JPH11322756A - ベンゾチオピラノインドール化合物および農園芸用殺菌剤 - Google Patents
ベンゾチオピラノインドール化合物および農園芸用殺菌剤Info
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- JPH11322756A JPH11322756A JP10197775A JP19777598A JPH11322756A JP H11322756 A JPH11322756 A JP H11322756A JP 10197775 A JP10197775 A JP 10197775A JP 19777598 A JP19777598 A JP 19777598A JP H11322756 A JPH11322756 A JP H11322756A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】工業的に有利に合成でき、効果が確実で、安全
に使用できる農園芸用殺菌剤、及び新規なジヒドロベン
ゾチオピラノインドール化合物を提供する。 【解決手段】一般式[I] 、[II]または[III] で表わされ
る化合物及び該化合物を有効成分として含有する農園芸
用殺菌剤。 【化1】 (式中、Xはシアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、C
1-6 アルキル基、C1-6 ハロアルキル基、C1-6 アルコ
キシ基等を表し、R1 〜R4 は水素原子、ハロゲン原
子、C1-6 アルキル基、C1-6 ハロアルキル基、C1-6
アルコキシ基、C2-6アルケニル基、C2-6 ハロアルケ
ニル基等を表わし、R5 は水素原子、C1-6 アルキルカ
ルボニル基、C1-6 アルコキシカルボニル基、C1-6 ア
ルキルスルホニル基、置換ベンゾイル基を表わす。Zは
無機酸又は有機酸の対アニオンを表す。n は0又は1〜
4の整数を表わし、2以上の場合、Xは相異なってもよ
い。)
に使用できる農園芸用殺菌剤、及び新規なジヒドロベン
ゾチオピラノインドール化合物を提供する。 【解決手段】一般式[I] 、[II]または[III] で表わされ
る化合物及び該化合物を有効成分として含有する農園芸
用殺菌剤。 【化1】 (式中、Xはシアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、C
1-6 アルキル基、C1-6 ハロアルキル基、C1-6 アルコ
キシ基等を表し、R1 〜R4 は水素原子、ハロゲン原
子、C1-6 アルキル基、C1-6 ハロアルキル基、C1-6
アルコキシ基、C2-6アルケニル基、C2-6 ハロアルケ
ニル基等を表わし、R5 は水素原子、C1-6 アルキルカ
ルボニル基、C1-6 アルコキシカルボニル基、C1-6 ア
ルキルスルホニル基、置換ベンゾイル基を表わす。Zは
無機酸又は有機酸の対アニオンを表す。n は0又は1〜
4の整数を表わし、2以上の場合、Xは相異なってもよ
い。)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なジヒドロベ
ンゾチオピラノインドール化合物、それらの誘導体、お
よびそれらを有効成分とする農園芸用殺菌剤に関する。
ンゾチオピラノインドール化合物、それらの誘導体、お
よびそれらを有効成分とする農園芸用殺菌剤に関する。
【0002】
【従来の技術】農園芸用作物の栽培に当たり、作物の病
害に対して多数の防除薬剤が使用されているが、その防
除効力が不十分であったり、薬剤耐性の病原菌の出現に
よりその使用が制限されたり、また植物体に薬害や汚染
を生じたり、あるいは人畜魚類に対する毒性が強かった
りすることから、必ずしも満足すべき防除薬と言い難い
ものが少なくない。従って、かかる欠点の少ない安全に
使用できる薬剤の出現が強く要請されている。
害に対して多数の防除薬剤が使用されているが、その防
除効力が不十分であったり、薬剤耐性の病原菌の出現に
よりその使用が制限されたり、また植物体に薬害や汚染
を生じたり、あるいは人畜魚類に対する毒性が強かった
りすることから、必ずしも満足すべき防除薬と言い難い
ものが少なくない。従って、かかる欠点の少ない安全に
使用できる薬剤の出現が強く要請されている。
【0003】本発明に関連する化合物としては、化3
【0004】
【化3】
【0005】(式中、Xnは、2−F、3−F、4−
F、3−CF3 、 4−CF3 、2−Cl、2−CH3 、
2−OCH3 又は2−NH2 を表わす)で表わされる化
合物が、C.R.Hebt.Seances Acad., ser D (1997)714-6
;J.Heterocycl.Chem.,(1974)11(2)113-8 ;Experient
ia.,(1974)30(5)307-28等に、その製造法および医薬と
しての用途が記載されている。
F、3−CF3 、 4−CF3 、2−Cl、2−CH3 、
2−OCH3 又は2−NH2 を表わす)で表わされる化
合物が、C.R.Hebt.Seances Acad., ser D (1997)714-6
;J.Heterocycl.Chem.,(1974)11(2)113-8 ;Experient
ia.,(1974)30(5)307-28等に、その製造法および医薬と
しての用途が記載されている。
【0006】また、USP.3,388,133には、
2位、6位又は8位に置換基を有する、 [1] −6,1
1−ジヒドロベンゾチオピラノ[ 4, 3−b] インドー
ル化合物、それから誘導される [1] 11H−ベンゾチ
オピラノ[ 4, 3−b] インドール−5−イウム塩、及
びこれらの中間体として、 [1] ベンゾチオピラノ[4,
3−b] インドール化合物が、Candida albican 等の
真菌に対する医薬用抗菌物質として有用であるとの記載
があるが、抗菌活性は示されていない。
2位、6位又は8位に置換基を有する、 [1] −6,1
1−ジヒドロベンゾチオピラノ[ 4, 3−b] インドー
ル化合物、それから誘導される [1] 11H−ベンゾチ
オピラノ[ 4, 3−b] インドール−5−イウム塩、及
びこれらの中間体として、 [1] ベンゾチオピラノ[4,
3−b] インドール化合物が、Candida albican 等の
真菌に対する医薬用抗菌物質として有用であるとの記載
があるが、抗菌活性は示されていない。
【0007】またWO9,712,613号公報には、
7位または8位にメトキシ基を有する [1] −6,11
H−ジヒドロベンゾチオピラノ[ 4, 3−b] インドー
ル化合物等が、15−lipoxygenase阻害作用による抗炎
症剤及びアテローム性動脈硬化抑制剤として有用である
と記載されている。
7位または8位にメトキシ基を有する [1] −6,11
H−ジヒドロベンゾチオピラノ[ 4, 3−b] インドー
ル化合物等が、15−lipoxygenase阻害作用による抗炎
症剤及びアテローム性動脈硬化抑制剤として有用である
と記載されている。
【0008】しかしながら、 [1] 6,11−ジヒドロ
ベンゾチオピラノ[ 4, 3−b] インドール化合物、
[1] 11H−ベンゾチオピラノ[ 4, 3−b] インド
ール−5−イウム塩、および [1] ベンゾチオピラノ[
4, 3−b] インドール化合物に関して植物病原菌に対
する抗菌活性については全く知られていない。
ベンゾチオピラノ[ 4, 3−b] インドール化合物、
[1] 11H−ベンゾチオピラノ[ 4, 3−b] インド
ール−5−イウム塩、および [1] ベンゾチオピラノ[
4, 3−b] インドール化合物に関して植物病原菌に対
する抗菌活性については全く知られていない。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、工業的に有
利に合成でき、効果が確実で、安全に使用できる農園芸
用殺菌剤、および新規な [1] −6,11−ジヒドロベ
ンゾチオピラノ[ 4, 3−b] インドール化合物、
[1] −11H−ベンゾチオピラノ[ 4, 3−b] イン
ドール−5−イウム塩、および [1] ベンゾチオピラノ
[ 4, 3−b] インドール化合物を提供することを目的
とする。
利に合成でき、効果が確実で、安全に使用できる農園芸
用殺菌剤、および新規な [1] −6,11−ジヒドロベ
ンゾチオピラノ[ 4, 3−b] インドール化合物、
[1] −11H−ベンゾチオピラノ[ 4, 3−b] イン
ドール−5−イウム塩、および [1] ベンゾチオピラノ
[ 4, 3−b] インドール化合物を提供することを目的
とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記一般式
[I] 、[II]または[II]で表わされる化合物である。
[I] 、[II]または[II]で表わされる化合物である。
【0011】
【化4】
【0012】(式中、Xは、シアノ基、ニトロ基、ハロ
ゲン原子、C1-6 アルキル基、C1-6ハロアルキル基、
C1-6 アルコキシ基、C2-6 アルケニル基、C2-6 ハロ
アルケニル基、C2-6 アルキニル基、ジC1-6 アルキル
アミノ基、C3-6 シクロアルキル基、C1-6 アルコキシ
カルボニル基、C1-6 アルキルチオ基、C1-6 アルキル
スルフィニル基またはC1-6 アルキルスルホニル基を表
わす。
ゲン原子、C1-6 アルキル基、C1-6ハロアルキル基、
C1-6 アルコキシ基、C2-6 アルケニル基、C2-6 ハロ
アルケニル基、C2-6 アルキニル基、ジC1-6 アルキル
アミノ基、C3-6 シクロアルキル基、C1-6 アルコキシ
カルボニル基、C1-6 アルキルチオ基、C1-6 アルキル
スルフィニル基またはC1-6 アルキルスルホニル基を表
わす。
【0013】R1 、R2 、R3 、R4 は、それぞれ独立
して水素原子、ハロゲン原子、C1- 6 アルキル基、C
1-6 ハロアルキル基、C1-6 アルコキシ基、C2-6 アル
ケニル基、C2-6 ハロアルケニル基、C2-6 アルキニル
基、ジC1-6 アルキルアミノ基、C3-6 シクロアルキル
基、C1-6 アルキルチオ基、C1-6 アルキルスルフィニ
ル基またはC1-6 アルキルスルホニル基を表わす。ただ
し、R1 、R3 、R4 が同時に水素原子の場合および、
R1 、R2 、R4 が水素原子で、R3 がメトキシ基の場
合を除く。
して水素原子、ハロゲン原子、C1- 6 アルキル基、C
1-6 ハロアルキル基、C1-6 アルコキシ基、C2-6 アル
ケニル基、C2-6 ハロアルケニル基、C2-6 アルキニル
基、ジC1-6 アルキルアミノ基、C3-6 シクロアルキル
基、C1-6 アルキルチオ基、C1-6 アルキルスルフィニ
ル基またはC1-6 アルキルスルホニル基を表わす。ただ
し、R1 、R3 、R4 が同時に水素原子の場合および、
R1 、R2 、R4 が水素原子で、R3 がメトキシ基の場
合を除く。
【0014】R5 は、水素原子、C1-6 アルキルカルボ
ニル基、C1-6 アルコキシカルボニル基、C1-6 アルキ
ルスルホニル基、または置換されてもよいベンゾイル基
を表わす。Zは、無機酸または有機酸の対アニオンを表
す。nは、0または1から4の整数を表わし、2以上の
場合、Xは相異なっていてもよい。
ニル基、C1-6 アルコキシカルボニル基、C1-6 アルキ
ルスルホニル基、または置換されてもよいベンゾイル基
を表わす。Zは、無機酸または有機酸の対アニオンを表
す。nは、0または1から4の整数を表わし、2以上の
場合、Xは相異なっていてもよい。
【0015】但し、R5 が水素原子を表すとき、R1 、
R3 、R4 は同時に水素原子ではないか、または、
R1 、R2 、R4 が水素原子で、R3 がメトキシ基では
ない。)
R3 、R4 は同時に水素原子ではないか、または、
R1 、R2 、R4 が水素原子で、R3 がメトキシ基では
ない。)
【0016】および、下記一般式[I']、(II' )または
[III']
[III']
【0017】
【化5】
【0018】(式中、Xは、シアノ基、ニトロ基、ハロ
ゲン原子、C1-6 アルキル基、C1-6ハロアルキル基、
C1-6 アルコキシ基、C2-6 アルケニル基、C2-6 ハロ
アルケニル基、C2-6 アルキニル基、ジC1-6 アルキル
