JPH11315132A - 光ディスク用紫外線硬化型組成物及びこれを用いた光ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 記録層を有する２枚の基板を貼り合わせる際
に使用する接着剤であって、高温多湿条件においてアル
ミニウム等から成る反射膜及び記録膜を腐食することが
なく、且つ、均一で透明な接着剤層を形成する光ディス
ク用紫外線硬化型組成物を提供すること。 【解決手段】 記録層を有する２枚の基板を記録層側を
内側にして貼り合わせる際に使用する紫外線硬化型組成
物において、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂組成物
（Ａ）、光カチオン重合開始剤（Ｂ）を含有し、且つ前
記エポキシ樹脂組成物（Ａ）中の塩素の量が１重量％以
下である紫外線硬化型組成物。記録層を有する２枚の基
板を記録層側を内側にして上記紫外線硬化型組成物を接
着剤として用いて貼り合わせた光ディスク。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも１枚の
基板に記録層を有する２枚の基板を貼り合わせる際に使
用する光ディスク用紫外線硬化型組成物及びこれを接着
剤として貼り合わせた光ディスクに関する。

【０００２】

【従来の技術】最近、光ディスクの中でも高密度大容量
の情報を記録できるデジタルバーサタイルディスク又は
デジタルビデオディスク（ＤＶＤ）が注目されている。
ＤＶＤでは、高密度化のために、記録層を有する２枚の
基板を貼り合わせる構造がとられている。２枚の基板を
貼り合わせる接着剤としては、ホットメルト型接着剤、
ラジカル重合系の紫外線硬化型接着剤、又はカチオン重
合系の紫外線硬化型接着剤などが提案されている。

【０００３】ホットメルト型接着剤は、主に熱可塑性樹
脂を使用するため、耐熱性に劣り、熱によりディスクの
変形やはがれが生じやすい問題がある。また、ラジカル
重合系の紫外線硬化型接着剤は、基板、金属反射膜や記
録膜を介して紫外線を照射するため、接着剤に十分な紫
外線が到達せず、硬化するのに強度の高い紫外線を必要
としたり、硬化時間に長時間を要する、また、通常の強
度の紫外線では十分に硬化しない等の問題がある。

【０００４】一方、カチオン重合系の紫外線硬化型接着
剤は、一度紫外線を照射すると、暗所でも硬化が進行す
るので、ラジカル重合系の紫外線硬化型接着剤では不可
能であった紫外線不透過性の被接着物の接着が可能にな
る。この特徴を利用して、特開昭６１−１６５８４２号
公報、特開昭６２−１２９９５７号公報及び特開昭６３
−７８３５１号公報等には、グリシジル基を有するビス
フェノール型エポキシ樹脂、脂肪族ポリオールポリグリ
シジルエーテル型エポキシ樹脂や脂環式エポキシ樹脂と
光カチオン重合開始剤を用いたカチオン重合系の紫外線
硬化型接着剤が開示されている。また、特開平７−１２
６５７７号公報、特開平９−６９２３９号公報には、基
板に該接着剤を塗布し、紫外線を照射した後、もう一方
の基板を貼り合わせる光ディスクの製造方法が提案され
ている。この方法により製造された接着剤層は、十分に
硬化し、ホットメルト型接着剤よりも耐熱性の高い膜と
なる。

【０００５】しかしながら、これらのカチオン重合系の
紫外線硬化型接着剤には、光カチオン重合開始剤を用い
られているので、光カチオン重合開始剤又はその分解物
により、高温多湿条件下で、光ディスクのアルミニウム
等の反射膜や記録膜に腐食が生じるという問題点を有し
ていた。

【０００６】このような腐食を防止する目的で、特開平
９−６９２３９号公報には、ラジカル重合系紫外線硬化
型樹脂からなる保護膜を形成する方法が開示されてい
る。また、特開平９−２４９７３４号公報には、ビスフ
ェノール型エポキシ樹脂及び末端水酸基を有する脂環式
多官能エポキシ樹脂からなる混合物に、イオン交換体を
添加することにより、光カチオン重合開始剤に起因する
腐食成分を捕捉する試みが開示されている。

【０００７】しかしながら、前者の方法では、高温多湿
条件下に長時間暴露されると、反射膜や記録膜に腐食が
生じるので、未だ十分に満足できるものではなかった。

【０００８】また、後者の方法においては、イオン交換
体が無機粒子であるために、後者の方法に用いる保護膜
は、白色不透明なものとなり、ＤＶＤ−９方式の如き光
ディスクの片面から２層の情報を読み出す方式の光ディ
スクに適用できない、という問題点とあり、該樹脂組成
物の保管中にイオン交換体の沈降や凝集が生じる、とい
う問題点があった。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来の
光カチオン重合開始剤を用いたカチオン重合系の紫外線
硬化型接着剤は、同開始剤に起因するアルミニウム等の
反射膜に腐食が生じ、保護膜やイオン交換体を使用する
ことによって、これらの問題点を防止しようとするもの
であるが、該接着剤の性能は未だ満足できるものではな
かった。

【００１０】本発明が解決しようとする課題は、記録層
を有する２枚の基板を貼り合わせる際に使用する接着剤
であって、高温多湿条件においてアルミニウム等から成
る反射膜及び記録膜を腐食することがなく、且つ、均一
で透明な接着剤層を形成する光ディスク用紫外線硬化型
組成物及びこれを用いた光ディスクを提供することにあ
る。

【００１１】

【課題を解決するための手段】光カチオン重合開始剤を
用いた従来のカチオン重合系の紫外線硬化型接着剤に
は、主にグリシジルエーテル型エポキシ樹脂が使用され
ており、アルミニウム等の反射膜の腐食は、光カチオン
重合開始剤に起因するとされていた。しかしながら、本
発明者らは、該エポキシ樹脂に含まれる塩素系不純物が
アルミニウム等の反射膜や記録膜の腐食の原因となって
いること、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂組成物
（Ａ）及び光カチオン重合開始剤（Ｂ）からなる紫外線
硬化型組成物において、該エポキシ樹脂組成物（Ａ）中
の塩素量が１重量％以下とすることによって、反射膜お
よび記録膜の腐食を防止できること、を見出し、本発明
を完成するに至った。

