JPH1179542A - Film peeling method and apparatus - Google Patents
Film peeling method and apparatusInfo
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- JPH1179542A JPH1179542A JP24126097A JP24126097A JPH1179542A JP H1179542 A JPH1179542 A JP H1179542A JP 24126097 A JP24126097 A JP 24126097A JP 24126097 A JP24126097 A JP 24126097A JP H1179542 A JPH1179542 A JP H1179542A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 フィルム剥離装置の装置面積を小さくすると
共に、フィルム剥離に要する時間を短縮する。
【解決手段】 フィルム剥離装置10を、基板搬入側か
ら搬出側に、下側及び上側フィルム剥離領域12、14
と基板搬出領域16から構成し、下側フィルム剥離領域
12においては搬入された基板22を上側吸着盤36に
よって吸着した状態で下側フィルム20を下側引張剥離
装置54により引張って剥離させ、剥離後の基板22
は、上側吸着盤36によって上側フィルム剥離領域14
に搬送し、ここで下側吸着盤42に受け渡し、下側吸着
盤42に吸着した状態で、上側フィルム18を上側引張
剥離装置60によって引張って剥離し、基板22を基板
搬出領域16に搬送し、生じたスペースを通して剥離し
た上側フィルム18を落下排出させる。
(57) [Problem] To reduce the area of a film peeling device and shorten the time required for film peeling. SOLUTION: A film peeling device 10 is moved from a substrate carry-in side to a carry-out side, and lower and upper film peeling regions 12 and 14 are provided.
In the lower film peeling area 12, the lower film 20 is pulled and peeled by the lower tensile peeling device 54 in a state where the loaded substrate 22 is sucked by the upper suction disk 36. Substrate 22 after
The upper film peeling area 14 is
The upper film 18 is pulled and peeled by the upper pull-off device 60 in a state of being transferred to the lower suction plate 42 and being sucked by the lower suction plate 42, and the substrate 22 is transferred to the substrate unloading area 16. Then, the upper film 18 peeled off through the created space is dropped and discharged.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、プリント配線盤
用基板、液晶表示パネル用基板、プラズマディスプレイ
用基板等に例示される基板に張り付けられた保護フィル
ムを剥離する装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for peeling a protective film attached to a substrate exemplified by a substrate for a printed wiring board, a substrate for a liquid crystal display panel, a substrate for a plasma display and the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】上記のようなプリント配線基板は、次の
ような工程により製造されている。まず、絶縁性基板上
に設けられた導電層上に感光性樹脂(ホトレジスト)層
と、これを保護する透光性樹脂フィルム(保護フィル
ム)とからなる積層体をラミネーティングロールにより
熱圧着する。次に配線パターンフィルムを重ね、この配
線パターンフィルム及び前記透光性樹脂フィルムを通し
て前記感光性樹脂層を所定時間露光する。2. Description of the Related Art A printed wiring board as described above is manufactured by the following steps. First, a laminate comprising a photosensitive resin (photoresist) layer and a light-transmitting resin film (protective film) for protecting the conductive layer on a conductive layer provided on an insulating substrate is thermocompression-bonded with a laminating roll. Next, a wiring pattern film is overlaid, and the photosensitive resin layer is exposed for a predetermined time through the wiring pattern film and the translucent resin film.
【0003】次いで、透光性樹脂フィルムを剥離した
後、露光されたホトレジスト層を現像してエッチングマ
スクパターンを形成し、この後、前記導電層の不必要部
分をエッチングにより除去し、所定の配線パターンを有
するプリント配線基板が形成される。Next, after the light-transmitting resin film is peeled off, the exposed photoresist layer is developed to form an etching mask pattern. Then, unnecessary portions of the conductive layer are removed by etching, and a predetermined wiring is formed. A printed wiring board having a pattern is formed.
【0004】前記プリント配線基板の製造工程におい
て、前記保護フィルムを基板から自動的に剥離するフィ
ルム剥離装置が種々提案されている。Various film peeling apparatuses have been proposed for automatically peeling the protective film from the substrate in the process of manufacturing the printed wiring board.
【0005】このような、フィルム剥離装置により基板
からフィルムを自動的に剥離させる際に、まず、フィル
ム先端の、剥離を開始させる部分を上下斜めに押圧した
り、ニードル状部材で引掛けて起こしたりしている。When the film is automatically peeled from the substrate by such a film peeling device, first, the portion of the leading end of the film at which the peeling is to be started is pressed obliquely up and down or hooked by a needle-like member. Or
【0006】例えば、特公平6−3550号公報に開示
されるように、基板に張り付けられている感光性樹脂層
と透光性樹脂フィルムとからなる積層体フィルムの端部
にバイブレータのロッドの振動を与えて叩くことによ
り、透光性樹脂フィルムの一部を感光性樹脂層から浮上
させるものがある。又、例えば特開昭62−83974
号公報に開示されるように、保護フィルム端部を基板と
共に圧力車により挟み込んだ状態で該圧力車をフィルム
端縁に沿って走行させることにより、該フィルム端縁を
浮き上がらせるようにしたものもある。For example, as disclosed in Japanese Patent Publication No. 6-3550, vibration of a rod of a vibrator is applied to an end of a laminated film composed of a photosensitive resin layer and a translucent resin film attached to a substrate. In some cases, a part of the light-transmitting resin film is floated from the photosensitive resin layer by applying and tapping. Further, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-83974
As disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H10-209, there is also a type in which the film edge is lifted by running the pressure wheel along the film edge in a state where the protective film edge is sandwiched by the pressure wheel together with the substrate. is there.
【0007】いずれの場合も、フィルム先端を浮上させ
た後は、圧縮空気等の気体を吹き付けて浮上した端縁か
らフィルムをめくり上げ、更には、めくり上がったフィ
ルム端縁をローラやベルトによって挟み込んで基板を進
行させつつ、フィルムを完全に剥離してライン外に搬出
させるようにしている。In any case, after the leading edge of the film is floated, the film is flipped up from the rising edge by blowing a gas such as compressed air, and the flipped-up film edge is sandwiched between rollers and belts. The film is completely peeled off and the film is carried out of the line while advancing the substrate.
【0008】ここで、フィルム端縁をローラやベルトに
よって挟み込んで剥離させ、ライン外へ搬出させる際
に、基板上面から剥離したフィルムは、搬送ローラ等の
基板搬送装置があるために、その幅方向外側から搬出す
ることになり、装置の幅が大きくなってしまう。又、フ
ィルム端縁をローラやベルトは上下方向の装置の寸法を
大きくしてしまう。Here, when the film edge is pinched and peeled by a roller or a belt and carried out of the line, the film peeled from the upper surface of the substrate is removed in the width direction by a substrate transport device such as a transport roller. Since the device is carried out from the outside, the width of the device becomes large. Rollers and belts at the edges of the film increase the size of the device in the vertical direction.
【0009】又、フィルム端縁をローラやベルトによっ
て挟み込む装置では、保護フィルムが非常に薄い場合、
これを確実に挟持することができない場合がある。In a device in which the film edge is sandwiched between rollers and belts, if the protective film is extremely thin,
In some cases, this cannot be reliably held.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】薄いフィルムを基板か
ら確実に剥離させようとする場合は、例えば特開平8−
99769号公報に開示されるように、めくり上がった
フィルム端縁を挟持片によって挟持し、これを基板に対
して引張ることによりフィルムを剥離させるようにした
剥離方法及び装置が有効であるが、この場合、基板上面
から剥離したフィルムを搬出するために、該フィルムを
基板搬送面の側方にまで移動してライン外にフィルムを
排出しなければならないという問題点がある。In order to reliably peel a thin film from a substrate, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No.
As disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 99769, a peeling method and apparatus in which a flipped-up film edge is clamped by a clamping piece and the film is peeled by pulling it against a substrate is effective. In this case, in order to carry out the film peeled off from the upper surface of the substrate, there is a problem that the film must be moved to the side of the substrate transport surface and the film must be discharged out of the line.
【0011】又、剥離を開始したフィルム先端を挟持片
により挟持して引張ることにより、該フィルムを基板か
ら剥離させる際に、例えば前述の特開平8−99769
号公報に開示されるように、基板の、剥離されるフィル
ムと反対側面を吸着装置によって吸着固定しなければな
らない。Further, when the film is peeled off from the substrate by holding the leading end of the film which has been peeled by the holding piece and pulling it, for example, the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-99769.
As disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H10-260, the side of the substrate opposite to the film to be peeled must be fixed by suction using a suction device.
【0012】従って、挟持片は、固定状態の基板からフ
ィルムを剥離させるために、該基板の進行方向の長さ分
だけ移動する必要があり、これによって更に装置面積が
大きくなってしまうという問題点がある。Therefore, the holding piece must be moved by the length in the direction of travel of the substrate in order to peel the film from the fixed substrate, thereby further increasing the device area. There is.
【0013】更に、基板を吸着装置によって固定した状
態でフィルムを剥離させるので、フィルムを剥離して基
板を次の工程に搬出するまでの時間がかかり、効率が低
いという問題点がある。Further, since the film is peeled while the substrate is fixed by the suction device, it takes a long time to peel the film and carry out the substrate to the next step, and there is a problem that the efficiency is low.
【0014】この発明は、上記従来の問題点に鑑みてな
されたものであって、薄いフィルムでも確実に剥離でき
ると共に、剥離を開始したフィルム先端を引張って剥離
する装置の移動範囲が小さく、又、剥離したフィルムを
基板搬送面の側方から搬出する必要がなく、且つフィル
ム剥離時間の短いフィルム剥離方法及び装置を提供する
ことを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and enables a thin film to be reliably peeled off, and has a small moving range of a device for pulling and peeling the leading end of the film which has started peeling. It is another object of the present invention to provide a method and an apparatus for peeling a film, which need not carry out the peeled film from the side of the substrate transport surface and have a short film peeling time.
