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JPH1169082A - Sensor ic, sensor ic wafer and line image sensor - Google Patents

Sensor ic, sensor ic wafer and line image sensor

Info

Publication number
JPH1169082A
JPH1169082A JP9216272A JP21627297A JPH1169082A JP H1169082 A JPH1169082 A JP H1169082A JP 9216272 A JP9216272 A JP 9216272A JP 21627297 A JP21627297 A JP 21627297A JP H1169082 A JPH1169082 A JP H1169082A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sensor
light receiving
light
receiving element
scanning direction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9216272A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hisayoshi Fujimoto
久義 藤本
Hiroaki Onishi
弘朗 大西
Toshihiko Takakura
敏彦 高倉
Norihiro Imamura
典広 今村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rohm Co Ltd
Original Assignee
Rohm Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rohm Co Ltd filed Critical Rohm Co Ltd
Priority to JP9216272A priority Critical patent/JPH1169082A/en
Priority to US09/115,577 priority patent/US6195183B1/en
Priority to CNB981030203A priority patent/CN1163843C/en
Priority to TW087111514A priority patent/TW376626B/en
Publication of JPH1169082A publication Critical patent/JPH1169082A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Facsimile Heads (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the technology of enhancing a read image in the case of reading a color original image and to reduce the manufacture cost of the line image sensor and the sensor IC used for the line image sensor. SOLUTION: In the sensor IC 5 where a plurality of photodetectors 1 providing an output of a signal in response to a light receiving amount on chip substrates 50 formed rectangular as plane view, pluralities of the photodetectors 1 are arranged on the chip substrates 50 as columns in the main scanning direction and three photodetector arrays 10R, 10G, 10B are arranged in the subscanning direction. Each of the photodetector array 10R, 10G, 10B is respectively covered with three kinds of filters 7R, 7G, 7B that transmit through red, green and blue colors, respectively, and have a length almost corresponding to the length of light receiving element arrays 10R, 10G, 10B as red, green and blue photodetector arrays.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本願発明は、ファクシミリ装
置の画像読み取り部やイメージスキャナ装置などに用い
られるラインイメージセンサ、およびこれに用いられる
センサIC、ならびにセンサICが複数形成されたセン
サICウエハに関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a line image sensor used for an image reading section or an image scanner of a facsimile apparatus, a sensor IC used for the same, and a sensor IC wafer on which a plurality of sensor ICs are formed.

【0002】[0002]

【従来の技術】周知のとおり、原稿をカラーに読み取る
画像読み取り装置は、光源から原稿表面に対して白色光
を照射させてから、その反射光を赤色光用、緑色光用、
および青色光用の計3種類の受光素子で受光させる構成
となっている。上記3種類の受光素子は、赤色光、緑色
光、および青色光のそれぞれの光量を個別に感知し、そ
れらの色彩光の受光量に応じた信号を出力するものであ
る。
2. Description of the Related Art As is well known, an image reading apparatus that reads a document in color emits white light from a light source to the surface of the document, and then reflects the reflected light for red light, green light, or the like.
And three types of light receiving elements for blue light. The three types of light receiving elements individually detect the amounts of red light, green light, and blue light, and output signals corresponding to the amounts of received color light.

【0003】たとえば、1ライン毎に原稿の画像を読み
取るように構成された画像読み取り装置では、上記3種
類の受光素子をそれぞれ主走査方向に複数並べておく必
要がある。そこで、従来では、図11に示すように、赤
色光用受光素子8R、緑色光用受光素子8G、および青
色光用受光素子8Bのそれぞれが一定順序で繰り返して
並ぶように、それらの各受光素子を主走査方向に1列に
並べた配列としていた。このような構成では、計3個の
各色光用の受光素子8R,8G,8Bを一組として、こ
の組が1画素の画像読み取りを担当している。
For example, in an image reading apparatus configured to read an image of a document line by line, it is necessary to arrange a plurality of the above three types of light receiving elements in the main scanning direction. Therefore, conventionally, as shown in FIG. 11, each of the red light receiving element 8R, the green light receiving element 8G, and the blue light receiving element 8B is repeatedly arranged in a certain order. Are arranged in a line in the main scanning direction. In such a configuration, a total of three light receiving elements 8R, 8G, and 8B for each color light constitute one set, and this set is responsible for reading an image of one pixel.

【0004】上記各色光用の受光素子8R,8G,8B
は、シリコンなどによって形成されたチップ状基板の表
面に一体的に造り込まれた受光素子を、それぞれ赤色光
を透過させる赤色フィルタ、緑色光を透過させる緑色フ
ィルタ、青色光を透過させる青色フィルタによって覆う
ことによって各自が担当する色の光を受光するように構
成されている。
The light receiving elements 8R, 8G, 8B for each of the above color lights
The light receiving elements integrated on the surface of a chip-shaped substrate made of silicon etc. are separated by a red filter that transmits red light, a green filter that transmits green light, and a blue filter that transmits blue light. The cover is configured to receive light of the color assigned to each of them by covering.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
成では、計3個の受光素子8R,8G,8Bを一組とし
て1画素の画像読み取りを担当しているために、原稿画
像を等倍に読み取る場合には、上記各受光素子8R,8
G,8Bの主走査方向の幅S1を1画素分の主走査方向
の幅S2の1/3以下としなければならない。たとえ
ば、読み取り原稿を8ドット/mmの読み取り密度で読
み取り場合には、1画素の主走査方向の幅S1は125
μmとしなければならず、上記各受光素子の主走査方向
の幅S2は125/3μm以下に設定しなければならな
い。すなわち、各受光素子8R,8G,8Bのそれぞれ
の受光面積を大きくすることができず、各受光素子8
R,8G,8Bにおいて受光される光量が少なくなって
いた。このため、各受光素子8R,8G,8Bから出力
される画像信号の出力レベルが低くなるとともに、ノイ
ズ成分の影響を受けやすくなるため、いわゆるS/N比
が悪くなり、読み取り画像の質を高めることが難しくな
る。
However, in the above configuration, since a total of three light receiving elements 8R, 8G, and 8B are responsible for reading one pixel of an image, the original image is read at the same magnification. In this case, each of the light receiving elements 8R, 8
The width S1 of G, 8B in the main scanning direction must be equal to or less than 1/3 of the width S2 of one pixel in the main scanning direction. For example, when a read original is read at a reading density of 8 dots / mm, the width S1 of one pixel in the main scanning direction is 125.
μm, and the width S2 of each light receiving element in the main scanning direction must be set to 125/3 μm or less. That is, the light receiving area of each of the light receiving elements 8R, 8G, 8B cannot be increased, and
The amount of light received at R, 8G, and 8B was small. For this reason, the output level of the image signal output from each of the light receiving elements 8R, 8G, and 8B decreases, and the image signal becomes susceptible to a noise component, so that the so-called S / N ratio deteriorates and the quality of the read image is improved. It becomes difficult.

【0006】また、上記各受光素子の主走査方向の幅S
2は125/3μm以下としなければならないのは既述
の通りであり、上記各受光素子を覆うフィルタもまた、
これに対応してその幅を125/3μm以下としなけれ
ばならない。上記各受光素子は、互いに近接して主走査
方向に列状に配置されているので、このような極めて細
幅なフィルタによって上記各受光素子を覆うことは困難
である。しかも、互いに近接して配置された受光素子群
から所望の受光素子を選択して、所望のフィルタによっ
て覆うことはさらに困難である。したがって、このよう
な作業を確実に遂行するためには、歩留りの低下を容認
しなければならず、これにともなうコストアップも容認
しなければならない。
The width S of each light receiving element in the main scanning direction is
As described above, 2 must be 125/3 μm or less, and the filter covering each light receiving element is also
Correspondingly, the width must be less than 125/3 μm. Since the light receiving elements are arranged in a row in the main scanning direction close to each other, it is difficult to cover the light receiving elements with such an extremely narrow filter. Moreover, it is more difficult to select a desired light receiving element from a light receiving element group arranged close to each other and cover it with a desired filter. Therefore, in order to surely perform such an operation, it is necessary to tolerate a decrease in the yield, and also to tolerate a cost increase.

【0007】さらに、上記画像読み取り装置において採
用されているセンサICでは、上記各受光素子がその幅
が125/3μm以下とされたフィルタ片によって覆わ
れた恰好とされているので、上記フィルタ片に外力や熱
などが加えられた場合には、上記フィルタ片が受光素子
から剥がれてしまう危険性があった。
Further, in the sensor IC employed in the image reading apparatus, each of the light receiving elements is covered by a filter piece having a width of 125/3 μm or less. When an external force, heat, or the like is applied, there is a risk that the filter piece may be separated from the light receiving element.

【0008】本願発明は、上記した事情のもとで考え出
されたものであって、原稿画像をカラーに読み取る場合
の読み取り画像の質を高める技術を提供するとともに、
ラインイメージセンサおよびこれに用いられるセンサI
Cの製造コストを低減させることをその課題としてい
る。
The present invention was conceived under the circumstances described above, and provides a technique for improving the quality of a read image when reading an original image in color.
Line image sensor and sensor I used therefor
The object is to reduce the manufacturing cost of C.

【0009】[0009]

【発明の開示】上記の課題を解決するため、本願発明で
は、次の技術的手段を講じている。
DISCLOSURE OF THE INVENTION In order to solve the above problems, the present invention employs the following technical means.

