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JPH11302250A - Production of n,n'-diacylcystine derivative - Google Patents

Production of n,n'-diacylcystine derivative

Info

Publication number
JPH11302250A
JPH11302250A JP11545698A JP11545698A JPH11302250A JP H11302250 A JPH11302250 A JP H11302250A JP 11545698 A JP11545698 A JP 11545698A JP 11545698 A JP11545698 A JP 11545698A JP H11302250 A JPH11302250 A JP H11302250A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
aryl
compound
unsubstituted
substituted
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11545698A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akihiko Ishida
昭彦 石田
Kyoichi Higuchi
教一 樋口
Eiji Kawanishi
英治 川西
Masaaki Yamamoto
正昭 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NAMIKI SHOJI KK
Original Assignee
NAMIKI SHOJI KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NAMIKI SHOJI KK filed Critical NAMIKI SHOJI KK
Priority to JP11545698A priority Critical patent/JPH11302250A/en
Publication of JPH11302250A publication Critical patent/JPH11302250A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
  • Hydrogenated Pyridines (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain the subject compound having immunoregulation activity and useful as a therapeutic medicine for various diseases such as chronic bronchitis by treating a specific compound in the presence of an organotin compound. SOLUTION: An esterified N,N'-diacylcystine compound represented by formula I [R<1> and R<2> are each an alkyl, a cycloalkyl or the like; R<3> is a primary or secondary alkyl, aryl or the like] is treated in the presence of an organotin compound to provide the objective compound of formula II in which R<3> is eliminated. Furthermore, a compound represented by formula III (R<4> to R<6> are each a lower alkyl, a cycloalkyl or the like), e.g. bis(tricyclohexyltin) oxide is preferably used as the organotin compound and e.g. diethyl ether is used as the solvent and the reaction is preferably carried out in a range of cold temperature to boiling point of each solvent.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、免疫調節活性を有
し、慢性気管支炎、リウマチ関節炎などの種々の疾病の
治療薬(特開平4−230359、特表平5−5077
05)に使用しうる、N,N′−ジアシルシスチン化合
物又はその塩の製法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a therapeutic agent for various diseases such as chronic bronchitis and rheumatoid arthritis, which has immunomodulatory activity (JP-A-4-230359, JP-T-5-5077).
The present invention relates to a method for producing an N, N'-diacylcystine compound or a salt thereof, which can be used in the above (5).

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、N,N′−ジアシルシスチン化合
物の製法としては、次の(1)ジエステル体の加水分解
法、(2)システィンの酸化カップリング法及び(3)
シスチンの直接アシル化法が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, N, N'-diacylcystine compounds have been prepared by the following methods: (1) hydrolysis of diester, (2) oxidative coupling of cysteine, and (3)
Methods for direct acylation of cystine are known.

【0003】(1)ジエステル体の加水分解法(1) Hydrolysis method of diester compound

【化4】 Embedded image

【0004】この方法は、化合物2を塩基性条件下で加
水分解することにより化合物1を得る方法であるが、エ
ステル化されたカルボン酸2のβ位の脱離反応が同時に
進行し、C−S結合の開裂を伴い、〔3A〕〔4A〕
〔4B〕〔3B〕が副生し、目的化合物1の収率が低下
するという問題があった。
In this method, compound 1 is obtained by hydrolyzing compound 2 under basic conditions. However, the elimination reaction of β-position of esterified carboxylic acid 2 proceeds simultaneously, and C- With cleavage of S bond, [3A] [4A]
[4B] There was a problem that [3B] was produced as a by-product and the yield of the target compound 1 was reduced.

【0005】更に、塩基性条件下では、不均化反応を伴
うため、R1 ≠R2 である非対称体の場合には、目的化
合物1の収率が一層低下する (M. Bodanszky and J. Ma
rtinez, Synthesis 1987, p.333-349)。
Further, under basic conditions, a disproportionation reaction accompanies, and in the case of an asymmetric compound in which R 1 ≠ R 2 , the yield of the target compound 1 further decreases (M. Bodanszky and J. Ma
rtinez, Synthesis 1987, p.333-349).

