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JPH1140724A - Semiconductor device, its manufacturing method and its manufacturing apparatus - Google Patents

Semiconductor device, its manufacturing method and its manufacturing apparatus

Info

Publication number
JPH1140724A
JPH1140724A JP9195382A JP19538297A JPH1140724A JP H1140724 A JPH1140724 A JP H1140724A JP 9195382 A JP9195382 A JP 9195382A JP 19538297 A JP19538297 A JP 19538297A JP H1140724 A JPH1140724 A JP H1140724A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heat sink
main surface
lead
outer edge
radiation fin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9195382A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuho Inao
寿穂 稲生
Kazuo Funazaki
和雄 船崎
Koji Katsuta
幸治 勝田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electronics Corp filed Critical Matsushita Electronics Corp
Priority to JP9195382A priority Critical patent/JPH1140724A/en
Publication of JPH1140724A publication Critical patent/JPH1140724A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H10W72/07141
    • H10W72/07178
    • H10W72/07521
    • H10W74/00
    • H10W90/756

Landscapes

  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device which comprises a heat sink having a high radiating effect and suitable for miniaturization of a package and radiating fin leads, and also to provide a method for manufacturing the semiconductor device and an apparatus for manufacturing the semiconductor device. SOLUTION: A heat sink 1 is formed in its side with a stepped part, and a radiating fin lead 3 of a metallic plate having a through hole made in its major surface is pressed against the heat sink along the configuration of the stepped part to surround it. In this case, the outer edges will cover the radiating fin lead 3. A metallic tool is pushed so as to make a groove 9 having first and second side faces 10 and 11 in each outer edge.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ヒートシンク及び
放熱フィンを備えた半導体装置とその製造方法並びにそ
の製造装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device having a heat sink and a radiating fin, a method of manufacturing the same, and an apparatus for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、機器の小型化に対応するために消
費電力の比較的大きな半導体集積回路を内蔵化した小型
パッケージの構造及びその製造方法についての提案がな
されている。例えば、この具体的な技術が特開平3−2
86558号公報に開示されている。
2. Description of the Related Art In recent years, proposals have been made on a structure of a small package in which a semiconductor integrated circuit having relatively large power consumption is built and a method of manufacturing the same in order to cope with miniaturization of equipment. For example, this specific technique is disclosed in
No. 86558.

【0003】図10(a)及び(b)は従来の半導体装
置を示す図である。半導体ペレット100がボンデイン
グ層101を介してタブ102に圧着されたものであ
る。タブ102には放熱フィンリード103が連続して
おり、さらに放熱フィン105が樹脂パッケージ104
の外部に連続している。一方、樹脂パッケージ104の
内部のタブ102にヒートシンク106が接しており、
このヒートシンク106の端部にはリベット部107が
備えられ、このリベット部107に対応して放熱フィン
リード103に結合孔108が備えられている。ここ
で、リベット部107の先端部が結合孔108にかしめ
加工によって固定される。このような構造を備えること
で半導体ペレット100で発生した熱は、放熱フィン1
05とヒートシンク106の双方から放散される。
FIGS. 10A and 10B are views showing a conventional semiconductor device. The semiconductor pellet 100 is bonded to a tab 102 via a bonding layer 101. The radiating fin lead 103 is continuous with the tab 102, and the radiating fin 105 is further connected to the resin package 104.
It is continuous outside. On the other hand, the heat sink 106 is in contact with the tab 102 inside the resin package 104,
A rivet 107 is provided at an end of the heat sink 106, and a coupling hole 108 is provided in the radiation fin lead 103 corresponding to the rivet 107. Here, the tip of the rivet 107 is fixed to the coupling hole 108 by swaging. By providing such a structure, heat generated in the semiconductor pellet 100 can be transferred to the radiation fins 1.
05 and the heat sink 106.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
従来の半導体装置においては、複数対のリベット部と結
合孔を必要としており、各リベット部間の距離と各結合
孔間の距離が等しい値となるように高い加工精度が要求
されていた。
However, such a conventional semiconductor device requires a plurality of pairs of rivet portions and coupling holes, and the distance between the rivet portions is equal to the distance between the coupling holes. Therefore, high processing accuracy was required.

【0005】また、かしめ加工の強度を確保するために
はリベット部の直径を太くする必要があり、このように
したとき配線用のリードの領域を相対的に狭くするの
で、配線用のリードの領域を確保するためにパッケージ
の形状に比較的広い面積が必要とされていた。
Further, in order to secure the strength of the caulking process, it is necessary to increase the diameter of the rivet portion. In such a case, the area of the lead for wiring is relatively narrowed. A relatively large area was required for the shape of the package to secure the area.

【0006】本発明は上記従来の課題を解決するもので
あり、高い放熱効果を有すると共にパッケージの小型化
に適した半導体装置とその製造方法並びにその製造装置
を提供することを目的とする。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems, and an object of the present invention is to provide a semiconductor device having a high heat radiation effect and suitable for downsizing of a package, a method of manufacturing the same, and a manufacturing apparatus thereof.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1が講じ
た手段は、ヒートシンクの側面に階段状の段差部が形成
され、この段差部の形状に沿ってこの形状を包含するよ
うにして金属板の主面に貫通孔を形成した放熱フィンリ
ードとを備えており、この貫通孔を前記ヒートシンク側
面の段差部に圧着するものである。ここで、ヒートシン
クの主面の外縁部に沿って機械的圧力が加わることで前
記外縁部が前記放熱フィンリードに覆い被さるようにし
て圧着されたことを特徴としており、その主面には前記
機械的圧力による溝形状が形成されたものである。尚、
この溝はヒートシンクの外縁部に沿って形成されるが、
4隅に点状に形成することもできる。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a heat sink having a step-like step formed on a side surface of a heat sink and including the step along the shape of the step. A radiation fin lead having a through hole formed in the main surface of the metal plate is provided, and the through hole is pressure-bonded to a step on the side surface of the heat sink. Here, a mechanical pressure is applied along the outer edge of the main surface of the heat sink, and the outer edge is crimped so as to cover the heat radiation fin lead. In this case, a groove shape is formed by the mechanical pressure. still,
This groove is formed along the outer edge of the heat sink,
It can also be formed at four corners in the form of dots.