【0010】すなわち、本願発明の第1の側面によれ
ば、平面視矩形状とされたチップ状基板に、受光量に応
じた信号を出力する複数の受光素子が一体的に造り込ま
れたセンサICであって、上記チップ状基板に複数の受
光素子が主走査方向に列状に並ぶようにして造り込まれ
ているとともに、この受光素子列が副走査方向に3列並
んだ配列とされており、かつ、上記各受光素子列は、そ
れぞれ赤色、緑色、青色の各色の光を透過するととも
に、上記各受光素子列の長さに略対応した長さを有する
帯状に形成された3種類のフィルタで覆われ、それぞれ
赤色用、緑色用、青色用の受光素子列とされていること
を特徴とする、センサICが提供される。
That is, according to the first aspect of the present invention, a sensor in which a plurality of light receiving elements for outputting a signal corresponding to the amount of received light are integrally formed on a chip-shaped substrate having a rectangular shape in plan view. An IC wherein a plurality of light receiving elements are built on the chip-shaped substrate so as to be arranged in a row in the main scanning direction, and the light receiving element rows are arranged in three rows in the sub scanning direction. And each of the light receiving element rows transmits light of each color of red, green, and blue, and is formed into three types of strips having a length substantially corresponding to the length of each light receiving element row. A sensor IC is provided, which is covered with a filter and includes light receiving element arrays for red, green, and blue, respectively.

【0011】本願発明に係るセンサICは、それぞれ赤
色光、緑色光、青色光の受光量に応じた信号を出力する
赤色用、緑色用、青色用の受光素子が主走査方向に列状
に配置されており、これらの受光素子列が副走査方向に
配列された構成とされている。すなわち、上記構成のセ
ンサICでは、各受光素子が担当する画素と略同一の幅
を有する受光素子を配列することが可能となり、各受光
素子の受光面積を大きく確保して、上記各受光素子にお
いて受光される光量を向上させることができる。これに
より、上記各受光素子から出力される画像信号の出力レ
ベルを向上させるとともにノイズ成分の影響を低減さ
せ、上記センサICから出力される信号のS/N比を改
善して、読み取り画像の質を高めることができる。
In the sensor IC according to the present invention, red, green, and blue light receiving elements that output signals corresponding to the amounts of received red light, green light, and blue light, respectively, are arranged in a row in the main scanning direction. The light receiving element rows are arranged in the sub-scanning direction. That is, in the sensor IC having the above configuration, it is possible to arrange light receiving elements having substantially the same width as the pixel that each light receiving element is in charge of, and to secure a large light receiving area for each light receiving element. The amount of light received can be improved. Thereby, the output level of the image signal output from each of the light receiving elements is improved, the influence of the noise component is reduced, the S / N ratio of the signal output from the sensor IC is improved, and the quality of the read image is improved. Can be increased.

【0012】また、上記構成では、上記各受光素子列が
それぞれ各受光素子列の長さに対応した長さを有する帯
状とされた1つのフィルタによって覆われているので、
従来のように、各受光素子毎にこれに対応した大きさの
フィルタに覆う必要はない。すなわち、各受光素子列毎
に所望色用のフィルタによって覆えばよく、1つのセン
サICにつき計3つのフィルタによって覆えばよい。し
たがって、従来のセンサICように、このセンサICが
担当する画素数の3倍の数のフィルタを極めて近接して
配置された受光素子群から所望の受光素子を選択して覆
うといった作業は必要はなく、格段に生産性を向上させ
ることができる。
Further, in the above configuration, each of the light receiving element rows is covered by one band-shaped filter having a length corresponding to the length of each light receiving element row.
Unlike the conventional case, it is not necessary to cover each light receiving element with a filter of a size corresponding to the light receiving element. In other words, it is sufficient to cover each light receiving element row with a filter for a desired color, and a single sensor IC may be covered with a total of three filters. Therefore, it is not necessary to select and cover a desired number of light-receiving elements from a group of light-receiving elements arranged very close to three times the number of pixels handled by the sensor IC as in a conventional sensor IC. And productivity can be remarkably improved.

【0013】さらに、上記構成では、各受光素子列毎に
フィルタによって覆われているので、各受光素子が微細
小片とされたフィルタによって覆われている場合と比べ
れば、外力や熱などに対して強く、上記受光素子を覆っ
ているフィルタが剥がれてしまう危険性が低減されてい
る。
Further, in the above configuration, since each light receiving element row is covered by the filter, compared with the case where each light receiving element is covered by the filter made into fine pieces, it is less affected by external force and heat. Strongly, the risk that the filter covering the light receiving element is peeled off is reduced.

【0014】好ましい実施の形態においては、上記各フ
ィルタは、その副走査方向の幅が上記各受光素子列の副
走査方向の幅よりも大きく設定されており、上記各フィ
ルタが上記各受光素子をオーバーラップするようにして
覆っている。
In a preferred embodiment, each of the filters has a width in the sub-scanning direction set to be larger than a width in the sub-scanning direction of each of the light receiving element rows. It covers so that it overlaps.

【0015】上記チップ状基板は、たとえばシリコンな
どによって形成されているため、受光面以外の部位から
入射された光であっても、その一部が上記受光素子のp
n接合部に達し、ノイズ成分として出力されてしまう場
合があった。上記構成では、上記各受光素子の受光面が
フィルタによって完全に覆われており、しかも、上記受
光面の周りの部位もフィルタによって覆われているた
め、上記チップ状基板の受光面の周りに入射された光
は、フィルタを通過した後に上記受光素子のpn接合部
に達することとなる。すなわち、上記センサICでは、
上記受光面の周りに照射された光であっても、フィルタ
を通過した後に上記受光素子において受光されたのと同
じであり、ノイズ成分としてではなく読み取り画像信号
として出力することができる。
Since the chip-like substrate is formed of, for example, silicon, even if light incident from a portion other than the light-receiving surface, a part of the light enters the p-type of the light-receiving element.
In some cases, the noise reaches the n-junction and is output as a noise component. In the above configuration, since the light receiving surface of each of the light receiving elements is completely covered by the filter, and the area around the light receiving surface is also covered by the filter, the light is incident around the light receiving surface of the chip-shaped substrate. The transmitted light reaches the pn junction of the light receiving element after passing through the filter. That is, in the above sensor IC,
Even the light irradiated around the light receiving surface is the same as that received by the light receiving element after passing through the filter, and can be output as a read image signal instead of a noise component.

【0016】好ましい実施の形態においてはさらに、上
記各フィルタは、それぞれ赤色、緑色、青色に着色され
た感光性樹脂によって形成されており、また、上記各フ
ィルタは、それぞれ赤色、緑色、青色に着色された薄状
フィルムによって形成してもよい。
In a preferred embodiment, each of the filters is made of a photosensitive resin colored red, green, and blue, respectively, and each of the filters is colored red, green, and blue, respectively. It may be formed by a thin film formed.

【0017】上記各フィルタを感光性樹脂によって形成
する場合には、たとえば、いわゆるフォトエッチングと
略同様な工程を経て形成することができる。なお、感光
性樹脂によってフィルタを形成する工程の詳細についは
後述するので、ここでは省略しておく。
When each of the filters is made of a photosensitive resin, it can be formed, for example, through substantially the same steps as so-called photoetching. The details of the step of forming the filter with the photosensitive resin will be described later, and thus are omitted here.

【0018】本願発明の第2の側面によれば、上述した
第1の側面の記載されたいずれかのセンサICが少なく
とも主走査方向に複数形成されたセンサICウエハであ
って、主走査方向に隣接するセンサIC間には、センサ
IC単品を得るため切断されるダイシングラインが設定
されているとともに、上記センサIC毎に上記各フィル
タによって上記各受光素子列が覆われて、上記フィルタ
が上記ダイシングラインの部位においては分断されてい
ることを特徴とする、センサICウエハが提供される。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a sensor IC wafer having at least a plurality of the sensor ICs described in the first aspect described above formed at least in the main scanning direction. A dicing line that is cut to obtain a single sensor IC is set between adjacent sensor ICs, and each light receiving element row is covered by each filter for each sensor IC. A sensor IC wafer is provided which is divided at a line portion.

【0019】好ましい実施の形態においては、上記各フ
ィルタが分断された領域の主走査方向の幅は、上記ダイ
シングラインの主走査方向の幅よりも大きく設定されて
いる。
In a preferred embodiment, the width in the main scanning direction of the area where each of the filters is divided is set to be larger than the width of the dicing line in the main scanning direction.

【0020】上記センサICウエハは、各センサIC間
の隣接部が切断されてセンサIC単品とされるのである
が、この切断操作はダイヤモンド刃やレーザなどを用い
て行われる。このため、上記各フィルタによって各セン
サICの受光素子列を覆うとともに、主走査方向に隣接
するセンサIC間をも連続したフィルタによって覆うよ
うに構成してこれを切断した場合には、センサICの端
部から上記フィルタの端部が臨むこととなる。このた
め、外力などの影響を受けてフィルタの端部が剥がれや
すいものとなってしまい、また、たとえばダイヤモンド
刃などを用いて切断する際に、フィルタの端部が一緒に
剥がされてしまうことが懸念される。
The sensor IC wafer is cut into a single sensor IC by cutting adjacent portions between the sensor ICs. This cutting operation is performed using a diamond blade or a laser. For this reason, when the light receiving element row of each sensor IC is covered by each of the above filters, and the sensor ICs adjacent in the main scanning direction are also covered by a continuous filter and cut off, the sensor ICs of the sensor ICs are cut off. The end of the filter faces the end. For this reason, the end of the filter is likely to peel off under the influence of external force or the like, and the end of the filter may be peeled off together when cutting with, for example, a diamond blade. I am concerned.

