JPH1187770A - 照明装置、読み取り装置、投影装置、浄化装置、および表示装置 - Google Patents
照明装置、読み取り装置、投影装置、浄化装置、および表示装置Info
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Abstract
波長や光量も極めて安定し、しかも、極めて長寿命な光
源装置を用いた照明装置、その他各種の応用装置を提供
することを目的とする。 【解決手段】 紫外線を発光する半導体発光素子を利用
し、必要に応じて蛍光体などの波長変換機能を有する材
料と組み合わせることにより、小型軽量化が容易で、発
光波長や光量も極めて安定し、しかも、極めて長寿命な
光源装置を用いた照明装置などの各種応用装置を提供す
るものである。半導体発光素子としては、特に330n
m付近の発光波長を有するものが望ましく、発光層にB
GaNを用いたものが好適である。
Description
り装置、投影装置、浄化装置、および表示装置に関す
る。より詳しくは、本発明は、紫外線を発光する半導体
発光素子を種々の形態に応用することにより得られる高
効率、長寿命、小型軽量の照明装置、読み取り装置、投
影装置、浄化装置、および表示装置に関する。
て、光源として用いる発光装置には、種々の方式が採用
されている。これらの従来技術のうちで、代表的なもの
に蛍光灯システムがある。
成を表す模式図である。すなわち、蛍光灯システム90
0は、蛍光灯910と電源920とにより構成される。
蛍光灯910としては、ガラス管911の内部に、水銀
蒸気とアルゴン(Ar)などの希ガスとの混合ガス91
2が封入され、ガラス管911の内壁面に蛍光物質91
3が塗布されているものが一般的である。このような蛍
光灯910は、両端に設けられている電極915、91
5を介して、外部に設けられた電源920に接続されて
いる。電源920は、高周波の交流電圧を発生し、この
電圧が印加されることによって水銀蒸気がグロー放電を
起こし、紫外線が放出される。放出された紫外線は、蛍
光物質913に吸収されて可視光に波長変換され、ガラ
ス管911を透過して外部に放出される。
たような従来の蛍光灯システムにおいては、電源920
において高周波電圧を発生するために、インバータなど
を用いた昇圧、高周波発生回路が必要となる。そのため
に、電源920の構成が複雑となり、コストが高く、信
頼性も低下しやすく、寿命も短いなどという問題があっ
た。
放電を利用しているために、点灯時間に遅延が生じると
ともに、点灯直後に放電が不安定で光量が安定しないと
いう問題もあった。さらに、周囲温度によって、放電状
態が変化するために、特に低温において、光量が低下し
やすいという問題もあった。
蒸気を封入した構成を有するために、小型軽量化が容易
でなく、寿命も短く、振動や衝撃などの機械的強度を十
分に確保することも困難で、水銀による環境汚染を防止
する対策も必要とされていた。
たもうひとつの技術として電球を挙げることができる。
しかし、電球においても、ガラス球の内部に熱フィラメ
ントを封入した構成であるが故に、消費電力、発光効
率、発熱量、寿命、機械的強度、サイズおよび重量など
の多くの点で改善すべき多くの問題点があった。
である。すなわち、本発明は、簡素な構成により小型軽
量化が容易で、発光波長や光量も極めて安定し、しか
も、極めて長寿命な光源装置を用いた照明装置、その他
各種の応用装置を提供することを目的とする。
照明装置は、紫外線を放出する半導体発光素子と、前記
半導体発光素子が放出する前記紫外線を吸収して、前記
紫外線よりも長い波長を有する2次光を放出する蛍光体
と、を備えたことを特徴とし、高効率で長寿命、小型軽
量などの多くの利点を有する。
と、前記配線基板上に設けられた複数の半導体発光装置
と、前記配線基板の周囲を覆うように設けられた透光性
を有する外囲器と、を備え、前記半導体発光装置は、紫
外線を放出する半導体発光素子と、前記半導体発光素子
が放出する前記紫外線を吸収して、前記紫外線よりも長
い波長を有する2次光を放出する蛍光体と、を有するこ
とを特徴とし、高効率で長寿命、小型軽量などの多くの
利点を有する。
することにより、さらに明るく小型化を可能とすること
ができる。
所定数の前記半導体発光装置が直列に接続されてなる複
数のユニットを形成し、前記複数のユニットを互いに並
列に接続することにより、信頼性を向上させ、駆動電圧
も抑えることができる。
と、前記配線基板上に設けられた紫外線を放出する複数
の半導体発光素子と、前記配線基板の周囲を覆うように
設けられた透光性を有する外囲器と、を備え、さらに、
前記外囲器の内壁面には蛍光体が設けられ、前記半導体
発光素子が放出する前記紫外線を吸収して、前記紫外線
よりも長い波長を有する2次光を放出するようにして
も、高効率で長寿命、小型軽量などの多くの利点を得る
ことができる。
の所定数の前記半導体発光素子が直列に接続されてなる
複数のユニットを形成し、前記複数のユニットを互いに
並列に接続することによっても、信頼性を向上させ、駆
動電圧も抑えることができる。
性能の可視光源を構成することができる。
び青色の波長領域にそれぞれ強度ピークを有するように
すれば、いわゆる「3波長型」の白色光源を構成するこ
とができる。
換回路をさらに備え、蛍光灯の電源に接続して前記半導
体発光素子を駆動できるようにすると、従来の蛍光灯シ
ステムと互換性を得ることができ、極めて便利である。
と、前記半導体発光素子が放出する前記紫外線を吸収し
て、可視光領域の波長を有する2次光を放出する蛍光体
と、前記半導体発光素子にパルス状の駆動電流を供給す
るパルス発生器と、を備えることにより、高効率で長寿
命、小型軽量などの多くの利点を有する写真機用閃光装
置としての照明装置を構成することができる。
と、前記半導体発光素子が放出する前記紫外線を吸収し
て、可視光領域の波長を有する2次光を放出する蛍光体
と、前記可視光を反射して、所定の方向に照射する凹面
鏡と、を備えることにより、高効率で長寿命、小型軽量
などの多くの利点を有するランプ・ユニットとしての照