【0006】(2)システィンの酸化カップリング法(2) Oxidative coupling of cysteine

【化5】 Embedded image

【0007】この方法は、対応するエステル化されてい
ないN−アシルシスティン〔5A〕〔5B〕を酸化的に
カップリングさせることにより、目的化合物1を得る方
法である。しかし、R1 ≠R2 である非対称型の目的化
合物1を合成する場合、通常3種類の混合物〔1〕
〔1′〕〔1″〕が生成する結果、目的化合物1の収率
が低下し、該混合物から目的化合物1を分離、精製する
にはHPLCなどによらなければならず、非常に困難で
あった(EP463514)。
In this method, the target compound 1 is obtained by oxidatively coupling the corresponding non-esterified N-acylcysteine [5A] [5B]. However, when synthesizing the asymmetric target compound 1 in which R 1 ≠ R 2 , three kinds of mixtures [1] are usually used.
As a result of the formation of [1 ′] and [1 ″], the yield of the target compound 1 decreases, and it is extremely difficult to separate and purify the target compound 1 from the mixture by HPLC or the like. (EP463514).

【0008】(3)シスチンの直接アシル化法 この方法は、シスチンを直接アシル化して目的化合物1
を合成する方法であるが、R1 ≠R2 である非対称型の
目的化合物1の合成には不適であり、例えば、目的化合
物1が生成しても、上記(2)の酸化カップリング法と
同様に、目的化合物1の分離・精製に非常な困難を伴う
という問題があった。
(3) Method for direct acylation of cystine In this method, cystine is directly acylated to obtain the desired compound 1
Is not suitable for the synthesis of an asymmetric target compound 1 in which R 1 ≠ R 2. For example, even if the target compound 1 is produced, the oxidation coupling method of the above (2) can be used. Similarly, there was a problem that separation / purification of the target compound 1 was extremely difficult.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来法
の問題点を解決し、高収率でN,N′−ジアシルシスチ
ン化合物を得ることにある。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the conventional method and to obtain an N, N'-diacylcystine compound in high yield.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、式(I)According to the present invention, there is provided a compound of the formula (I)

【0011】[0011]

【化6】 Embedded image

【0012】(式中、R1 及びR2 は、同一又は異なっ
て、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シ
クロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラル
キル基、保護されたアミノ酸残基又は複素環式基を表
し、R3 は、第1級もしくは第2級アルキル基、アリー
ル基又は複素環式基を表し、上記のR1 、R2 及びR3
の各基は非置換又は置換されていてもよい)で示される
エステル化されたN,N′−ジアシルシスチン化合物
を、有機スズ化合物の存在下に処理して、R3 が脱離し
た式(II)
(Wherein R 1 and R 2 are the same or different and each represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, a cycloalkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an aralkyl group, a protected amino acid residue, Represents a cyclic group, and R 3 represents a primary or secondary alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and represents R 1 , R 2 and R 3 described above.
Each of which may be unsubstituted or substituted) is treated with an esterified N, N′-diacylcystine compound in the presence of an organotin compound to remove R 3. II)

【0013】[0013]