アミノ基、C3-6 シクロアルキル基、C1-6 アルコキシ
カルボニル基、C1-6 アルキルチオ基、C1-6 アルキル
スルフィニル基またはC1-6 アルキルスルホニル基を表
わす。
ゲン原子、C1-6 アルキル基、C1-6ハロアルキル基、
C1-6 アルコキシ基、C2-6 アルケニル基、C2-6 ハロ
アルケニル基、C2-6 アルキニル基、ジC1-6 アルキル
アミノ基、C3-6 シクロアルキル基、C1-6 アルコキシ
カルボニル基、C1-6 アルキルチオ基、C1-6 アルキル
スルフィニル基またはC1-6 アルキルスルホニル基を表
わす。
【0019】R1 、R2 、R3 、R4 は、それぞれ独立
して水素原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、
ハロゲン原子、C1-6 アルキル基、C1-6 ハロアルキル
基、C1-6 アルコキシ基、C2-6 アルケニル基、C2-6
ハロアルケニル基、C2-6 アルキニル基、ジC1-6 アル
キルアミノ基、C3-6 シクロアルキル基、C1-6 アルコ
キシカルボニル基、C1-6 アルキルチオ基、C1-6 アル
キルスルフィニル基またはC1-6 アルキルスルホニル基
を表わす。
して水素原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、
ハロゲン原子、C1-6 アルキル基、C1-6 ハロアルキル
基、C1-6 アルコキシ基、C2-6 アルケニル基、C2-6
ハロアルケニル基、C2-6 アルキニル基、ジC1-6 アル
キルアミノ基、C3-6 シクロアルキル基、C1-6 アルコ
キシカルボニル基、C1-6 アルキルチオ基、C1-6 アル
キルスルフィニル基またはC1-6 アルキルスルホニル基
を表わす。
【0020】R5 は、水素原子、C1-6 アルキルカルボ
ニル基、C1-6 アルコキシカルボニル基、C1-6 アルキ
ルスルホニル基、または置換されてもよいベンゾイル基
を表わす。
ニル基、C1-6 アルコキシカルボニル基、C1-6 アルキ
ルスルホニル基、または置換されてもよいベンゾイル基
を表わす。
【0021】R6 は、水素原子、C1-6 アルキル基、C
1-6 ハロアルキル基を表わす。Zは有機酸、無機酸の対
アニオンを表わす。mは0、1または2を表わす。nは
0または1から4の整数を表わし、2以上の場合Xは相
異なってもよい。)で表わされる化合物を有効成分とし
て含有することを特徴とする農園芸用殺菌剤である。
1-6 ハロアルキル基を表わす。Zは有機酸、無機酸の対
アニオンを表わす。mは0、1または2を表わす。nは
0または1から4の整数を表わし、2以上の場合Xは相
異なってもよい。)で表わされる化合物を有効成分とし
て含有することを特徴とする農園芸用殺菌剤である。
【0022】前記一般式[I] ,[II],[III], [I'], [I
I'] および [III'] において、Xは、シアノ基、ニトロ
基、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、
t−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等のC1-6 アルキル
基、フルオロメチル、1−フルオロエチル、2−フルオ
ロエチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、ジ
フルオロクロロメチル、フルオロクロロメチル、トリク
ロロメチル、トリブロモメチル、2,2,2−トルフル
オロエチル、ペンタフルオロエチル基等のC1-6 ハロア
ルキル基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロ
ポキシ、ブトキシ基等のC1-6 アルコキシ基、
I'] および [III'] において、Xは、シアノ基、ニトロ
基、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、
t−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等のC1-6 アルキル
基、フルオロメチル、1−フルオロエチル、2−フルオ
ロエチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、ジ
フルオロクロロメチル、フルオロクロロメチル、トリク
ロロメチル、トリブロモメチル、2,2,2−トルフル
オロエチル、ペンタフルオロエチル基等のC1-6 ハロア
ルキル基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロ
ポキシ、ブトキシ基等のC1-6 アルコキシ基、
【0023】エテニル、1−プロペニル、2−プロペニ
ル、1−メチル−2−プロペニル、1−ブテニル、2−
ブテニル、3−ブテニル、1−ペンテニル基等のC2-6
アルケニル基、3−クロロ−2−プロペニル、4−クロ
ロ−2−ブテニル、3,3−ジクロロ−2−プロペニ
ル、4,4−ジクロロ−3−ブテニル、4,4−ジフル
オロ−3−ブテニル基等のC2-6 ハロアルケニル基、エ
チニル、1−プロピニル、2−プロピニル、1−メチル
−2−プロピニル、1−ブチニル、2−ブチニル、3−
ブチニル、1−ペンチニル等のC2-6 アルキニル基、ジ
メチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、エ
チルメチルアミノ、メチルプロピルアミノ、メチルブチ
ルアミノ、メチルヘキシルアミノ基等のジC 1-6 アルキ
ルアミノ基、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロ
ヘキシル基等のC3-6 シクロアルキル基、
ル、1−メチル−2−プロペニル、1−ブテニル、2−
ブテニル、3−ブテニル、1−ペンテニル基等のC2-6
アルケニル基、3−クロロ−2−プロペニル、4−クロ
ロ−2−ブテニル、3,3−ジクロロ−2−プロペニ
ル、4,4−ジクロロ−3−ブテニル、4,4−ジフル
オロ−3−ブテニル基等のC2-6 ハロアルケニル基、エ
チニル、1−プロピニル、2−プロピニル、1−メチル
−2−プロピニル、1−ブチニル、2−ブチニル、3−
ブチニル、1−ペンチニル等のC2-6 アルキニル基、ジ
メチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、エ
チルメチルアミノ、メチルプロピルアミノ、メチルブチ
ルアミノ、メチルヘキシルアミノ基等のジC 1-6 アルキ
ルアミノ基、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロ
ヘキシル基等のC3-6 シクロアルキル基、
【0024】メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニ
ル、ブトキシカルボニル等のC1-6 アルコキシカルボニ
ル基、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプ
ロピルチオ基等のC1-6 アルキルチオ基、メチルスルフ
ィニル、エチルスルフィニル基等のC1-6 アルキルスル
フィニル基、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プ
ロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル基等のC
1-6 アルキルスルホニル基を表す。
ル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニ
ル、ブトキシカルボニル等のC1-6 アルコキシカルボニ
ル基、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプ
ロピルチオ基等のC1-6 アルキルチオ基、メチルスルフ
ィニル、エチルスルフィニル基等のC1-6 アルキルスル
フィニル基、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プ
ロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル基等のC
1-6 アルキルスルホニル基を表す。
【0025】R1 〜R4 は、それぞれ独立して、水素原
子、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、
t−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等のC1-6 アルキル
基、フルオロメチル、1−フルオロエチル、2−フルオ
ロエチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、ジ
フルオロクロロメチル、フルオロクロロメチル、トリク
ロロメチル、トリブロモメチル、2,2,2−トルフル
オロエチル、ペンタフルオロエチル基等のC1-6 ハロア
ルキル基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロ
ポキシ、ブトキシ基等のC1-6 アルコキシ基、
子、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、
t−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等のC1-6 アルキル
基、フルオロメチル、1−フルオロエチル、2−フルオ
ロエチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、ジ
フルオロクロロメチル、フルオロクロロメチル、トリク
ロロメチル、トリブロモメチル、2,2,2−トルフル
オロエチル、ペンタフルオロエチル基等のC1-6 ハロア
ルキル基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロ
ポキシ、ブトキシ基等のC1-6 アルコキシ基、
【0026】エテニル、1−プロペニル、2−プロペニ
ル、1−メチル−2−プロペニル、1−ブテニル、2−
ブテニル、3−ブテニル、1−ペンテニル等のC2-6 ア
ルケニル基、3−クロロ−2−プロペニル、4−クロロ
−2−ブテニル、3,3−ジクロロ−2−プロペニル、
4,4−ジクロロ−3−ブテニル、4,4−ジフルオロ
−3−ブテニル基等のC2-6 ハロアルケニル基、エチニ
ル、1−プロピニル、2−プロピニル、1−メチル−2
−プロピニル、1−ブチニル、2−ブチニル、3−ブチ
ニル、1−ペンチニル等のC2-6 アルキニル基、ジメチ
ルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、エチル
メチルアミノ、メチルプロピルアミノ、メチルブチルア
ミノ、メチルヘキシルアミノ基等のジC 1-6 アルキルア
ミノ基、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキ
シル基等のC3-6 シクロアルキル基、
ル、1−メチル−2−プロペニル、1−ブテニル、2−
ブテニル、3−ブテニル、1−ペンテニル等のC2-6 ア
ルケニル基、3−クロロ−2−プロペニル、4−クロロ
−2−ブテニル、3,3−ジクロロ−2−プロペニル、
4,4−ジクロロ−3−ブテニル、4,4−ジフルオロ
−3−ブテニル基等のC2-6 ハロアルケニル基、エチニ
ル、1−プロピニル、2−プロピニル、1−メチル−2
−プロピニル、1−ブチニル、2−ブチニル、3−ブチ
ニル、1−ペンチニル等のC2-6 アルキニル基、ジメチ
ルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、エチル
メチルアミノ、メチルプロピルアミノ、メチルブチルア
ミノ、メチルヘキシルアミノ基等のジC 1-6 アルキルア
ミノ基、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキ
シル基等のC3-6 シクロアルキル基、
【0027】メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、
イソプロピルチオ、ブチルチオ基等のC1-6 アルキルチ
オ基、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、プロ