【0008】この構成を有することで、ヒートシンクが
リベット部の機能を有するので、リベット部のための特
別な面積を必要とせずにヒートシンクと放熱フィンリー
ドとを圧着することができ、さらに、ヒートシンクの外
縁部を突起で押さえつけることでヒートシンクと放熱フ
ィンリードとを容易に圧着させることができる。
[0008] With this configuration, the heat sink has the function of a rivet portion, so that the heat sink and the radiation fin lead can be crimped without requiring a special area for the rivet portion. By pressing the outer edge with the projection, the heat sink and the radiation fin lead can be easily pressed.

【0009】本発明の請求項2が講じた手段は、請求項
1が講じた手段に対して、さらに、溝形状の第1の側面
がヒートシンク主面の外縁部の内側からヒートシンクの
内部に向かって傾斜を有して形成されており、さらに第
2の側面をヒートシンク主面に対して略垂直に形成した
ことを特徴とするものである。
The measures taken by claim 2 of the present invention are different from the measures taken by claim 1 in that the first side surface of the groove is directed from inside the outer edge of the main surface of the heat sink to the inside of the heat sink. The second side surface is formed substantially perpendicular to the heat sink main surface.

【0010】ヒートシンクを放熱フィンリードに圧着さ
せるためにヒートシンク主面の上方から力を加えたと
き、第1の側面が主面に対して傾斜角を有して形成され
る。この第1の側面から外縁部にかけて変形が起きてお
り、この変形部が放熱フィンに被せられて圧着状態が保
持される。尚、第2の側面が主面に対して垂直であると
きには第2の側面で囲まれた内部の領域に段差等の不具
合を生じさせない。このため、半導体ペレットとヒート
シンクとをボンデイングさせるための平坦面を確保する
ことができる。
When a force is applied from above the main surface of the heat sink to press the heat sink against the radiating fin lead, the first side surface is formed to have an inclination angle with respect to the main surface. Deformation occurs from the first side surface to the outer edge portion, and the deformed portion is covered with the radiating fin, and the crimped state is maintained. When the second side surface is perpendicular to the main surface, a problem such as a step does not occur in an inner region surrounded by the second side surface. Therefore, it is possible to secure a flat surface for bonding the semiconductor pellet and the heat sink.

【0011】本発明の請求項3が講じた手段は、放熱フ
ィンリード近傍において、ヒートシンク主面からこの主
面に垂直方向に見た前記ヒートシンクの外縁の投影が、
前記放熱フィンリード近傍にあって前記ヒートシンクの
外縁部に沿って配置されたインナーリードの外縁部と交
差しないことを特徴とするものである。
According to a third aspect of the present invention, in the vicinity of the radiating fin lead, the projection of the outer edge of the heat sink as viewed from the main surface of the heat sink in a direction perpendicular to the main surface is as follows:
It is characterized in that it does not intersect with the outer edge of the inner lead located near the heat radiation fin lead and arranged along the outer edge of the heat sink.

【0012】この構成を有することによって、放熱フィ
ン近傍にあってそのリード長が短いインナーリードの先
端部と半導体ペレットのパッドとをワイヤーボンドする
ときに、前記インナーリードの下部にこれらのインナー
リードを載せる台を設置させることができる。この台に
よって短いインナーリードを固定することができ、短い
インナーリードで起こり易い発振現象を回避して安定に
ワイヤボンドを行うことができる。
With this configuration, when the tip of the inner lead near the heat radiation fin and having a short lead length is wire-bonded to the pad of the semiconductor pellet, these inner leads are placed below the inner lead. A mounting table can be installed. With this base, the short inner lead can be fixed, and the oscillation phenomenon that is likely to occur with the short inner lead can be avoided to perform the wire bonding stably.

【0013】本発明の請求項4が講じた手段は、放熱フ
ィンリードの貫通孔にヒートシンクの主面及び段差部を
挿入した後、この放熱フィンリードをヒートシンクに固
定枠で圧接させ、さらに、ヒートシンクの主面の垂直上
方から金属工具によって機械的圧力を加えることによっ
てヒートシンクの外縁部を前記放熱フィンリードの貫通
孔に覆い被せて圧着するものである。ここで、金属工具
は、ヒートシンク主面の外縁部を押し広げるために、ヒ
ートシンク内部方向にヒートシンク主面に対し傾斜を有
した第1の面及び第1の面に隣接して前記ヒートシンク
主面にほぼ垂直に形成された第2の面、この第2の面に
隣接して前記ヒートシンクの主面に並行である面とを有
しており、第1及び第2の面で突起が形成される。
According to a fourth aspect of the present invention, a heat sink has a main surface and a step portion inserted into a through hole of a heat radiation fin lead, and then the heat radiation fin lead is pressed against the heat sink with a fixing frame. The outer edge of the heat sink is covered with the through-hole of the radiating fin lead and press-bonded by applying mechanical pressure with a metal tool from vertically above the main surface of the heat sink. Here, the metal tool is provided on the heat sink main surface adjacent to the first surface and the first surface having an inclination with respect to the heat sink main surface in the heat sink main direction in order to push out the outer edge of the heat sink main surface. A second surface formed substantially perpendicularly, a surface adjacent to the second surface and parallel to a main surface of the heat sink, and a projection is formed on the first and second surfaces; .

【0014】この方法によって、ヒートシンクと放熱フ
ィンリードとを圧着するために主面の上方から力を加え
たとき、第2の側面が主面に対して傾斜角を有している
ので比較的弱い力で外縁部の形状に変形を起こさせるこ
とができ、この外縁部を放熱フィンリード側に容易に被
せることができ、一方、第2の側面が主面に対して垂直
であるので、主面の上方から力を加えても第2の側面に
は直接力が加わらず、第2の側面で囲まれた内部の領域
に段差等の不具合を生じさせない。このため、半導体ペ
レットとヒートシンクとをボンデイングさせるための平
坦面を確保することができる。
According to this method, when a force is applied from above the main surface to press the heat sink and the radiating fin lead, the second side surface has an inclination angle with respect to the main surface, so that it is relatively weak. The shape of the outer edge can be deformed by force, and this outer edge can be easily covered on the radiation fin lead side, while the second side surface is perpendicular to the main surface, so that the main surface Even if a force is applied from above, no force is directly applied to the second side surface, so that a problem such as a step does not occur in an internal region surrounded by the second side surface. Therefore, it is possible to secure a flat surface for bonding the semiconductor pellet and the heat sink.

