JPS5810569A - トリフルオロメチルピリジン類の製造方法 - Google Patents
トリフルオロメチルピリジン類の製造方法Info
- Publication number
- JPS5810569A JPS5810569A JP56107712A JP10771281A JPS5810569A JP S5810569 A JPS5810569 A JP S5810569A JP 56107712 A JP56107712 A JP 56107712A JP 10771281 A JP10771281 A JP 10771281A JP S5810569 A JPS5810569 A JP S5810569A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluoride
- picoline
- trifluoromethylpyridine
- lutidine
- chlorine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- ATRQECRSCHYSNP-UHFFFAOYSA-N 2-(trifluoromethyl)pyridine Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=N1 ATRQECRSCHYSNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 17
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 17
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 229910021594 Copper(II) fluoride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- GWFAVIIMQDUCRA-UHFFFAOYSA-L copper(ii) fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Cu+2] GWFAVIIMQDUCRA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 9
- HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N dimethylpyridine Natural products CC1=CC=CN=C1C HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- UJJMLGJZQGGQAZ-UHFFFAOYSA-N 2-(fluoromethyl)pyridine Chemical compound FCC1=CC=CC=N1 UJJMLGJZQGGQAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000010790 dilution Methods 0.000 claims 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 claims 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 15
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 abstract description 13
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N pyridine Substances C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 13
- -1 pyridine compound Chemical class 0.000 abstract description 12
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 9
- FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 4-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=NC=C1 FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 3
- 239000001307 helium Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910021593 Copper(I) fluoride Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 abstract description 2
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 abstract description 2
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 abstract description 2
