JPH11510932A - 自動調整機能付現場設置型プロセス制御システム - Google Patents
自動調整機能付現場設置型プロセス制御システムInfo
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.被測定プロセス変数の関数である制御出力信号によってプロセスを制御する プロセス制御装置において、 プロセス変数入力と制御出力とを有する制御手段であって、前記プロセス変 数入力で受け取られた被測定プロセス変数に応答して、かつ制御関数パラメータ に基づいて前記制御出力に前記制御出力信号を発生する前記制御手段と、 調整手段とを具備し、 前記調整手段が、 前記制御出力に接続され、ある時間にわたって立上り/立下りする励起 信号を発生する励起出力を有する励起手段と、 前記励起信号に応答して被測定プロセス変数の立上り不感時間LR、立 下り不感時間LF、立上り変化率RRおよび立下り変化率RFを計算し、かつ前記 LR、LF、RRおよびRFに基づいてプロセスモデルを概算する概算手段と、 前記概算手段に接続され、前記プロセスモデルに基づいて前記制御関数 パラメータを計算するパラメータ計算手段とを備えたことを特徴とするプロセス 制御装置。 2.前記概算手段が、下記の数学式にしたがってRRおよびRFを計算する手段を 備えていることを特徴とする請求項1のプロセス制御装置。 ここで、Nは立上りおよび立下り方向での被測定プロセス変数の選択されたサン プル数であり、かつRRnおよびRFnは、被測定プロセス変数のn番目のサンプル の立上り変化率および立下り変化率である。 3.前記概算手段が、選択された最小の値UMINから選択された最大の値UMAXま で、励起出力信号を増加させたり、励起信号をUMAXからUMINへ減少させたりす る手段と、 下記の数学式にしたがってLRおよびLFを計算する手段と を備えていることを特徴とする請求項1のプロセス制御装置。 ここで、tMAXおよびt-MAXは、被測定プロセス変数がそれぞれ最大率で立上る 時間、および立下る時間、tRおよびtFは前記UMAXおよびUMINが励起出力にそ れぞれ供給される時間、y(tMAX)およびy(t-MAX)はそれぞれ、時間tMAX およびt-MAXにおける被測定プロセス変数の値、yMINは時間tRとtFの間に測 定されたプロセス変 数の最小値、yMAXは時間tFとtAの間に測定されたプロセス変数の最大値であ り、このtAは前記UMINが除去される時間である。 4.前記プロセスモデルがプロセス不感時間値Lを含み、かつ前記概算手段がLR およびLFの最大値としてLを概算することを特徴とする請求項1のプロセス制 御装置。 5.前記励起手段が、励起信号を、選択されたその最小値UMINから選択された 最大値UMAXにまで増加したり、前記励起信号をUMAXからUMINへ減少させたり する手段を備えていることを特徴とする請求項1 のプロセス制御装置。 6.プロセスモデルパラメータが定数m1を含み、前記概算手段が下記の数学式 にしたがって前記m1を計算する手段を有する非自己調整プロセスを制御するよ うに構成された請求項5のプロセス制御装置。 7.プロセスモデルパラメータが制御出力信号の概算された定常状態値UESTを 含み、前記概算手段が下記の数学式にしたがってUESTを計算する手段を有する 非自己調整プロセスを制御するように構成された請求項5のプロセス制御装置。 8.プロセスモデルパラメータが時定数TC、定常プロセス利得KS、およびプロ セスの不感時間Lを含む自己調整プロセスを制御するように構成され、 前記概算手段が、 Nを立上りおよび立下り方向の被測定プロセス変数のサンプル数、nを1から Nまでの数、RRnを被測定プロセス変数のn番目のサンプルの立上り変化率、Yn を被測定プロセス変数のn番目のサンプル値、またRFnを被測定プロセス変数 のn番目のサンプルの立下り変化率とするとき、下記の数学式にしたがって立上 り時定数TR、立上り定常プロセス利得KR、立下り時定数TF、立下り定常プロ セス利得KFを計算する手段と、 最小のTRおよびTFとしてTCを概算し、また最大のKRおよびKFとしてKSを 概算する手段とよりなる請求項5のプロセス制御装置。 9.前記概算手段がさらに、tMAXおよびt-MAXを被測定プロセス変数がそれぞ れ最大率で立上り、立下る時間とし、tRおよびtFをUMAXおよびUMINが励起出 力にそれぞれ供給される時間、y(tMAX)およびy(t-MAX)をそれぞれ、時 間tMAXおよびt-MAXにおける被測定プロセス変数の値とし、yMINを時間tRと tFの間で測定されたプロセス変数の最小値、yMAXを時間tFとtAの間で測定さ れたプロセス変数の最大値、このtAを、UMIN が除去される時間とし、さらにRR1およびRF1をサンプルn=1のときの被測定 プロセス変数の立上り変化率および立下り変化率であるとしたとき、下記の数学 式にしたがってプロセスの立上り不感時間LRおよび立下り不感時間LFを計算す る手段と、 前記LRおよびLFの最大値としてLを概算する手段とを具備した請求項8のプ ロセス制御装置。 10.プロセス制御ループを介して電力を供給され、被測定プロセス変数に基づ く制御出力信号によってプロセスを制御する現場設置型スマート制御装置におい て、 前記プロセス制御ループに接続されるように適合され、かつ前記プロセス 制御ループから電力を受け取る入出力手段と、 前記入出力手段に接続されたマイクロプロセッサ手段と、 前記マイクロプロセッサ手段に接続され、制御関数パラメータを記憶する メモリとを備え、 前記マイクロプロセッサ手段が、 プロセス変数入力および制御出力を有し、前記プロセス変数入力で受 け取られた被測定プロセス変数に応答して、かつ前記制御関数パラメータに基づ いて、前記制御出力に制御出力信号を発生する制御手段と、 前記制御手段に接続され、前記被測定プロセス変数に基づいて前記制 御関数パラメータをプロセスに整合させる調整手段とを備えていることを特徴と するスマート現場設置型制御装置。 11.被測定プロセス変数および設定値の関数である制御出力信号によってプロ セスを制御するプロセス制御システムのための調整パラメータ決定方法において 、 前記被測定プロセス変数が立上り/立下るように、ある時間にわたって前 記制御出力信号を変化させる段階と、 前記被測定プロセス変数の立上り不感時間LRを決定する段階と、 前記被測定プロセス変数の立上り変化率RRを決定する段階と、 前記被測定プロセス変数の立下り不感時間LFを決定する段階と、 前記被測定プロセス変数の立下り変化率RFを決定する段階と、 前記LR、LF、RRおよびRFに基づいて前記プロセス制御システムの関数 を調整する段階とよりなることを特徴とするプロセス制御システムのための調整 パラメータ決定方法。
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