【0015】本発明の請求項5が講じた手段は、ワイヤ
接続の工程において一体化された放熱フィンリード、イ
ンナーリード及びヒートシンクを設置する製造装置が、
ヒートシンクを設置する凹部と、この凹部の周囲を形成
する壁体とを備えており、この壁体の前記凹部に平行な
面が放熱フィンリード近傍のインナーリードと接するよ
うに前記壁体の高さが設定されたことを特徴とするもの
である。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a manufacturing apparatus for installing a radiation fin lead, an inner lead and a heat sink integrated in a wire connection step.
A recess for installing a heat sink, and a wall forming a periphery of the recess, the height of the wall being set such that a surface of the wall parallel to the recess contacts an inner lead near a radiation fin lead. Is set.

【0016】この隆起した壁体を第1のインナーリード
下方に設置することによって、キャピラリが第1のイン
ナーリードを圧接したときに第1のインナーリードのた
わみをなくすことができ、安定にワイヤボンドを行うこ
とができる。
By disposing the raised wall below the first inner lead, the deflection of the first inner lead can be eliminated when the capillary presses the first inner lead, and the wire bond can be stably formed. It can be performed.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0018】図1は、本発明の一実施の形態における半
導体装置の主要部を示す平面図である。この平面図のA
−A’でこの主要部の断面を見た図をA−A’断面図で
示し、B−B’でこの主要部の断面を見た図をB−B’
断面図で示した。
FIG. 1 is a plan view showing a main part of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. A in this plan view
A view showing a cross section of this main part at -A 'is shown by a cross-sectional view taken along AA', and a view showing a cross section of this main part at BB 'is shown at BB'.
This is shown in a sectional view.

【0019】この図1において、1は、放熱効果を高め
るために純銅を所定の形状に加工したヒートシンクであ
り、2は銅合金の金属板から形成された放熱フィンであ
り、3は放熱フィン2と連続した放熱フィンリードであ
る。4はパッケージの外形を示した領域である。この領
域4の内側にあるヒートシンク1の周囲にはヒートシン
ク1を中心に複数のインナーリード5が配置されてお
り、一方、領域4の外側にはインナーリード5及び放熱
フィンリード3を相互に固定するための接続領域6が形
成されている。この接続領域6は樹脂封止された後に除
去され、各リードは分離される。次に、パッケージの中
央部の放熱フィンリード3には方形状の貫通孔が形成さ
れており、この貫通孔は、金属板から放熱フィン2及び
インナーリード5、接続領域6、リード7を形成するた
めのプレス工程若しくはエッチング工程において一体的
に形成される。さらに、ヒートシンク1には階段状の突
起部8が形成されており、突起部8の上面にあって半導
体ペレットをボンデイングするための面である主面の外
縁部は、放熱フィンリードの貫通孔の内縁の形状に沿っ
た形状を備えている。この主面に隣接した直下の段差部
でヒートシンク1と放熱フィンリード3が圧着される。
この圧着された形状の断面を、A−A’断面図の一部を
拡大した図において示す。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a heat sink formed by processing pure copper into a predetermined shape in order to enhance the heat radiation effect, 2 denotes a heat radiation fin formed of a copper alloy metal plate, and 3 denotes a heat radiation fin. This is a radiating fin lead that is continuous. Reference numeral 4 denotes an area showing the outer shape of the package. A plurality of inner leads 5 are arranged around the heat sink 1 inside the region 4 around the heat sink 1, while the inner leads 5 and the radiation fin leads 3 are fixed to each other outside the region 4. Connection region 6 is formed. The connection region 6 is removed after being sealed with a resin, and each lead is separated. Next, a rectangular through hole is formed in the heat radiation fin lead 3 at the center of the package, and this through hole forms the heat radiation fin 2, the inner lead 5, the connection region 6, and the lead 7 from a metal plate. Formed in a pressing step or an etching step. Further, a stepped projection 8 is formed on the heat sink 1, and the outer edge of the main surface on the upper surface of the projection 8, which is a surface for bonding the semiconductor pellet, is formed by the through hole of the radiation fin lead. It has a shape along the shape of the inner edge. The heat sink 1 and the radiating fin lead 3 are crimped at a step just below the main surface.
A cross section of the crimped shape is shown in an enlarged view of a part of the AA ′ cross-sectional view.

【0020】この拡大図において、突起部8の主面の外
縁部の内側に溝9が形成されており、この溝9は、第1
の側面10と第2の側面11とで構成される。第1の側
面10は、主面に対して所定の角度の傾斜を有してお
り、第2の側面11は主面に対して垂直である。この第
1、第2の側面は、この側面に対応する凸形状の歯形を
ヒートシンクの主面に強く押し当てることで形成され
る。ヒートシンク1の段差部に放熱フィンリード3を圧
接した後にヒートシンクの主面に歯形を押し当てるの
で、ヒートシンク1の外縁部から放熱フィンリード3に
ヒートシンクの金属が押さえつけられる。このようにし
て圧着された後に、最大0.1mm程度ヒートシンクの
金属が放熱フィンリード側にはみ出す。一方、突起部8
の主面は、放熱フィンリード3の上面から最大0.05
mm以内の段差となる。ここで、第2の側面で囲まれた
領域には横方向の力が加えられないので、この領域の主
面は平坦である。この平坦な面に半導体ペレットがボン
デイングされる。
In this enlarged view, a groove 9 is formed inside the outer edge of the main surface of the projection 8, and this groove 9 is
And a second side surface 11. The first side surface 10 has a predetermined angle of inclination with respect to the main surface, and the second side surface 11 is perpendicular to the main surface. The first and second side surfaces are formed by strongly pressing a convex tooth profile corresponding to the side surface against the main surface of the heat sink. After the heat radiation fin lead 3 is pressed against the step portion of the heat sink 1, the tooth shape is pressed against the main surface of the heat sink. After being press-bonded in this way, the metal of the heat sink protrudes to the radiation fin lead side by about 0.1 mm at the maximum. On the other hand, the protrusion 8
Of the radiating fin lead 3 is 0.05
mm. Here, since no lateral force is applied to the region surrounded by the second side surface, the main surface of this region is flat. The semiconductor pellet is bonded to this flat surface.