【００１２】また、本発明者らは、カチオン重合系の紫
外線硬化型接着剤において、該接着剤に紫外線を照射し
た後、接着剤を基板面に塗布し、次いで、他方の基板と
貼り合わせる方法において、該接着剤に紫外線を照射し
た後、一定時間液状を保持し、次いで接着、硬化する特
性を付与するには、ビスフェノール型ジグリシジルエー
テルと脂肪族ジオールジグリシジルエーテルとを組み合
わせることが好ましいこと、さらに、これらのカチオン
重合系の紫外線硬化型接着剤において、オキセタン環を
有する化合物を共存させることにより、貼り合わせ端面
の硬化が特に効果的に進行すること、を見出し、本発明
を完成するに至った。

【００１３】即ち、本発明は上記課題を解決するため
に、 （１） 記録層を有する２枚の基板を記録層側を内側に
して貼り合わせる際に使用する紫外線硬化型組成物にお
いて、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂組成物
（Ａ）、光カチオン重合開始剤（Ｂ）を含有し、且つ前
記エポキシ樹脂組成物（Ａ）中の塩素の量が１重量％以
下であることを特徴とする紫外線硬化型組成物、

【００１４】（２） グリシジルエーテル型エポキシ樹
脂組成物（Ａ）が、（Ａ−１）ビスフェノール型ジグリ
シジルエーテル及び（Ａ−２）脂肪族ジオールジグリシ
ジルエーテルからなるエポキシ樹脂組成物である上記
（１）記載の紫外線硬化型組成物、

【００１５】（３） ビスフェノール型ジグリシジルエ
ーテル（Ａ−１）が、水添ビスフェノールＡジグリシジ
ルエーテルであり、且つ脂肪族ジオールジグリシジルエ
ーテル（Ａ−２）が、プロピレングリコールジグリシジ
ルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエー
テル、ブタンジオールジグリシジルエーテル、ヘキサン
ジオールジグリシジルエーテル及びシクロヘキサンジメ
タノールジグリシジルエーテルからなる群から選ばれる
１種類以上の化合物である上記（２）記載の紫外線硬化
型組成物、

【００１６】（４） 光カチオン重合開始剤（Ｂ）が、
そのカチオン部分が、芳香族スルホニウム、芳香族ヨー
ドニウム、芳香族ジアゾニウム、芳香族アンモニウム及
び（２，４−シクロペンタジエン−１−イル）［（１−
メチルエチル）ベンゼン］−Ｆｅカチオンから成る群か
ら選ばれ、アニオン部分が、一般式［ＢＸ₄］^-（ただ
し、Ｘは少なくとも２つ以上のフッ素又はトリフルオロ
メチル基で置換されたフェニル基）で構成されるオニウ
ム塩である上記（１）〜（３）の何れかに記載の紫外線
硬化型組成物、

【００１７】（５） さらにオキセタン環を有する化合
物（Ｃ）を含有する上記（１）〜（４）の何れかに記載
の紫外線硬化型組成物、

【００１８】（６） 記録層を有する２枚の基板を記録
層側を内側にして接着剤を用いて貼り合わせた光ディス
クにおいて、該接着剤が上記（１）〜（５）の何れかに
記載の紫外線硬化型組成物である光ディスク、

【００１９】（７） 記録層を有する２枚の基板を記録
層側を内側にして接着剤を用いて貼り合わせる光ディス
クの製造方法において、該接着剤として上記（１）〜
（５）の何れかに記載の紫外線硬化型組成物を用い、紫
外線を照射しながら該接着剤を少なくとも一方の基板の
貼り合わせる側の面にリング状に滴下した後、２枚の基
板を重ね合わせ、次いで高速回転させることによって該
接着剤を展延することを特徴とする光ディスクの製造方
法、

【００２０】（８） 記録層を有する２枚の基板を記録
層側を内側にして接着剤を用いて貼り合わせる光ディス
クの製造方法において、該接着剤として上記（１）〜
（５）の何れかに記載の紫外線硬化型組成物を用い、紫
外線を照射しながら該接着剤を２枚の基板の貼り合わせ
る側の面にリング状に滴下した後、２枚の基板を重ね合
わせ、次いで自重又は加圧によって該接着剤を展延する
ことを特徴とする光ディスクの製造方法、

【００２１】（９） 記録層を有する２枚の基板を記録
層側を内側にして接着剤を用いて貼り合わせた光ディス
クの製造方法において、該接着剤として上記（１）〜
（５）の何れかに記載の紫外線硬化型組成物を用い、該
接着剤を少なくとも一方の基板の貼り合わせる側の面に
リング状に滴下し、紫外線を照射した後、２枚の基板を
重ね合わせ、高速回転させることによって該接着剤を展
延することを特徴とする光ディスクの製造方法、及び

【００２２】（１０） 記録層を有する２枚の基板を記
録層側を内側にして接着剤を用いて貼り合わせた光ディ
スクの製造方法において、該接着剤として上記（１）〜
（５）の何れかに記載の紫外線硬化型組成物を用い、該
接着剤を２枚の基板の貼り合わせる面にリング状に滴下
し、両方の基板に紫外線を照射した後、２枚の基板を重
ね合わせ、次いで自重又は加圧によって該接着剤を展延
することを特徴とする光ディスクの製造方法を提供す
る。

【００２３】

【発明の実施の形態】本発明で使用するグリシジルエー
テル型エポキシ樹脂組成物（Ａ）は、１種類以上のグリ
シジルエーテル型エポキシ樹脂から構成されるものであ
る。グリシジルエーテル型エポキシ樹脂は、多価フェノ
ール系化合物又は多価アルコールとエピクロルヒドリン
との反応によって製造することができる。

【００２４】エポキシ樹脂は、通常、原料であるエピク
ロルヒドリンに起因して、塩素が結合した有機分子を不
純物として含有する。特に、アルコールエーテル系エポ
キシ樹脂は、多量の塩素系不純物を含有する。

【００２５】本発明の紫外線硬化型組成物において、グ
リシジルエーテル型エポキシ樹脂組成物（Ａ）中の塩素
の量を１重量％以下とすることが必須である。そのため
には、少なくとも、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂
組成物（Ａ）の原料となる各化合物中の塩素の総量を１
重量％以下とする必要がある。

【００２６】エポキシ樹脂中に含まれる塩素は、有機分
子中に有する結合塩素を金属ナトリウムによって強制的
に分解し、遊離した塩素を滴定又は逆滴定によって測定
した値であり、エポキシ樹脂組成物中に含まれる全塩素
量を示すものである。

