JPH11352687A - Photosensitive resin composition, its production, photosensitive resin original printing plate and photosensitive resin printing plate using the composition - Google Patents
Photosensitive resin composition, its production, photosensitive resin original printing plate and photosensitive resin printing plate using the compositionInfo
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- JPH11352687A JPH11352687A JP15630698A JP15630698A JPH11352687A JP H11352687 A JPH11352687 A JP H11352687A JP 15630698 A JP15630698 A JP 15630698A JP 15630698 A JP15630698 A JP 15630698A JP H11352687 A JPH11352687 A JP H11352687A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、水系現像液で現像
可能な感光性樹脂印刷用原版の感光層に使用できる感光
性樹脂組成物、その製造方法、それを用いた感光性樹脂
印刷用原版および感光性樹脂印刷版に関し、特にフレキ
ソ印刷用として有用な感光性樹脂組成物、その製造方
法、それを用いた感光性樹脂印刷用原版および感光性樹
脂印刷版に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photosensitive resin composition which can be used in a photosensitive layer of a photosensitive resin printing original plate which can be developed with an aqueous developer, a method for producing the same, and a photosensitive resin printing original plate using the same. In particular, the present invention relates to a photosensitive resin composition useful for flexographic printing, a method for producing the same, a photosensitive resin printing plate using the same, and a photosensitive resin printing plate.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来のフレキソ印刷用の感光性樹脂原版
としては、有機溶剤で現像するものが知られているが、
毒性、引火性等の人体および環境への安全性に問題があ
った。そのため、これらに代わるものとして、水系現像
液で現像可能な印刷用原版が提案されており、例えば以
下の感光性樹脂組成物からなるものである。2. Description of the Related Art As a conventional photosensitive resin original plate for flexographic printing, one developed with an organic solvent is known.
There were problems with human and environmental safety such as toxicity and flammability. Therefore, as an alternative to these, a printing original plate that can be developed with an aqueous developer has been proposed, and for example, comprises a photosensitive resin composition described below.
【0003】共役ジエン系炭化水素、α,β−エチレ
ン性不飽和カルボン酸またはその塩、モノオレフィン系
不飽和化合物を単独重合または共重合して得られる共重
合体と、光重合性不飽和単量体、および光増感剤を含有
する感光性樹脂組成物(特開昭52−134655号公
報、特開昭53−10648号公報、特開昭61−22
339号公報参照)、共役ジエン系炭化水素重合体ま
たは共役ジエン系炭化水素とモノオレフィン系不飽和化
合物との共重合体、親水性高分子化合物、非気体性エチ
レン性不飽和化合物および光重合開始剤を必須成分とし
て含有する感光性エラストマー組成物(特開昭60−2
11451号公報参照)、α,β−エチレン性不飽和
基を有する疎水性オリゴマー、エラストマー水膨潤性物
質および光重合開始剤を必須成分として含有する感光性
樹脂組成物(特開昭60−173055号公報参照)等
がある。A copolymer obtained by homopolymerizing or copolymerizing a conjugated diene hydrocarbon, an α, β-ethylenically unsaturated carboxylic acid or a salt thereof, or a monoolefinic unsaturated compound, and a photopolymerizable unsaturated monomer Resin composition containing a monomer and a photosensitizer (JP-A-52-134655, JP-A-53-10648, JP-A-61-22)
No. 339), a conjugated diene-based hydrocarbon polymer or a copolymer of a conjugated diene-based hydrocarbon and a monoolefinic unsaturated compound, a hydrophilic polymer compound, a non-gaseous ethylenically unsaturated compound, and photopolymerization initiation Elastomer composition containing an agent as an essential component (JP-A-60-2
No. 11451), a photosensitive resin composition containing as essential components a hydrophobic oligomer having an α, β-ethylenically unsaturated group, an elastomer water-swellable substance and a photopolymerization initiator (Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-173055). Gazette).
【0004】また、印刷版の機械的強度、反発弾性等
の性能の向上を目的として、硬質の有機樹脂微粒子を含
有する感光性樹脂組成物(特開昭63−8648号公報
参照)、水現像性の付与、水性インク耐性の付与およ
び印刷性の向上を目的として、架橋性樹脂微粒子を含有
する感光性樹脂組成物(特開平2−175702号公
報、特開平3−228060号公報、特開平4−293
907号公報、特開平4−293909号公報、特開平
4−294353号公報、特開平4−340968号公
報、特開平5−32743号公報、特開平5−1504
51号公報、特開平5−204139号公報参照)、
印刷版のインキ受容性向上を目的として2相構造を有
し、ジアゾ化合物、重クロム酸塩を連続相に含み、分散
相に10μm以下の粒子を含有する感光性樹脂組成物
(特公昭59−36731号公報参照)等がある。In order to improve the mechanical strength and rebound resilience of the printing plate, a photosensitive resin composition containing hard organic resin fine particles (see JP-A-63-8648), Resin compositions containing fine particles of a crosslinkable resin (JP-A-2-175702, JP-A-3-228060, JP-A-Heisei 4) for the purpose of imparting properties, imparting aqueous ink resistance, and improving printability. -293
907, JP-A-4-293909, JP-A-4-294353, JP-A-4-340968, JP-A-5-32743, JP-A-5-1504
No. 51, JP-A-5-204139),
A photosensitive resin composition having a two-phase structure for the purpose of improving the ink receptivity of a printing plate, containing a diazo compound and a dichromate in a continuous phase, and containing particles of 10 μm or less in a dispersed phase (Japanese Patent Publication No. No. 36731).
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述のの
感光性樹脂組成物を用いた印刷用原版においては、水系
の現像液、例えばアルカリ水溶液またはアルカリ水溶液
−有機溶剤系による現像は可能であるが、pH5.0〜
9.0のいわゆる生活用水による現像が困難であり、か
つ印刷版のレリーフ部の耐水性、水および/またはアル
コールを含有するインキに対する耐性(以下、耐インキ
性ともいう)が不充分であるといった問題がある。ま
た、レリーフ部の耐水性を発現するために、光重合性エ
チレン性不飽和化合物の含有量を多くすると、光重合前
の感光性樹脂組成物の粘度が小さくなって作業性が低下
し、また保存時に樹脂が流れだすコールドフロー現象が
生じ、また光重合後は、架橋密度が高すぎてゴム弾性が
損なわれる等の問題が生じる。However, in the printing original plate using the above-mentioned photosensitive resin composition, development with an aqueous developer, for example, an aqueous alkaline solution or an aqueous alkaline solution-organic solvent system is possible. , PH 5.0-
9.0 is difficult to develop with so-called domestic water, and the relief of the printing plate is insufficient in water resistance and resistance to ink containing water and / or alcohol (hereinafter also referred to as ink resistance). There's a problem. Further, in order to express the water resistance of the relief portion, when the content of the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound is increased, the workability is reduced due to a decrease in the viscosity of the photosensitive resin composition before photopolymerization, and A cold flow phenomenon in which the resin starts to flow during storage occurs, and after photopolymerization, problems such as a loss of rubber elasticity due to an excessively high crosslink density occur.
【0006】上述のまたはの感光性樹脂組成物を用
いた印刷用原版においては、水系現像を可能とするため
には親水性成分が連続相に含まれていることが必要であ
り、その場合、親水性成分の含有量は熱力学的な安全性
上、分散相形成成分の含有量よりも多くする必要があ
る。そのため、レリーフ部の耐水性(特に耐インキ性)
が劣る。上記の場合、レリーフ部の耐水性を発現するた
めに、光重合性不飽和化合物の含有量を多くすると、光
重合前の感光性樹脂組成物の粘度が小さくなって作業性
が低下し、また保存時に樹脂が流れだすコールドフロー
現象が生じ、また光重合後は、架橋密度が高すぎてゴム
弾性が損なわれる等の問題が生じる。他方、ゴム弾性を
維持するために共役ジエン系炭化水素重合体等の含有量
を多くすると、上記と同様に感光性樹脂組成物の粘度が
小さくなって作業性が低下し、また保存時に樹脂が流れ
だすコールドフロー現象が生じる。In a printing plate using the above-mentioned or the photosensitive resin composition, it is necessary that a hydrophilic component is contained in a continuous phase in order to enable aqueous development. The content of the hydrophilic component needs to be larger than the content of the dispersed phase-forming component in terms of thermodynamic safety. Therefore, the water resistance of the relief part (especially the ink resistance)
Is inferior. In the above case, in order to express the water resistance of the relief portion, when the content of the photopolymerizable unsaturated compound is increased, the viscosity of the photosensitive resin composition before photopolymerization decreases, and the workability decreases, and A cold flow phenomenon in which the resin starts to flow during storage occurs, and after photopolymerization, problems such as a loss of rubber elasticity due to an excessively high crosslink density occur. On the other hand, when the content of the conjugated diene-based hydrocarbon polymer or the like is increased in order to maintain rubber elasticity, the viscosity of the photosensitive resin composition decreases similarly to the above, the workability decreases, and the resin during storage is reduced. The cold flow phenomenon that starts to flow occurs.
【0007】上述のの感光性樹脂組成物を用いた印刷
用原版においては、印刷版のレリーフ部の画像再現性、
解像度、硬度、ゴム弾性、機械的強度、および水現像性
と耐水性(特に耐インキ性)のバランスが硬質の有機樹
脂微粒子の粒径と含有量に支配され、各特性を同時に満
足することが困難である。[0007] In the printing plate using the photosensitive resin composition described above, the image reproducibility of the relief portion of the printing plate,
The balance between resolution, hardness, rubber elasticity, mechanical strength, and water developability and water resistance (especially ink resistance) is governed by the particle size and content of the hard organic resin fine particles, and each property can be satisfied simultaneously. Have difficulty.
【0008】上述のの感光性樹脂組成物を用いた印刷
用原版においては、架橋樹脂微粒子により水現像性を付
与することが可能となるが、親水性成分が架橋樹脂微粒
子に結合しているため、樹脂微粒子同志の融着、凝集に
よって、安定した性能を発現できなかったり、粒子の分
布状態が変化するために光重合前に感光性樹脂組成物の
粘度が変動し、作業性の低下およびコールドフロー現象
が生じたりするという問題がある。In the printing original plate using the above-mentioned photosensitive resin composition, water developability can be imparted by the crosslinked resin fine particles, but the hydrophilic component is bonded to the crosslinked resin fine particles. Due to the fusion and agglomeration of resin fine particles, stable performance cannot be exhibited or the distribution state of particles changes, causing the viscosity of the photosensitive resin composition to fluctuate before photopolymerization. There is a problem that a flow phenomenon occurs.
【0009】上述のの感光性樹脂組成物を用いた印刷
用原版においては、平版印刷版等の薄膜版では実用性が
あるが、フレキソ版等の厚膜版に適用することは困難で
ある。この場合も、上述のと同様に、感光性樹脂組成
物中の樹脂微粒子同士の融着、凝集によって、安定した
性能を発現できなかったり、粒子の分布状態が変化する
ために光重合前に感光性樹脂組成物の粘度が変動し、作
業性の低下およびコールドフロー現象が生じたりすると
いう問題がある。In the printing original plate using the above-mentioned photosensitive resin composition, a thin plate such as a planographic printing plate is practical, but it is difficult to apply it to a thick plate such as a flexographic plate. Also in this case, similarly to the above, due to the fusion and aggregation of the resin fine particles in the photosensitive resin composition, stable performance cannot be exhibited or the distribution state of the particles changes, so that the photosensitive particles are exposed before photopolymerization. There is a problem that the viscosity of the conductive resin composition fluctuates, and the workability is reduced and the cold flow phenomenon occurs.
【0010】感光性樹脂組成物には、相溶性が良好であ
り、光散乱率が低く、屈折率が適正であることが要求さ
れるが、上述の水系現像を可能にするための親水性成分
は極性が高いため、水現像性と耐インキ性の両立および
良好な感光特性の発現のために、該親水性成分と混合し
たときに十分に相溶し得るような疎水性成分の種類、お
よび親水性成分と疎水性成分との混合比率が限定される
という問題がある。さらに、親水性成分であるポリマー
を構成するモノマーの共重合比率(例えば、異なる親水
基を有するモノマーの共重合比、親水基を有するモノマ
ーと疎水基を有するモノマーの共重合比)、疎水性成分
であるポリマーを構成するモノマーの共重合比率(例え
ば、異なる疎水基を有するモノマーの共重合比)、使用
可能な光重合成分、その他の構成成分、これらの混合比
率等が限定されるという問題がある。The photosensitive resin composition is required to have good compatibility, low light scattering coefficient and proper refractive index. However, the hydrophilic component for enabling the above-mentioned aqueous development is required. Has a high polarity, so that it is compatible with water developability and ink resistance and develops good photosensitivity, and a type of a hydrophobic component that can be sufficiently compatible when mixed with the hydrophilic component, and There is a problem that the mixing ratio between the hydrophilic component and the hydrophobic component is limited. Furthermore, the copolymerization ratio of the monomers constituting the polymer as the hydrophilic component (for example, the copolymerization ratio of the monomer having a different hydrophilic group, the copolymerization ratio of the monomer having a hydrophilic group and the monomer having a hydrophobic group), the hydrophobic component However, there is a problem that the copolymerization ratio of the monomers constituting the polymer (for example, the copolymerization ratio of monomers having different hydrophobic groups), usable photopolymerization components, other components, and the mixing ratio thereof are limited. is there.
【0011】本発明は、上記の課題を解決するためにな
されたものであり、その目的とするところは、分散相の
凝集がなく、作業性および保存安定性に優れ、水系現像
性および耐水性(特に耐インキ性)という相反する要求
を満足し、レリーフ再現性が良好で、優れた弾性を有す
る感光性樹脂印刷用原版および感光性樹脂印刷版を提供
することを目的とする。The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to prevent dispersion phase aggregation, excellent workability and storage stability, aqueous developing property and water resistance. It is an object of the present invention to provide a photosensitive resin printing plate and a photosensitive resin printing plate that satisfy the conflicting requirements of (especially ink resistance), have good relief reproducibility, and have excellent elasticity.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、感光性樹
脂の相構造において、連続相に所定の構造、分子量、分
子量分布および粘度を有するエチレン性不飽和化合物を
含有させることにより、上記の種々の問題が解決される
ことを見出し、本発明を完成するに至った。Means for Solving the Problems In the phase structure of the photosensitive resin, the present inventors have proposed that the continuous phase contains an ethylenically unsaturated compound having a predetermined structure, a molecular weight, a molecular weight distribution and a viscosity. Have been found to solve the various problems described above, and have completed the present invention.