ピルスルフィニル基等のC1- 6 アルキルスルフィニル
基、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルス
ルホニル、イソプロピルスルホニル基等のC1-6 アルキ
ルスルホニル基を表す。
イソプロピルチオ、ブチルチオ基等のC1-6 アルキルチ
オ基、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、プロ
ピルスルフィニル基等のC1- 6 アルキルスルフィニル
基、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルス
ルホニル、イソプロピルスルホニル基等のC1-6 アルキ
ルスルホニル基を表す。
【0028】R5 は、水素原子、アセチル、プロピオニ
ル、プロピルカルボニル、イソプロピルカルボニル、ブ
チルカルボニル基等のC1-6 アルキルカルボニル基、メ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカ
ルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブチルカルボニ
ル基等のC1-6 アルコキシカルボニル基、メチルスルホ
ニル,エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプ
ロピルスルホニル、ブチルスルホニル基等のC1-6 アル
キルスルホニル基、
ル、プロピルカルボニル、イソプロピルカルボニル、ブ
チルカルボニル基等のC1-6 アルキルカルボニル基、メ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカ
ルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブチルカルボニ
ル基等のC1-6 アルコキシカルボニル基、メチルスルホ
ニル,エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプ
ロピルスルホニル、ブチルスルホニル基等のC1-6 アル
キルスルホニル基、
【0029】又は、ベンゼン環の任意の位置が前記例示
したハロゲン原子、C1-6 アルキル基、C1-6 アルコキ
シ基、C1-6 アルコキシカルボニル基、C1-6 アルキル
カルボニル基、ニトロ基、シアノ基等で置換されていて
もよいベンゾイル基を表す。また、ベンゼン環は同一又
は相異なる複数の置換基を有していてもよい。
したハロゲン原子、C1-6 アルキル基、C1-6 アルコキ
シ基、C1-6 アルコキシカルボニル基、C1-6 アルキル
カルボニル基、ニトロ基、シアノ基等で置換されていて
もよいベンゾイル基を表す。また、ベンゼン環は同一又
は相異なる複数の置換基を有していてもよい。
【0030】Zは、塩酸、過塩素酸、四フッ化ホウ素酸
等の無機酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、エ
タンスルホン酸等の有機スルホン酸等の有機酸の対アニ
オンを表す。
等の無機酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、エ
タンスルホン酸等の有機スルホン酸等の有機酸の対アニ
オンを表す。
【0031】
【発明の実施の形態】本発明の化合物は、次に示す方法
によって製造することができる。 (1)化合物 [I’] の製造 製造法1 本発明化合物のうち、R5 が水素原子で、mが0である
化合物は、例えば、USP.3,388,133号公報
記載の方法によって製造することができる。
によって製造することができる。 (1)化合物 [I’] の製造 製造法1 本発明化合物のうち、R5 が水素原子で、mが0である
化合物は、例えば、USP.3,388,133号公報
記載の方法によって製造することができる。
【0032】
【化6】
【0033】(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R6 、
Xnは前記と同じ意味を表わす。)すなわち、一般式(I
V)で表わされるフェニルヒドラジン類の塩酸塩と、一般
式(V) で表わされるチオクロマン−4−オン類とを、酢
酸等の有機酸又は硫酸等の無機酸の存在下、不活性溶媒
中、室温〜150℃で反応させることにより、一般式
(I’−1) で表わされる化合物を製造することができ
る。この反応で使用することができる溶媒としては、酢
酸等の有機酸、エタノール等のアルコール類、水等が挙
げられる。
Xnは前記と同じ意味を表わす。)すなわち、一般式(I
V)で表わされるフェニルヒドラジン類の塩酸塩と、一般
式(V) で表わされるチオクロマン−4−オン類とを、酢
酸等の有機酸又は硫酸等の無機酸の存在下、不活性溶媒
中、室温〜150℃で反応させることにより、一般式
(I’−1) で表わされる化合物を製造することができ
る。この反応で使用することができる溶媒としては、酢
酸等の有機酸、エタノール等のアルコール類、水等が挙
げられる。
【0034】製造法2 前記一般式(I' −1) で表される本発明化合物のうち、
R1 がC1-6 アルキル基で、R4 が水素原子である化合
物(I'−3)は、次の方法によって製造することもでき
る。
R1 がC1-6 アルキル基で、R4 が水素原子である化合
物(I'−3)は、次の方法によって製造することもでき
る。
【0035】
【化7】
【0036】(式中、R1 はC1-6 アルキル基を表わ
し、R2 ,R3 ,R6 ,Xnは、ハロゲン原子を除く前
記と同じ意味を表わす。)
し、R2 ,R3 ,R6 ,Xnは、ハロゲン原子を除く前
記と同じ意味を表わす。)
【0037】即ち、式(I'−2)で表される化合物を、
1〜60気圧の水素ガス雰囲気下、不活性溶媒中、適当
な触媒存在下に還元することにより、式(I'−3)で表
される化合物を得るものである。反応に用いられる触媒
としては、活性炭素担持パラジウム、ロジウム、ニッケ
ル、ルテニウム、酸化白金などが挙げられる。用いられ
る溶媒としては、エタノールなどのアルコール類が挙げ
られる。反応は、室温〜100℃で円滑に進行する。
1〜60気圧の水素ガス雰囲気下、不活性溶媒中、適当
な触媒存在下に還元することにより、式(I'−3)で表
される化合物を得るものである。反応に用いられる触媒
としては、活性炭素担持パラジウム、ロジウム、ニッケ
ル、ルテニウム、酸化白金などが挙げられる。用いられ
る溶媒としては、エタノールなどのアルコール類が挙げ
られる。反応は、室温〜100℃で円滑に進行する。
【0038】製造法3 前記一般式(I' −1) で表される本発明化合物のうち、
R1 がC1-6 アルキル基、R4 がヒドロキシ基である化
合物は、次の方法によって製造することができる。
R1 がC1-6 アルキル基、R4 がヒドロキシ基である化
合物は、次の方法によって製造することができる。
【0039】
【化8】
【0040】(式中、R1 はC1-6 アルキル基を表わ
し、R2 、R3 、R6 、Xnは前記と同じ意味を表わ
す。但しC1-6 アルコキシ基を除く。)
し、R2 、R3 、R6 、Xnは前記と同じ意味を表わ
す。但しC1-6 アルコキシ基を除く。)
【0041】即ち、式(I'−4)で表される化合物を、
不活性溶媒若しくは無溶媒で、式(I'−2)で表される
化合物1モルに対し、1〜2モルの塩化アルミニウム等
のルイス酸の存在下に、式(I’−5)で表される化合
物を得るものである。反応に用いられるチオール類とし
ては、メタンチオール、エタンチオール、プロピルメル
カプタン、チオフェノール等のチオール類を挙げること
ができる。反応に用いられる溶媒としては、ジクロロメ
タン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素が挙げられ
る。反応は、0℃〜用いられる溶媒の沸点までの温度範
囲で円滑に進行する。
不活性溶媒若しくは無溶媒で、式(I'−2)で表される
化合物1モルに対し、1〜2モルの塩化アルミニウム等
のルイス酸の存在下に、式(I’−5)で表される化合
物を得るものである。反応に用いられるチオール類とし
ては、メタンチオール、エタンチオール、プロピルメル
カプタン、チオフェノール等のチオール類を挙げること
ができる。反応に用いられる溶媒としては、ジクロロメ
タン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素が挙げられ
る。反応は、0℃〜用いられる溶媒の沸点までの温度範
囲で円滑に進行する。
【0042】製造法4 本発明化合物のうち、R5 がC1-6 アルキルカルボニル
基、C1-6 アルコキシカルボニル基、C1-6 アルキルス
ルホニル基、または置換されてもよいベンゾイル基であ
る化合物は、次の方法によって製造することができる。
基、C1-6 アルコキシカルボニル基、C1-6 アルキルス
ルホニル基、または置換されてもよいベンゾイル基であ
る化合物は、次の方法によって製造することができる。
【0043】
【化9】
【0044】(式中, R5 は、C1-6 アルキルカルボニ
ル基、C1-6 アルコキシカルボニル基、C1-6 アルキル
スルホニル基、または置換されてもよいベンゾイル基
を、Vはハロゲン原子を表し、R1 ,R4 ,R6 ,Xn
は前記と同じ意味を表わす。)
ル基、C1-6 アルコキシカルボニル基、C1-6 アルキル
スルホニル基、または置換されてもよいベンゾイル基
を、Vはハロゲン原子を表し、R1 ,R4 ,R6 ,Xn
は前記と同じ意味を表わす。)
【0045】即ち、式(I'−1)で表される化合物に、
無溶媒もしくは適当な有機溶媒中、塩基の存在下に、式
R5 −Vで表される化合物を作用させることによって、
式(I'−6)で表される化合物を得るものである。反応
に用いることのできる溶媒としては、水、メタノール、
エタノール、などのアルコール類、THF(テトラヒド
ロフラン)等のエーテル類、酢酸エチル等のエステル
類、DMF(N,N−ジメチルホルムアミド)、DMS
O(ジメチルスルホキシド)、アセトニトリルなどが挙
げられる。また、塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウムなどの炭酸塩、水酸化ナトリウムなどの金属水
酸化物、ナトリウムエチラート、t−ブトキシカリウム
などの金属アルコキシド、トリエチルアミン、ピリジン
などの有機塩基などを例示することができる。
無溶媒もしくは適当な有機溶媒中、塩基の存在下に、式
R5 −Vで表される化合物を作用させることによって、
式(I'−6)で表される化合物を得るものである。反応
に用いることのできる溶媒としては、水、メタノール、
エタノール、などのアルコール類、THF(テトラヒド
ロフラン)等のエーテル類、酢酸エチル等のエステル
類、DMF(N,N−ジメチルホルムアミド)、DMS
O(ジメチルスルホキシド)、アセトニトリルなどが挙
げられる。また、塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウムなどの炭酸塩、水酸化ナトリウムなどの金属水
酸化物、ナトリウムエチラート、t−ブトキシカリウム
などの金属アルコキシド、トリエチルアミン、ピリジン
などの有機塩基などを例示することができる。
【0046】製造法5 本発明化合物[I']のうち、mが1または2である一般式
(I' −7)で表わされる化合物は該当する一般式(I' −
1)で表わされる [1] 6,11−ジヒドロチオピラノ
インドール化合物を酸化することによって製造すること
ができる。
(I' −7)で表わされる化合物は該当する一般式(I' −
1)で表わされる [1] 6,11−ジヒドロチオピラノ
インドール化合物を酸化することによって製造すること
ができる。
【0047】
【化10】
【0048】(式中、R1 〜R6 ,Xnは前記と同じ意
味を表わす。) この反応に用いることのできる酸化剤として過酸化水
素、過酢酸などの有機過酸、オキソン(oxone、過
酸化ナトリウム)などの無機過酸化物が挙げられる。
味を表わす。) この反応に用いることのできる酸化剤として過酸化水
素、過酢酸などの有機過酸、オキソン(oxone、過
酸化ナトリウム)などの無機過酸化物が挙げられる。