【0021】上記構成のセンサICウエハでは、上記各
フィルタが分断された領域の主走査方向の幅は、上記ダ
イシングラインの主走査方向の幅、すなわちブレード幅
よりも大きく設定されているので、上記センサICウエ
ハを切断して得られるセンサIC単品のフィルタの端部
は、上記センサICの端部からやや内方に変移した部位
に位置することとなる。このため、このようにして得ら
れるセンサICでは、フィルタの端部がセンサICの端
部から臨んでいないために、外力などの影響を受けてフ
ィルタの端部が剥がれてしまうといった事態が回避され
ている。また、フィルタ自体が切断されることもないの
で、切断時にフィルタの端部が剥がされてしまうことも
回避されている。
In the sensor IC wafer having the above configuration, the width in the main scanning direction of the area where each of the filters is divided is set to be larger than the width of the dicing line in the main scanning direction, that is, the blade width. The end of the filter of a single sensor IC, which is obtained by cutting the sensor IC wafer, is located at a position slightly shifted inward from the end of the sensor IC. For this reason, in the sensor IC obtained in this way, since the end of the filter does not face the end of the sensor IC, it is possible to avoid a situation in which the end of the filter is peeled off due to an external force or the like. ing. Further, since the filter itself is not cut, the end of the filter is not peeled off at the time of cutting.

【0022】本願発明の第3の側面によれば、回路基板
と、この回路基板に実装されるセンサICと、光源から
発せられた読み取り原稿において反射した光を上記セン
サIC上に集束する光集束部材と、を備えたラインイメ
ージセンサであって、上記センサICとして、上述した
第1の側面に記載のされたいずれかのセンサIC、また
は上述した第2の側面に記載されたいずれかのセンサI
Cウエハから得られるセンサICが用いられているとと
もに、複数のセンサICが上記回路基板の主走査方向に
列状に並べられていることを特徴とする、ラインイメー
ジセンサが提供される。
According to a third aspect of the present invention, a circuit board, a sensor IC mounted on the circuit board, and a light converging device for converging light reflected from a read original emitted from a light source onto the sensor IC. And a member, wherein the sensor IC is any one of the sensor ICs described in the first aspect or the sensor is any one of the sensors described in the second aspect. I
A line image sensor is provided, wherein a sensor IC obtained from a C wafer is used, and a plurality of sensor ICs are arranged in a row in the main scanning direction of the circuit board.

【0023】好ましい実施の形態において、上記光集束
部材は、原稿からの反射光を上記センサIC上に正立等
倍に結像するように構成されている。
In a preferred embodiment, the light converging member is configured to form an image of reflected light from the original on the sensor IC at an equal size of an erect image.

【0024】上記ラインイメージセンサでは、センサI
Cとして上述した第1の側面に記載のされたいずれかの
センサIC、または上述した第2の側面に記載されたい
ずれかのセンサICウエハから得られるセンサICが用
いられているので、上述した第1の側面および第2の側
面に記載されたいずれかの効果を享受することができ
る。すなわち、第1の側面に記載されたセンサICは、
従来のセンサICに比べて歩留りよく、安価に製造可能
であるとともに、読み取り画像の質を向上させることが
できるので、これを用いたラインイメージセンサでは、
製造コストを低減させることができるとともに、良質な
読み取り画像を得ることができる。また、第2の側面に
記載されたセンサIC用いたラインイメージセンサで
は、受光素子列を覆っているフィルタの端部剥離が起こ
りにくいといった効果を享受することができる。
In the above line image sensor, the sensor I
Since any one of the sensor ICs described in the first aspect described above or any one of the sensor IC wafers described in the second aspect described above is used as C, Any of the effects described in the first aspect and the second aspect can be enjoyed. That is, the sensor IC described in the first aspect is
Compared to conventional sensor ICs, it can be manufactured at a higher yield, at lower cost, and can improve the quality of a read image. Therefore, in a line image sensor using this,
The manufacturing cost can be reduced, and a high quality read image can be obtained. Further, in the line image sensor using the sensor IC described in the second aspect, it is possible to enjoy the effect that the end portion of the filter covering the light receiving element row is hardly peeled off.

【0025】本願発明のその他の特徴および利点は、添
付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より
明らかとなろう。
[0025] Other features and advantages of the present invention will become more apparent from the detailed description given below with reference to the accompanying drawings.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】以下、本願発明の好ましい実施の
形態を、図面を参照して具体的に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be specifically described below with reference to the drawings.

【0027】図1は、本願発明に係るセンサICの平面
図であり、この図に良く表れているように、上記センサ
IC5は、長矩形状のチップ状基板50と、このチップ
状基板50の表面に一体的に造り込まれた複数の受光素
子1と、これらのそれぞれの受光素子1を赤色光用、緑
色光用、青色光用の受光素子1R,1G,1Bとする3
種類のフィルタ7R,7G,7とを備えて構成されてい
る。
FIG. 1 is a plan view of a sensor IC according to the present invention. As is clearly shown in FIG. 1, the sensor IC 5 includes a long rectangular chip-shaped substrate 50 and a surface of the chip-shaped substrate 50. And a plurality of light receiving elements 1 integrally formed with the light receiving elements 1 and light receiving elements 1R, 1G, and 1B for red light, green light, and blue light.
The filters 7R, 7G, and 7 are provided.

【0028】上記チップ状基板50には、図示しない
が、上記センサIC5が実装される回路基板に形成され
た配線パターンなどとワイヤなどを用いて電気的導通を
図るためのワイヤボンディングパッド、たとえばシリア
ルイン信号が入力されるパッド、クロック信号が入力さ
れるパッド、あるいはアナログの画像信号が出力される
パッドなどが複数形成されている。また、上記センサI
C5を上記回路基板に実装する場合には、上記センサI
C5が所定位置に載置されているか否かが、たとえば光
センサなどを用いて検出されるが、上記チップ状基板5
0には、光センサによって上記センサIC5の位置を検
出するために利用される認識マーク(図示略)が形成さ
れている。
Although not shown, the chip-shaped substrate 50 has a wire bonding pad, such as a serial cable, for establishing electrical continuity using wires and the like with a wiring pattern formed on a circuit board on which the sensor IC 5 is mounted. A plurality of pads to which an IN signal is input, a pad to which a clock signal is input, and a pad to which an analog image signal is output are formed. The sensor I
When C5 is mounted on the circuit board, the sensor I
Whether or not C5 is placed at a predetermined position is detected using, for example, an optical sensor or the like.
At 0, a recognition mark (not shown) used for detecting the position of the sensor IC 5 by the optical sensor is formed.

【0029】上記受光素子1は、光電変換機能を発揮す
る、たとえばホトトランジスタなどによって構成されて
おり、その受光量に応じた電圧レベルのアナログの画像
信号を出力するものである。また、上記各受光素子1
は、上記チップ状基板50の主走査方向に列状に並ぶよ
うにして一体的に造り込まれているとともに、この受光
素子列が副走査方向に3列並んだ配列とされている。
The light receiving element 1 is constituted by, for example, a phototransistor which exhibits a photoelectric conversion function, and outputs an analog image signal having a voltage level corresponding to the amount of received light. In addition, each of the light receiving elements 1
Are integrally formed so as to be arranged in a row in the main scanning direction of the chip-shaped substrate 50, and the light receiving element rows are arranged in three rows in the sub-scanning direction.

【0030】上記3種類のフィルタ7R,7G,7B
は、それぞれ所定波長の赤色光、緑色光、青色光のみを
通過させる、たとえばそれぞれ赤色、緑色、青色に着色
された感光性樹脂などによって形成されている。また、
上記各フィルタ7R,7G,7Bは、上記各受光素子列
10R,10G,10Bの主走査方向の長さに略対応し
た長さを有する帯状に形成されているとともに、上記各
フィルタ7R,7G,7Bの副走査方向の幅が上記各受
光素子1の副走査方向の幅よりも大きく設定されてい
る。これらの帯状フィルタ7R,7G,7Bによって上
記各受光素子列10R,10G,10Bが覆われて、そ
れぞれ赤色用、緑色用、青色用の受光素子NR,NG,
NBとされる。
The above three types of filters 7R, 7G, 7B
Are made of, for example, a photosensitive resin colored red, green, and blue, respectively, which allows only red light, green light, and blue light of predetermined wavelengths to pass therethrough. Also,
Each of the filters 7R, 7G, and 7B is formed in a band shape having a length substantially corresponding to the length of each of the light receiving element rows 10R, 10G, and 10B in the main scanning direction. 7B is set to be larger than the width of each of the light receiving elements 1 in the sub-scanning direction. Each of the light receiving element rows 10R, 10G, 10B is covered with these band-shaped filters 7R, 7G, 7B, and the light receiving elements NR, NG, NG for red, green, and blue, respectively.
NB.