【0013】即ち、本発明は、以下の特徴を有する。 (1)連続相と、当該連続相に分散された微粒子状の分散
相からなる相分離構造を有する感光性樹脂組成物であっ
て、連続相が、数平均分子量Mnが500以上、Mnに
対する重量平均分子量Mwの割合Mw/Mnが2以上、
かつ20℃における粘度が2000mPa/s以上の、
共役ジエン鎖を有するエチレン性不飽和化合物および非
共役ジエン鎖を有するエチレン性不飽和化合物を含有す
ることを特徴とする感光性樹脂組成物。 (2)分散相が、疎水性ポリマーを含有するコア相と、当
該コア相を被覆し、かつ親水性ポリマーを含有するシェ
ル相とからなるコアシェル粒子である上記 (1)の感光性
樹脂組成物。 (3)連続相が、コア相に含有される疎水性ポリマーとは
異なり、かつ当該エチレン性不飽和化合物と相溶する疎
水性ポリマーをさらに含有する上記 (2)に記載の感光性
樹脂組成物。 (4)数平均分子量Mnが500以上、Mnに対する重量
平均分子量Mwの割合Mw/Mnが2以上、かつ20℃
における粘度が2000mPa/s以上の、共役ジエン
鎖を有するエチレン性不飽和化合物および非共役ジエン
鎖を有するエチレン性不飽和化合物と、親水性ポリマー
と、疎水性ポリマーと、当該疎水性ポリマーとは異な
り、かつ当該エチレン性不飽和化合物と相溶する疎水性
ポリマーと、当該親水性ポリマーを溶解または膨潤させ
る溶剤とを混合し、相分離によって連続相とコアシェル
粒子の分散相とを形成させることを特徴とする感光性樹
脂組成物の製造方法。 (5)支持体と、上記請求項(1) 〜(3) のいずれかに記載
の感光性樹脂組成物を含有する感光層とが積層されてな
ることを特徴とする感光性樹脂印刷用原版。 (6)上記(5) に記載の感光性樹脂印刷用原版を露光、次
いで現像してなることを特徴とする感光性樹脂印刷版。That is, the present invention has the following features. (1) A photosensitive resin composition having a phase separation structure consisting of a continuous phase and a particulate dispersed phase dispersed in the continuous phase, wherein the continuous phase has a number average molecular weight Mn of 500 or more and a weight relative to Mn. The ratio Mw / Mn of the average molecular weight Mw is 2 or more,
And a viscosity at 20 ° C. of 2000 mPa / s or more,
A photosensitive resin composition comprising an ethylenically unsaturated compound having a conjugated diene chain and an ethylenically unsaturated compound having a non-conjugated diene chain. (2) The photosensitive resin composition of (1) above, wherein the dispersed phase is a core-shell particle comprising a core phase containing a hydrophobic polymer and a shell phase containing the hydrophilic polymer and covering the core phase. . (3) The photosensitive resin composition according to (2), wherein the continuous phase is different from the hydrophobic polymer contained in the core phase, and further contains a hydrophobic polymer compatible with the ethylenically unsaturated compound. . (4) Number average molecular weight Mn is 500 or more, ratio of weight average molecular weight Mw to Mn Mw / Mn is 2 or more, and 20 ° C.
The viscosity at 2000 mPa / s or more is different from the ethylenically unsaturated compound having a conjugated diene chain and the ethylenically unsaturated compound having a non-conjugated diene chain, a hydrophilic polymer, a hydrophobic polymer, and the hydrophobic polymer. And mixing a hydrophobic polymer that is compatible with the ethylenically unsaturated compound and a solvent that dissolves or swells the hydrophilic polymer to form a continuous phase and a dispersed phase of core-shell particles by phase separation. A method for producing a photosensitive resin composition. (5) A support, and an original plate for photosensitive resin printing, wherein a photosensitive layer containing the photosensitive resin composition according to any one of claims (1) to (3) is laminated. . (6) A photosensitive resin printing plate, which is obtained by exposing and then developing the photosensitive resin printing original plate according to (5).
【0014】[0014]
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の感光性樹脂組成物は、連続相と、当該連
続相に分散された微粒子状の分散相からなる相分離構造
を有する。このような相構造としては、例えば以下の3
つの構造が例示される。 疎水性ポリマーが粒子状の分散相で、親水性ポリマー
がその周りを取り囲む連続相となった構造。 疎水性ポリマーがコアで親水性ポリマーがシェルとな
ったコアシェル粒子が分散相であり、さらに当該疎水性
ポリマーとは異なる疎水性ポリマーを主成分とする連続
相が分散相の周りを取り囲む構造。 親水性ポリマーが粒子状の分散相で、疎水性ポリマー
がその周りを取り囲む連続相となった構造。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail. The photosensitive resin composition of the present invention has a phase separation structure composed of a continuous phase and a particulate dispersed phase dispersed in the continuous phase. As such a phase structure, for example, the following 3
Two structures are illustrated. A structure in which the hydrophobic polymer is a particulate dispersed phase and the hydrophilic polymer is a continuous phase surrounding it. A core-shell particle having a hydrophobic polymer as a core and a hydrophilic polymer as a shell is a dispersed phase, and a continuous phase mainly composed of a hydrophobic polymer different from the hydrophobic polymer surrounds the dispersed phase. A structure in which the hydrophilic polymer is a particulate dispersed phase and the hydrophobic polymer is a continuous phase surrounding it.
【0015】以下、の相構造を有する感光性樹脂組成
物に基づいて本発明を詳細に説明する。の相構造は、
疎水性ポリマーの含有量を多く親水性ポリマーの含有量
を少なくできるので、このように感光性樹脂組成物を用
いた感光層は耐インク性を有し、かつ現像時には、分散
相の親水性ポリマーからなるシェルが吸水膨潤して現像
液中に分散するが、同時に疎水性ポリマーからなるコア
も現像液中に分散するので、耐インク性を保持したまま
で水現像性を発現できる。Hereinafter, the present invention will be described in detail based on a photosensitive resin composition having the following phase structure. The phase structure of
Since the content of the hydrophobic polymer can be increased and the content of the hydrophilic polymer can be reduced, the photosensitive layer using the photosensitive resin composition has ink resistance, and at the time of development, the hydrophilic polymer in the dispersed phase is used. Is swelled by water absorption and dispersed in the developing solution, but at the same time, the core made of a hydrophobic polymer is also dispersed in the developing solution, so that water developability can be exhibited while maintaining ink resistance.
【0016】の相構造を有する感光性樹脂組成物は、
光重合により疎水性ポリマーとなり得る特定のエチレン
性不飽和化合物を含有する連続相cと、疎水性ポリマー
を含有するコア相aと、当該コア相を被覆しかつ親水性
ポリマーを含有するシェル相bとからなるコアシェル粒
子が、連続相cに分散された、相分離構造を有する感光
性樹脂組成物である。The photosensitive resin composition having the phase structure of
A continuous phase c containing a specific ethylenically unsaturated compound which can become a hydrophobic polymer by photopolymerization; a core phase a containing a hydrophobic polymer; and a shell phase b covering the core phase and containing a hydrophilic polymer Is a photosensitive resin composition having a phase-separated structure in which the core-shell particles are dispersed in the continuous phase c.
【0017】なお、本発明において、親水性とは、水ま
たは水を主成分として含有する現像液に対して溶解また
は膨潤する性質をいい、疎水性とは、水または水を主成
分ととして含有する現像液に対して溶解および膨潤しな
い性質をいう。In the present invention, the term hydrophilic refers to a property of dissolving or swelling in water or a developer containing water as a main component, and the term hydrophobic refers to a property containing water or water as a main component. It does not dissolve or swell in a developing solution.
【0018】本発明の感光性樹脂組成物において、シェ
ル相bは吸着および/または会合等によりコア相aの回
りに形成され、このコアシェル粒子は連続相cとは結合
しないものであるので、コア相a、シェル相bおよび連
続相cに使用される化合物は、これらの相が互いに結合
せずに相分離するような化合物が選択される。In the photosensitive resin composition of the present invention, the shell phase b is formed around the core phase a by adsorption and / or association, and the core-shell particles are not bonded to the continuous phase c. The compounds used for the phase a, the shell phase b and the continuous phase c are selected such that these phases are not bonded to each other but are phase separated.
【0019】a.コア相 本発明においてはコア相を形成するポリマーとして、耐
インキ性およびゴム弾性を感光性樹脂組成物に発現させ
るために疎水性ポリマー(以下、コア相形成疎水性ポリ
マーともいう)が使用される。このような疎水性ポリマ
ーとしては、汎用エラストマーとして使用される疎水性
ポリマーが挙げられ、具体的には、非共役ジエン系エラ
ストマー、共役ジエン系エラストマーが挙げられる。A. Core Phase In the present invention, a hydrophobic polymer (hereinafter, also referred to as a core phase forming hydrophobic polymer) is used as a polymer forming the core phase in order to make the photosensitive resin composition exhibit ink resistance and rubber elasticity. . Examples of such a hydrophobic polymer include hydrophobic polymers used as general-purpose elastomers, and specifically include non-conjugated diene-based elastomers and conjugated diene-based elastomers.
【0020】1)非共役ジエン系エラストマー 非共役ジエン系エラストマーとしては、塩素原子を有す
るポリオレフィン系エラストマー、および塩素原子を有
しないポリオレフィン系エラストマーが挙げられ、これ
らのいずれも好適に使用される。塩素原子を有するポリ
オレフィン系エラストマーとしては、ポリオレフィン系
エラストマーを塩素化することにより得られるエラスト
マー;塩素原子を有する単量体の重合により得られるエ
ラストマー;塩素原子を含有する単量体と塩素原子を有
しない単量体との共重合により得られるエラストマー;
あるいは塩素または塩素原子を有する活性物質と塩素原
子を有しない重合体との反応により得られるエラストマ
ーが挙げられる。このような塩素原子を有するポリオレ
フィン系エラストマーの具体例としては、例えば、塩素
化ポリエチレン(昭和電工(株)製エラスレン、ダイソ
ー(株)製ダイソラック、ヘキスト(株)製HOLTA
LIZ、ダウケミカル(株)製DOW−CPE)、塩素
化エチレン−プロピレンゴム(昭和電工(株)製エラス
レン)、塩化ブチルゴム、塩素化ポリプロピレン、塩化
ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、エピクロロヒド
リンゴム、エピクロロヒドリンとエチレンオキシドとの
共重合体、エピクロロヒドリンとプロピレンオキシドと
の共重合体、エピクロロヒドリンとアリルグリシジルエ
ーテルとの共重合体(ダイソー(株)製エピクロマー、
グッドリッチ(株)製HYDRIN、日本ゼオン(株)
製ゼオスパン、Hercules(株)製HERCLO
R)等が例示され、中でも塩素化ポリエチレン、塩素化
エチレンプロピレンゴムが好ましい。これらのポリマー
は、単独であるいは2種以上を組み合わせて使用され
る。1) Non-conjugated diene-based elastomer Examples of the non-conjugated diene-based elastomer include a polyolefin-based elastomer having a chlorine atom and a polyolefin-based elastomer having no chlorine atom, and any of them is preferably used. Examples of the polyolefin elastomer having a chlorine atom include an elastomer obtained by chlorinating a polyolefin elastomer; an elastomer obtained by polymerizing a monomer having a chlorine atom; a monomer having a chlorine atom and having a chlorine atom. Elastomers obtained by copolymerization with unreacted monomers;
Alternatively, an elastomer obtained by reacting chlorine or an active substance having a chlorine atom with a polymer having no chlorine atom can be used. Specific examples of such a polyolefin-based elastomer having a chlorine atom include, for example, chlorinated polyethylene (Eraslen manufactured by Showa Denko KK, Daisorak manufactured by Daiso, HOLTA manufactured by Hoechst)
LIZ, DOW-CPE manufactured by Dow Chemical Co., Ltd., chlorinated ethylene-propylene rubber (Eraslen manufactured by Showa Denko KK), butyl chloride rubber, chlorinated polypropylene, vinyl chloride copolymer, polyvinylidene chloride, epichlorohydrin rubber , A copolymer of epichlorohydrin and ethylene oxide, a copolymer of epichlorohydrin and propylene oxide, a copolymer of epichlorohydrin and allyl glycidyl ether (Epichromer manufactured by Daiso Corporation,
Goodrich Co., Ltd. HYDRIN, Nippon Zeon Co., Ltd.
Zeospan manufactured by Hercules Co., Ltd.
R) and the like are exemplified, and among them, chlorinated polyethylene and chlorinated ethylene propylene rubber are preferable. These polymers are used alone or in combination of two or more.
【0021】上記の塩素原子を有するポリオレフィン系
エラストマーの粘度は、後述するエチレン性不飽和化合
物との相分離の点を考慮すると、例えば、塩素化ポリエ
チレンのムーニー粘度はML1+4 (121℃)として1
0〜150であることが好ましい。The viscosity of the above-mentioned polyolefin elastomer having a chlorine atom is, for example, the Mooney viscosity of ML 1 + 4 (121 ° C.) in consideration of the phase separation from the ethylenically unsaturated compound described below, for example. As one
It is preferably from 0 to 150.
【0022】上記の塩素原子を有するポリオレフィン系
エラストマーの塩素含有率は、好ましくは5〜60重量
%、より好ましくは10〜50重量%であり、塩素含有
率がこの範囲を外れるとその柔軟性が損なわれたり熱安
定性が悪くなり、感光性樹脂組成物が硬くなったり着色
が生じやすくなる場合がある。The chlorine content of the above-mentioned polyolefin elastomer having a chlorine atom is preferably 5 to 60% by weight, more preferably 10 to 50% by weight. The photosensitive resin composition may be damaged or deteriorate in heat stability, and the photosensitive resin composition may be hardened or colored.
【0023】塩素原子を有しないポリオレフィン系エラ
ストマーとしては、エチレン−プロピレンゴム、イソブ
チレンゴム、エチレン−プロピレン−ブタジエン三元共
重合体、アクリルゴム、エチレン−アクリルゴム、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体、ブチルゴム、ヨウ化ブチル
ゴム、水素還元型スチレン−イソプレンゴム等が挙げら
れる。これらのポリマーの粘度は、後述するエチレン性
不飽和化合物との相分離の点を考慮すると、例えば、エ
チレン−プロピレンゴムのムーニー粘度はML 1+4 (1
00℃)として20〜150であることが好ましい。Polyolefin-based elastomer having no chlorine atom
As the stomer, ethylene-propylene rubber, isobutane
Tylene rubber, ethylene-propylene-butadiene ternary
Polymer, acrylic rubber, ethylene-acrylic rubber, ethylene
Len-vinyl acetate copolymer, butyl rubber, butyl iodide
Rubber, hydrogen-reduced styrene-isoprene rubber, etc.
It is. The viscosity of these polymers is
Considering the phase separation from unsaturated compounds, for example,
The Mooney viscosity of Tylene-propylene rubber is ML 1 + 4(1
(00 ° C.) is preferably 20 to 150.
【0024】2)共役ジエン系エラストマー 共役ジエン系エラストマーとしては、共役ジエン系炭化
水素を重合させて得られる重合体、共役ジエン系炭化水
素とモノオレフィン系不飽和化合物とを重合させて得ら
れる共重合体等が挙げられる。2) Conjugated Diene-Based Elastomer As the conjugated diene-based elastomer, a polymer obtained by polymerizing a conjugated diene-based hydrocarbon or a copolymer obtained by polymerizing a conjugated diene-based hydrocarbon and a monoolefin-based unsaturated compound is used. Polymers.