【0021】図2は、図1の拡大図である。図2(a)
は、図1で既述した溝の断面の拡大図であり、図2
(b)は、他の実施の形態を示す溝の断面の拡大図であ
る。
FIG. 2 is an enlarged view of FIG. FIG. 2 (a)
FIG. 2 is an enlarged view of a cross section of the groove described in FIG.
(B) is an enlarged view of a cross section of a groove showing another embodiment.

【0022】図2(b)において、第2の側面11が主
面に対して傾斜を有する。この傾斜によって溝9から突
起部8の内部に向かって隆起が発生する。この隆起は比
較的狭い領域で起こるので半導体ペレットのボンデイン
グのための面積を確保することができる。しかし、図2
(a)のように主面に対してほぼ垂直であることが好ま
しい。
In FIG. 2B, the second side surface 11 has an inclination with respect to the main surface. This inclination causes a bulge from the groove 9 toward the inside of the projection 8. Since the protrusion occurs in a relatively small area, an area for bonding the semiconductor pellet can be secured. However, FIG.
As shown in (a), it is preferably substantially perpendicular to the main surface.

【0023】図3は、本発明の一実施の形態に係る半導
体装置の断面及び平面を示した図である。
FIG. 3 is a diagram showing a cross section and a plane of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【0024】図3(c)は、樹脂封止された半導体装置
の上方から見た平面図であり、図3(a)は、図3
(c)のA−A’の断面を示す図であり、図3(b)
は、図3(c)のB−B’の断面を示す図である。
FIG. 3C is a plan view of the resin-sealed semiconductor device as viewed from above, and FIG.
FIG. 3C is a view showing a cross section taken along line AA ′ of FIG.
FIG. 4 is a diagram showing a cross section taken along line BB ′ of FIG.

【0025】図3(a)において、半導体ペレット20
がヒートシンク1の突起部8の主面にボンデイングさ
れ、一方、信号伝達のためのインナーリード5がヒート
シンク1と電気的に分離されて配置される。半導体ペレ
ット20とインナーリード5とはワイヤー22によって
接続される。21は樹脂封止したパッケージであり、半
導体ペレット20及びヒートシンク1、インナーリード
5等を内蔵する。
In FIG. 3A, the semiconductor pellet 20
Is bonded to the main surface of the protrusion 8 of the heat sink 1, while the inner lead 5 for signal transmission is electrically separated from the heat sink 1. The semiconductor pellet 20 and the inner lead 5 are connected by a wire 22. Reference numeral 21 denotes a resin-sealed package in which the semiconductor pellet 20, the heat sink 1, the inner lead 5, and the like are built.

【0026】図3(b)において、放熱フィンリード3
がヒートシンク1の段差部に圧着され、この放熱フィン
リード3に連続した放熱フィン2がパッケージ21の外
部にあって曲げ加工された状態を示したものである。
In FIG. 3B, the radiation fin leads 3
Are pressed against the stepped portion of the heat sink 1, and the radiation fins 2 continuous with the radiation fin leads 3 are outside the package 21 and are bent.

【0027】このように、半導体ペレット20が直接ヒ
ートシンク1の突起部8の主面にボンデイングされてい
るので、従来技術のタブが不要であり、構造を簡略化す
ることができる。さらに、このヒートシンク1の段差部
に放熱フィン2が圧着されているので半導体ペレット2
0で発生した熱が、ヒートシンク及び放熱フィンの2つ
の経路を介して外部に効率よく排出される。
As described above, since the semiconductor pellet 20 is directly bonded to the main surface of the projection 8 of the heat sink 1, the conventional tab is unnecessary, and the structure can be simplified. Further, since the heat radiation fins 2 are pressure-bonded to the step portions of the heat sink 1, the semiconductor pellets 2
The heat generated at 0 is efficiently discharged to the outside through two paths of the heat sink and the radiation fin.

【0028】28ピンに対応した図3(c)のパッケー
ジ外形寸法が18mmと11mmである場合、ヒートシ
ンクに純銅、放熱フィンリードに銅合金を使用した構成
によって室温において約7Wの許容損失を得ることがで
きる。
When the package outer dimensions of FIG. 3C corresponding to 28 pins are 18 mm and 11 mm, an allowable loss of about 7 W is obtained at room temperature by using a structure in which pure copper is used for the heat sink and a copper alloy is used for the radiating fin leads. Can be.

【0029】図4は、図1のヒートシンクの平面及び断
面を示した図である。平面図におけるC−C’の断面を
C−C’断面図で示し、D−D’の断面をD−D’断面
図で示したものである。
FIG. 4 is a diagram showing a plane and a cross section of the heat sink of FIG. In the plan view, a cross section taken along the line CC ′ is shown by a cross section taken along the line CC ′, and a cross section taken along the line DD ′ is shown by a cross section along the line DD ′.

【0030】図4の平面図形において、破線で囲んだ領
域30に長方形に対して凹部が形成されており、この領
域に後述のリード長が短いインナーリードの先端が位置
する。C−C’断面図において示されたように、突起部
8の主面から隣接した段差の面まで長さは0.3mmで
あり、この段差の面に隣接するヒートシンクの面までの
長さは0.2mmであり、このヒートシンクの面から裏
面までの長さは0.8mmである。また、C−C’及び
D−D’断面図に示されたように、突起部8の主面の寸
法は4.7mmと3.8mmであり、段差部の凸部の形
状を除いた部分の寸法は5.3mmと5.4mmであ
る。
In the plane figure of FIG. 4, a concave portion is formed with respect to a rectangle in a region 30 surrounded by a broken line, and the tip of an inner lead having a short lead length described later is located in this region. As shown in the CC ′ cross-sectional view, the length from the main surface of the protrusion 8 to the surface of the adjacent step is 0.3 mm, and the length from the surface of the heat sink adjacent to the surface of the step is: 0.2 mm, and the length from the surface to the back surface of the heat sink is 0.8 mm. Further, as shown in the CC ′ and DD ′ cross-sectional views, the dimensions of the main surface of the protruding portion 8 are 4.7 mm and 3.8 mm, and the portion excluding the shape of the convex portion of the step portion is provided. Are 5.3 mm and 5.4 mm.

【0031】図5は、図1のインナーリード5、リード
7、放熱フィン2及び放熱フィンリード3の平面図であ
る。放熱フィンリード3の中央部に方形状の貫通孔40
を有しており、この貫通孔40の形状は、図4のヒート
シンク1の突起部8の主面の外縁部に応じた形状を形成
している。
FIG. 5 is a plan view of the inner lead 5, the lead 7, the radiation fin 2 and the radiation fin lead 3 of FIG. A square through hole 40 is formed in the center of the radiation fin lead 3.
The through hole 40 has a shape corresponding to the outer edge of the main surface of the projection 8 of the heat sink 1 in FIG.

【0032】また、図4の領域30に対応した領域にイ
ンナーリード41及び42が形成されている。このイン
ナーリード41、42は、放熱フィンリード3の形状を
削り取った形の領域に位置し、より多くの配線用リード
を確保させるものである。このインナーリード41、4
2は、他のインナーリードの長さに対して相対的に短
い。そのため、ワイヤーボンド時にインナーリード4
1、42の先端部に超音波振動による力が加わると、接
続部6を支点として振動による比較的強い反発力が発生
しやすい。
Further, inner leads 41 and 42 are formed in a region corresponding to the region 30 in FIG. The inner leads 41 and 42 are located in a region where the shape of the heat radiation fin lead 3 is cut off, and secure more wiring leads. These inner leads 41, 4
2 is relatively short with respect to the length of the other inner leads. Therefore, the inner lead 4
When a force due to the ultrasonic vibration is applied to the distal ends of the first and the second 42, a relatively strong repulsive force due to the vibration is likely to be generated with the connecting portion 6 as a fulcrum.

【0033】図6は、本発明の半導体装置の製造方法の
一実施の形態を示した図である。図6(a)において、
固定台50の上にヒートシンク1が設置されており、さ
らに、放熱フィンリード3が突起部8に填め込まれる様
子を示したものである。
FIG. 6 is a view showing one embodiment of a method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention. In FIG. 6A,
The heat sink 1 is installed on the fixing base 50, and the heat radiation fin leads 3 are fitted into the projections 8.

【0034】図6(b)において、放熱フィンリード3
が突起部8の段差部に圧接された様子を示したものであ
る。この状態においては、放熱フィンリード3は容易に
取り外すことができる。図6(c)は、放熱フィンリー
ド3の上部から固定枠51が押し当てられ、放熱フィン
リード3とヒートシンク1とを固定した状態で、突起部
8に向かって上部から工具52が押し当てられる様子を
示したものである。工具52の先端部の拡大した拡大図
において、この工具は、第1の面53と第2の面54と
を有して突起部55を形成している。第1の面53は、
ヒートシンクの主面に対して所定の傾斜角を有してお
り、第2の面53は、ヒートシンク主面に垂直である。
第1の面53と第2の面54との交差する部分で鋭角が
形成される。図6(d)は、この突起部55が、ヒート
シンク1の主面の外縁部近傍に押し当てられた様子を示
したものである。突起部55がヒートシンクに食い込
み、ヒートシンク1の主面の外縁部が放熱フィンリード
3の側に覆い被される。突起部の第1の面53及び第2
の面54とによって、ヒートシンクの外縁部に第1の側
面10と第2の側面11とを有した溝9が形成される。
In FIG. 6B, the radiation fin leads 3
Are pressed against the step of the projection 8. In this state, the radiation fin lead 3 can be easily removed. FIG. 6C shows a state where the fixing frame 51 is pressed from above the radiation fin lead 3, and the tool 52 is pressed from above to the projection 8 in a state where the radiation fin lead 3 and the heat sink 1 are fixed. It shows the situation. In the enlarged view of the tip of the tool 52, the tool has a first surface 53 and a second surface 54 to form a projection 55. The first surface 53
The second surface 53 has a predetermined inclination angle with respect to the main surface of the heat sink, and is perpendicular to the main surface of the heat sink.
An acute angle is formed at a portion where the first surface 53 and the second surface 54 intersect. FIG. 6D illustrates a state in which the protrusion 55 is pressed near the outer edge of the main surface of the heat sink 1. The protrusion 55 cuts into the heat sink, and the outer edge of the main surface of the heat sink 1 is covered on the heat radiation fin lead 3 side. First surface 53 and second surface of projection
With the surface 54, the groove 9 having the first side surface 10 and the second side surface 11 is formed at the outer edge of the heat sink.

【0035】図7は、本発明の製造装置の一実施の形態
を示した図である。図7(a)は、図1の半導体装置の
主要部のG−G’の断面に基づいてインナーリード42
に係る本発明の一実施の形態を示し、図7(b)は、構
成、作用の比較のための図である。
FIG. 7 is a view showing an embodiment of the manufacturing apparatus of the present invention. FIG. 7A shows an inner lead 42 based on a cross section GG ′ of a main part of the semiconductor device of FIG.
FIG. 7B is a diagram for comparing the configuration and operation.