【化7】 Embedded image

【0014】(式中、R1 及びR2 は、前記と同じ)で
示されるN,N′−ジアシルシスチン化合物又はその塩
の製法である。
(Wherein R 1 and R 2 are the same as described above), and a process for producing an N, N'-diacylcystine compound or a salt thereof.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】上記R1 及びR2 におけるアルキ
ル基としては、メチル、エチル、プロピル、n−ブチ
ル、イソブチル、n−ペンチル、3,3−ジメチルブチ
ルなどの低級第1級アルキル基、イソプロピル、 sec−
ブチル、2−ペンチルなどの低級第2級アルキル基、t
−ブチルなどの低級第3級アルキル基などの直鎖又は分
岐鎖アルキル基が挙げられ;シクロアルキル基として
は、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられ;
アルケニル基としては、アリル、プロペニル、イソプロ
ペニルなどが挙げられ;シクロアルケニル基としては、
シクロペンテニル、シクロヘキセニルなどが挙げられ;
アルキニル基としては、1−プロピニル、2−プロピニ
ルなどが挙げられ;アリール基としては、フェニル、ナ
フチルなどが挙げられ;アラルキル基としては、ベンジ
ル、フェネチルなどが挙げられる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The alkyl group represented by R 1 and R 2 includes lower primary alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, n-butyl, isobutyl, n-pentyl and 3,3-dimethylbutyl; Isopropyl, sec-
Lower secondary alkyl groups such as butyl and 2-pentyl, t
Straight or branched chain alkyl groups such as lower tertiary alkyl groups such as -butyl; cycloalkyl groups include cyclopentyl, cyclohexyl and the like;
Alkenyl groups include allyl, propenyl, isopropenyl and the like; cycloalkenyl groups include
Cyclopentenyl, cyclohexenyl and the like;
Alkynyl groups include 1-propynyl, 2-propynyl and the like; aryl groups include phenyl, naphthyl and the like; aralkyl groups include benzyl, phenethyl and the like.

【0016】保護されたアミノ酸残基とは、保護された
アミノ酸又はペプチドからカルボキシル原子団を取り去
った構造を有する基を意味し;アミノ酸残基のアミノ酸
としては、グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、イ
ソロイシンなどの脂肪族アミノ酸、セリン、トレオニン
などのオキシアミノ酸、システイン、シスチン、メチオ
ニンなどの含硫黄アミノ酸、アスパラギン酸、グルタミ
ン酸などの酸性アミノ酸、アスパラギン、グルタミンな
どのアミドアミノ酸、リジン、アルギニン、オルニチン
などの塩基性アミノ酸、フェニルアラニン、チロシンな
どの芳香族アミノ酸、ヒスチジン、トリプトファン、プ
ロリンなどの複素環アミノ酸及びペプチドが挙げられ;
保護基としては、例えば、ペプチド合成の基礎と実験
(泉谷信夫ら、丸善(1985))に記載の慣用的に用
いられるもの、すなわち、アシル、ベンジル、アリール
スルホニル(トシル)、第3級アルコキシカルボニルな
どのアミノ原子団の保護基、ベンジルオキシ、第3級ブ
チルオキシなどのカルボキシル原子団の保護基が挙げら
れる。複素環式基としては、フリル、チエニル、ピロリ
ル、ピペリジルなどの酸素、硫黄もしくは窒素を含む5
〜6員複素単環式が挙げられる。
The protected amino acid residue means a group having a structure obtained by removing a carboxyl group from a protected amino acid or a peptide; amino acids of the amino acid residue include glycine, alanine, valine, leucine and isoleucine. Such as aliphatic amino acids, oxyamino acids such as serine and threonine, sulfur-containing amino acids such as cysteine, cystine and methionine, acidic amino acids such as aspartic acid and glutamic acid, amide amino acids such as asparagine and glutamine, and bases such as lysine, arginine and ornithine Acidic amino acids, aromatic amino acids such as phenylalanine and tyrosine, heterocyclic amino acids and peptides such as histidine, tryptophan and proline;
Examples of the protecting group include those commonly used as described in, for example, Basics and Experiments of Peptide Synthesis (Nobuo Izumiya, Maruzen (1985)), that is, acyl, benzyl, arylsulfonyl (tosyl), tertiary alkoxycarbonyl And protecting groups for carboxyl groups such as benzyloxy and tertiary butyloxy. Examples of the heterocyclic group include oxygen, sulfur and nitrogen such as furyl, thienyl, pyrrolyl and piperidyl.
And a 6-membered heteromonocyclic.

【0017】R3 における第1級もしくは第2級アルキ
ル基、アリール基及び複素環式基としては、上記のR1
及びR2 におけるこれらの基と同様のものが挙げられ
る。
The primary or secondary alkyl group, aryl group and heterocyclic group in R 3 include the above-mentioned R 1
And the same as these groups in R 2 .