【0049】(2)化合物(II’) の製造 製造法6 式(II') で表される化合物は、対応する一般式(I' )で
表わされる [1] 6,11−ジヒドロチオピラノインド
ール化合物に該当する酸化剤を作用させることによって
製造することができる。
表わされる [1] 6,11−ジヒドロチオピラノインド
ール化合物に該当する酸化剤を作用させることによって
製造することができる。
【0050】
【化11】
【0051】(式中、R1 〜R6 、Xn、Zは前記と同
じ意味を表わす。) 反応は、適当な溶媒中、対応する酸化剤存在下、0〜1
00℃にて行なわれる。反応に用いることのできる溶媒
としては、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲ
ン化炭化水素、THFなどのエーテル類、酢酸等の有機
カルボン酸類、アセトニトリルなどが挙げられる。また
用いられる酸化剤としては塩素、臭素、塩化スルフリ
ル、過塩素酸トリチル、四フッ化ホウ素酸トリチル、メ
シチレンスルホニルヒドロキシアミン等が挙げられる。
じ意味を表わす。) 反応は、適当な溶媒中、対応する酸化剤存在下、0〜1
00℃にて行なわれる。反応に用いることのできる溶媒
としては、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲ
ン化炭化水素、THFなどのエーテル類、酢酸等の有機
カルボン酸類、アセトニトリルなどが挙げられる。また
用いられる酸化剤としては塩素、臭素、塩化スルフリ
ル、過塩素酸トリチル、四フッ化ホウ素酸トリチル、メ
シチレンスルホニルヒドロキシアミン等が挙げられる。
【0052】製造法8 式(II'−1) で表される化合物は、対応する一般式(II
I' )で表わされる [1] ベンゾチオピラノ [4, 3−
b] インドール化合物に、対応する酸を作用させること
によっても製造することができる。
I' )で表わされる [1] ベンゾチオピラノ [4, 3−
b] インドール化合物に、対応する酸を作用させること
によっても製造することができる。
【0053】
【化12】
【0054】(式中、R1 〜R6 、Xnは前記と同じ意
味を表わす。また、HZは、塩酸等の無機酸、トリフル
オロ酢酸、有機スルホン酸等の有機酸を表わす。) 反応は、不活性溶媒中、適当な塩基存在下、0〜100
℃にて行なわれる。反応に用いることのできる溶媒とし
ては、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化
炭化水素、メタノール、エタノール、などのアルコール
類、THFなどのエーテル類、DMF、DMSO、アセ
トニトリル、アセトンなどが挙げられる。反応に用いる
ことのできる酸としては、塩酸、過塩素酸、四フッ化ホ
ウ素酸などの無機酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸など
の有機カルボン酸、p−トルエンスルホン酸等の有機ス
ルホン酸等が挙げられる。
味を表わす。また、HZは、塩酸等の無機酸、トリフル
オロ酢酸、有機スルホン酸等の有機酸を表わす。) 反応は、不活性溶媒中、適当な塩基存在下、0〜100
℃にて行なわれる。反応に用いることのできる溶媒とし
ては、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化
炭化水素、メタノール、エタノール、などのアルコール
類、THFなどのエーテル類、DMF、DMSO、アセ
トニトリル、アセトンなどが挙げられる。反応に用いる
ことのできる酸としては、塩酸、過塩素酸、四フッ化ホ
ウ素酸などの無機酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸など
の有機カルボン酸、p−トルエンスルホン酸等の有機ス
ルホン酸等が挙げられる。
【0055】(3)化合物(III') の製造 製造法7 式(III')で表される化合物は、対応する一般式(II'−
1)で表わされる [1] 11H−ベンズチオピラノ[
4, 3−b] インドール−5−イウム塩に、塩基を作用
させることにより製造することができる。
1)で表わされる [1] 11H−ベンズチオピラノ[
4, 3−b] インドール−5−イウム塩に、塩基を作用
させることにより製造することができる。
【0056】
【化13】
【0057】(式中R1 〜R6 、Xn、Zは前記と同じ
意味を表わす。) 反応は、不活性溶媒中、適当な塩基存在下、0〜100
℃にて行なわれる。反応に用いることのできる溶媒とし
ては、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化
炭化水素、水、メタノール、エタノールなどのアルコー
ル類、THFなどのエーテル類、DMF、DMSO、ア
セトニトリル、アセトンなどが挙げられる。また、用い
られる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムな
どの炭酸塩、水酸化ナトリウムなどの金属水酸化物、ナ
トリウムエチラート、t−ブトキシカリウムなどの金属
アルコキシド、トリエチルアミン、ピリジンなどの有機
塩基などを例示することができる。
意味を表わす。) 反応は、不活性溶媒中、適当な塩基存在下、0〜100
℃にて行なわれる。反応に用いることのできる溶媒とし
ては、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化
炭化水素、水、メタノール、エタノールなどのアルコー
ル類、THFなどのエーテル類、DMF、DMSO、ア
セトニトリル、アセトンなどが挙げられる。また、用い
られる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムな
どの炭酸塩、水酸化ナトリウムなどの金属水酸化物、ナ
トリウムエチラート、t−ブトキシカリウムなどの金属
アルコキシド、トリエチルアミン、ピリジンなどの有機
塩基などを例示することができる。
【0058】いずれの反応を行なった場合も、反応終了
後は通常の後処理を行なうことにより目的物を得ること
ができる。本発明化合物の構造は、IR、NMR、Ma
ssスペクトル等から決定した。
後は通常の後処理を行なうことにより目的物を得ること
ができる。本発明化合物の構造は、IR、NMR、Ma
ssスペクトル等から決定した。
【0059】
【発明の実施の形態】〔殺菌剤〕本発明化合物は、広範
囲の種類の糸状菌に対しすぐれた殺菌力をもっているこ
とから、花卉、芝、牧草を含む農園芸作物の栽培に際し
発生する種々の病害の防除に使用することが出来る。例
えば、
囲の種類の糸状菌に対しすぐれた殺菌力をもっているこ
とから、花卉、芝、牧草を含む農園芸作物の栽培に際し
発生する種々の病害の防除に使用することが出来る。例
えば、
【0060】 イネ いもち病 (Pyricularia oryzae) 紋枯病 (Rhizoctonia solani) 馬鹿苗病 (Gibberella fujikuroi) ごま葉枯病 (Cochliobolus miyabeanus) オオムギ 褐黒穂病 (Ustilago nuda) コムギ 赤かび病 (Gibberella zeae) 赤さび病 (Puccinia recondita) 眼紋病 (Pseudocercosporella herpotrichoides) ふ枯病 (Leptosphaeria nodorum) うどんこ病 (Erysiphe graminis f. sp. tritici) 紅色雪腐病 (Monographella nivalis) ジャガイモ 疫病 (Phytophthora infestans ) ラッカセイ 褐斑病 (Mycosphaerella arachidis) テンサイ 褐斑病 (Cercospora beticola) キュウリ うどんこ病 (Sphaerotheca fuliginea) 菌核病 (Sclerotinia sclerotiorum) 灰色かび病 (Botrytis cinerea) べと病 (Pseudoperonospora cubensis) トマト 葉かび病 (Cladosporium fulvum) 疫病 (Phytophthora infestans) ナス 黒枯病 (Corynespora melongenae) タマネギ 灰色腐敗病 (Botrytis allii) イチゴ うどんこ病 (Sohaerotheca humuli) リンゴ うどんこ病 (Podosphaera leucotricha) 黒星病 (Venturia inaequalis) モニリア病 (Monilinia mali) カキ 炭そ病 (Gloeosporium kaki) モモ 灰星病 (Monilinia fructicola) ブドウ うどんこ病 (Uncinula necator) べと病 (Plasmopara viticola) ナシ 赤星病 (Gymnosporangium asiaticum) 黒斑病 (Alternaria kikuchiana) チャ 輪斑病 (Pestalotia theae) 炭そ病 (Colletotrichum theae −sinensis) カンキツ そうか病 (Elisinoe fawcetti) 青かび病 (Pennisillium italicum) 西洋シバ 雪腐大粒菌核病 (Sclerotinia borealis) などの防除に使用することが出来る。
【0061】また、近年種々の病原菌においてベンズイ
ミダゾール剤やアシルアラニン剤等に対する耐性が発達
し、それら薬剤の効力不足を生じており、耐性の病原菌
にも有効な薬剤が望まれている。本発明化合物は感受性
のみならず、ベンズイミダゾール剤やアシルアラニン剤
に耐性の病原菌にも優れた殺菌効果を有する薬剤であ
る。適用がより好ましい病害としては、リンゴの黒星病
やキュウリやブドウのべと病、ジャガイモの疫病等が挙
げられる。
ミダゾール剤やアシルアラニン剤等に対する耐性が発達
し、それら薬剤の効力不足を生じており、耐性の病原菌
にも有効な薬剤が望まれている。本発明化合物は感受性
のみならず、ベンズイミダゾール剤やアシルアラニン剤
に耐性の病原菌にも優れた殺菌効果を有する薬剤であ
る。適用がより好ましい病害としては、リンゴの黒星病
やキュウリやブドウのべと病、ジャガイモの疫病等が挙
げられる。
【0062】本発明化合物は、水棲生物が船底、魚網等
の水中接触物に付着するのを防止するための防汚剤とし
て使用することも出来る。また、本発明化合物を塗料や
繊維などに混入させることで、壁や浴槽、あるいは靴や
衣服の防菌、防黴剤として使用することもできる。また
本発明化合物の中には、殺虫、殺ダニ活性や除草活性を
示すものもある。
の水中接触物に付着するのを防止するための防汚剤とし
て使用することも出来る。また、本発明化合物を塗料や
繊維などに混入させることで、壁や浴槽、あるいは靴や
衣服の防菌、防黴剤として使用することもできる。また
本発明化合物の中には、殺虫、殺ダニ活性や除草活性を
示すものもある。
【0063】このようにして得られた本発明化合物を実
際に施用する際には他成分を加えず純粋な形で使用でき
るし、また農薬として使用する目的で一般の農薬のとり
得る形態、即ち、水和剤、粒剤、粉剤、乳剤、水溶剤、
懸濁剤、フロアブル等の形態で使用することもできる。
添加剤および担体としては固型剤を目的とする場合は、
大豆粒、小麦粉等の植物性粉末、珪藻土、燐灰石、石こ
う、タルク、ベントナイト、パイロフィライト、クレイ
等の鉱物性微粉末、安息香酸ソーダ、尿素、芒硝等の有
機及び無機化合物が使用される。液体の剤型を目的とす
る場合は、ケロシン、キシレンおよびソルベントナフサ
等の石油留分、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アルコー
ル、アセトン、トリクロルエチレン、メチルイソブチル
ケトン、鉱物油、植物油、水等を溶剤として使用する。
これらの製剤において均一かつ安定な形態をとるため
に、必要ならば界面活性剤を添加することもできる。
際に施用する際には他成分を加えず純粋な形で使用でき
るし、また農薬として使用する目的で一般の農薬のとり
得る形態、即ち、水和剤、粒剤、粉剤、乳剤、水溶剤、
懸濁剤、フロアブル等の形態で使用することもできる。
添加剤および担体としては固型剤を目的とする場合は、
大豆粒、小麦粉等の植物性粉末、珪藻土、燐灰石、石こ