- 239000004009 herbicide Substances 0.000 abstract description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 abstract description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 abstract 2
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 abstract 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 16
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- JYYNAJVZFGKDEQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=NC(C)=C1 JYYNAJVZFGKDEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 4
- 229910001026 inconel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 4
- XWKFPIODWVPXLX-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=C(C)N=C1 XWKFPIODWVPXLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- ADVQMCQMDHBTHJ-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-6-(trifluoromethyl)pyridine Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(Cl)=N1 ADVQMCQMDHBTHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HWWYDZCSSYKIAD-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CN=CC(C)=C1 HWWYDZCSSYKIAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K Aluminium flouride Chemical compound F[Al](F)F KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229960001701 chloroform Drugs 0.000 description 2
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 2
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ODNBVEIAQAZNNM-UHFFFAOYSA-N 1-(6-chloroimidazo[1,2-b]pyridazin-3-yl)ethanone Chemical compound C1=CC(Cl)=NN2C(C(=O)C)=CN=C21 ODNBVEIAQAZNNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZSKAVACTPGTRH-UHFFFAOYSA-N 2,3,5-trichloro-6-(trifluoromethyl)pyridine Chemical compound FC(F)(F)C1=NC(Cl)=C(Cl)C=C1Cl HZSKAVACTPGTRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZFDZFJVWFDFQV-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis(trifluoromethyl)pyridine Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=NC(C(F)(F)F)=C1 NZFDZFJVWFDFQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPDVFTXBESQIPJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-bis(trifluoromethyl)pyridine Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=N1 YPDVFTXBESQIPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGWXTSKOBMAJMO-UHFFFAOYSA-N 2,6-dichloro-3,5-bis(trifluoromethyl)pyridine Chemical compound FC(F)(F)C1=CC(C(F)(F)F)=C(Cl)N=C1Cl BGWXTSKOBMAJMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KAQJMEHRXVENSF-UHFFFAOYSA-N 