【0015】[0015]
【課題を解決するための手段】本方法発明は、水平方向
直線状に、下側フィルム剥離領域、上側フィルム剥離領
域及び基板搬出領域を順次隣接して設定し、前記下側フ
ィルム剥離領域で搬送装置により形成される水平の基板
搬送面に沿って、上下両面にフィルムが張り付けられて
いる基板を所定位置まで搬送、停止させる工程と、停止
した基板上面の略全面を、水平の上側吸着盤により吸
着、固定する工程と、該上側吸着盤により吸着、固定さ
れた基板の下面に張り付けられている下側フィルムの基
板搬送方向先端を基板から剥離させると共に、該剥離先
端を前記搬送装置の先端外側位置で基板の下面からめく
り下げる工程と、該めくり下がった下側フィルム先端を
捕捉する工程と、該捕捉した下側フィルム先端を、前記
搬送装置の先端と上側フィルム剥離領域との間を通って
下方に引張りつつ、前記基板を、前記上側吸着盤により
吸着したまま前記上側フィルム剥離領域方向に搬送し、
該下側フィルム全体を基板から剥離させる工程と、基板
から剥離された下側フィルム先端の捕捉を解いて下方に
落下排出する工程と、前記基板を、前記上側吸着盤によ
り吸着したまま、前記下側フィルムを剥離しつつ、前記
上側フィルム剥離領域にまで搬送し、且つ、下側フィル
ム剥離後に水平に停止する工程と、上側フィルム剥離領
域で、前記上側吸着盤の下側面に吸着されている基板の
下面の略全面を、水平の下側吸着盤により吸着すること
により、基板を上側吸着盤から下側吸着盤に受け渡す工
程と、この受け渡し後に、上側吸着盤を前記下側フィル
ム剥離領域に戻す工程と、前記下側吸着盤の上面に吸
着、固定された基板の上側フィルムの先端を剥離して、
該剥離先端をめくり上げる工程と、このめくり上げられ
た上側フィルム先端を捕捉する工程と、該捕捉した上側
フィルム先端を上側フィルム剥離領域の入側方向に引張
りつつ、前記下側吸着盤により吸着している前記基板を
前記基板搬出領域方向に移動させて、上側フィルム全体
を基板から剥離する工程と、基板から剥離された上側フ
ィルム先端の捕捉を解いて、前記下側吸着盤が前記基板
搬出領域方向に移動したことによって生じた空間を通っ
て、該上側フィルムを下方に落下排出する工程と、上側
フィルムが剥離された基板を、前記下側吸着盤により吸
着したまま前記基板搬出領域に搬入し、水平に停止する
工程と、この停止状態の下側吸着盤から基板搬出手段に
基板を受け渡す工程と、該下側吸着盤を前記上側フィル
ム剥離領域に戻す工程と、を有してなるフィルム剥離方
法により、上記目的を達成するものである。According to the present invention, a lower film peeling area, an upper film peeling area, and a substrate unloading area are sequentially set adjacent to each other in a straight line in the horizontal direction, and conveyed in the lower film peeling area. Along the horizontal substrate transfer surface formed by the apparatus, the step of transferring and stopping the substrate on which the film is attached on both the upper and lower surfaces to a predetermined position, and substantially the entire upper surface of the stopped substrate, by the horizontal upper suction plate The step of sucking and fixing, and peeling the leading end of the lower film attached to the lower surface of the substrate sucked and fixed by the upper sucking plate from the substrate in the substrate transfer direction, and the peeling tip to the outside of the leading end of the transfer device. A step of flipping from the lower surface of the substrate at a position, a step of capturing the rolled-down lower film tip, and moving the captured lower film tip to the tip of the transfer device. While pulling down through between the film peeling area, the substrate was conveyed to the upper film peeling area direction while being attracted by the upper suction cup,
A step of releasing the entire lower film from the substrate, a step of releasing the tip of the lower film peeled from the substrate and dropping and discharging the film downward, and the substrate is adsorbed by the upper suction plate, Transporting the film to the upper film peeling area while peeling the side film, and stopping horizontally after peeling the lower film; and a substrate sucked on the lower surface of the upper suction disk in the upper film peeling area. A step of transferring the substrate from the upper suction disk to the lower suction disk by sucking substantially the entire lower surface of the lower suction disk with the horizontal lower suction disk, and after the transfer, the upper suction disk is moved to the lower film peeling region. Returning step, the top surface of the upper film of the fixed substrate is peeled off by suction on the upper surface of the lower suction plate,
The step of flipping the peeling tip, the step of capturing the flipped upper film tip, and the step of pulling the captured upper film tip in the inward direction of the upper film peeling area while adsorbing by the lower suction disc. Moving the substrate in the direction of the substrate unloading area to release the entire upper film from the substrate; and releasing the upper film tip peeled from the substrate to release the lower suction disk from the substrate unloading area. Through the space created by moving in the direction, the step of dropping and discharging the upper film downward, and loading the substrate from which the upper film has been peeled into the substrate unloading area while adsorbing the substrate with the lower suction disk. Stopping the substrate horizontally, transferring the substrate from the lower suction disk in the stopped state to the substrate carrying-out means, and returning the lower suction disk to the upper film peeling area. And extent, by a film peeling method comprising a, is to achieve the above object.
【0016】又、本装置発明は、請求項2のように、基
板搬入側から搬出側に、水平方向に、下側フィルム剥離
領域、上側フィルム剥離領域、及び、基板搬出領域を順
次隣接配置してなり、前記下側フィルム剥離領域に設け
られ、上下両面にフィルムが張り付けられた基板を水平
の基板搬送面に沿って搬送する基板搬送装置と、この基
板搬送装置の上方位置と前記上側フィルム剥離領域内と
の間でほぼ水平に往復動自在、且つ、前記基板の上面の
略全面を吸着して、該基板を水平に保持可能とされた上
側吸着盤と、この上側吸着盤に吸着された状態の基板に
おける下側面に張り付けられた下側フィルムの搬出側先
端を剥離し、且つ、めくり下げる下側剥離装置と、前記
基板搬送装置における搬出側端近傍に配置され、前記下
側剥離装置によりめくり下げられた下側フィルムの先端
を捕捉し、且つ、前記基板搬送装置と前記上側フィルム
剥離領域との間を通って、前記捕捉した下側フィルムの
先端を下方に引張る下側引張剥離装置と、前記上側フィ
ルム剥離領域内に前記上側吸着盤が移動したときのその
下側位置に配置され、該下側位置と前記基板搬出領域内
との間で水平に往復動自在、且つ、前記基板の上面の略
全面を吸着して、該基板を水平に保持可能とされた下側
吸着盤と、この下側吸着盤に吸着された状態の基板にお
ける上側面に張り付けられた上側フィルムの搬出側先端
を剥離し、且つ、めくり上げる上側剥離装置と、該めく
り上げられた上側フィルム先端を捕捉すると共に、これ
を基板搬入側に引張る上側引張剥離装置と、を有してな
り、前記上側吸着盤は、前記下側引張剥離装置により下
側フィルムを引張るとき、基板を吸着したまま上側フィ
ルム剥離領域にまで移動し、且つ、前記上側剥離装置に
より上側フィルムを剥離する前に下側フィルム剥離領域
内に戻り、前記下側吸着盤は、前記上側引張装置により
前記上側フィルムの引張るとき、基板を吸着したまま前
記基板搬出領域内に移動し、前記上側フィルムが基板か
ら剥離し、且つ、前記下側吸着盤が基板搬出領域方向に
移動して前記上側引張剥離装置の下方向に空白が生じた
とき、前記上側引張剥離装置は捕捉していた上側フィル
ムを解放するようにされたことを特徴とするフィルム剥
離装置により、上記目的を達成するものである。Further, according to the present invention, a lower film peeling area, an upper film peeling area, and a substrate carry-out area are sequentially arranged in the horizontal direction from the substrate carry-in side to the carry-out side. A substrate transport device provided in the lower film peeling region and transporting a substrate having films adhered on both upper and lower surfaces along a horizontal substrate transport surface; and a position above the substrate transport device and the upper film peeling device. An upper suction disk capable of reciprocating substantially horizontally between the areas and adsorbing substantially the entire upper surface of the substrate to be able to hold the substrate horizontally; The lower peeling device that peels off the discharge-side tip of the lower film attached to the lower surface of the substrate in the state, and turns over, is disposed near the discharge-side end of the substrate transport device, and is disposed by the lower release device. A lower tensile peeling device that captures the leading end of the lower film that has been lowered, and passes between the substrate transport device and the upper film peeling region, and pulls the leading end of the captured lower film downward. Is disposed at a lower position of the upper suction plate when the upper suction plate has moved into the upper film peeling region, and can reciprocate horizontally between the lower position and the substrate unloading region, and A lower suction disc capable of holding the substrate horizontally by adsorbing substantially the entire upper surface, and an unloading end of an upper film attached to an upper surface of the substrate in a state of being adsorbed by the lower suction disc. The upper peeling device, which peels off, and flips up, captures the tip of the flipped up film and pulls it to the substrate loading side, and has an upper tensile peeling device. , Said lower pull When the lower film is pulled by the peeling device, the substrate moves to the upper film peeling region while adsorbing the substrate, and returns to the lower film peeling region before peeling the upper film by the upper peeling device. When the upper suction device pulls the upper film by the upper pulling device, the suction device moves into the substrate unloading area while holding the substrate, the upper film is separated from the substrate, and the lower suction disk is pulled into the substrate unloading area. When the blank is generated in the downward direction of the upper tensile peeling device by moving in the direction, the upper tensile peeling device releases the captured upper film by the film peeling device, characterized in that: The purpose is achieved.