う、タルク、ベントナイト、パイロフィライト、クレイ
等の鉱物性微粉末、安息香酸ソーダ、尿素、芒硝等の有
機及び無機化合物が使用される。液体の剤型を目的とす
る場合は、ケロシン、キシレンおよびソルベントナフサ
等の石油留分、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アルコー
ル、アセトン、トリクロルエチレン、メチルイソブチル
ケトン、鉱物油、植物油、水等を溶剤として使用する。
これらの製剤において均一かつ安定な形態をとるため
に、必要ならば界面活性剤を添加することもできる。
【0064】このようにして得られた水和剤、乳剤、フ
ロアブル剤は水で所定の濃度に希釈して懸濁液あるいは
乳濁液として、粉剤・粒剤はそのまま植物に散布する方
法で使用される。
ロアブル剤は水で所定の濃度に希釈して懸濁液あるいは
乳濁液として、粉剤・粒剤はそのまま植物に散布する方
法で使用される。
【0065】なお、本発明化合物は単独でも十分な効力
を発揮するが、各種の殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤または
共力剤の1種類以上と混合して使用することもできる。
本発明化合物と混合して使用できる、殺菌剤、殺虫剤、
殺ダニ剤、殺線虫剤、植物成長調整剤としては以下のよ
うなものが挙げられる。
を発揮するが、各種の殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤または
共力剤の1種類以上と混合して使用することもできる。
本発明化合物と混合して使用できる、殺菌剤、殺虫剤、
殺ダニ剤、殺線虫剤、植物成長調整剤としては以下のよ
うなものが挙げられる。
【0066】殺菌剤: 銅剤:塩基性塩化銅、塩基性硫酸銅等 硫黄剤:チウラム、マンネブ、マンコゼブ、ポリカーバ
メート、プロピネブ、ジラム、ジネブ等 ポリハロアルキルチオ剤:キャプタン、ジクロルフルア
ニド、フォルペット等 有機塩素剤:クロロタロニル、フサライド等 有機リン剤:IBP、EDDP、トルクロホスメチル、
ピラゾホス、ホセチル等 ベンズイミダゾール剤:チオファネートメチル、ベノミ
ル、カルベンダジム、チアベンダゾール等 ジカルボキシイミド剤:イプロジオン、ビンクロゾリ
ン、プロシミドン、フルオルイミド等 カルボキシアミド剤:オキシカルボキシン、メプロニ
ル、フルトラニル、テクロフタラム、トリクラミド、ペ
ンシクロン等
メート、プロピネブ、ジラム、ジネブ等 ポリハロアルキルチオ剤:キャプタン、ジクロルフルア
ニド、フォルペット等 有機塩素剤:クロロタロニル、フサライド等 有機リン剤:IBP、EDDP、トルクロホスメチル、
ピラゾホス、ホセチル等 ベンズイミダゾール剤:チオファネートメチル、ベノミ
ル、カルベンダジム、チアベンダゾール等 ジカルボキシイミド剤:イプロジオン、ビンクロゾリ
ン、プロシミドン、フルオルイミド等 カルボキシアミド剤:オキシカルボキシン、メプロニ
ル、フルトラニル、テクロフタラム、トリクラミド、ペ
ンシクロン等
【0067】フェニルアミド剤:メタラキシル、オキサ
ジキシル、フララキシル等 SBI剤:トリアジメホン、トリアジメノール、ビテル
タノール、ミクロブタニル、ヘキサコナゾール、プロピ
コナゾール、トリフミゾール、プロクロラズ、ペフラゾ
エート、フェナリモル、ピリフェノックス、トリホリ
ン、フルシラゾール、エタコナゾール、ジクロブトラゾ
ール、フルオトリマゾール、フルトリアフェン、ペンコ
ナゾール、ジニコナゾール、シプロコナゾール、イマザ
リル、トリデモルフ、フェンプロピモルフ、ブチオベー
ト、エポキシコナゾール、メトコナゾール等
ジキシル、フララキシル等 SBI剤:トリアジメホン、トリアジメノール、ビテル
タノール、ミクロブタニル、ヘキサコナゾール、プロピ
コナゾール、トリフミゾール、プロクロラズ、ペフラゾ
エート、フェナリモル、ピリフェノックス、トリホリ
ン、フルシラゾール、エタコナゾール、ジクロブトラゾ
ール、フルオトリマゾール、フルトリアフェン、ペンコ
ナゾール、ジニコナゾール、シプロコナゾール、イマザ
リル、トリデモルフ、フェンプロピモルフ、ブチオベー
ト、エポキシコナゾール、メトコナゾール等
【0068】抗生物質剤:ポリオキシン、ブラストサイ
ジンS、カスガマイシン、バリダマイシン、硫酸ジヒド
ロストレプトマイシン等 その他:プロパモカルブ塩酸塩、キントゼン、ヒドロキ
シイソオキサゾール、メタスルホカルブ、アニラジン、
イソプロチオラン、プロベナゾール、キノメチオネー
ト、ジチアノン、ジノカブ、ジクロメジン、メパニピリ
ム、フェリムゾン、フルアジナム、ピロキロン、トリシ
クラゾール、オキソリニック酸、ジチアノン、イミノク
タジン酢酸塩、シモキサニル、ピロールニトリン、メタ
スルホカルブ、ジエトフェンカルブ、ビナパクリル、レ
シチン、重曹、フェナミノスルフ、ドジン、ジメトモル
フ、フェナジンオキシド等
ジンS、カスガマイシン、バリダマイシン、硫酸ジヒド
ロストレプトマイシン等 その他:プロパモカルブ塩酸塩、キントゼン、ヒドロキ
シイソオキサゾール、メタスルホカルブ、アニラジン、
イソプロチオラン、プロベナゾール、キノメチオネー
ト、ジチアノン、ジノカブ、ジクロメジン、メパニピリ
ム、フェリムゾン、フルアジナム、ピロキロン、トリシ
クラゾール、オキソリニック酸、ジチアノン、イミノク
タジン酢酸塩、シモキサニル、ピロールニトリン、メタ
スルホカルブ、ジエトフェンカルブ、ビナパクリル、レ
シチン、重曹、フェナミノスルフ、ドジン、ジメトモル
フ、フェナジンオキシド等
【0069】殺虫・殺ダニ剤: 有機燐およびカーバメート系殺虫剤:フェンチオン、フ
ェニトロチオン、ダイアジノン、クロルピリホス、ES
P、バミドチオン、フェントエート、ジメトエート、ホ
ルモチオン、マラソン、トリクロルホン、チオメトン、
ホスメット、ジクロルボス、アセフェート、EPBP、
メチルパラチオン、オキシジメトンメチル、エチオン、
サリチオン、シアノホス、イソキサチオン、ピリダフェ
ンチオン、ホサロン、メチダチオン、スルプロホス、ク
ロルフェンビンホス、テトラクロルビンホス、ジメチル
ビンホス、プロパホス、イソフェンホス、エチルチオメ
トン、プロフェノホス、ピラクロホス、モノクロトホ
ス、アジンホスメチル、アルディカルブ、メソミル、チ
オジカルブ、カルボフラン、カルボスルファン、ベンフ
ラカルブ、フラチオカルブ、プロポキスル、BPMC、
MTMC、MIPC、カルバリル、ピリミカーブ、エチ
オフェンカルブ、フェノキシカルブ等。 ピレスロイド系殺虫剤:
ェニトロチオン、ダイアジノン、クロルピリホス、ES
P、バミドチオン、フェントエート、ジメトエート、ホ
ルモチオン、マラソン、トリクロルホン、チオメトン、
ホスメット、ジクロルボス、アセフェート、EPBP、
メチルパラチオン、オキシジメトンメチル、エチオン、
サリチオン、シアノホス、イソキサチオン、ピリダフェ
ンチオン、ホサロン、メチダチオン、スルプロホス、ク
ロルフェンビンホス、テトラクロルビンホス、ジメチル
ビンホス、プロパホス、イソフェンホス、エチルチオメ
トン、プロフェノホス、ピラクロホス、モノクロトホ
ス、アジンホスメチル、アルディカルブ、メソミル、チ
オジカルブ、カルボフラン、カルボスルファン、ベンフ
ラカルブ、フラチオカルブ、プロポキスル、BPMC、
MTMC、MIPC、カルバリル、ピリミカーブ、エチ
オフェンカルブ、フェノキシカルブ等。 ピレスロイド系殺虫剤:
【0070】ペルメトリン、シペルメトリン、デルタメ
スリン、フェンバレレート、フェンプロパトリン、ピレ
トリン、アレスリン、テトラメスリン、レスメトリン、
ジメスリン、プロパスリン、フェノトリン、プロトリ
ン、フルバリネート、シフルトリン、シハロトリン、フ
ルシトリネート、エトフェンプロクス、シクロプロトリ
ン、トロラメトリン、シラフルオフェン、ブロフェンプ
ロクス、アクリナスリ等。
スリン、フェンバレレート、フェンプロパトリン、ピレ
トリン、アレスリン、テトラメスリン、レスメトリン、
ジメスリン、プロパスリン、フェノトリン、プロトリ
ン、フルバリネート、シフルトリン、シハロトリン、フ
ルシトリネート、エトフェンプロクス、シクロプロトリ
ン、トロラメトリン、シラフルオフェン、ブロフェンプ
ロクス、アクリナスリ等。
【0071】ベンゾイルウレア系その他の殺虫剤:ジフ
ルベンズロン、クロルフルアズロン、ヘキサフルムロ
ン、トリフルムロン、テトラベンズロン、フルフェノク
スロン、フルシクロクスロン、ブプロフェジン、ピリプ
ロキシフェン、メトプレン、カルタップ、チオシクラ
ム、ベンスルタップ、ベンゾエピン、ジアフェンチウロ
ン、アセタミプリド、ニテンピラム、イミダクロプリ
ド、フィプロニル、硫酸ニコチン、ロテノン、メタアル
デヒド、機械油、BTや昆虫病原ウイルスなどの微生物
農薬等。
ルベンズロン、クロルフルアズロン、ヘキサフルムロ
ン、トリフルムロン、テトラベンズロン、フルフェノク
スロン、フルシクロクスロン、ブプロフェジン、ピリプ
ロキシフェン、メトプレン、カルタップ、チオシクラ
ム、ベンスルタップ、ベンゾエピン、ジアフェンチウロ
ン、アセタミプリド、ニテンピラム、イミダクロプリ
ド、フィプロニル、硫酸ニコチン、ロテノン、メタアル
デヒド、機械油、BTや昆虫病原ウイルスなどの微生物
農薬等。
【0072】殺線虫剤:フェナミホス、ホスチアゼート
等。 殺ダニ剤:クロルベンジレート、フェニソブロモレー
ト、ジコホル、アミトラズ、BPPS、ベンゾメート、
ヘキシチアゾクス、酸化フェンブタスズ、ポリナクチ
ン、キノメチオネート、CPCBS、テトラジホン、ア
ベルメクチン、ミルベメクチン、クロフェンテジン、シ
ヘキサチン、ピリダベン、フェンピロキシメート、テブ
フェンピラド、ピリミジフェン、フェノチオカルブ、ジ
エノクロル等。 植物成長調整剤:ジベレリン類(例えばジベレリンA
3 、ジベレリンA4 、ジベレリンA7 )IAA、NA
A。
等。 殺ダニ剤:クロルベンジレート、フェニソブロモレー
ト、ジコホル、アミトラズ、BPPS、ベンゾメート、
ヘキシチアゾクス、酸化フェンブタスズ、ポリナクチ
ン、キノメチオネート、CPCBS、テトラジホン、ア
ベルメクチン、ミルベメクチン、クロフェンテジン、シ
ヘキサチン、ピリダベン、フェンピロキシメート、テブ
フェンピラド、ピリミジフェン、フェノチオカルブ、ジ
エノクロル等。 植物成長調整剤:ジベレリン類(例えばジベレリンA
3 、ジベレリンA4 、ジベレリンA7 )IAA、NA
A。
【0073】
【実施例】次に、実施例により、本発明を更に詳細に説
明する。 実施例1 9−メチル− [1] 6,11−ジヒドロベンズチオピラ
ノ[ 4, 3−b] インドール(化合物No.I −61)
の合成
明する。 実施例1 9−メチル− [1] 6,11−ジヒドロベンズチオピラ
ノ[ 4, 3−b] インドール(化合物No.I −61)
の合成
【0074】
【化14】
【0075】チオクロマン−4−オン5. 0g(0. 0
3モル)を酢酸50mlに溶解し、そこへ、3−メチル
フェニルヒドラジン塩酸塩7. 25g(0. 046モ
ル)を加え、4時間加熱還流した。反応混合物を放冷
後、水に加え、水酸化ナトリウム水溶液で中和し、クロ
ロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去して得ら
れた結晶をジエチルエーテル、クロロホルム、次いでn
−ヘキサン各10mlで洗浄し、目的物2. 7gを得
た。収率36%、mp.200−205℃
3モル)を酢酸50mlに溶解し、そこへ、3−メチル
フェニルヒドラジン塩酸塩7. 25g(0. 046モ
ル)を加え、4時間加熱還流した。反応混合物を放冷
後、水に加え、水酸化ナトリウム水溶液で中和し、クロ
ロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去して得ら
れた結晶をジエチルエーテル、クロロホルム、次いでn
−ヘキサン各10mlで洗浄し、目的物2. 7gを得
た。収率36%、mp.200−205℃
【0076】実施例2 10−メトキシ− [1] 6,11−ジヒドロベンズチオ
ピラノ[ 4, 3−b]インドール(化合物No.I −6
8)の合成
ピラノ[ 4, 3−b]インドール(化合物No.I −6
8)の合成
【0077】
【化15】
【0078】チオクロマン−4−オン1.64g(0.