2-(trichloromethyl)pyridine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=CC=CC=N1 KAQJMEHRXVENSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UENGBOCGGKLVJJ-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-1-(2,4-difluorophenyl)ethanone Chemical compound FC1=CC=C(C(=O)CCl)C(F)=C1 UENGBOCGGKLVJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBNPVXZNWBWNEN-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-4-(trifluoromethyl)pyridine Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=NC(Cl)=C1 GBNPVXZNWBWNEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQEOYYWUVYZZLL-UHFFFAOYSA-N 3,5-bis(trifluoromethyl)pyridine Chemical compound FC(F)(F)C1=CN=CC(C(F)(F)F)=C1 RQEOYYWUVYZZLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNYROPYZSZBORI-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-4-(trifluoromethyl)pyridine Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=NC=C1Cl YNYROPYZSZBORI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUNJVIDCYZYFGV-UHFFFAOYSA-K Antimony trifluoride Inorganic materials F[Sb](F)F GUNJVIDCYZYFGV-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical class [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950005499 carbon tetrachloride Drugs 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000012025 fluorinating agent Substances 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229940052308 general anesthetics halogenated hydrocarbons Drugs 0.000 description 1
- 150000004677 hydrates Chemical class 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002917 insecticide Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000001256 steam distillation Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 238000001665 trituration Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Pyridine Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一一ビコリン、r−ピコリン又はルチジンから
直接トリフルオロメチルピリジン類を製造する方法に関
し、詳しくは触媒及び希釈剤04FIE下にε−ピコリ
ン、r−ピコリン又ハルチジン(以下ピリジン化合物と
略称する)と塩素及び無水弗化水素とを気相で反応させ
てa戚はr−)リフルオロメチルピリジン、ビストリフ
ルオロメチルピリジン又はそれらのピリジン核の塩素化
物(以下トリフルオロメチルピリジン類と略称する)を
製造する方法に関する3゜前記トリフルオロメチルピリ
ジン*F!除草剤、殺虫剤などの原料として有用な化合
物である。
直接トリフルオロメチルピリジン類を製造する方法に関
し、詳しくは触媒及び希釈剤04FIE下にε−ピコリ
ン、r−ピコリン又ハルチジン(以下ピリジン化合物と
略称する)と塩素及び無水弗化水素とを気相で反応させ
てa戚はr−)リフルオロメチルピリジン、ビストリフ
ルオロメチルピリジン又はそれらのピリジン核の塩素化
物(以下トリフルオロメチルピリジン類と略称する)を
製造する方法に関する3゜前記トリフルオロメチルピリ
ジン*F!除草剤、殺虫剤などの原料として有用な化合
物である。
トリフルオロメチルピリジン類の製造法としては、(1