【0036】図7(a)において、固定台60の上面に
一体化されたヒートシンク1と放熱フィンリード3が設
置され、固定台60に連なる壁体61の上面にインナー
リード42が設置される。ここで、中空状のキャピラリ
62にワイヤ22が通されており、超音波振動によって
ワイヤの先端部が半導体ペレット20に圧着された後、
さらにインナーリード42の先端部にワイヤ22の他の
部位が圧着されることでワイヤ接続がされる。インナー
リード42にキャピラリ62が接する面の反対面には壁
体61の面が接するので、インナーリード42が安定に
設置された状態でワイヤ接続をすることができる。図7
(b)は、インナーリード42にキャピラリ62が接す
る面の反対面と固定台60の面との間に隙間63が存在
する場合を示したものである。この隙間63があるため
に、壁体61の端部にインナーリード42が接する部位
64を支点としてバネが形成される。このため、超音波
振動による圧着時にインナーリード42にバネによる振
動が生じやすくワイヤ接続に不具合が生じる。比較試験
した結果、図7(b)のワイヤ接続の良品率は50%以
下であったのに対し、図7(a)のワイヤ接続の良品率
は約100%であった。
In FIG. 7A, the heat sink 1 and the radiating fin lead 3 integrated on the upper surface of the fixed base 60 are installed, and the inner lead 42 is installed on the upper surface of a wall 61 connected to the fixed base 60. Here, the wire 22 is passed through the hollow capillary 62, and after the tip of the wire is pressed against the semiconductor pellet 20 by ultrasonic vibration,
Further, another portion of the wire 22 is crimped to the distal end portion of the inner lead 42 to perform the wire connection. Since the surface of the wall body 61 is in contact with the surface of the inner lead 42 opposite to the surface of the capillary 62, wire connection can be performed with the inner lead 42 stably installed. FIG.
(B) shows a case where a gap 63 exists between the surface of the fixed base 60 and the surface opposite to the surface where the capillary 62 contacts the inner lead 42. Because of the gap 63, a spring is formed with a portion 64 where the inner lead 42 contacts the end of the wall 61 as a fulcrum. For this reason, the inner lead 42 is likely to be vibrated by the spring at the time of crimping by the ultrasonic vibration, which causes a problem in the wire connection. As a result of the comparative test, the non-defective rate of the wire connection in FIG. 7B was 50% or less, while the non-defective rate of the wire connection in FIG. 7A was about 100%.

【0037】図8は、図7の製造装置の平面及び断面図
を示したものである。図8(a)は、固定台60全体の
平面図であり、図8(b)は、本発明の主要部を示す拡
大図である。ここで、E−E’の断面をE−E’断面図
で示し、F−F’の断面をF−F’断面図で示す。
FIG. 8 shows a plan view and a sectional view of the manufacturing apparatus of FIG. FIG. 8A is a plan view of the entire fixing base 60, and FIG. 8B is an enlarged view showing a main part of the present invention. Here, a section taken along the line EE 'is shown in a sectional view taken along the line EE', and a section taken along the line FF 'is shown in a sectional view taken along the line FF'.

【0038】図8(a)において、孔70にボルトが貫
通しワイヤボンド装置本体に固着される。図8(a)
は、2連のコムリードに対応した形状を有しており、図
4のヒートシンクの平面形状に応じた凹部71を有す
る。
In FIG. 8A, a bolt penetrates the hole 70 and is fixed to the wire bonding apparatus main body. FIG. 8 (a)
Has a shape corresponding to the two comb leads, and has a concave portion 71 corresponding to the planar shape of the heat sink in FIG.

【0039】図8(b)は、凹部71近傍の拡大図であ
る。凹部71の中央部には固定台60を貫く貫通孔72
が空けられており、この貫通孔を介してヒートシンク1
の裏面が真空吸着される。図4の領域30に対応して、
凹部71に凹部の内部に向かって凸部73が形成されて
おり、ワイヤ接続時に凸部73の面によってインナーリ
ード41及び42の先端部が保持される。ヒートシンク
1の底面から放熱フィンリード3の底面までの長さが
1.0mmであり、この長さに対応して、凹部71の平
面から凸部73の平面までの長さは1.0mmに設定さ
れる。また、インナーリード5とインナーリード5の下
部に位置したヒートシンクの平面との隙間の長さが0.
2mmであり、この長さに対応して凹部71に隣接して
凸部73を含まない部分の平面と凸部73の面との段差
が0.2mmに設定される。
FIG. 8B is an enlarged view of the vicinity of the concave portion 71. A through hole 72 penetrating the fixing table 60 is provided at the center of the concave portion 71.
Is opened, and the heat sink 1 is inserted through the through hole.
Is vacuum-sucked. Corresponding to the area 30 in FIG.
A convex portion 73 is formed in the concave portion 71 toward the inside of the concave portion, and the tips of the inner leads 41 and 42 are held by the surface of the convex portion 73 when a wire is connected. The length from the bottom surface of the heat sink 1 to the bottom surface of the radiation fin lead 3 is 1.0 mm, and the length from the plane of the concave portion 71 to the plane of the convex portion 73 is set to 1.0 mm corresponding to this length. Is done. In addition, the length of the gap between the inner lead 5 and the plane of the heat sink located under the inner lead 5 is set to 0.
2 mm, and the step between the plane of the portion adjacent to the concave portion 71 and excluding the convex portion 73 and the surface of the convex portion 73 is set to 0.2 mm corresponding to this length.

【0040】図9は、固定台のワイヤボンド装置に占め
る位置を示した斜視図である。固定台60が、固定枠8
0に圧着されており、アーム81の先端部に圧着された
キャピラリ62によってワイヤ接続がされる。固定枠8
0には、真空吸引するための孔82が設けられており、
この孔82の先が貫通孔72に通じる。
FIG. 9 is a perspective view showing the position of the fixed base in the wire bonding apparatus. The fixed base 60 is fixed to the fixed frame 8.
The wire is connected by a capillary 62 crimped to the tip of the arm 81. Fixed frame 8
0 is provided with a hole 82 for vacuum suction,
The end of the hole 82 communicates with the through hole 72.

【0041】[0041]

【発明の効果】以上のように本発明は、ヒートシンク主
面の外縁部に機械的圧力を加えて前記ヒートシンク外縁
部に溝を形成し、この溝の外縁部を前記放熱フィンリー
ドに圧着したことによって、リベット部のための特別な
面積を必要とせずにヒートシンクと放熱フィンリードと
を圧着することができ、さらに、ヒートシンクの外縁部
を突起で押さえつけることでヒートシンクと放熱フィン
リードとの圧着が容易な半導体装置を実現できる。
As described above, according to the present invention, a groove is formed in the outer edge of the heat sink by applying a mechanical pressure to the outer edge of the main surface of the heat sink, and the outer edge of the groove is crimped to the radiation fin lead. The heat sink and the heat radiation fin lead can be crimped without requiring a special area for the rivet part, and the heat sink and the heat radiation fin lead are easily crimped by pressing the outer edge of the heat sink with the projection. Semiconductor device can be realized.