【００２７】本発明で使用するグリシジルエーテル型エ
ポキシ樹脂（Ａ）は、樹脂中の塩素の量が１重量％以下
であれば特に制限がなく使用できる。グリシジルエーテ
ル型エポキシ樹脂は、ビスフェノール型ジグリシジルエ
ーテル、ノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族ポリオール
ポリグリシジルエーテル等に大別される。

【００２８】ビスフェノール型ジグリシジルエーテルと
しては、例えば、ビスフェノールＡ或いはそのアルキレ
ンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、ビスフェ
ノールＦ或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジグ
リシジルエーテル、水素添加ビスフェノールＡ或いはそ
のアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル
などが挙げられる。

【００２９】ノボラック型エポキシ樹脂としては、例え
ば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ｏ−クレゾ
ールノボラック型エポキシ樹脂、ジフェニロールプロパ
ンノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンフ
ェノール型エポキシ樹脂、などが挙げられる。

【００３０】脂肪族ポリオールポリグリシジルエーテル
としては、例えば、エチレングリコールジグリシジルエ
ーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、
ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ブタン
ジオールジグリシジルエーテル、ヘキサンジオールジグ
リシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジグリ
シジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジ
ルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエー
テル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテ
ル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペ
ンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビ
トールヘプタグリシジルエーテル、ソルビトールヘキサ
グリシジルエーテルなどが挙げられる。

【００３１】その他のグリシジルエーテル型エポキシ樹
脂としては、例えば、レゾルシンジグリシジルエーテル
などが挙げられる。

【００３２】これらのグリシジルエーテル型エポキシ樹
脂の中でも、（Ａ−１）ビスフェノール型ジグリシジル
エーテルと（Ａ−２）脂肪族ジオールジグリシジルエー
テルとの組み合わせからなるグリシジルエーテル型エポ
キシ樹脂組成物が好ましい。また、この組み合わせの中
でも、（Ａ−１）水添ビスフェノールＡジグリシジルエ
ーテルと、（Ａ−２）プロピレングリコールジグリシジ
ルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエー
テル、ブタンジオールジグリシジルエーテル、ヘキサン
ジオールジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタ
ノールジグリシジルエーテルからなる群より選ばれる１
種類以上の脂肪族ジオールジグリシジルエーテルとの組
み合わせからなるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂組
成物が、光ディスク用紫外線硬化型組成物として用いた
場合に、高温多湿条件における反射膜や記録膜の防食効
果が高く、吸水率が低いので、特に好ましい。

【００３３】塩素含有量が１重量％以下の脂肪族ポリオ
ールジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂は、市販品と
して入手することもでき、例えば、ＮＰＧ−ＤＧＥ低塩
素品（阪本薬品(株)製のネオペンチルジグリシジルエー
テル、全塩素量＝０．９１重量％）、１６Ｈ−ＤＧＥ低
塩素品（阪本薬品(株)製のヘキサンジオールジグリシジ
ルエーテル、全塩素量＝０．４９重量％）、ＣＨＤＭ−
ＤＧＥ低塩素品（ナガセ化成(株)製のシクロヘキサンジ
メタノールジグリシジルエーテル、全塩素量＝０．１９
重量％）、などが挙げられる。

【００３４】また、例えば、塩素系不純物が低いビスフ
ェノールＡグリシジルエーテル（例えば、エピクロン８
５０Ｓ、大日本インキ化学工業(株)、全塩素量＝０．１
４重量％）をルテニウム触媒等で水素添加することによ
って、塩素系不純物が低い（全塩素量＝０．１４重量
％）水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテルを得る
こともできる。

【００３５】本発明に使用する光カチオン重合開始剤
（Ｂ）は、紫外線の照射によってエポキシ基のカチオン
重合を開始する化合物であり、例えば、（１）芳香族ス
ルホニウム、芳香族ヨードニウム、芳香族ジアゾニウ
ム、芳香族アンモニウム、（２，４−シクロペンタジエ
ン−１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−Ｆ
ｅカチオンから成る群から選ばれるカチオンと、（２）
ＢＦ₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＳｂＦ₆ ^-、一般式［ＢＸ₄］^-（式中、
Ｘはベンゼン環上の少なくとも２つ以上の水素原子がフ
ッ素又はトリフルオロメチル基で置換されたフェニル基
を表わす。）から成る群から選ばれるアニオンとから構
成されるオニウム塩が挙げられる。

【００３６】芳香族スルホニウム塩系の光カチオン重合
開始剤としては、例えば、ビス［４−（ジフェニルスル
ホニオ）フェニル］スルフィド ビスヘキサフルオロホ
スフェート、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェ
ニル］スルフィド ビスヘキサフルオロアンチモネー
ト、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］ス
ルフィド ビステトラフルオロボレート、ビス［４−
（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド テト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジフェニ
ル−４−（フェニルチオ）フェニルスルホニウム ヘキ
サフルオロホスフェート、ジフェニル−４−（フェニル
チオ）フェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモ
ネート、ジフェニル−４−（フェニルチオ）フェニルス
ルホニウムテトラフルオロボレート、ジフェニル−４−
（フェニルチオ）フェニルスルホニウム テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルス
ルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニル
スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェ
ニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニ
ルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）
ボレート、ビス［４−（ジ（４−（２−ヒドロキシエト
キシ））フェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド
ビスヘキサフルオロホスフェート、ビス［４−（ジ（４
−（２−ヒドロキシエトキシ））フェニルスルホニオ）
フェニル］スルフィド ビスヘキサフルオロアンチモネ
ート、ビス［４−（ジ（４−（２−ヒドロキシエトキ
シ））フェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド ビ
ステトラフルオロボレート、ビス［４−（ジ（４−（２
−ヒドロキシエトキシ））フェニルスルホニオ）フェニ
ル］スルフィド テトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、などが挙げられる。