【0031】上記構成のセンサIC5は、既述の通り、
それぞれ赤色光、緑色光、青色光の受光量に応じた信号
を出力する赤色用、緑色用、青色用の受光素子1R,1
G,1Bが主走査方向に列状に配置されており、これら
の受光素子列NR,NG,NBが副走査方向に3列配列
された構成とされている。すなわち、上記構成のセンサ
IC5では、各受光素子1が担当する画素と略同一の幅
を有する受光素子1を配列することが可能となり、各受
光素子1の受光面積を大きく確保して、上記各受光素子
1において受光される光量を向上させることができる。
これにより、上記各受光素子1から出力される画像信号
の出力レベルを向上させるとともにノイズ成分の影響を
低減させ、上記センサIC5から出力される信号のS/
N比を改善して、読み取り画像の質を高めることができ
る。
As described above, the sensor IC 5 having the above configuration is
Red, green, and blue light receiving elements 1R, 1 that output signals corresponding to the amounts of received red light, green light, and blue light, respectively.
G and 1B are arranged in a row in the main scanning direction, and the light receiving element rows NR, NG, and NB are arranged in three rows in the sub-scanning direction. That is, in the sensor IC 5 having the above-described configuration, it is possible to arrange the light receiving elements 1 having substantially the same width as the pixels assigned to the respective light receiving elements 1, and to secure a large light receiving area of each light receiving element 1. The amount of light received by the light receiving element 1 can be improved.
As a result, the output level of the image signal output from each of the light receiving elements 1 is improved, the influence of noise components is reduced, and the S / S of the signal output from the sensor IC 5 is reduced.
By improving the N ratio, the quality of the read image can be improved.

【0032】また、上記構成では、上記各受光素子列N
R,NG,NBが、それぞれ各受光素子列NR,NG,
NBの長さに対応した長さを有する帯状とされた1つの
フィルタ7R,7G,7Bによって覆われているので、
従来のように、各受光素子1毎にこれに対応した大きさ
のフィルタで覆う必要はない。すなわち、各受光素子列
NR,NG,NB毎に所望色用の帯状フィルタ7R,7
G,7Bによって覆えばよく、1つのセンサIC5につ
き計3つのフィルタ7R,7G,7Bによって覆えばよ
い。したがって、従来のセンサICように、このセンサ
ICが担当する画素数の3倍の数のフィルタを極めて近
接して配置された受光素子1群から所望の受光素子1を
選択して覆うといった作業は必要はなく、格段に生産性
を向上させることができる。
In the above configuration, each of the light receiving element rows N
R, NG, and NB are light receiving element rows NR, NG,
Since it is covered by one band-shaped filter 7R, 7G, 7B having a length corresponding to the length of NB,
It is not necessary to cover each light receiving element 1 with a filter of a size corresponding to this, as in the related art. That is, the band filters 7R, 7R for the desired color are provided for each light receiving element row NR, NG, NB.
G and 7B, and three sensors 7R, 7G and 7B in total for one sensor IC 5. Therefore, like a conventional sensor IC, the work of selecting and covering a desired light receiving element 1 from a group of light receiving elements 1 arranged very close to three times the number of pixels handled by this sensor IC is not required. There is no need, and productivity can be significantly improved.

【0033】さらに、上記構成では、各受光素子列N
R,NG,NB毎にフィルタ7R,7G,7Bによって
覆われているので、各受光素子1が微細小片とされたフ
ィルタによって覆われている場合と比べれば、外力や熱
などに対して強く、上記受光素子1を覆っているフィル
タ7R,7G,7Bが剥がれてしまう危険性が低減され
ている。
Further, in the above configuration, each light receiving element row N
Since each of R, NG, and NB is covered by the filters 7R, 7G, and 7B, compared to the case where each light receiving element 1 is covered by a filter made of fine pieces, the light receiving element 1 is more resistant to external force, heat, and the like. The risk that the filters 7R, 7G, 7B covering the light receiving element 1 are peeled off is reduced.

【0034】また、従来では、上記チップ状基板50
が、たとえばシリコンなどによって形成されているた
め、上記受光面以外の部位から入射された光であって
も、その一部が上記受光素子のpn接合部に達し、ノイ
ズ成分として出力されてしまう場合があった。上記セン
サIC5では、上記各受光素子1の受光面が上記各フィ
ルタ7R,7G,7Bによって完全に覆われており、し
かも、上記受光面の周りの部位も上記各フィルタ7R,
7G,7Bによって覆われているため、上記受光面の周
りに入射された光は、フィルタ7R,7G,7Bを通過
した後に上記受光素子のpn接合部に達することとな
る。すなわち、上記センサIC5では、上記受光面の周
りに照射された光であっても、フィルタ7R,7G,7
Bを通過した後に上記受光素子1において受光されたの
と同じであり、ノイズ成分としてではなく読み取り画像
信号として出力することができる。
Conventionally, the chip-shaped substrate 50
Is formed of, for example, silicon or the like, so that even if the light is incident from a portion other than the light receiving surface, part of the light reaches the pn junction of the light receiving element and is output as a noise component. was there. In the sensor IC 5, the light receiving surface of each light receiving element 1 is completely covered by each of the filters 7R, 7G, and 7B, and the area around the light receiving surface is also covered by each of the filters 7R, 7R.
Since it is covered by 7G and 7B, the light incident around the light receiving surface reaches the pn junction of the light receiving element after passing through the filters 7R, 7G and 7B. That is, in the sensor IC5, even if the light is irradiated around the light receiving surface, the filters 7R, 7G, 7
This is the same as that received by the light receiving element 1 after passing through B, and can be output not as a noise component but as a read image signal.

【0035】なお、上記実施形態においては、上記各フ
ィルタ7R,7G,7Bが感光性樹脂によって形成され
ていたが、これに限らず、それぞれ所定色に着色された
薄状フィルムによって形成されたものであってもよい。
In the above embodiment, each of the filters 7R, 7G, 7B is formed of a photosensitive resin. However, the present invention is not limited to this. Each of the filters 7R, 7G, 7B may be formed of a thin film colored in a predetermined color. It may be.

【0036】図2は、本願発明に係るセンサICウエハ
の要部平面図であり、図3は、図2の一点鎖線Cで囲ん
だ領域の拡大図である。
FIG. 2 is a plan view of a principal part of the sensor IC wafer according to the present invention, and FIG. 3 is an enlarged view of a region surrounded by a chain line C in FIG.

【0037】上記センサICウエハ20は、たとえばシ
リコンなどによって切欠円板状とされており、縦横に複
数のセンサIC5が造り込まれている。すなわち、図1
および図2に良く表れているように、個別のセンサIC
5となるべき各領域には、受光素子1が列状に計3列一
体的に造り込まれており、これらの各受光素子1は、た
とえば所定色に着色された感光性樹脂あるいは薄状フイ
ルムによって覆われて、各色用の受光素子1R,1G,
1Bとされている。上記センサICウエハ20は、各セ
ンサIC5間の隣接部(図1に2点鎖線で示した部分、
図2に網かけで示した部分)に設定されるダイシングラ
イン21において切断されて、図1に示すような個別の
センサIC5とされる。
The sensor IC wafer 20 is formed in a notched disk shape by, for example, silicon or the like, and a plurality of sensor ICs 5 are formed vertically and horizontally. That is, FIG.
And as best seen in FIG. 2, individual sensor ICs
The light receiving elements 1 are integrally formed in three rows in each of the regions to be 5, and each of the light receiving elements 1 is, for example, a photosensitive resin or a thin film colored in a predetermined color. Light receiving elements 1R, 1G,
1B. The sensor IC wafer 20 has an adjacent portion between the sensor ICs 5 (a portion indicated by a two-dot chain line in FIG. 1,
The individual sensor ICs 5 are cut off at dicing lines 21 set in the shaded portions in FIG. 2) as shown in FIG.

【0038】この切断操作は、たとえばダイヤモンド刃
やレーザなどを用いて行われる。このため、各センサI
C5の受光素子列NR,NG,NBを覆うとともに、主
走査方向に隣接するセンサIC5,5間をも連続するフ
ィルタ7R,7G,7Bによって覆うように構成してこ
れを切断した場合には、センサIC5の端部から上記フ
ィルタNR,NG,NBの端部が臨むこととなる。この
ため、外力などの影響を受けてフィルタNR,NG,N
Bの端部が剥がれやすいものとなってしまい、また、た
とえばダイヤモンド刃などを用いて切断する際に、フィ
ルタNR,NG,NBの端部が一緒に剥がされてしまう
ことが懸念される。
This cutting operation is performed using, for example, a diamond blade or a laser. Therefore, each sensor I
When the light receiving element rows NR, NG, and NB of C5 are covered and the sensor ICs 5 and 5 adjacent in the main scanning direction are covered by the continuous filters 7R, 7G, and 7B and cut off, The ends of the filters NR, NG, and NB face the ends of the sensor IC5. Therefore, the filters NR, NG, N
There is a concern that the ends of B will be easily peeled off, and that the ends of the filters NR, NG, NB will be peeled off together when cutting with, for example, a diamond blade.

【0039】図2に良く表れているように、上記センサ
ICウエハ20では、主走査方向に隣合う各センサIC
5の各フィルタ7R,7G,7Bは、それぞれ同一直線
状に形成されているが、上記ダイシングライン21が設
定される部位においては、各フィルタ7R,7G,7B
は分断されている。しかも、上記各フィルタ7R,7
G,7Bが分断された領域の主走査方向の幅は、上記ダ
イシングライン21の幅よりも大きく設定されている。
As is clearly shown in FIG. 2, the sensor IC wafer 20 has the sensor ICs adjacent to each other in the main scanning direction.
The filters 7R, 7G, and 7B are formed in the same straight line, respectively. However, in the portion where the dicing line 21 is set, the filters 7R, 7G, and 7B are formed.
Is divided. In addition, each of the filters 7R, 7R
The width of the area where G and 7B are separated in the main scanning direction is set to be larger than the width of the dicing line 21.

