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JPH11316913A - 磁気抵抗効果型磁気ヘッド - Google Patents

磁気抵抗効果型磁気ヘッド

Info

Publication number
JPH11316913A
JPH11316913A JP12121698A JP12121698A JPH11316913A JP H11316913 A JPH11316913 A JP H11316913A JP 12121698 A JP12121698 A JP 12121698A JP 12121698 A JP12121698 A JP 12121698A JP H11316913 A JPH11316913 A JP H11316913A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetoresistive
magnetoresistive element
head
wear amount
magnetic head
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP12121698A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroyuki Omori
広之 大森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP12121698A priority Critical patent/JPH11316913A/ja
Publication of JPH11316913A publication Critical patent/JPH11316913A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁気記録媒体との摺動によりMR素子が摩耗
しても、長時間安定して動作させることができる磁気抵
抗効果型磁気ヘッドを提供する。 【解決手段】 媒体摺動面1aに対して略直交する方向
に複数のMR素子5を並列配置し、摩耗量に応じて抵抗
値が変化する可変抵抗10及び固定抵抗11の抵抗比と
供給電流とに応じて薄膜トランジスタ9のゲート電圧を
変化させ、この薄膜トランジスタ9のオン/オフを切り
換えることにより、摩耗量に応じて使用するMR素子5
を選択するようにしている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁界検出に磁気抵
抗効果素子を使用する磁気抵抗効果型磁気ヘッドに関す
る。
【0002】
【従来の技術】ビデオテープレコーダ(VTR)やデー
タバックアップに用いられるデータレコーダ装置等の磁
気テープに対して信号の記録再生を行う記録再生装置に
おいては、従来より、磁気ヘッドとして、フェライトよ
りなる磁気コアの磁気ギャップ形成面に金属磁性膜を成
膜した、いわゆるメタル・イン・ギャップ型磁気ヘッド
や、一対の非磁性材料よりなる基板で金属磁性膜を挟み
込んだ形の、いわゆるラミネート型磁気ヘッド等のイン
ダクティブヘッドが使用されている。
【0003】しかしながら、上記記録再生装置において
は、今後のディジタル化やマルチメディア化等に対応す
るために、磁気ヘッドとして、より狭トラックで十分な
再生出力を得られるものの適用が求められている。
【0004】このような要求に応じるべく、ハードディ
スク装置等において再生用の磁気ヘッドとして使用され
ている磁気抵抗効果を用いた磁気抵抗効果型ヘッド(以
下、MRヘッドという。)を上記記録再生装置の再生用
磁気ヘッドとして用いる技術が提案されている。
【0005】ハードディスク装置等において使用されて
いるMRヘッドは、例えば、軟磁性体よりなる一対の基
板がギャップを介して接合一体化され、ギャップ中に磁
気抵抗効果を発揮する磁気抵抗効果素子(以下、MR素
子という。)が薄膜形成されてなる。
【0006】このMRヘッドは、薄膜形成されるMR素
子の幅によりトラック幅が決定されるので、狭トラック
化が容易であると共に、MR素子が磁気記録媒体と対向
する面から露出しているので再生感度が高く、将来の高
密度磁気記録を実現するために必須のデバイスとして注
目されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、磁気テープ
に対して信号の記録再生を行う記録再生装置は、磁気ヘ
ッドを磁気テープに摺接させた状態で記録再生を行って
いる。したがって、ハードディスク装置において浮上型
磁気ヘッドとして用いられていたシールド型MRヘッド
をそのまま上記記録再生装置の再生用磁気ヘッドとして
適用した場合、磁気テープとの摺動によって生じる磁気
抵抗効果素子の摩耗が問題となる。
【0008】特に、回転ドラムに搭載された磁気ヘッド
が磁気テープに対して高速で摺動するヘリカルスキャン
方式の場合、磁気抵抗効果素子の摩耗が激しく、短時間
で再生出力が得られなくなる問題が発生する。
【0009】このような問題に対応するために、磁気抵
抗効果素子の高さ、すなわち磁気抵抗効果素子の磁気記
録媒体と摺接する側の端部から他方の端部までの距離を
大きくすることが考えられるが、磁気抵抗効果素子の高
さをあまり大きくすると、出力が急激に減少してしま
う。
【0010】本発明は、上述したような従来の実情に鑑
みて提案されたものであり、磁気記録媒体との摺動によ
りMR素子が摩耗しても、長時間安定して動作させるこ
とができる磁気抵抗効果型磁気ヘッドを提供することを
目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成すべく鋭意研究を重ねた結果、シールド型MRヘッ
ドにおいて、複数の磁気抵抗効果素子をシールド内に配
置し、摩耗量に従ってそれらの素子を切り替えて用いる
ことにより、摩耗により磁気抵抗効果型ヘッドの状態が
変わっても安定した再生出力が得られることを見出し
た。
【0012】本発明に係る磁気抵抗効果型磁気ヘッド
は、このような知見に基づいて創案されたものであり、
複数の磁気抵抗効果素子が磁気記録媒体に摺接する面に
対して略直交する方向に並列配置されてなる磁気抵抗効
果素子群と、この磁気抵抗効果素子群を構成する各磁気
抵抗効果素子に各々接続される複数のスイッチング手段
と、磁気抵抗効果素子群を構成する各磁気抵抗効果素子
の摩耗量を検出する摩耗量検出手段とを備えている。
【0013】そして、この磁気抵抗効果型磁気ヘッド
は、摩耗量検出手段により検出された上記磁気抵抗効果
素子の摩耗量に応じてスイッチング手段のオン/オフが
切り換えられることにより、磁気抵抗効果素子群の中か
ら使用する磁気抵抗効果素子が選択されることを特徴と
している。
【0014】この磁気抵抗効果型磁気ヘッドは、磁気記
録媒体に対して接触した状態で使用されると、磁気抵抗
効果素子群を構成する複数の磁気抵抗効果素子のうち、
磁気記録媒体に摺接する面に近い磁気抵抗効果素子から
摩耗していくことになる。
【0015】この磁気抵抗効果素子の摩耗量は、摩耗量
検出手段により検出される。そして、この摩耗量が所定
の値以上になると、この磁気抵抗効果素子に接続される
スイッチング手段がオフ状態に設定され、この磁気抵抗
効果素子が非動作状態とされる。
【0016】一方、摩耗が進行して、磁気記録媒体に摺
接する面から離れた磁気抵抗効果素子が磁気記録媒体に
摺接する面から露出すると、この磁気抵抗効果素子に接
続されるスイッチング手段がオン状態に設定され、この
磁気抵抗効果素子が動作状態とされる。
【0017】更に摩耗が進行し、この磁気抵抗効果素子
の摩耗量が所定の値以上になると、この磁気抵抗効果素
子に接続されるスイッチング手段がオフ状態に設定さ
れ、この磁気抵抗効果素子が非動作状態とされる。
【0018】また、本発明に係る磁気抵抗効果型磁気ヘ
ッドは、スイッチング手段が、摩耗量検出手段により検
出された上記磁気抵抗効果素子の摩耗量に応じてオン/
オフが切り換えられる薄膜トランジスタよりなることが
望ましい。
【0019】この磁気抵抗効果型磁気ヘッドは、磁気抵
抗効果素子の動作状態を薄膜トランジスタにより切り換
えるようにすれば、磁気抵抗効果素子の切り換えに必要
な信号線も大幅に減らすことができ、かつ複雑な付加回
路が不要になる。
【0020】また、本発明に係る磁気抵抗効果型磁気ヘ
ッドは、磁気抵抗効果素子群を複数備え、これら複数の
磁気抵抗効果素子群のうち一の磁気抵抗効果素子群を構
成する各磁気抵抗効果素子が、他の磁気抵抗効果素子群
を構成する各磁気抵抗効果素子の間に位置するように配
設されていることが望ましい。
