、’lモリ
セルMC,,MC2,・・・・・・、 MCJlはヒン
ト線BL1に、プリチャージ回路PC2、ダミーセル回
路DC2、メモリ4 k MC9+1. MC!+2.
−− 、 MCH、データ出力回路DIOはビット線B
L2にそれぞれ接続されており、センス増幅回路SAは
ビット線BL1. BL2の両方に接続されている。メ
モ゛リセルMC,,MC2,・・・・・・、MCNハ第
2図に示すように電界効果トランジス2匂ランジスタQ
Mのドレインはヒント線Bに接続されており、電界効果
トランジスタQMのソースはコンデンサCMの第1の端
子に接続されており、コンデンサCMの第2の端子には
直流電圧vDDが供給されておシ、電界効果トランジス
タQMのゲートはワード線に接続されている。以下、電
界効果トランジスタQMのソースとコンデンサCMの第
1の端子の接続点を節点NMと呼ぶ。ダミーセルDC1
,DC2は第3図に示すように電界効果トランジスタQ
D, 。) memory cells MC,, MC2,...MCfl
MCg, , MCH, 2 pre-charge circuits pc
,, pc2, a sense amplifier circuit SA, a data input/output circuit DIO, 12 bit lines BL,, BL2. It is composed of two dummy cell circuits DC,, DC2, a precharge circuit PC2, a dummy cell circuit DC1, and a 'l Mori cell. MC,, MC2,..., MCJl is connected to the hint line BL1, precharge circuit PC2, dummy cell circuit DC2, memory 4k MC9+1. MC! +2.
--, MCH, data output circuit DIO is bit line B
The sense amplifier circuit SA is connected to the bit lines BL1.L2, respectively. Connected to both BL2. As shown in FIG. 2, the memory cells MC, MC2, . . .
The drain of M is connected to the tip line B, the source of the field effect transistor QM is connected to the first terminal of the capacitor CM, and the second terminal of the capacitor CM is supplied with a DC voltage vDD. The gate of the field effect transistor QM is connected to the word line. Hereinafter, the connection point between the source of the field effect transistor QM and the first terminal of the capacitor CM will be referred to as a node NM. Dummy cell DC1
, DC2 is a field effect transistor Q as shown in FIG.
D.
QD2とコンデンサCDによって構成されており、QD
Iのドレインはビット−に接続されており、電界効果ト
ランジスタQDIのソース、電界効果トランジスタQD
2のドレイン及びコンデンサCDの第1の端子が互に接
続されており、電界効果トランジスタQ,1のゲートは
ダミーワード線DWに.接続されており、コンデンサC
9の第2の端子には直流電圧vDDが供給されており、
電界効果トランジスタQD2のソースには直流電圧v8
8が供給されており、トランジスタQD2のゲートには
クロック信号φBが供給されている。以下電界効果トラ
ンジスタQDIのソース、電界効果トランジスタQD2
のドレイン及びコンデンサCDの第1の端子の接続点を
節点NDと呼ぶ。センス増幅回路SAは第4図に示すよ
うに電界効果トランジスタQ81・Q8□により構成さ
れており、電界効果トランジスタQ81のドレインとQ
8□のゲートがビット線BL1に接続されており、電界
効果トランジスタQ8□のドレインと電界効果トランジ
スタQSIのゲートがビット線BL2に接続されており
、電界効果トランジスタQ81のソースと電界効果トラ
ンジスタQ8□のソースにはクロック信号φ。が供給さ
れている。Consists of QD2 and capacitor CD, QD
The drain of I is connected to bit-, the source of field effect transistor QDI, and the source of field effect transistor QD.
The drains of field effect transistors Q and 1 and the first terminal of capacitor CD are connected to each other, and the gates of field effect transistors Q and 1 are connected to dummy word line DW. connected, capacitor C
A DC voltage vDD is supplied to the second terminal of 9,
A DC voltage v8 is applied to the source of the field effect transistor QD2.
8 is supplied, and a clock signal φB is supplied to the gate of the transistor QD2. Below, the source of the field effect transistor QDI, the field effect transistor QD2
The connection point between the drain of the capacitor CD and the first terminal of the capacitor CD is called a node ND. As shown in FIG. 4, the sense amplifier circuit SA is composed of field effect transistors Q81 and Q8□, and the drain of the field effect transistor Q81 and Q
The gate of field effect transistor Q8□ is connected to bit line BL1, the drain of field effect transistor Q8□ and the gate of field effect transistor QSI are connected to bit line BL2, and the source of field effect transistor Q81 and field effect transistor Q8□ are connected to bit line BL2. The source of is the clock signal φ. is supplied.
この従来の記憶回路の動作を以下に説明するにあたって
、直流電圧vssを“基準電・εとし、それに対してv
DDを高電圧であるとし、電界効果トランジスタQM.
QDI” QD21 qst* Q8□はいずれもNチ
ャネル形でノーマリオフ形の電界効果トランジスタであ
るとする。本記憶回路において、記憶情報は各々のメモ
リセルに1ビツトずつ記憶され、該記憶情報はメモリセ
ルの中では節点NMの電圧の高低圧対応づけられている
。メモリセルから記憶恨0報を読出すためKは、行回路
に含まれるメモリセルのうち1個を選択し、選1択され
たメモリセルによってビット線に伝見られた信号をセン
ス増幅器8Aで増幅して、データ入出力回路DIOを通
して記憶回路の外部に該信号を出力する。上記、メモリ
セルの選択はそのメモリセルに接続されているワード線
を高電位にすることによって行なわれ、選択されるメモ
リセルがビット線BL1に接続されている場合はダミー
セル回路DC2が選択され(タミーセルの選択はそのダ
ミーセルに接続されているダミーワード線を高電位にす
ることによって行なねれる。)、選択されるメモリセル
がビット線BL2に接緩されている場合はダミーセル回
路DC。In explaining the operation of this conventional memory circuit below, the DC voltage vss is assumed to be a "reference voltage ε," and
DD is assumed to be a high voltage, and a field effect transistor QM.