)ピリジン化合物な液相で紫外線の照射下に塩素ガスと
反応させたり、或は希釈剤の存在下に高温で気相にて塩
素ガスと反応させた)して、対応するトリクロロメチ^
ピリジン類を生成させ、次いで、(2)これらトリクロ
ロメチルピリジン奔1を液相で無水弗化水素又は三弗化
アンチモンと反応させて製造する方法が知られている。
)ピリジン化合物な液相で紫外線の照射下に塩素ガスと
反応させたり、或は希釈剤の存在下に高温で気相にて塩
素ガスと反応させた)して、対応するトリクロロメチ^
ピリジン類を生成させ、次いで、(2)これらトリクロ
ロメチルピリジン奔1を液相で無水弗化水素又は三弗化
アンチモンと反応させて製造する方法が知られている。
しかしながら、この方法の塩素化反応では多くのSaO
剛生物が発生して目的化金物の分離が困難であり、また
弗素化反応では反応に長時間を要する他、高価な弗素化
剤の使用或は加圧下での反応が必要にな)、工業的には
望まし、〈なし1゜ 本発明は、触媒及び希釈剤の存在下にピリジン化合物と
塩素及び無水弗化水素とを気相で接触反応させると、単
独工程でかつ短時間に、トリフルオロメチルピリジン類
が生成することの知見にもとすいている。
剛生物が発生して目的化金物の分離が困難であり、また
弗素化反応では反応に長時間を要する他、高価な弗素化
剤の使用或は加圧下での反応が必要にな)、工業的には
望まし、〈なし1゜ 本発明は、触媒及び希釈剤の存在下にピリジン化合物と
塩素及び無水弗化水素とを気相で接触反応させると、単
独工程でかつ短時間に、トリフルオロメチルピリジン類
が生成することの知見にもとすいている。
即ち、本発明は、弗化銅を含む触媒及び希釈剤の存在下
に、−一ビコリン、r−ピコリン又はルチジンと塩素及
び無水弗化水素とを気相で反応させて6−トリフルオロ
メチルピリジン旭r−1リフルオロメチルピリジン、ビ
ストリフルオロメチルピリジン又はそれらのピリジン核
の塩素化物のトリフルオロメチルピリジン類を製造する
ことを%徴とする、トリフルオロメチルピリジン類の製
造方法である。
に、−一ビコリン、r−ピコリン又はルチジンと塩素及
び無水弗化水素とを気相で反応させて6−トリフルオロ
メチルピリジン旭r−1リフルオロメチルピリジン、ビ
ストリフルオロメチルピリジン又はそれらのピリジン核
の塩素化物のトリフルオロメチルピリジン類を製造する
ことを%徴とする、トリフルオロメチルピリジン類の製
造方法である。
本発明で触媒として使用される弗化銅としては、弗化第
一銅1cwtF)、弗化第二銅(CuF、)又はそれら
の混合物が挙ぜられ、その使用量は、反応条件によ)−
概に規定できないが、普通、原料のピリジン化合物1モ
ルに対して0゜001〜3モルである。通常、この触媒
は活性炭、活性ア^ミナなどの担体と混合し、適当な大
きさの粒状、ペレット状に成型してから、原料物質、希
釈剤、反応生成物を含むガス流中に固定床又は流動床と
して存在させる。また触媒は弗化銅の型態で直接、反応
管に入れて存在させる方法もあるが、工業的には、前記
金属元素の酸化物、塩化物、水酸化物、炭酸塩などの型
態で、或はそれらの水和物の型態で反応管に入れ、無水
弗化水素と反応させて弗化物に変換ゾせることKよって
存在させる方法が有利である。
一銅1cwtF)、弗化第二銅(CuF、)又はそれら
の混合物が挙ぜられ、その使用量は、反応条件によ)−
概に規定できないが、普通、原料のピリジン化合物1モ
ルに対して0゜001〜3モルである。通常、この触媒
は活性炭、活性ア^ミナなどの担体と混合し、適当な大
きさの粒状、ペレット状に成型してから、原料物質、希
釈剤、反応生成物を含むガス流中に固定床又は流動床と
して存在させる。また触媒は弗化銅の型態で直接、反応
管に入れて存在させる方法もあるが、工業的には、前記
金属元素の酸化物、塩化物、水酸化物、炭酸塩などの型
態で、或はそれらの水和物の型態で反応管に入れ、無水
弗化水素と反応させて弗化物に変換ゾせることKよって
存在させる方法が有利である。
例えばア羨ミナの担体に塩化第二銅を担持させた成型物
を反応管に入れ、予め無水弗化水素を導入して200〜
600℃で反応させ、前記金属元素の弗化物に変換させ
てから本発明に係る反応を行なう。
を反応管に入れ、予め無水弗化水素を導入して200〜
600℃で反応させ、前記金属元素の弗化物に変換させ
てから本発明に係る反応を行なう。
希釈剤としては四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチV
7、F−112(CFClt−CFCltχF−113
(CFtel、CFCI宜)などのハロゲン化炭化水素
の有機溶媒、窒素、ヘリウム、アルゴンなどの不活性気
体が使用でき、これら希釈剤は燃焼、炭化、タール状副
生物の生成などを抑制する機能を有するものである。
7、F−112(CFClt−CFCltχF−113
(CFtel、CFCI宜)などのハロゲン化炭化水素
の有機溶媒、窒素、ヘリウム、アルゴンなどの不活性気
体が使用でき、これら希釈剤は燃焼、炭化、タール状副
生物の生成などを抑制する機能を有するものである。
本発明の実施に当っては、原料物質及び希釈剤を別々に
反応器へ供給できる他、これらの混合状態でも供給でき
、また、これらを同時忙又は順次に1或は一括又は分割
して供給できる。
反応器へ供給できる他、これらの混合状態でも供給でき
、また、これらを同時忙又は順次に1或は一括又は分割
して供給できる。
例えばピリジン化合物と希釈剤との混合物、或は塩素と