【0025】上記の共役ジエン系炭化水素としては、具
体的には、例えば、1,3−ブタジエン、イソプレン、
クロロプレン等が挙げられる。これらの化合物は単独、
あるいは二種類以上組合せて用いられる。Examples of the conjugated diene hydrocarbon include, for example, 1,3-butadiene, isoprene,
Chloroprene and the like. These compounds alone,
Alternatively, two or more kinds are used in combination.
【0026】上記のモノオレフィン系不飽和化合物とし
ては、具体的には、例えば、スチレン、α−メチルスチ
レン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−
メチルスチレン、アクリロニトリル、メタアクリロニト
リル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、
メタアクリルアミド、メタアクリルアミド酢酸ビニル、
アクリル酸エステル、メタアクリル酸エステル等が挙げ
られる。Specific examples of the above monoolefinically unsaturated compounds include, for example, styrene, α-methylstyrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene and p-methylstyrene.
Methylstyrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl chloride, vinylidene chloride, acrylamide,
Methacrylamide, methacrylamide vinyl acetate,
Acrylic esters, methacrylic esters and the like can be mentioned.
【0027】上記の共役ジエン系炭化水素を重合させて
得られる重合体、または共役ジエン系炭化水素とモノオ
レフィン系不飽和化合物とを重合させて得られる共重合
体としては、具体的には、ブタジエン重合体、イソプレ
ン重合体、クロロプレン重合体、スチレン−ブタジエン
共重合体、スチレン−イソプレン共重合体、スチレン−
クロロプレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン
共重合体、アクリロニトリル−イソプレン共重合体、ア
クリロニトリル−クロロプレン共重合体、アクリル酸エ
ステル−ブタジエン共重合体、メタアクリル酸エステル
−ブタジエン共重合体、アクリル酸エステル−イソプレ
ン共重合体、メタアクリル酸エステル−イソプレン共重
合体、アクリル酸エステル−クロロプレン共重合体、メ
タアクリル酸エステル−クロロプレン共重合体、アクリ
ロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリロ
ニトリル−イソプレン−スチレン共重合体、アクリロニ
トリル−クロロプレン−スチレン共重合体等が挙げられ
る。The polymer obtained by polymerizing the conjugated diene-based hydrocarbon or the copolymer obtained by polymerizing a conjugated diene-based hydrocarbon and a monoolefin-based unsaturated compound is, specifically, Butadiene polymer, isoprene polymer, chloroprene polymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-isoprene copolymer, styrene-
Chloroprene copolymer, acrylonitrile-butadiene copolymer, acrylonitrile-isoprene copolymer, acrylonitrile-chloroprene copolymer, acrylate-butadiene copolymer, methacrylate-butadiene copolymer, acrylate-isoprene Copolymer, methacrylate-isoprene copolymer, acrylate-chloroprene copolymer, methacrylate-chloroprene copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, acrylonitrile-isoprene-styrene copolymer And acrylonitrile-chloroprene-styrene copolymer.
【0028】共役ジエン系エラストマーの粘度につい
て、後述するエチレン性不飽和化合物との相分離の点を
考慮すると、例えば、アクリロニトリル−ブタジエンゴ
ムのムーニー粘度はML1+4 (100℃)として25〜
95、ポリブタジエンゴムのムーニー粘度はML
1+4 (100℃)として25〜65、ポリイソプレンゴ
ムのムーニー粘度はML1+4 (100℃)として30〜
100であることが好ましい。With respect to the viscosity of the conjugated diene elastomer, considering the phase separation from the ethylenically unsaturated compound described later, for example, the Mooney viscosity of acrylonitrile-butadiene rubber is 25 to ML 1 + 4 (100 ° C.).
95, Mooney viscosity of polybutadiene rubber is ML
1 + 4 (100 ° C.) is 25 to 65, and the Mooney viscosity of polyisoprene rubber is 30 to ML 1 + 4 (100 ° C.).
Preferably it is 100.
【0029】b.シェル相 シェル相に使用される親水性ポリマーは、水または水を
主成分として含有する現像液に可溶あるいは膨潤するポ
リマー(以下、シェル相形成親水性ポリマーともいう)
である。このような親水性ポリマーは、コア相形成疎水
性ポリマーやエチレン性不飽和化合物の種類により選択
されるが、コア相形成疎水性ポリマーとはより高い親和
性を示すが、後述するエチレン性不飽和化合物とはより
低い親和性を示す構造のもの(例えば、コア相形成疎水
性ポリマーと分子内に共通の構造を有するもの、溶解度
パラメーター(SP値)が近いもの、粘度が近いもの、
経験則で親和性があるといわれているもの等)が選択さ
れる。このような親水性ポリマーとしては、例えば、−
COOM1 基、−SO3 M2 基、−CONH2 基、−N
H2 基、−OH基、−PO3 M3 等の親水性基を有する
ポリマーが挙げられ、架橋ポリマーおよび架橋していな
い鎖状のポリマーも含有される。B. Shell phase The hydrophilic polymer used for the shell phase is a polymer that is soluble or swells in water or a developer containing water as a main component (hereinafter, also referred to as a shell phase-forming hydrophilic polymer).
It is. Such a hydrophilic polymer is selected depending on the type of the core phase-forming hydrophobic polymer or the ethylenically unsaturated compound, and has a higher affinity with the core phase-forming hydrophobic polymer, but the ethylenically unsaturated polymer described later. The compound has a structure having a lower affinity (for example, a compound having a common structure in the molecule with the hydrophobic polymer forming the core phase, a compound having a similar solubility parameter (SP value), a compound having a similar viscosity,
Empirical rules that have affinity) are selected. Examples of such a hydrophilic polymer include-
COOM 1 group, -SO 3 M 2 group, -CONH 2 group, -N
Examples thereof include polymers having a hydrophilic group such as an H 2 group, —OH group, and —PO 3 M 3 , and include a crosslinked polymer and a chain polymer that is not crosslinked.
【0030】具体的には、ポリビニルアルコール(PV
A)、カルボキシメチルセルロース等の汎用樹脂、(メ
タ)アクリル酸とジエン化合物とを共重合させたジエン
系ゴム、無水マレイン酸で変性した液状ポリブタジエ
ン、液状ポリアクリロニトリル−ブタジエン等が挙げら
れるが、前記の親水性基を50〜50000当量/10
6 g有する親水性ポリマーを用いることが好ましい。こ
れらの基が50当量/106 g未満では、水に対する親
和性が劣り、感光性樹脂印刷用原版を中性水で現像する
ことが困難となる場合があり、逆に50000当量/1
06 gを超えると感光性樹脂印刷版の耐インキ性が劣る
場合がある。Specifically, polyvinyl alcohol (PV
A), general-purpose resins such as carboxymethyl cellulose,
(T) Diene obtained by copolymerizing acrylic acid and diene compound
Rubber, liquid polybutadiene modified with maleic anhydride
, Liquid polyacrylonitrile-butadiene and the like.
However, the above hydrophilic group is added in an amount of 50 to 50,000 equivalent / 10
6It is preferable to use a hydrophilic polymer having g. This
50 equivalents / 10 of these groups6Less than g, parent to water
Poor compatibility, develop photosensitive resin printing plate with neutral water
May be difficult, and conversely, 50,000 equivalents / 1
06If the amount exceeds g, the ink resistance of the photosensitive resin printing plate is poor.
There are cases.
【0031】上記のM1 、M2 およびM3 はそれぞれ、
水素イオン、1価の金属イオン(例えば、Li+ 、Na
+ 、K+ 等)、2価の金属イオン(例えば、Ca2+、M
g2+等)、3価の金属イオン(例えば、Al3+等)また
は置換または無置換のアンモニウムイオンのいずれかを
いう。The above M 1 , M 2 and M 3 are respectively
Hydrogen ion, monovalent metal ion (for example, Li + , Na
+ , K +, etc.) and divalent metal ions (eg, Ca 2+ , M
g 2+ ) or any of trivalent metal ions (eg, Al 3+ ) or substituted or unsubstituted ammonium ions.
【0032】−COOM1 基を有する代表的なポリマー
としては、−COOM1 基を有するポリウレタン、−C
OOM1 基を有するポリウレアウレタン、−COOM1
基を有するポリエステル、−COOM1 基を有するエポ
キシ化合物、−COOM1 基を有するポリアミド酸、−
COOM1 基を有するアクリロニトリル−ブタジエンコ
ポリマー、−COOM1 基を有するスチレン−ブタジエ
ンコポリマー、−COOM1 基を有するポリブタジエ
ン、−COOM1 基を有するポリイソプレン、−COO
M1 基を有するポリクロロプレン、−COOM1 基を有
するポリオレフィンレン、ポリアクリル酸ナトリウム、
ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール(PV
A)、カルボキシメチルセルロース(CMC)、ヒドロ
キシエチルセルロース(HEC)、およびこれらの誘導
体等が挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。[0032] Representative polymers with 1 group -COOM, polyurethanes with 1 group -COOM, -C
Polyureaurethane having OOM 1 group, —COOM 1
Epoxy compounds having a polyester, a 1 group -COOM having a group, polyamic acid having 1 group -COOM, -
Acrylonitrile having COOM 1 group - butadiene copolymer, a styrene having 1 group -COOM - butadiene copolymer, polybutadiene having a 1 group -COOM, polyisoprene having 1 group -COOM, -COO
A polychloroprene having an M 1 group, a polyolefinene having a —COOM 1 group, sodium polyacrylate,
Polyacrylamide, polyvinyl alcohol (PV
A), carboxymethylcellulose (CMC), hydroxyethylcellulose (HEC), and derivatives thereof, but are not limited thereto.
【0033】上記の−COOM1 基は酸または塩の形態
となる。−COOM1 基が塩の形態となったポリマー
は、−COOH基を有するポリマーを中和することによ
り得られる。中和の際に使用される化合物としては、水
酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の
アルカリ金属の水酸化物;炭酸リチウム、炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウムなどの炭酸アルカリ金属塩;カリウ
ム−t−ブトキシド、ナトリウムメトキシドなどのアル
カリ金属のアルコキシド;水酸化カルシウム、水酸化マ
グネシウム、水酸化アルミニウムなどの多価金属の水酸
化物;アルミニウムイソプロポキシドなどの多価金属ア
ルコキシド;トリエチルアミン、トリn−プロピルアミ
ンなどの第3級アミン;ジエチルアミン、ジn−プロピ
ルアミンなどの第2級アミン;モルホリンなどの環状ア
ミン;N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレ
ートなどのアミノ基含有(メタ)アクリレート;炭酸ア
ンモニウム塩などのアンモニウム塩;酢酸マグネシウ
ム、酢酸カルシウム、酢酸アルミニウムなどの酢酸金属
塩などが挙げられる。これらは、単独で、あるいは2種
類以上組み合わせて使用され得る。The above -COOM 1 group is in an acid or salt form. The polymer in which the —COOM 1 group is in the form of a salt is obtained by neutralizing the polymer having the —COOH group. Compounds used for neutralization include hydroxides of alkali metals such as lithium hydroxide, potassium hydroxide and sodium hydroxide; alkali metal carbonates such as lithium carbonate, potassium carbonate and sodium carbonate; potassium-t Alkoxides of alkali metals such as butoxide and sodium methoxide; hydroxides of polyvalent metals such as calcium hydroxide, magnesium hydroxide and aluminum hydroxide; polyvalent metal alkoxides such as aluminum isopropoxide; triethylamine, tri-n- Tertiary amines such as propylamine; secondary amines such as diethylamine and di-n-propylamine; cyclic amines such as morpholine; amino group-containing (meth) acrylates such as N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylate; Ammonium such as ammonium salts ; Magnesium acetate, calcium acetate, acetic acid metal salts such as aluminum acetate and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
【0034】上記のシェル相形成親水性ポリマーは、親
水性基として、さらにポリオキシアルキレン部分を有し
てもよく、また架橋剤として作用するようにエチレン性
不飽和基を分子末端または分子内側鎖に有してもよい。The above-mentioned hydrophilic polymer forming a shell phase may further have a polyoxyalkylene moiety as a hydrophilic group, and may have an ethylenically unsaturated group at a molecular terminal or a molecular inner chain so as to act as a crosslinking agent. May be included.
【0035】シェル相形成親水性ポリマーは、コア相形
成疎水性ポリマー100重量部に対し、好ましくは3重
量部〜100重量部、より好ましくは10重量部〜70
重量部の割合で配合される。この配合量が3重量部未満
の場合、感光性樹脂組成物から作成される感光性樹脂印
刷用原版の水現像性が不充分となる場合があり、逆に1
00重量部を超える場合、感光性樹脂印刷版の耐水性が
不充分となる場合があり、好ましくない。The hydrophilic polymer forming the shell phase is preferably 3 to 100 parts by weight, more preferably 10 to 70 parts by weight, based on 100 parts by weight of the hydrophobic polymer forming the core phase.
It is blended in a ratio of parts by weight. If the amount is less than 3 parts by weight, the water developability of the photosensitive resin printing plate prepared from the photosensitive resin composition may be insufficient.
If the amount is more than 00 parts by weight, the water resistance of the photosensitive resin printing plate may be insufficient, which is not preferable.
【0036】シェル相は、上記のシェル相形成親水性ポ
リマーと相溶するものであれば、その他の成分を含有し
てもよい。このような成分には、当該親水性ポリマーと
相溶するエチレン性不飽和化合物や可塑剤、エラストマ
ー等が挙げられる。The shell phase may contain other components as long as they are compatible with the above-mentioned shell phase-forming hydrophilic polymer. Examples of such a component include an ethylenically unsaturated compound, a plasticizer, and an elastomer that are compatible with the hydrophilic polymer.
【0037】c.連続相 本発明においては、連続相は特定のエチレン性不飽和化
合物を含有する。 1)エチレン性不飽和化合物 本発明で用いられるエチレン性不飽和化合物は、少なく
とも1つのエチレン性不飽和結合を含有し、遊離ラジカ
ルにより連鎖成長付加重合し、高分子重合体を形成する
性質を有する。即ち、光重合反応可能な化合物であり、
紫外線照射等により重合して疎水性ポリマーとなる。C. Continuous Phase In the present invention, the continuous phase contains a specific ethylenically unsaturated compound. 1) Ethylenically unsaturated compound The ethylenically unsaturated compound used in the present invention contains at least one ethylenically unsaturated bond, and has the property of undergoing chain growth addition polymerization with free radicals to form a high-molecular polymer. . That is, a compound capable of photopolymerization reaction,
The polymer is polymerized by ultraviolet irradiation or the like to become a hydrophobic polymer.