明装置を構成することができる。
体との間に、前記紫外線を透過し、前記蛍光体から放出
される前記2次光を反射するような波長選択性を有する
第1の光反射膜をさらに備えることにより、波長変換効
率を向上することができる。また、前記蛍光体からみて
前記半導体発光素子と反対側に、前記紫外線を反射し、
前記蛍光体から放出される前記2次光を透過するような
波長選択性を有する第2の光反射膜をさらに備えること
により、さらに波長変換効率を向上させ、紫外線の漏洩
を防ぐこともできる。
素子と反対側に、前記紫外線を吸収し、前記蛍光体から
放出される前記2次光を透過するような波長選択性を有
する光吸収体をさらに備えることにより、紫外線の漏洩
を防ぎ外乱光による不要な発光を防ぐこともできる。
化ガリウム系半導体を含むことにより、紫外線を高い効
率で放出することができる。
層にホウ素とガリウムと窒素とを含むことにより、さら
に高い効率で紫外線を放出することができる。
基板上に堆積された第1導電型のGaN層と、アルミニ
ウムを含むGaNからなる第1導電型のクラッド層と、
ホウ素を含むGaNからなる発光層と、アルミニウムを
含むGaNからなる第2導電型のクラッド層と、を少な
くとも有するものであることが望ましい。
ることが望ましい。
装置に関して前述したような構成は、その他、読み取り
装置、投影装置、浄化装置、および表示装置についても
同様に適用して、同様の効果を得ることができる。
体発光素子を利用し、必要に応じて蛍光体などの波長変
換機能を有する材料と組み合わせることにより、小型軽
量化が容易で、発光波長や光量も極めて安定し、しか
も、極めて長寿命な光源装置を用いた照明装置などの各
種応用装置を提供するものである。
形態について説明する。
照明装置を表す概略図である。すなわち、同図(a)
は、その全体斜視図であり、同図(b)は、その横断面
図、同図(c)は、その配線基板の概略平面図である。
基板110が外囲器120Aおよび外囲器120Bの内
部に収容された構成を有する。外囲器120Aおよび1
20Bは、それぞれ、例えば樹脂により形成することが
できる。外囲器120Aは、透光性を有するカバーであ
り、外囲器120Bは、天井などに取り付けるためのベ
ースとしての役割を有する。
を放出する半導体発光装置130、130、・・・が配
置されている。この半導体発光装置130は、後に詳述
するように、紫外線を発光する発光ダイオード(LE
D)と蛍光体とを備える。このような半導体発光装置1
30は、例えば、赤色、緑色および青色のそれぞれの波
長領域に強度ピークをを有するような、いわゆる「3波
長型」の白色発光特性を有することが望ましい。
体発光装置の構成を表す概略断面図である。すなわち、
半導体発光装置130は、少なくとも半導体発光素子1
32と、蛍光体136とを備える。半導体発光素子13
2は、例えばリード・フレームなどの実装部材134の
上にマウントされている。そして、半導体発光素子13
2の光取り出し経路上に蛍光体136が配置されてい
る。半導体発光素子132は、例えば、樹脂138など
により封止するようにしても良い。
し、蛍光体136は、その紫外線を吸収して波長変換
し、所定の波長を有する可視光あるいは赤外線を外部に
放出する。
の材料を適宜選択することにより、調節することができ
る。半導体発光素子132から放出される紫外線を吸収
して、効率良く2次光を放出する蛍光体としては、例え
ば、赤色の発光を生ずるものとしては、Y2O2S:E
u、青色の発光を生ずるものとしては、(Sr、Ca、
Ba、Eu)10(PO4)6・Cl2、緑色の発光を生ず
るものとしては、3(Ba、Mg、Eu、Mn)O・8
Al2O3などを挙げることができる。これらの蛍光物質
を適当な割合で混合すれば、可視光領域の殆どすべての
色調を表現することができる。
の波長帯において吸収ピークを有する場合が多い。従っ
て、これらの蛍光物質により効率的に波長変換を行うた
めには、半導体発光素子132が330nm付近の波長
帯の紫外線を放出するようにすることが望ましい。この
ような特性を有する半導体発光素子132としては、ホ
ウ素(B)を含んだGaNを発光層として用いたものを
挙げることができ、この好適な構成については後に詳述
する。
発光素子132から離れてその放出光の経路上に配置し
ても良く、半導体発光素子132の表面上に堆積しても
良く、半導体発光素子132の内部に配置あるいは含有
させても良い。
装置130は、必要とされる照明光量や、サイズ、電力
などの条件に応じて、配線基板110の主面上に、所定
の間隔で配置されている。基板110の上にコンパクト
且つ高密度に実装するためには、半導体発光装置130
は、いわゆる「表面実装型(SMD)」のランプ構造を
有することが望ましい。このように個々の光源を小さく
することにより、それぞれについて光反射体などを設け
て光源からの光を集光することができるようになり、効
率が高く明るい照明装置を実現できる。
発光装置130、130、・・・の相互間の接続関係と
しては、例えば、図1(c)に示したように、所定数の
半導体発光素子130を直列に接続したユニットを形成
し、それぞれのユニットを並列に接続するという接続関
係が望ましい。このような接続関係を採用すれば、電源
電圧や駆動用電流を極端に高く設定する必要がなく、ま
た、いずれかの半導体発光装置130が故障した場合に
おいても、他の半導体発光装置130に与える駆動電圧
の変化などの影響を低減することができる。すなわち、
いずれかのユニットが故障した場合においても、残りの
ユニットは正常に動作することができ、従来の蛍光灯の
ように全体がだめになることがないので、信頼性の点で
格段に有利となる。しかし、本発明はこれに限定される
ものではなく、この他にも、配線基板110上のすべて
の半導体発光装置130を直列あるいは並列に接続して
も良い。
する半導体発光装置130を採用しているが、本発明は
これに限定されるものではない。この他にも、例えば、
紫外線を放出する半導体発光装置を配線基板110の上
に配置し、樹脂カバー120Aの内壁面上に蛍光体を堆