無水弗化水素との混合物を別々に供給する。
無水弗化水素との混合物を別々に供給する。
塩素及び無水弗化水素の使用量は原料のピリジン化合物
の種類、目的物011類、反応装置などの違いKよって
一概に規定できないが、一般&CJI料のピリジン化合
物1モ羨当〉それぞれ3,5〜15モル及び3〜20毛
ルである。希釈剤の使用量は普通、原料のピリジン化合
物1モル当り3〜70モルである。反応温度社一般に3
50〜600′C,であ)、反応混合物の反応帯域にお
ける滞留時間は普通1〜60秒である。
の種類、目的物011類、反応装置などの違いKよって
一概に規定できないが、一般&CJI料のピリジン化合
物1モ羨当〉それぞれ3,5〜15モル及び3〜20毛
ルである。希釈剤の使用量は普通、原料のピリジン化合
物1モル当り3〜70モルである。反応温度社一般に3
50〜600′C,であ)、反応混合物の反応帯域にお
ける滞留時間は普通1〜60秒である。
通常、反応器からはトリフルオロメチルピリジン類を主
成分とする生成弗素化物、未反応の弗化水素及び塩素、
中間生成物、剛化塩化水素、更には希釈剤を含有するガ
ス状物質が排出されるが、適当な冷却、凝縮装置を経て
トリフルオロメチルピリジン類は液体混合物として採取
される。液体混合物K11一般に、−一ビコリンを原料
とする場合にはg−)リフルオロメチルビリジンの他に
、2−クロロ、2,4−ジクロロ、2.5−ジクロロ、
2,3.5−トリクロロ−6−トリフルオロメチルピリ
ジンなどのa−トリフルオロメチルピリジンの核塩素化
物が含まれる。γ−ピコリンを原料とする場合にはγ−
トリフルオロメチ羨ピリジンの他に、2−クロロ、2,
6−ジクロロ−4−トリフルオロメチルピリジンなどの
その核塩素化物が含まれる。
成分とする生成弗素化物、未反応の弗化水素及び塩素、
中間生成物、剛化塩化水素、更には希釈剤を含有するガ
ス状物質が排出されるが、適当な冷却、凝縮装置を経て
トリフルオロメチルピリジン類は液体混合物として採取
される。液体混合物K11一般に、−一ビコリンを原料
とする場合にはg−)リフルオロメチルビリジンの他に
、2−クロロ、2,4−ジクロロ、2.5−ジクロロ、
2,3.5−トリクロロ−6−トリフルオロメチルピリ
ジンなどのa−トリフルオロメチルピリジンの核塩素化
物が含まれる。γ−ピコリンを原料とする場合にはγ−
トリフルオロメチ羨ピリジンの他に、2−クロロ、2,
6−ジクロロ−4−トリフルオロメチルピリジンなどの
その核塩素化物が含まれる。
ルチジンを原料とする場合には、このルチジン自体が異
性体、九とえば2,4−ル、チジン、2.5−ルチジン
、2,6−ルチジン、3,5−ルチジンなどを有してい
るので、どれを原料とするかKよって生成物も異なって
くる。例えば2.4−ルチジンを原料とする場合には2
,4−ビストリフルオロメチルピリジンの他に16−ク
ロロ、5,6−ジクロロ、3,5.6−)ジクロロ−2
,4−ビストリフルオロメチルピリジンなどのその核塩
素化物が含まれ、a、s−ルチジンを原料とする場合に
は3,5−ビストリフルオロメチルピリジンの他vc1
2−クロロ、2.6−ジクロロ、2,4.6−)ジクロ
ロ−3,5−ビストリフルオロメチルピリジンなどのそ
の核婢素什物が含まれ、2..6−ルチジンを原料とす
る場合には、2,6−ビストリフルオロメチルピリジン
の勢に1番−り。。、3゜4−ジクロロ、3,4.5−
トリクロロ−2゜6−ビストリフルオロメチルピリジン
などのその被塩素化物が含まれる。
性体、九とえば2,4−ル、チジン、2.5−ルチジン
、2,6−ルチジン、3,5−ルチジンなどを有してい
るので、どれを原料とするかKよって生成物も異なって
くる。例えば2.4−ルチジンを原料とする場合には2
,4−ビストリフルオロメチルピリジンの他に16−ク
ロロ、5,6−ジクロロ、3,5.6−)ジクロロ−2
,4−ビストリフルオロメチルピリジンなどのその核塩
素化物が含まれ、a、s−ルチジンを原料とする場合に
は3,5−ビストリフルオロメチルピリジンの他vc1
2−クロロ、2.6−ジクロロ、2,4.6−)ジクロ
ロ−3,5−ビストリフルオロメチルピリジンなどのそ
の核婢素什物が含まれ、2..6−ルチジンを原料とす
る場合には、2,6−ビストリフルオロメチルピリジン
の勢に1番−り。。、3゜4−ジクロロ、3,4.5−
トリクロロ−2゜6−ビストリフルオロメチルピリジン
などのその被塩素化物が含まれる。
本発明方法によれば、トリフルオロメチルピリジン類は
例えば7591以上の生成率で得られる。採取した液体
混合物中に1目的のトリフルオロメチルピリジン類の生
成迄達していない中間生成物が含唸れているときKは、
これら中間生成物は未反応原料、又は希釈剤と共に分離
、回収し、反応帯域へ循環使用することができる。
例えば7591以上の生成率で得られる。採取した液体
混合物中に1目的のトリフルオロメチルピリジン類の生
成迄達していない中間生成物が含唸れているときKは、
これら中間生成物は未反応原料、又は希釈剤と共に分離
、回収し、反応帯域へ循環使用することができる。
更に上記のトリフルオロメチルピリジン類には抽出、蒸
留、晶析などの通常の精製処理が加えられることによっ
て、例えば2−クロロ−6−トリフルオロメチルピリジ
ン、2−クロロ−4−トリフルオ。メチルピリジン、6
−クロロ−294−ビストリフルオロメチルピリジン、
2.6−ジクロロ−3,5−ビストリフルオロメチルピ