【００３７】芳香族ヨードニウム塩系の光カチオン重合
開始剤としては、例えば、ジフェニルヨードニウム ヘ
キサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウ
ム テトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウム
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビ
ス（ドデシルフェニル）ヨードニウム ヘキサフルオロ
ホスフェート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ドデシルフェ
ニル）ヨードニウム テトラフルオロボレート、ビス
（ドデシルフェニル）ヨードニウム テトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレート、４−メチルフェニル−
４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム ヘキ
サフルオロホスフェート、４−メチルフェニル−４−
（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム ヘキサフ
ルオロアンチモネート、４−メチルフェニル−４−（１
−メチルエチル）フェニルヨードニウム テトラフルオ
ロボレート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエ
チル）フェニルヨードニウム テトラキス（ペンタフル
オロフェニル）ボレート、などが挙げられる。

【００３８】芳香族ジアゾニウム塩系の光カチオン重合
開始剤としては、例えば、フェニルジアゾニウム ヘキ
サフルオロホスフェート、フェニルジアゾニウム ヘキ
サフルオロアンチモネート、フェニルジアゾニウム テ
トラフルオロボレート、フェニルジアゾニウム テトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、などが挙げ
られる。

【００３９】芳香族アンモニウム塩系の光カチオン重合
開始剤としては、例えば、１−ベンジル−２−シアノピ
リジニウム ヘキサフルオロホスフェート、１−ベンジ
ル−２−シアノピリジニウム ヘキサフルオロアンチモ
ネート、１−ベンジル−２−シアノピリジニウム テト
ラフルオロボレート、１−ベンジル−２−シアノピリジ
ニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、１−（ナフチルメチル）−２−シアノピリジニウム
ヘキサフルオロホスフェート、１−（ナフチルメチ
ル）−２−シアノピリジニウム ヘキサフルオロアンチ
モネート、１−（ナフチルメチル）−２−シアノピリジ
ニウム テトラフルオロボレート、１−（ナフチルメチ
ル）−２−シアノピリジニウム テトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレート、などが挙げられる。

【００４０】（２，４−シクロペンタジエン−１−イ
ル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−Ｆｅ塩系の光
カチオン重合開始剤としては、例えば、（２，４−シク
ロペンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチル）ベ
ンゼン］−Ｆｅ（II）ヘキサフルオロホスフェート、
（２，４−シクロペンタジエン−１−イル）［（１−メ
チルエチル）ベンゼン］−Ｆｅ（II）ヘキサフルオロア
ンチモネート、２，４−シクロペンタジエン−１−イ
ル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−Ｆｅ（II）テ
トラフルオロボレート、２，４−シクロペンタジエン−
１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−Ｆｅ
（II）テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、などが挙げられる。

【００４１】光カチオン重合開始剤（Ｂ）の市販品とし
ては、例えば、「ＵＶＩ６９９０」（ユニオンカーバイ
ド社製のビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニ
ル］スルフィド ビスヘキサフルオロホスフェートとト
リフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェートの
混合物）、「ＵＶＩ６９７４」（ユニオンカーバイド社
製のビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］ス
ルフィド ビスヘキサフルオロアンチモネートとトリフ
ェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートの混
合物）、「ＳＰ−１５０」（旭電化（株）製のビス［４
−（ジ（４−（２−ヒドロキシエトキシ））フェニルス
ルホニオ）フェニル］スルフィド ビスヘキサフルオロ
ホスフェート）、「ＳＰ−１７０」 （旭電化（株）製
のビス［４−（ジ（４−（２−ヒドロキシエトキシ））
フェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド ビスヘキ
サフルオロアンチモネート）、「ＦＣ−５０８」（３Ｍ
社製）、「ＦＣ−５１２」（３Ｍ社製）、「イルガキュ
ア２６１」（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の
（２，４−シクロペンタジエン−１−イル）［（１−メ
チルエチル）ベンゼン］−Ｆｅ（II）ヘキサフルオロホ
スフェート）、「ロードシル（ＲＨＯＤＯＲＳＩＬ）２
０７４」（ローヌ・プーラン社製の４−メチルフェニル
−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム テ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート）、など
が挙げられる。

【００４２】これらの光カチオン重合開始剤のうち、
（１）芳香族スルホニウム、芳香族ヨードニウム、芳香
族アンモニウム、（２，４−シクロペンタジエン−１−
イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−Ｆｅカチオ
ンから成る群から選ばれるカチオンと、（２）一般式
［ＢＸ₄］^-（式中、Ｘはベンゼン環上の少なくとも２つ
以上の水素原子がフッ素又はトリフルオロメチル基で置
換されたフェニル基を表わす。）から成るアニオンとか
ら構成されるオニウム塩が、光ディスク用紫外線硬化型
組成物として用いた場合に、反射膜や記録膜に対する腐
食が少ないので、特に好ましい。そのような光カチオン
重合開始剤としては、例えば、ビス［４−（ジフェニル
スルホニオ）フェニル］スルフィド テトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレート、ジフェニル−４−（フ
ェニルチオ）フェニルスルホニウムテトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレート、トリフェニルスルホニウ
ムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビ
ス［４−（ジ（４−（２−ヒドロキシエトキシ））フェ
ニルスルホニオ）フェニル］スルフィド テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジフェニルヨー
ドニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムテトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−メチルフ
ェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウ
ム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
１−ベンジル−２−シアノピリジニウム テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、１−（ナフチル
メチル）−２−シアノピリジニウムテトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレート、２，４−シクロペンタジ
エン−１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−
Ｆｅ（II）テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート等が挙げられる。

【００４３】光カチオン重合開始剤（Ｂ）は、上述した
材料の中から選択し、単独で使用することもでき、２種
類以上を組み合わせて使用することもできる。光カチオ
ン重合開始剤の使用量は、特に制限がないが、経済性等
の面から紫外線硬化型組成物１００重量部あたり０．３
〜１０部の範囲が好ましく、０．３〜４重量部の範囲が
特に好ましい。光カチオン重合開始剤の使用量が０．３
重量部より少ない場合、十分に硬化させることができな
い傾向にあるので、好ましくなく、また、光カチオン重
合開始剤の使用量が４重量部より多い場合、塗膜中に未
硬化成分として残存する量が多くなり、光ディスクの長
期信頼性が低下する傾向にあるので、好ましくない。

【００４４】本発明の紫外線硬化型組成物には、硬化性
を向上させるために、増感剤を使用することもできる。
そのような目的で使用する増感剤としては、例えば、ビ
レン、ペリレン、２，４−ジエチルチオキサントン、フ
ェノチアジンなどが挙げられる。増感剤を併用する場合
の使用量は、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂（Ａ）
１００重量部に対して、０．１〜１０重量部の範囲が好
ましい。

【００４５】また、本発明の紫外線硬化型組成物には、
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−
１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン等の光ラジカル重合開始剤を併用することもできる。
光ラジカル重合開始剤を併用する場合の使用量は、グリ
シジルエーテル型エポキシ樹脂（Ａ）１００重量部に対
して、０．１〜１０重量部の範囲が好ましい。

【００４６】本発明の紫外線硬化型組成物には、オキセ
タン環を有する化合物（Ｃ）を併用することもできる。
オキセタン環を有する化合物としては、例えば、１，４
−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メ
チル］ベンゼン、１，４−ビス［（３−メチル−３−オ
キセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、３−メチル−
３−グリシジルオキセタン、３−エチル−３−グリシジ
ルオキセタン、３−メチル−３−ヒドロキシメチルオキ
セタン、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン
等が挙げられる。

【００４７】本発明の紫外線硬化型組成物にオキセタン
環を有する化合物（Ｃ）を併用することにより、基板の
貼り合わせの際に、基板の外周端面にはみ出し、付着し
た接着剤をより短時間で硬化させることができる。オキ
セタン環を有する化合物を併用する場合の使用量は、グ
リシジルエーテル型エポキシ樹脂（Ａ）１００重量部に
対して、１〜１００重量部の範囲が好ましい。

【００４８】また、本発明の紫外線硬化型組成物に、必
要に応じて、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂（Ａ）
又はオキセタン環を有する化合物（Ｃ）以外のカチオン
重合性化合物、ポリオール、無機充填剤、無機イオン交
換体、レベリング剤、酸化防止剤、粘度調整剤、シラン
カップリング剤等を併用することもできる。

【００４９】本発明の紫外線硬化型組成物に併用可能な
その他のカチオン重合性化合物としては、例えば、３，
４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシ
シクロヘキシルカルボキシレート、リモネンジエポキシ
ドの如き脂環エポキシ化合物；トリプロピレングリコー
ルジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニル
エーテル、１，４−ブタンジオールジビニルエーテル、
シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ビスフ
ェノールＡのアルキレンオキサイド付加体のジビニルエ
ーテルの如きビニルエーテル化合物；末端水酸基を有す
る脂環式多官能エポキシ樹脂（ダイセル社製の「ＥＨＰ
Ｅ３１５０」等）、などが挙げられる。

【００５０】次に、記録層を有する２枚の基板を記録層
側を内側にして、本発明の紫外線硬化型組成物からなる
接着剤を用いて貼り合わせる光ディスクの製造方法につ
いて説明する。

【００５１】本発明の光ディスクの製造方法は、本発明
の紫外線硬化型組成物からなる接着剤を、スピンコート
法やスクリーン印刷法等を用いて基板上に均一な厚みの
接着剤層を形成した後、紫外線を照射し、もう１枚の基
板を貼り合わせて、目的の光ディスクを得る方法であ
る。本発明の紫外線硬化型組成物からなる接着剤は、紫
外線照射後も一定時間流動性が高いので、接着剤層に気
泡が残ることを防止する目的で、以下の（１）〜（４）
に示した貼り合わせ方法を採用することにより、光ディ
スクを得ることができる。

【００５２】（１）紫外線を照射しながら、一方の基板
上に接着剤を滴下してリング状に塗布した後、もう一方
の基板を重ね合わせ、スピンコーター等により基板を高
速回転させることにより接着剤を展延して、貼り合わせ
る方法。

【００５３】（２）紫外線を照射しながら、２枚の基板
上に接着剤を滴下してリング状に塗布した後、接着剤を
塗布した面同士を対向させ重ね合わせ、自重又は加圧す
ることにより接着剤を展延して、貼り合わせる方法。

【００５４】（３）一方の基板上に接着剤を滴下してリ
ング状に塗布した後、紫外線を照射し、もう一方の基板
を重ね合わせ、スピンコーター等を用いて高速回転させ
ることにより接着剤を展延して、貼り合わせる方法。

【００５５】（４）２枚の基板上に接着剤を滴下してリ
ング状に塗布した後、２枚の基板に紫外線を照射し、接
着剤を塗布した面同士を対向させ重ね合わせ、自重又は
加圧することにより接着剤を展延して、貼り合わせる方
法。

【００５６】スピンコーターを用いる場合には、接着剤
の粘度を２０〜１０００ｍＰａ・ｓの範囲となるよう
に、エポキシ樹脂の配合割合を調整することがことが好
ましい。

【００５７】さらに、基板の貼り合わせの際に、基板の
外周端面にはみ出し、付着した接着剤の硬化を促進する
ために、貼り合わせた後、再度紫外線を基板の外周端面
に照射してもよい。

【００５８】本発明の紫外線硬化型組成物を用いて基板
を接着する場合、記録層同士を直接接着する方法でもよ
く、ラジカル重合系の紫外線硬化型組成物からなる保護
コート層を記録層上に設けて、その保護コート層同士を
接着する方法でもよい。

【００５９】本発明の紫外線硬化型組成物に紫外線を照
射する方式は、一般的な連続光照射方式以外に、閃光照
射方式を使用してもよい。紫外線の光源となるランプと
しては、例えば、メタルハライドランプ、高圧水銀ラン
プ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、などが挙げら
れる。紫外線の照射量は、５０〜１０００ｍＪ／cm²の
範囲が好ましい。

【００６０】

【実施例】以下、実施例及び比較例を用いて本発明を更
に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定さ
れるものではない。なお、以下の例中における「部」は
「重量部」を表わす。

【００６１】＜実施例１＞ビスフェノールＡジグリシジ
ルエーテル（大日本インキ化学工業(株)製の「エピクロ
ン８５０Ｓ」、全塩素量＝０．１４重量％）をルテニウ
ム触媒存在下に、水素圧４０ｋｇ／cm²、温度４０℃で
７時間水添し、全塩素量＝０．１４重量％の水添ビスフ
ェノールＡジグリシジルエーテルを得た。

【００６２】前記反応で得た水添ビスフェノールＡジグ
リシジルエーテル８０部、１，６−ヘキサンジオールジ
グリシジルエーテル（阪本薬品(株)製の「１６Ｈ−ＤＧ
Ｅ」低塩素品、全塩素量＝０．４９重量％）２０部、光
カチオン重合開始剤「ＵＶＩ６９９０」（ユニオンカー
バイド社製のビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェ
ニル］スルフィド ビスヘキサフルオロホスフェートと
［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド
トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェー
トの混合物）０．５部及びレベリング剤「Ｌ−７６０
４」（日本ユニカー社製）０．２部を６０℃で１時間混
合溶解し、淡黄色透明の紫外線硬化型組成物（１）を調
製した。このようにして得た紫外線硬化型組成物（１）
の粘度は、２３６ｍＰａ・ｓ（２５℃）であった。

【００６３】アルミニウムの反射膜を形成したＤＶＤ基
板を２枚用意し、その一方の基板の反射膜側に、上記組
成物（１）を内周側にリング状に滴下し、これにメタル
ハライドランプ（コールドミラー付き、ランプ出力１２
０Ｗ／cm）を用いて４００ｍＪ／cm² の紫外線を照射し
た。次に、もう一方の基板を反射膜を内側にして重ね合
わせ、スピンコーターを用いて毎秒１，５００回転で回
転させることによって２枚の基板の間に組成物を展延さ
せた。このようにして作製した光ディスクを８５℃、相
対湿度（ＲＨ）９５％の恒温恒湿器で９６時間の耐久性
試験を行った結果、アルミニウム反射膜に腐食は観察さ
れなかった。

【００６４】＜実施例２＞実施例１で得た水添ビスフェ
ノールＡジグリシジルエーテル６０部、シクロヘキサン
ジメタノールジグリシジルエーテル（ナガセ化成(株)製
の「ＣＨＤＭ−ＤＧＥ」低塩素品、全塩素量＝０．１９
重量％）４０部、光カチオン重合開始剤「ＵＶＩ６９９
０」（ユニオンカーバイド社製）０．５部及びレベリン
グ剤「Ｌ−７６０４」（日本ユニカー社製）０．２部を
６０℃で１時間混合溶解し、淡黄色透明の紫外線硬化型
組成物（２）を調製した。このようにして得た紫外線硬
化型組成物（２）の粘度は、２５６ｍＰａ・ｓ（２５
℃）であった。

【００６５】実施例１において、組成物（１）に代え
て、組成物（２）を用いた以外は、実施例１と同様にし
て、光ディスクを作製し、同様にして、その耐久試験を
行った結果、アルミニウム反射膜に腐食は観察されなか
った。

【００６６】＜実施例３＞実施例１で得た水添ビスフェ
ノールＡジグリシジルエーテル８０部、ネオペンチルグ
リコールジグリシジルエーテル（阪本薬品(株)製の「Ｎ
ＰＧ−ＤＧＥ」低塩素品、全塩素量＝０．９１重量％）
２０部、光カチオン重合開始剤「ＵＶＩ６９９０」（ユ
ニオンカーバイド社製）０．５部及びレベリング剤「Ｌ
−７６０４」（日本ユニカー社製）０．２部を６０℃で
１時間混合溶解し、淡黄色透明の紫外線硬化型組成物
（３）を調製した。このようにして得た紫外線硬化型組
成物（３）の粘度は、２９５ｍＰａ・ｓ（２５℃）であ
った。

【００６７】実施例１において、組成物（１）に代え
て、組成物（３）を用いた以外は、実施例１と同様にし
て、光ディスクを作製し、同様にして、その耐久試験を
行った結果、アルミニウム反射膜に腐食は観察されなか
った。

【００６８】＜実施例４＞実施例１で得た水添ビスフェ
ノールＡジグリシジルエーテル６０部、ビスフェノール
Ａジグリシジルエーテル（大日本インキ化学工業(株)製
の「エピクロン１０５０」、全塩素量＝０．１５重量
％）１０部、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエ
ーテル（阪本薬品(株)製の「１６Ｈ−ＤＧＥ」低塩素
品、全塩素量＝０．４９重量％）３０部及び光カチオン
重合開始剤「ＵＶＩ６９９０」（ユニオンカーバイド社
製）０．５部及びレベリング剤「Ｌ−７６０４」（日本
ユニカー社製）０．２部を６０℃で１時間混合溶解し、
淡黄色透明の紫外線硬化型組成物（４）を調製した。こ
のようにして得た紫外線硬化型組成物（４）の粘度は、
２４４ｍＰａ・ｓ（２５℃）であった。

【００６９】実施例１において、組成物（１）に代え
て、組成物（４）を用いた以外は、実施例１と同様にし
て、光ディスクを作製し、同様にして、その耐久試験を
行った結果、アルミニウム反射膜に腐食は観察されなか
った。

【００７０】＜実施例５＞実施例１において、光カチオ
ン重合開始剤「ＵＶＩ６９９０」０．５部に代えて、
「ロードルシル（RHODORSIL）ＰＩ２０７４」（ローヌ
・プーラン社製の４−メチルフェニル−４−（１−メチ
ルエチル）フェニルヨードニウム テトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレート）１部を用いた以外は、実
施例１と同様にして、淡黄色透明の紫外線硬化型組成物
（５）を調製した。このようにして得た紫外線硬化型組
成物（５）の粘度は、２３０ｍＰａ・ｓ（２５℃）であ
った。

【００７１】実施例１において、組成物（１）に代え
て、組成物（５）を用いた以外は、実施例１と同様にし
て、光ディスクを作製し、同様にして、その耐久試験を
行った結果、アルミニウム反射膜に腐食は観察されなか
った。

【００７２】＜実施例６＞実施例１において、光カチオ
ン重合開始剤「ＵＶＩ６９９０」の使用量を０．５部か
ら１部に増量した以外は、実施例１と同様にして、淡黄
色透明の紫外線硬化型組成物（６）を調製した。このよ
うにして得た紫外線硬化型組成物（６）の粘度は、２１
８ｍＰａ・ｓ（２５℃）であった。

【００７３】アルミニウムの反射膜を形成したＤＶＤ基
板を２枚用意し、各基板の反射膜の上に硬化後の膜厚が
５〜１０μｍとなるようにラジカル重合系紫外線硬化型
組成物「ＳＤ−５２３」（大日本インキ化学工業(株)
製）を塗布し、メタルハライドランプ（コールドミラー
付き、ランプ出力１２０Ｗ／cm）を用いて４００ｍＪ／
cm²の紫外線を照射して硬化させて、保護コート層を設
けた。次に、その一方の基板の保護コート層上に、上記
組成物（６）を内周側にリング状に滴下し、これにメタ
ルハライドランプ（コールドミラー付き、ランプ出力１
２０Ｗ／cm）を用いて３００ｍＪ／cm²の紫外線を照射
した。次に、もう一方の基板を保護コート層を内側にし
て重ね合わせ、スピンコーターを用いて毎秒１，５００
回転で回転させることによって２枚の基板の間に組成物
を展延させた。このようにして作製した光ディスクを８
５℃、相対湿度（ＲＨ）９５％の恒温恒湿器で９６時間
の耐久性試験を行った結果、アルミニウム反射膜に、腐
食は観察されなかった。

【００７４】また、前記と同様にして保護コート層を設
けた２枚のＤＶＤ基板を用意し、その一方の基板の保護
コート層上に、上記組成物（６）を内周側にリング状に
滴下し、これにメタルハライドランプ（コールドミラー
付き、ランプ出力１２０Ｗ／cm）を用いて１００ｍＪ／
cm²の紫外線を照射した。もう一方の基板を保護コート
層を内側にして重ね合わせ、スピンコーターで回転させ
ることによって２枚の基板の間に組成物を展延させた。
次に、貼り合わせた光ディスクの外周端面に前記ランプ
を用いて８００ｍＪ／cm²の紫外線を照射した。このよ
うにして作製した光ディスクの外周端面には、はみ出た
接着剤が硬化し、指触で粘着性がなくなるまでの時間
は、３０分であった。

【００７５】＜実施例７＞実施例１で得た水添ビスフェ
ノールＡジグリシジルエーテル６４部、１，６−ヘキサ
ンジオールジグリシジルエーテル（阪本薬品(株)製の
「１６Ｈ−ＤＧＥ」低塩素品、全塩素量＝０．４９重量
％）１６部、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセ
タニルメトキシ）メチル］ベンゼン２０部、光カチオン
重合開始剤「ＵＶＩ６９９０」（ユニオンカーバイド社
製）１部及びレベリング剤「Ｌ−７６０４」（日本ユニ
カー社製）０．２部を６０℃で１時間混合溶解し、淡黄
色透明の紫外線硬化型組成物（７）を調製した。このよ
うにして得た紫外線硬化型組成物（７）の粘度は２１８
ｍＰａ・ｓ（２５℃）であった。

【００７６】実施例６において、組成物（６）に代え
て、組成物（７）を用いた以外は、実施例６と同様にし
て、光ディスクを作製し、同様にして、その耐久試験を
行った結果、アルミニウム反射膜に腐食は観察されなか
った。また、実施例５と同様にして、光ディスクの外周
端面にはみ出た接着剤の粘着性がなくなるまでの時間を
測定した結果、４分であった。

【００７７】＜比較例１＞水添ビスフェノールＡジグリ
シジルエーテル（新日本理化(株)製の「ＨＢＥ−１０
０」、全塩素量＝４．５重量％）８０部、１，６−ヘキ
サンジオールジグリシジルエーテル（阪本薬品(株)製の
「ＳＲ１６Ｈ」、全塩素量＝６．７重量％）２０部、光
カチオン重合開始剤「ＵＶＩ６９９０」（ユニオンカー
バイド社製）０．５部及びレベリング剤「Ｌ−７６０
４」（日本ユニカー社製）０．２部を６０℃で１時間混
合溶解し、淡黄色透明の紫外線硬化型組成物（Ｃ１）を
調製した。このようにして得た紫外線硬化型組成物（Ｃ
１）の粘度は、４１５ｍＰａ・ｓ（２５℃）であった。

【００７８】実施例１において、組成物（１）に代えて
組成物（Ｃ１）を用いた以外は、実施例１と同様にし
て、光ディスクを作製し、同様にして、その耐久試験を
行った結果、アルミニウム反射膜が腐食により透明に変
質していた。

【００７９】＜比較例２＞比較例１において、水添ビス
フェノールＡジグリシジルエーテルとして「ＨＢＥ−１
００」に代えて「ＫＲＭ−２４０８」（旭電化(株)製、
全塩素量＝７重量％）８０部を用いた以外は、比較例１
と同様にして、淡黄色透明の紫外線硬化型組成物（Ｃ
２）を調製した。このようにして得た紫外線硬化型組成
物（Ｃ２）の粘度は、５３９ｍＰａ・ｓ（２５℃）であ
った。

【００８０】実施例１において、組成物（１）に代えて
組成物（Ｃ２）を用いた以外は、実施例１と同様にし
て、光ディスクを作製し、同様にして、その耐久試験を
行った結果、アルミニウム反射膜が腐食により透明に変
質していた。

【００８１】＜比較例３＞水添ビスフェノールＡジグリ
シジルエーテル（新日本理化(株)製の「ＨＢＥ−１０
０」、全塩素量＝４．５重量％）８０部、ネオペンチル
グリコールジグリシジルエーテル（ナガセ化成(株)製の
「ＥＸ−２１１」、全塩素量＝５．７重量％）２０部、
光カチオン重合開始剤「ＵＶＩ６９９０」（ユニオンカ
ーバイド社製）０．５部及びレベリング剤「Ｌ−７６０
４」（日本ユニカー社製）０．２部を６０℃で１時間混
合溶解し、淡黄色透明の紫外線硬化型組成物（Ｃ３）を
調製した。このようにして得た紫外線硬化型組成物（Ｃ
３）の粘度は、４４８ｍＰａ・ｓ（２５℃）であった。

【００８２】実施例１において、組成物（１）に代えて
組成物（Ｃ３）を用いた以外は、実施例１と同様にし
て、光ディスクを作製し、同様にして、その耐久試験を
行った結果、アルミニウム反射膜が腐食により透明に変
質していた。

【００８３】＜比較例４＞水添ビスフェノールＡジグリ
シジルエーテル（旭電化（株）製の「ＫＲＭ−２４０
８」、全塩素量＝７重量％）１００部、末端水酸基を有
する脂環式多官能エポキシ樹脂（ダイセル社製の「ＥＨ
ＰＥ３１５０」）５部、光カチオン重合開始剤「ＳＰ−
１５０」（旭電化（株）製）、イオン交換体「ＩＸＥ−
１３２０」（東亞合成化学（株）製）２０部、微粉シリ
カ３部を加熱溶解・混合し、白色不透明な紫外線硬化型
組成物（Ｃ４）を得た。