【0038】本発明で用いられるエチレン性不飽和化合
物は、数平均分子量(Mn)が500以上、好ましくは
500〜300000、より好ましくは500〜100
000であり、かつ分子量分布を表すパラメーターであ
る、Mnに対する重量平均分子量Mwの割合Mw/Mn
が2以上、好ましくは2〜15であり、かつ20℃にお
ける粘度が2000mPa/s以上、好ましくは250
0mPa/s以上、より好ましくは3000mPa/s
以上の高分子量および高粘度を有する。なお、当該粘度
の上限は1000000mPa/s程度である。そし
て、本発明では、上記の高分子量および高粘度であって
共役ジエン鎖を有するエチレン性不飽和化合物と上記の
高分子量および高粘度であって非共役ジエン鎖を有する
エチレン性不飽和化合物が併用される。また、本発明に
おいて、共役ジエン鎖とは共役ジエン鎖自体の他にも化
学変性されたものも含む。The ethylenically unsaturated compound used in the present invention has a number average molecular weight (Mn) of 500 or more, preferably 500 to 300,000, more preferably 500 to 100,000.
000 and a parameter representing the molecular weight distribution, a ratio Mw / Mn of the weight average molecular weight Mw to Mn.
Is 2 or more, preferably 2 to 15, and the viscosity at 20 ° C is 2000 mPa / s or more, preferably 250 mPa / s.
0 mPa / s or more, more preferably 3000 mPa / s
It has the above high molecular weight and high viscosity. The upper limit of the viscosity is about 1,000,000 mPa / s. In the present invention, the above-mentioned high molecular weight and high viscosity ethylenically unsaturated compound having a conjugated diene chain and the above high molecular weight and high viscosity ethylenically unsaturated compound having a non-conjugated diene chain are used in combination. Is done. In the present invention, the conjugated diene chain includes not only the conjugated diene chain itself but also a chemically modified one.
【0039】本発明で使用されるエチレン性不飽和化合
物は高分子量かつ高粘度であるために、本発明の感光性
樹脂組成物は、光重合前には良好な固体状態を維持し、
作業が容易になり、また保存時にコールドフロー現象が
発生しない。また、感光性樹脂組成物の各成分の混合時
には、高分子量かつ高粘度のエチレン性不飽和化合物
は、固体であるコア相形成疎水性ポリマーとは相溶せず
に相分離するので、コアシェル粒子が連続相内で凝集融
着することを防止できる。従って、このような組成物を
用いた感光性樹脂印刷版のレリーフ再現性が良好とな
る。Since the ethylenically unsaturated compound used in the present invention has a high molecular weight and a high viscosity, the photosensitive resin composition of the present invention maintains a good solid state before photopolymerization,
Work becomes easy, and no cold flow phenomenon occurs during storage. In addition, when each component of the photosensitive resin composition is mixed, the high molecular weight and high viscosity ethylenically unsaturated compound is phase-separated without being compatible with the solid core phase forming hydrophobic polymer, so that the core-shell particles Can be prevented from coagulating and fusing in the continuous phase. Therefore, the relief reproducibility of the photosensitive resin printing plate using such a composition is improved.
【0040】エチレン性不飽和化合物のMnが500未
満の場合、架橋点であるエチレン性不飽和基付近の分子
量が小さいため、架橋点付近が剛直な構造となり、重合
体のフレキシビリティーが損なわれる。また、エチレン
性不飽和基が多官能である場合、当該化合物のMwが5
00未満であれば、前記した理由以外に架橋点間の距離
が小さくなるため、重合体のフレキシビリティーが損な
われる。Mw/Mnが2未満の場合、架橋点であるエチ
レン性不飽和基付近の分子量分布が小さくなり、重合体
のフレキシビリティーが損なわれる。20℃における粘
度が2000mPa/s未満の場合、調製された感光性
樹脂組成物を室温で良好に固体化できないので、作業性
が悪く、また保存時にコールドフロー現象が発生する。
加えて、コア相形成疎水性ポリマーを相分離できない。When the Mn of the ethylenically unsaturated compound is less than 500, the molecular weight in the vicinity of the ethylenically unsaturated group, which is a cross-linking point, is small, so that the structure near the cross-linking point has a rigid structure, and the flexibility of the polymer is impaired. . When the ethylenically unsaturated group is polyfunctional, the compound has an Mw of 5
If it is less than 00, the distance between the cross-linking points becomes small for reasons other than those described above, so that the flexibility of the polymer is impaired. When Mw / Mn is less than 2, the molecular weight distribution near the ethylenically unsaturated group, which is a cross-linking point, becomes small, and the flexibility of the polymer is impaired. If the viscosity at 20 ° C. is less than 2000 mPa / s, the prepared photosensitive resin composition cannot be solidified well at room temperature, so that workability is poor and a cold flow phenomenon occurs during storage.
In addition, the core phase forming hydrophobic polymer cannot be phase separated.
【0041】本発明では、共役ジエン鎖を有するエチレ
ン性不飽和化合物と非共役ジエン鎖を有するエチレン性
不飽和化合物を併用するため、当該エチレン性不飽和化
合物の種類、配合比等の調整により、感光性樹脂組成物
中のコア相、シェル相および連続相の存在状態を、所望
の水現像速度、感光特性、印刷特性、保管時の形態安定
性等の特性に応じて制御することが可能となる。In the present invention, since the ethylenically unsaturated compound having a conjugated diene chain and the ethylenically unsaturated compound having a non-conjugated diene chain are used in combination, the type and the mixing ratio of the ethylenically unsaturated compound are adjusted. It is possible to control the presence state of the core phase, the shell phase and the continuous phase in the photosensitive resin composition according to characteristics such as a desired water development speed, photosensitive characteristics, printing characteristics, and morphological stability during storage. Become.
【0042】共役ジエン鎖を有するエチレン性不飽和化
合物としては、共役ジエン鎖を有するポリオール類の不
飽和エステルが挙げられる。例えば、ポリブタジエンポ
リオール(ジ)(メタ)(ウレタン)アクリレート、ポ
リニトリルブタジエンポリオール(ジ)(メタ)(ウレ
タン)アクリレート、ポリイソプレンポリオール(ジ)
(メタ)(ウレタン)アクリレート、ポリスチレンブタ
ジエンポリオール(ジ)(メタ)(ウレタン)アクリレ
ート等のポリ共役ジエン系ポリオール(ジ)(メタ)
(ウレタン)アクリレート等;上記高分子量ポリオール
のマレイン酸エステル等が挙げられ、共役ジエン鎖の一
部を還元したものも含まれるが、これらには限定されな
い。これらの化合物は単独あるいは2種以上組み合わせ
て用いられ得る。勿論、上記の共役ジエン鎖を有するエ
チレン性不飽和化合物は、Mn、Mw/Mn、20℃に
おける粘度が上記範囲のものが使用される。Examples of the ethylenically unsaturated compound having a conjugated diene chain include unsaturated esters of polyols having a conjugated diene chain. For example, polybutadiene polyol (di) (meth) (urethane) acrylate, polynitrile butadiene polyol (di) (meth) (urethane) acrylate, polyisoprene polyol (di)
(Meth) (urethane) acrylate, polyconjugated diene polyol (di) (meth) such as polystyrene butadiene polyol (di) (meth) (urethane) acrylate
(Urethane) acrylates and the like; maleic esters of the above-mentioned high molecular weight polyols and the like, including those in which a part of a conjugated diene chain is reduced, are not limited thereto. These compounds can be used alone or in combination of two or more. Of course, as the ethylenically unsaturated compound having a conjugated diene chain, those having Mn, Mw / Mn, and the viscosity at 20 ° C. within the above range are used.
【0043】非共役ジエン鎖を有するエチレン性不飽和
化合物としては、上記の共役ジエン鎖を有する不飽和エ
ステルの共役ジエン鎖の全てを還元したものが挙げられ
る。このような化合物は、上記の共役ジエン鎖を有する
ポリオール類を還元した後不飽和エステルとしたもの
や、上記の共役ジエン鎖を有する不飽和エステルの製造
時または製造後に還元したもの等が挙げられる。Examples of the ethylenically unsaturated compound having a non-conjugated diene chain include those obtained by reducing the entire conjugated diene chain of the unsaturated ester having a conjugated diene chain. Examples of such a compound include those obtained by reducing the above-mentioned polyol having a conjugated diene chain into an unsaturated ester, those obtained during or after the production of the above-described unsaturated ester having a conjugated diene chain, and the like. .
【0044】さらに、非共役ジエン鎖を有するエチレン
性不飽和化合物としては、例えば、ポリエチレングリコ
ール(ジ)(メタ)(ウレタン)アクリレート、ポリプ
ロピレングリコール(ジ)(メタ)(ウレタン)アクリ
レート、ポリテトラメチレングリコール(ジ)(メタ)
(ウレタン)アクリレート等のポリエーテルポリオール
(ジ)(メタ)(ウレタン)アクリレート;ポリエチレ
ングリコール等のポリオールとテレフタル酸、アジピン
酸等のポリカルボン酸を縮合反応して得られるポリエス
テルポリオールに、不飽和エステルを導入したポリエス
テルポリオール(ジ)(メタ)(ウレタン)アクリレー
ト;ポリエチレンポリオール(ジ)(メタ)(ウレタ
ン)アクリレート、ポリプロピレンポリオール(ジ)
(メタ)(ウレタン)アクリレート、ポリエチレンプロ
ピレンポリオール(ジ)(メタ)(ウレタン)アクリレ
ート等のポリオレフィンポリオール(ジ)(メタ)(ウ
レタン)アクリレート;上記の高分子量ポリオールのマ
レイン酸エステル等が挙げられるが、これに限定されな
い。これらの化合物は、単独あるいは2種類以上組み合
わせて用いられ得る。勿論、上記の非共役ジエン鎖を有
するエチレン性不飽和化合物は、Mn、Mw/Mn、2
0℃における粘度が上記範囲のものが使用される。Examples of the ethylenically unsaturated compound having a non-conjugated diene chain include, for example, polyethylene glycol (di) (meth) (urethane) acrylate, polypropylene glycol (di) (meth) (urethane) acrylate, polytetramethylene Glycol (di) (meta)
Polyester polyols such as (urethane) acrylates (di) (meth) (urethane) acrylates; polyester polyols obtained by the condensation reaction of polyols such as polyethylene glycol and polycarboxylic acids such as terephthalic acid and adipic acid with unsaturated esters Polyester polyol (di) (meth) (urethane) acrylate incorporating polyethylene; polyethylene polyol (di) (meth) (urethane) acrylate, polypropylene polyol (di)
Polyolefin polyols (di) (meth) (urethane) acrylates such as (meth) (urethane) acrylate and polyethylene propylene polyol (di) (meth) (urethane) acrylate; maleic esters of the above-mentioned high molecular weight polyols; , But is not limited to this. These compounds can be used alone or in combination of two or more. Of course, the above ethylenically unsaturated compounds having a non-conjugated diene chain include Mn, Mw / Mn,
Those having a viscosity at 0 ° C. within the above range are used.
【0045】上記のポリオールに不飽和エステルを導入
する方法は、ポリオールと不飽和カルボン酸の脱水化反
応による直接エステル化反応、ポリオールと不飽和カル
ボン酸エステルとの脱アルコール反応によるエステル交
換反応等の通常のエステル化方法が挙げられる。これら
の反応のうち、ポリオールと不飽和カルボン酸の脱水化
反応による直接エステル化反応には、予め、ポリオール
同士の脱水化反応により生成する多量体化したポリオー
ルと不飽和カルボン酸との脱水化反応によりエチレン性
不飽和化合物を得る方法も含まれる。The method for introducing an unsaturated ester into the polyol includes a direct esterification reaction by a dehydration reaction between the polyol and the unsaturated carboxylic acid, and a transesterification reaction by a dealcoholation reaction between the polyol and the unsaturated carboxylic acid ester. Usual esterification methods can be used. Of these reactions, the direct esterification reaction of the polyol and the unsaturated carboxylic acid by the dehydration reaction involves a dehydration reaction of the polymerized polyol formed by the dehydration reaction of the polyols with the unsaturated carboxylic acid in advance. To obtain an ethylenically unsaturated compound.
【0046】本発明の感光性樹脂組成物中の共役ジエン
鎖を有するエチレン性不飽和化合物と非共役ジエン鎖を
有するエチレン性不飽和化合物の含有割合は、両者の合
計100重量部中、非共役ジエン鎖を有するエチレン性
不飽和化合物が好ましくは0.01〜80重量部、より
好ましくは0.1〜70重量部、特に好ましくは0.5
〜60重量部という割合である。非共役ジエン鎖を有す
るエチレン性不飽和化合物の含有量が0.01重量部未
満であると、感光性樹脂組成物の耐酸化劣化性や耐オゾ
ン劣化性が不充分となる傾向があり、逆に80重量部を
超えると感光性樹脂組成物のゴム弾性が不充分となる傾
向があり、かつ連続相内部で相分離が起こって光が散乱
し、このような感光性樹脂組成物から得られた印刷版に
より良好な画像を形成できなくなる傾向がある。The content ratio of the ethylenically unsaturated compound having a conjugated diene chain and the ethylenically unsaturated compound having a non-conjugated diene chain in the photosensitive resin composition of the present invention is such that the non-conjugated compound is The ethylenically unsaturated compound having a diene chain is preferably 0.01 to 80 parts by weight, more preferably 0.1 to 70 parts by weight, particularly preferably 0.5 to 70 parts by weight.
6060 parts by weight. When the content of the ethylenically unsaturated compound having a non-conjugated diene chain is less than 0.01 part by weight, the oxidation resistance and ozone resistance of the photosensitive resin composition tend to be insufficient, If the amount exceeds 80 parts by weight, the rubber elasticity of the photosensitive resin composition tends to be insufficient, and phase separation occurs inside the continuous phase and light is scattered. There is a tendency that a good image cannot be formed by the printing plate.
【0047】本発明で用いられるエチレン性不飽和化合
物は、コア相形成疎水性ポリマー100重量部に対し
て、その合計量は、好ましくは10重量部〜200重量
部、より好ましくは15〜150重量部の割合で配合さ
れる。この配合量が10重量部未満の場合、得られる感
光性樹脂組成物中でコアシェル粒子が凝集融着したり、
また感光性樹脂印刷版に耐水性を付与することができな
い場合があり、逆に配合量が200重量部を超える場
合、感光性樹脂印刷用原版の水現像性が不充分となる場
合があり、好ましくない。The total amount of the ethylenically unsaturated compound used in the present invention is preferably from 10 to 200 parts by weight, more preferably from 15 to 150 parts by weight, based on 100 parts by weight of the core phase-forming hydrophobic polymer. Parts are blended. When the compounding amount is less than 10 parts by weight, the core-shell particles are aggregated and fused in the obtained photosensitive resin composition,
Further, it may not be possible to impart water resistance to the photosensitive resin printing plate, and conversely, if the compounding amount exceeds 200 parts by weight, the water developability of the photosensitive resin printing original plate may be insufficient, Not preferred.
【0048】上記のエチレン性不飽和化合物以外の、エ
チレン性不飽和化合物を配合してもよく、例えば、セチ
ルアルコール、ステアリルアルコール等の脂肪族アルコ
ールの不飽和エステル等が挙げられる。その他、ポリオ
ール類の不飽和エステルが挙げられる。例えば、エチレ
ングリコール(ジ)(メタ)アクリレート、ジエチレン
グリコール(ジ)(メタ)アクリレート、グリセロール
(ジ)(メタ)アクリレート、1,3−プロパンジオー
ル(ジ)(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオー
ル(ジ)(メタ)アクリレート、1,2,4−ブタント
リオール(ジ)(メタ)アクリレート、1,2,4−ブ
タントリオール(トリ)(メタ)アクリレート、1,4
−シクロヘキサンジオール(ジ)(メタ)アクリレー
ト、1,6−シクロヘキサンジオール(ジ)(メタ)ア
クリレート、トリメチロールプロパン(ジ)(メタ)ア
クリレート、ジアリルフタレート、トリメチロールプロ
パン(トリ)(メタ)アクリレート、ジアリルフタレー
ト、フマル酸ジエチル、マレイン酸ジブチル、1,9−
ノナンジオール(ジ)(メタ)アクリレート、N置換マ
レアミド化合物(例えば、N−メチルマレアミド、N−
エチルマレアミド、N−ラウリルマレアミド等)等が挙
げられる。An ethylenically unsaturated compound other than the above-mentioned ethylenically unsaturated compounds may be blended, and examples thereof include unsaturated esters of aliphatic alcohols such as cetyl alcohol and stearyl alcohol. Other examples include unsaturated esters of polyols. For example, ethylene glycol (di) (meth) acrylate, diethylene glycol (di) (meth) acrylate, glycerol (di) (meth) acrylate, 1,3-propanediol (di) (meth) acrylate, 1,4-butanediol (Di) (meth) acrylate, 1,2,4-butanetriol (di) (meth) acrylate, 1,2,4-butanetriol (tri) (meth) acrylate, 1,4
-Cyclohexanediol (di) (meth) acrylate, 1,6-cyclohexanediol (di) (meth) acrylate, trimethylolpropane (di) (meth) acrylate, diallyl phthalate, trimethylolpropane (tri) (meth) acrylate, Diallyl phthalate, diethyl fumarate, dibutyl maleate, 1,9-
Nonanediol (di) (meth) acrylate, N-substituted maleamide compound (for example, N-methylmaleamide, N-
Ethylmaleamide, N-laurylmaleamide, etc.).
【0049】2)疎水性ポリマー 連続相には、光重合後の組成物の物性改善および弾性向
上の点で、上記のエチレン性不飽和化合物以外に疎水性
ポリマーを含有することが可能である。この疎水性ポリ
マーは疎水性エラストマーであり、上記のエチレン性不
飽和化合物と相溶し、かつコア相形成疎水性ポリマーと
は異なる疎水性エラストマーである。このような疎水性
エラストマーとしては、例えば、共役ジエン系エラスト
マー(例えば、ポリブタジエン、アクリロニトリル−ブ
タジエンゴム、ポリイソプレン、スチレン−ブタジエン
ゴム、ポリイソプレン−スチレンブロック共重合体、ポ
リブタジエン−スチレンブロック共重合体など)、塩素
を含有しないポリオレフィン系エラストマー(エチレン
プロピレンゴム、ブチルゴムなど)、アクリルゴム、エ
チレンビニルアセテート等が特に好ましい。2) Hydrophobic Polymer The continuous phase may contain a hydrophobic polymer in addition to the above-mentioned ethylenically unsaturated compound in terms of improving the physical properties and elasticity of the composition after photopolymerization. This hydrophobic polymer is a hydrophobic elastomer, which is compatible with the above-mentioned ethylenically unsaturated compound and different from the core phase forming hydrophobic polymer. Examples of such a hydrophobic elastomer include conjugated diene elastomers (for example, polybutadiene, acrylonitrile-butadiene rubber, polyisoprene, styrene-butadiene rubber, polyisoprene-styrene block copolymer, polybutadiene-styrene block copolymer, etc. ), Chlorine-free polyolefin-based elastomers (such as ethylene propylene rubber and butyl rubber), acrylic rubber, and ethylene vinyl acetate.
【0050】連続相の疎水性ポリマーは、コア相形成疎
水性ポリマー100重量部に対して、好ましくは400
重量部以下、より好ましくは5重量部〜120重量部の
割合で組成物中に配合される。この配合量が400重量
部を超える場合、コア相形成疎水性ポリマーの配合割合
が小さくなるため、感光性樹脂印刷用原版の水現像性の
発現が困難となる。The continuous phase hydrophobic polymer is preferably 400 parts by weight based on 100 parts by weight of the core phase forming hydrophobic polymer.
It is blended in the composition at a ratio of 5 parts by weight or less, more preferably 5 parts by weight to 120 parts by weight. If the amount is more than 400 parts by weight, the ratio of the hydrophobic polymer forming the core phase becomes small, and it becomes difficult to develop the water-developability of the photosensitive resin printing plate precursor.
【0051】本発明の感光性樹脂組成物は、上記の疎水
性ポリマー、親水性ポリマー、エチレン性不飽和化合物
以外に他の成分、例えば、光重合開始剤、熱重合禁止
剤、可塑剤等が配合されていてもよい。The photosensitive resin composition of the present invention contains, in addition to the above-mentioned hydrophobic polymer, hydrophilic polymer and ethylenically unsaturated compound, other components such as a photopolymerization initiator, a thermal polymerization inhibitor and a plasticizer. It may be blended.
【0052】本発明で使用される光重合開始剤として
は、ベンゾフェノン類、ベンゾイン類、アセトフェノン
類、ベンジル類、ベンゾインアルキルエーテル類、ベン
ジルアルキルケタール類、アントラキノン類、チオキサ
ントン類等が挙げられ、具体的には、ベンゾフェノン、
クロロベンゾフェノン、ベンゾイン、アセトフェノン、
ベンジル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾ
インイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、
ベンジルジエチルケタール、ベンジルジイソプロピルケ
タール、アントラキノン、2−クロロアントラキノン、
2−エチルアントラキノン、チオキサントン、2−クロ
ロチオキサントン、メチルナフトキノン等が例示され、
中でも、ベンジルジメチルケタール、メチルナフトキノ
ンおよび2−エチルアントラキノンが好ましい。Examples of the photopolymerization initiator used in the present invention include benzophenones, benzoins, acetophenones, benzyls, benzoin alkyl ethers, benzylalkyl ketals, anthraquinones, thioxanthones and the like. Contains benzophenone,
Chlorobenzophenone, benzoin, acetophenone,
Benzyl, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyl dimethyl ketal,
Benzyl diethyl ketal, benzyl diisopropyl ketal, anthraquinone, 2-chloroanthraquinone,
2-ethylanthraquinone, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, methylnaphthoquinone, and the like,
Among them, benzyldimethyl ketal, methylnaphthoquinone and 2-ethylanthraquinone are preferred.
【0053】このような光重合開始剤は、組成物100
重量部に対して、好ましくは0.01重量部〜10重量
部、より好ましくは、0.1重量部〜5重量部の割合で
配合される。0.01重量部を下回ると光重合開始能が
不十分となる傾向があり、10重量部を超えると自らの
遮光により感光層内部が硬化しなくなり、現像により画
像が欠けやすくなる傾向がある。Such a photopolymerization initiator can be used in the composition 100
The amount is preferably 0.01 to 10 parts by weight, more preferably 0.1 to 5 parts by weight, based on parts by weight. If the amount is less than 0.01 part by weight, the photopolymerization initiating ability tends to be insufficient. If the amount exceeds 10 parts by weight, the inside of the photosensitive layer does not harden due to its own shading, and the image tends to be easily chipped by development.
【0054】熱重合禁止剤は、光重合反応を抑制するこ
となく熱による重合反応のみを防止するために配合さ
れ、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテ
ル、カテコール、p−t−ブチルカテコール、2,6−
ジ−t−ブチル−p−クレゾール等が挙げられ、中でも
ハドロキノンモノメチルエーテル、2,6−ジ−t−ブ
チル−p−クレゾールが好ましい。The thermal polymerization inhibitor is blended in order to prevent only the polymerization reaction due to heat without suppressing the photopolymerization reaction. Hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, catechol, pt-butyl catechol, 2,6-
Examples thereof include di-t-butyl-p-cresol, and among them, hadroquinone monomethyl ether and 2,6-di-t-butyl-p-cresol are preferable.
【0055】このような熱重合禁止剤は、組成物100
重量部に対して、好ましくは0.01重量部〜10重量
部、より好ましくは、0.001重量部〜5重量部の割
合で配合される。Such a thermal polymerization inhibitor is used in the composition 100
The amount is preferably 0.01 to 10 parts by weight, more preferably 0.001 to 5 parts by weight, based on parts by weight.
【0056】本発明に使用される可塑剤としては、例え
ば、液状ポリブタジエンゴム、液状ポリアクリロニトリ
ルブタジエンゴム、液状ポリスチレンブタジエンゴム、
液状イソプレンゴム等の液状ゴム等、ジオクチルフタレ
ート、ジヘプチルフタレートを初めとする脂肪族炭化水
素のフタル酸エステル、トリメリット酸トリオクチルを
初めとするトリメリット酸エステル、アジピン酸2−エ
チルヘキシルを初めとするアジピン酸エステル等の可塑
剤、分子量が400〜3000付近のアジピン酸系ポリ
エステルまたはポリエーテルエステル等の可塑剤等が挙
げられ、これらを単独でまたは2種以上併用することが
できる。Examples of the plasticizer used in the present invention include liquid polybutadiene rubber, liquid polyacrylonitrile butadiene rubber, liquid polystyrene butadiene rubber,
Liquid rubbers such as liquid isoprene rubber, dioctyl phthalate, phthalic acid esters of aliphatic hydrocarbons including diheptyl phthalate, trimellitic acid esters including trioctyl trimellitate, 2-ethylhexyl adipate and the like Plasticizers such as adipic acid ester, and plasticizers such as adipic acid-based polyester or polyether ester having a molecular weight of about 400 to 3000 can be used, and these can be used alone or in combination of two or more.
【0057】本発明の感光性樹脂組成物は、コア相形成
疎水性ポリマーと、シェル相形成親水性ポリマーと、共
役ジエン鎖を有する特定のエチレン性不飽和化合物と、
非共役ジエン鎖を有する特定のエチレン性不飽和化合物
と、当該親水性ポリマーを溶解または膨潤させる溶剤を
混合することにより、コア相形成疎水性ポリマーとシェ
ル相形成親水性ポリマーとが、それらの親和性に基づく
吸着および/または会合等によってコアシェル粒子であ
る分散相を形成し、エチレン性不飽和化合物が連続相を
形成する。このような感光性樹脂組成物は、各成分の相
分離挙動を利用して調製されるが、相分離を進行させる
装置および方法は限定されない。The photosensitive resin composition of the present invention comprises a core phase-forming hydrophobic polymer, a shell phase-forming hydrophilic polymer, a specific ethylenically unsaturated compound having a conjugated diene chain,
By mixing a specific ethylenically unsaturated compound having a non-conjugated diene chain with a solvent that dissolves or swells the hydrophilic polymer, the affinity between the hydrophobic polymer forming the core phase and the hydrophilic polymer forming the shell phase becomes higher. A dispersed phase that is a core-shell particle is formed by adsorption and / or association based on the nature, and the ethylenically unsaturated compound forms a continuous phase. Such a photosensitive resin composition is prepared by utilizing the phase separation behavior of each component, but an apparatus and a method for promoting the phase separation are not limited.
【0058】本発明の感光性樹脂組成物の調製方法の例
としては、上記各成分を任意の順序で混合または一括し
て混合する方法、任意の溶剤に各成分を膨潤および分散
させて均一にした後、溶剤を除去する方法が挙げられ
る。このようにして得られた感光性樹脂組成物は、通
常、所望の形状に成型される。Examples of the method for preparing the photosensitive resin composition of the present invention include a method in which the above-mentioned components are mixed or mixed in an arbitrary order, and a method in which the components are swelled and dispersed in an arbitrary solvent to obtain a uniform mixture. After that, a method of removing the solvent may be mentioned. The photosensitive resin composition thus obtained is usually molded into a desired shape.
【0059】感光性樹脂組成物の調製において、連続相
を形成するエチレン性不飽和化合物は、高分子量かつ高
粘度であるために、コア相形成疎水性ポリマーとは相溶
せずに相分離し、コア相が形成される。溶剤により溶解
または膨潤したシェル相形成親水性ポリマーは、コア相
形成疎水性ポリマーとはより高い親和性を示すが、連続
相のエチレン性不飽和化合物とはより低い親和性を示す
ので、連続相中に相分離しているコア相の回りを被覆す
る。In the preparation of the photosensitive resin composition, since the ethylenically unsaturated compound forming the continuous phase has a high molecular weight and a high viscosity, the ethylenically unsaturated compound does not dissolve in the core phase forming hydrophobic polymer and separates. , A core phase is formed. The shell phase-forming hydrophilic polymer dissolved or swollen by the solvent has a higher affinity with the core phase-forming hydrophobic polymer, but has a lower affinity with the ethylenically unsaturated compound in the continuous phase. It coats around the core phase in which phase is separated.
【0060】また、コア相形成疎水性ポリマーとは異な
り、かつ当該エチレン性不飽和化合物と相溶する疎水性
ポリマーをさらに配合すると、当該疎水性ポリマーはエ
チレン性不飽和化合物と相溶して連続相を形成する。When a hydrophobic polymer different from the core phase forming hydrophobic polymer and compatible with the ethylenically unsaturated compound is further added, the hydrophobic polymer is compatible with the ethylenically unsaturated compound and becomes continuous. Form a phase.
【0061】本発明の感光性樹脂組成物は、連続相とし
て上述した高分子量かつ高粘度のエチレン性不飽和化合
物を含有することにより光重合前には良好な固体状態を
維持するので、作業が容易になり、また保存時にコール
ドフロー現象が発生しない。本発明の感光性樹脂組成物
は、厚さ2800mmの感光層上に荷重10gをかけて
測定される(a/2800)×100%(感光層の厚さ
の変化量:amm)で表される形状安定性が、好ましく
は5%以下、より好ましくは2%以下の性能を有する。Since the photosensitive resin composition of the present invention contains the above-mentioned high molecular weight and high viscosity ethylenically unsaturated compound as a continuous phase, it maintains a good solid state before photopolymerization. It becomes easy and no cold flow phenomenon occurs during storage. The photosensitive resin composition of the present invention is represented by (a / 2800) × 100% (amount of change in thickness of photosensitive layer: amm) measured by applying a load of 10 g on a photosensitive layer having a thickness of 2800 mm. Shape stability has a performance of preferably 5% or less, more preferably 2% or less.