リジンなどの単一化合物を高純度で得ることができる。
留、晶析などの通常の精製処理が加えられることによっ
て、例えば2−クロロ−6−トリフルオロメチルピリジ
ン、2−クロロ−4−トリフルオ。メチルピリジン、6
−クロロ−294−ビストリフルオロメチルピリジン、
2.6−ジクロロ−3,5−ビストリフルオロメチルピ
リジンなどの単一化合物を高純度で得ることができる。
次に本発明方法の実施例を記載するが、本発明方法の範
囲はこれらの記載によって何ら限定されるものでない。
囲はこれらの記載によって何ら限定されるものでない。
実施例1
反応器として、反応部が内径80m、高さ1゜000聾
であ)、かつ触媒充填部が底部から高さ500mである
触媒流動床を有するインコネル製竪型反応器を設値し、
反応器底部に内径20■、長さ1,500諺のインコネ
ル製予熱管を2本接続し、反応管及び予熱管を温度制御
できるように1その外部を電熱器及び断熱材で覆った3
゜ 塩化第二銅を粒径105〜210メツシユの)′$性炭
に担持(重量比67:100G)L九もの(1870g
)を予め弗素化触媒充填部に充填し、200℃で無水弗
化水素をl0NJ/分の割合にて導入して触媒を活性化
した。
であ)、かつ触媒充填部が底部から高さ500mである
触媒流動床を有するインコネル製竪型反応器を設値し、
反応器底部に内径20■、長さ1,500諺のインコネ
ル製予熱管を2本接続し、反応管及び予熱管を温度制御
できるように1その外部を電熱器及び断熱材で覆った3
゜ 塩化第二銅を粒径105〜210メツシユの)′$性炭
に担持(重量比67:100G)L九もの(1870g
)を予め弗素化触媒充填部に充填し、200℃で無水弗
化水素をl0NJ/分の割合にて導入して触媒を活性化
した。
反応器を420℃に加熱し、200g/時間Oa−ピコ
リンとa−ピコリンの5倍モルの窒素ガスとを一方の予
熱管を通じ、またa−ピコリンの7倍モルの無−水弁化
水素とa−ピコリンの5倍モルの塩素ガスとを他方の予
熱管を通じ、それぞれ反応器に導入して5時間にわたっ
て反応させた。反応混合物の器内滞留時間は約&2秒で
あつ九。
リンとa−ピコリンの5倍モルの窒素ガスとを一方の予
熱管を通じ、またa−ピコリンの7倍モルの無−水弁化
水素とa−ピコリンの5倍モルの塩素ガスとを他方の予
熱管を通じ、それぞれ反応器に導入して5時間にわたっ
て反応させた。反応混合物の器内滞留時間は約&2秒で
あつ九。
反応器よ)排出するガスは、冷縮塔、水洗塔を通じて捕
集し、捕集された反応物をアンモニア水で中和後、水蒸
気蒸留を行なって、油状物2250gを得た。
集し、捕集された反応物をアンモニア水で中和後、水蒸
気蒸留を行なって、油状物2250gを得た。
この油状物を昇温ガスクロマトグラフィーによシ分析し
たところ、その組成は2−トリフルオロメチルピリジン
10.6%、6−クロロ−2−トリフルオロメチルピリ
ジン41.2%、4.6−ジクロロ−2−トリフルオロ
メチルピリジン4.61G及ヒクロロー2−パークロロ
フルオロメチルビリジン類など43.6チであった。
たところ、その組成は2−トリフルオロメチルピリジン
10.6%、6−クロロ−2−トリフルオロメチルピリ
ジン41.2%、4.6−ジクロロ−2−トリフルオロ
メチルピリジン4.61G及ヒクロロー2−パークロロ
フルオロメチルビリジン類など43.6チであった。
実施例2
反応器として、反応部が内径100m1高さ2.300
mでを)カ、かつ触媒充填部が底部から高さ800■で
ある触媒流動床を有するインコネル製竪型反応器を設置
し、反応器底部に内径20mm、長さ1,500■のイ
ンコネル製予熱管を2本接続し、反応管及び予熱管を温
度制御できるように1その外部を電熱器及び断熱材で覆
った。
mでを)カ、かつ触媒充填部が底部から高さ800■で
ある触媒流動床を有するインコネル製竪型反応器を設置
し、反応器底部に内径20mm、長さ1,500■のイ
ンコネル製予熱管を2本接続し、反応管及び予熱管を温
度制御できるように1その外部を電熱器及び断熱材で覆
った。
塩化第二鋼を粒径105〜255Pの三弗化アルミニウ
ムに担持(重量44:1000)L九もの(3800g
)を予め弗素化処理されたものを触媒充填部に充填し、
反応器を340〜400℃に加熱し友。250g/時間
のr−ピコリンとγ−ピコリンの5倍モルの窒素ガスと
を一方の予熱管を通じ、またγ−ピコリンの5倍モルの
無水弗化水素及び塩素ガスを他方の予熱管を通じ、それ
ぞれ反応器VC導入して6時間にわたって反応させた。
ムに担持(重量44:1000)L九もの(3800g
)を予め弗素化処理されたものを触媒充填部に充填し、
反応器を340〜400℃に加熱し友。250g/時間
のr−ピコリンとγ−ピコリンの5倍モルの窒素ガスと
を一方の予熱管を通じ、またγ−ピコリンの5倍モルの
無水弗化水素及び塩素ガスを他方の予熱管を通じ、それ
ぞれ反応器VC導入して6時間にわたって反応させた。
反応混合物の器内滞留時間は約27〜30であった。
反応tよ)排出するガスは、冷縮塔、水洗塔を通じて捕
集し、補集され九反応物をアンモニア永で中和稜、水蒸
気蒸留を行なって、油状物2350gを得た この油状物を昇温ガスクロマトグラフィーによ〉分析し
たところ、その組成は、4−)IJフルオロメチルピリ
ジン19.2%、2−クロロ−4−トリフルオロメチル
ピリジン47.6%、3−クロロ−4−トリフルオロメ
チルピリジン2゜8−12,6−ジクロロ−4−トリフ