【００８４】アルミニウムの反射膜を形成したＤＶＤ基
板を２枚用意し、両方の基板の反射膜側に、上記組成物
（Ｃ４）をスクリーン印刷法により接着剤層を形成し
た。この２枚の基板にメタルハライドランプ（コールド
ミラー付き、ランプ出力１２０Ｗ／cm）を用いて１００
ｍＪ／cm² の紫外線を照射した後、接着剤層を貼り合わ
せた。このようして作製した光ディスクを８５℃、相対
湿度（ＲＨ）９５％の恒温恒湿器で９６時間の耐久性試
験を行った結果、アルミニウム反射膜が腐食により透明
に変質していた。

【００８５】

【発明の効果】本発明の紫外線硬化型組成物は、光ディ
スクの接着剤として使用した場合、高温多湿条件におけ
るアルミニウム等の金属からなる反射膜や記録膜への腐
食が極めて少ない。従って、本発明の紫外線硬化型組成
物は、長期信頼性に優れたＤＶＤ等の貼り合わせ方式の
光ディスクの接着剤として有用である。

【００８６】さらに、本発明の紫外線硬化型組成物から
なる接着剤層は、均一で透明であるので、本発明の紫外
線硬化型組成物は、ＤＶＤ−ＲＡＭだけでなく、光ディ
スクの片面から１層のみの情報を読み出すＤＶＤ−５方
式、ＤＶＤ−１０方式の他、片面から２層の情報を読み
出すＤＶＤ−９方式における接着層にも適用することが
できる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村上 和夫 埼玉県川越市伊勢原町５−５−５−８− 407

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 記録層を有する２枚の基板を記録層側を
   内側にして貼り合わせる際に使用する紫外線硬化型組成
   物において、 グリシジルエーテル型エポキシ樹脂組成物（Ａ）、光カ
   チオン重合開始剤（Ｂ）を含有し、且つ前記エポキシ樹
   脂組成物（Ａ）中の塩素の量が１重量％以下であること
   を特徴とする紫外線硬化型組成物。
2. 【請求項２】 グリシジルエーテル型エポキシ樹脂組成
   物（Ａ）が、（Ａ−１）ビスフェノール型ジグリシジル
   エーテル及び（Ａ−２）脂肪族ジオールジグリシジルエ
   ーテルからなるエポキシ樹脂組成物である請求項１記載
   の紫外線硬化型組成物。
3. 【請求項３】 ビスフェノール型ジグリシジルエーテル
   （Ａ−１）が、水添ビスフェノールＡジグリシジルエー
   テルであり、且つ脂肪族ジオールジグリシジルエーテル
   （Ａ−２）が、プロピレングリコールジグリシジルエー
   テル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、
   ブタンジオールジグリシジルエーテル、ヘキサンジオー
   ルジグリシジルエーテル及びシクロヘキサンジメタノー
   ルジグリシジルエーテルからなる群から選ばれる１種類
   以上の化合物である請求項２記載の紫外線硬化型組成
   物。
4. 【請求項４】 光カチオン重合開始剤（Ｂ）が、そのカ
   チオン部分が、芳香族スルホニウム、芳香族ヨードニウ
   ム、芳香族ジアゾニウム、芳香族アンモニウム及び
   （２，４−シクロペンタジエン−１−イル）［（１−メ
   チルエチル）ベンゼン］−Ｆｅカチオンから成る群から
   選ばれ、アニオン部分が、一般式［ＢＸ₄］^-（ただし、
   Ｘは少なくとも２つ以上のフッ素又はトリフルオロメチ
   ル基で置換されたフェニル基）で構成されるオニウム塩
   である請求項１〜３の何れか１項に記載の紫外線硬化型
   組成物。
5. 【請求項５】 さらにオキセタン環を有する化合物
   （Ｃ）を含有する請求項１〜４の何れか１項に記載の紫
   外線硬化型組成物。
6. 【請求項６】 記録層を有する２枚の基板を記録層側を
   内側にして接着剤を用いて貼り合わせた光ディスクにお
   いて、該接着剤が請求項１〜５の何れか１項に記載の紫
   外線硬化型組成物であることを特徴とする光ディスク。
7. 【請求項７】 記録層を有する２枚の基板を記録層側を
   内側にして接着剤を用いて貼り合わせる光ディスクの製
   造方法において、 該接着剤として請求項１〜５の何れか１項に記載の紫外
   線硬化型組成物を用い、紫外線を照射しながら該接着剤
   を少なくとも一方の基板の貼り合わせる側の面にリング
   状に滴下した後、２枚の基板を重ね合わせ、次いで高速
   回転させることによって該接着剤を展延することを特徴
   とする光ディスクの製造方法。
8. 【請求項８】 記録層を有する２枚の基板を記録層側を
   内側にして接着剤を用いて貼り合わせた光ディスクの製
   造方法において、 該接着剤として請求項１〜５の何れか１項に記載の紫外
   線硬化型組成物を用い、紫外線を照射しながら該接着剤
   を２枚の基板の貼り合わせる側の面にリング状に滴下し
   た後、２枚の基板を重ね合わせ、次いで自重又は加圧に
   よって該接着剤を展延することを特徴とする光ディスク
   の製造方法。
9. 【請求項９】 記録層を有する２枚の基板を記録層側を
   内側にして接着剤を用いて貼り合わせた光ディスクの製
   造方法において、 該接着剤として請求項１〜５の何れか１項に記載の紫外
   線硬化型組成物を用い、該接着剤を少なくとも一方の基
   板の貼り合わせる側の面にリング状に滴下し、紫外線を
   照射した後、２枚の基板を重ね合わせ、高速回転させる
   ことによって該接着剤を展延することを特徴とする光デ
   ィスクの製造方法。
10. 【請求項１０】 記録層を有する２枚の基板を記録層側
    を内側にして接着剤を用いて貼り合わせた光ディスクの
    製造方法において、 該接着剤として請求項１〜５の何れか１項に記載の紫外
    線硬化型組成物を用い、該接着剤を２枚の基板の貼り合
    わせる面にリング状に滴下し、両方の基板に紫外線を照
    射した後、２枚の基板を重ね合わせ、次いで自重又は加
    圧によって該接着剤を展延することを特徴とする光ディ
    スクの製造方法。