QDI" QD21 qst* Q8□ are all N-channel type normally-off field effect transistors. In this memory circuit, one bit of memory information is stored in each memory cell, and the memory information is stored in each memory cell. The high and low voltages of the node NM are associated with each other.In order to read the memory zero information from the memory cell, K selects one of the memory cells included in the row circuit, and selects one of the memory cells included in the row circuit. The signal transmitted to the bit line by the memory cell is amplified by the sense amplifier 8A, and the signal is outputted to the outside of the memory circuit through the data input/output circuit DIO. When the memory cell to be selected is connected to the bit line BL1, the dummy cell circuit DC2 is selected (selection of the tummy cell is performed by setting the dummy word line connected to the dummy cell to a high potential). dummy cell circuit DC if the selected memory cell is connected to or disconnected from the bit line BL2.
が選択される。以下の説明において、ビット線BL1の
寄生容量の値をCB,とし、ビット線BL2,の寄生容
量の値をCB□とし、コンデンサCMの容量の値をC9
Mとし、コンデンサC9の容量の値をC6,とする。メ
モリセルMCNが選択される場合について以下詳しい動
作の説明を行なう。読出し動作が行なわれる前に、プリ
チャージ回路pc1,pc2によってビット線BL1,
BL2は高電圧vDDに設定され、ダミーセル回路D
C1,DC2に供給されているクロック信号φ8を5一
度高電位にして再び低電位にすることによってダミーセ
ル回路DC,,DC2の接続点NDをvss電圧すなわ
ち、基準電圧に設定する。この時、センス増幅器8Aに
供給されるクロック信号φ。は高電圧に設定されており
、電界効果トランジスタQg1 + 982は非導通状
態である。次にメモリセルMC#とダミーセル回路DC
1が選択されるとメモリセルMCNのトランジスタQM
とダミーセル回路DC1の電界効果トランジスタQDI
がともに導通状態になる。ダミーセル回路DC0の節点
NDは基準電圧(OV)に設定されていたので、電界効
果トランジスタQDIが導通状態となると、ビット線B
L、の電荷はダミーセル回路DC,のコンデンサCDと
ビット線BL、の寄生容量の間で再分配され、ビット線
BL1の電圧はvDDからCo++Cca・vDDに変
化する。もし、メモリセルMCNの節点NMが電圧■D
DであればメモリセルMCNが選択されてもビット線B
L2の電圧はvDDK保たれたままである。逆にメモリ
セルMcNの節点NMが0〔v〕であったとすれば、メ
モリセルMCNが選択されメモリセルMcNの電界効果
トランジスタQMが導通状態となると、ビットi!jB
L2の電圧はvDDから一6□1.2・Voo K変化
する。通常、ビット線の寄生容量CBIとCB2は等し
くなるようCOD設計される。メモリセルの面積を小さ
くし、高密度な記憶回路を実現するためには、コンデン
サCMの容量値C6Mを大きくすることができず、容量
値C6M、CoDは寄生容量CB1.CB□に比較して
非常CB2 CBI
に小さ“0で c、、、、 + CCM ” ”” C
RI + cco ” ”Dは7・・に非常に近い電圧
であり、その電圧差は通常数百mv以下である。この微
少なビット線BL、 、 BL2の電位差を増幅するの
がセンス増幅器SAである。is selected. In the following explanation, the value of the parasitic capacitance of the bit line BL1 is set as CB, the value of the parasitic capacitance of the bit line BL2 is set as CB□, and the value of the capacitance of the capacitor CM is set as C9.
Let M be the capacitance of the capacitor C9, and C6 be the value of the capacitance of the capacitor C9. A detailed explanation of the operation when memory cell MCN is selected will be given below. Before the read operation is performed, the bit lines BL1, BL1,
BL2 is set to high voltage vDD, and dummy cell circuit D
The connection point ND of the dummy cell circuits DC, DC2 is set to the vss voltage, that is, the reference voltage, by setting the clock signal φ8 supplied to C1 and DC2 to a high potential and then to a low potential again. At this time, the clock signal φ is supplied to the sense amplifier 8A. is set to a high voltage, and field effect transistor Qg1 + 982 is in a non-conducting state. Next, memory cell MC# and dummy cell circuit DC
When 1 is selected, the transistor QM of the memory cell MCN
and the field effect transistor QDI of the dummy cell circuit DC1.
Both become conductive. Since the node ND of the dummy cell circuit DC0 was set to the reference voltage (OV), when the field effect transistor QDI becomes conductive, the bit line B
The charge of L is redistributed between the capacitor CD of the dummy cell circuit DC and the parasitic capacitance of the bit line BL, and the voltage of the bit line BL1 changes from vDD to Co++Cca·vDD. If node NM of memory cell MCN is at voltage ■D
If it is D, even if memory cell MCN is selected, bit line B
The voltage of L2 remains at vDDK. Conversely, if node NM of memory cell McN is 0 [v], when memory cell MCN is selected and field effect transistor QM of memory cell McN becomes conductive, bit i! jB
The voltage of L2 changes from vDD by -6□1.2·Voo K. Usually, the COD design is performed so that the bit line parasitic capacitances CBI and CB2 are equal. In order to reduce the area of the memory cell and realize a high-density storage circuit, the capacitance value C6M of the capacitor CM cannot be increased, and the capacitance value C6M, CoD is reduced by the parasitic capacitance CB1. Compared to CB□, the emergency CB2 CBI is small at “0 c, , , + CCM ” ”” C
RI + cco ""D is a voltage very close to 7..., and the voltage difference is usually less than a few hundred mV. The sense amplifier SA amplifies this minute potential difference between the bit lines BL, BL2.
上記のように、ビット線BL、、 BL2にメモリセル
とダミーセルにより微少電位差が与えられ後、クロック
信号φ。は低電位に設定され、ヒツト線BL1とBL2
のうちその電圧がより低い方の電圧がますます低電圧に
なるように電界効果トランジスタQ8、又はQ8□の一
方を通して電荷が放電され、ビット線BLII BL2
の微少電位差は拡大し、大振幅信号となる。メモリセル
MCNが1択され、メーモリセルMCNの節点NMが高
電圧を記憶していたcB。As described above, after a slight potential difference is applied to the bit lines BL, BL2 by the memory cell and the dummy cell, the clock signal φ is applied. is set to a low potential, and the human lines BL1 and BL2
The charge is discharged through one of the field effect transistors Q8 and Q8□ so that the lower voltage among them becomes an increasingly low voltage, and the bit line BLII BL2
The minute potential difference increases and becomes a large amplitude signal. One memory cell MCN is selected, and the node NM of the memory cell MCN stores a high voltage at cB.
場合、ビット線BL は□・vDDに、ビット、
cat+cc。In this case, the bit line BL is connected to □・vDD, and the bit,
cat+cc.
線BL2はvDDに設定されるのでセンス増幅器SAK
よってビット線BL、は0(V)K設定され、ビット線
BL2はvDDのままに保たれる。メモリセルMcNが
選択され、メモリセルMCの節点NMが低電圧るのでセ
ンス増幅器SAによってビット線BL1はCBI°vD
Dノママニ保タレ、ヒラ) 111 BL2 ハO(V
:)CBI + Cc。Line BL2 is set to vDD so sense amplifier SAK
Therefore, the bit line BL is set to 0(V)K, and the bit line BL2 is kept at vDD. Since the memory cell McN is selected and the node NM of the memory cell MC has a low voltage, the bit line BL1 is set to CBI°vD by the sense amplifier SA.
D Noma maniho sauce, Hira) 111 BL2 HaO (V
:) CBI + Cc.
に設定される。このようにして、選択されたメモリセル
の内容がビット線上に大振幅の信号として取り出され、
データ入出力回路DIOを通して出力される。is set to In this way, the contents of the selected memory cell are extracted as a large amplitude signal on the bit line,
It is output through the data input/output circuit DIO.
上記説明のようK、メモリセルからビット線に伝えられ
た微少信号をセンス増幅器SAで増幅して大振幅信号に
するわけであるが、センス増幅器8Aを構成する電界効
果トランジスタQs+−Q82の閾値電圧が同一で、電
界効果トランジスタQ81 ’Q8□の利得定数が同一
で、ビット線BL1. BL2の寄生容量CBI 、
CB2が同一であれば、原理的にはどんな小さな信号で
も正しく増幅される。しかし、通常上記の回路定数を全
く同一にすることは困難であり、いくらかの不一致がふ
る。したがって、ビット線に伝える微少信号はある一定
限度の振幅が必要であり、そのためには、CoMをある
限度以上の大きさにする必要があり、これがこの種の記
憶回路の高密度化を制限している大きな要因となってい
る。As explained above, the small signal transmitted from the memory cell to the bit line is amplified by the sense amplifier SA into a large amplitude signal, but the threshold voltage of the field effect transistor Qs+-Q82 that constitutes the sense amplifier 8A is are the same, the gain constants of the field effect transistors Q81'Q8□ are the same, and the bit lines BL1. Parasitic capacitance CBI of BL2,
If CB2 is the same, in principle, even the smallest signal can be amplified correctly. However, it is usually difficult to make the above circuit constants exactly the same, and some discrepancies occur. Therefore, the amplitude of the minute signal transmitted to the bit line must be within a certain limit, and for that purpose, the CoM must be larger than a certain limit, which limits the increase in density of this type of memory circuit. This is a big factor.
本発明は上記従来のメモ4り回路の欠点を除去するため
、センス増幅回路及びビット線の非対称性の補正を行な
う機構を付加したことを特徴とするものであり、以下実
施例について詳細に説明す為。The present invention is characterized by the addition of a sense amplifier circuit and a mechanism for correcting bit line asymmetry in order to eliminate the drawbacks of the conventional memo circuit.Examples will be described in detail below. To.
本発明の第1の実施例のメモリ回路の行回路は、第5図
に示すように、第1図に示した従来のメモリ回路のBL
、に補正回路CL、が接続され、BL2に補正回路CL
2が接続された以外は第1図のものと拳全く同じ構成で
ある。補正回路CL、 ’(Cl3)は信号発生回路G
1(G2)及び補正用メモリセルM、(M2)より構成
されており、補正用メモリセルM、(M2)により信号
発生回路G、(G2)が制御される構成になっている。As shown in FIG. 5, the row circuit of the memory circuit according to the first embodiment of the present invention is similar to the BL of the conventional memory circuit shown in FIG.
A correction circuit CL is connected to , and a correction circuit CL is connected to BL2.
The structure of the fist is exactly the same as that in Fig. 1, except that 2 is connected. Correction circuit CL, '(Cl3) is signal generation circuit G
1 (G2) and correction memory cells M, (M2), and the signal generation circuits G, (G2) are controlled by the correction memory cells M, (M2).
以下の説明において、上記従来のメモリ回路の動作説明
と同様、直流電圧■ssは基準電圧であり、0ポルトで
あるとし、それに対してvDDを高電圧であるとし、電
界効果トランジスタは特に記述しない限り、Nチャネル
形でノーマリオフ形であるとする。本実施例のメモリ回
路の動作期間は、補正期間、読出し期間、書込み期間及
び待機期間に分けられる。このうち、読出し期間はすで
に記憶されている情報を外部に出力するだめの期間であ
り、従来のメモリ回路について説明したと同様、メモリ
セルからビット線に出力された微少な電気信号が検出さ
れる。書込み期間における動作は、選択された行回路の
ピント線BL2にデータ入出力回路DIOより、メモリ
セルから出力される電気信号に比較して大きい電気信号
が与えられる以外は読出し期間の動作と同じである。待
機期間においては、ワード線及びダミーワード線は低電
位に設定され、ビット線は高電圧V。Dに設定されて、
各々のメモリセルに記憶された情報を保持しつつ、次に
続く読出し期間又は書込み期間にそなえている。読出し
期間、書込み期間及び待機期間は従来のメモリ回路にも
設けられているが、補正期間は本発明に特有なものであ
り、電源投入直後、書込み期間や読出し期間に先立って
設けられる。補正期間においては各々の行回路のセンス
増幅回路とビット線の非対称性が検査され、その検査結
果が補正用メモリセルM、及びM2に記憶される。読出
し期間及び書込み期間において、センス増幅回路の動作
に先だち、信号発生回路G1及びG2がそれぞれ補正用
メモリセルM、及びM2の記憶内容に応じてヒント線B
L、及びBL2の電圧を調節し、センス増幅回路とヒツ
ト線の非対称性を打消すように動作する。センス増幅回
路又はビット線に非対称性がある場合、ビット線BL1
の電圧がビット線BL2の電圧より一定電圧以上高い時
ビット線BL、を高電圧と検出し、上記以外の時ヒツト
線BL2を高電圧と検出する。上記一定電圧をこのセン
ス増幅回路のオフセット電圧と呼ぶことにする。オフセ
ット電圧が正であれば、ビット線BL1が低電圧に検出
されやすい傾向を持ち、オフセット電圧が負であれば、
BL、が高電圧に検出されやすい傾向を持っている。オ
フセット電圧は製造時の不確定要素により変動する値で
あり、各々の行回路によっても違う値である。また、補
正用メモリセルM、(M2)K記憶されている情報が「
0」の場合、信号発生回路G、(G2)はビット線BL
I(BL2)の電圧°に影響を与えない。補正期間の動
作を次に説明する。In the following explanation, similar to the explanation of the operation of the conventional memory circuit above, the DC voltage ■ss is a reference voltage and is assumed to be 0 port, whereas vDD is assumed to be a high voltage, and field effect transistors are not particularly described. As far as possible, it is assumed that it is an N-channel type and a normally-off type. The operation period of the memory circuit of this embodiment is divided into a correction period, a read period, a write period, and a standby period. Of these, the read period is a period during which information that has already been stored is not output to the outside, and as described for conventional memory circuits, minute electrical signals output from memory cells to bit lines are detected. . The operation in the write period is the same as the operation in the read period except that an electric signal larger than the electric signal output from the memory cell is applied from the data input/output circuit DIO to the focus line BL2 of the selected row circuit. be. During the standby period, the word line and dummy word line are set to a low potential, and the bit line is set to a high voltage V. is set to D,
The information stored in each memory cell is held while preparing for the next reading period or writing period. Although the read period, write period, and standby period are provided in conventional memory circuits, the correction period is unique to the present invention and is provided immediately after power-on and prior to the write period and the read period. During the correction period, the asymmetry between the sense amplifier circuit and the bit line of each row circuit is tested, and the test results are stored in the correction memory cells M and M2. In the read period and the write period, prior to the operation of the sense amplifier circuit, the signal generation circuits G1 and G2 generate the hint line B according to the memory contents of the correction memory cells M and M2, respectively.
It operates to adjust the voltages of L and BL2 and cancel out the asymmetry between the sense amplifier circuit and the hit line. If there is asymmetry in the sense amplifier circuit or bit line, bit line BL1
When the voltage of the bit line BL2 is higher than the voltage of the bit line BL2 by a certain voltage or more, the bit line BL is detected as a high voltage, and in other cases, the bit line BL2 is detected as a high voltage. The above-mentioned constant voltage will be referred to as the offset voltage of this sense amplifier circuit. If the offset voltage is positive, the bit line BL1 tends to be detected as a low voltage, and if the offset voltage is negative,
BL has a tendency to be easily detected at high voltage. The offset voltage is a value that fluctuates due to uncertain factors during manufacturing, and also varies depending on each row circuit. Also, the information stored in the correction memory cells M and (M2)K is “
0”, the signal generation circuit G, (G2) is the bit line BL.
Does not affect the voltage of I(BL2). The operation during the correction period will be explained next.
まず、補正用メモリセルM1及びM2に情報「0」を記
憶させ、次に、書込み期間と同様の動作により、各々の
行回路のメモリセルMC,及びMCNの節点NMが0ボ
ルトに設定される。次にビット線BL1及びBL2を高
電圧vDDに設楚し、ダミーセル回路oc1r DC2
の節点NDをクロック信号φRKよって0ポルトに設定
する。次にメモリセルMC1及びダv8と呼ぶことにす
る。(V、は正であるとする。)上記のようにして、ビ
ットIIIBL、をビット線BL2より信号量v8だけ
低い電圧に設定した後、センス増幅回路SAを動作させ
る。もし、オフセット電圧が−v8より小さい値であれ
ば、ビット線BL、が高電圧、ヒツト線BL2が低電圧
と検出され、オフセット電圧が−v8より大きい値であ
れば、ビット線BL、が低電圧、ビット線BL2が高電
圧と検出される。次に、ビット線BL、に上記動作によ
って与えられた大振幅信号に従って、補正用メモリセル
M1に情報が入力され、もし、ヒツト線BL、が高電圧
すなわち、オフセント電圧が一■8より小さい場合は補
正用メモリセルM1に情報「l」が記憶され、それ以外
の場合は補正用メモリセルM1に情報rOJが記憶され
る。次に上記と同様にメ、モリセルMCN及びダミーセ
ルDC,を選択して、ビット線BL2をビット線BL、
よりv8だけ低い電圧に設定した後、センス増幅回路S
Aを動作させ、その結果ビット線BL2に得られた大−
振幅信号に従って、補正用メモリセルM2に情報が記憶
される。このようにして、補正期間の終りには、オフセ
ット電圧が−v8より小さい場谷は補正用メモリセルM
、に情報「l」が補正用メモリセルM2には情報「0」
がそれぞれ記憶され、オフセット電圧がvsより大きい
場合は補正用メモリセルM1に情報rOJが補正用メモ
リセルM2に情報「1」がそれぞれ記憶される。補正用
メモリセルM1(M2)に情報「1」が記憶されている
場合、信号発生回路G、(G2)、、はセンス増幅回路
SA動作の前に、ビット線BL、 (BL2)の電圧を
2V8引き下げるよう、信号発生回路G1(G2)が設
計されている。したがって、読出し期間及び書き込み期
間において、オフセット電圧が−v8よす小さい場合は
あたかもオフセット電圧が2V8だけ増えたかのように
センス増幅回路SAが動作し、オフセラ)を圧が■8よ
り大きい場合はあたかもオフセット電圧が2V8だけ減
ったかのようにセンス増幅回路SAが動作する。したが
って、オフセント電圧の確率的な分布が一3V、から3
v8まで。範囲であっても、実効的なオフセット電圧は
−v8からv、 1で分布しているかのように動作する
。したがって、オフセット電圧の分布を一定と考えれば
、このような補正手段を用いることKより、メモリセル
からの信号電圧v8を約(に減することができ、メモリ
セルの縮小が可能になる。First, information "0" is stored in the correction memory cells M1 and M2, and then, by the same operation as in the write period, the node NM of the memory cells MC and MCN of each row circuit is set to 0 volts. . Next, bit lines BL1 and BL2 are set to high voltage vDD, and dummy cell circuit oc1r DC2
The node ND of is set to 0 port by the clock signal φRK. Next, they will be referred to as memory cells MC1 and DAv8. (V is assumed to be positive.) After setting bit IIIBL to a voltage lower than bit line BL2 by signal amount v8 as described above, sense amplifier circuit SA is operated. If the offset voltage is a value smaller than -v8, the bit line BL is detected as a high voltage and the human line BL2 is detected as a low voltage, and if the offset voltage is a value larger than -v8, the bit line BL is detected as a low voltage. The bit line BL2 is detected as a high voltage. Next, information is input to the correction memory cell M1 according to the large amplitude signal given to the bit line BL by the above operation, and if the bit line BL is at a high voltage, that is, the offset voltage is less than 18 In other cases, information "l" is stored in the correction memory cell M1, and in other cases, information rOJ is stored in the correction memory cell M1. Next, in the same way as above, select the memory cell MCN and the dummy cell DC, and change the bit line BL2 to the bit line BL.
After setting the voltage to be lower by v8 than that of the sense amplifier circuit S
A is operated, and as a result, the large voltage obtained on bit line BL2 is
Information is stored in the correction memory cell M2 according to the amplitude signal. In this way, at the end of the correction period, if the offset voltage is less than -v8, the correction memory cell M
, information "l" is stored in the correction memory cell M2, and information "0" is stored in the correction memory cell M2.
are stored respectively, and when the offset voltage is larger than vs, information rOJ is stored in the correction memory cell M1 and information "1" is stored in the correction memory cell M2. When information "1" is stored in the correction memory cell M1 (M2), the signal generation circuits G, (G2), , adjust the voltage of the bit lines BL, (BL2) before the sense amplifier circuit SA operates. The signal generation circuit G1 (G2) is designed to lower the voltage by 2V8. Therefore, in the read period and write period, if the offset voltage is smaller than -v8, the sense amplifier circuit SA operates as if the offset voltage had increased by 2V8, and if the offset voltage is larger than -v8, the sense amplifier circuit SA operates as if the offset voltage had increased by 2V8. The sense amplifier circuit SA operates as if the voltage had decreased by 2V8. Therefore, the stochastic distribution of the offset voltage is from 13V to 3V.
Up to v8. Even within the range, the effective offset voltage operates as if distributed from -v8 to v,1. Therefore, assuming that the offset voltage distribution is constant, by using such a correction means, the signal voltage v8 from the memory cell can be reduced to approximately (), and the size of the memory cell can be reduced.
第6図は補正回路の具体例を示すもので、補正用メモリ
セルMは電界効果トランジスタQ。5”06と負荷抵抗
R1# R2からなるフリップフロップ回路と、そのフ
リップフロップ回路に補正期間にクロック信号(”cに
より補正情報を書き込むだめのケート用の電昇効果トラ
ンジスタ。。4とによす構成されている。また、信号発
生回路Gは、電界効果トランジスタQ。1・QO2・
QO3およびコンデンサC1が図のように接続され、ク
ロック信号φ により節点N。1を一定の電位とした後
、読出し期間にクロック信号φNKよりトランジスタQ
。3を導通させたとき、補正用メモリセルの内容即ち節
点N(,2の電位に応じて、節点N。1とビット線BL
との電気的接続が制御される。トランジスタQ。2が導
通に制御された場合にはコンデンサc1の容量で決まる
補正用の電圧をビット線BLに与えることができる。FIG. 6 shows a specific example of the correction circuit, in which the correction memory cell M is a field effect transistor Q. A flip-flop circuit consisting of a load resistor R1#R2 and a charge boost effect transistor for writing correction information to the flip-flop circuit using a clock signal (c) during the correction period. Furthermore, the signal generation circuit G includes field effect transistors Q.1, QO2,
QO3 and capacitor C1 are connected as shown in the figure, and clock signal φ is applied to node N. 1 to a constant potential, the transistor Q is activated by the clock signal φNK during the read period.
. 3 conducts, the content of the correction memory cell, that is, the potential of the node N (, 2), the node N.
The electrical connection with the Transistor Q. When capacitor c1 is controlled to be conductive, a correction voltage determined by the capacitance of capacitor c1 can be applied to bit line BL.
第7図は補正回路の他の具体例を示すもので、補正用メ
モリセルM′は電界効果トランジスタQ。、0〜QC1
3からなるフリップフロップにより構成され、信号発生
回路Gはビット線に補正用の容量を与えるよう、電界効
果トランジスタQ。7とコンデンサC2とを用いた構成
となっている。FIG. 7 shows another specific example of the correction circuit, in which the correction memory cell M' is a field effect transistor Q. , 0~QC1
The signal generating circuit G includes a field effect transistor Q to provide a correction capacitance to the bit line. 7 and a capacitor C2.
上記第1の実施例において、2個の補正回路CL。In the first embodiment, there are two correction circuits CL.
及びCl3を使用したが、第8図にその構成を示す第2
の実施例は4個の補正回路CL、、 Cl3. Cl3
. Cl3を具備しており、補正回路CL1. Cl3
はBL、に、補正回路CL2.CL4はビット線BL2
にそれぞれ接続されている。補正回路CL1.CL2と
全く同様に補正回路CL3(Cl3)は信号発生回路G
3(G4)及び補正用メモリセルM3(M4)より構成
されており、補正用メモリM3(M4)によシ信号奪生
回路G3(G4)が制御される構成になっている。第2
の実施例にも、補正期間が設けられている。補正期間の
前半において第1の実施例と全く同じ操作で補正回路C
L、。and Cl3 were used, but the second
The embodiment includes four correction circuits CL, Cl3. Cl3
.. Cl3, and a correction circuit CL1. Cl3
is BL, and correction circuit CL2. CL4 is bit line BL2
are connected to each. Correction circuit CL1. Just like CL2, the correction circuit CL3 (Cl3) is a signal generation circuit G.
3 (G4) and a correction memory cell M3 (M4), and the signal regeneration circuit G3 (G4) is controlled by the correction memory M3 (M4). Second
A correction period is also provided in the embodiment. In the first half of the correction period, the correction circuit C is operated in exactly the same manner as in the first embodiment.
L.
Cl3にオフセット電圧に関する情報を記憶させ、実効
的なオフセット電圧の分布の幅を4V8だけ減少させる
。補正期間の後半において、補正回路CL。Information regarding the offset voltage is stored in Cl3, and the width of the effective offset voltage distribution is reduced by 4V8. In the second half of the correction period, the correction circuit CL.
及びCl3により補正を行ないつつ、第1の実施例と全
く同じ操作で補正回路CL3. Cl3に補正回路CL
、及びCl3により補正された実効的なオフセット電圧
に関する情報を記憶させる。このように4つの補正回路
を使うことにより、オフセット電圧の分布の幅を実効的
に8v8減少させることができる。and Cl3, the correction circuit CL3. Correction circuit CL to Cl3
, and information regarding the effective offset voltage corrected by Cl3. By using four correction circuits in this manner, the width of the offset voltage distribution can be effectively reduced by 8v8.
補正回路の数をさらに増加することKより、オフセット
電圧の分布の幅をさらに実効的に減少させることも可能
である。By further increasing the number of correction circuits, it is also possible to further effectively reduce the width of the offset voltage distribution.
上記実施例において、信号発生回路G、@ G2はビッ
ト線BL、、 BL2の電圧を一定量だけ引き下げる機
能を有しているとしたが、信号発生回路G、+02はビ
ット線BL、、 BL2の寄生容量CB8.CB□を増
加させる機能を有していてもよい。In the above embodiment, the signal generating circuit G, @ G2 has the function of lowering the voltage of the bit lines BL, BL2 by a certain amount, but the signal generating circuit G, +02 has the function of lowering the voltage of the bit lines BL, BL2. Parasitic capacitance CB8. It may have a function of increasing CB□.
上記実施例において、補正用メモリセルM、、M2はい
わゆるスタティック形メモリセルでアラたが、ダイナミ
ック形メモリセル又はプログラマブルROMでもよい。In the embodiments described above, the correction memory cells M, . . . M2 are so-called static memory cells, but they may also be dynamic memory cells or programmable ROMs.
ダイナミック形メモリセルの場合は電源投入後も定期的
に補正期間を設ける必要があり、プログラマブルROM
の場合は製造後補正期間を1回設けるだけでもよい。In the case of dynamic memory cells, it is necessary to provide a periodic correction period even after the power is turned on, and programmable ROM
In this case, it is sufficient to provide only one post-manufacturing correction period.
上記第1の実施例において、補正期間の最初においてメ
モリセルM。1及びM。Nの節点NMがOポルトに設定
され、次に補正用データを得るためにセンス増幅回路S
Aを動作させる直前には2つのビット線の電圧差がv8
に設定された。したがって、オフセット電圧の補正は、
オフセット電圧の絶対値がv8以上の場合だけKついて
行なわれ、オフセット電圧の絶対値が■8より少し小さ
い場合には補正が行なわれない。しかし、メモリセルか
らビット線に出力される信号にも確率的なばらつき艇あ
り、補正回路内の製造ばらつきがあることも考えられる
ので、オフセット電圧の絶対値がv8より少し小さい場
合も補正が行なわれる方が本琴明の目的をより確実に達
成することができる。In the first embodiment, the memory cell M at the beginning of the correction period. 1 and M. The node NM of N is set to O port, and then the sense amplifier circuit S is set to obtain correction data.
Immediately before operating A, the voltage difference between the two bit lines is v8.
was set to . Therefore, the offset voltage correction is
Correction is performed with respect to K only when the absolute value of the offset voltage is v8 or more, and no correction is performed when the absolute value of the offset voltage is slightly smaller than v8. However, there are stochastic variations in the signal output from the memory cell to the bit line, and there may also be manufacturing variations in the correction circuit, so correction is performed even if the absolute value of the offset voltage is slightly smaller than v8. The purpose of Honkotomei can be more reliably achieved if
第9図にこの点を改良した第3の実施例の行回路を示す
。第3の実施例の行回路は第5図の第1の実施例の行回
路に電界効果トランジスタQ1を付加して構成されてお
り、電界効果トランジスタQ1のソース及びドレインは
ビット線BL1及びBL2にそれぞれ接続されており、
トランジスタQ1のゲートにはクロック信号φ1が供給
されている。第3の実施例の補正期間の最初において、
まず、ヒツト線BL BL がプリチャージ回路p
c、、 pc2に1 l 2
よシ高電圧に設定され、次にクロ、ツク信号φ1が高電
圧に設定される。次にセンス増幅回路SAに供給される
クロック信号φ。が高電圧から低電圧に設定される。こ
の時、クロック信号φ1が高電圧にされているのでビッ
ト線BL工とBL2は電気的に接続された状態であり、
クロック信号φ、が低電圧にされても通常の検出増幅動
作が行なわれず、ヒツト線BL、とBL2はともにクロ
ック信号φ。の電圧圧電界効果トランジスタの閾値電圧
を加えた電圧に設定される。クロック信号φ。の低電圧
は0ポルトであるとすればビット線BL、とBL2は閾
値電圧に設定されることKなる。この時、メモリセルM
C,とMCNに接続されているワード線が高電圧に保た
れておれば、メモリセルMC,とMCNの節点NMは上
記閾値電圧に設定される。この後、クロック信号φiは
低電圧に再び設定され、第1の実施例と全く同様にビッ
ト線BL1と′BL2を高電圧■。、に設定した後、メ
モリセルMC1とダミーセル回路DC2を選択するとビ
ット線BL、とBL2の電圧差はvlより小さい値(こ
の値をy/、と呼ぶ)に設定される。FIG. 9 shows a row circuit of a third embodiment that is improved in this respect. The row circuit of the third embodiment is constructed by adding a field effect transistor Q1 to the row circuit of the first embodiment shown in FIG. 5, and the source and drain of the field effect transistor Q1 are connected to the bit lines BL1 and BL2. are connected to each other,
A clock signal φ1 is supplied to the gate of the transistor Q1. At the beginning of the correction period of the third embodiment,
First, the hit line BL BL is connected to the precharge circuit p
c,, pc2 is set to a higher voltage than 1 l 2 , and then the clock signal φ1 is set to a higher voltage. Next, a clock signal φ is supplied to the sense amplifier circuit SA. is set from high voltage to low voltage. At this time, since the clock signal φ1 is set to a high voltage, the bit lines BL and BL2 are electrically connected.
Even if the clock signal φ is set to a low voltage, the normal detection amplification operation is not performed, and both the hit lines BL and BL2 are connected to the clock signal φ. The voltage is set to the voltage plus the threshold voltage of the piezo field effect transistor. Clock signal φ. If the low voltage of is 0 port, the bit lines BL and BL2 are set to the threshold voltage K. At this time, memory cell M
If the word line connected to memory cells MC and MCN is maintained at a high voltage, the node NM between memory cells MC and MCN is set to the above threshold voltage. Thereafter, the clock signal φi is set to a low voltage again, and the bit lines BL1 and 'BL2 are set to a high voltage (2), just as in the first embodiment. , and then selects the memory cell MC1 and the dummy cell circuit DC2, the voltage difference between the bit lines BL and BL2 is set to a value smaller than vl (this value is called y/).
一方、信号発生回路G1及びG2による補正量も2v;
に設定しておくことにより、オフセット電圧の絶対値が
v8より小さい場合でも補正を行なうことができる。On the other hand, the amount of correction by the signal generation circuits G1 and G2 is also 2V;
By setting , it is possible to perform correction even when the absolute value of the offset voltage is smaller than v8.
上記、第3の実施例においては、補正期間に検査のため
にセンス増幅回路を動かす場合だけ、メモリセルからの
信号の電圧を通常の読出し期間に比較して小さくするた
込に、ヒツト線電圧を電界効果トランジスタの閾値電圧
に等しく設定した。In the above-mentioned third embodiment, only when operating the sense amplifier circuit for inspection during the correction period, the voltage of the signal from the memory cell is reduced compared to the normal read period. was set equal to the threshold voltage of the field effect transistor.
しかし、要はビット線電圧を通常の書込み期間でのメモ
リセルへの書込み電圧(すなわち実施例では0ポルトと
vDD)よりその中間の電圧vDD/2 に近づけた
値に設定し、その電圧にメモリセルの節点NMを設定す
ることKより、上記読出し期間に比較して小さい信号電
圧を得ることができる。However, the key point is to set the bit line voltage to a value closer to the intermediate voltage vDD/2 than the write voltage to the memory cell during the normal write period (that is, 0 port and vDD in the example), and By setting the node NM of the cell K, it is possible to obtain a smaller signal voltage than in the read period.
上記、第3の実施例σビット線電圧を書込み期間と変え
て設定することにより、メモリセルの節点NMの電圧を
設定し、通常より小さい信号量を補正期間において得た
。補正期間におけるメモリセルへの上記書込み電圧は通
常の書込み電圧に等しくし、本メモリ回路のリフレッシ
ュ時間又はそれ以上の時間が経過した後、メモリセルを
選択して通常より微少な電気信号をビット線上に得て、
センス増幅回路を検査のため動かすようにしてもよい。By setting the σ bit line voltage in the third embodiment different from the write period, the voltage at the node NM of the memory cell was set, and a smaller signal amount than usual was obtained in the correction period. The above write voltage to the memory cell during the correction period is made equal to the normal write voltage, and after the refresh time of this memory circuit or a time longer than that has elapsed, the memory cell is selected and a smaller electrical signal than usual is applied to the bit line. obtained,
The sense amplifier circuit may be operated for testing purposes.
また、この場合、多数のメモリセルを次々に選択して、
最も信号電圧量の小さいメモリセルからの電気信号に基
づいて、上記センス増幅回路の検査を行なってもよい。Also, in this case, by selecting a large number of memory cells one after another,
The sense amplifier circuit may be tested based on the electrical signal from the memory cell with the smallest amount of signal voltage.
以上説明したようK、本発明によればセンス増幅回路の
オフセット電圧の分布の幅を実効的に小さくすることが
でき、メモリセルからビット線に出力する信号電圧を小
さくすることができ、メモリセルの小形化ができる。こ
のため、本発明按よれば、記憶回路の高密度化ができる
。As explained above, according to the present invention, the width of the offset voltage distribution of the sense amplifier circuit can be effectively reduced, the signal voltage output from the memory cell to the bit line can be reduced, and the memory cell can be made smaller. Therefore, according to the present invention, it is possible to increase the density of the memory circuit.
第1図は従来のメモリ回路の行回路の構成図、第2図は
メモリセルの回路図、第3図はダミーセル回路の回路図
、第4図はセンス増幅回路の回路図、第5図は本発明の
第1の実施例の行回路の構−
成因、第6図および第7図は補正回路の具体例を示す回
路図、第8図は本発明の第2の実施例の行回路の構成図
、第9図は本発明の第3の実施例の行回路の構成図であ
る。
MC,MC−−−−゛・・MC号rMC!+11・・・
・・・MCN ・・・・・・・・・メモリー
2’
セル、DC,IDc2・・・・・・用タミーセル回路、
SA・・・・・・・・・センス増幅回路、 PCl、
PC2・・・曲・プリチャージ回路、 DIO・・・
・・・・・・データ入出カ−−
回路、BL、IBL2・・・・−・・、上ソト線、
CM、CD・・・・・・・・・コンデンサ、 NMI
ND・・・・・・・・・節点、VDDI v88・・・
・・・・・・直流電圧、 φ、、φ0.φ、・・・・
・・・・・クロック信号、 QM’QDI・Q81’
Q82’ Ql ・・・・・・・・・電界効果トラ
ンジス−タ、 CL、I CL21 CL31 CL
4・・・・・−・・補正回路、 G p G 21 G
3j G 4・・・・・・・・・信号発生回路、M1
2M2 M31 M4 ・・・・・・・・・補正用メ
モリセル。Figure 1 is a configuration diagram of a row circuit of a conventional memory circuit, Figure 2 is a circuit diagram of a memory cell, Figure 3 is a circuit diagram of a dummy cell circuit, Figure 4 is a circuit diagram of a sense amplifier circuit, and Figure 5 is a circuit diagram of a dummy cell circuit. The configuration of the row circuit according to the first embodiment of the present invention, FIGS. 6 and 7 are circuit diagrams showing specific examples of the correction circuit, and FIG. 8 shows the configuration of the row circuit according to the second embodiment of the present invention. FIG. 9 is a block diagram of a row circuit according to a third embodiment of the present invention. MC, MC----゛...MC No. rMC! +11...
・・・MCN ・・・・・・・・・Memory
2' Cell, DC, IDc2... Tummy cell circuit,
SA・・・・・・Sense amplifier circuit, PCl,
PC2... Song/precharge circuit, DIO...
......Data input/output card--circuit, BL, IBL2..., upper soto line,
CM, CD・・・・・・・・・Capacitor, NMI
ND・・・・・・Node, VDDI v88...
...DC voltage, φ,, φ0. φ,...
...Clock signal, QM'QDI/Q81'
Q82' Ql ...... Field effect transistor, CL, I CL21 CL31 CL
4....--Correction circuit, G p G 21 G
3j G 4... Signal generation circuit, M1
2M2 M31 M4 ・・・・・・・・・Correction memory cell.
Claims (2)
数のメモリセル(主メモリセルと称す)を具備し、上記
主メモリセルから出力される電気信号を検出するための
センス増幅回路を具備するメモリ回路において、上記セ
ンス増幅回路を補正するだめの情報を記憶する上記以外
のj−モリセル(補正用メモリセルと称す)と、補正用
メモリセルに記憶された情報に基づいて該センス増幅回
路の動作を補正するだめの手段と、主メモリセルから出
力された電気信号を該センス増幅回路へ入力しつつ該セ
ンス増幅回路を動作させて上記補正用メモリセルに記憶
される情報を得る手段とを設けたことを特徴とするメモ
リ回路。(1) Equipped with a large number of memory cells (referred to as main memory cells) for storing information input from the outside, and equipped with a sense amplifier circuit for detecting electrical signals output from the main memory cells. In the memory circuit, a J-Moly cell (referred to as a correction memory cell) other than the above that stores information for correcting the sense amplifier circuit, and a memory cell for correcting the sense amplifier circuit based on the information stored in the correction memory cell. means for correcting the operation; and means for operating the sense amplifier circuit while inputting an electrical signal output from the main memory cell to the sense amplifier circuit to obtain information stored in the correction memory cell. A memory circuit characterized in that:
る手段は、外部から入力される情報を主メモリセルに入
力する時に2つの論理値に対応して主メモリセルの記憶
節点に与えられる2種の電圧の一方より低く他方より高
い電圧を主メモリセルの記憶節点に生じさせて、該主メ
モリセルからセンス増幅回路へ電゛気信号を出力するこ
とにより、補正用メモリセルに記憶される情報を得るよ
う構成したことを特徴とする特許請求の範囲第(1)項
記載のメモリ回路。(2) The means for obtaining the information to be stored in the correction memory cell is configured to obtain 2 which is applied to the storage node of the main memory cell in response to two logical values when externally input information is input to the main memory cell. By creating a voltage lower than one of the seed voltages and higher than the other at the storage node of the main memory cell and outputting an electrical signal from the main memory cell to the sense amplifier circuit, the voltage stored in the correction memory cell is The memory circuit according to claim 1, characterized in that the memory circuit is configured to obtain information.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56205120A JPS58108090A (en) | 1981-12-21 | 1981-12-21 | Memory circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56205120A JPS58108090A (en) | 1981-12-21 | 1981-12-21 | Memory circuit |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58108090A true JPS58108090A (en) | 1983-06-28 |
JPS6129070B2 JPS6129070B2 (en) | 1986-07-04 |
Family
ID=16501747
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56205120A Granted JPS58108090A (en) | 1981-12-21 | 1981-12-21 | Memory circuit |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58108090A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6584026B2 (en) | 2000-06-28 | 2003-06-24 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor integrated circuit capable of adjusting input offset voltage |
JP2007280537A (en) * | 2006-04-07 | 2007-10-25 | Toshiba Corp | Semiconductor integrated circuit device and trimming method of semiconductor integrated circuit device |
JP2011134427A (en) * | 2009-07-27 | 2011-07-07 | Renesas Electronics Corp | Semiconductor memory device |
-
1981
- 1981-12-21 JP JP56205120A patent/JPS58108090A/en active Granted
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JP2011134427A (en) * | 2009-07-27 | 2011-07-07 | Renesas Electronics Corp | Semiconductor memory device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6129070B2 (en) | 1986-07-04 |
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