01モル)を酢酸30mlに溶解し、そこへ、2−メト
キシ−フェニルヒドラジン塩酸塩1. 92g(0. 01
1モル)を加え、2時間加熱還流した。反応混合物を放
冷後、水に加え、ベンゼンで抽出し、有機層を飽和食塩
水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(ベンゼン)で精製し、目的物1. 50gを
得た。収率56%、mp.116−118℃
01モル)を酢酸30mlに溶解し、そこへ、2−メト
キシ−フェニルヒドラジン塩酸塩1. 92g(0. 01
1モル)を加え、2時間加熱還流した。反応混合物を放
冷後、水に加え、ベンゼンで抽出し、有機層を飽和食塩
水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(ベンゼン)で精製し、目的物1. 50gを
得た。収率56%、mp.116−118℃
【0079】実施例3 7, 9−ジメチル− [1] 6,11−ジヒドロベンズチ
オピラノ[ 4, 3−b] インドール(化合物No.I −
70)の合成
オピラノ[ 4, 3−b] インドール(化合物No.I −
70)の合成
【0080】
【化16】
【0081】濃塩酸100mlと酢酸20mlの混合溶
媒に3, 5−ジメチルアニリン6.05g(0. 05モル)
を溶解し、そこへ、亜硝酸ナトリウム3. 6g(0. 0
52モル) の水10ml溶液を氷冷下に滴下し、滴下終
了後、更に氷冷下で2時間攪拌した。さらに、反応液
に、塩化第1スズ27. 6g(0. 146モル) の濃塩酸
10ml溶液を加えて1時間攪拌した。析出した結晶をろ
取し、酢酸30mlに溶解し、そこへ、チオクロマン−
4−オン4. 92g(0. 03モル)を加え、2時間加
熱還流した。反応混合物を放冷後、水に加え、ベンゼン
で抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。減圧濃縮して得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(ベンゼン)で精製し
て、目的物3. 5gを得た。収率44%、mp.179
−181℃
媒に3, 5−ジメチルアニリン6.05g(0. 05モル)
を溶解し、そこへ、亜硝酸ナトリウム3. 6g(0. 0
52モル) の水10ml溶液を氷冷下に滴下し、滴下終
了後、更に氷冷下で2時間攪拌した。さらに、反応液
に、塩化第1スズ27. 6g(0. 146モル) の濃塩酸
10ml溶液を加えて1時間攪拌した。析出した結晶をろ
取し、酢酸30mlに溶解し、そこへ、チオクロマン−
4−オン4. 92g(0. 03モル)を加え、2時間加
熱還流した。反応混合物を放冷後、水に加え、ベンゼン
で抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。減圧濃縮して得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(ベンゼン)で精製し
て、目的物3. 5gを得た。収率44%、mp.179
−181℃
【0082】実施例4 11−メトキシカルボニル−2−メチル− [1] 6,1
1−ジヒドロベンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドー
ル(化合物No.I −33)の合成
1−ジヒドロベンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドー
ル(化合物No.I −33)の合成
【0083】
【化17】
【0084】2−メチル− [1] 6,11−ジヒドロベ
ンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドール1. 0g
(0. 004モル)、及びクロロギ酸メチル0. 76g
(0. 008モル)をアセトニトリル10mlに溶解
し、さらに炭酸カリウム1. 1g(0. 008モル)を
加え、5時間加熱還流した。反応混合物を放冷後、水に
加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮して得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n
−ヘキサン:酢酸エチル= 9:1)で精製し、目的物
0. 32gを得た。収率26%、mp.176−177
℃
ンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドール1. 0g
(0. 004モル)、及びクロロギ酸メチル0. 76g
(0. 008モル)をアセトニトリル10mlに溶解
し、さらに炭酸カリウム1. 1g(0. 008モル)を
加え、5時間加熱還流した。反応混合物を放冷後、水に
加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮して得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n
−ヘキサン:酢酸エチル= 9:1)で精製し、目的物
0. 32gを得た。収率26%、mp.176−177
℃
【0085】実施例5 7−メチル− [1] 6,11−ジヒドロベンズチオピラ
ノ[ 4, 3−b] インドール(化合物No.I −34)
の合成
ノ[ 4, 3−b] インドール(化合物No.I −34)
の合成
【0086】
【化18】
【0087】7−メチル−10−クロロ− [1] 6,1
1−ジヒドロベンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドー
ル3. 7g(0. 013モル)、酸化カルシウム2. 5
g(0. 045モル)、及び5%パラジウム−カーボン
6. 3g(0. 003モル)をエタノール200mlに
懸濁し、水素雰囲気下、50〜60℃で24時間撹拌し
た後、10%パラジウム−カーボン6. 3g(0. 00
6モル)を加え、水素雰囲気下50〜60℃で50時間
更に撹拌した。不溶物をろ過し、アセトンで洗浄し、ろ
液と合わせたろ液を減圧濃縮した後、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(ベンゼン:n−ヘキサン=
1:1)で精製し、目的物1. 78gを得た。収率55
%、mp.169−170℃
1−ジヒドロベンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドー
ル3. 7g(0. 013モル)、酸化カルシウム2. 5
g(0. 045モル)、及び5%パラジウム−カーボン
6. 3g(0. 003モル)をエタノール200mlに
懸濁し、水素雰囲気下、50〜60℃で24時間撹拌し
た後、10%パラジウム−カーボン6. 3g(0. 00
6モル)を加え、水素雰囲気下50〜60℃で50時間
更に撹拌した。不溶物をろ過し、アセトンで洗浄し、ろ
液と合わせたろ液を減圧濃縮した後、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(ベンゼン:n−ヘキサン=
1:1)で精製し、目的物1. 78gを得た。収率55
%、mp.169−170℃
【0088】実施例6 7−メチル−10−ヒドロキシ− [1] 6,11−ジヒ
ドロベンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドール(化合
物No.I −73)の合成
ドロベンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドール(化合
物No.I −73)の合成
【0089】
【化19】
【0090】エタンチオール0. 75g(0. 012モ
ル)と塩化アルミニウム0. 48g(0. 00 36
モル)をジクロロメタン5mlに溶解し、そこへ、7−
メチル− 10−メトキシ− [1] 6,11−ジヒド
ロベンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドール0. 68
g(0. 0024モル)を加え、室温で4時間撹拌し
た。反応混合物を減圧濃縮した。残渣を水に加え、酢酸
エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮後、得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:
酢酸エチル= 9:1)で精製し、目的物0. 56gを得
た。収率86%、mp.180−181℃
ル)と塩化アルミニウム0. 48g(0. 00 36
モル)をジクロロメタン5mlに溶解し、そこへ、7−
メチル− 10−メトキシ− [1] 6,11−ジヒド
ロベンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドール0. 68
g(0. 0024モル)を加え、室温で4時間撹拌し
た。反応混合物を減圧濃縮した。残渣を水に加え、酢酸
エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮後、得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:
酢酸エチル= 9:1)で精製し、目的物0. 56gを得
た。収率86%、mp.180−181℃
【0091】実施例7 2−メチル−5−オキソ− [1] 6,11−ジヒドロベ
ンズチオピラノ[ 4,3−b] インドール(化合物N
o.I −79)の合成
ンズチオピラノ[ 4,3−b] インドール(化合物N
o.I −79)の合成
【0092】
【化20】
【0093】2−メチル− [1] 6,11−ジヒドロベ
ンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドール0. 2g
(0. 0008モル)を酢酸10mlに溶解し、30%
過酸化水素水溶液0. 1g(0. 00088モル)を加
え、室温で5時間撹拌した。反応終了後、析出した結晶
をろ取し、水、ジエチルエーテルで洗浄し、目的物0.
2gを得た。収率18%、mp.215−220℃ de
c.
ンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドール0. 2g
(0. 0008モル)を酢酸10mlに溶解し、30%
過酸化水素水溶液0. 1g(0. 00088モル)を加
え、室温で5時間撹拌した。反応終了後、析出した結晶
をろ取し、水、ジエチルエーテルで洗浄し、目的物0.
2gを得た。収率18%、mp.215−220℃ de
c.
【0094】実施例8 2−メチル−5, 5−ジオキソ− [1] 6,11−ジヒ
ドロベンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドール(化合
物No.I −80)の合成
ドロベンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドール(化合
物No.I −80)の合成
【0095】
【化21】
【0096】2−メチル− [1] 6,11−ジヒドロベ
ンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドール0. 2g
(0. 0008モル)を酢酸10mlに溶解し、30%
過酸化水素水溶液0. 36g(0. 0032モル)を加
え、70〜80℃で3時間撹拌した。反応液を放冷後、
氷水に加え、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液で過剰の過
酸化水素を還元した後、酢酸エチルで抽出した。有機層
を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。減圧濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(n−ヘキサン:酢酸エチル= 7:3)で精製
し、目的物0. 08gを得た。収率5%、mp.200
℃ dec
ンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドール0. 2g
(0. 0008モル)を酢酸10mlに溶解し、30%
過酸化水素水溶液0. 36g(0. 0032モル)を加
え、70〜80℃で3時間撹拌した。反応液を放冷後、
氷水に加え、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液で過剰の過
酸化水素を還元した後、酢酸エチルで抽出した。有機層
を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。減圧濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(n−ヘキサン:酢酸エチル= 7:3)で精製
し、目的物0. 08gを得た。収率5%、mp.200
℃ dec
【0097】実施例9 7−メチル− [1] 11H−ベンズチオピラノ[ 4, 3
−b] インドール−5−イウムテトラフルオロボレート
(化合物No.II−19)の合成
−b] インドール−5−イウムテトラフルオロボレート
(化合物No.II−19)の合成
【0098】
【化22】
【0099】7−メチル− [1] 6,11−ジヒドロベ
ンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドール0. 5g
(0. 002モル)をクロロホルム20mlに溶解し、
トリフェニルカルベニウムテトラフルオロボレート0.
66g(0. 002モル)を加え、室温で1時間撹拌し
た。析出した結晶をアセトンで洗浄し、目的物0. 36
gを得た。収率53%、mp.250℃up
ンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドール0. 5g
(0. 002モル)をクロロホルム20mlに溶解し、
トリフェニルカルベニウムテトラフルオロボレート0.
66g(0. 002モル)を加え、室温で1時間撹拌し
た。析出した結晶をアセトンで洗浄し、目的物0. 36
gを得た。収率53%、mp.250℃up
【0100】実施例10 9−メチル− [1] 11H−ベンズチオピラノ[ 4, 3
−b] インドール−5−イウムテトラフルオロボレート
(化合物No.II−38)の合成
−b] インドール−5−イウムテトラフルオロボレート
(化合物No.II−38)の合成
【0101】
【化23】
【0102】9−メチル− [1] 6,11−ジヒドロベ
ンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドール0. 50g
(0. 002モル)をクロロホルム10mlに溶解し、
トリフェニルカルベニウムテトラフルオロボレート0.
69g(0. 002モル)を加え、室温で2時間撹拌し
た。析出した結晶をアセトンで洗浄し、目的物0. 36
gを得た。収率54%、mp.250℃ up
ンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドール0. 50g
(0. 002モル)をクロロホルム10mlに溶解し、
トリフェニルカルベニウムテトラフルオロボレート0.
69g(0. 002モル)を加え、室温で2時間撹拌し
た。析出した結晶をアセトンで洗浄し、目的物0. 36
gを得た。収率54%、mp.250℃ up
【0103】実施例11 7, 9−ジメチル− [1] 11H−ベンズチオピラノ[
4, 3−b] インドール−5−イウム テトラフルオロ
ボレート(化合物No.II−40)の合成
4, 3−b] インドール−5−イウム テトラフルオロ
ボレート(化合物No.II−40)の合成
【0104】
【化24】
【0105】7, 9−ジメチル− [1] 6,11−ジヒ
ドロベンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドール0. 5
g(0. 0019モル)をクロロホルム20mlに溶解
し、トリフェニルカルベニウムテトラフルオロボレート
0. 62g(0. 0019モル)を加え、室温で1時間
撹拌した。析出した結晶をアセトンで洗浄し、目的物
0. 43gを得た。収率64%、mp.250℃ up
ドロベンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドール0. 5
g(0. 0019モル)をクロロホルム20mlに溶解
し、トリフェニルカルベニウムテトラフルオロボレート
0. 62g(0. 0019モル)を加え、室温で1時間
撹拌した。析出した結晶をアセトンで洗浄し、目的物
0. 43gを得た。収率64%、mp.250℃ up
【0106】実施例12 7, 10−ジメチル− [1] 11H−ベンズチオピラノ
[ 4, 3−b] インドール−5−イウム テトラフルオ
ロボレート(化合物No.II−41)の合成
[ 4, 3−b] インドール−5−イウム テトラフルオ
ロボレート(化合物No.II−41)の合成
【0107】
【化25】
【0108】7, 10−ジメチル− [1] 6,11−ジ
ヒドロベンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドール0.
5g(0. 0019モル)をクロロホルム20mlに溶
解し、トリフェニルカルベニウムテトラフルオロボレー
ト0. 62g(0. 0019モル)を加え、室温で1時
間撹拌した。析出した結晶をアセトンで洗浄し、目的物
0. 48gを得た。収率72%、mp.250℃ up
ヒドロベンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドール0.
5g(0. 0019モル)をクロロホルム20mlに溶
解し、トリフェニルカルベニウムテトラフルオロボレー
ト0. 62g(0. 0019モル)を加え、室温で1時
間撹拌した。析出した結晶をアセトンで洗浄し、目的物
0. 48gを得た。収率72%、mp.250℃ up
【0109】実施例13 7−メチル− [1] ベンズチオピラノ[ 4, 3−b] イ
ンドール(化合物No.III −4)の合成
ンドール(化合物No.III −4)の合成
【0110】
【化26】
【0111】7−メチル− [1] 6,11−ジヒドロベ
ンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドール0. 5g
(0. 002モル)をクロロホルム20mlに溶解し、
トリフェニルカルベニウムテトラフルオロボレート0.
66g(0. 002モル)を加え、室温で1時間撹拌し
た。次いで、トリエチルアミン0. 24g(0. 002
4モル)を加え、更に2時間室温で撹拌した。飽和食塩
水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロ
ロホルム:酢酸エチル= 9:1)で精製し、目的物0.
42gを得た。収率85%、mp.175−176℃
ンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドール0. 5g
(0. 002モル)をクロロホルム20mlに溶解し、
トリフェニルカルベニウムテトラフルオロボレート0.
66g(0. 002モル)を加え、室温で1時間撹拌し
た。次いで、トリエチルアミン0. 24g(0. 002
4モル)を加え、更に2時間室温で撹拌した。飽和食塩
水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロ
ロホルム:酢酸エチル= 9:1)で精製し、目的物0.
42gを得た。収率85%、mp.175−176℃
【0112】実施例14 9−メチル− [1] ベンズチオピラノ[ 4, 3−b] イ
ンドール(化合物No.III −26)の合成
ンドール(化合物No.III −26)の合成
【0113】
【化27】
【0114】9−メチル− [1] 6,11−ジヒドロベ
ンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドール1. 0g
(0. 004モル)をクロロホルム10mlに溶解し、
トリフェニルカルベニウムテトラフルオロボレート1.
52g(0. 0046モル)を加え、室温で2時間撹拌
した。次いで、トリエチルアミン0. 48g(0. 00
48モル)を加え、更に10分撹拌した。飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮後、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホ
ルム:酢酸エチル= 9:1)で精製し、目的物0. 93
gを得た。収率94%、mp.176−177℃
ンズチオピラノ[ 4, 3−b] インドール1. 0g
(0. 004モル)をクロロホルム10mlに溶解し、
トリフェニルカルベニウムテトラフルオロボレート1.
52g(0. 0046モル)を加え、室温で2時間撹拌
した。次いで、トリエチルアミン0. 48g(0. 00
48モル)を加え、更に10分撹拌した。飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮後、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホ
ルム:酢酸エチル= 9:1)で精製し、目的物0. 93
gを得た。収率94%、mp.176−177℃
【0115】実施例15 [1] 11H−ベンズチオピラノ[ 4, 3−b] インド
ール−5−イウムトリフルオロアセテート(化合物N
o.II−9)の合成
ール−5−イウムトリフルオロアセテート(化合物N
o.II−9)の合成
【0116】
【化28】
【0117】2−メチル− [1] ベンズチオピラノ[
4, 3−b] インドール0. 54g(0. 0022モ
ル)を塩化メチレン20mlに溶解し、トリフルオロ酢
酸0. 37g(0. 0032モル)を加え、室温で2時
間撹拌した。析出した結晶をクロロホルムで洗浄し、目
的物0. 60gを得た。収率63%、mp.200−2
10℃ dec
4, 3−b] インドール0. 54g(0. 0022モ
ル)を塩化メチレン20mlに溶解し、トリフルオロ酢
酸0. 37g(0. 0032モル)を加え、室温で2時
間撹拌した。析出した結晶をクロロホルムで洗浄し、目
的物0. 60gを得た。収率63%、mp.200−2
10℃ dec
【0118】上記実施例により得られた化合物を含め
て、本発明の殺菌剤として有用な化合物の代表例を、下
記第1表〜第3表に示す。
て、本発明の殺菌剤として有用な化合物の代表例を、下
記第1表〜第3表に示す。
【0119】
【表101】
【0120】
【表102】
【0121】
【表103】
【0122】
【表104】
【0123】
【表201】
【0124】
【表202】
【0125】
【表301】
【0126】
【実施例】次に、本発明の組成物の実施例を若干示す
が、添加物及び添加割合は、これら実施例に限定される
べきものではなく、広範囲に変化させることが可能であ
る。なお、製剤実施例中の部は重量部を示す。
が、添加物及び添加割合は、これら実施例に限定される
べきものではなく、広範囲に変化させることが可能であ
る。なお、製剤実施例中の部は重量部を示す。
【0127】実施例16 水和剤 本発明化合物 40部 珪藻土 53部 高級アルコール硫酸エステル 4部 アルキルナフタレンスルホン酸塩 3部 以上を均一に混合して微細に粉砕すれば、有効成分40
%の水和剤を得る。
%の水和剤を得る。
【0128】実施例17 乳剤 本発明化合物 30部 キシレン 33部 ジメチルホルムアミド 30部 ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル 7部 以上を混合溶解すれば、有効成分30%の乳剤を得る。
【0129】実施例18 懸濁剤 本発明化合物 10部 リグニンスルホン酸ナトリウム 4部 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 1部 キサンタンガム 0.2部 水 84.8部 以上を混合し、粒度が1ミクロン以下になるまで湿式粉
砕すれば、有効成分10%の懸濁剤を得る。
砕すれば、有効成分10%の懸濁剤を得る。