ルオロメチルピリジン16.2%及びクロロ−4−パー
クロロフルオロメチルビリジン類々ど14.29gであ
った。
集し、補集され九反応物をアンモニア永で中和稜、水蒸
気蒸留を行なって、油状物2350gを得た この油状物を昇温ガスクロマトグラフィーによ〉分析し
たところ、その組成は、4−)IJフルオロメチルピリ
ジン19.2%、2−クロロ−4−トリフルオロメチル
ピリジン47.6%、3−クロロ−4−トリフルオロメ
チルピリジン2゜8−12,6−ジクロロ−4−トリフ
ルオロメチルピリジン16.2%及びクロロ−4−パー
クロロフルオロメチルビリジン類々ど14.29gであ
った。
実施例3
反応器として実施例1で用い九ものと同様のものを使用
した。触媒として塩化第二銅を粒径]05〜255Pの
三弗化アルミニウムに担持(重量比67:1000)し
たもの(t5oOg)を予め弗素化処理されたものを触
媒充填部に充填した。反応器を420℃に加熱し、3)
5−ルチジンを140g/時間及び3,5−ルチジンの
6倍モルの窒素ガスを一方の予熱管を通じ、また、3,
5−ルチジンの10倍ギルの無水弗化水素及び同8倍モ
ルの塩素ガスを他方の予熱管を通じて2時間反応させ友
。反応混合物の管内滞留時間は約10秒であった。前記
実施例1の場合と同様にして油状物を得、通常の精留、
晶析手段によって処理して2−クロロ−3゜5−ビス(
トリフルオロメチル)ピリジン390gを得是。
した。触媒として塩化第二銅を粒径]05〜255Pの
三弗化アルミニウムに担持(重量比67:1000)し
たもの(t5oOg)を予め弗素化処理されたものを触
媒充填部に充填した。反応器を420℃に加熱し、3)
5−ルチジンを140g/時間及び3,5−ルチジンの
6倍モルの窒素ガスを一方の予熱管を通じ、また、3,
5−ルチジンの10倍ギルの無水弗化水素及び同8倍モ
ルの塩素ガスを他方の予熱管を通じて2時間反応させ友
。反応混合物の管内滞留時間は約10秒であった。前記
実施例1の場合と同様にして油状物を得、通常の精留、
晶析手段によって処理して2−クロロ−3゜5−ビス(
トリフルオロメチル)ピリジン390gを得是。
特許出願人石原産業株式会社
Claims (1)
- 弗化銅を含む触媒及び希釈−〇存在下に、g−ピコリン
、r−ピコリン又はルチジンと塩素及び無水弗化水素と
を気相で反応させて、−一トリフルオ四メチルビリジン
、r−トリ、ルオロメチルビリジン、ビストリフルオロ
メチルピリジン又はそれらのピリジン核の塩素化物のト
リフルオーメチルビリジン類を製造することを特徴とす
る、トリフルオーメチルビリジン類の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56107712A JPS5810569A (ja) | 1981-07-10 | 1981-07-10 | トリフルオロメチルピリジン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56107712A JPS5810569A (ja) | 1981-07-10 | 1981-07-10 | トリフルオロメチルピリジン類の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5810569A true JPS5810569A (ja) | 1983-01-21 |
JPH0136467B2 JPH0136467B2 (ja) | 1989-07-31 |
Family
ID=14466028
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56107712A Granted JPS5810569A (ja) | 1981-07-10 | 1981-07-10 | トリフルオロメチルピリジン類の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5810569A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008074474A1 (en) * | 2006-12-18 | 2008-06-26 | Freie Universität Berlin | Substituted 4-hydroxypyridines |
WO2019208482A1 (ja) * | 2018-04-23 | 2019-10-31 | 石原産業株式会社 | インターナル、流動層反応装置、およびトリフルオロメチルピリジン系化合物の製造方法 |
EP3696168A4 (en) * | 2018-01-05 | 2021-04-21 | Zhejiang Lantian Environmental Protection Hi-Tech Co., Ltd. | PROCESS FOR THE PREPARATION OF 2-CHLORO-5-TRIFLUOROMETHYLPYRIDINE |
-
1981
- 1981-07-10 JP JP56107712A patent/JPS5810569A/ja active Granted
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008074474A1 (en) * | 2006-12-18 | 2008-06-26 | Freie Universität Berlin | Substituted 4-hydroxypyridines |
EP3696168A4 (en) * | 2018-01-05 | 2021-04-21 | Zhejiang Lantian Environmental Protection Hi-Tech Co., Ltd. | PROCESS FOR THE PREPARATION OF 2-CHLORO-5-TRIFLUOROMETHYLPYRIDINE |
EP4105202A1 (en) * | 2018-01-05 | 2022-12-21 | Zhejiang Lantian Environmental Protection Hi-Tech Co., Ltd. | Method for preparing 2-chloro-5-trifluoromethylpyridine |
WO2019208482A1 (ja) * | 2018-04-23 | 2019-10-31 | 石原産業株式会社 | インターナル、流動層反応装置、およびトリフルオロメチルピリジン系化合物の製造方法 |
CN112020393A (zh) * | 2018-04-23 | 2020-12-01 | 石原产业株式会社 | 内部构件、流化床反应装置和三氟甲基吡啶系化合物的制造方法 |
EP3785793A4 (en) * | 2018-04-23 | 2022-04-13 | Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. | INTERNAL FLUID BED REACTION DEVICE AND METHOD FOR PREPARING A TRIFLUOROMETHYLPYRIDINE-BASED COMPOUND |
US11358110B2 (en) | 2018-04-23 | 2022-06-14 | Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. | Internal, fluidized bed reaction apparatus, and method for manufacturing trifluoromethyl pyridine-based compound |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0136467B2 (ja) | 1989-07-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
PL123917B1 (en) | Process for manufacturing derivatives of pyridine substituted in position beta with trifluormethyl group | |
US4429132A (en) | Production of 3-trichloromethyl- and 3-trifluoromethyl-pyridines | |
CA1125763A (en) | PROCESS FOR PRODUCING CHLORO .beta.-TRIFLUORO- METHYLPYRIDINES | |
US4205175A (en) | Chlorination process | |
EP0078410B1 (en) | Process for producing 3-chloro-5-trifluoromethylpyridines | |
WO2019134477A1 (zh) | 一种2-氯-5-三氟甲基吡啶的制备方法 | |
US4563529A (en) | Process for producing trifluoromethylpyridines | |
JP2020023489A (ja) | 2−クロロ−3−トリフルオロメチルピリジンの分離、精製方法 | |
JPS5810569A (ja) | トリフルオロメチルピリジン類の製造方法 | |
JPS6346747B2 (ja) | ||
EP3608309B1 (en) | Method for purifying trifluoromethylpyridine compound | |
US5319088A (en) | Selective gas phase chlorination of polychlorinated β-picolines to produce 2,3,5,6-tetrachloropyridine and its precursors | |
JPH0219108B2 (ja) | ||
JPH0643398B2 (ja) | フルオルピリジン類の製造 | |
JPS6130667B2 (ja) | ||
JPS6130663B2 (ja) | ||
JPH04164068A (ja) | フッ素化ピリジン類の製造方法 | |
JPH03163062A (ja) | 弗化水素による弗素化方法 | |
JP2588268B2 (ja) | 2,3,5,6‐テトラクロロピリジン及び2,3,6‐トリクロロピリジンの製造法 | |
JPS6130665B2 (ja) | ||
JPH07116151B2 (ja) | 2,6−ジクロロピリジンの製造法 | |
JPS6130666B2 (ja) | ||
JPS6134416B2 (ja) | ||
JPH0411541B2 (ja) | ||
JPS6134415B2 (ja) |