積して、紫外線を吸収、波長変換し、白色光を外部に放
出するようにしても良い。
ために、蛍光灯に印加される高周波駆動電圧を直流電圧
に変換して半導体発光装置130に供給する変換回路を
併せて設けると、極めて便利である。本実施形態による
照明装置は、家庭・事務所用の室内灯のみならず、街
灯、サークライト、マスク・アライナなどの各種製造装
置用の光源、植物栽培用光源など、極めて幅広い分野に
おいて利用することができる。
の蛍光灯に相当する光量を得るためには、例えば、66
個の半導体発光装置130を4列配置すれば良い。本発
明によれば、従来の蛍光灯よりも消費電力が低く、寿命
が極めて長くなるとともに、小型化、軽量化が容易であ
り、衝撃や振動などに対する機械的強度を顕著に改善す
ることができる。さらに、水銀による環境汚染も解消す
ることができる。
説明する。図3は、本発明の第2の実施の形態に係る写
真機用閃光装置を表す模式図である。すなわち、同図に
表した写真機150は、レンズ152、ファインダ15
4とともに、いわゆるフラッシュとして、本発明による
半導体発光装置130を備える。半導体発光装置130
は、図2に関して前述したように、半導体発光素子と蛍
光体とにより所定波長分布を有する白色光を放出する。
また、半導体発光装置130に用いる蛍光体136の種
類によっては、特定の発光波長を強調したり、場合によ
っては赤外線カメラなどに対しても応用が可能となる。
半導体発光装置130は、パルス発生器158に接続さ
れ、パルス状の駆動電流を供給されることによりフラッ
シュとして用いることができる。
真機用閃光装置と比較して、消費電力が小さく、寿命が
極めて長いという利点が得られる。さらに、半導体発光
素子の特性を生かして、超高速撮影カメラなどの特殊用
途への応用も可能となる。
説明する。図4は、本発明の第3の実施の形態に係るラ
ンプを表す模式図である。すなわち、本発明によるラン
プ・ユニット200においては、凹面鏡210の焦点付
近に半導体発光装置130が配置されている。半導体発
光装置130の内部においては、半導体発光素子から放
出される紫外線が蛍光体により波長変換され、白色光な
どの光として外部に放出される。この光は凹面鏡210
により、所定の方向に集光され、放出される。半導体発
光装置130の内部において、光源となる蛍光物質を凹
面鏡の焦点近傍に集中して設けることにより、集光性を
改善することができる。
例えば車載用のヘッドランプや、懐中電灯などに応用す
ることができる。図2に示したような半導体発光装置1
30は、従来の電球と比較して、小型化が極めて容易で
ある。従って、異なる発光色を有する半導体発光装置1
30を凹面鏡210の焦点付近に隣接して配置すること
ができるようになる。その結果として、一つのランプ2
00により、複数の発光色を実現できる。たとえば、ヘ
ッドランプとフォグランプを共通のランプ・ユニットに
組込むことも可能である。また、バックランプとストッ
プランプの組み合わせなども可能となる。
紫外線を放出する半導体発光素子132を配置し、その
紫外線を直接凹面鏡210で反射した後、蛍光体で波長
変換するようにしても良い。この場合には、蛍光体は、
例えば、凹面鏡210の反射面上に堆積したり、ランプ
・ユニットの光出射窓部に配置すれば良い。
ンプ・ユニットと比較して、消費電力が小さく、寿命が
極めて長いとともに、振動や衝撃などに対する機械的強
度が顕著に改善されるという利点が得られる。さらに、
光源を小さくすることができるため、集光性を飛躍的に
高めることが可能となり、遠方を高い照度で照らしたい
場合などに特に有利となる。
説明する。図5は、本発明の第4の実施の形態に係る読
み取り装置を表す模式図である。すなわち、本発明によ
る読み取り装置250においては、赤色の光を放出する
半導体発光装置130Aと、緑色の光を放出する半導体
発光装置130Bと、青色の光を放出する半導体発光装
置130Cとがそれぞれ配置されている。半導体発光装
置130A、B、Cは、それぞれ内蔵する蛍光体136
の材料を変えることによって、それぞれの発光色を得る
ことができる。
色光、緑色光、青色光は、図示しない原稿に向けて照射
され、それぞれの反射光が、受光部260A、B、Cに
より検出されるようにされている。受光部260A、
B、Cは、例えば、感光型素子やCCDなどにより構成
することができる。本発明による読み取り装置は、ファ
ックス(FAX)やスキャナ、あるいはコピ−機などに
組込まれ、所定の原稿を読みとって電気信号に変換する
ことができる。
読み取り装置と比較して、消費電力が小さく、寿命が極
めて長いとともに、振動や衝撃などに対する機械的強度
が顕著に改善されるという利点が得られる。
説明する。図6は、本発明の第5の実施の形態に係る投
影装置を表す模式図である。すなわち、本発明による投
影装置300においては、凹面鏡310の焦点付近に半
導体発光装置130が配置され、その前方に投影レンズ
320が配置されている。半導体発光装置130から放
出された光は、凹面鏡310により集光され、透光性シ
ートなどに描かれた所定の原稿340の透過パターン
を、投影レンズ320により、スクリーン342上に投
影する。
み取り装置と比較して、消費電力が小さく、発熱が少な
く、寿命が極めて長いとともに、小型軽量化が容易で、
振動や衝撃などに対する機械的強度が顕著に改善される
という利点が得られる。
説明する。図7は、本発明の第6の実施の形態に係る浄
化装置を表す模式図である。すなわち、本発明による浄
化装置350においては、浄化回路360に沿って、オ
ゾン発生器370と半導体発光素子132とが配置され
ている。浄化回路360に水355Aを供給した場合に
は、半導体発光素子132からの紫外線により殺菌・浄
化され浄化水355Bとして排出される。また紫外線照
射の前に、オゾン発生器370によりオゾンを水に溶か
しておくと、才ゾンによる殺菌・浄化効果に加え紫外線
照射による活性酸素化を促し、殺菌・浄化効果はさらに
高まる。
気の清浄化にも適する。すなわち、浄化回路360に空
気を供給することにより、空気に半導体発光素子132
からの紫外線を照射して、空気の殺菌・浄化を行うこと
もできる。また、図示しない加熱機構により、供給した
空気の温度を上げて熱風として排気することにより、殺
菌効果を高めた浄化装置としても良い。本発明による浄
化装置350は、例えば、医療用、各種保存用ケ−ス
内、冷蔵庫内などの殺菌・浄化用にも応用できる。
用した浄化装置と比較して、紫外線の強度が大きく浄化
能力が高いとともに、消費電力が小さく、寿命が極めて
長いとともに、振動や衝撃などに対する機械的強度が顕
著に改善されるという利点が得られる。また、半導体発
光素子132の点灯直後に瞬時に所定の安定した出力を
得ることができる。さらに、装置全体を小型化すること
ができるので設置が容易となり、鑑賞魚用水槽や家庭用
風呂水浄化などの用途について特に有利となる。
説明する。図8は、本発明の第7の実施の形態に係る紫
外線照射装置を表す模式図である。すなわち、本発明に
よる紫外線照射装置400においては、凹面鏡410の
焦点付近に半導体発光素子132が配置されている。半
導体発光素子132から放出された紫外線は凹面鏡41
0により反射・集光されて、ターゲット440に高い照
射強度で照射される。このようにして、例えば、樹脂成
型用や日焼け用、消毒用などの用途に応用することがで
きる。また、後述するBGaN系の半導体発光素子を用
いれば、人体内でビタミンDの生成に役立つ300nm
付近の紫外線を高い効率で発生することができるので、
健康器具としての応用も可能となる。
用した紫外線照射装置と比較して、紫外線の強度が高い
とともに、消費電力が小さく、寿命が極めて長いととも
に、振動や衝撃などに対する機械的強度が顕著に改善さ
れるという利点が得られる。さらに、本発明によれば、
光源を極めて小さくすることができるので、集光性を高
めて紫外線照射密度を飛躍的に高めることができる。
説明する。図9は、本発明の第8の実施の形態に係る表
示装置を表す模式図である。すなわち、本発明による表
示装置450は、紫外線を放出する半導体発光素子13
2と表示パネル460とを有する。表示パネル460の
裏面には、発光色の異なる複数の蛍光体により、所定の
文字や図絵などが描かれている。半導体発光素子132
から放出された紫外線は、表示パネル460の裏面の蛍
光体により波長変換され、所定の文字や図絵などのパタ
ーンを表示する。
32の代わりに半導体発光装置130を配置しても良
い。この場合には、半導体発光装置130から放出され
る白色光などの可視光をバックライトとして、表示パネ
ル上の所定の文字や図絵などを表示することができる。
車載用インジケ−タ・ランプや、各種玩具用表示ラン
プ、各種警告灯、非常灯など極めて幅広に用途に応用す
ることができる。
用した表示装置と比較して、表示輝度が高いとともに、
消費電力が小さく、寿命が極めて長いとともに、振動や
衝撃などに対する機械的強度が顕著に改善されるという
利点が得られる。
説明する。図10は、本発明の第9の実施の形態に係る
半導体発光装置を表す模式図である。すなわち、本発明
による半導体発光装置500は、紫外線を放出する半導
体発光素子132と第1の光反射部510、波長変換部
520、第2の光反射部530、および光吸収部540
がこの順序で設けられている。
は、半導体発光素子132から放出される紫外線を透過
し、波長変換部520において波長変換され放出される
可視光などの2次光は反射するような波長選択性を有す
る。すなわち、半導体発光素子132からの紫外線に対
する反射率は低く、波長変換部520からの2次光の波
長の光に対する反射率が高くなるように構成されてい
る。
グ反射鏡を利用することにより実現することができる。
すなわち、屈折率が異なる2種類の薄膜を交互に積層す
ることにより、特定の波長領域の光に対する反射率が高
い反射鏡を形成することができる。例えば、1次光の波
長をλ、薄膜層の光屈折率をnとした場合に、膜厚をそ
れぞれλ/(4n)とした2種類の薄膜を交互に積層す
ることにより、1次光に対する反射率が極めて高い反射
鏡を形成することができる。このような2種類の薄膜
は、光屈折率の差が大きいことが望ましい。その組み合
わせとしては、例えば、酸化シリコン(SiO2)と酸
化チタン(TiO2)、窒化アルミニウム(AlN)と
窒化インジウム(InN)、あるいはこれらのうちのい
ずれかの材料からなる薄膜と、アルミニウム・ガリウム
砒素、アルミニウム・ガリウム燐、五酸化タンタル、多
結晶シリコン、非晶質シリコンなどのいずれか材料の薄
膜とを適宜組み合わせても良い。
2から放出された紫外線を吸収して、より長波長の2次
光を放出する役割を有する。その構成としては、例え
ば、所定の媒体に蛍光体を含有させた層とすることがで
きる。この蛍光体は、半導体発光素子132から放出さ
れる紫外線を吸収して励起され、所定の波長を有する2
次光を放出する。例えば、半導体発光素子132から放
出される紫外線が、波長約330nmの光であり、蛍光
体により波長変換された2次光は、可視光あるいは赤外
線領域の所定の波長を有するようにすることができる。
2次光の波長は、蛍光体の材料を適宜選択することによ
り、調節することができる。紫外線領域の1次光を吸収
して、効率良く2次光を放出する蛍光体としては、例え
ば、赤色の発光を生ずるものとしては、Y2O2S:E
u、青色の発光を生ずるものとしては、(Sr、Ca、
Ba、Eu)10(PO4)6・Cl2、緑色の発光を生ず
るものとしては、3(Ba、Mg、Eu、Mn)O・8
Al2O3などを挙げることができる。これらの蛍光物質
を適当な割合で混合すれば、可視光領域の殆どすべての
色調を表現することができる。
近の波長帯において吸収ピークを有する場合が多い。従
って、これらの蛍光物質により効率的に波長変換を行う
ためには、半導体発光素子132が330nm付近の波
長帯の紫外線を放出するようにすることが望ましい。
する。光反射部530は波長選択性を有する反射鏡であ
り、波長変換部520から入射する光のうちで、紫外線
を反射し、2次光を透過させる役割を有する。すなわ
ち、光反射部530は、紫外線の波長の光を反射し、2
次光の波長の光を透過するカット・オフ・フィルタ、あ
るいはバンドパス・フィルタとして作用する。その具体
的な構成としては、例えば、前述したようなブラッグ反
射鏡とすることができる。
により、波長変換部520を透過して漏洩した紫外線を
高い効率で反射して、波長変換部520に再び戻すこと
ができる。このようにして戻された紫外線は、波長変換
部520において波長変換され、2次光として、光反射
部530を透過する。つまり、波長変換部520の光出
射側に光反射部530を配置することにより、紫外線の
外部への漏洩を防止するとともに、波長変換部520を
透過した紫外線を戻して高い効率で波長変換することが
できるようになる。また、外部からの紫外線も光反射部
530により反射できるので、外乱光により波長変換部
520が励起されて不要な発光を生ずるという問題を解
消することもできる。
光吸収部は、波長選択性を有する吸収体であり、紫外線
を高い効率で吸収するとともに2次光は透過させる役割
を有する。すなわち、紫外線の波長の光に対する吸収率
が高く、2次光の波長の光に対する吸収率は低いような
吸収特性を有する。この具体的な構成としては、例え
ば、透光性の媒体に所定の吸収体を分散させたものを挙
げることができる。このような吸収体としては、例え
ば、2次光が赤色の光の場合には、カドミウム・レッド
や弁柄を挙げることができ、2次光が青色の光の場合に
は、コバルト・ブルーや群青などを挙げることができ
る。
より、光反射部530を透過した紫外線を吸収して外部
への漏洩を防止することができるとともに、外部に取り
出す光のスペクトルを調節して、純色性を改善すること
も可能となる。また、外部からの紫外線も光吸収部54
0により吸収されるので、外乱光により波長変換部52
0が励起されて不要な発光を生ずるという問題を解消す
ることもできる。
2から放出された紫外線は第1の光反射部510を透過
して波長変換部520に入射し、2次光に波長変換され
る。また、波長変換部520において波長変換されずに
透過した紫外線は、第2の光反射部530により反射さ
れて再び波長変換部520に戻される。さらに、第2の
光反射部530も透過した紫外線は、光吸収部540に
おいて吸収され、外部への漏洩が防止される。
次光のうちで第2の光反射部510の方向に出射した光
成分は、光反射部530および光吸収部540を透過し
て外部に取り出すことができる。また、波長変換部52
0から放出された2次光のうちで半導体発光素子132
の方向に出射した光成分は、第1の光反射部510によ
り反射され、波長変換部520、光反射部530および
光吸収部540を透過して外部に取り出すことができる
ようになる。
場合には、波長変換部520から半導体発光素子132
の方向に放出された2次光は、半導体発光素子132に
より吸収され、あるいは乱反射されて、外部に有効に取
り出すことができない。これに対して、本実施形態によ
れば、第1の光反射部510を設けることにより、波長
変換部520から半導体発光素子132の方向に放出さ
れる2次光を光反射部510により反射して、外部に効
率良く取り出すことができるようになる。すなわち、光
は2つの光反射部の間で多重反射したりして最終的には
大部分が波長変換され、外部へ取り出されることにな
る。よって取り出し効率の極めて高い高効率発光装置を
実現することができる。
する半導体発光素子132の詳細について説明する。
光素子132の断面構成を表す模式図である。すなわ
ち、半導体発光素子132は、紫外波長域で発光する発
光ダイオ−ド(LED)である。図11に示したよう
に、半導体発光素子132は、サファイア基板1001
上に半導体層1002〜1008が積層された構成を有
する。各半導体層の結晶成長は、例えば有料金属化学気
相成長法(MOCVD法)により行うことができる。そ
れぞれの半導体層の膜厚と成長温度について以下に例示
する。
れぞれ、n−GaNコンタクト層1003およびp−G
aNコンタクト層1008上に形成されている。半導体
発光素子132が従来の素子と異なる点は、活性層10
05にホウ素(B)を含む窒化ガリウム系半導体を用
い、さらにその隣接する層にAlGaNを用いている点
にある。従来、Bを含む結晶はBNを中心に開発が進め
られてきており、その基板結晶としてはSiCが用いら
れ、結晶成長温度としては約1300℃という高い成長
温度が必要であった。しかしながら、BをGaNに混入
させようと試みると、BはGaN結晶中への溶解度が低
く、また基板に用いるSiCとの格子不整合が大きいと
いう問題があった。このため、例えば結晶の表面モフォ
ロジの平坦性などの点で品質の高いBGaNの3元混晶
は、これまで得られていなかった。
GaNの下地層に耐熱性の高いAlを含むAlGaNを
用いることにより、高品質のBGaN結晶を成長するこ
とができる点にある。つまり、AlGaNを1100℃
で成長した後、成長温度を窒化ガリウム系の成長として
は比較的高い1200℃に昇温しても、その結晶表面の
平坦性が保たれることから、良質のBGaN結晶を平坦
性よく成長できる。
上げた場合には、AlGaNの表面からのNの抜けによ
るものと考えられる表面荒れが顕著になり、加えてAl
GaNとの格子不整合率が増加するために、成長したB
GaN層の表面の平坦性が劣化した。ここでBの濃度を
増加するほど、結晶表面の平坦性は劣化する傾向が認め
られ、平坦な表面を有する結晶が得られたBxGa1-xN
のB混晶比(X)は0.1以下であった。これ以上の濃
度のBの混晶化は未だ困難である。
波長領域での発光素子としては十分な混晶比であり、そ
の波長は365〜300nmに対応することが分かっ
た。
厚くに成長したn−GaNコンタクト層1003の上に
BGaNを含む発光部を成長出来る点にある。図11の
ような素子構造を作成する際には、n側電極1009の
形成にあたって、半導体層をエッチングしてn型コンタ
クト層1003を露出させる必要がある。このエッチン
グ工程の加工精度の許容度を拡大するためには、n型コ
ンタクト層1003をある程度厚く成長することが望ま
しい。しかし、BGaN混晶では厚膜成長が困難であり
エッチング・プロセスの歩留まりを低下させてしまうた
め、n型コンタクト層として用いることが適さない。
子整合するB混晶比を有しており、導電性を有するSi
C基板上に成長する場合には、電極形成のためのエッチ
ング・プロセスが必要でなく、必ずしも厚い結晶は必要
とされない。しかし、その際のB混晶比は0.2と高く
結晶成長自身が困難であり、また、SiC基板が紫外線
の波長に対し不透明となることから単純に素子特性向上
に結び付くわけではない。
よる半導体発光素子132における、GaN層/AlG
aN層の上にBGaN発光層を積層した構造は、格子整
合条件を必要とせずに厚膜で平坦なGaN層/AlGa
N層を成長することができ、BGaNを発光層とするL
EDを実現するにあたって非常に有効である。
N活性層1005のB混晶比(X)を0.05とし、p
−AlyGa1-yN第1クラッド層1006のAl混晶比
(Y)を0.3、n−AlzGa1-zNクラッド層100
4およびp−AlzGa1-zNクラッド層1007のAl
混晶比(Z)を0.2とした半導体積層構造を作成し、
350μm角のチップに加工してLEDを試作した結
果、発光スペクトルピ−クが約330nmの紫外線発光
を得ることができた。動作電流を20mAにしたときの
発光強度は約10μWであった。
i)をド−ビングした場合のシリコン濃度とフォトルミ
ネッセンス(PL)発光強度との関係を示すグラフ図で
ある。すなわち、同図の横軸はBGaN中のシリコン濃
度を表し、縦軸はPL発光強度を任意単位で表す。同図
からわかるようにシリコン濃度によって、LEDの発光
強度が変化する。すなわち、シリコン濃度の増加にとも
なって、1E16cm-3付近から急激に発光強度が増加
し、約1E18から1E20cm-3付近で発光強度は最
大となり、それ以上高いシリコン濃度では、発光強度は
急激に減少する。本発明者の実験によれば、このような
傾向はB混晶比を変化させても変わらず、同様の結果が
得られた。図11に示した層構造において、BGaN活
性層1005に対してシリコンを1E19cm-3ドーピ
ングしたところ、発光波長は330nmで変わらず、2
0mAでの発光強度は約2mWまで向上した。さらに活
性層1005のシリコン濃度を変化させた実験の結果、
シリコン濃度としては、1E17cm-3から1E21c
m-3の範囲において、特性向上および積層構造を作成す
る上で実用上適当であることがわかった。
わる紫外線発光型の半導体発光素子の概略断面構造を表
す図である。すなわち、半導体発光素子132Bは、6
H型SiC基板1101上に成長させた積層構造を有す
る。各層の膜厚および成長温度は図11に関して前述し
たものとほぼ同様であり、異なる点はGaNバッファ層
1102がn型にドーピングされ、n側電極1109が
SiC基板1101の裏面側に形成されている点であ
る。結晶成長は、例えば有機金属化学気相成長法(MO
CVD法)により行うことができる。前述したように、
6H型SiC基板1101を採用した場合においては、
紫外線波長域において不透明になるので、基板側へ放射
された光を発光素子の外部に取り出すことができなくな
るというデメリットが生ずる。しかし、GaNとの実効
格子不整合率はサファイア基板の13.8%に対して
3.4%と6H型−SiC基板の方が小さく、格子不整
合に起因する転位や各種の結晶欠陥の密度を低減するこ
とができる。このようにBGaN活性層1105の下地
の結晶層の品質が向上することから、BGaN結晶11
05の結晶品質も向上し、発光素子の発光特性を改善す
ることができる。すなわち、6H型SiC基板1101
を採用する利点は、結晶性の改善に起因する発光特性の
向上である。
N活性層1105のB混晶比(X)を0.05とし、p
−AlyGa1-yN第1クラッド層1106のAl混晶比
(Y)を0.3、n−AlzGa1-zNクラッド層110
4およびp−AlzGa1-zNクラッド層1107のAl
混晶比(Z)を0.2とした層構造を作成し、350μ
m角のチップに加工してLEDを作成したところ、発光
スペクトルピ−クが330nmの発光を得ることができ
た。
コンをドーピングして結晶中のシリコン濃度を1E19
cm-3として作成した素子においては、動作電流を20
mAにしたときの発光強度は約1.3mWであった。
132Bの変型例を表す断面模式図である。すなわち、
半導体発光素子132Cは、図13に示した半導体発光
素子32Bの半導体積層構造を表面側からエッチングし
てn−GaNコンタクト層1103を露出させ、n側電
極1109を形成したものである。この構造においても
素子特性に重要なBGaN活性層に与える影響は同様で
あり、その有用性は大きい。
は、図示した構造や前述した製造方法に限定されるもの
ではない。すなわち、発光層としてBGaN混晶につい
て記したが、BlnAlGaN系の材料を用いて、注入
キャリアの閉じ込めが可能なへテ口接合が形成されれば
良く、BGaNの3元系に限られるものではない。
GaN層に限定されず、InAlGaN系から選ばれる
材料であれば、その特性は満足され、活性層からの発光
に対して吸収損失を有する材料系の場合は膜厚を薄くす
ることにより対応すれば十分に特性を満足することがで
きる。また、前述した具体例においてはLEDについて
説明したが窒化ガリウム系半導体レーザ(LD)への適
用も可能である。その他、本発明の要旨を逸脱しない範
囲で種々変形して実施可能である。
施され、以下に説明する効果を奏する。
球に比べて、高効率で、消費電力が低く、寿命も極めて
長い照明装置などの各種応用装置を提供することができ
る。
に対する機械的強度が高く、信頼性に優れた照明装置な
どを提供することができる。
易であり、製造コスト、輸送コストも低減することがで
きる。
発光層からの発光を直接取り出すことがなく、蛍光物質
により波長変換することとしているので、半導体発光素
子の製造パラメータのばらつき、駆動電流、温度などに
依存して、発光波長が変動するという問題を解消するこ
とができる。すなわち、本発明によれば、発光波長が極
めて安定で、発光輝度と発光波長とを独立して制御する
ことができるようになる。
適宜組み合わせることによって、容易に複数の発光波長
を得ることができる。例えば、赤(R)、緑(G)、青
(B)の蛍光物質を適宜混合して、発光素子に含有させ
れば、白色光の発光を容易に得ることができる。
を含んだGaNを用いることにより、蛍光体を極めて効
率的に励起することができる330nm付近の紫外線を
極めて高い強度で得ることができる。
が放出する紫外線を反射して閉じこめ、また蛍光体が放
出する2次光を反射して外部に導くことにより、極めて
効率的に波長変換を行い、2次光を外部に取り出すこと
ができるようになる。
て、内蔵する半導体発光素子の材料や構造を適宜選択
し、変更する必要がなくなる。例えば、従来は、赤色に
おいて発光させるためには、AlGaAs系材料を用
い、黄色においてはGaAsP系またはlnGaAlP
系材料、緑色系においてはInGaAlP系またはGa
P系材料、青色においてはInGaN系材料の如く、最
適な材料をその波長に併せて選択しなければならないと
いう問題があった。これに対して、本発明によれば、発
光波長に応じて蛍光物質の種類を適宜選択すれば良く、
半導体発光素子を変更する必要がなくなる。
する半導体発光素子を並べる必要がある場合において
も、発光色の変更は、用いる蛍光体の種類を変えるだけ
で済み、半導体発光素子の材料や構造は同一とすること
ができる。従って、発光装置の構成を極めて簡略化する
ことが可能となり、製造コストを顕著に低減することが
できるとともに、信頼性も高く、また、駆動電流や、供
給電圧、あるいは素子のサイズなどを共通にすることに
より、応用範囲を顕著に拡大することができるという利
点も生ずる。
な構成により、発光波長が極めて安定で、しかも、可視
光から赤外線領域までの種々の波長において高い輝度で
発光させることができる照明装置、その他各種の応用装
置を提供することができ、産業上のメリットは多大であ
る。
す概略図である。すなわち、同図(a)は、その全体斜
視図であり、同図(b)は、その横断面図、同図(c)
は、その配線基板の概略平面図である。
構成を表す概略断面図である。
装置を表す模式図である。
模式図である。
を表す模式図である。
す模式図である。
す模式図である。
置を表す模式図である。
す模式図である。
表す模式図である。
の断面構成を表す模式図である。
ングした場合のシリコン濃度とフォトルミネッセンス
(PL)発光強度との関係を示すグラフ図である。
光型の半導体発光素子の概略断面構造を表す図である。
型例を表す断面模式図である。
図である。
Claims (40)
- 【請求項1】紫外線を放出する半導体発光素子と、 前記半導体発光素子が放出する前記紫外線を吸収して、
前記紫外線よりも長い波長を有する2次光を放出する蛍
光体と、 を備えたことを特徴とする照明装置。 - 【請求項2】配線基板と、 前記配線基板上に設けられた複数の半導体発光装置と、 前記配線基板の周囲を覆うように設けられた透光性を有
する外囲器と、を備え、 前記半導体発光装置は、 紫外線を放出する半導体発光素子と、 前記半導体発光素子が放出する前記紫外線を吸収して、
前記紫外線よりも長い波長を有する2次光を放出する蛍
光体と、 を有することを特徴とする照明装置。 - 【請求項3】前記半導体発光装置は表面実装型であるこ
とを特徴とする請求項2記載の照明装置。 - 【請求項4】前記複数の半導体発光装置のうちの所定数
の前記半導体発光装置が直列に接続されてなる複数のユ
ニットが形成され、前記複数のユニットが互いに並列に
接続されていることを特徴とする請求項2または3に記
載の照明装置。 - 【請求項5】配線基板と、 前記配線基板上に設けられた紫外線を放出する複数の半
導体発光素子と、 前記配線基板の周囲を覆うように設けられた透光性を有
する外囲器と、を備え、さらに、 前記外囲器の内壁面には蛍光体が設けられ、前記半導体
発光素子が放出する前記紫外線を吸収して、前記紫外線
よりも長い波長を有する2次光を放出するようにしたこ
とを特徴とする照明装置。 - 【請求項6】前記複数の半導体発光素子のうちの所定数
の前記半導体発光素子が直列に接続されてなる複数のユ
ニットが形成され、前記複数のユニットが互いに並列に
接続されていることを特徴とする請求項5記載の照明装
置。 - 【請求項7】前記2次光は、可視光であることを特徴と
する請求項1〜6のいずれか1つに記載の照明装置。 - 【請求項8】前記可視光は、赤色、緑色、および青色の
波長領域にそれぞれ強度ピークを有することを特徴とす
る請求項7記載の照明装置。 - 【請求項9】高周波電圧を直流電圧に変換する変換回路
をさらに備え、蛍光灯の電源に接続して前記半導体発光
素子を駆動できるようにしたことを特徴とする請求項1
〜8のいずれか1つに記載の照明装置。 - 【請求項10】紫外線を放出する半導体発光素子と、 前記半導体発光素子が放出する前記紫外線を吸収して、
可視光領域の波長を有する2次光を放出する蛍光体と、 前記半導体発光素子にパルス状の駆動電流を供給するパ
ルス発生器と、を備えたことを特徴とする照明装置。 - 【請求項11】紫外線を放出する半導体発光素子と、 前記半導体発光素子が放出する前記紫外線を吸収して、
可視光領域の波長を有する2次光を放出する蛍光体と、 前記可視光を反射して、所定の方向に照射する凹面鏡
と、 を備えたことを特徴とする照明装置。 - 【請求項12】前記半導体発光素子と、前記蛍光体との
間に、前記紫外線を透過し、前記蛍光体から放出される
前記2次光を反射するような波長選択性を有する第1の
光反射膜をさらに備えたことを特徴とする請求項1〜1
1のいずれかに記載の照明装置。 - 【請求項13】前記蛍光体からみて前記半導体発光素子
と反対側に、前記紫外線を反射し、前記蛍光体から放出
される前記2次光を透過するような波長選択性を有する
第2の光反射膜をさらに備えたことを特徴とする請求項
1〜12のいずれか1つに記載の照明装置。 - 【請求項14】前記蛍光体からみて前記半導体発光素子
と反対側に、前記紫外線を吸収し、前記蛍光体から放出
される前記2次光を透過するような波長選択性を有する
光吸収体をさらに備えたことを特徴とする請求項1〜1
3のいずれか1つに記載の照明装置。 - 【請求項15】前記半導体発光素子は、発光層に窒化ガ
リウム系半導体を含むことを特徴とする請求項1〜14
のいずれか1つに記載の照明装置。 - 【請求項16】前記半導体発光素子は、発光層にホウ素
とガリウムと窒素とを含むことを特徴とする請求項1〜
14のいずれか1つに記載の照明装置。 - 【請求項17】前記半導体発光素子は、 基板と、 前記基板上に堆積された第1導電型のGaN層と、 アルミニウムを含むGaNからなる第1導電型のクラッ
ド層と、 ホウ素を含むGaNからなる発光層と、 アルミニウムを含むGaNからなる第2導電型のクラッ
ド層と、 を少なくとも有することを特徴とする請求項16記載の
照明装置。 - 【請求項18】前記半導体発光素子の発光波長は、約3
30nmであることを特徴とする請求項1〜17のいず
れか1つに記載の照明装置。 - 【請求項19】紫外線を放出する半導体発光素子と、 前記半導体発光素子が放出する前記紫外線を吸収して、
前記紫外線よりも波長の長い光を放出する蛍光体と、 外部において反射された前記波長の長い光を検出する受
光部と、 を備え、前記蛍光体が放出した光を原稿に照射すること
によって読みとるよあにしたことを特徴とする読み取り
装置。 - 【請求項20】前記半導体発光素子は、発光層に窒化ガ
リウム系半導体を含むことを特徴とする請求項19記載
の読み取り装置。 - 【請求項21】前記半導体発光素子は、発光層にホウ素
とガリウムと窒素とを含むことを特徴とする請求項19
または20に記載の読み取り装置。 - 【請求項22】前記半導体発光素子は、 基板と、 前記基板上に堆積された第1導電型のGaN層と、 アルミニウムを含むGaNからなる第1導電型のクラッ
ド層と、 ホウ素を含むGaNからなる発光層と、 アルミニウムを含むGaNからなる第2導電型のクラッ
ド層と、 を少なくとも有することを特徴とする請求項21記載の
読み取り装置。 - 【請求項23】前記半導体発光素子の発光波長は、約3
30nmであることを特徴とする請求項19〜22のい
ずれか1つに記載の読み取り装置。 - 【請求項24】紫外線を放出する半導体発光素子と、 前記半導体発光素子が放出する前記紫外線を吸収して、
可視光を放出する蛍光体と、 前記可視光を集光してスクリーンに投影する光学系と、 を備え、透光性の媒体上のパターンを拡大投影するよう
にしたことを特徴とする投影装置。 - 【請求項25】前記半導体発光素子は、発光層に窒化ガ
リウム系半導体を含むことを特徴とする請求項24記載
の投影装置。 - 【請求項26】前記半導体発光素子は、発光層にホウ素
とガリウムと窒素とを含むことを特徴とする請求項24
または25に記載の投影装置。 - 【請求項27】前記半導体発光素子は、 基板と、 前記基板上に堆積された第1導電型のGaN層と、 アルミニウムを含むGaNからなる第1導電型のクラッ
ド層と、 ホウ素を含むGaNからなる発光層と、 アルミニウムを含むGaNからなる第2導電型のクラッ
ド層と、 を少なくとも有することを特徴とする請求項26記載の
投影装置。 - 【請求項28】前記半導体発光素子の発光波長は、約3
30nmであることを特徴とする請求項24〜27のい
ずれか1つに記載の投影装置。 - 【請求項29】液体あるいは気体を通過させる浄化回路
と、 前記浄化回路上に設けられた紫外線を放出する半導体発
光素子と、 を備えた浄化装置。 - 【請求項30】前記浄化回路上に、オゾン発生器をさら
に備え、前記オゾン発生器により発生したオゾンを含有
した液体に前記紫外線を照射するようにした請求項29
記載の浄化装置。 - 【請求項31】前記浄化回路上に、加熱装置をさらに備
え、前記浄化回路において浄化された気体を昇温して排
気するようにした請求項29記載の浄化装置。 - 【請求項32】前記半導体発光素子は、発光層に窒化ガ
リウム系半導体を含むことを特徴とする請求項29〜3
1のいずれか1つに記載の浄化装置。 - 【請求項33】前記半導体発光素子は、発光層にホウ素
とガリウムと窒素とを含むことを特徴とする請求項29
〜32のいずれか1つに記載の浄化装置。 - 【請求項34】前記半導体発光素子は、 基板と、 前記基板上に堆積された第1導電型のGaN層と、 アルミニウムを含むGaNからなる第1導電型のクラッ
ド層と、 ホウ素を含むGaNからなる発光層と、 アルミニウムを含むGaNからなる第2導電型のクラッ
ド層と、 を少なくとも有することを特徴とする請求項33記載の
浄化装置。 - 【請求項35】前記半導体発光素子の発光波長は、約3
30nmであることを特徴とする請求項29〜34のい
ずれか1つに記載の浄化装置。 - 【請求項36】紫外線を放出する半導体発光素子と、 前記半導体発光素子が放出する前記紫外線を吸収して、
可視光を放出する蛍光体が堆積された表示パネルと、 を備えたことを特徴とする表示装置。 - 【請求項37】前記半導体発光素子は、発光層に窒化ガ
リウム系半導体を含むことを特徴とする請求項36記載
の表示装置。 - 【請求項38】前記半導体発光素子は、発光層にホウ素
とガリウムと窒素とを含むことを特徴とする請求項36
または37に記載の表示装置。 - 【請求項39】前記半導体発光素子は、 基板と、 前記基板上に堆積された第1導電型のGaN層と、 アルミニウムを含むGaNからなる第1導電型のクラッ
ド層と、 ホウ素を含むGaNからなる発光層と、 アルミニウムを含むGaNからなる第2導電型のクラッ
ド層と、 を少なくとも有することを特徴とする請求項38記載の
表示装置。 - 【請求項40】前記半導体発光素子の発光波長は、約3
30nmであることを特徴とする請求項36〜39のい
ずれか1つに記載の表示装置。
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