【0130】
【発明の効果】次に、本発明化合物が各種植物病害防除
剤の有功成分として有用であることを試験例で示す。防
除効果は、調査時に葉、茎などに出現した病斑や菌叢の
生育程度を肉眼観察し、防除効果を求めた。
剤の有功成分として有用であることを試験例で示す。防
除効果は、調査時に葉、茎などに出現した病斑や菌叢の
生育程度を肉眼観察し、防除効果を求めた。
【0131】試験例1 ブドウべと病防除試験 素焼きポットで栽培したブドウ幼苗(品種「甲州」、2
葉期)に、本発明化合物の乳剤を有効成分200ppm
濃度の濃度で散布した。散布後、室温で自然乾燥し、ブ
ドウべと病菌(Plasmopara viticol
a)の遊走子嚢懸濁液を噴霧接種し、明暗を12時間毎
に繰り返す高湿度の恒温室(20℃)に10日間保持し
た。葉上の病斑出現状態を無処理と比較調査し、防除効
果を求めた。その結果、以下の化合物が75%以上の防
除効果を示した。
葉期)に、本発明化合物の乳剤を有効成分200ppm
濃度の濃度で散布した。散布後、室温で自然乾燥し、ブ
ドウべと病菌(Plasmopara viticol
a)の遊走子嚢懸濁液を噴霧接種し、明暗を12時間毎
に繰り返す高湿度の恒温室(20℃)に10日間保持し
た。葉上の病斑出現状態を無処理と比較調査し、防除効
果を求めた。その結果、以下の化合物が75%以上の防
除効果を示した。
【0132】化合物番号 I −1,2,3,4,5,6,7,21,22,23,
24,25,26,27,28,29,32,34,3
5,36,37,46,48,49,51,52,5
3,56,57,61,62,63,64,65,6
6,67,68,70,71,72,73,74,7
5,76,77,78 II−1,5,6,7,8,9,13,14,15,1
6,18,19,36,39,40,41 III −1,2,4,6,16
24,25,26,27,28,29,32,34,3
5,36,37,46,48,49,51,52,5
3,56,57,61,62,63,64,65,6
6,67,68,70,71,72,73,74,7
5,76,77,78 II−1,5,6,7,8,9,13,14,15,1
6,18,19,36,39,40,41 III −1,2,4,6,16
【0133】試験例2 リンゴ黒星病防除試験 素焼きポットで栽培したリンゴ幼苗(品種「国光」、3
〜4葉期)に、本発明化合物の乳剤を有効成分200p
pmの濃度で栽培した。散布後、室温で自然乾燥し、リ
ンゴ黒星病菌(Venturia inaequali
s)の分生胞子を接種し、明暗を12時間毎に繰り返す
高湿度の恒温室(20℃)に2週間保持した。葉上の病
斑出現状態を無処理と比較調査し、防除効果を求めた結
果、以下の化合物が80%以上の優れた防除効果を示し
た。 化合物番号 I −4,23,35,52,53,57,63,71 II−6,36
〜4葉期)に、本発明化合物の乳剤を有効成分200p
pmの濃度で栽培した。散布後、室温で自然乾燥し、リ
ンゴ黒星病菌(Venturia inaequali
s)の分生胞子を接種し、明暗を12時間毎に繰り返す
高湿度の恒温室(20℃)に2週間保持した。葉上の病
斑出現状態を無処理と比較調査し、防除効果を求めた結
果、以下の化合物が80%以上の優れた防除効果を示し
た。 化合物番号 I −4,23,35,52,53,57,63,71 II−6,36
【0134】試験例3 キュウリべと病防除試験 素焼きポットで栽培したキュウリ(品種「相模半白」)
幼苗に、本発明化合物の乳剤を有効成分200ppmの
濃度で散布した。散布後、室温で自然乾燥し、キュウリ
べと病菌(Pseudoperonospora cu
bensis)の胞子懸濁液を噴霧接種し、明暗及び乾
湿を12時間毎に繰り返す恒温室(25℃)に4日間保
持した。葉上の病斑出現状態を無処理と比較調査し、防
除効果を求めたところ、以下の化合物が80%以上の優
れた防除効果を示した。
幼苗に、本発明化合物の乳剤を有効成分200ppmの
濃度で散布した。散布後、室温で自然乾燥し、キュウリ
べと病菌(Pseudoperonospora cu
bensis)の胞子懸濁液を噴霧接種し、明暗及び乾
湿を12時間毎に繰り返す恒温室(25℃)に4日間保
持した。葉上の病斑出現状態を無処理と比較調査し、防
除効果を求めたところ、以下の化合物が80%以上の優
れた防除効果を示した。
【0135】化合物番号 I −1,2,3,4,5,6,7,21,22,23,
24,25,26,27,28,29,32,37,4
6,47,48,49,61,62,63,64,6
5,66,67,68,71,72,73,74,7
5,76,77,78,79 II−5,6,7,8,9,10,11,12,13,1
4,15,19,39,40,41 III −2,4,6,16
24,25,26,27,28,29,32,37,4
6,47,48,49,61,62,63,64,6
5,66,67,68,71,72,73,74,7
5,76,77,78,79 II−5,6,7,8,9,10,11,12,13,1
4,15,19,39,40,41 III −2,4,6,16
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 濱村 洋 神奈川県小田原市高田345 日本曹達株式 会社小田原研究所内 (72)発明者 斎賀 睦幸 神奈川県小田原市高田345 日本曹達株式 会社小田原研究所内 (72)発明者 河野 拓也 神奈川県小田原市高田345 日本曹達株式 会社小田原研究所内
Claims (2)
- 【請求項1】下記一般式[I] 、[II]または[III] で表わ
される化合物。 【化1】 (式中、Xは、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、C
1-6 アルキル基、C1-6ハロアルキル基、C1-6 アルコ
キシ基、C2-6 アルケニル基、C2-6 ハロアルケニル
基、C2-6 アルキニル基、ジC1-6 アルキルアミノ基、
C3-6 シクロアルキル基、C1-6 アルコキシカルボニル
基、C1-6 アルキルチオ基、C1-6 アルキルスルフィニ
ル基またはC1-6 アルキルスルホニル基を表わす。
R1 、R2 、R3 、R4 は、それぞれ独立して水素原
子、ハロゲン原子、C1- 6 アルキル基、C1-6 ハロアル
キル基、C1-6 アルコキシ基、C2-6 アルケニル基、C
2-6 ハロアルケニル基、C2-6 アルキニル基、ジC1-6
アルキルアミノ基、C3-6 シクロアルキル基、C1-6 ア
ルキルチオ基、C1-6 アルキルスルフィニル基またはC
1-6 アルキルスルホニル基を表わす。R5 は、水素原
子、C1-6 アルキルカルボニル基、C1-6 アルコキシカ
ルボニル基、C1-6 アルキルスルホニル基、または置換
されてもよいベンゾイル基を表わす。Zは無機酸または
有機酸の対アニオンを表す。n は0または1から4の整
数を表わし、2以上の場合、Xは相異なってもよい。但
し、R5 が水素原子を表すとき、R1 、R3 、R4 は同
時に水素原子ではないか、またはR1 、R2 、R4 が水
素原子で、R3 がメトキシ基ではない。) - 【請求項2】下記一般式[I']、[II'] または[III'] 【化2】 (式中、Xは、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、C
1-6 アルキル基、C1-6ハロアルキル基、C1-6 アルコ
キシ基、C2-6 アルケニル基、C2-6 ハロアルケニル
基、C2-6 アルキニル基、ジC1-6 アルキルアミノ基、
C3-6 シクロアルキル基、C1-6 アルコキシカルボニル
基、C1-6 アルキルチオ基、C1-6 アルキルスルフィニ
ル基またはC1-6 アルキルスルホニル基を表わす。
R1 、R2 、R3 、R4 は、それぞれ独立して水素原
子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原
子、C1-6 アルキル基、C1-6 ハロアルキル基、C1-6
アルコキシ基、C2-6 アルケニル基、C2-6 ハロアルケ
ニル基、C2-6 アルキニル基、ジC1-6 アルキルアミノ
基、C3-6 シクロアルキル基、C1-6 アルコキシカルボ
ニル基、C1-6 アルキルチオ基、C1-6 アルキルスルフ
ィニル基またはC1-6 アルキルスルホニル基を表わす。
R5 は、水素原子、C1-6 アルキルカルボニル基、C
1-6 アルコキシカルボニル基、C1-6 アルキルスルホニ
ル基、または置換されてもよいベンゾイル基を表わす。
R6 は、水素原子、C1-6 アルキル基、C1-6 ハロアル
キル基を表わす。Zは有機酸、無機酸の対アニオンを表
わす。mは0,1または2を表わす。nは0または1か
ら4の整数を表わし、2以上の場合、Xは相異なっても
よい。)で表わされる化合物を有効成分として含有する
ことを特徴とする農園芸用殺菌剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10197775A JPH11322756A (ja) | 1998-03-17 | 1998-07-13 | ベンゾチオピラノインドール化合物および農園芸用殺菌剤 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6687298 | 1998-03-17 | ||
JP10-66872 | 1998-03-17 | ||
JP10197775A JPH11322756A (ja) | 1998-03-17 | 1998-07-13 | ベンゾチオピラノインドール化合物および農園芸用殺菌剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11322756A true JPH11322756A (ja) | 1999-11-24 |
Family
ID=26408071
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10197775A Pending JPH11322756A (ja) | 1998-03-17 | 1998-07-13 | ベンゾチオピラノインドール化合物および農園芸用殺菌剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11322756A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008513487A (ja) * | 2004-09-20 | 2008-05-01 | ジヤンセン・フアーマシユーチカ・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ | 性ステロイドホルモン受容体モジュレーターとして有用な新規な四環式ヘテロ原子含有誘導体 |
US8153671B2 (en) | 2005-07-14 | 2012-04-10 | Irm Llc | Heterotetracyclic compounds as TPO mimetics |
KR20160111595A (ko) * | 2015-03-16 | 2016-09-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | 축합환 화합물 및 이를 포함한 유기 발광 소자 |
-
1998
- 1998-07-13 JP JP10197775A patent/JPH11322756A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008513487A (ja) * | 2004-09-20 | 2008-05-01 | ジヤンセン・フアーマシユーチカ・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ | 性ステロイドホルモン受容体モジュレーターとして有用な新規な四環式ヘテロ原子含有誘導体 |
US7759498B2 (en) * | 2004-09-20 | 2010-07-20 | Janssen Pharmaceutica N.V | Tetracyclic heteroatom containing derivatives useful as sex steroid hormone receptor modulators |
US8318766B2 (en) | 2004-09-20 | 2012-11-27 | Janssen Pharmaceutica N.V. | Tetracyclic heteroatom containing derivatives useful as sex steroid hormone receptor modulators |
US8153671B2 (en) | 2005-07-14 | 2012-04-10 | Irm Llc | Heterotetracyclic compounds as TPO mimetics |
KR20160111595A (ko) * | 2015-03-16 | 2016-09-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | 축합환 화합물 및 이를 포함한 유기 발광 소자 |
US10211407B2 (en) * | 2015-03-16 | 2019-02-19 | Samsung Display Co., Ltd. | Condensed cyclic compound and organic light-emitting device including the same |
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