【0017】請求項3のように、前記基板搬送装置は、
基板搬送面に沿って並列配置された複数の搬送ローラを
含んでなり、該複数の搬送ローラのうち前記上側フィル
ム剥離領域側端部の1〜3本の搬送ローラを、前記基板
搬送面を構成する搬送位置と、これより下方であって、
前記下側剥離装置により剥離され、めくり下げられた下
側フィルムと非干渉となるまで引き下がった待機位置と
の間で上下動自在としてもよい。According to a third aspect of the present invention, the substrate transfer device comprises:
It comprises a plurality of transport rollers arranged in parallel along the substrate transport surface, and comprises one to three transport rollers on the upper film peeling region side end portion of the plurality of transport rollers, constituting the substrate transport surface. Transport position and below this,
The lower film peeled by the lower peeling device and may be vertically movable between a turned-down lower film and a standby position pulled down until it does not interfere.
【0018】又、請求項4のように、前記下側引張剥離
装置は、前記基板搬送装置の基板搬出側先端近傍位置
で、基板搬送面の下側近傍から略鉛直下向きに配置さ
れ、めくり下げられた下側フィルムの先端を案内するガ
イド板と、このガイド板の下端近傍に設けられ、ガイド
板から下方に突出した前記下側フィルムの先端を捕捉可
能とされたフィルム捕捉装置と、このフィルム捕捉装置
を自由端側に支持し基端側を中心として、前記ガイド板
近傍位置とこれより下方の解放位置との間で揺動自在と
された揺動アームと、を有して構成してもよい。Further, the lower pull-off device is disposed substantially vertically downward from near the lower side of the substrate transfer surface at a position near the leading end of the substrate transfer side of the substrate transfer device. A guide plate for guiding the leading end of the lower film, a film capturing device provided near the lower end of the guide plate, and capable of capturing the leading end of the lower film protruding downward from the guide plate; and A swing arm that is swingable between a position near the guide plate and a release position below the guide plate with the capture device supported at the free end side and centered on the base end side; Is also good.
【0019】更に、請求項5のように、前記基板搬送装
置の下側に、該基板搬送装置上の基板を押し上げて、上
方に待機する上側吸着盤に下方から押し付けるように上
下動自在の押し上げ装置を設けると共に、この押し上げ
装置に前記揺動アームの基端を揺動自在に支持するよう
にしてもよい。Further, as described in claim 5, the substrate on the substrate transfer device is pushed up below the substrate transfer device, and is vertically movable so as to be pressed from below onto the upper suction plate which is waiting above. A device may be provided, and the base of the swing arm may be swingably supported by the push-up device.
【0020】この発明においては、基板下側面に張り付
けられたフィルムを剥離する際に、該基板上面を吸着保
持しつつ、基板先端方向に搬送し、同時に剥離を開始し
た下側フィルムの先端を下方に引張ることによって、基
板を搬送しつつ下側フィルムを搬送装置の下方に引張っ
て剥離し、剥離時間を短縮すると共に、剥離したフィル
ムをそのまま下方に解放、排出することができる。According to the present invention, when the film stuck on the lower surface of the substrate is peeled off, the upper surface of the substrate is sucked and held, and the film is conveyed in the direction of the front end of the substrate. By pulling the lower film, the lower film can be pulled downward under the transfer device while the substrate is being transferred, and the separation time can be shortened, and the separated film can be released and discharged as it is.
【0021】[0021]
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態の例を図
面を参照して詳細に説明する。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
【0022】図1に示されるように、本発明に係るフィ
ルム剥離装置10は、同図において左側の基板搬入側か
ら右側の搬出側に向かって、水平方向に、下側フィルム
剥離領域12、上側フィルム剥離領域14、及び、基板
搬出領域16を順次隣接配置して構成されていて、基板
搬入側から下側フィルム剥離領域12に送り込まれた、
上面に上側フィルム18が、又、下面に下側フィルム2
0がそれぞれ張り付けられた基板22(図2参照)か
ら、前記下側及び上側フィルム20、18をこの順で剥
離して、基板搬出領域16から、フィルム剥離後の基板
22を搬出するようにしたものである。As shown in FIG. 1, a film peeling device 10 according to the present invention comprises a lower film peeling region 12 and an upper The film peeling area 14, and the substrate carry-out area 16 are sequentially arranged adjacently, and are fed from the substrate carry-in side to the lower film peeling area 12,
The upper film 18 is on the upper surface, and the lower film 2 is on the lower surface.
The lower and upper films 20 and 18 are peeled in this order from the substrate 22 (see FIG. 2) to which the “0” is attached, respectively, and the substrate 22 after the film peeling is carried out from the substrate carrying-out area 16. Things.
【0023】前記下側フィルム剥離領域12には、複数
の搬送ローラ24を水平に並列配置してなる基板搬送装
置26が設けられ、搬送ローラ24の上端によって形成
される基板搬送面26Aに沿って、図1において左端の
基板搬入端から装入された基板22全体が下側フィルム
剥離領域12内に入り込むまで、これを搬送できるよう
にされている。The lower film peeling area 12 is provided with a substrate transfer device 26 in which a plurality of transfer rollers 24 are horizontally arranged in parallel, and along a substrate transfer surface 26A formed by the upper end of the transfer rollers 24. In FIG. 1, the substrate 22 can be conveyed until the entire substrate 22 loaded from the left substrate input end enters the lower film peeling region 12.
【0024】前記基板搬送装置26を構成する搬送ロー
ラのうち、基板搬送方向最先端の2個の搬送ローラ25
は、シリンダ装置28によって基板搬送面26Aを構成
する搬送位置と、図1において実線で示されるように、
搬送位置から大きく下降した待機位置との間で上下動自
在とされている。Of the transport rollers constituting the substrate transport device 26, two transport rollers 25 at the forefront of the substrate transport direction
Is a transfer position configuring the substrate transfer surface 26A by the cylinder device 28, and as shown by a solid line in FIG.
It is movable up and down between a transfer position and a standby position which is greatly lowered.
【0025】又、前記基板搬送装置26の下側位置に
は、各搬送ローラ24間の隙間から上方に突出すること
によって、基板搬送面26A上の基板22を押し上げる
複数の押し上下部材30を備えた押し上げ装置32が配
置されている。At the lower position of the substrate transfer device 26, there are provided a plurality of push-up and down members 30 which push up the substrate 22 on the substrate transfer surface 26A by projecting upward from the gap between the transfer rollers 24. A lifting device 32 is disposed.
【0026】この押し上げ装置32は、通常は、図1に
示されるように、押し上げ部材30の先端が基板搬送面
26Aよりも下側にある待機位置とされ、シリンダ装置
34によって基板22を押し上げる押し上げ位置に駆動
され得るようになっている。図1の符号34Aは押し上
げ部材30を鉛直方向に案内するためのガイドシャフト
を示す。As shown in FIG. 1, the push-up device 32 is normally in a standby position in which the tip of the push-up member 30 is located below the substrate transfer surface 26A, and pushes up the substrate 22 by the cylinder device 34. It can be driven into position. Reference numeral 34A in FIG. 1 indicates a guide shaft for guiding the lifting member 30 in the vertical direction.
【0027】前記下側フィルム剥離領域12及び上側フ
ィルム剥離領域14の上部位置には、これらの間の水平
に往復動自在とされた上側吸着盤36が配置されてい
る。At an upper position of the lower film peeling area 12 and the upper film peeling area 14, an upper suction disk 36 which is horizontally reciprocable between them is disposed.
【0028】この上側吸着盤36は、その下側面に、負
圧が印加される多数の吸引孔(図示省略)が面方向に均
一に設けられ、下方から押し付けられた基板22の上面
をその全面に渡って吸着できるようにされている。A plurality of suction holes (not shown) to which a negative pressure is applied are uniformly provided in the lower surface of the upper suction plate 36 in the surface direction, and the upper surface of the substrate 22 pressed from below is entirely covered with the suction surface. To be able to be adsorbed.
【0029】又、上側吸着盤36は、水平且つ搬送方向
に、上記下側及び上側フィルム剥離領域12、14に渡
って基板搬送方向に配置されたガイドバー38に沿っ
て、ガイドシュー38Aを介して摺動自在に案内され、
且つ送りねじ機構40によりガイドバー38に沿って往
復動され得るようになっている。The upper suction plate 36 is disposed horizontally and in the transport direction along a guide bar 38 disposed in the substrate transport direction over the lower and upper film peeling regions 12 and 14 via a guide shoe 38A. Slidably guided
In addition, it can be reciprocated along the guide bar 38 by the feed screw mechanism 40.
【0030】この送りねじ機構40はモータ40A、こ
のモータ40Aに駆動されるねじ送りねじ40B、及び
送りねじ40Bに螺合してその回転により進退するナッ
ト部40Cと、を有してなり、ナット部40Cが上側吸
着盤36を支持している。送りねじ機構40による上側
吸着盤36の移動範囲は、図1に示されるように、下側
フィルム剥離領域12内で、前記基板搬送装置26の真
上となる位置及び上側フィルム剥離領域14内に入り込
んだ位置との間とされている。The feed screw mechanism 40 has a motor 40A, a screw feed screw 40B driven by the motor 40A, and a nut portion 40C screwed into the feed screw 40B and advanced and retracted by the rotation thereof. The portion 40C supports the upper suction plate 36. The moving range of the upper suction plate 36 by the feed screw mechanism 40 is, as shown in FIG. 1, in the lower film peeling region 12, at a position directly above the substrate transfer device 26 and in the upper film peeling region 14. It is between the entry position.
【0031】又、上側吸着盤36の高さ、即ち基板搬送
面26Aからの距離は、前記押し上げ部材30によって
基板22が押し上げられたとき、該基板22の上面が上
側吸着盤36の下側面とほぼ一致するように設定されて
いる。The height of the upper suction plate 36, that is, the distance from the substrate transfer surface 26A, is such that when the substrate 22 is pushed up by the pushing member 30, the upper surface of the substrate 22 is in contact with the lower surface of the upper suction plate 36. It is set to almost match.
【0032】前記上側吸着盤36が、前記上側フィルム
剥離領域14内に入り込んだときの、該上側吸着盤36
の下面に対向する位置には、下側吸着盤42が水平に配
置されている。When the upper suction disk 36 enters the upper film peeling area 14, the upper suction disk 36
A lower suction plate 42 is horizontally arranged at a position facing the lower surface of the storage device.
【0033】この下側吸着盤42は、その水平の上面に
負圧が印加される多数の吸引孔(図示省略)が面方向に
均一に設けられていて、ここに、前記基板22の上側面
をその全面に渡って吸着できるようにされている。The lower suction plate 42 is provided with a large number of suction holes (not shown) for applying a negative pressure on the horizontal upper surface thereof in a plane direction. Can be adsorbed over its entire surface.
【0034】この下側吸着盤42は、昇降シリンダ42
Aによって上下動自在に支持され、この昇降シリンダ4
2Aはガイドバー38に沿って水平に、且つ前記上側フ
ィルム剥離領域14と基板搬出領域16との間でロッド
レスシリンダ46により往復動され得るようになってい
る。The lower suction plate 42 includes a lifting cylinder 42
A is vertically movably supported by A
2A can be reciprocated by a rodless cylinder 46 horizontally along the guide bar 38 and between the upper film peeling area 14 and the substrate unloading area 16.
【0035】前記下側フィルム剥離領域12内には、基
板22が上側吸着盤36に吸着された状態で、その搬送
方向先端における下側フィルム20の先端を剥離し、且
つめくり下げる下側剥離装置48が、又、前記上側フィ
ルム剥離領域14内には、下側吸着盤42に吸着されて
いる基板22上面の上側フィルム18先端を剥離し、且
つめくり上げる上側剥離装置50が、それぞれ設けられ
ている。In the lower film peeling area 12, a lower peeling device for peeling off and turning over the leading end of the lower film 20 at the leading end in the transport direction with the substrate 22 being sucked by the upper sucking plate 36. 48, an upper peeling device 50 is provided in the upper film peeling region 14 for peeling off and turning up the tip of the upper film 18 on the upper surface of the substrate 22 which is sucked by the lower sucking plate 42. I have.
【0036】なお、上側フィルム18及び下側フィルム
20は、図2に示されるように、それぞれ基板22の上
面及び下面において、該基板22の搬送方向先端よりも
わずかに後方にずれた位置にその先端があるように張り
付けられている。As shown in FIG. 2, the upper film 18 and the lower film 20 are respectively located on the upper surface and the lower surface of the substrate 22 at positions slightly behind the leading end of the substrate 22 in the transport direction. It is stuck so that there is a tip.
【0037】前記下側剥離装置48は、図3に拡大して
示されるように、上側吸着盤36に吸着されている基板
22の下側フィルム20先端部に対して、昇降して離接
自在、且つ基板幅方向(図1において紙面と垂直方向)
にわずかに(約30mm)往復動自在の剥離ロール48
Aを備え、この剥離ロール48Aを下側フィルム20の
先端に押し付けつつ基板幅方向にわずかに往復させるこ
とによって、該下側フィルム20先端を基板22下面か
ら浮き上がらせるようになっている。As shown in an enlarged view in FIG. 3, the lower peeling device 48 is capable of moving up and down with respect to the front end of the lower film 20 of the substrate 22 adsorbed on the upper adsorbing disk 36 so as to be able to contact and detach. , And the width direction of the substrate (in FIG. 1, the direction perpendicular to the paper surface)
Roll (48mm) that can reciprocate slightly (about 30mm)
A, the peeling roll 48A is slightly reciprocated in the width direction of the substrate while pressing the peeling roll 48A against the distal end of the lower film 20, so that the distal end of the lower film 20 floats from the lower surface of the substrate 22.
【0038】又、下側剥離装置48は、前記剥離ロール
48Aによって基板22下面から浮き上がった下側フィ
ルム20の先端と基板22の下面との間に圧縮空気を吹
き付けて、該下側フィルム20先端を剥離し、且つめく
り下げるようにした剥離ノズル48Bを備えている。The lower peeling device 48 blows compressed air between the front end of the lower film 20 lifted from the lower surface of the substrate 22 by the peeling roll 48A and the lower surface of the substrate 22, and And a peeling nozzle 48B for peeling off and turning over.
【0039】なお、前記剥離ロール48Aは、リニアガ
イド48Dにより、下側吸着盤42に吸着されている状
態の基板22の下側面に圧接する剥離位置と、図1に実
線で示されるように、基板搬送面26Aから下方にある
待機位置との間で昇降され得るようになっている。図
1、3の符号48Eは、剥離ロール48Aを基板幅方向
にわずかに往復動するためのスライドテーブルを示す。
なお、剥離ロール48Aを往復動させるためのエアシリ
ンダは図示省略する。又、前記搬送ローラ25、スライ
ドテーブル48E、及び、剥離ノズル48Bは、エアシ
リンダ48Cにより全体としてわずかに上下動され得る
ようになっている。The peeling roll 48A is pressed by the linear guide 48D onto the lower surface of the substrate 22 that is being sucked by the lower suction board 42, as shown by the solid line in FIG. It can be moved up and down between the substrate transfer surface 26A and a standby position below. Reference numeral 48E in FIGS. 1 and 3 denotes a slide table for slightly reciprocating the peeling roll 48A in the substrate width direction.
An air cylinder for reciprocating the peeling roll 48A is not shown. The transport roller 25, slide table 48E, and peeling nozzle 48B can be slightly moved up and down as a whole by an air cylinder 48C.
【0040】図3に拡大して示されるように、前記押し
上げ装置32における押し上げ部材30と平行に、且つ
押し上げ部材としての機能を有するガイド板52が押し
上げ部材30と平行に、前記昇降自在の搬送ローラ25
に隣接する位置に鉛直方向に配置されている。As shown in FIG. 3 in an enlarged manner, a guide plate 52 having a function as a push-up member is provided in parallel with the push-up member 30 in the push-up device 32 so as to be movable up and down. Roller 25
Are arranged in a vertical direction at a position adjacent to.
【0041】前記下側フィルム剥離領域12内における
前記基板搬送装置26及び押し上げ装置32の押し上げ
部材30下方には、前記ガイド板52からはみ出して垂
下した下側フィルム20の先端を捕捉して、これを下方
に引張ることによって、下側フィルム20を基板22か
ら剥離させるための下側引張剥離装置54が設けられて
いる。In the lower film peeling area 12, below the push-up member 30 of the substrate transfer device 26 and the push-up device 32, the leading end of the lower film 20 protruding from the guide plate 52 and hanging is captured. A lower tension peeling device 54 is provided for peeling the lower film 20 from the substrate 22 by pulling the lower film 20 downward.
【0042】この下側引張剥離装置54は、前記押し上
げ装置32に、基端においてピン56Aにより揺動自在
(揺動駆動源は図示省略)に枢支され、図1に示される
ように、水平状態から、時計方向に約100°の範囲で
揺動自在とされた揺動アーム56と、この揺動アーム5
6の先端近傍に取り付けられ、前記ガイド板52の下端
からはみ出して垂下する下側フィルム20の先端を捕捉
且つ解放自在の捕捉装置58とを備えて構成されてい
る。The lower pull-off device 54 is pivotally supported by the push-up device 32 at the base end thereof by means of a pin 56A (a rocking drive source is not shown). As shown in FIG. A swing arm 56 which is swingable clockwise in a range of about 100 ° from the state, and the swing arm 5
6 and a catching device 58 that can catch and release the tip of the lower film 20 protruding from the lower end of the guide plate 52 and hanging therefrom.
【0043】前記捕捉装置58は、前記ガイド板52の
下端に連続して垂直に配置された受け板58Aと、自由
端が該受け板58A下側位置及び外側位置に臨んで配置
され、基端においてピン58Bにより揺動自在に支持さ
れた捕捉レバー58Cと、エアシリンダ58Dとを備え
て構成され、該エアシリンダ58Dは、突出時に前記捕
捉レバー58Cを、その先端が、前記下側フィルム20
下端を受け板58Aとの間に挟み込むように、図2にお
いて反時計方向に揺動させ、且つ引き込み時には捕捉レ
バー58Cを図2において時計方向に揺動して、下側フ
ィルム20の先端を解放させるようにされている。The catching device 58 has a receiving plate 58A continuously and vertically arranged at the lower end of the guide plate 52, and a free end disposed at a lower position and an outer position of the receiving plate 58A. The air cylinder 58D includes a catch lever 58C swingably supported by a pin 58B and an air cylinder 58D.
The lower end of the lower film 20 is released by swinging the lower end of the lower film 20 in the counterclockwise direction in FIG. 2 so that the lower end is sandwiched between the receiving plate 58A and the catching lever 58C in the retracted state. It is made to let.
【0044】前記上側剥離装置50は、図4に拡大して
示されるように、前記下側剥離装置48におけると同様
に、剥離ロール50A、剥離ノズル50B、エアシリン
ダ50C、リニアガイド50D、及び、スライドテーブ
ル50Eを備えて構成されている。As shown in the enlarged view of FIG. 4, the upper peeling device 50 includes a peeling roll 50A, a peeling nozzle 50B, an air cylinder 50C, a linear guide 50D, and the like, as in the lower peeling device 48. It is provided with a slide table 50E.
【0045】前記上側フィルム剥離領域14内には、前
記上側剥離装置50により基板22の上面から剥離さ
れ、且つめくり上げられた上側フィルム18の先端を捕
捉して、剥離方向に引張る上側引張剥離装置60が設け
られている。In the upper film peeling area 14, an upper tensile peeling device that captures the tip of the upper film 18 that has been peeled off from the upper surface of the substrate 22 by the upper peeling device 50 and that has been turned up, and pulls in the peeling direction. 60 are provided.
【0046】この上側引張剥離装置60は、前記下側引
張剥離装置54における捕捉装置58と同様の捕捉装置
62と、この捕捉装置62を図1において上下に昇降さ
せるための昇降シリンダ64と、この昇降シリンダ64
を基板搬送方向に水平に往復動自在に支持する移動装置
66と、を備えて構成されている。The upper pull-off device 60 includes a catching device 62 similar to the catching device 58 in the lower pull-off device 54, an elevating cylinder 64 for vertically moving the catching device 62 up and down in FIG. Lifting cylinder 64
And a moving device 66 for horizontally supporting the substrate in a substrate reciprocating direction.
【0047】前記捕捉装置62は、前記捕捉装置58と
同様に、鉛直方向の受け板62Aと、この受け板62A
に沿ってめくり上げられた上側フィルム18の先端(上
端)を受け板62A上端との間で挟み込み、且つ挟み込
んで捕捉し、且つ解放可能とされた捕捉レバー62C
と、この捕捉レバー62Cを揺動自在に支持するピン6
2Bと、捕捉レバー62Cをピン62B前に揺動させる
エアシリンダ62Dとを備えて構成されている。As in the case of the catching device 58, the catching device 62 includes a vertical receiving plate 62A and a receiving plate 62A.
The upper end of the upper film 18 flipped up along the upper end of the receiving plate 62A is sandwiched between the upper end and the upper end of the receiving plate 62A.
And a pin 6 for swingably supporting the capture lever 62C.
2B and an air cylinder 62D that swings the capture lever 62C forward of the pin 62B.
【0048】前記移動装置66は、前記昇降シリンダ6
4を基板搬送方向に摺動自在に支持するガイドバー66
Aと、昇降シリンダ64をガイドバー66Aに沿って往
復動させるロッドレスシリンダ66Bと、を備えて構成
されている。The moving device 66 includes the lifting cylinder 6
Guide bar 66 for slidably supporting substrate 4 in the substrate transport direction
A, and a rodless cylinder 66B for reciprocating the lifting cylinder 64 along the guide bar 66A.
【0049】前記基板搬出領域16には、前記下側吸着
盤42が該基板搬出領域16内に移動したとき、その真
上位置に、上方から降下して、下側吸着盤42上の基板
22を吸着して持ち上げ、且つ基板搬出領域16から図
1において右側に搬出するための基板搬出装置68が設
けられている。When the lower suction plate 42 moves into the substrate transfer region 16, the lower suction plate 42 is lowered from above to the position above the lower suction plate 42, and There is provided a substrate unloading device 68 for sucking and lifting, and unloading from the substrate unloading area 16 to the right side in FIG.
【0050】この基板搬出装置68は、負圧が印加さ
れ、上方から基板22に接近してこれを吸着するため
の、ベローズを含む複数の吸着体68Aと、この吸着体
68Aを昇降させるためのエアシリンダ68Bと、該エ
アシリンダ68B及び吸着体68Aを、吸着した基板2
2と共にライン外に移動させるための移動装置68C
と、を備えている。The substrate unloading device 68 includes a plurality of bellows-containing adsorbents 68A for applying a negative pressure to approach and adsorb the substrate 22 from above, and for raising and lowering the adsorbent 68A. The air cylinder 68B and the substrate 2 on which the air cylinder 68B and the adsorbent 68A are adsorbed.
Moving device 68C for moving out of the line together with 2
And
【0051】図1の符号70は制御盤を示す。この制御
盤70には、前記基板搬送装置26、シリンダ装置2
8、押し上げ装置32のシリンダ装置34、モータ40
A、上側及び下側吸着盤36、42への負圧のオン・オ
フ、昇降シリンダ42A、ロッドレスシリンダ46、6
6B、下側及び上側剥離装置48、50、下側及び上側
引張剥離装置54、60、基板搬出装置68を制御する
制御装置72が設けられている(図5参照)。Reference numeral 70 in FIG. 1 indicates a control panel. The control panel 70 includes the substrate transfer device 26 and the cylinder device 2.
8. Cylinder device 34 of lifting device 32, motor 40
A, ON / OFF of negative pressure to upper and lower suction disks 36, 42, lifting cylinder 42A, rodless cylinders 46, 6
6B, a control device 72 for controlling the lower and upper peeling devices 48 and 50, the lower and upper tensile peeling devices 54 and 60, and the substrate unloading device 68 is provided (see FIG. 5).
【0052】次に上記フィルム剥離装置10により、基
板22から上側フィルム18及び下側フィルム20を剥
離する工程について説明する。Next, a process of peeling the upper film 18 and the lower film 20 from the substrate 22 by the film peeling device 10 will be described.
【0053】まず、上下面にフィルムが張られた基板2
2を、基板搬送装置26の入側(図1の左側)から水平
に装入し、該基板搬送装置26によって、基板22が下
側フィルム剥離領域12内に入り込むまで搬送して、下
側フィルム20の先端が、前記下側剥離装置48の剥離
ロール48Aの位置に到達したとき、搬送を停止する。First, a substrate 2 having films on its upper and lower surfaces
2 is horizontally loaded from the entry side (the left side in FIG. 1) of the substrate transport device 26, and is transported by the substrate transport device 26 until the substrate 22 enters the lower film peeling region 12, and the lower film When the leading end of the roller 20 reaches the position of the peeling roll 48A of the lower peeling device 48, the conveyance is stopped.
【0054】なお、このとき、前記昇降自在の搬送ロー
ラ25は、シリンダ装置34によって、図3で2点鎖線
で示されるように、基板搬送面26Aの位置まで押し上
げておき、基板22の先端の垂れ下がりを防止する。At this time, the transport roller 25, which can be raised and lowered, is pushed up to the position of the substrate transport surface 26A by the cylinder device 34 as shown by a two-dot chain line in FIG. Prevent sagging.
【0055】次に、所定位置に停止した基板22を、そ
の真上位置に予めセットされている上側吸着盤36に接
触するまで前記押し上げ装置32及び搬送ローラ25に
よって上方に押し上げる。Next, the substrate 22 stopped at a predetermined position is pushed up by the pushing device 32 and the transport roller 25 until it comes into contact with an upper suction plate 36 set at a position directly above the substrate 22.
【0056】上側吸着盤36には、予め負圧を印加して
おけば、基板22が該上側吸着盤36の下側面に接近し
たとき、その負圧によって基板22を吸い上げて、吸着
保持することになる。If a negative pressure is applied to the upper suction disk 36 in advance, when the substrate 22 approaches the lower surface of the upper suction disk 36, the substrate 22 is sucked up by the negative pressure and suction-held. become.
【0057】次に、前記押し上げ装置32は、図1に示
される位置まで下降させる。搬送ローラ25は、そのま
ま基板22を押圧する状態としておく。次いで下側剥離
装置48の剥離ロール48Aを基板22下側面に張り付
けられている下側フィルム20に圧接する位置まで上昇
させてから基板幅方向にこれを往復動させる。このと
き、搬送ローラ25によって押えられているので基板2
2が、がたつくことがない。Next, the lifting device 32 is lowered to the position shown in FIG. The transport roller 25 keeps pressing the substrate 22 as it is. Next, the peeling roll 48A of the lower peeling device 48 is raised to a position where the peeling roll 48A is pressed against the lower film 20 adhered to the lower surface of the substrate 22, and then reciprocated in the substrate width direction. At this time, the substrate 2
2 does not rattle.
【0058】従って、下側フィルム20の先端は剥離ロ
ール48Aによって基板22からわずかに剥がされ、こ
こに、剥離ノズル48Bから圧縮空気が吹き付けられ、
該圧縮空気が下側フィルム20と基板22との隙間に入
り込むことによって、下側フィルム20をめくり下げる
ことになる。Accordingly, the leading end of the lower film 20 is slightly peeled off from the substrate 22 by the peeling roll 48A, and compressed air is blown from the peeling nozzle 48B,
When the compressed air enters the gap between the lower film 20 and the substrate 22, the lower film 20 is turned down.
【0059】下側フィルム20先端の剥離動作を終了し
た後は、前記剥離ロール48A及び搬送ローラ25は、
基板搬送面26Aの下方に退避する。After the peeling operation of the leading end of the lower film 20 is completed, the peeling roll 48A and the transport roller 25 are
It retreats below the substrate transfer surface 26A.
【0060】剥離ノズル48Bは、わずかに下降して、
再度圧縮空気を噴出し、初回の噴出でめくり下げること
ができなかった部分を完全にめくり下げる。The peeling nozzle 48B descends slightly,
The compressed air is blown out again, and the part that could not be turned down by the first blow is completely turned down.
【0061】基板22から剥離された下側フィルム20
の先端(下端)は、前記ガイド板52に沿って垂直に垂
れ下がる。このとき、ガイド板52が金属製の場合、下
側フィルム20は、それ自体が有する静電気によって、
ガイド板52に密着する。The lower film 20 peeled off from the substrate 22
Is vertically suspended along the guide plate 52. At this time, when the guide plate 52 is made of metal, the lower film 20 is caused by static electricity of itself.
It adheres closely to the guide plate 52.
【0062】ガイド板52の下端から垂れ下がった下側
フィルム20の先端は、ガイド板52の下方に垂直に連
続する受け板58Aにまで至る。The leading end of the lower film 20 hanging down from the lower end of the guide plate 52 reaches a receiving plate 58A that is vertically continuous below the guide plate 52.
【0063】この状態で、予め図6に示されるように、
時計方向に揺動されていた捕捉レバー58Cをエアシリ
ンダ58Dによって反時計方向に揺動すると、該捕捉レ
バー58Cと受け板58Aとの間で前記垂れ下がった下
側フィルム20の先端が捕捉(捕捉)される。In this state, as shown in FIG.
When the capture lever 58C that has been rocked clockwise is rocked counterclockwise by the air cylinder 58D, the tip of the hanging lower film 20 is captured (captured) between the capture lever 58C and the receiving plate 58A. Is done.
【0064】次に、図7に示されるように、前記下側フ
ィルム20の先端を捕捉したまま、前記揺動アーム56
を図1において時計方向に揺動させ、同時に、前記上側
吸着盤36を送りねじ機構40によって、上側フィルム
剥離領域14方向に水平に移動させる。Next, as shown in FIG. 7, while holding the leading end of the lower film 20, the swing arm 56
Is pivoted clockwise in FIG. 1, and at the same time, the upper suction plate 36 is horizontally moved in the direction of the upper film peeling region 14 by the feed screw mechanism 40.
【0065】従って、上側吸着盤36の移動速度及び揺
動アーム56による下側フィルム20の引張り速度を調
整することによって、下側フィルム20の剥離点がガイ
ド板52の上方位置となる状態で、下側フィルム20を
基板22から円滑に剥離することができる。Therefore, by adjusting the moving speed of the upper suction plate 36 and the pulling speed of the lower film 20 by the swing arm 56, the peeling point of the lower film 20 is positioned above the guide plate 52. The lower film 20 can be peeled off from the substrate 22 smoothly.
【0066】このとき、上側吸着盤36の移動速度を、
下側引張剥離装置54による下側フィルム20の下方へ
の引張り速度よりもわずかに速くすれば、下側フィルム
20の剥離点がガイド板52よりも必ず上側フィルム剥
離領域14側にずれた位置となり、剥離中の下側フィル
ム20がガイド板52の上端にこすれたりすることがな
い。At this time, the moving speed of the upper suction plate 36 is
If the speed at which the lower film 20 is pulled downward by the lower pull-off device 54 is slightly higher, the peeling point of the lower film 20 is always shifted to the upper film peeling region 14 side of the guide plate 52. In addition, the lower film 20 does not rub against the upper end of the guide plate 52 during peeling.
【0067】このようにして、上側吸着盤36を移動さ
せつつ下側フィルム20を下方に引張って剥離し、剥離
終了後は、該下側引張剥離装置54の下方に、前記捕捉
レバー58Cを解放動作させることによって、下側フィ
ルム20を下方に落下配置することができる。In this way, the lower film 20 is pulled downward while peeling off while moving the upper suction plate 36, and after the peeling is completed, the catch lever 58 C is released below the lower tensile peeling device 54. By operating the lower film 20, the lower film 20 can be dropped and disposed.
【0068】即ち、下側フィルム20は、基板搬送装置
26の上側フィルム剥離領域14側の端部の隙間を通っ
て下方に引張られつつ剥離され、且つ、排出されること
になる。That is, the lower film 20 is peeled and discharged while being pulled downward through the gap at the end of the substrate transfer device 26 on the upper film peeling region 14 side.
【0069】基板22は、上側吸着盤36によって更に
移動され、上側フィルム剥離領域14内で、前記下側吸
着盤42の真上位置にきたとき停止される。The substrate 22 is further moved by the upper suction disk 36, and is stopped when it comes to a position just above the lower suction disk 42 in the upper film peeling area 14.
【0070】次に、前記下側吸着盤42を、負圧を印加
しつつ昇降シリンダ42Aによって上昇させる。一方、
前記上側吸着盤36は、下側吸着盤42が接近したとき
負圧が解除され、基板22は上側吸着盤36から下側吸
着盤42に受け渡される。Next, the lower suction disk 42 is raised by the lifting cylinder 42A while applying a negative pressure. on the other hand,
The lower pressure of the upper suction disk 36 is released when the lower suction disk 42 approaches, and the substrate 22 is transferred from the upper suction disk 36 to the lower suction disk 42.
【0071】この受け渡し後に、前記上側吸着盤36は
図1に示されるように下側フィルム剥離領域12内に戻
される。After the transfer, the upper suction plate 36 is returned to the lower film peeling area 12 as shown in FIG.
【0072】基板22を吸着した下側吸着盤42は、昇
降シリンダ42Aによって図1に示される位置まで下降
され、停止する。The lower suction plate 42 having sucked the substrate 22 is lowered by the lifting cylinder 42A to the position shown in FIG. 1 and stopped.
【0073】この状態で、前記上側剥離装置50の剥離
ロール50Aを下降させ、基板22の上面に張られてい
る上側フィルム18の先端を圧接しつつ基板幅方向に往
復させる。これによって、前述と同様に、上側フィルム
18は基板22から剥離され、且つ剥離ノズル50Bか
らの圧縮空気の吹き付けによってめくり上げられ、前記
上側引張装置60における受け板62Aに沿う状態とな
る。In this state, the peeling roll 50A of the upper peeling device 50 is lowered to reciprocate in the substrate width direction while pressing the tip of the upper film 18 stretched on the upper surface of the substrate 22. Thus, as described above, the upper film 18 is peeled off from the substrate 22 and turned up by blowing compressed air from the peeling nozzle 50B, so as to be in a state along the receiving plate 62A of the upper tensioning device 60.
【0074】この状態では、受け板62Aの上端外側に
上側フィルム18の先端が位置しているので、エアシリ
ンダ62Dによって予め図8のように反時計方向に揺動
させておいた捕捉レバー62Cを時計方向に揺動させる
ことによって、該捕捉レバー62Cの先端と受け板62
Aの上端との間で、めくり上げられた上側フィルム18
の先端を捕捉(捕捉)する。In this state, since the leading end of the upper film 18 is located outside the upper end of the receiving plate 62A, the catch lever 62C which has been swung counterclockwise in advance by the air cylinder 62D as shown in FIG. By swinging in the clockwise direction, the tip of the catch lever 62C and the receiving plate 62
A turned upside film 18 between the upper end of A
Capture (capture) the tip of
【0075】次に、上側フィルム18を捕捉した状態
で、前記昇降シリンダ64により捕捉装置62を上昇さ
せ、且つ移動装置66により、下側フィルム剥離領域1
2方向に水平に移動させる。Next, in a state where the upper film 18 is captured, the capturing device 62 is raised by the elevating cylinder 64, and the lower film peeling region 1 is moved by the moving device 66.
Move horizontally in two directions.
【0076】このとき、同時に、前記下側吸着盤42も
ロッドレスシリンダ46によって基板搬出領域16方向
に水平に移動させる。これにより、上側フィルム18は
基板22の上面から強制的に剥離される。At this time, the lower suction plate 42 is also moved horizontally by the rodless cylinder 46 in the direction of the substrate carrying-out area 16. Thereby, the upper film 18 is forcibly peeled off from the upper surface of the substrate 22.
【0077】基板22が、上側フィルム18を剥離しつ
つ下側吸着盤42によって基板搬出領域16にまで移動
されたとき、前記捕捉装置62は、図1において二点鎖
線で示される位置まで移動され、その捕捉レバー62C
と受け板62Aとの間には、剥離された上側フィルム1
8が保持されている。When the substrate 22 is moved to the substrate carrying-out area 16 by the lower suction plate 42 while peeling off the upper film 18, the capturing device 62 is moved to the position shown by the two-dot chain line in FIG. , Its capture lever 62C
Between the upper film 1 and the receiving plate 62A.
8 are held.
【0078】一方、前述の如く、下側吸着盤42は基板
搬出領域16に移動しているので、上側引張剥離装置6
0の下方は解放状態となっていて、捕捉レバー62Cを
反時計方向に揺動させると、捕捉されていた上側フィル
ム18が解放されて自由落下し、上側フィルム剥離領域
14下端から排出されることになる。On the other hand, as described above, since the lower suction plate 42 has been moved to the substrate unloading area 16,
When the capture lever 62C is swung counterclockwise, the captured upper film 18 is released, falls freely, and is discharged from the lower end of the upper film peeling area 14 when the capture lever 62C is swung counterclockwise. become.
【0079】下側吸着盤42によって基板搬出領域16
内に移動された基板22は、該下側吸着盤42から、上
方から下降してくる基板搬出装置68の吸着体68Aに
受け渡され、ライン外に搬出される。The substrate suction area 16 is moved by the lower suction plate 42.
The substrate 22 moved inside is transferred from the lower suction plate 42 to the adsorbent 68A of the substrate unloading device 68 descending from above, and is unloaded outside the line.