【0042】さらに、前記溝の第1の側面が前記ヒート
シンク主面の外縁部の内側から前記ヒートシンクの内部
方向に前記主面に対し傾斜を有して形成され、第2の側
面が前記主面に略垂直に形成されたことによって、半導
体ペレットとヒートシンクとをボンデイングさせるため
の平坦面を確保した本道体装置を実現できる。
Further, the first side surface of the groove is formed so as to be inclined from the inside of the outer edge of the heat sink main surface toward the inside of the heat sink, and the second side surface is formed of the main surface. As a result, the main body device having a flat surface for bonding the semiconductor pellet and the heat sink can be realized.

【0043】また、放熱フィンリード近傍において、ヒ
ートシンク主面からこの主面に垂直方向に見た前記ヒー
トシンクの外縁の投影が、前記放熱フィンリード近傍に
あって前記ヒートシンクの外縁部に沿って配置されたイ
ンナーリードの外縁部と交差しないことによって、前記
インナーリードの下部にこれらのインナーリードを載せ
る台を設置させることができる半導体装置を実現でき
る。
Further, in the vicinity of the radiating fin lead, the projection of the outer edge of the heat sink as viewed from the main surface of the heat sink in a direction perpendicular to the main surface is arranged along the outer edge of the heat sink near the radiating fin lead. By not intersecting the outer edges of the inner leads, it is possible to realize a semiconductor device in which a base on which these inner leads are mounted can be installed below the inner leads.

【0044】さらに、ヒートシンク主面の外縁部の内側
から前記ヒートシンク内部方向に前記主面に対し傾斜を
形成する第1の面、第1の面に隣接し前記ヒートシンク
主面に略垂直に形成された第2の面及び第2の面に隣接
し前記ヒートシンクの主面に並行な面とを有して第1及
び第2の面で突起を形成する金属工具を備え、前記ヒー
トシンク主面の垂直上方から前記ヒートシンク主面に前
記工具を圧接して前記第2の機械的圧力を発生させるこ
とによって、比較的弱い力で外縁部の形状に変形を起こ
させることができ、この外縁部を放熱フィンリード側に
容易に被せることができ、一方、第2の側面が主面に対
して垂直であるので、半導体ペレットとヒートシンクと
をボンデイングさせるための平坦面を確保する半導体装
置の製造方法を実現できる。
Further, a first surface which forms an inclination with respect to the main surface from the inside of the outer edge of the main surface of the heat sink toward the inside of the heat sink, is formed adjacent to the first surface and substantially perpendicular to the main surface of the heat sink. A metal tool having a second surface and a surface adjacent to the second surface and parallel to the main surface of the heat sink, and forming a projection on the first and second surfaces; By pressing the tool against the heat sink main surface from above to generate the second mechanical pressure, the shape of the outer edge can be deformed by a relatively weak force. Since the second side surface is perpendicular to the main surface, the semiconductor device can be easily covered on the lead side. Therefore, a method of manufacturing a semiconductor device which secures a flat surface for bonding a semiconductor pellet and a heat sink is implemented. It can be.

【0045】さらに、ヒートシンクを設置する凹部と、
この凹部の周囲を形成する壁体とを備え、前記凹部に平
行な前記壁体の上面が放熱フィンリード近傍のインナー
リードと接するように前記壁体の高さが設定されたこと
によって、キャピラリが第1のインナーリードを圧接し
たときに第1のインナーリードのたわみをなくすことが
でき、安定にワイヤボンドを行うことができる半導体装
置の製造装置を実現できる。
Further, a concave portion for installing a heat sink,
A wall forming the periphery of the recess, and the height of the wall is set such that the upper surface of the wall parallel to the recess is in contact with the inner lead near the radiation fin lead, so that the capillary is When the first inner lead is pressed, the bending of the first inner lead can be eliminated, and a semiconductor device manufacturing apparatus capable of performing stable wire bonding can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態における半導体装置の主
要部を示す平面図
FIG. 1 is a plan view illustrating a main part of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention;

【図2】図1の拡大図FIG. 2 is an enlarged view of FIG. 1;

【図3】本発明の一実施の形態における半導体装置の断
面及び平面を示した図
FIG. 3 is a diagram showing a cross section and a plane of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention;

【図4】図1のヒートシンクの平面及び断面を示した図FIG. 4 is a diagram showing a plane and a cross section of the heat sink of FIG. 1;

【図5】図1のインナーリード、リード、放熱フィン及
び放熱フィンリードの平面図
FIG. 5 is a plan view of the inner lead, the lead, the radiation fin, and the radiation fin lead of FIG. 1;

【図6】本発明の半導体装置の製造方法の一実施の形態
を示した図
FIG. 6 is a diagram showing one embodiment of a method for manufacturing a semiconductor device of the present invention.

【図7】本発明の製造装置の一実施の形態を示した図FIG. 7 is a diagram showing an embodiment of the manufacturing apparatus of the present invention.

【図8】図7の製造装置の平面及び断面を示した図8 shows a plan view and a cross section of the manufacturing apparatus of FIG. 7;

【図9】固定台のワイヤボンド装置に占める位置を示し
た斜視図
FIG. 9 is a perspective view showing the position of the fixing base in the wire bonding apparatus.