【0040】すなわち、上記構成のセンサICウエハ2
0では、上記各フィルタ7R,7G,7Bが分断された
領域の主走査方向の幅は、上記ダイシングライン21の
主走査方向の幅、すなわちブレード幅よりも大きく設定
されているので、上記センサICウエハ20を切断して
得られるセンサIC5単品のフィルタ7R,7G,7B
の端部は、図3に良く表れているように、上記センサI
C5の端部からやや内方に変移した部位に位置すること
となる。このため、このようにして得られるセンサIC
5では、フィルタ7R,7G,7Bの端部がセンサIC
5の端部から臨んでいないために、外力などの影響を受
けてフィルタ7R,7G,7Bの端部が剥がれてしまう
といった事態が回避されている。また、フィルタ7R,
7G,7B自体が切断されることもないので、切断時に
フィルタ7R,7G,7Bの端部が剥がされてしまうこ
とも回避されている。
That is, the sensor IC wafer 2 having the above configuration
0, the width in the main scanning direction of the area where each of the filters 7R, 7G, and 7B is divided is set to be larger than the width of the dicing line 21 in the main scanning direction, that is, the blade width. Filters 7R, 7G, 7B of sensor IC5 obtained by cutting wafer 20
The end of the sensor I, as best seen in FIG.
It will be located at a site that has shifted slightly inward from the end of C5. For this reason, the sensor IC thus obtained
5, the ends of the filters 7R, 7G, 7B are sensor ICs.
Since the end portions of the filters 5R, 7G, and 7B are not affected by external force and the like, the end portions of the filters 7R, 7G, and 7B are prevented from coming off. Also, the filter 7R,
Since the 7G and 7B are not cut, the ends of the filters 7R, 7G and 7B are not peeled off at the time of cutting.

【0041】なお、上記各フィルタ7R,7G,7B
は、感光性樹脂あるいは薄状フイルムなどによって形成
されているのは既述の通りであるが、以下、感光性樹脂
によって上記各フィルタ7R,7G,7Bを形成する場
合について、図4ないし図7を参照して簡単に説明す
る。
The above filters 7R, 7G, 7B
Is formed of a photosensitive resin or a thin film as described above. Hereinafter, the case where the filters 7R, 7G, and 7B are formed of the photosensitive resin will be described with reference to FIGS. This will be briefly described with reference to FIG.

【0042】図4は、上記センサICウエハの各センサ
ICに一体に造り込まれた受光素子を赤色フィルタで覆
う工程を説明するたの図であり、図5は、図3(b)の
状態を図1の一点鎖線Cで囲んだ領域に相当する領域に
ついて表した平面図である。図6は、上記センサICウ
エハの各センサICに一体に造り込まれた受光素子を緑
色のフィルタで覆う工程を説明するたの図であり、図7
は、上記センサICウエハの各センサICに一体に造り
込まれた受光素子を青色のフィルタで覆う工程を説明す
るたの図である。なお、本実施形態においては、赤色、
緑色、青色の順序で上記各フィルタ7R,7G,7Bが
形成される場合について説明する。
FIG. 4 is a view for explaining a step of covering a light receiving element integrally formed with each sensor IC of the sensor IC wafer with a red filter, and FIG. 5 is a view showing a state of FIG. 3 (b). FIG. 2 is a plan view showing a region corresponding to a region surrounded by a dashed line C in FIG. 1. FIG. 6 is a view for explaining a step of covering a light receiving element integrally formed with each sensor IC of the sensor IC wafer with a green filter.
FIG. 4 is a view for explaining a step of covering a light receiving element integrally formed with each sensor IC of the sensor IC wafer with a blue filter. In the present embodiment, red,
The case where the filters 7R, 7G, and 7B are formed in the order of green and blue will be described.

【0043】まず、たとえばシリコンなどによって切欠
円板状に形成されているとともに、所定の部位に受光素
子や配線パターンなどが形成されて縦横に複数のセンサ
IC5が造り込まれたセンサICウエハ20を洗浄した
後に、図4(a)に示すように、このセンサICウエハ
20の一面に赤色に着色された感光性樹脂を均一に塗布
して赤色塗布膜70Rを形成する。この工程は、たとえ
ばポリ桂皮酸ビニルを有機溶媒などで所定の粘度に希釈
するとともに、赤色成分となる物質を混合した赤色塗布
溶液を用いた、いわゆるスピニング法などによって行わ
れる。
First, a sensor IC wafer 20 which is formed in a notched disk shape by, for example, silicon and has a plurality of sensor ICs 5 vertically and horizontally formed with a light receiving element, a wiring pattern and the like formed at a predetermined portion. After the cleaning, as shown in FIG. 4A, a red colored photosensitive resin is uniformly applied to one surface of the sensor IC wafer 20 to form a red coating film 70R. This step is performed by, for example, a so-called spinning method using a red coating solution obtained by diluting polyvinyl cinnamate to a predetermined viscosity with an organic solvent or the like, and mixing a substance to be a red component.

【0044】続いて、上記ようにして赤色塗布膜70R
が形成されたセンサICウエハ20を、いわゆるプリベ
ークする。すなわち、上記センサICウエハ20を12
0℃程度で乾燥して残存する溶媒成分を蒸発させ、上記
赤色塗布膜70Rの硬度を高める。
Subsequently, as described above, the red coating film 70R
Is prebaked on the sensor IC wafer 20 on which is formed. That is, the sensor IC wafer 20 is
After drying at about 0 ° C., the remaining solvent component is evaporated to increase the hardness of the red coating film 70R.

【0045】次に、図4(b)に示すように、上記赤色
塗布膜70R上に、所定の部位が紫外線を透過する窓部
74Rとされたマスク71Rを密着させ、このマスク7
1R上から波長が365nm程度の紫外線を照射するこ
とによって上記窓部74Rに対応する部位の赤色塗布膜
70Rを重合硬化させる(露光)。図4(b)および図
5に示すように、上記マスク71Rは、たとえばガラス
板72上に金属などによって遮光膜73を形成させたも
のであり、上記マスク71Rを上記赤色塗布膜70R上
密着させた状態においては、赤色受光素子列NRとなる
べき部位が上記窓部74Rから臨むようにパターンが形
成されている。そして、図5に良く表れているように、
上記マスク71Rでは、上記センサICウエハ20に形
成された主走査方向に隣合うセンサIC5,5間に対応
する部位は、遮光膜73を形成されており、上記センサ
ICウエハ20上に上記赤色フィルタ7Rが形成された
場合には、主走査方向に隣合う各センサIC5間は赤色
フィルタ7Rが分断された状態とされるようになされて
いる。
Next, as shown in FIG. 4B, a mask 71R having a predetermined portion as a window 74R through which ultraviolet light is transmitted is brought into close contact with the red coating film 70R.
By irradiating ultraviolet rays having a wavelength of about 365 nm from above 1R, the red coating film 70R at the portion corresponding to the window 74R is polymerized and cured (exposure). As shown in FIGS. 4B and 5, the mask 71R is formed by forming a light-shielding film 73 on a glass plate 72 with a metal or the like, and the mask 71R is brought into close contact with the red coating film 70R. In this state, the pattern is formed such that the portion to be the red light receiving element row NR faces the window 74R. And as best seen in FIG.
In the mask 71R, a light-shielding film 73 is formed in a portion corresponding to the area between the sensor ICs 5 and 5 adjacent to each other in the main scanning direction formed on the sensor IC wafer 20, and the red filter is formed on the sensor IC wafer 20. When the 7R is formed, the red filter 7R is separated from each other between the sensor ICs 5 adjacent in the main scanning direction.

【0046】続いて、上記マスク71Rを取り除いた後
に、上記赤色塗布膜70Rのうち紫外線が照射されなか
った部位を所定の処理液を用いて溶解させる(現像)。
さらに、溶解された不要部分をリンス処理して取り除い
た後、処理液中に含まれる有機溶媒を蒸発させて硬度を
高めるべく、いわゆるポストベークを行うことにより、
図4(c)に示すように赤色用受光素子列NRとなるべ
き部位に赤色フィルタ7Rが形成される。もちろん、隣
合うセンサIC5間の部位においては、上記赤色フィル
タ7Rは分断されている。
Subsequently, after the mask 71R is removed, a portion of the red coating film 70R that has not been irradiated with ultraviolet rays is dissolved using a predetermined processing solution (development).
Furthermore, after removing the dissolved unnecessary portion by rinsing, by performing a so-called post-bake to evaporate the organic solvent contained in the processing solution and increase the hardness,
As shown in FIG. 4C, a red filter 7R is formed at a portion to be the light receiving element row NR for red. Needless to say, the red filter 7R is divided at a portion between the adjacent sensor ICs 5.