【0080】上記のような工程を繰り返して、順次搬入
されてくる基板22から上側及び下側フィルム18、2
0を剥離していく。By repeating the above steps, the upper and lower films 18, 2
0 is peeled off.
【0081】なお、上記フィルム剥離装置10におい
て、基板搬送装置26上に搬入されてきた基板22は、
押し上げ装置32によって上側吸着盤36の位置まで押
し上げられるが、本発明はこれに限定されるものでな
く、上側吸着盤36を、基板搬送装置26及び基板22
を損傷することなく、下降して吸着するようにしてもよ
い。In the film peeling device 10, the substrate 22 carried on the substrate transport device 26 is
The push-up device 32 pushes the upper suction plate 36 up to the position of the upper suction plate 36, but the present invention is not limited to this.
May be lowered and adsorbed without damaging the device.
【0082】又、上記下側及び上側剥離装置48、50
は、剥離ロール及び剥離ノズルによってフィルムの先端
を剥離、且つめくり下げ、あるいはめくり上げるもので
あるが、本発明はこれに限定されるものでなく、例えば
フィルム先端をフック状部材によって引掛けて剥離させ
るようにしたものであってもよい。The lower and upper peeling devices 48, 50
Is to peel off the leading end of the film by a peeling roll and a peeling nozzle, and turn the film up or down.However, the present invention is not limited to this. It is also possible to have it make it.
【0083】又、上記基板搬送装置の先端側の搬送ロー
ラ25は、シリンダ装置28によって昇降自在とされて
いるが、これは、基板22が薄くて垂れ下がり易い場合
に必要なものであり、基板22が十分に厚くて先端が垂
れ下がらないような場合は、搬送ローラ25は不要であ
る。The transfer roller 25 on the tip side of the substrate transfer device is movable up and down by a cylinder device 28. This is necessary when the substrate 22 is thin and easily hangs down. Is thick enough so that the tip does not hang down, the transport roller 25 is unnecessary.
【0084】又、上側フィルム18及び下側フィルム2
0は、図2に示されるように、それぞれ基板22の上面
及び下面において、該基板22の搬送方向先端よりもわ
ずかに後方にずれた位置にその先端があるように張り付
けられているがこれは基板22の先端と一致させてもよ
い。The upper film 18 and the lower film 2
As shown in FIG. 2, 0 is attached to the upper surface and the lower surface of the substrate 22, respectively, so that the leading end is located at a position slightly backward from the leading end in the transport direction of the substrate 22. You may make it correspond with the front-end | tip of the board | substrate 22.
【0085】又、上側吸着盤36は送りねじ機構40に
よって移動されるがこれは位置決め精度が高いので利用
されている。従って、位置決め精度が確保できれば、ロ
ッドレスシリンダ等の他の移動手段であってもよい。The upper suction disk 36 is moved by the feed screw mechanism 40, which is used because of its high positioning accuracy. Therefore, other moving means such as a rodless cylinder may be used as long as positioning accuracy can be ensured.
【0086】[0086]
【発明の効果】本発明は上記のように構成したので、フ
ィルム剥離装置の装置面積を大幅に縮小させることがで
きると共に、短時間で効率良くフィルムを剥離させるこ
とができるという優れた効果を有する。As described above, the present invention has an excellent effect that the area of the film peeling device can be greatly reduced and the film can be peeled efficiently in a short time. .
【図1】本発明の実施の形態の例に係るフィルム剥離装
置を示す断面図FIG. 1 is a sectional view showing a film peeling device according to an embodiment of the present invention.
【図2】剥離されるフィルムが張られている基板を示す
拡大断面図FIG. 2 is an enlarged sectional view showing a substrate on which a film to be peeled is stretched;
【図3】同フィルム剥離装置における下側引張剥離装置
近傍を拡大して示す側面図FIG. 3 is an enlarged side view showing the vicinity of a lower tension peeling device in the film peeling device.
【図4】上側引張剥離装置近傍を拡大して示す側面図FIG. 4 is an enlarged side view showing the vicinity of the upper tension peeling device;
【図5】同フィルム剥離装置の制御系を示すブロック図FIG. 5 is a block diagram showing a control system of the film peeling device.
【図6】上記下側引張剥離装置により下側フィルムを捕
捉する過程を拡大して示す側面図FIG. 6 is an enlarged side view showing a process of capturing the lower film by the lower pull-off device.
【図7】同下側引張剥離装置により下側フィルムを引張
る過程を拡大して示す側面図FIG. 7 is an enlarged side view showing a process of pulling a lower film by the lower pull-off device.
【図8】上記上側引張剥離装置により上側フィルムを捕
捉する過程を拡大して示す側面図FIG. 8 is an enlarged side view showing a process of capturing the upper film by the upper tension peeling device.
10…フィルム剥離装置 12…下側フィルム剥離領域 14…上側フィルム剥離領域 16…基板搬出領域 18…上側フィルム 20…下側フィルム 22…基板 24、25…搬送ローラ 26…基板搬送装置 26A…基板搬送面 36…上側吸着盤 42…下側吸着盤 48…下側剥離装置 50…上側剥離装置 52…ガイド板 54…下側引張剥離装置 58、62…捕捉装置 58A、62A…受け板 58C、62C…捕捉レバー 60…上側引張剥離装置 66…移動装置 68…基板搬出装置 70…制御盤 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Film peeling apparatus 12 ... Lower film peeling area 14 ... Upper film peeling area 16 ... Substrate carry-out area 18 ... Upper film 20 ... Lower film 22 ... Substrate 24, 25 ... Transport roller 26 ... Substrate transport apparatus 26A ... Substrate transport Surface 36 Upper suction plate 42 Lower suction plate 48 Lower peeling device 50 Upper peeling device 52 Guide plate 54 Lower tensile peeling device 58, 62 Capture device 58A, 62A Receiving plate 58C, 62C Capture lever 60 Upper pull-off device 66 Moving device 68 Substrate unloading device 70 Control panel
─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成9年9月11日[Submission date] September 11, 1997
【手続補正1】[Procedure amendment 1]
【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing
【補正対象項目名】図1[Correction target item name] Fig. 1
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【図1】 FIG.
【手続補正2】[Procedure amendment 2]
【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing
【補正対象項目名】図2[Correction target item name] Figure 2
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【図2】 FIG. 2
【手続補正3】[Procedure amendment 3]
【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing
【補正対象項目名】図3[Correction target item name] Figure 3
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【図3】 FIG. 3
【手続補正4】[Procedure amendment 4]
【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing
【補正対象項目名】図4[Correction target item name] Fig. 4
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【図4】 FIG. 4
【手続補正5】[Procedure amendment 5]
【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing
【補正対象項目名】図6[Correction target item name] Fig. 6
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【図6】 FIG. 6
【手続補正6】[Procedure amendment 6]
【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing
【補正対象項目名】図7[Correction target item name] Fig. 7
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【図7】 FIG. 7
【手続補正6】[Procedure amendment 6]
【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing
【補正対象項目名】図8[Correction target item name] Fig. 8
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【図8】 FIG. 8
Claims (5)
域、上側フィルム剥離領域及び基板搬出領域を順次隣接
して設定し、前記下側フィルム剥離領域で搬送装置によ
り形成される水平の基板搬送面に沿って、上下両面にフ
ィルムが張り付けられている基板を所定位置まで搬送、
停止させる工程と、停止した基板上面の略全面を、水平
の上側吸着盤により吸着、固定する工程と、該上側吸着
盤により吸着、固定された基板の下面に張り付けられて
いる下側フィルムの基板搬送方向先端を基板から剥離さ
せると共に、該剥離先端を前記搬送装置の先端外側位置
で基板の下面からめくり下げる工程と、該めくり下がっ
た下側フィルム先端を捕捉する工程と、該捕捉した下側
フィルム先端を、前記搬送装置の先端と上側フィルム剥
離領域との間を通って下方に引張りつつ、前記基板を、
前記上側吸着盤により吸着したまま前記上側フィルム剥
離領域方向に搬送し、該下側フィルム全体を基板から剥
離させる工程と、基板から剥離された下側フィルム先端
の捕捉を解いて下方に落下排出する工程と、前記基板
を、前記上側吸着盤により吸着したまま、前記下側フィ
ルムを剥離しつつ、前記上側フィルム剥離領域にまで搬
送し、且つ、下側フィルム剥離後に水平に停止する工程
と、上側フィルム剥離領域で、前記上側吸着盤の下側面
に吸着されている基板の下面の略全面を、水平の下側吸
着盤により吸着することにより、基板を上側吸着盤から
下側吸着盤に受け渡す工程と、この受け渡し後に、上側
吸着盤を前記下側フィルム剥離領域に戻す工程と、前記
下側吸着盤の上面に吸着、固定された基板の上側フィル
ムの先端を剥離して、該剥離先端をめくり上げる工程
と、このめくり上げられた上側フィルム先端を捕捉する
工程と、該捕捉した上側フィルム先端を上側フィルム剥
離領域の入側方向に引張りつつ、前記下側吸着盤により
吸着している前記基板を前記基板搬出領域方向に移動さ
せて、上側フィルム全体を基板から剥離する工程と、基
板から剥離された上側フィルム先端の捕捉を解いて、前
記下側吸着盤が前記基板搬出領域方向に移動したことに
よって生じた空間を通って、該上側フィルムを下方に落
下排出する工程と、上側フィルムが剥離された基板を、
前記下側吸着盤により吸着したまま前記基板搬出領域に
搬入し、水平に停止する工程と、この停止状態の下側吸
着盤から基板搬出手段に基板を受け渡す工程と、該下側
吸着盤を前記上側フィルム剥離領域に戻す工程と、を有
してなるフィルム剥離方法。1. A horizontal substrate transfer formed by a transfer device in a horizontal straight line with a lower film peeling area, an upper film peeling area, and a substrate unloading area sequentially set adjacent to each other. Along the surface, the board with the film attached to the upper and lower surfaces is transported to a predetermined position,
A step of stopping, a step of adsorbing and fixing substantially the entire upper surface of the stopped substrate by a horizontal upper suction disk, and a substrate of a lower film attached to a lower surface of the substrate sucked and fixed by the upper suction disk. A step of peeling the leading end in the transport direction from the substrate, a step of flipping the peeling distal end from the lower surface of the substrate at a position outside the distal end of the transport device, a step of capturing the rolled-down lower film distal end, and a step of capturing the captured lower side. While pulling the film tip downward between the tip of the transfer device and the upper film peeling area, the substrate,
Transporting the upper film in the direction of the upper film peeling area while being suctioned by the upper suction disk, and peeling the entire lower film from the substrate; And the step, while the substrate is being sucked by the upper suction disk, while peeling the lower film, transporting the film to the upper film peeling area, and stopping horizontally after peeling the lower film, In the film peeling area, the substrate is transferred from the upper suction disk to the lower suction disk by suctioning substantially the entire lower surface of the substrate that is sucked to the lower surface of the upper suction disk by the horizontal lower suction disk. Step and after the delivery, the step of returning the upper suction disk to the lower film peeling area, and suctioning the upper surface of the lower suction disk, peeling off the tip of the upper film of the fixed substrate. The step of flipping the peeling tip, the step of capturing the flipped upper film tip, and the step of pulling the captured upper film tip in the inward direction of the upper film peeling area while adsorbing by the lower suction disc. Moving the substrate in the direction of the substrate unloading area to release the entire upper film from the substrate; and releasing the upper film tip peeled from the substrate to release the lower suction disk from the substrate unloading area. Through the space created by moving in the direction, the step of dropping and discharging the upper film downward, the substrate from which the upper film has been peeled,
Transporting the substrate to the substrate unloading area while being suctioned by the lower suction disk, and stopping horizontally, transferring the substrate from the lower suction disk to the substrate unloading means in the stopped state; and Returning the film to the upper film peeling region.