【図10】従来の半導体装置を示す図FIG. 10 shows a conventional semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ヒートシンク 2 放熱フィン 3 放熱フィンリード 4 領域 5 インナーリード 6 接続領域 7 リード 8 突起部 9 溝 10、11 側面 20 半導体ペレット 21 パッケージ 22 ワイヤ 30 領域 40 貫通孔 41、42 インナーリード 50 固定台 51 固定枠 52 工具 53、54 面 55 突起部 60 固定台 61 壁体 62 キャピラリ 63 隙間 64 部位 70 孔 71 凹部 72 貫通孔 73 凸部 80 固定枠 81 アーム 82 孔 100 半導体ペレット 101 ボンデイング層 102 タブ 103 放熱フィンリード 104 樹脂パッケージ 105 放熱フィン 106 ヒートシンク 107 リベット部 108 結合孔 REFERENCE SIGNS LIST 1 heat sink 2 heat radiation fin 3 heat radiation fin lead 4 region 5 inner lead 6 connection region 7 lead 8 protrusion 9 groove 10, 11 side surface 20 semiconductor pellet 21 package 22 wire 30 region 40 through hole 41, 42 inner lead 50 fixing base 51 fixed Frame 52 Tool 53, 54 Surface 55 Projection 60 Fixing base 61 Wall 62 Capillary 63 Gap 64 Portion 70 Hole 71 Depression 72 Through hole 73 Convex 80 Fixing frame 81 Arm 82 Hole 100 Semiconductor pellet 101 Bonding layer 102 Tab 103 Radiation fin Lead 104 resin package 105 radiating fin 106 heat sink 107 rivet part 108 coupling hole

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一主面に半導体ペレットがボンデイング
され、この主面に対する側面に階段状の段差部を有した
ヒートシンクと、前記主面に隣接した段差部の形状に沿
って前記形状を包含するようにして金属板の主面に貫通
孔が形成された放熱フィンリードとを備え、前記貫通孔
が前記ヒートシンク側面の段差部に圧着され、前記半導
体ペレット、ヒートシンク及び放熱フィンリードが封止
された半導体装置であって、 前記ヒートシンク主面の外縁部に機械的圧力を加えて前
記ヒートシンク外縁部に溝を形成し、この溝の外縁部を
前記放熱フィンリードに圧着したことを特徴とする半導
体装置。
1. A heat sink having a stepped step formed on a side surface of a semiconductor pellet on one main surface, and a stepped step formed on a side surface of the semiconductor pellet, the shape including the step along the shape of the step adjacent to the main surface. And a radiating fin lead having a through hole formed in the main surface of the metal plate as described above, wherein the through hole is press-fitted to a step on the side surface of the heat sink, and the semiconductor pellet, the heat sink and the radiating fin lead are sealed. A semiconductor device, wherein a groove is formed in an outer edge portion of the heat sink by applying a mechanical pressure to an outer edge portion of the heat sink main surface, and the outer edge portion of the groove is crimped to the heat radiation fin lead. .
【請求項2】 前記溝の第1の側面が前記ヒートシンク
主面の外縁部の内側から前記ヒートシンクの内部方向に
前記主面に対し傾斜を有して形成され、第2の側面が前
記主面に略垂直に形成されたことを特徴とする請求項1
記載の半導体装置。
2. A first side surface of the groove is formed so as to be inclined from the inside of an outer edge of the heat sink main surface to an inside direction of the heat sink with respect to the main surface, and a second side surface is formed by the main surface. 2. The device according to claim 1, wherein the first member is formed substantially perpendicular to the first member.
13. The semiconductor device according to claim 1.
【請求項3】 放熱フィンリード近傍において、ヒート
シンク主面からこの主面に垂直方向に見た前記ヒートシ
ンクの外縁の投影が、前記放熱フィンリード近傍にあっ
て前記ヒートシンクの外縁部に沿って配置されたインナ
ーリードの外縁部と交差しないことを特徴とする半導体
装置。
3. A projection of an outer edge of the heat sink viewed from a main surface of the heat sink in a direction perpendicular to the main surface in the vicinity of the heat radiation fin lead, is disposed along the outer edge of the heat sink in the vicinity of the heat radiation fin lead. A semiconductor device which does not intersect the outer edge of the inner lead.
【請求項4】 主面に対する側面に階段状の段差部を有
したヒートシンクと、前記主面に隣接した段差部の形状
に沿って前記形状を包含するようにして金属板の主面に
貫通孔が形成された放熱フィンリードとを備え、前記放
熱フィンリードを前記ヒートシンクに第1の機械的圧力
によって圧接させた後、前記主面の垂直上方から第2の
機械的圧力を加えることによって前記ヒートシンクの外
縁部を前記放熱フィンリードの貫通孔に圧着する半導体
装置の製造方法であって、 ヒートシンク主面の外縁部の内側から前記ヒートシンク
内部方向に前記主面に対し傾斜を形成する第1の面、第
1の面に隣接し前記ヒートシンク主面に略垂直に形成さ
れた第2の面及び第2の面に隣接し前記ヒートシンクの
主面に並行な面とを有して第1及び第2の面で突起を形
成する金属工具を備え、前記ヒートシンク主面の垂直上
方から前記ヒートシンク主面に前記工具を圧接して前記
第2の機械的圧力を発生させることを特徴とする半導体
装置の製造方法。
4. A heat sink having a step-shaped step on the side surface with respect to the main surface, and a through hole formed in the main surface of the metal plate so as to include the shape along the shape of the step adjacent to the main surface. A heat radiation fin lead formed on the heat sink, the heat radiation fin lead being pressed against the heat sink by a first mechanical pressure, and then applying a second mechanical pressure from above the main surface vertically. A method of manufacturing a semiconductor device in which an outer edge of the heat sink fin is pressed into a through-hole of the heat radiation fin lead, wherein a first surface is formed to be inclined from the inside of the outer edge of the main surface of the heat sink toward the heat sink toward the main surface. A second surface adjacent to the first surface and formed substantially perpendicular to the main surface of the heat sink; and a second surface adjacent to the second surface and parallel to the main surface of the heat sink. In terms of Comprising a metal tool to form the raised, a method of manufacturing a semiconductor device, characterized in that for generating the second mechanical pressure from the vertical upward pressure to the tool to the heat sink main surface of the heat sink main surface.
【請求項5】 ワイヤ接続の工程において一体化された
放熱フィンリード、インナーリード及びヒートシンクを
設置する製造装置であって、ヒートシンクを設置する凹
部と、この凹部の周囲を形成する壁体とを備え、前記凹
部に平行な前記壁体の上面が放熱フィンリード近傍のイ
ンナーリードと接するように前記壁体の高さが設定され
たことを特徴とする半導体装置の製造装置。
5. A manufacturing apparatus for installing a radiating fin lead, an inner lead, and a heat sink integrated in a wire connection step, comprising: a recess for installing a heat sink; and a wall forming a periphery of the recess. A height of the wall body is set such that an upper surface of the wall body parallel to the recess is in contact with an inner lead near a radiation fin lead.
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