【0047】以下、略同様な工程を経て緑色フィルタ7
Gおよび青色フィルタ7Bが形成される。すなわち、ま
ず、図6(a)に示すように、上記センサICウエハ2
0を洗浄した後に、スピニング法によって上記センサI
Cウエハ20上に緑色塗布膜70Gを形成する。もちろ
ん、上記赤色フィルタ7R上にも上記緑色塗布膜70G
が形成される。次いで、図6(b)に示すように、上記
センサICウエハ20をプレベークした後に、上記緑色
受光素子列NGとなるべき部位に窓部74Gが形成され
たマスク71Gを用いて露光処理する。さらに、現像処
理、リンス処理、ポストベークを行うことにより、図6
(c)に示すような緑色フィルタ7Gが形成される。図
7(a)に示すように、引き続いて洗浄した後に、スピ
ニング法によって上記センサICウエハ20上に青色塗
布膜70Bを形成し、図7(b)に示すように、マスク
71Bを用いて露光処理し、さらに、現像処理、リンス
処理、ポストベークを行うことにより、図7(c)に示
すような青色フィルタ7Gが形成される。
Hereinafter, the green filter 7 goes through substantially the same steps.
The G and blue filters 7B are formed. That is, first, as shown in FIG.
After the cleaning of the sensor I by the spinning method,
A green coating film 70G is formed on the C wafer 20. Of course, the green coating film 70G is also formed on the red filter 7R.
Is formed. Next, as shown in FIG. 6B, after the sensor IC wafer 20 is pre-baked, an exposure process is performed using a mask 71G having a window 74G formed in a portion to become the green light receiving element row NG. Further, by performing a developing process, a rinsing process, and a post-bake, FIG.
A green filter 7G is formed as shown in FIG. As shown in FIG. 7A, after successive cleaning, a blue coating film 70B is formed on the sensor IC wafer 20 by a spinning method, and exposure is performed using a mask 71B as shown in FIG. 7B. By performing the processing, and further performing the developing processing, the rinsing processing, and the post-baking, a blue filter 7G as shown in FIG. 7C is formed.

【0048】このようにして、上記センサICウエハ2
0には、赤色フィルタ7R、緑色フィルタ7R、青色フ
ィルタ7Rがそれぞれ形成され、各センサIC5の各受
光素子列10R,10G,10Bが、それぞれ赤色光用
受光素子列NR,緑色光用受光素子列NG,青色光用受
光素子列NBとされる。また、上記露光処理において
は、上記センサICウエハ20に形成された主走査方向
に隣合うセンサIC5,5間に対応する部位に遮光膜7
3が形成されたマスク71R,71G,71Bが用いら
れているので、図2に良く表れているように、主走査方
向に隣合う各センサIC5間においては、上記各フィル
タ7R,7G,7B間が分断された状態とさている。
As described above, the sensor IC wafer 2
At 0, a red filter 7R, a green filter 7R, and a blue filter 7R are respectively formed, and the respective light receiving element rows 10R, 10G, and 10B of the sensor ICs 5 are provided with a red light receiving element row NR and a green light receiving element row, respectively. NG, blue light receiving element array NB. In the above-described exposure process, the light shielding film 7 is formed on a portion corresponding to the area between the sensor ICs 5 and 5 adjacent to each other in the main scanning direction formed on the sensor IC wafer 20.
Since the masks 71R, 71G, and 71B on which the first and second filters 3R, 7G, and 7B are formed are used between the sensor ICs 5 adjacent in the main scanning direction, as shown in FIG. Is in a state of being divided.

【0049】次に、図8および図9を参照して上記セン
サIC5を備えたラインイメージセンサ1について説明
する。
Next, the line image sensor 1 having the sensor IC 5 will be described with reference to FIGS.

【0050】図8は、上記した構成のセンサICを備え
たラインイメージセンサの断面図であり、図9は、上記
センサICが長手方向に複数個実装された回路基板の平
面図である。なお、上記ラインイメージセンサAは、原
稿画像をカラーに読み取り可能な、いわゆる密着型のラ
インイメージセンサAとして構成されている。
FIG. 8 is a cross-sectional view of a line image sensor provided with the sensor IC having the above configuration, and FIG. 9 is a plan view of a circuit board on which a plurality of the sensor ICs are mounted in the longitudinal direction. The line image sensor A is configured as a so-called contact type line image sensor A that can read a document image in color.

【0051】図8に示すように、上記ラインイメージセ
ンサAは、ケース2、ガラス板3、回路基板4、冷陰極
管7、光反射ホルダ75、およびレンズアレイ9を備え
て構成されており、上記回路基板4には、制御チップ6
および複数のセンサIC5が実装されている。
As shown in FIG. 8, the line image sensor A includes a case 2, a glass plate 3, a circuit board 4, a cold cathode tube 7, a light reflection holder 75, and a lens array 9. The circuit board 4 includes a control chip 6
And a plurality of sensor ICs 5 are mounted.

【0052】上記ケース2は、たとえば合成樹脂製であ
り、一定方向に延びた比較的細長な箱状に形成されてい
る。上記ガラス板3は、その表面(上面)に読み取り対
象となる原稿(図示略)を対向配置するためのものであ
り、上記ケース2の上部開口を塞ぐようにして嵌め込ま
れている。上記ガラス板3の表面と対向する位置には、
図示しない駆動回転自在なプラテンローラが配置され、
原稿はこのプラテンローラと上記ガラス板3の表面との
間に挟まれて上記プラテンローラの回転駆動によって副
走査方向(図8の左右方向)に移送される。
The case 2 is made of a synthetic resin, for example, and is formed in a relatively elongated box shape extending in a certain direction. The glass plate 3 is for placing a document (not shown) to be read facing the front surface (upper surface) of the glass plate 3 and is fitted so as to close the upper opening of the case 2. At a position facing the surface of the glass plate 3,
A platen roller that can be driven and rotated (not shown) is arranged,
The document is sandwiched between the platen roller and the surface of the glass plate 3 and is transported in the sub-scanning direction (the left-right direction in FIG. 8) by the rotation of the platen roller.

【0053】上記冷陰極管7は、白色光源としての役割
を果たすものであり、上記ケース2内においてこの密着
型ラインイメージセンサAの主走査方向に延びた形状に
設けられている。なお、上記冷陰極管7を駆動するため
のインバータ回路などの電気回路(図示略)は、上記ケ
ース2の適所に設けられている。また、上記光源として
は、冷陰極管7には限定されず、それぞれ赤色光、緑色
光、青色光を発する3種類のLED、または白色LED
を採用してもよい。もちろん、光源としてこれらのLE
Dを採用した場合には、上記ラインイメージセンサAの
構成は、適宜設計変更しなければならない。
The cold cathode tube 7 serves as a white light source, and is provided in the case 2 so as to extend in the main scanning direction of the contact type line image sensor A. An electric circuit (not shown) such as an inverter circuit for driving the cold-cathode tube 7 is provided at an appropriate place in the case 2. Further, the light source is not limited to the cold-cathode tube 7, but three types of LEDs emitting red light, green light, and blue light, respectively, or a white LED.
May be adopted. Of course, these LEs as light sources
When D is adopted, the configuration of the line image sensor A must be appropriately changed in design.

【0054】上記光反射ホルダ75は、上記冷陰極管7
を支持するとともに、上記冷陰極管7から発せられた白
色光を上記ガラス板3の表面上の所定の画像読み取り領
域Dに効率良く導くように白色光の一部を高い反射率で
上記読み取り領域Dの方向にへ反射させる機能を兼備し
たものである。上記冷陰極管7から発せられた光は、ガ
ラス板3の表面に対向配置された原稿表面に対し、主走
査方向に延びる帯状または線状に照射される。
The light reflecting holder 75 is provided with the cold cathode fluorescent lamp 7.
And a portion of the white light with a high reflectivity so that white light emitted from the cold-cathode tube 7 is efficiently guided to a predetermined image reading area D on the surface of the glass plate 3. It also has a function of reflecting light in the direction of D. The light emitted from the cold-cathode tube 7 is applied to the surface of the document opposed to the surface of the glass plate 3 in the form of a band or a line extending in the main scanning direction.

【0055】上記レンズアレイ9は、複数のセルフォッ
クレンズ90を主走査方向に延びるブロック状のレンズ
ホルダ91内に保持させたものであり、それらの複数の
セルフォックレンズ90は主走査方向に列状に配置され
ている。このレンズアレイ9は、ガラス板3の光が照射
される領域とセンサIC5との間に設けられており、ガ
ラス板3上に配置される原稿から反射してくる反射光を
センサIC5の複数の受光素子1R,1G,1Bに集束
させる役割を果たす。この場合、上記受光素子1R,1
G,1Bには、原稿画像が正立等倍に結像する。
The lens array 9 has a plurality of selfoc lenses 90 held in a block-shaped lens holder 91 extending in the main scanning direction. The plurality of selfoc lenses 90 are arranged in a row in the main scanning direction. It is arranged in a shape. The lens array 9 is provided between a region of the glass plate 3 to which light is irradiated and the sensor IC 5, and reflects light reflected from an original placed on the glass plate 3 to a plurality of sensor ICs 5. It plays the role of focusing on the light receiving elements 1R, 1G, 1B. In this case, the light receiving elements 1R, 1
On G and 1B, the original image is formed at the same magnification as the original.

【0056】上記回路基板4は、上記ケース2の下面開
口部を閉塞するようにして上記ケース2の下面部に取り
付けられている。図9に良く表れているように、この回
路基板4には、回路基板4の外部との電気配線接続を行
なうためのコネクタ端子部40が設けられており、また
この回路基板4の表面には、制御チップ6や複数のセン
サIC5どうしを導通させたり、あるいは制御チップ6
や複数のセンサIC5を上記コネクタ端子部40に導通
させるための配線パターン(図示略)が形成されてい
る。
The circuit board 4 is attached to the lower surface of the case 2 so as to close the opening of the lower surface of the case 2. As shown in FIG. 9, the circuit board 4 is provided with a connector terminal portion 40 for making electrical wiring connection with the outside of the circuit board 4. The control chip 6 and the plurality of sensor ICs 5 are connected to each other, or the control chip 6
And a wiring pattern (not shown) for conducting a plurality of sensor ICs 5 to the connector terminal portion 40.