側フィルム剥離領域、上側フィルム剥離領域、及び、基
板搬出領域を順次隣接配置してなり、前記下側フィルム
剥離領域に設けられ、上下両面にフィルムが張り付けら
れた基板を水平の基板搬送面に沿って搬送する基板搬送
装置と、この基板搬送装置の上方位置と前記上側フィル
ム剥離領域内との間でほぼ水平に往復動自在、且つ、前
記基板の上面の略全面を吸着して、該基板を水平に保持
可能とされた上側吸着盤と、この上側吸着盤に吸着され
た状態の基板における下側面に張り付けられた下側フィ
ルムの搬出側先端を剥離し、且つ、めくり下げる下側剥
離装置と、前記基板搬送装置における搬出側端近傍に配
置され、前記下側剥離装置によりめくり下げられた下側
フィルムの先端を捕捉し、且つ、前記基板搬送装置と前
記上側フィルム剥離領域との間を通って、前記捕捉した
下側フィルムの先端を下方に引張る下側引張剥離装置
と、前記上側フィルム剥離領域内に前記上側吸着盤が移
動したときのその下側位置に配置され、該下側位置と前
記基板搬出領域内との間で水平に往復動自在、且つ、前
記基板の上面の略全面を吸着して、該基板を水平に保持
可能とされた下側吸着盤と、この下側吸着盤に吸着され
た状態の基板における上側面に張り付けられた上側フィ
ルムの搬出側先端を剥離し、且つ、めくり上げる上側剥
離装置と、該めくり上げられた上側フィルム先端を捕捉
すると共に、これを基板搬入側に引張る上側引張剥離装
置と、を有してなり、前記上側吸着盤は、前記下側引張
剥離装置により下側フィルムを引張るとき、基板を吸着
したまま上側フィルム剥離領域にまで移動し、且つ、前
記上側剥離装置により上側フィルムを剥離する前に下側
フィルム剥離領域内に戻り、前記下側吸着盤は、前記上
側引張装置により前記上側フィルムの引張るとき、基板
を吸着したまま前記基板搬出領域内に移動し、前記上側
フィルムが基板から剥離し、且つ、前記下側吸着盤が基
板搬出領域方向に移動して前記上側引張剥離装置の下方
向に空白が生じたとき、前記上側引張剥離装置は捕捉し
ていた上側フィルムを解放するようにされたことを特徴
とするフィルム剥離装置。2. A lower film peeling area, an upper film peeling area, and a substrate carry-out area are horizontally arranged from a substrate loading side to a loading side in a horizontal direction, and are provided in the lower film peeling area. , A substrate transfer device that transfers a substrate with a film attached to both upper and lower surfaces along a horizontal substrate transfer surface, and is capable of reciprocating substantially horizontally between an upper position of the substrate transfer device and the upper film peeling area. And an upper suction plate capable of holding the substrate horizontally by sucking substantially the entire upper surface of the substrate, and a lower surface attached to a lower side surface of the substrate in a state of being sucked by the upper suction plate. A lower peeling device that peels off the leading end of the film on the carry-out side and turns down, and is disposed near the carry-out side end of the substrate transfer device, and removes the leading end of the lower film turned down by the lower peeling device. Capturing, and passing between the substrate transfer device and the upper film peeling region, a lower tensile peeling device that pulls the tip of the captured lower film downward, and the upper film peeling region in the upper film peeling region. The suction disk is disposed at a lower position when moved, horizontally reciprocally reciprocable between the lower position and the inside of the substrate unloading area, and sucks substantially the entire upper surface of the substrate. A lower suction disk capable of holding the substrate horizontally, and an upper peeling-off operation in which the upper end of the upper film affixed to the upper surface of the substrate sucked by the lower suction disk is peeled off and turned up. Device, and an upper tension peeling device that captures the turned-up upper film tip and pulls it to the substrate loading side, and the upper suction cup is lower by the lower tension peeling device. Pull the film Moving to the upper film peeling region while holding the substrate, and returning to the lower film peeling region before peeling the upper film by the upper peeling device, wherein the lower suction device is provided with the upper pulling device. When the upper film is pulled, the substrate is moved into the substrate unloading area while holding the substrate, the upper film is peeled off from the substrate, and the lower suction disk is moved in the direction of the substrate unloading area, and the upper tension is pulled. The film peeling device according to claim 1, wherein the upper tension peeling device releases the captured upper film when a gap occurs in a downward direction of the peeling device.
基板搬送面に沿って並列配置された複数の搬送ローラを
含んでなり、該複数の搬送ローラのうち前記上側フィル
ム剥離領域側端部の1〜3本の搬送ローラを、前記基板
搬送面を構成する搬送位置と、これより下方であって、
前記下側剥離装置により剥離され、めくり下げられた下
側フィルムと非干渉となるまで引き下がった待機位置と
の間で上下動自在としたことを特徴とするフィルム剥離
装置。3. The apparatus according to claim 2, wherein the substrate transfer device comprises:
It comprises a plurality of transport rollers arranged in parallel along the substrate transport surface, and comprises one to three transport rollers on the upper film peeling region side end portion of the plurality of transport rollers, constituting the substrate transport surface. Transport position and below this,
A film peeling device, wherein the film can be vertically moved between a lower film that has been peeled off and turned up by the lower peeling device and a standby position that has been pulled down until it does not interfere.
離装置は、前記基板搬送装置の基板搬出側先端近傍位置
で、基板搬送面の下側近傍から略鉛直下向きに配置さ
れ、めくり下げられた下側フィルムの先端を案内するガ
イド板と、このガイド板の下端近傍に設けられ、ガイド
板から下方に突出した前記下側フィルムの先端を捕捉可
能とされたフィルム捕捉装置と、このフィルム捕捉装置
を自由端側に支持し基端側を中心として、前記ガイド板
近傍位置とこれより下方の解放位置との間で揺動自在と
された揺動アームと、を有してなることを特徴とするフ
ィルム剥離装置。4. The lower pull-off device according to claim 2, wherein the lower pull-off device is disposed substantially vertically downward from near a lower side of the substrate transfer surface at a position near a tip end of the substrate transfer side of the substrate transfer device. A guide plate for guiding the leading end of the lower film, a film capturing device provided near the lower end of the guide plate, and capable of capturing the leading end of the lower film protruding downward from the guide plate; and A swing arm that is capable of swinging between a position near the guide plate and a release position below the guide plate with the capture device supported at the free end side and centered on the base end side. Characteristic film peeling device.
側に、該基板搬送装置上の基板を押し上げて、上方に待
機する上側吸着盤に下方から押し付けるように上下動自
在の押し上げ装置を設けると共に、この押し上げ装置に
前記揺動アームの基端を揺動自在に支持したことを特徴
とするフィルム剥離装置。5. The lifting device according to claim 4, wherein a lifting device is provided below said substrate transfer device, said lifting device being capable of moving up and down so as to push up the substrate on said substrate transfer device and press it from below onto an upper suction plate waiting above. A film peeling device, wherein a base end of the swing arm is swingably supported by the push-up device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24126097A JP3833355B2 (en) | 1997-09-05 | 1997-09-05 | Film peeling method and apparatus |
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---|---|---|---|
JP24126097A JP3833355B2 (en) | 1997-09-05 | 1997-09-05 | Film peeling method and apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1179542A true JPH1179542A (en) | 1999-03-23 |
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