【0018】上記の基のR1 、R2 及びR3 の基は非置
換でも置換されていてもよく、R1及びR2 におけるア
ルキル基、アルケニル基及びアルキニル基の置換基、並
びにR3 におけるアルキル基の置換基としては、例えば
ニトロ、ヒドロキシ、オキソ、チオキソ、シアノ、カル
バモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、スル
ホ、ハロゲン、アルコキシ、アリールオキシ、アルキル
チオ、アリールチオ、アルキルスルフィニル、アルキル
スルホニル、アミノ、アシルアミノ、アルキルアミノ、
第3級アルコキシカルボニルアミノ、アルカノイル、シ
クロアルキル、アラルキル、非置換又は置換アリール及
び複素環式基から選ばれ;R1 及びR2におけるシクロ
アルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラル
キル基、保護されたアミノ酸残基及び複素環式基の置換
基、並びにR3 におけるアリール基及び複素環式基の置
換基としては、上記置換基のほか、非置換又は置換アル
キルから選ばれる。
The groups R 1 , R 2 and R 3 in the above groups may be unsubstituted or substituted, and the substituents of the alkyl, alkenyl and alkynyl groups in R 1 and R 2 and the substituents in R 3 Examples of the substituent of the alkyl group include nitro, hydroxy, oxo, thioxo, cyano, carbamoyl, carboxyl, alkoxycarbonyl, sulfo, halogen, alkoxy, aryloxy, alkylthio, arylthio, alkylsulfinyl, alkylsulfonyl, amino, acylamino, alkyl amino,
Selected from tertiary alkoxycarbonylamino, alkanoyl, cycloalkyl, aralkyl, unsubstituted or substituted aryl and heterocyclic groups; the cycloalkyl group, cycloalkenyl group, aryl group, aralkyl group in R 1 and R 2 , The substituent of the amino acid residue and the heterocyclic group, and the substituent of the aryl group and the heterocyclic group in R 3 are selected from the above substituents and unsubstituted or substituted alkyl.

【0019】好ましい式(II)の化合物は、R1 及びR
2 が同一又は異なって、 (1)非置換アルキル基; (2)ハロゲン、アルコキシ、非置換アリール、アリー
ル置換アリール、アラルキル置換アリール、第3級アル
コキシカルボニルアミノ、アルキルチオ、アシルアミ
ノ、複素環式基及びシクロアルキルから選ばれる基で置
換されたアルキル基; (3)シクロアルキル基; (4)非置換アリール基; (5)ニトロ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシル、ア
ルコキシカルボニル、ハロゲン、アルコキシ、アミノ、
アシルアミノ、アルキルアミノ、第3級アルコキシカル
ボニルアミノ、アルカノイル、アリール及びアラルキル
から選ばれる基で置換されたアリール基;又は (6)保護されたアミノ酸残基;であり、R3 が非置換
第1級もしくは第2級アルキル基、アリール置換第1級
もしくは第2級アルキル基、非置換アリール基又は含酸
素もしくは含硫黄5〜6員複素単環式基である化合物で
ある。
Preferred compounds of formula (II) are R 1 and R
2 is the same or different; (1) an unsubstituted alkyl group; (2) halogen, alkoxy, unsubstituted aryl, aryl-substituted aryl, aralkyl-substituted aryl, tertiary alkoxycarbonylamino, alkylthio, acylamino, heterocyclic group and An alkyl group substituted with a group selected from cycloalkyl; (3) a cycloalkyl group; (4) an unsubstituted aryl group; (5) nitro, hydroxy, cyano, carboxyl, alkoxycarbonyl, halogen, alkoxy, amino,
An aryl group substituted with a group selected from acylamino, alkylamino, tertiary alkoxycarbonylamino, alkanoyl, aryl and aralkyl; or (6) a protected amino acid residue, wherein R 3 is unsubstituted primary. