JPH11340276A - Manufacture of semiconductor device - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、バンプ付きテープ
キャリア上に半導体チップを実装した半導体装置の製造
方法に関する。The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor device in which a semiconductor chip is mounted on a tape carrier with bumps.
【0002】[0002]
【従来の技術】電子機器の小型化、軽量化、高速化、高
機能化等の要求に答えるため、半導体パッケージには、
種々の形態のものが開発されている。このような半導体
パッケージ技術として、特に、半導体チップの高集積化
による多ピン化の要請と、装置の小型化を両立させるた
め、絶縁フィルム上に形成した金属パターンに、半田バ
ンプを介して半導体チップを接合する、いわゆるテープ
キャリア方式によるパッケージ技術が知られている。2. Description of the Related Art In order to respond to demands for miniaturization, weight reduction, high speed, and high functionality of electronic devices, semiconductor packages include:
Various forms have been developed. As such a semiconductor package technology, in particular, in order to achieve both the demand for a higher pin count due to the higher integration of the semiconductor chip and the miniaturization of the device, a semiconductor chip is formed on a metal pattern formed on an insulating film via a solder bump. There is known a package technology based on a so-called tape carrier method for joining the tapes.
【0003】そのようなテープキャリア方式によるパッ
ケージ技術の一例として、特開平8−64636号公報
に開示されているものがある。このパッケージ技術で
は、図4に示すように、ポリイミドテープ1上に導体パ
ターン2が形成され、この導体パターン2に、半田バン
プ3が形成されている。この半田バンプ3と、半田バン
プ3に対応して半導体チップ4の一主面に形成された金
属電極(金属パッド)6とが熱的に接合される。このよ
うにして半導体チップ4を実装したテープキャリアは、
その後、個々に切り出される。One example of such a tape carrier type packaging technique is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-64636. In this packaging technique, as shown in FIG. 4, a conductor pattern 2 is formed on a polyimide tape 1, and a solder bump 3 is formed on the conductor pattern 2. This solder bump 3 is thermally joined to a metal electrode (metal pad) 6 formed on one main surface of the semiconductor chip 4 corresponding to the solder bump 3. The tape carrier on which the semiconductor chip 4 is mounted in this manner is
Then, they are cut out individually.
【0004】このテープキャリア方式では、薄く透明な
ポリイミドテープを用いているため、熱サイクルにおい
ても半田接合部に加わる応力が緩和され、また裏面から
半田バンプを観察出来るという利点がある。[0004] In this tape carrier system, since a thin and transparent polyimide tape is used, there is an advantage that stress applied to a solder joint is alleviated even in a heat cycle, and solder bumps can be observed from the back surface.
【0005】しかし、半田バンプは、一般にクリーム半
田印刷や半田ボールを転写する方法により形成される
が、このような方法では、図4に示すように、半田バン
プ3は球状にならざるを得ない。半田バンプ同士のピッ
チが小さくなり、半田バンプ間の距離が短くなると、球
状の半田バンプでは、半導体チップを搭載した際に、半
田ブリッジが形成されてしまうという問題がある。ま
た、アンダーフィル樹脂の充填が困難となるという問題
も生ずる。[0005] However, solder bumps are generally formed by cream solder printing or a method of transferring solder balls. However, in such a method, the solder bumps 3 must be spherical as shown in FIG. . When the pitch between the solder bumps becomes smaller and the distance between the solder bumps becomes shorter, there is a problem that a solder bridge is formed when a semiconductor chip is mounted on a spherical solder bump. In addition, there is a problem that it is difficult to fill the underfill resin.
【0006】また、テープキャリアの半田バンプと半導
体チップの金属パッドとの接合に際し、テープキャリア
側にフラックスを通常の方法で塗布すると、半田バンプ
以外の導体パターンまでがフラックスにより覆われてし
まい、溶融時に半田が導体パターン上に流れてしまう。
その結果、バンプ高さが低くなり、半導体チップとテー
プキャリアとの間のギャップを維持することが困難とな
る。また、半田は球状となり、上述したブリッジが形成
されてしまう。In addition, when a flux is applied to the tape carrier by a normal method when joining the solder bumps of the tape carrier to the metal pads of the semiconductor chip, the flux is covered up to the conductor pattern other than the solder bumps, and the molten metal is melted. Sometimes, the solder flows on the conductor pattern.
As a result, the bump height decreases, and it becomes difficult to maintain the gap between the semiconductor chip and the tape carrier. Further, the solder becomes spherical, and the above-mentioned bridge is formed.
【0007】また、半導体チップを仮固定する目的か
ら、固形分の量が多い粘度の高いフラックスを用いる
と、半導体チップとテープキャリアとの間にフラックス
残渣が生じてしまい、後工程においてこれを洗浄する必
要がある。Further, when a flux having a high solid content and a high viscosity is used for the purpose of temporarily fixing the semiconductor chip, a flux residue is generated between the semiconductor chip and the tape carrier, and the flux residue is cleaned in a later step. There is a need to.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記事情を
考慮してなされたもので、バンプ付きテープキャリアに
半導体チップを搭載する際に、バンプの溶融時にバンプ
を構成する金属が導体パターン上に流れることを防止
し、正確な位置決めをもってテープキャリアの金属バン
プと半導体チップの金属パッドとの接合を可能とした、
接続信頼性が高い半導体装置の製造方法を提供すること
を目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and when a semiconductor chip is mounted on a tape carrier with bumps, when the bumps are melted, the metal constituting the bumps is formed on the conductor pattern. To prevent the metal bumps from flowing into the tape carrier with accurate positioning.
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a semiconductor device having high connection reliability.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、絶縁フィルムと、この絶縁フィルム上に
形成された導体パターンと、この導体パターン上に形成
された半導体チップ接続用金属バンプとを備え、前記金
属バンプが前記導体パターン面に対し実質的に垂直な側
面を有する柱状体からなるバンプ付きテープキャリア上
に、半導体チップを接合することからなる半導体装置の
製造方法であって、前記半導体チップの電極面又は前記
金属バンプの頂部にフラックスを塗布する工程、前記半
導体チップと前記テープキャリアとを、前記半導体チッ
プの電極が前記テープキャリアの金属バンプに対応する
ように位置決めする工程、前記半導体チップと前記テー
プキャリアとを固着材により固着する工程、および加熱
して、前記テープキャリアの金属バンプを溶融させ、前
記半導体チップの電極と前記テープキャリアの金属バン
プとを接続する工程を具備することを特徴とする半導体
装置の製造方法を提供する。In order to solve the above problems, the present invention provides an insulating film, a conductive pattern formed on the insulating film, and a metal bump for connecting a semiconductor chip formed on the conductive pattern. A method for manufacturing a semiconductor device, comprising: bonding a semiconductor chip on a bumped tape carrier made of a columnar body having side surfaces substantially perpendicular to the conductor pattern surface, wherein the metal bumps are provided. Applying a flux to the electrode surface of the semiconductor chip or the top of the metal bump, positioning the semiconductor chip and the tape carrier such that the electrode of the semiconductor chip corresponds to the metal bump of the tape carrier, Fixing the semiconductor chip and the tape carrier with a fixing material; The rear metal bump is melted, to provide a method of manufacturing a semiconductor device characterized by comprising the step of connecting the metal bump electrode and the tape carrier of the semiconductor chip.
【0010】かかる半導体装置の製造方法において、金
属バンプの溶融のための加熱は、次の方法により行うこ
とが出来る。 (1)半導体チップの電極が設けられている面とは反対
側の面をヒートツールにより加熱する。In the method of manufacturing a semiconductor device, the heating for melting the metal bumps can be performed by the following method. (1) The surface of the semiconductor chip opposite to the surface on which the electrodes are provided is heated by a heat tool.
【0011】(2)半導体チップを固着したテープキャ
リアを、加熱炉中に通過させる。また、本発明は、絶縁
フィルムと、この絶縁フィルム上に形成された導体パタ
ーンと、この導体パターン上に形成された半導体チップ
接続用金属バンプとを備え、前記金属バンプが前記導体
パターン面に対し実質的に垂直な側面を有する柱状体か
らなるバンプ付きテープキャリア上に、半導体チップを
接合することからなる半導体装置の製造方法であって、
前記半導体チップの電極面又は前記金属バンプの頂部に
フラックスを塗布する工程、前記半導体チップと前記テ
ープキャリアとを、前記半導体チップの電極が前記テー
プキャリアの金属バンプに対応するように位置決めする
工程、および前記半導体チップの前記電極が設けられて
いる面とは反対側の面をヒートツールにより加熱するこ
とにより、前記テープキャリアの金属バンプを溶融さ
せ、前記半導体チップの電極と前記テープキャリアの金
属バンプとを接続する工程を具備することを特徴とする
半導体装置の製造方法を提供する。(2) The tape carrier to which the semiconductor chip is fixed is passed through a heating furnace. Further, the present invention includes an insulating film, a conductive pattern formed on the insulating film, and a metal bump for semiconductor chip connection formed on the conductive pattern, wherein the metal bump is formed on the conductive pattern surface. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising joining a semiconductor chip onto a bumped tape carrier made of a columnar body having substantially vertical side surfaces,
Applying a flux to the electrode surface of the semiconductor chip or the top of the metal bump, positioning the semiconductor chip and the tape carrier such that the electrode of the semiconductor chip corresponds to the metal bump of the tape carrier, By heating the surface of the semiconductor chip opposite to the surface on which the electrodes are provided by a heat tool, the metal bumps of the tape carrier are melted, and the electrodes of the semiconductor chip and the metal bumps of the tape carrier are melted. And a method for manufacturing a semiconductor device.
【0012】以上の本発明の方法において、半導体チッ
プとテープキャリアとの間の空隙には、アンダーフィル
樹脂が充填される。また、半導体チップの電極には、金
属バンプと接続可能な金属層が形成されている。In the above method of the present invention, the space between the semiconductor chip and the tape carrier is filled with an underfill resin. Further, a metal layer connectable to a metal bump is formed on an electrode of the semiconductor chip.
【0013】ここで、本発明の方法に使用されるバンプ
付きテープキャリアについて説明する。本発明の方法に
使用されるバンプ付きテープキャリアは、絶縁フィルム
と、この絶縁フィルム上に形成された導体パターンと、
この導体パターン上に形成された半導体チップ接続用金
属バンプとを備え、前記金属バンプが、前記導体パター
ン面に対し実質的に垂直な側面を有する柱状体からなる
ものである。Here, the tape carrier with bumps used in the method of the present invention will be described. The tape carrier with bumps used in the method of the present invention is an insulating film, and a conductor pattern formed on the insulating film,
A metal bump for semiconductor chip connection formed on the conductor pattern, wherein the metal bump is formed of a pillar having a side surface substantially perpendicular to the conductor pattern surface.
【0014】このようなテープキャリアでは、導体パタ
ーンは、回路基板のパッドと垂直方向において電気的に
接続する位置にターミナルを有しており、ターミナル下
側部分の絶縁フィルムには、ターミナルよりも小さい径
の孔を形成することが出来る。この孔内に露出する導体
パターンの部分には、メッキ等により金属が埋め込まれ
た接合用電極が形成され、この接合用電極に供給された
半田ボールやクリーム半田を介して、回路基板との接続
を行うことが出来る。接合用電極としては、Cu、N
i、半田等を用いることが出来る。In such a tape carrier, the conductor pattern has a terminal at a position electrically connected to the pad of the circuit board in the vertical direction, and the insulating film on the lower side of the terminal has a smaller size than the terminal. A hole having a diameter can be formed. A bonding electrode in which metal is embedded by plating or the like is formed in a portion of the conductor pattern exposed in the hole, and the connection with the circuit board is performed via a solder ball or cream solder supplied to the bonding electrode. Can be performed. Cu, N
i, solder or the like can be used.
【0015】前記金属バンプを構成する材料としては、
Sn、半田(Sn合金等)等が挙げられるが、特に半田
が好ましい。金属バンプおよび接合用電極は、いずれも
多層構造を有するものとすることが出来る。この場合、
金属バンプおよび接合用電極は、半田からなる最上層
と、半田よりも高い融点を有する金属、例えばCu、N
iからなる下層とを含むものとすることが出来る。The material constituting the metal bump is as follows:
Although Sn and solder (Sn alloy etc.) are mentioned, solder is particularly preferable. Each of the metal bumps and the bonding electrodes can have a multilayer structure. in this case,
The metal bump and the bonding electrode are composed of an uppermost layer made of solder and a metal having a melting point higher than that of solder, for example, Cu, N
and a lower layer made of i.
【0016】以上のような本発明に使用されるバンプ付
きテープキャリアでは、金属バンプが、導体パターン面
に対し実質的に垂直な側面を有する柱状体により構成さ
れているため、従来の球状の半田バンプのように、半導
体チップを搭載した際に半田ブリッジが形成されるよう
なことがなく、また、アンダーフィル樹脂の充填も容易
に行うことが出来る。In the tape carrier with bumps used in the present invention as described above, since the metal bumps are formed by pillars having side surfaces substantially perpendicular to the conductor pattern surface, a conventional spherical solder is used. Unlike a bump, a solder bridge is not formed when a semiconductor chip is mounted, and an underfill resin can be easily filled.
【0017】以上説明したバンプ付きテープキャリアへ
の半導体チップの搭載に際しては、半導体チップの電極
面またはテープキャリアの金属バンプの頂部に限定して
フラックスを塗布している。そのため、半田が溶融して
も、テープキャリアの導体パターン上に溶融半田が流れ
て、バンプの高さが低くなるようなことは生じない。こ
れにより、従来行っていた半田の導体パターン上への流
れを防止するためのソルダーレジストによる処置を行う
必要がない。In mounting the semiconductor chip on the tape carrier with bumps described above, the flux is applied only to the electrode surface of the semiconductor chip or the top of the metal bump of the tape carrier. Therefore, even if the solder is melted, it does not occur that the molten solder flows on the conductor pattern of the tape carrier and the height of the bump is reduced. Accordingly, it is not necessary to perform the conventional treatment with the solder resist for preventing the flow of the solder onto the conductor pattern.
【0018】また、バンプ付きテープキャリアへの半導
体チップの搭載に際し、両者を固着材により固着するこ
とにより、半導体チップの位置ずれが生ずることもない
ので、加熱炉中を通過させて接合することが出来、ヒー
トツールによる加熱により接合することも出来る。Further, when mounting the semiconductor chip on the tape carrier with bumps, since the semiconductor chip is not displaced by fixing the both with a fixing material, the semiconductor chip can be joined by passing through a heating furnace. It can be joined by heating with a heat tool.
【0019】更に、バンプ付きテープキャリア上に半導
体チップを位置決めして載置した後、熱板等のヒートツ
ールを半導体チップの上から適度に押圧し、加熱するこ
とにより、固着材による固着を行わなくても、位置ずれ
を生ずることなく正確な接合を行うことが可能である。
押圧する圧力は、バンプが完全に押し潰されないよう
に、任意の距離を保持できるようにする。Further, after the semiconductor chip is positioned and mounted on the tape carrier with bumps, a heating tool such as a hot plate is appropriately pressed from above the semiconductor chip and heated to fix the semiconductor chip. Even without this, it is possible to perform accurate joining without causing displacement.
The pressing pressure allows an arbitrary distance to be maintained so that the bump is not completely crushed.
【0020】また、適度に押圧することにより、テープ
キャリアのたわみが生じることがなく、たわみによる接
続オープンを防止することが出来るとともに、半導体チ
ップの平行度を確保することが可能である。Further, by appropriately pressing, it is possible to prevent the tape carrier from being bent, prevent the connection from being opened due to the bending, and ensure the parallelism of the semiconductor chip.
【0021】しかし、この場合、金属バンプが過度にお
しつぶされないよう、バンプ付きテープキャリアに対す
る半導体チップの高さ位置を精度よくコントロールする
必要がある。However, in this case, it is necessary to precisely control the height position of the semiconductor chip with respect to the bumped tape carrier so that the metal bumps are not excessively crushed.
【0022】[0022]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
一実施形態に係る、半導体チップのテープキャリアへの
接合について説明する。図1は、本発明の一実施形態に
用いるバンプ付きテープキャリアを示す断面図である。
図1において、絶縁フィルム11上に銅パターン12が
形成されており、この銅パターン12上にAu、Sn、
半田(Sn合金等)等からなる金属バンプ13が形成さ
れている。絶縁フィルム11には、回路基板と接続する
部分に、銅パターン12のターミナル(後述の図5参
照)より小さい径の孔が形成されていて、この孔に埋め
込まれた金属が接合用電極14を形成している。この接
合用電極14は、ニッケル、半田等のメッキによって構
成することが出来、この接合電極上に供給された半田ボ
ールやクリーム半田を介して、回路基板の導体と接続さ
れる。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, with reference to the drawings, the joining of a semiconductor chip to a tape carrier according to an embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is a sectional view showing a tape carrier with bumps used in an embodiment of the present invention.
In FIG. 1, a copper pattern 12 is formed on an insulating film 11, and Au, Sn,
Metal bumps 13 made of solder (Sn alloy or the like) are formed. In the insulating film 11, a hole having a smaller diameter than a terminal of the copper pattern 12 (see FIG. 5 described later) is formed in a portion connected to the circuit board, and the metal embedded in the hole forms the bonding electrode 14. Has formed. The bonding electrode 14 can be formed by plating of nickel, solder, or the like, and is connected to a conductor of a circuit board via a solder ball or cream solder supplied on the bonding electrode.
【0023】テープキャリアの斜視図を図5に示す。図
5の上部に表側から見た図を、下部に裏側から見た図を
それぞれ示す。図5において、銅パターン12は、回路
基板の導体と垂直方向において電気的に接続する箇所に
ターミナル31を有しており、これらターミナル31の
下の絶縁フィルム11には、ターミナル31よりも径の
小さい孔が形成されている。この孔に形成した金属が接
合用電極14を形成する。接合用電極14上には、半田
ボール(図示せず)が形成されていて、この半田ボール
を介して回路基板の導体と接続される。FIG. 5 is a perspective view of the tape carrier. The upper part of FIG. 5 shows a view from the front side, and the lower part shows a view from the back side. In FIG. 5, the copper pattern 12 has terminals 31 at locations electrically connected to the conductors of the circuit board in the vertical direction, and the insulating film 11 below these terminals 31 has a diameter smaller than that of the terminals 31. Small holes are formed. The metal formed in this hole forms the bonding electrode 14. A solder ball (not shown) is formed on the bonding electrode 14, and is connected to a conductor of a circuit board via the solder ball.
【0024】このように構成されるバンプ付きテープキ
ャリアでは、金属バンプ13は、側面がストレートの円
柱状である。なお、円柱に限らず、断面が多角形の角柱
状でもよい。このように、金属バンプ13が、側面がス
トレートの柱状形状を有しているため、図4に示す従来
のテープキャリアの球状の金属バンプとは異なり、金属
バンプ同士のピッチが小さくなり、金属バンプ間の距離
が短くなったとしても、ブリッジが形成されるようなこ
とはなく、また、アンダーフィル樹脂の充填が困難とな
ることもない。In the thus configured tape carrier with bumps, the metal bumps 13 have a cylindrical shape with straight sides. The cross section is not limited to a cylinder, but may be a prism having a polygonal cross section. As described above, since the metal bumps 13 have a columnar shape with a straight side surface, the pitch between the metal bumps is small unlike the spherical metal bumps of the conventional tape carrier shown in FIG. Even if the distance between them becomes shorter, no bridge is formed, and the filling of the underfill resin does not become difficult.
【0025】また、金属バンプのブリッジを防ぎ、導体
パターン上に溶融した半田が流れるのを防止するための
ソルダーレジストを設けずに、銅パターン上に直接金属
バンプを形成出来るので、金属バンプを高く形成する必
要がなく、金属バンプの形成が容易であり、かつ形成の
ための時間が短時間ですむという利点がある。Further, the metal bump can be formed directly on the copper pattern without providing a solder resist for preventing the bridge of the metal bump and preventing the flow of the molten solder on the conductor pattern. There is an advantage that the metal bumps need not be formed, the formation of the metal bumps is easy, and the formation time is short.
【0026】上述したように、回路基板の導体と垂直方
向において電気的に接続する箇所にターミナルを有し、
これらターミナルの下の絶縁フィルムに形成された、タ
ーミナルよりも径の小さい孔に、Cu、Ni等のメッキ
による接合用電極を形成した構造では、この接合用電極
が補強となって、銅パターンの破断が防止される。As described above, the circuit board has terminals at positions electrically connected to the conductors in the vertical direction,
In a structure in which a bonding electrode formed by plating with Cu, Ni, or the like is formed in a hole having a smaller diameter than the terminal formed in the insulating film below these terminals, the bonding electrode serves as reinforcement, and a copper pattern is formed. Breakage is prevented.
【0027】以上のようなテープキャリアに対し、半導
体チップが接合され、半導体装置が得られる。以下に、
接合のための2つの方法について説明する。図2は、第
1の方法によるテープキャリアへの半導体チップの接合
工程を示す断面図である。まず、図2(a)に示すよう
な半導体チップ21を準備する。この半導体チップ21
は、周辺部に電極22を有しており、この電極22は、
アルミニウムパッドの表面ニ無電界Ni/Auメッキが
施されたものである。この電極22に対してフラックス
を塗布する。フラックスは、半導体チップの電極が設け
られている面の全面に塗布してもよい。フラックスとし
ては、粘度が低いものが好ましく、例えばF−50F
(ハリマ化成社製)を用いることが出来る。A semiconductor chip is bonded to the tape carrier as described above, and a semiconductor device is obtained. less than,
Two methods for joining will be described. FIG. 2 is a cross-sectional view showing a step of joining a semiconductor chip to a tape carrier by the first method. First, a semiconductor chip 21 as shown in FIG. 2A is prepared. This semiconductor chip 21
Has an electrode 22 on the periphery, and this electrode 22
The surface of the aluminum pad is subjected to electroless Ni / Au plating. A flux is applied to the electrode 22. The flux may be applied to the entire surface of the semiconductor chip on which the electrodes are provided. As the flux, those having a low viscosity are preferable. For example, F-50F
(Manufactured by Harima Chemicals) can be used.
【0028】一方、図2(b)に示すようなバンプ付き
テープキャリアを準備する。このテープキャリアは、図
1に示すような構造を有するものである。次に、テープ
キャリアの中央部に、固着材23をディスペンサにより
供給し、その上に図2(a)に示す半導体チップ21を
搭載した。半導体チップ21の搭載に際しては、テープ
キャリアの金属バンプ13と半導体チップ21の電極2
2とを位置合せして行った。そして、加熱炉内で150
℃で10分間加熱し、固着材23を硬化させ、テープキ
ャリア上に半導体チップ21を固着した。なお、固着材
23としては、EH−0515L8(HYSOL社製)
を用いた。On the other hand, a tape carrier with bumps as shown in FIG. 2B is prepared. This tape carrier has a structure as shown in FIG. Next, the adhesive 23 was supplied to the center of the tape carrier by a dispenser, and the semiconductor chip 21 shown in FIG. 2A was mounted thereon. When mounting the semiconductor chip 21, the metal bumps 13 of the tape carrier and the electrodes 2 of the semiconductor chip 21 are used.
2 was performed. And, in the heating furnace,
The semiconductor chip 21 was fixed on the tape carrier by heating at 10 ° C. for 10 minutes to cure the fixing material 23. In addition, as the fixing material 23, EH-0515L8 (manufactured by HYSOL)
Was used.
【0029】固着した後、加熱炉内で、230℃で1分
間、リフロー加熱を行い、電極22と金属バンプ13と
を接合した。また、加熱方法としては、固着した半導体
チップ側よりヒートツールを用いて加熱加圧することも
出来る。After fixation, reflow heating was performed at 230 ° C. for 1 minute in a heating furnace to join the electrode 22 and the metal bump 13. As a heating method, heat and pressure can be applied from the fixed semiconductor chip side using a heat tool.
【0030】最後に、半導体チップ21とテープキャリ
アとの間に熱硬化性樹脂25、例えばエポキシ樹脂より
なるアンダーフィル樹脂を充填し、テープキャリア上に
半導体チップを実装した半導体装置(半導体パッケー
ジ)を得た。Finally, a semiconductor device (semiconductor package) in which a thermosetting resin 25, for example, an underfill resin made of an epoxy resin is filled between the semiconductor chip 21 and the tape carrier, and the semiconductor chip is mounted on the tape carrier. Obtained.
【0031】なお、テープキャリアに対して半導体チッ
プを接合するに際して、フラックスの塗布を、半導体チ
ップの電極表面側に行う代りに、テープキャリア側の金
属バンプ頂部にのみ行うことも出来る。金属バンプ頂部
にのみフラックスを塗布するには、例えば、フラックス
を塗布したプラスチックシートとテープキャリアの金属
バンプが設けられた面とを接触させて、金属バンプ頂部
にフラックスを転写するいわゆる転写法で行うことがで
きる。When the semiconductor chip is joined to the tape carrier, the flux may be applied only to the top of the metal bump on the tape carrier side instead of applying the flux to the electrode surface side of the semiconductor chip. In order to apply the flux only to the top of the metal bump, for example, a so-called transfer method of transferring the flux to the top of the metal bump by bringing the plastic sheet coated with the flux into contact with the surface of the tape carrier on which the metal bump is provided is performed. be able to.
【0032】以上説明した第1の方法によるテープキャ
リアへの半導体チップの接合工程では、銅(導体)パタ
ーン上にフラックスが塗布されないので、ソルダーレジ
ストにより銅パターンを保護しなくても、リフロー加熱
の際に、半田が銅パターン上に流れて、半導体チップと
テープキャリアの間隔が狭まったり、接続オープン箇所
が発生したりする等の不都合がなく、また、固着材によ
り半導体チップをテープキャリア上に固着することによ
って、半導体チップとテープキャリアの間隔が狭まるこ
とがなく、また固形分の少ない液状フラックスを薄く塗
布した状態であっても、位置ずれのない良好な接合を行
うことが出来た。In the step of bonding the semiconductor chip to the tape carrier according to the first method described above, since no flux is applied on the copper (conductor) pattern, even if the copper pattern is not protected by the solder resist, the reflow heating can be performed. In this case, there is no inconvenience such as the solder flowing on the copper pattern, narrowing the gap between the semiconductor chip and the tape carrier, or generating an open connection, and the semiconductor chip is fixed on the tape carrier by the fixing material. By doing so, the gap between the semiconductor chip and the tape carrier was not narrowed, and good joining without displacement was achieved even in a state where a liquid flux having a small solid content was thinly applied.
【0033】次に、第2の方法によるテープキャリアへ
の半導体チップの接合について説明する。図3は、第2
の方法によるテープキャリアへの半導体チップの接合工
程を示す断面図である。まず、図3(a)に示すような
半導体チップ21を準備する。この半導体チップ21
は、周辺部に電極22を有し、この電極22は、アルミ
ニウムパッドの表面に無電界Ni/Auメッキが施され
たものであることは、図2に示す第1の方法と同様であ
る。Next, the joining of the semiconductor chip to the tape carrier by the second method will be described. FIG.
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a step of joining a semiconductor chip to a tape carrier by the method of (1). First, a semiconductor chip 21 as shown in FIG. 3A is prepared. This semiconductor chip 21
Has an electrode 22 in a peripheral portion, and the electrode 22 is obtained by applying an electroless Ni / Au plating to a surface of an aluminum pad, similarly to the first method shown in FIG.
【0034】次に、第1の方法と同様にして、電極22
の表面に対してフラックスを塗布する。フラックスとし
ては、粘度が低いものが好ましく、例えばF−50F
(ハリマ化成社製)を用いることが出来る。Next, in the same manner as in the first method, the electrode 22
Apply flux to the surface of. As the flux, those having a low viscosity are preferable. For example, F-50F
(Manufactured by Harima Chemicals) can be used.
【0035】一方、図3(b)に示すようなバンプ付き
テープキャリアを準備する。このテープキャリアもま
た、図1に示すような構造を有するものである。その
後、半導体チップの電極がテープキャリアの金属バンプ
に対応するように位置決めをし、図3(c)に示すよう
に、半導体チップ21上にヒートツール35を載置し、
半導体チップ21を適度に押圧しつつ加熱した。この
時、ヒートツール35の温度は230℃であり、加熱時
間は1分であった。押圧する圧力は、バンプが完全に押
し潰されないように、任意の距離を保持出来るようにす
る。On the other hand, a tape carrier with bumps as shown in FIG. 3B is prepared. This tape carrier also has a structure as shown in FIG. Thereafter, positioning is performed so that the electrodes of the semiconductor chip correspond to the metal bumps of the tape carrier, and a heat tool 35 is placed on the semiconductor chip 21 as shown in FIG.
The semiconductor chip 21 was heated while being appropriately pressed. At this time, the temperature of the heat tool 35 was 230 ° C., and the heating time was 1 minute. The pressing pressure allows an arbitrary distance to be maintained so that the bump is not completely crushed.
【0036】その結果、金属バンプ13は溶融し、電極
22と接合した。最後に、半導体チップ21とテープキ
ャリアとの間に熱硬化性樹脂25、例えばエポキシ樹脂
よりなるアンダーフィル樹脂を充填し、テープキャリア
上に半導体チップを実装した半導体装置(半導体パッケ
ージ)を得た。As a result, the metal bump 13 was melted and joined to the electrode 22. Finally, a thermosetting resin 25, for example, an underfill resin made of an epoxy resin was filled between the semiconductor chip 21 and the tape carrier, and a semiconductor device (semiconductor package) having the semiconductor chip mounted on the tape carrier was obtained.
【0037】なお、テープキャリアに対して半導体チッ
プを接合するに際して、フラックスの塗布は、第1の方
法におけると同様、半導体チップの電極表面側にフラッ
クスを塗布する代わりに、テープキャリア側の金属バン
プ頂部にのみフラックスを塗布することもできる。When the semiconductor chip is bonded to the tape carrier, the flux is applied in the same manner as in the first method, instead of applying the flux to the electrode surface side of the semiconductor chip, the metal bump on the tape carrier side is used. The flux can be applied only to the top.
【0038】以上説明した第2の方法によるテープキャ
リアへの半導体チップの接合工程では、第1の方法と同
様の効果が得られるとともに、次のような利点を得るこ
とが出来る。即ち、固着材による固着を行わなくても、
位置ずれを生ずることなく正確な接合を行うことが出来
る。また、適度に押圧することにより、テープキャリア
のたわみが生じることがなく、たわみによる接続オープ
ンを防止することが出来るとともに、半導体チップの平
行度を確保することが可能である。In the bonding step of the semiconductor chip to the tape carrier according to the second method described above, the same effects as those of the first method can be obtained, and the following advantages can be obtained. That is, even if the fixing by the fixing material is not performed,
Accurate joining can be performed without causing displacement. In addition, by appropriately pressing the tape carrier, bending of the tape carrier does not occur, connection opening due to the bending can be prevented, and parallelism of the semiconductor chip can be ensured.
【0039】[0039]
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よると、金属バンプが、導体パターン面に対し実質的に
垂直な側面を有する柱状体により構成されているため、
従来の球状の半田バンプのように、半導体チップを搭載
した際にブリッジが形成されるようなことがなく、ま
た、アンダーフィル樹脂の充填も容易に行うことが出来
る。As described above in detail, according to the present invention, since the metal bump is formed of a columnar body having a side surface substantially perpendicular to the conductor pattern surface,
Unlike a conventional spherical solder bump, a bridge is not formed when a semiconductor chip is mounted, and the underfill resin can be easily filled.
【0040】また、バンプ付きテープキャリアへの半導
体チップの搭載に際し、フラックスの塗布を、半導体チ
ップの電極面又はテープキャリア側の金属バンプの頂部
にのみ行うため、バンプを形成する金属が加熱接合の際
にテープキャリアの導体パターン上に流れて、バンプの
高さが低くなり、接合不良となることはない。また、バ
ンプ付きテープキャリアへの半導体チップの搭載に際
し、固着材により固着することにより、半導体チップの
位置ずれが生ずることもない。When the semiconductor chip is mounted on the tape carrier with bumps, the flux is applied only to the electrode surface of the semiconductor chip or to the top of the metal bump on the tape carrier side. In this case, the flow does not flow on the conductor pattern of the tape carrier and the height of the bumps is reduced, so that the bonding failure does not occur. Further, when the semiconductor chip is mounted on the tape carrier with bumps, the semiconductor chip is fixed by the fixing material, so that the semiconductor chip does not displace.
【0041】更に、バンプ付きテープキャリア上に半導
体チップを位置決めして載置した後、熱板等のヒートツ
ールを半導体チップの上から適度に押圧し、加熱するこ
とにより、固着材による固着を行わなくても、位置ずれ
を生ずることなく正確な接合を行うことが可能である。
また、適度に押圧することにより、テープキャリアのた
わみが生じることがなく、たわみによる接続オープンを
防止することが出来るとともに、半導体チップの平行度
を確保することが可能である。Further, after the semiconductor chip is positioned and mounted on the tape carrier with bumps, a heat tool such as a hot plate is appropriately pressed from above the semiconductor chip and heated to perform the fixing by the fixing material. Even without this, it is possible to perform accurate joining without causing displacement.
In addition, by appropriately pressing the tape carrier, bending of the tape carrier does not occur, connection opening due to the bending can be prevented, and parallelism of the semiconductor chip can be ensured.
【図1】本発明の一実施形態に使用されるバンプ付きテ
ープキャリアを示す断面図。FIG. 1 is a sectional view showing a tape carrier with bumps used in an embodiment of the present invention.
【図2】図1に示すバンプ付きテープキャリアを用いた
半導体パッケージの製造プロセスを工程順に示す断面
図。FIG. 2 is a sectional view showing a manufacturing process of a semiconductor package using the tape carrier with bumps shown in FIG. 1 in the order of steps;
【図3】図1に示すバンプ付きテープキャリアを用いた
半導体パッケージの他の製造プロセスを工程順に示す断
面図。FIG. 3 is a sectional view showing another manufacturing process of the semiconductor package using the tape carrier with bumps shown in FIG. 1 in the order of steps;
【図4】従来のテープキャリアを用いた半導体パッケー
ジを示す断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a semiconductor package using a conventional tape carrier.
【図5】図1に示すバンプ付きテープキャリアの斜視
図。FIG. 5 is a perspective view of the tape carrier with bumps shown in FIG. 1;
1…ポリイミドテープ 2…金属層 3…半田バンプ 4…電子デバイス 6,22…電極(金属パッド) 11…絶縁フィルム 12…導体(銅)パターン 13…金属バンプ 14…接合用電極 21…半導体チップ 23…固着剤 25…熱硬化性樹脂 31…ターミナル 35…ヒートツール。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Polyimide tape 2 ... Metal layer 3 ... Solder bump 4 ... Electronic device 6, 22 ... Electrode (metal pad) 11 ... Insulating film 12 ... Conductor (copper) pattern 13 ... Metal bump 14 ... Bonding electrode 21 ... Semiconductor chip 23 ... fixing agent 25 ... thermosetting resin 31 ... terminal 35 ... heat tool.
Claims (5)
成された導体パターンと、この導体パターン上に形成さ
れた半導体チップ接続用金属バンプとを備え、前記金属
バンプが前記導体パターン面に対し実質的に垂直な側面
を有する柱状体からなるバンプ付きテープキャリア上
に、半導体チップを接合することからなる半導体装置の
製造方法であって、 前記半導体チップの電極面又は前記金属バンプの頂部に
フラックスを塗布する工程、 前記半導体チップと前記テープキャリアとを、前記半導
体チップの電極が前記テープキャリアの金属バンプに対
応するように位置決めする工程、 前記半導体チップと前記テープキャリアとを固着材によ
り固着する工程、および加熱して、前記テープキャリア
の金属バンプを溶融させ、前記半導体チップの電極と前
記テープキャリアの金属バンプとを接続する工程を具備
することを特徴とする半導体装置の製造方法。An insulating film, a conductive pattern formed on the insulating film, and a metal bump for connecting a semiconductor chip formed on the conductive pattern, wherein the metal bump substantially corresponds to a surface of the conductive pattern. A method for manufacturing a semiconductor device, comprising joining a semiconductor chip onto a tape carrier with bumps formed of columnar bodies having vertically perpendicular side surfaces, wherein a flux is applied to an electrode surface of the semiconductor chip or a top of the metal bump. A coating step; a step of positioning the semiconductor chip and the tape carrier so that electrodes of the semiconductor chip correspond to metal bumps of the tape carrier; and a step of fixing the semiconductor chip and the tape carrier with a fixing material. And heating to melt the metal bumps of the tape carrier, The method of manufacturing a semiconductor device characterized by comprising the step of connecting the metal bumps of said tape carrier To pole.
が設けられている面とは反対側の面をヒートツールによ
り加熱することにより行うことを特徴とする請求項1に
記載の半導体装置の製造方法。2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the heating is performed by heating a surface of the semiconductor chip opposite to a surface on which the electrodes are provided by a heat tool. Production method.
プキャリアを、加熱炉中に通過させることにより行うこ
とを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方
法。3. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein said heating is performed by passing a tape carrier to which a semiconductor chip is fixed through a heating furnace.
成された導体パターンと、この導体パターン上に形成さ
れた半導体チップ接続用金属バンプとを備え、前記金属
バンプが前記導体パターン面に対し実質的に垂直な側面
を有する柱状体からなるバンプ付きテープキャリア上
に、半導体チップを接合することからなる半導体装置の
製造方法であって、 前記半導体チップの電極面又は前記金属バンプの頂部に
フラックスを塗布する工程、 前記半導体チップと前記テープキャリアとを、前記半導
体チップの電極が前記テープキャリアの金属バンプに対
応するように位置決めする工程、および前記半導体チッ
プの前記電極が設けられている面とは反対側の面をヒー
トツールにより加熱することにより、前記テープキャリ
アの金属バンプを溶融させ、前記半導体チップの電極と
前記テープキャリアの金属バンプとを接続する工程を具
備することを特徴とする半導体装置の製造方法。4. An insulating film, comprising: a conductive pattern formed on the insulating film; and a metal bump for connecting a semiconductor chip formed on the conductive pattern, wherein the metal bump substantially corresponds to a surface of the conductive pattern. A method for manufacturing a semiconductor device, comprising joining a semiconductor chip onto a tape carrier with bumps formed of columnar bodies having vertically perpendicular side surfaces, wherein a flux is applied to an electrode surface of the semiconductor chip or a top of the metal bump. The step of applying, the step of positioning the semiconductor chip and the tape carrier such that the electrodes of the semiconductor chip correspond to the metal bumps of the tape carrier, and the surface of the semiconductor chip on which the electrodes are provided. The opposite side is heated by a heat tool to melt the metal bumps of the tape carrier. A method of manufacturing a semiconductor device characterized by comprising the step of connecting the metal bump electrode and the tape carrier of the semiconductor chip.
リアの金属バンプとを接続した後、前記半導体チップと
テープキャリアとの間の空隙に、樹脂を充填することを
特徴とする請求項1ないし4のいずれかの項に記載の半
導体装置の製造方法。5. The method according to claim 1, wherein after the electrodes of the semiconductor chip are connected to the metal bumps of the tape carrier, a resin is filled in a gap between the semiconductor chip and the tape carrier. 13. The method for manufacturing a semiconductor device according to any one of the above items.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14775498A JPH11340276A (en) | 1998-05-28 | 1998-05-28 | Manufacture of semiconductor device |
US09/167,012 US6100112A (en) | 1998-05-28 | 1998-10-06 | Method of manufacturing a tape carrier with bump |
TW087116623A TW440973B (en) | 1998-05-28 | 1998-10-07 | Bump tape carrier and producing method therefor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14775498A JPH11340276A (en) | 1998-05-28 | 1998-05-28 | Manufacture of semiconductor device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11340276A true JPH11340276A (en) | 1999-12-10 |
Family
ID=15437404
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14775498A Pending JPH11340276A (en) | 1998-05-28 | 1998-05-28 | Manufacture of semiconductor device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11340276A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002252249A (en) * | 2001-02-15 | 2002-09-06 | Au Optronics Corp | Metal bump |
-
1998
- 1998-05-28 JP JP14775498A patent/JPH11340276A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002252249A (en) * | 2001-02-15 | 2002-09-06 | Au Optronics Corp | Metal bump |
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