【0021】磁気抵抗効果素子群は、各磁気抵抗効果素
子の間の隙間が磁気信号を検出することができない不感
部分となる。しかしながら、磁気抵抗効果型磁気ヘッド
は、磁気抵抗効果素子群を複数設け、それぞれの磁気抵
抗効果素子群の磁気抵抗効果素子が互いに他の磁気抵抗
効果素子群の磁気抵抗効果素子間の隙間を埋めるように
して磁気信号を補完し合うようにすれば、欠落のない再
生信号を得ることができる。
【0022】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る磁気抵抗効果
型磁気ヘッドの実施の形態を図面を参照して説明する。
なお、ここでは、一対の基板が磁気シールドの機能を兼
ねるいわゆる基板シールドタイプの磁気抵抗効果型磁気
ヘッドを例に説明するが、本発明に係る磁気抵抗効果型
磁気ヘッドは、この例に限定されるものではなく、軟磁
性薄膜により磁気シールドを行ういわゆる薄膜シールド
タイプの磁気抵抗効果型磁気ヘッドとして構成すること
も可能である。
【0023】この磁気抵抗効果型磁気ヘッド(以下、M
Rヘッド1という。)は、図1に示すように、第1の基
板2と、この第1の基板2上に図示しない絶縁膜を介し
て設けられた磁気抵抗効果素子部3と、磁気抵抗効果素
子部3上に図示しない絶縁膜を介して設けられた第2の
基板4とを備える。このMRヘッド1は、第1の基板2
と第2の基板4との間に絶縁膜よりなるギャップが形成
され、このギャップ中に、磁気抵抗効果素子部3が配設
されている。このMRヘッド1において、ギャップ長を
決定する絶縁膜の厚さは、記録信号の波長に応じて調整
されている。
【0024】第1の基板2は、図1中矢印Aで示す磁気
記録媒体との摺動方向前端側のガード材とMRヘッド1
の下層シールドを兼ねるものである。また、第2の基板
4は、磁気記録媒体との摺動方向後端側のガード材と上
層シールドを兼ねるものである。これら第1の基板2及
び第2の基板4には、フェライト等の酸化物磁性材料が
使用される。
【0025】磁気抵抗効果素子部3は、図2に示すよう
に、MRヘッド1の磁気記録媒体に摺接する面(以下、
媒体摺導面1aという。)に対して略直交する方向に並
列配置された複数の磁気抵抗効果素子(以下、MR素子
5という。)と、これら複数のMR素子5にセンス電流
を供給するための一対の導体部6,7と、これら一対の
導体部6,7のうち一方の導体部6と上記複数のMR素
子5との間に各々設けられた配線パターン8とを備えて
いる。なお、図2においては、4つのMR素子5a,5
b,5c,5dが並列配置され、それぞれのMR素子5
a,5b,5c,5dに配線パターン8a,8b,8
c,8dが接続されたMRヘッド1を図示しているが、
MR素子5の数はこの例に限定されるものではない。ま
た、実際には、MR素子5の両端部にMR素子5の磁区
を安定させるための永久磁石膜が設けられ、導体部6,
7の端部上にこの導体部6,7を外部に導出させるため
の外部端子が設けられるが、ここでは図示及び詳細な説
明を省略する。
【0026】MR素子5は、例えば、磁気抵抗効果を有
する軟磁性膜とこの軟磁性膜にSALバイアス方式によ
ってバイアス磁界を印加するためのSAL膜とが積層さ
れてなる。SAL膜は、磁気抵抗効果を有する軟磁性膜
にバイアス磁界を印加することにより、検出信号の直線
性を高める働きをする。なお、本発明に係るMRヘッド
1のMR素子5は、以上のようなSALバイアス方式の
ものに限定されるものではなく、例えば、スピンバルブ
効果を利用したMR素子や強磁性トンネル効果を利用し
たMR素子であってもよい。
【0027】配線パターン8a,8b,8c,8dは、
例えば薄膜形成工程により形成され、導体部6とMR素
子5a,5b,5c,5dとの導通状態を切り換える薄
膜トランジスタ9a,9b,9c,9dと、MRヘッド
1の摩耗量に応じて抵抗値が変化する可変抵抗10a,
10b,10c,10dと、固定抵抗11a,11b,
11c,11dとをそれぞれ有している。そして、可変
抵抗10a,10b,10c,10d及び固定抵抗11
a,11b,11c,11dとにより、MR素子5a,
5b,5c,5dの摩耗量を検出する摩耗量検出部がそ
れぞれ構成されている。
【0028】薄膜トランジスタ9a,9b,9c,9d
としては、例えば電解効果型トランジスタが用いられ
る。また、この薄膜トランジスタ9a,9b,9c,9
dは、非晶質シリコンを用いたものであってもよいし、
多結晶シリコン、あるいは化合物半導体を用いたもので
もよい。
【0029】この磁気抵抗効果素子部3の等価回路を図
3に示す。この図3に示すように、配線パターン8aの
可変抵抗10aと固定抵抗11aは、薄膜トランジスタ
9aのゲートに接続されている。また、薄膜トランジス
タ9aのソースは導体部6に接続され、ドレインはMR
素子5aに接続されている。以下、配線パターン8b,
8c,8dも、この配線パターン8aと同様の構成とさ
れる。
【0030】以上のように構成されたMRヘッド1は、
媒体摺導面1aが摩耗すると、媒体摺導面1aに最も近
い第1のMR素子5aに接続された配線パターン8aの
可変抵抗10aの抵抗値が増加し、固定抵抗11aと可
変抵抗10aの比及び供給電圧に従って、薄膜トランジ
スタ9aのゲート電圧が上昇する。そして、例えば可変
抵抗10aが断線する等により、可変抵抗10aの抵抗
値が一定の値以上になったとき、薄膜トランジスタ9a
のゲート電圧がしきい値を越えて薄膜トランジスタ9a
がオンとなり、薄膜トランジスタ9aのドレインとソー
ス間に電流が流れる。これにより、第1のMR素子5a
にセンス電流が供給され、第1のMR素子5aが動作す
る。
【0031】そして、このMRヘッド1は、更に摩耗が
進行すると、配線パターン8aが断線して、第1のMR
素子5aへのセンス電流の供給が遮断される。これによ
り、第1のMR素子5aは非動作状態とされる。
【0032】そして、このMRヘッド1は、更に摩耗が
進行すると、第2のMR素子5bに接続された配線パタ
ーン8bの可変抵抗10bの抵抗値が増加し、固定抵抗
11bと可変抵抗10bの比及び供給電圧に従って、薄
膜トランジスタ9bのゲート電圧が上昇する。そして、
例えば可変抵抗10bが断線する等により、可変抵抗1
0bの抵抗値が一定の値以上になったとき、薄膜トラン
ジスタ9bのゲート電圧がしきい値を越えて薄膜トラン
ジスタ9bがオンとなり、薄膜トランジスタ9bのドレ
インとソース間に電流が流れる。これにより、第2のM
R素子5bにセンス電流が供給され、第2のMR素子5
bが動作する。
【0033】このMRヘッド1は、摩耗に応じて以上の
動作を繰り返すことにより、第1乃至第4のMR素子5
a,5b,5c,5dが順次切り換えられて用いられ
る。したがって、このMRヘッド1は、例えばヘリカル
スキャン方式の記録再生装置に適用した場合のように摩
耗の激しい環境で用いられても、長時間動作することが
可能である。
【0034】ところで、MR素子5を一定電流で駆動す
る場合、MR素子5が摩耗して抵抗値が増加すると、M
R素子5に供給される電力が増加し、MR素子5や配線
パターン8が断線等を起こす場合がある。したがって、
MRヘッド1は、動作中のMR素子5の素子高さが小さ
くなりすぎないうちに、このMR素子5への導通を遮断
することが好ましい。
【0035】これを実現したMRヘッド20の要部を図
4及び図5に示す。図4はこのMRヘッド20の磁気抵
抗効果素子部21の平面図であり、図5はこの磁気抵抗
効果素子部21の等価回路を示す図である。このMRヘ
ッド20は、磁気抵抗効果素子部21の配線パターン8
が第1の摩耗量検出部22と第2の摩耗量検出部23と
を備えている点を特徴としている。なお、ここでは、図
4及び図5中、媒体摺導面20aに最も近い第1のMR
素子5aをMR素子5として総称し、このMR素子5に
接続された配線パターン8aを配線パターン8と総称し
て説明する。
【0036】第1の摩耗量検出部22は、MRヘッド2
0の摩耗量に応じて抵抗値が変化する第1の可変抵抗2
4と、基準となる第1の固定抵抗25とを有している。
同様に、第2の摩耗量検出部23は、MRヘッド20の
摩耗量に応じて抵抗値が変化する第2の可変抵抗26
と、基準となる第2の固定抵抗27とを有している。第
1の摩耗量検出部22は、第2の摩耗量検出部23より
も媒体摺導面20a側に配設されている。そして、第1
の可変抵抗24と第1の固定抵抗25、第2の可変抵抗
26と第2の固定抵抗27は共に薄膜トランジスタ9の
ゲートに接続されている。
【0037】以上のように構成されたMRヘッド20
は、媒体摺導面20aが摩耗すると、媒体摺導面20a
に最も近いMR素子5の第1の摩耗量検出部22の第1
の可変抵抗24の抵抗値が増加し、第1の固定抵抗25
と第1の可変抵抗24の比及び供給電圧に従って、薄膜
トランジスタ9のゲート電圧が上昇する。そして、例え
ば第1の可変抵抗24が断線する等により、第1の可変
抵抗24の抵抗値が一定の値以上になったとき、薄膜ト
ランジスタ9のゲート電圧がしきい値を越えて薄膜トラ
ンジスタ9がオンとなり、薄膜トランジスタ9のドレイ
ンとソース間に電流が流れる。これにより、MR素子5
にセンス電流が供給され、MR素子5が動作する。
【0038】そして、このMRヘッド20は、更に摩耗
が進行すると、第2の摩耗量検出部23の第2の可変抵
抗26の抵抗値が増加し、第2の固定抵抗27と第2の
可変抵抗26の比及び供給電圧に従って、薄膜トランジ
スタ9のゲート電圧が下降する。そして、例えば第2の
可変抵抗26が断線する等により、第2の可変抵抗26
の抵抗値が一定の値以上になったとき、薄膜トランジス
タ9のゲート電圧がしきい値以下となって薄膜トランジ
スタ9がオフになる。これにより、MR素子5への導通
が遮断され、MR素子5が非動作状態とされる。
【0039】このMRヘッド20は、以上のように、摩
耗が進行してMR素子5の素子高さがある程度小さくな
った時点で、薄膜トランジスタ9をオフにしてMR素子
5への導通を遮断するようにしているので、MR素子5
が一定電流で駆動される場合であっても、MR素子5の
抵抗値増加による断線等を防止することができる。
【0040】ところで、以上のように構成されたMRヘ
ッド20は、図6に示すように、摩耗したMR素子への
導通を遮断してから次のMR素子を導通状態にするまで
に所定時間を要する。したがって、MRヘッド20は、
この切り換えの期間中は、いずれのMR素子も動作しな
いこととなり、再生出力が図6中破線で示す基準値を下
回る。
【0041】このような不都合を解消し、常に基準値以
上の再生出力が得られるようにして連続的な使用を可能
にしたMRヘッド31を図7に示す。このMRヘッド3
1は、上述したMRヘッド20の備える磁気抵抗効果素
子部21を軟磁性膜32を挟んで二層に積層した点を特
徴としている。
【0042】そして、このMRヘッド31においては、
上層の磁気抵抗効果素子部21aの備える複数のMR素
子5が、下層の磁気抵抗効果素子部21bの備える複数
のMR素子5間の隙間にそれぞれ位置するように、上層
の磁気抵抗効果素子部21aと下層の磁気抵抗効果素子
部21bとの位置関係が決定されている。すなわち、こ
のMRヘッド31は、上層の磁気抵抗効果素子部21a
の備えるMR素子5と下層の磁気抵抗効果素子部21b
の備えるMR素子5とが、MR素子5間の隙間を相互に
補完するようになされている。
【0043】このMRヘッド31は、上層の磁気抵抗効
果素子部21aの備えるMR素子5の出力と下層の磁気
抵抗効果素子部21bの備えるMR素子5の出力とを比
較して、出力の大きい方のMR素子5の出力を再生出力
として検出するようにすれば、図8に示すように、再生
出力を常に図8中波線で示す基準値以上に保つことがで
きる。
【0044】このMRヘッド31を作製する際は、ま
ず、図9に示すように、下層ギャップとなる絶縁層が形
成されたフェライト等よりなる第1の基板2上に、下層
の磁気抵抗効果素子部21bを薄膜形成し、更に上層ギ
ャップとなる絶縁層を形成する。同様に、下層ギャップ
となる絶縁層が形成されたフェライト等よりなる第2の
基板4上に、上層の磁気抵抗効果素子部21aを薄膜形
成し、更に上層ギャップとなる絶縁層を形成する。
【0045】そして、図10に示すように、下層の磁気
抵抗効果素子部21bが形成された第1の基板2と上層
の磁気抵抗効果素子部21aが形成された第2の基板4
とを、軟磁性膜を挟んで貼り合わせる。このとき、上層
の磁気抵抗効果素子部21aの備える複数のMR素子5
が、下層の磁気抵抗効果素子部21bの備える複数のM
R素子5間の隙間にそれぞれ位置するように、第1の基
板2と第2の基板4とを貼り合わせる。
【0046】このMRヘッド31は、以上のように磁気
抵抗効果素子部21a,21bが形成された一対の基板
2,4を貼り合わせることで作製されるので、作製が容
易である。また、このMRヘッド31は、基板材料とし
てフェライトを使用することにより、偏摩耗を抑制し
て、特に短波長の再生特性を良好にすることができる。
【0047】なお、以上は、磁気抵抗効果素子部21を
軟磁性膜32を挟んで二層に積層した例について説明し
たが、MRヘッド31は、図11及び図12に示すよう
に、一対の導体部6,7を共通にして、MR素子5及び
配線パターン8のみが絶縁層33を挟んで積層されるよ
うにしても同様の効果が得られる。
【0048】MRヘッド31は、このように、MR素子
5及び配線パターン8のみが絶縁層33を挟んで積層さ
れる構成とすれば、上層の磁気抵抗効果素子部21aと
下層の磁気抵抗効果素子部21bとの位置合わせを正確
に行うことができると共に、製造工程数が削減されて製
造がより容易となる。
【0049】なお、以上のように構成されるMRヘッド
31は、MR素子5を切り換える過程で2つのMR素子
5に同時に電流が流れる状況が生じ、動作が不安定にな
る場合がある。そこで、MRヘッド31においては、図
13に示すように、配線パターン8に整流素子34を設
け、上層のMR素子5に電流を供給する場合と、下層の
MR素子5に電流を供給する場合とで電流を流す方向を
反転させることで、上層のMR素子5または下層のMR
素子5のいずれか一方にのみ電流が供給されるようにす
ることが望ましい。
【0050】MR素子5は、以上のような回路構成とす
ることにより、上層のMR素子5と下層のMR素子5の
双方に同時に電流が供給されるという不都合が解消さ
れ、動作状態を安定化させることができる。
【0051】
【発明の効果】本発明に係る磁気抵抗効果型磁気ヘッド
は、複数の磁気抵抗効果素子が磁気記録媒体に摺接する
面に対して略直交する方向に並列配置されてなる磁気抵
抗効果素子群を備え、摩耗量検出手段により検出された
摩耗量に応じて磁気抵抗効果素子群を構成する複数の磁
気抵抗効果素子に接続されたスイッチング手段のオン/
オフを切り換えて、磁気抵抗効果素子群の中から使用す
る磁気抵抗効果素子を選択するようにしているので、摩
耗の激しい環境で用いられても、長時間動作することが
可能である。
【0052】また、この磁気抵抗効果型磁気ヘッドは、
スイッチング手段を、摩耗量検出手段により検出された
上記磁気抵抗効果素子の摩耗量に応じてオン/オフが切
り換えられる薄膜トランジスタより構成することによ
り、磁気抵抗効果素子の切り換えに必要な信号線も大幅
に減らすことができ、かつ複雑な付加回路が不要にな
る。
【0053】また、この磁気抵抗効果型磁気ヘッドは、
磁気抵抗効果素子群を複数備え、これら複数の磁気抵抗
効果素子群のうち一の磁気抵抗効果素子群を構成する各
磁気抵抗効果素子が、他の磁気抵抗効果素子群を構成す
る各磁気抵抗効果素子の間に位置するように配設すれ
ば、それぞれの磁気抵抗効果素子群の磁気抵抗効果素子
が互いに他の磁気抵抗効果素子群の磁気抵抗効果素子間
の隙間を埋めるようにして磁気信号を補完し合い、欠落
のない再生信号を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るMRヘッドを一部切り欠いて示す
斜視図である。
【図2】上記MRヘッドの磁気抵抗効果素子部を示す平
面図である。
【図3】上記磁気抵抗効果素子部の等価回路を示す図で
ある。
【図4】磁気抵抗効果素子部の他の例を示す平面図であ
る。
【図5】上記磁気抵抗効果素子部の等価回路を示す図で
ある。
【図6】上記MRヘッドの摩耗量と再生出力との関係を
説明する図である。
【図7】MRヘッドの他の例を一部切り欠いて示す斜視
図である。
【図8】上記MRヘッドの摩耗量と再生出力との関係を
説明する図である。
【図9】上記MRヘッドを作製する工程を説明する図で
あり、第1の基板上に下層の磁気抵抗効果素子部を薄膜
形成した状態を示す斜視図である。
【図10】上記MRヘッドを作製する工程を説明する図
であり、下層の磁気抵抗効果素子部が薄膜形成された第
1の基板と、上層の磁気抵抗効果素子部が薄膜形成され
た第2の基板とを貼り合わせた状態を示す斜視図であ
る。
【図11】MRヘッドの他の例を一部切り欠いて示す斜
視図である。
【図12】上記MRヘッドの断面図である。
【図13】上記MRヘッドの磁気抵抗効果素子部の等価
回路を示す図である。
【符号の説明】
1,20,31 MRヘッド、2 第1の基板、3 磁
気抵抗効果素子部、4第2の基板、5 MR素子、6,
7 導体部、8 摩耗量検出パターン、9薄膜トランジ
スタ、10 可変抵抗、11 固定抵抗

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の磁気抵抗効果素子が磁気記録媒体
    に摺接する面に対して略直交する方向に並列配置されて
    なる磁気抵抗効果素子群と、 上記磁気抵抗効果素子群を構成する各磁気抵抗効果素子
    に各々接続される複数のスイッチング手段と、 上記磁気抵抗効果素子群を構成する各磁気抵抗効果素子
    の摩耗量を検出する摩耗量検出手段とを備え、 上記摩耗量検出手段により検出された上記磁気抵抗効果
    素子の摩耗量に応じて上記スイッチング手段のオン/オ
    フが切り換えられることにより、上記磁気抵抗効果素子
    群の中から使用する磁気抵抗効果素子が選択されること
    を特徴とする磁気抵抗効果型磁気ヘッド。
  2. 【請求項2】 上記スイッチング手段は、上記摩耗量検
    出手段により検出された上記磁気抵抗効果素子の摩耗量
    に応じてオン/オフが切り換えられる薄膜トランジスタ
    よりなることを特徴とする請求項1記載の磁気抵抗効果
    型磁気ヘッド。
  3. 【請求項3】 上記摩耗量検手段は、上記磁気抵抗効果
    素子の摩耗量に応じて抵抗値が変化する複数の抵抗素子
    を備え、 上記薄膜トランジスタは、上記複数の抵抗素子の抵抗値
    に応じてオン/オフが切り換えられることを特徴とする
    請求項2記載の磁気抵抗効果型磁気ヘッド。
  4. 【請求項4】 上記磁気抵抗効果素子群を複数備えるこ
    とを特徴とする請求項1記載の磁気抵抗効果型磁気ヘッ
    ド。
  5. 【請求項5】 上記複数の磁気抵抗効果素子群のうち一
    の磁気抵抗効果素子群を構成する各磁気抵抗効果素子
    が、他の磁気抵抗効果素子群を構成する各磁気抵抗効果
    素子の間に位置するように配設されていることを特徴と
    する請求項4記載の磁気抵抗効果型磁気ヘッド。
  6. 【請求項6】 一対の基板のうち少なくとも一方の基板
    上に上記磁気抵抗効果素子群と上記スイッチング手段と
    上記摩耗量検出手段とがそれぞれ薄膜形成されてなる一
    対の磁気ヘッド半体が接合一体化されてなることを特徴
    とする請求項1記載の磁気抵抗効果型磁気ヘッド。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6829158B2 (en) * 2001-08-22 2004-12-07 Motorola, Inc. Magnetoresistive level generator and method
US6956763B2 (en) 2003-06-27 2005-10-18 Freescale Semiconductor, Inc. MRAM element and methods for writing the MRAM element
US6967366B2 (en) 2003-08-25 2005-11-22 Freescale Semiconductor, Inc. Magnetoresistive random access memory with reduced switching field variation
US7129098B2 (en) 2004-11-24 2006-10-31 Freescale Semiconductor, Inc. Reduced power magnetoresistive random access memory elements
US7184300B2 (en) 2001-10-16 2007-02-27 Freescale Semiconductor, Inc. Magneto resistance random access memory element
US7465589B2 (en) 2002-07-17 2008-12-16 Everspin Technologies, Inc. Multi-state magnetoresistance random access cell with improved memory storage density

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