【0057】図1を参照して説明したように、上記セン
サIC5は、チップ状基板50の上面に複数の受光素子
1が一体的に造り込まれており、主走査方向に延びる受
光素子列10R,10G,10Bが副走査方向に3列に
配列されている。上記各受光素子列10R,10G,1
0Bは、その表面が赤色フィルタ7R、緑色フィルタ7
G、青色フィルタ7Bによって覆われて赤色用、緑色
用、青色用の受光素子列NR,NG,NBとされてい
る。上記各受光素子列NR,NG,NBは、たとえば9
6個の受光素子1が実装された構成とされており、原稿
画像を8ドット/mmの読み取り密度で読み取る場合に
は、上記各受光素子列NR,NG,NBの長手方向にお
ける各受光素子1間のピッチは125μmとされる。ま
た、上記ラインイメージセンサAがA4幅の原稿を8ド
ット/mmの読み取り密度で読み取り可能に構成される
場合には、上記各受光素子列NR,NG,NBの受光素
子1の個数が96個とされたセンサIC5が上記回路基
板4上に計18個列状に並べられることとなる。なお、
既述したように、上記センサIC5のチップ状基板50
には、複数のワイヤボンディングパッド(図示略)が形
成されており、これらのパッドと上記回路基板4に形成
された配線パターンの所定部位とは、ワイヤを介して電
気的導通が図られている。
As described with reference to FIG. 1, the sensor IC 5 has a plurality of light receiving elements 1 integrally formed on the upper surface of the chip-shaped substrate 50, and a light receiving element row 10R extending in the main scanning direction. , 10G, and 10B are arranged in three rows in the sub-scanning direction. Each of the light receiving element rows 10R, 10G, 1
0B indicates that the surface has a red filter 7R and a green filter 7R.
G, covered by a blue filter 7B, are light receiving element arrays NR, NG, NB for red, green, and blue. Each of the light receiving element rows NR, NG, NB is, for example, 9
When the original image is read at a reading density of 8 dots / mm, the light receiving elements 1 in the longitudinal direction of the light receiving element rows NR, NG, NB are read. The pitch between them is 125 μm. When the line image sensor A is configured to be able to read an A4 width document at a reading density of 8 dots / mm, the number of the light receiving elements 1 in each of the light receiving element rows NR, NG, NB is 96. The sensor ICs 5 are arranged on the circuit board 4 in a total of 18 rows. In addition,
As described above, the chip-shaped substrate 50 of the sensor IC 5
Are formed with a plurality of wire bonding pads (not shown), and these pads are electrically connected to predetermined portions of the wiring pattern formed on the circuit board 4 via wires. .

【0058】次に、上記構成のラインイメージセンサA
の使用例ならびに作用について図10を参照しつつ説明
する。なお、図10(a)〜(d)は、上記ラインイメ
ージセンサを用いた原稿画像の読み取り動作状態を示す
説明図であり、(e)〜(h)は、それらの読み取り動
作によって得られる画像信号の状態を示す説明図であ
る。
Next, the line image sensor A having the above configuration
The use example and the operation of will be described with reference to FIG. FIGS. 10A to 10D are explanatory diagrams showing the operation of reading an original image using the line image sensor, and FIGS. 10E to 10H show images obtained by the reading operation. FIG. 4 is an explanatory diagram showing states of signals.

【0059】まず、図10(a)に示すように、上記ラ
インイメージセンサAのガラス板3の表面上に原稿Kを
配置し、この原稿Kの表面に冷陰極管7から白色光を照
射する。この白色光は、原稿Kの表面によって反射され
てからレンズアレイ9の各セルフォックレンズ90によ
って正立等倍に集束され、3列の受光素子列NR,N
G,NBのそれぞれの受光素子1R,1G,1Bによっ
て受光される。この第1回目の読み取り動作によれば、
同図(e)に示すように、上記原稿Kの第1ラインL1
については受光素子1Rによって赤色光の画像信号が、
第2ラインL2については受光素子1Gによって緑色光
の画像信号が、さらには第3ラインL3については受光
素子1Bによって青色光の画像信号が得られる。なお、
同図(e)〜(h)では、黒丸で示した部分が、画像読
み取りが既に行なわれた部分を示している。
First, as shown in FIG. 10A, an original K is arranged on the surface of the glass plate 3 of the line image sensor A, and white light is emitted from the cold cathode tube 7 to the surface of the original K. . This white light is reflected by the surface of the document K and then converged by the respective SELFOC lenses 90 of the lens array 9 to the same size as the erect, and the three light receiving element arrays NR and N
The light is received by the respective light receiving elements 1R, 1G, 1B of G and NB. According to this first reading operation,
As shown in FIG. 3E, the first line L1 of the original K
With respect to the image signal of red light by the light receiving element 1R,
For the second line L2, an image signal of green light is obtained by the light receiving element 1G, and for the third line L3, an image signal of blue light is obtained by the light receiving element 1B. In addition,
In (e) to (h), the portions indicated by black circles indicate portions where image reading has already been performed.

【0060】次いで、同図(b)に示すように、上記原
稿Kをさらに所定ピッチだけ副走査方向に紙送りした後
に、第2回目の読み取り動作を行なわせる。この第2回
目の読み取り動作では、同図(f)に示すように、上記
原稿Kの第2ラインL2については受光素子1Rによっ
て赤色光についての画像信号が、第3ラインL3につい
ては受光素子1Gによって緑色光についての画像信号
が、第4ラインL4については受光素子1Bによって青
色光についての画像信号が得られる。さらに同様にし
て、同図(c)に示すように、上記原稿Kをさらに所定
ピッチだけ副走査方向に紙送りしてから第3回目の読み
取り動作を行なわせると、同図(g)に示すように、原
稿Kの第3ラインL3については受光素子1Rによって
赤色光についての画像信号が、第4ラインL4について
は受光素子1Gによって緑色光についての画像信号が、
第5ラインL5については受光素子1Bによって青色光
についての画像信号が得られる。
Next, as shown in FIG. 6B, the document K is further fed by a predetermined pitch in the sub-scanning direction, and then a second reading operation is performed. In the second reading operation, as shown in FIG. 7F, an image signal of red light is provided by the light receiving element 1R for the second line L2 of the document K, and a light receiving element 1G is provided for the third line L3. As a result, an image signal for green light is obtained, and for the fourth line L4, an image signal for blue light is obtained by the light receiving element 1B. Similarly, as shown in FIG. 3C, when the document K is further fed in the sub-scanning direction by a predetermined pitch in the sub-scanning direction, and then the third reading operation is performed, as shown in FIG. Thus, for the third line L3 of the document K, an image signal for red light is provided by the light receiving element 1R, and for the fourth line L4, an image signal for green light is provided by the light receiving element 1G.
With respect to the fifth line L5, an image signal for blue light is obtained by the light receiving element 1B.

【0061】上記第3回目の読み取り動作によれば、原
稿Kの第3ラインL3については、赤色光、緑色光、お
よび青色光の全ての色彩光が3種類の受光素子1R,1
G,1Bによって受光されることとなり、カラー画像の
画像信号としての有効な信号が得られることとなる。し
たがって、この第3回目の読み取り動作以降の読み取り
動作は全て有効となる。より具体的には、同図(d)に
示す第4回目の読み取り動作では、上記第3ラインL3
に引き続き、第4ラインL4についても、赤色光、緑色
光、および青色光の全ての画像信号が得られ、以後同様
にして原稿Kを副走査方向に紙送りしながらその原稿画
像の読み取り動作を行なうと、それらの読み取り動作に
よって各読み取りラインについての赤色光、緑色光、お
よび青色光の全ての色彩光を受光した画像信号が得られ
ることとなる。なお、上記原稿Kの紙送りは、ピッチ送
りとせずに連続送りとしてもよい。
According to the third reading operation, for the third line L3 of the original K, all three color light components of red light, green light and blue light are subjected to three types of light receiving elements 1R and 1R.
The light is received by G and 1B, and an effective signal as an image signal of a color image is obtained. Therefore, all reading operations after the third reading operation are valid. More specifically, in the fourth reading operation shown in FIG.
Subsequently, also for the fourth line L4, all image signals of red light, green light, and blue light are obtained, and thereafter, the original K is read in the sub-scanning direction while the original K is fed in the sub-scanning direction. Then, by these reading operations, it is possible to obtain an image signal that receives all the red, green, and blue light of each reading line. The paper feed of the document K may be continuous feed instead of pitch feed.

【0062】このように構成されたラインイメージセン
サAでは、多数の受光素子1R,1G,1Bを3列の受
光素子列NR,NG,NBとして配列しているにも拘わ
らず、原稿Kの画像を読み取り動作を適切に行なうこと
ができる。
In the line image sensor A configured as described above, the image of the original K is obtained despite the fact that a large number of light receiving elements 1R, 1G, 1B are arranged as three light receiving element rows NR, NG, NB. Can be performed appropriately.