【0062】また、本発明の感光性樹脂組成物は、上述
した高分子量の共役ジエン鎖を有するエチレン性化合物
と高分子量の非共役ジエン鎖を有するエチレン性化合物
を併用し、これらは感光性樹脂組成物の連続相を形成す
る。このため感光性樹脂組成物は、共役ジエン鎖の特徴
であるゴム弾性を発現すると同時に、非共役ジエン鎖も
有するため共役ジエン鎖の欠点である酸化劣化性やオゾ
ン劣化性が著しく改善される。また、連続相を構成する
疎水性ポリマーとして共役ジエン鎖を有するポリマーお
よび非共役ジエン鎖を有するポリマーを併用することが
可能となり、良好なゴム弾性を維持しつつ良好な耐酸化
劣化性および耐オゾン劣化性を発現することができる。
さらに、本発明の感光性樹脂組成物をフレキソ印刷版と
して用いた場合、耐酸化劣化性や耐オゾン劣化性を有す
るため殺菌灯処理による粘着防止工程を省略することが
でき、紙粉やほこりが付かない良好な印刷物を得ること
ができる。Further, the photosensitive resin composition of the present invention comprises a combination of the above-mentioned ethylenic compound having a high molecular weight conjugated diene chain and an ethylenic compound having a high molecular weight non-conjugated diene chain. Form a continuous phase of the composition. For this reason, the photosensitive resin composition exhibits rubber elasticity, which is a characteristic of conjugated diene chains, and also has non-conjugated diene chains, so that oxidation deterioration and ozone deterioration, which are disadvantages of conjugated diene chains, are significantly improved. In addition, a polymer having a conjugated diene chain and a polymer having a non-conjugated diene chain can be used in combination as the hydrophobic polymer constituting the continuous phase, so that good oxidation deterioration resistance and ozone resistance can be maintained while maintaining good rubber elasticity. Deterioration can be exhibited.
Furthermore, when the photosensitive resin composition of the present invention is used as a flexographic printing plate, the anti-adhesion step by germicidal lamp treatment can be omitted because it has resistance to oxidation deterioration and ozone deterioration, and paper dust and dust are reduced. A good printed matter without sticking can be obtained.
【0063】本発明で使用する高分子量かつ高粘度のエ
チレン性不飽和化合物は、コア相形成疎水性ポリマーと
は相溶せずに相分離するので、コアシェル粒子が連続相
内で凝集融着することを防止できる。本発明の感光性樹
脂組成物は、コアシェル粒子の最大粒子径は好ましくは
30μm以下、より好ましくは20μm以下という性能
を有する。従って、このような組成物を用いた感光性樹
脂印刷版のレリーフ再現性が良好となる。The high-molecular-weight, high-viscosity ethylenically unsaturated compound used in the present invention is phase-separated without being compatible with the core-phase-forming hydrophobic polymer, so that the core-shell particles aggregate and fuse in the continuous phase. Can be prevented. The photosensitive resin composition of the present invention has the performance that the maximum particle size of the core-shell particles is preferably 30 μm or less, more preferably 20 μm or less. Therefore, the relief reproducibility of the photosensitive resin printing plate using such a composition is improved.
【0064】さらに、分散相が疎水性ポリマーを含有す
るコアシェル粒子であるため、耐水性の付与のためにエ
チレン性不飽和化合物を多くする必要がないので、水現
像性および耐水性の両立が可能となる。本発明の感光性
樹脂組成物より作成された感光性樹脂印刷版は、後述す
るように、光重合し、乾燥した重量ag、これを20℃
のイオン交換水に24時間浸漬した後の重量bgとした
時の、(b−a)/a×100%で表される水膨潤率
が、好ましくは10%以下、より好ましくは5%以下の
性能を有する。Furthermore, since the disperse phase is a core-shell particle containing a hydrophobic polymer, it is not necessary to increase the amount of ethylenically unsaturated compound for imparting water resistance, so that both water developability and water resistance can be achieved. Becomes As described later, the photosensitive resin printing plate prepared from the photosensitive resin composition of the present invention was subjected to photopolymerization and dried weight ag at 20 ° C.
The water swelling ratio represented by (ba) / a × 100% when weighed as bg after immersion in ion exchanged water for 24 hours is preferably 10% or less, more preferably 5% or less. Has performance.
【0065】さらにまた、分散相がコアシェル型粒子で
あるため、耐水性の発現のためにエチレン性不飽和化合
物を多くする必要がないので、本発明の感光性樹脂組成
物より作成された感光性樹脂印刷版の架橋度(硬度)が
高くならない。感光性樹脂印刷版は、JIS−K630
1に準じるスプリング式硬さ試験(A型)法で測定され
る硬度が好ましくは30〜80度、より好ましくは、3
0〜75度、反発弾性率が好ましくは20%以上、より
好ましく25%以上という性能を有する。従って、良好
な弾性を有する感光性樹脂印刷版を得ることができる。Furthermore, since the dispersed phase is core-shell type particles, it is not necessary to increase the amount of ethylenically unsaturated compound for the development of water resistance, so that the photosensitive resin prepared from the photosensitive resin composition of the present invention can be used. The degree of crosslinking (hardness) of the resin printing plate does not increase. The photosensitive resin printing plate is JIS-K630
The hardness measured by the spring hardness test (A type) method according to 1 is preferably 30 to 80 degrees, more preferably 3 to 80 degrees.
It has a performance of 0 to 75 degrees and a rebound resilience of preferably 20% or more, more preferably 25% or more. Therefore, a photosensitive resin printing plate having good elasticity can be obtained.
【0066】の相構造を有する感光層においては、シ
ェル相形成親水性ポリマーおよび連続相のエチレン性不
飽和化合物は、それぞれ未硬化の状態では化学的に架橋
されないことが好ましいが、コア相形成疎水性ポリマー
は未硬化の状態では架橋されていても架橋されていなく
てもかまわない。また、シェル相形成親水性ポリマーお
よび連続相のエチレン性不飽和化合物とは、硬化後互い
に化学的に結合されていても結合されていなくともかま
わない。In the photosensitive layer having the phase structure of (1), the hydrophilic polymer forming the shell phase and the ethylenically unsaturated compound in the continuous phase are preferably not chemically crosslinked in the uncured state. The hydrophilic polymer may be crosslinked or uncrosslinked in an uncured state. The shell phase-forming hydrophilic polymer and the continuous phase ethylenically unsaturated compound may or may not be chemically bonded to each other after curing.
【0067】各成分の混合に使用される製造装置は、上
記の相分離挙動を生じさせるような製造装置であればど
のような構造でもよい。好ましい製造装置の例として
は、2軸押出機、1軸押出機、加圧ニーダー、バンバリ
ータイプミキサー、または一般的な攪拌機能を有する混
合器(例えば、リボン式攪拌翼、アンカー型攪拌翼、プ
ロペラ式攪拌翼など)が挙げられるが、これらに限定さ
れない。各成分を混合して本発明の感光性樹脂マトリッ
クスでなる樹脂版を作成するための製造方法の例として
は、キャスト法などの方式が挙げられるが、これに限定
されない。The production apparatus used for mixing the components may have any structure as long as it produces the above-described phase separation behavior. Preferred examples of the production apparatus include a twin-screw extruder, a single-screw extruder, a pressure kneader, a Banbury type mixer, and a mixer having a general stirring function (for example, a ribbon-type stirring blade, an anchor-type stirring blade, a propeller, etc.). But not limited thereto. Examples of the production method for preparing the resin plate comprising the photosensitive resin matrix of the present invention by mixing the respective components include, but are not limited to, a method such as a casting method.
【0068】本発明の感光性樹脂印刷用原版は、好まし
くは、支持体上に接着層、上述の感光性樹脂組成物から
なる感光層、粘着防止層およびカバーフィルムから構成
される。その製造方法としては、接着層を形成した支持
体と、粘着防止層を形成したカバーフィルムとの間に、
感光性樹脂組成物をサンドイッチ上に挟み(接着層と粘
着防止層をともに内側にして)、加熱圧着することによ
り、感光性樹脂印刷版が作成される。上記の粘着防止層
はポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、セルロ
ース、ポリアミドなどを含有する。支持体としては、ポ
リエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロ
ピレンフィルムなどが使用され、好ましくはポリエステ
ルフィルムが使用され得る。The original plate for printing a photosensitive resin of the present invention preferably comprises an adhesive layer, a photosensitive layer comprising the above-mentioned photosensitive resin composition, an anti-adhesion layer and a cover film on a support. As the production method, between the support having the adhesive layer formed thereon and the cover film having the anti-adhesion layer formed thereon,
A photosensitive resin printing plate is prepared by sandwiching the photosensitive resin composition on a sandwich (with both the adhesive layer and the anti-adhesion layer inside) and heat-pressing. The anti-adhesion layer contains polyvinyl alcohol, polyacrylamide, cellulose, polyamide and the like. As the support, a polyester film, a polyethylene film, a polypropylene film, or the like is used, and preferably, a polyester film can be used.
【0069】このような感光性樹脂印刷用原版は紫外線
照射することにより、少なくともエチレン性不飽和化合
物は重合して硬化する。硬化の際に照射する紫外線は、
150〜500nm、特に300〜450nmの波長を
有するものが好ましく、そのような紫外線の光源として
は、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、カーボンアーク
灯、紫外線蛍光灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、
ジルコニウムランプ等が望ましい。When such a photosensitive resin printing plate is irradiated with ultraviolet rays, at least the ethylenically unsaturated compound is polymerized and cured. The UV light applied during curing is
Those having a wavelength of 150 to 500 nm, particularly 300 to 450 nm, are preferable. Examples of such ultraviolet light sources include low-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, carbon arc lamps, ultraviolet fluorescent lamps, chemical lamps, xenon lamps, and the like.
A zirconium lamp or the like is desirable.
【0070】本発明の感光性樹脂印刷版は、上記の感光
性樹脂印刷用原版を上記光源下で透明画像を有するネガ
フィルムを密着させて紫外線を照射し画像露光させた
後、露光されない未硬化部分の非画像部を約20℃〜5
0℃の現像液を用いて除去してレリーフ画像を形成する
ことにより得られる。溶解除去された未硬化の感光性樹
脂は乳濁液あるいは懸濁状溶液となって現像槽中に残
る。The photosensitive resin printing plate of the present invention is obtained by exposing the above-described photosensitive resin printing plate to an image exposure by irradiating ultraviolet rays with a negative film having a transparent image adhered thereto under the above-mentioned light source, and then exposing the uncured uncured resin. Approximately 20 ° C to 5
It is obtained by forming a relief image by removing with a developing solution at 0 ° C. The uncured photosensitive resin dissolved and removed remains in the developing tank as an emulsion or a suspension.
【0071】使用される現像液は、水系の現像液に界面
活性剤が添加されており、前述のシェル相形成親水性ポ
リマーはこの界面活性剤が添加された現像液に溶解また
は分散するものを使用することが重要である。即ち、作
業安全性、環境への安全性、入手し易さ等から使用可能
な現像液を決定し、これに合わせて感光層に使用する親
水性ポリマーを選択する。The developer used is a water-based developer to which a surfactant is added, and the above-mentioned hydrophilic polymer for forming a shell phase is one which is dissolved or dispersed in the developer to which the surfactant is added. It is important to use. That is, a usable developer is determined in view of work safety, environmental safety, availability, and the like, and a hydrophilic polymer used in the photosensitive layer is selected in accordance with the determined developer.
【0072】上記の界面活性剤としては、アニオン系界
面活性剤、カチオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性
剤、両性界面活性剤等を幅広く使用することができる。
界面活性剤の添加量は、現像液中、0.01〜10重量
%が好ましい。又、最適な現像を行えるように上記の界
面活性剤を複数を組み合わせて使用してもよい。As the above-mentioned surfactant, an anionic surfactant, a cationic surfactant, a nonionic surfactant, an amphoteric surfactant and the like can be widely used.
The addition amount of the surfactant is preferably 0.01 to 10% by weight in the developer. Further, a plurality of the above surfactants may be used in combination so as to perform optimal development.
【0073】現像液は、作業者の安全性、環境への配慮
から水系の現像液が好ましく、必要に応じてエタノー
ル、イソプロパノール、セロソルブ、グリセリン、ポリ
エチレングリコール、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、アセトン等の水と混和し得る有機溶媒を
混合してもよい。The developer is preferably an aqueous developer in consideration of the safety of workers and the environment. If necessary, a water-based developer such as ethanol, isopropanol, cellosolve, glycerin, polyethylene glycol, dimethylformamide, dimethylacetamide, or acetone may be used. And an organic solvent miscible with water.
【0074】また、現像液には、炭酸ソーダ、トリポリ
リン酸ソーダ、ピロリン酸カリウム、ケイ酸ソーダ、硫
酸ソーダ、ホウ酸ソーダ、酢酸ソーダ、酢酸マグネシウ
ム、クエン酸ソーダ、コハク酸ソーダ等の中性、酸性ま
たはアルカリ性の無機または有機の塩類;カルボキシメ
チルセルロース、メチルセルロース等の高分子系添加
剤;pH調整のための硫酸、塩酸、リン酸等の酸、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等の
アルカリ;その他、粘度調整剤、分散安定剤、凝集剤、
ゼオライト等の各種添加剤を必要に応じて添加してもよ
い。Further, the developer may be neutral, such as sodium carbonate, sodium tripolyphosphate, potassium pyrophosphate, sodium silicate, sodium sulfate, sodium borate, sodium acetate, magnesium acetate, sodium citrate, and sodium succinate. Acidic or alkaline inorganic or organic salts; polymeric additives such as carboxymethylcellulose and methylcellulose; acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid and phosphoric acid for adjusting pH, sodium hydroxide, potassium hydroxide and calcium hydroxide Alkali; other, viscosity modifiers, dispersion stabilizers, flocculants,
Various additives such as zeolite may be added as necessary.
【0075】なお、現像は感光性樹脂印刷用原版を現像
液に浸漬し、必要ならばブラシで感光性樹脂層を擦り、
未硬化部分を除去して行う。現像時の温度は20〜50
℃が好ましい。For development, the photosensitive resin printing plate is immersed in a developer, and if necessary, the photosensitive resin layer is rubbed with a brush.
This is performed by removing uncured portions. The temperature during development is 20-50
C is preferred.
【0076】このようにして得られた感光性樹脂印刷版
は、ゴム弾性を有し、フレキソ印刷版として有用であ
る。また、耐インク性、インクの転移性、耐刷性にも優
れている。The photosensitive resin printing plate thus obtained has rubber elasticity and is useful as a flexographic printing plate. In addition, it has excellent ink resistance, ink transferability, and printing durability.
【0077】なお、本発明の感光性樹脂組成物は、フレ
キソ印刷版用として使用する以外にフォシレジスト用、
サンドプラスト用にも適用でき、他に紫外線により硬化
するエラストマーとしての用途、接着剤、フィルム、塗
料等にも使用できる。The photosensitive resin composition of the present invention can be used not only for flexographic printing plates but also for photoresists.
It can also be used for sandplasts, and can also be used as elastomers that can be cured by ultraviolet rays, adhesives, films, paints, and the like.
【0078】[0078]
【実施例】以下の実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例に限定されない。なお、
実施例中、部は重量部を意味する。また、レリーフ深
度、硬度、反発弾性率、水膨潤率、形状安定性、コアシ
ェル形成の有無、粒子凝集の有無について以下に示す。EXAMPLES The present invention will be described in detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples. In addition,
In the examples, parts mean parts by weight. The relief depth, hardness, rebound resilience, water swelling ratio, shape stability, presence / absence of core-shell formation, and presence / absence of particle aggregation are shown below.
【0079】1.エチレン性不飽和化合物のMnおよび
Mw/Mnの測定条件 使用機器:島津製作所製 GPC LC−4A 使用サンプル:1重量%THF溶液 流量:1ml/分 カラム:shodexKF−805L 測定温度:20℃ UV波長:220nm1. Measurement conditions of Mn and Mw / Mn of ethylenically unsaturated compound Equipment used: GPC LC-4A manufactured by Shimadzu Corporation Sample used: 1 wt% THF solution Flow rate: 1 ml / min Column: Shodex KF-805L Measurement temperature: 20 ° C. UV wavelength: 220nm
【0080】2.エチレン性不飽和化合物の粘度の測定
方法 ローター式ブルックフィールド型粘度計により、JIS
K−6726に準じて20℃で測定した。2. Measurement method of viscosity of ethylenically unsaturated compound JIS by rotor type Brookfield viscometer
It measured at 20 degreeC according to K-6726.
【0081】3.レリーフ深度 感光性樹脂印刷版について、現像後の画像部と非画像部
の高さの差をONO測器製OG−911により測定し
た。3. Relief depth With respect to the photosensitive resin printing plate, a difference in height between an image area and a non-image area after development was measured by OG-911 manufactured by ONO SOKKI.
【0082】4.硬度 感光性樹脂印刷版について、JIS−K6301に準ず
るスプリング式硬さ試験(A法)により20℃で測定し
た。4. Hardness The photosensitive resin printing plate was measured at 20 ° C. by a spring-type hardness test (A method) according to JIS-K6301.
【0083】5.反発弾性率:感光性樹脂印刷版につい
て、径10mm(重さ4.16g)の鋼製ボールを高さ
20cmより落とし、跳び返る高さ(a)を読み取り、
(a/20)×100%を表示値とした。5. Rebound resilience: For a photosensitive resin printing plate, a steel ball having a diameter of 10 mm (weight of 4.16 g) was dropped from a height of 20 cm, and the rebound height (a) was read.
(A / 20) × 100% was set as a display value.
【0084】6.水膨潤率:感光層樹脂組成物を厚み
0.1cm、縦2.0cm、横5.0cmのシートに成
形し、照射量4000mJ/cm2 の露光を行った。こ
のシートを真空乾燥器60℃において24時間乾燥を行
った。この重量を秤量した(a(g))。これを20℃
のイオン交換水に24時間浸漬し、秤量した(b
(g))。水膨潤率として(b−a)/a×100%を
表示値とした。6. Water swelling ratio: The photosensitive layer resin composition was formed into a sheet having a thickness of 0.1 cm, a length of 2.0 cm, and a width of 5.0 cm, and exposure was performed at a dose of 4000 mJ / cm 2 . The sheet was dried at 60 ° C. in a vacuum drier for 24 hours. This weight was weighed (a (g)). 20 ℃
Immersed in ion-exchanged water for 24 hours and weighed (b)
(G)). The indicated value was (ba) / a × 100% as the water swelling ratio.
【0085】7.形状安定性:円筒型検出端子(検出端
子直径:10mm、荷重10g重)付き厚み計(小野測
器製DG−911)の検出端子を、感光性樹脂組成物か
らなる感光層が形成された支持体(全厚み2800m
m)の感光層側に60秒間のせ、その変化量(amm)
を読み取り、(a/2800)×100%を表示値とし
た。7. Shape stability: Support the detection terminal of a thickness gauge (DG-911 manufactured by Ono Sokki Co., Ltd.) with a cylindrical detection terminal (detection terminal diameter: 10 mm, load: 10 g weight) on which a photosensitive layer made of a photosensitive resin composition is formed. Body (total thickness 2800m
m) for 60 seconds on the photosensitive layer side, and the amount of change (amm)
Was read, and (a / 2800) × 100% was taken as a display value.
【0086】8.コアシェル粒子および粒子凝集の有無 感光性樹脂組成物を25℃においてカチオン系染料(プ
リモシアニン:クリスタルバイオレット)1.0%水溶
液に30分間浸漬し親水性ポリマーを選択的に染色し
た。その状態を光学顕微鏡でコアシェル型粒子がマトリ
ックス内に生じているかどうか観察した。さらに、この
複数のコアシェル型粒子が、互いに凝集していないかど
うかも観察した。複数のコアシェル型粒子が近接または
融化している場合、粒子凝集が生じると評価した。8. Existence of Core-Shell Particles and Particle Aggregation The photosensitive resin composition was immersed in a 1.0% aqueous solution of a cationic dye (primocyanin: crystal violet) at 25 ° C. for 30 minutes to selectively dye the hydrophilic polymer. The state was observed using an optical microscope to determine whether core-shell particles were formed in the matrix. Furthermore, it was also observed whether or not the plurality of core-shell particles were aggregated with each other. It was evaluated that when a plurality of core-shell particles were close to or fused, particle aggregation occurred.
【0087】9.耐オゾン劣化性の評価 5×20×1mmの感光性樹脂印刷版をO3 雰囲気下
(1ppm,1m3 /min)、25℃で24時間放置
後の硬度をJIS−K6301に準ずるスプリング式硬
さ試験(A法)により20℃で測定した。また、外観形
状を観察し、感光性樹脂印刷版作成直後の形状との比較
を収縮度で示した。9. Evaluation of Ozone Degradation Resistance The hardness of a 5 × 20 × 1 mm photosensitive resin printing plate after being left at 25 ° C. for 24 hours in an O 3 atmosphere (1 ppm, 1 m 3 / min) is a spring hardness according to JIS-K6301. It was measured at 20 ° C. by the test (Method A). In addition, the external shape was observed, and a comparison with the shape immediately after preparation of the photosensitive resin printing plate was shown by the degree of shrinkage.
【0088】実施例1 <親水性ポリマーIの調製>ヘキサメチレンジイソシア
ナート276部、ジメチロールプロピオン酸145部、
ポリオキシテトラメチレングリコール(PTMG−85
0:保土谷化学(株)製)175部、ヒドロキシエチル
メタアクリレート60部、末端にアミノ基を有するアク
リロニトリル−ブタジエンオリゴマー(HYCAR−A
RBN1300×16:宇部興産(株)製)343部、
およびジ−n−ブチルスズジラウレート20部を、テト
ラヒドロフラン1000部に、冷却管付き2リットルフ
ラスコ内で溶解させた後、60℃で4時間反応を行っ
た。反応の終了は、残留NCO量を定量することにより
確認した。形成されたポリマー中の−COOH基を水酸
化リチウム1水和塩および酢酸マグネシウム4水和塩を
半当量ずつ用いて中和し、親水性ポリマーIを得た。Example 1 <Preparation of hydrophilic polymer I> 276 parts of hexamethylene diisocyanate, 145 parts of dimethylolpropionic acid,
Polyoxytetramethylene glycol (PTMG-85
0: 175 parts of Hodogaya Chemical Co., Ltd.), 60 parts of hydroxyethyl methacrylate, acrylonitrile-butadiene oligomer having an amino group at a terminal (HYCAR-A)
RBN1300 × 16: Ube Industries, Ltd.) 343 parts,
After dissolving 20 parts of di-n-butyltin dilaurate in 1000 parts of tetrahydrofuran in a 2 liter flask equipped with a condenser, the reaction was carried out at 60 ° C. for 4 hours. The completion of the reaction was confirmed by quantifying the amount of residual NCO. The -COOH group in the formed polymer was neutralized using lithium hydroxide monohydrate and magnesium acetate tetrahydrate in half equivalents to obtain a hydrophilic polymer I.
【0089】<エチレン性不飽和化合物Iの調製>水酸
基を末端に有する液状ポリブタジエン(出光石油化学
(株)製:Poly−bd R−45HT、数平均分子
量2800)とアクリル酸を混合して、脱水化反応を行
い、数平均分子量8000、Mw/Mnが4.3、20
℃における粘度が9500mPa/sであるエチレン性
不飽和化合物Iを得た。得られたエチレン性不飽和化合
物Iは、アクリレート基を有するポリブタジエン成分9
5重量%とアクリレート基を有する非共役ジエン成分5
重量%を含んでいた。<Preparation of Ethylenically Unsaturated Compound I> A liquid polybutadiene having a hydroxyl group at the terminal (Poly-bd R-45HT, manufactured by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd., number average molecular weight 2800) was mixed with acrylic acid to dehydrate. And a number average molecular weight of 8000, Mw / Mn of 4.3, 20
An ethylenically unsaturated compound I having a viscosity at 9 ° C. of 9500 mPa / s was obtained. The obtained ethylenically unsaturated compound I is a polybutadiene component 9 having an acrylate group.
Non-conjugated diene component having 5% by weight and acrylate group 5
% By weight.
【0090】<感光性樹脂組成物の調製>上記親水性ポ
リマーIを10部、塩素化ポリエチレン(昭和電工
(株)製:エラスレン:301MA;ガラス転移温度:
−30℃〜−25℃)46部、ポリブタジエン(日本合
成ゴム(株)製:BRO2LL,ガラス転移温度:−1
02℃〜−75℃)14部、エチレン性不飽和化合物I
を27部、ベンジルジメチルケタール1部、ハイドロキ
ノンモノメチルエーテル0.1部、2,6−ジ−t−ブ
チルクレゾール0.2部、メチルナフトキノン0.05
部、2−エチルアントラキノン0.5部、トルエン10
0部、および水10部を、75℃にて加圧ニーダーで混
練し、溶剤を除去して感光性樹脂組成物を得た。<Preparation of Photosensitive Resin Composition> Ten parts of the above hydrophilic polymer I, chlorinated polyethylene (Eraslen: 301MA, manufactured by Showa Denko KK); Glass transition temperature:
46 parts, polybutadiene (Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd .: BRO2LL, glass transition temperature: -1)
02 ° C to -75 ° C) 14 parts, ethylenically unsaturated compound I
27 parts, benzyldimethyl ketal 1 part, hydroquinone monomethyl ether 0.1 part, 2,6-di-t-butylcresol 0.2 part, methylnaphthoquinone 0.05
Part, 2-ethylanthraquinone 0.5 part, toluene 10
0 parts and 10 parts of water were kneaded at 75 ° C. in a pressure kneader, and the solvent was removed to obtain a photosensitive resin composition.
【0091】実施例2 <エチレン性不飽和化合物IIの調製>水酸基を末端に
有する液状ポリブタジエン(出光石油化学(株)製:P
oly−bd R45HT、数平均分子量2800)と
アクリル酸メチルを混合して、脱水化反応を行い、数平
均分子量5700、Mw/Mnが3.1、20℃におけ
る粘度が4100mPa/sであるエチレン性不飽和化
合物IIを得た。Example 2 <Preparation of Ethylenically Unsaturated Compound II> A liquid polybutadiene having a hydroxyl group at its terminal (manufactured by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd .: P
(poly-bd R45HT, number average molecular weight 2800) and methyl acrylate are mixed and subjected to a dehydration reaction to obtain an ethylenic substance having a number average molecular weight of 5700, Mw / Mn of 3.1, and a viscosity at 20 ° C. of 4100 mPa / s. The unsaturated compound II was obtained.
【0092】<エチレン性不飽和化合物IIIの調製>
水酸基を末端に有する液状ポリオレフィン(三菱化学
(株)製:ポリテールHA、数平均分子量2000)と
アクリル酸を混合して、脱水化反応を行い、数平均分子
量9000、Mw/Mnが4.2、20℃における粘度
が21000mPa/sであるエチレン性不飽和化合物
IIを得た。<Preparation of ethylenically unsaturated compound III>
A liquid polyolefin having a hydroxyl group at the terminal (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation: polytail HA, number average molecular weight 2,000) and acrylic acid are mixed, and a dehydration reaction is performed. The number average molecular weight is 9,000 and Mw / Mn is 4.2. An ethylenically unsaturated compound II having a viscosity at 2O <0> C of 21000 mPa / s was obtained.
【0093】<感光性樹脂組成物の調製>実施例1にお
いて、エチレン性不飽和化合物I27部の代わりに、エ
チレン性不飽和化合物II25部とエチレン性不飽和化
合物III2部を用いたこと以外は実施例1と同様にし
て感光性樹脂組成物を得た。<Preparation of Photosensitive Resin Composition> The procedure of Example 1 was repeated except that 25 parts of the ethylenically unsaturated compound II and 2 parts of the ethylenically unsaturated compound III were used in place of 27 parts of the ethylenically unsaturated compound I. A photosensitive resin composition was obtained in the same manner as in Example 1.
【0094】実施例3 <エチレン性不飽和化合物IVの調製>ポリテトラメチ
レングリコール(数平均分子量650)とイソホロンジ
イソシアネートとヒドロキシエチルアクリレートを反応
させることによりエチレン性不飽和化合物IVを得た。
得られたエチレン性不飽和化合物IVの数平均分子量は
2000、Mw/Mnは3.1、20℃における粘度は
3000mPa/sであった。Example 3 <Preparation of ethylenically unsaturated compound IV> Ethylenically unsaturated compound IV was obtained by reacting polytetramethylene glycol (number average molecular weight 650), isophorone diisocyanate and hydroxyethyl acrylate.
The obtained ethylenically unsaturated compound IV had a number average molecular weight of 2000, Mw / Mn of 3.1, and a viscosity at 20 ° C of 3000 mPa / s.
【0095】<感光性樹脂組成物の調製>実施例1にお
いて、エチレン性不飽和化合物I27部の代わりに、エ
チレン性不飽和化合物II25部とエチレン性不飽和化
合物IV2部を用いたこと以外は実施例1と同様にして
感光性樹脂組成物を得た。<Preparation of Photosensitive Resin Composition> The procedure of Example 1 was repeated, except that 25 parts of the ethylenically unsaturated compound II and 2 parts of the ethylenically unsaturated compound IV were used in place of 27 parts of the ethylenically unsaturated compound I. A photosensitive resin composition was obtained in the same manner as in Example 1.
【0096】実施例4 実施例1において、エチレン性不飽和化合物I27部の
代わりに、アクリレート化ポリイソプレン(クラレ
(株)製、UCL−1、数平均分子量25000、Mw
/Mn=3.5、20℃における粘度8000mPa/
s)24部とエチレン性不飽和化合物III3部を用い
たこと以外は実施例1と同様の方法で感光性樹脂組成物
を得た。Example 4 In Example 1, acrylated polyisoprene (UCL-1, manufactured by Kuraray Co., Ltd., number average molecular weight 25,000, Mw) was used in place of 27 parts of the ethylenically unsaturated compound I.
/Mn=3.5, viscosity at 20 ° C. 8000 mPa /
s) A photosensitive resin composition was obtained in the same manner as in Example 1, except that 24 parts and 3 parts of the ethylenically unsaturated compound III were used.
【0097】実施例5 実施例1において、塩素化ポリエチレン46部の代わり
に、アクリロニトリル−ブタジエンゴム(日本合成ゴム
(株)製:JSR N230SH)46部、エチレン性
不飽和化合物I27部の代わりに、エチレン性不飽和化
合物I22部と1,9−ノナンジオールジメタクリレー
ト5部を用いたこと以外は、実施例1と同様の方法で感
光性樹脂組成物を得た。Example 5 In Example 1, instead of 46 parts of chlorinated polyethylene, 46 parts of acrylonitrile-butadiene rubber (manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd .: JSR N230SH) and 27 parts of ethylenically unsaturated compound I were used. A photosensitive resin composition was obtained in the same manner as in Example 1, except that 22 parts of the ethylenically unsaturated compound I and 5 parts of 1,9-nonanediol dimethacrylate were used.
【0098】実施例6 実施例1において、塩素化ポリエチレン46部の代わり
に、ポリイソプレンゴム(クラレ(株)製:IR−1
0)46部を用いたこと以外は、実施例1と同様の方法
で感光性樹脂組成物を得た。Example 6 In Example 1, instead of 46 parts of chlorinated polyethylene, polyisoprene rubber (IR-1 manufactured by Kuraray Co., Ltd.) was used.
0) A photosensitive resin composition was obtained in the same manner as in Example 1, except that 46 parts were used.
【0099】実施例7 実施例1において、塩素化ポリエチレン46部の代わり
に、スチレン−イソプレン−スチレンブロックポリマー
(シェルジャパン(株)製:TR1107P)46部を
用いたこと以外は、実施例1と同様の方法で感光性樹脂
組成物を得た。Example 7 Example 1 was repeated except that 46 parts of styrene-isoprene-styrene block polymer (TR1107P, manufactured by Shell Japan K.K.) was used instead of 46 parts of chlorinated polyethylene. A photosensitive resin composition was obtained in the same manner.
【0100】実施例8 実施例1において、塩素化ポリエチレン46部の代わり
に、エチレン−プロピレンゴム(日本合成ゴム(株)
製:JSR−EP−51)46部を用いたこと以外は、
実施例1と同様の方法で感光性樹脂組成物を得た。Example 8 In Example 1, ethylene-propylene rubber (Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) was used instead of 46 parts of chlorinated polyethylene.
Manufactured by JSR-EP-51) except that 46 parts were used.
A photosensitive resin composition was obtained in the same manner as in Example 1.
【0101】実施例9 実施例1において、塩素化ポリエチレン46部の代わり
に、アクリルゴム(日本ゼオン(株)製:NIPOL
AR54)46部を用いたこと以外は、実施例1と同様
の方法で感光性樹脂組成物を得た。Example 9 In Example 1, acrylic rubber (NIPOL manufactured by Zeon Corporation) was used instead of 46 parts of chlorinated polyethylene.
AR54) A photosensitive resin composition was obtained in the same manner as in Example 1, except that 46 parts were used.
【0102】比較例1〜9 実施例1〜9において、エチレン性不飽和化合物とし
て、それぞれ1,6−ヘキサメチレンジアクリレート5
部と水酸基を末端に有するオリゴブタジエン(出光石油
化学(株)製:Poly−bd R−45HT、数平均
分子量2800)22部を混合して得たもの(数平均分
子量2800、Mw/Mn=2.3、20℃における粘
度3000mPa/s)を用いたこと以外は、実施例1
〜9と同様の方法で感光性樹脂組成物を得た。Comparative Examples 1 to 9 In Examples 1 to 9, 1,6-hexamethylene diacrylate 5 was used as the ethylenically unsaturated compound.
(Poly-bd R-45HT, manufactured by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd .; number-average molecular weight: 2800) obtained by mixing 22 parts by weight with a polybutadiene having a hydroxyl group at the terminal (number-average molecular weight: 2800, Mw / Mn = 2) Example 3 except that a viscosity of 3000 mPa / s at 20 ° C.) was used.
In the same manner as in Examples 9 to 9, photosensitive resin compositions were obtained.
【0103】実施例1〜9および比較例1〜9で得られ
た感光性樹脂組成物について、形状安定性、コアシェル
粒子並びに粒子凝集の有無、水膨潤性および耐オゾン劣
化性について評価した。その結果を表1に示す。The photosensitive resin compositions obtained in Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 9 were evaluated for shape stability, presence / absence of core-shell particles and particle aggregation, water swellability and ozone deterioration resistance. Table 1 shows the results.
【0104】<感光性樹脂印刷用原版の作成>一面に厚
さ125μmのウレタン系接着層を有するポリエステル
フィルムと、一面に厚さ100μmのポリビニルアルコ
ール層を有するポリエステルフィルムを準備し、これら
のポリエステルフィルムを接着剤層とポリビニルアルコ
ール層とを内側にして、実施例1〜14および比較例1
〜14で得られた感光性樹脂組成物をサンドウィッチ状
にはさみ、ヒートプレス機で100℃にて100kg/
cm2 の圧力をかけ、厚さ2.9mmのシートを得た。
次に、ポリビニルアルコール層を有するポリエステルフ
ィルムのみを剥離して、感光性樹脂層上にポリビニルア
ルコール層を残し、感光性樹脂印刷用原版を得た。<Preparation of a photosensitive resin printing plate> A polyester film having a urethane-based adhesive layer having a thickness of 125 μm on one side and a polyester film having a polyvinyl alcohol layer having a thickness of 100 μm on one side were prepared. Examples 1 to 14 and Comparative Example 1 with the adhesive layer and the polyvinyl alcohol layer inside.
To 14 were sandwiched between sandwiches, and 100 kg / kg at 100 ° C. with a heat press machine.
A pressure of 2 cm 2 was applied to obtain a sheet having a thickness of 2.9 mm.
Next, only the polyester film having the polyvinyl alcohol layer was peeled off, and the polyvinyl alcohol layer was left on the photosensitive resin layer to obtain a photosensitive resin printing original plate.
【0105】<感光性樹脂印刷版の作成>得られた感光
性樹脂印刷用原版のポリビニルアルコール層上に、画像
を有するネガフィルムを密着して高輝度ランプ(アンダ
ーソンアンドブリーランド社製ホットバルブランプ)で
照射量4000mJ/cm2 の露光を行った。ネガフィ
ルムを除いた後、アルキルナフタレンスルホン酸ソーダ
2重量%を含む中性水により40℃15分間、ブラシに
よる現像を行い感光性樹脂印刷版を得た。得られた感光
性樹脂印刷版について、レリーフ深度、硬度および反発
弾性率について評価した。その結果を表1に示す。<Preparation of Photosensitive Resin Printing Plate> A negative film having an image was adhered onto the polyvinyl alcohol layer of the obtained photosensitive resin printing plate, and a high-intensity lamp (a hot bulb lamp manufactured by Anderson and Briland Co., Ltd.) was used. ), Exposure was performed at a dose of 4000 mJ / cm 2 . After removing the negative film, development with a brush was performed at 40 ° C. for 15 minutes with neutral water containing 2% by weight of sodium alkylnaphthalenesulfonate to obtain a photosensitive resin printing plate. The resulting photosensitive resin printing plate was evaluated for relief depth, hardness and rebound resilience. Table 1 shows the results.
【0106】[0106]
【表1】 [Table 1]
【0107】表1より、実施例1〜9で得られた感光性
樹脂組成物は、いずれもコアシェル粒子の凝集がなく、
形状安定性、水膨潤性および耐オゾン劣化性も良好なも
のであり、感光性樹脂印刷版は、いずれもレリーフ深度
が1.4〜2.0mmで、使用したネガフィルムの画像
を忠実に再現しており、また良好な弾性を有するもので
あり、インキの受理転移性もよく鮮明な画像を示した。As shown in Table 1, all of the photosensitive resin compositions obtained in Examples 1 to 9 had no aggregation of core-shell particles.
The shape stability, water swelling property and ozone deterioration resistance are also good. All of the photosensitive resin printing plates have a relief depth of 1.4 to 2.0 mm and faithfully reproduce the image of the negative film used. The ink had good elasticity, had good ink transferability, and showed a clear image.
【0108】しかし、比較例1〜9で得られた感光性樹
脂組成物はコアシェル粒子の凝集が見られ、また形状安
定性および耐オゾン劣化性も劣っていた。感光性樹脂印
刷版は、いずれもレリーフ深度が0.7mm以下で、使
用したネガフィルムの画像を忠実に再現しておらず、ま
た弾性も劣ったものであり、いずれも表面が硬化し折り
曲げるとクラックが生じた。However, in the photosensitive resin compositions obtained in Comparative Examples 1 to 9, aggregation of core-shell particles was observed, and shape stability and ozone deterioration resistance were also poor. The photosensitive resin printing plate has a relief depth of 0.7 mm or less, does not faithfully reproduce the image of the negative film used, and has poor elasticity. Cracks occurred.
【0109】[0109]
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、分散相の凝集がなく、作業性および保存安定性
に優れる感光性樹脂組成物を提供でき、そして水系現像
性および耐水性(特に耐インキ性)という相反する要求
を満足し、レリーフ再現性が良好で、優れた弾性を有す
る感光性樹脂印刷用原版および感光性樹脂印刷版を提供
できる。As is apparent from the above description, according to the present invention, a photosensitive resin composition which is free from agglomeration of a dispersed phase, excellent in workability and storage stability can be provided. The present invention can provide a photosensitive resin printing plate and a photosensitive resin printing plate which satisfy the conflicting requirements of resilience (particularly ink resistance), have good relief reproducibility, and have excellent elasticity.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03F 7/027 511 G03F 7/027 511 (72)発明者 加地 篤 滋賀県大津市堅田二丁目1番1号 東洋紡 績株式会社総合研究所内──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI G03F 7/027 511 G03F 7/027 511 (72) Inventor Atsushi Kachi 2-1-1 Katada, Otsu City, Shiga Prefecture Toyobo Co., Ltd. Within the Research Institute
Claims (6)
子状の分散相からなる相分離構造を有する感光性樹脂組
成物であって、 連続相が、数平均分子量Mnが500以上、Mnに対す
る重量平均分子量Mwの割合Mw/Mnが2以上、かつ
20℃における粘度が2000mPa/s以上の、共役
ジエン鎖を有するエチレン性不飽和化合物および非共役
ジエン鎖を有するエチレン性不飽和化合物を含有するこ
とを特徴とする感光性樹脂組成物。1. A photosensitive resin composition having a phase-separated structure comprising a continuous phase and a fine-particle dispersed phase dispersed in the continuous phase, wherein the continuous phase has a number average molecular weight Mn of 500 or more and Mn. Containing an ethylenically unsaturated compound having a conjugated diene chain and an ethylenically unsaturated compound having a non-conjugated diene chain, having a weight average molecular weight Mw ratio of 2 or more and a viscosity at 20 ° C. of 2000 mPa / s or more. A photosensitive resin composition characterized in that:
ア相と、当該コア相を被覆し、かつ親水性ポリマーを含
有するシェル相とからなるコアシェル粒子であることを
特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂組成物。2. The disperse phase is a core-shell particle comprising a core phase containing a hydrophobic polymer and a shell phase covering the core phase and containing a hydrophilic polymer. 3. The photosensitive resin composition according to item 1.
リマーとは異なり、かつ当該エチレン性不飽和化合物と
相溶する疎水性ポリマーをさらに含有することを特徴と
する請求項2に記載の感光性樹脂組成物。3. The continuous phase according to claim 2, wherein the continuous phase is different from the hydrophobic polymer contained in the core phase and further contains a hydrophobic polymer compatible with the ethylenically unsaturated compound. Photosensitive resin composition.
対する重量平均分子量Mwの割合Mw/Mnが2以上、
かつ20℃における粘度が2000mPa/s以上の、
共役ジエン鎖を有するエチレン性不飽和化合物および非
共役ジエン鎖を有するエチレン性不飽和化合物と、 親水性ポリマーと、 疎水性ポリマーと、 当該疎水性ポリマーとは異なり、かつ当該エチレン性不
飽和化合物と相溶する疎水性ポリマーと、 当該親水性ポリマーを溶解または膨潤させる溶剤とを混
合し、相分離によって連続相とコアシェル粒子の分散相
とを形成させることを特徴とする感光性樹脂組成物の製
造方法。4. The number average molecular weight Mn is 500 or more, the ratio Mw / Mn of the weight average molecular weight Mw to Mn is 2 or more,
And a viscosity at 20 ° C. of 2000 mPa / s or more,
An ethylenically unsaturated compound having a conjugated diene chain and an ethylenically unsaturated compound having a non-conjugated diene chain; a hydrophilic polymer; a hydrophobic polymer; Production of a photosensitive resin composition characterized by mixing a compatible hydrophobic polymer and a solvent for dissolving or swelling the hydrophilic polymer, and forming a continuous phase and a dispersed phase of core-shell particles by phase separation. Method.
載の感光性樹脂組成物を含有する感光層とが積層されて
なることを特徴とする感光性樹脂印刷用原版。5. An original plate for printing a photosensitive resin, comprising a support and a photosensitive layer containing the photosensitive resin composition according to claim 1.
を露光、次いで現像してなることを特徴とする感光性樹
脂印刷版。6. A photosensitive resin printing plate, which is obtained by exposing and then developing the photosensitive resin printing plate precursor according to claim 5.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15630698A JPH11352687A (en) | 1998-06-04 | 1998-06-04 | Photosensitive resin composition, its production, photosensitive resin original printing plate and photosensitive resin printing plate using the composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15630698A JPH11352687A (en) | 1998-06-04 | 1998-06-04 | Photosensitive resin composition, its production, photosensitive resin original printing plate and photosensitive resin printing plate using the composition |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11352687A true JPH11352687A (en) | 1999-12-24 |
Family
ID=15624926
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP15630698A Pending JPH11352687A (en) | 1998-06-04 | 1998-06-04 | Photosensitive resin composition, its production, photosensitive resin original printing plate and photosensitive resin printing plate using the composition |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11352687A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002348306A (en) * | 2001-05-28 | 2002-12-04 | Showa Highpolymer Co Ltd | Process for producing aqueous resin composition |
JP2017105201A (en) * | 2013-06-11 | 2017-06-15 | ボール コーポレイションBall Corporation | Decorator and method for decorating exterior surface of container by using the decorator |
-
1998
- 1998-06-04 JP JP15630698A patent/JPH11352687A/en active Pending
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JP2002348306A (en) * | 2001-05-28 | 2002-12-04 | Showa Highpolymer Co Ltd | Process for producing aqueous resin composition |
JP2017105201A (en) * | 2013-06-11 | 2017-06-15 | ボール コーポレイションBall Corporation | Decorator and method for decorating exterior surface of container by using the decorator |
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