【0063】また、上記ラインイメージセンサAでは、
上記各色用の受光素子列NR,NG,NBを副走査方向
に3列配置しているために、上記各受光素子1R,1
G,1Bの受光面積を大きく設定することができ、ま
た、上記各受光素子列NR,NG,NBの周りの部分に
遮光部70が形成されているので、ノイズ成分の少な
い、すなわちS/Nの良好な画像信号を出力することが
できる。したがって、上記ラインイメージセンサAで
は、原稿画像からの反射光によって得られる画像信号が
原稿画像を良好に反映したものとなり、再現画像の質を
高めることができる。
In the line image sensor A,
Since the light receiving element rows NR, NG, NB for the respective colors are arranged in three rows in the sub-scanning direction, the light receiving elements 1R, 1
The light receiving area of G, 1B can be set large, and the light shielding portion 70 is formed around the light receiving element rows NR, NG, NB, so that the noise component is small, that is, S / N. Can be output. Therefore, in the line image sensor A, the image signal obtained by the reflected light from the original image becomes a good reflection of the original image, and the quality of the reproduced image can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本願発明に係るセンサICの平面図である。FIG. 1 is a plan view of a sensor IC according to the present invention.

【図2】本願発明に係るセンサICウエハの要部平面図
である。
FIG. 2 is a plan view of a main part of a sensor IC wafer according to the present invention.

【図3】図2の一点鎖線Cで囲んだ領域の拡大図であ
る。
FIG. 3 is an enlarged view of a region surrounded by a dashed line C in FIG. 2;

【図4】上記センサICウエハの各センサICに一体に
造り込まれた受光素子を赤色フィルタで覆う工程を説明
するたの図である。
FIG. 4 is a view for explaining a step of covering a light receiving element integrally formed in each sensor IC of the sensor IC wafer with a red filter.

【図5】図3(b)の状態を図2の一点鎖線Cで囲んだ
領域に相当する領域について表した平面図である。
FIG. 5 is a plan view illustrating the state of FIG. 3B with respect to a region corresponding to a region surrounded by a dashed line C in FIG. 2;

【図6】上記センサICウエハの各センサICに一体に
造り込まれた受光素子を緑色のフィルタで覆う工程を説
明するたの図である。
FIG. 6 is a view for explaining a step of covering a light receiving element integrally formed in each sensor IC of the sensor IC wafer with a green filter.

【図7】上記センサICウエハの各センサICに一体に
造り込まれた受光素子を青色のフィルタで覆う工程を説
明するたの図である。
FIG. 7 is a view for explaining a step of covering a light receiving element integrally formed in each sensor IC of the sensor IC wafer with a blue filter.

【図8】上記センサICを備えたラインイメージセンサ
の断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view of a line image sensor including the sensor IC.

【図9】上記センサICが長手方向に複数個実装された
回路基板の平面図である。
FIG. 9 is a plan view of a circuit board on which a plurality of the sensor ICs are mounted in a longitudinal direction.

【図10】(a)〜(d)は、上記ラインイメージセン
サを用いた原稿画像の読み取り動作状態を示す説明図で
あり、(e)〜(h)は、それらの読み取り動作によっ
て得られる画像信号の状態を示す説明図である。
FIGS. 10A to 10D are explanatory diagrams showing a reading operation state of a document image using the line image sensor, and FIGS. 10E to 10H are images obtained by the reading operation; FIG. 4 is an explanatory diagram showing states of signals.

【図11】従来のセンサICにおける受光素子の配列を
示す説明図である。
FIG. 11 is an explanatory diagram showing an arrangement of light receiving elements in a conventional sensor IC.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 受光素子 1R 赤色光用の受光素子 1G 緑色光用の受光素子 1B 青色光用の受光素子 4 回路基板 5 センサIC 7 冷陰極管(光源としての) 7R 赤色フィルタ 7G 緑色フィルタ 7B 青色フィルタ 9 レンズアレイ(光集束部材としての) 20 センサICウエハ 21 ダイシングライン 50 チップ状基板 70 遮光部 A ラインイメージセンサ NR 赤色光用の受光素子列 NG 緑色光用の受光素子列 NB 青色光用の受光素子列 Reference Signs List 1 light receiving element 1R light receiving element for red light 1G light receiving element for green light 1B light receiving element for blue light 4 circuit board 5 sensor IC 7 cold cathode tube (as light source) 7R red filter 7G green filter 7B blue filter 9 lens Array (as a light focusing member) 20 Sensor IC wafer 21 Dicing line 50 Chip-shaped substrate 70 Shielding section A Line image sensor NR Light receiving element array for red light NG Light receiving element array for green light NB Light receiving element array for blue light

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 今村 典広 京都市右京区西院溝崎町21番地 ローム株 式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Norihiro Imamura Inventor No. 21 Saizou Mizozakicho, Ukyo-ku, Kyoto-shi ROHM Co., Ltd.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 平面視矩形状とされたチップ状基板に、
受光量に応じた信号を出力する複数の受光素子が一体的
に造り込まれたセンサICであって、 上記チップ状基板に複数の受光素子が主走査方向に列状
に並ぶようにして造り込まれているとともに、この受光
素子列が副走査方向に3列並んだ配列とされており、か
つ、 上記各受光素子列は、それぞれ赤色、緑色、青色の各色
の光を透過するとともに、上記各受光素子列の長さに略
対応した長さを有する帯状に形成された3種類のフィル
タで覆われ、それぞれ赤色用、緑色用、青色用の受光素
子列とされていることを特徴とする、センサIC。
1. A chip-like substrate having a rectangular shape in a plan view,
A sensor IC in which a plurality of light receiving elements for outputting a signal corresponding to the amount of received light are integrally formed, wherein the plurality of light receiving elements are formed on the chip-shaped substrate so as to be arranged in a row in the main scanning direction. And the light receiving element rows are arranged in three rows in the sub-scanning direction. Each of the light receiving element rows transmits light of each color of red, green, and blue, and It is covered with three types of filters formed in a strip shape having a length substantially corresponding to the length of the light receiving element row, and is used as a red, green, and blue light receiving element row, respectively. Sensor IC.
【請求項2】 上記各フィルタは、その副走査方向の幅
が上記各受光素子の副走査方向の幅よりも大きく設定さ
れており、上記各フィルタが上記各受光素子をオーバー
ラップするようにして覆っている、請求項1に記載のセ
ンサIC。
2. Each of the filters has a width in the sub-scanning direction set to be larger than a width in the sub-scanning direction of each of the light receiving elements, and each of the filters overlaps each of the light receiving elements. The sensor IC according to claim 1, wherein the sensor IC covers.
【請求項3】 上記各フィルタは、それぞれ赤色、緑
色、青色に着色された感光性樹脂によって形成されてい
る、請求項1または2に記載のセンサIC。
3. The sensor IC according to claim 1, wherein each of the filters is formed of a photosensitive resin colored red, green, and blue, respectively.
【請求項4】 上記各フィルタは、それぞれ赤色、緑
色、青色に着色された薄状フィルムによって形成されて
いる、請求項1または2に記載のセンサIC。
4. The sensor IC according to claim 1, wherein each of the filters is formed of a thin film colored red, green, and blue.
【請求項5】 請求項1ないし4のいずれかに記載され
たセンサICが少なくとも主走査方向に複数形成された
センサICウエハであって、 主走査方向に隣接するセンサIC間には、センサIC単
品を得るため切断されるダイシングラインが設定されて
いるとともに、上記センサIC毎に上記各フィルタによ
って上記各受光素子列が覆われて、上記各フィルタが上
記ダイシングラインの部位においては分断されているこ
とを特徴とする、センサICウエハ。
5. A sensor IC wafer having at least a plurality of sensor ICs according to claim 1 formed in a main scanning direction, wherein a sensor IC is provided between adjacent sensor ICs in the main scanning direction. A dicing line that is cut to obtain a single product is set, and each of the light receiving element rows is covered with each of the filters for each of the sensor ICs, and each of the filters is divided at a portion of the dicing line. A sensor IC wafer, characterized in that:
【請求項6】 上記各フィルタが分断された領域の主走
査方向の幅は、上記ダイシングラインの主走査方向の幅
よりも大きく設定されている、請求項5に記載のセンサ
ICウエハ。
6. The sensor IC wafer according to claim 5, wherein the width in the main scanning direction of the area where each of the filters is divided is set to be larger than the width of the dicing line in the main scanning direction.
【請求項7】 回路基板と、この回路基板に実装される
センサICと、光源から発せられて読み取り原稿におい
て反射した光を上記センサIC上に集束する光集束部材
と、を備えたラインイメージセンサであって、 上記センサICとして、請求項1ないし4のいずれかに
記載されたセンサIC、または請求項5または6に記載
されたセンサICウエハから得られるセンサICが用い
られているとともに、複数のセンサICが上記回路基板
の主走査方向に列状に並べられていることを特徴とす
る、ラインイメージセンサ。
7. A line image sensor comprising: a circuit board; a sensor IC mounted on the circuit board; and a light converging member for converging light emitted from a light source and reflected on a read original onto the sensor IC. A sensor IC according to any one of claims 1 to 4, or a sensor IC obtained from a sensor IC wafer according to claim 5 or 6, is used as the sensor IC. Wherein the sensor ICs are arranged in a row in the main scanning direction of the circuit board.
【請求項8】 上記光集束部材は、原稿からの反射光を
上記センサIC上に正立等倍に結像するように構成され
ている、請求項7に記載のラインイメージセンサ。
8. The line image sensor according to claim 7, wherein the light converging member is configured to form an image of reflected light from the document on the sensor IC at an erect equal size.
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KR20020078453A (en) * 2001-04-09 2002-10-18 (주)한비젼 Small and low cost implementation of linear ccd array focal plane assembly for high resolution remote sensing application

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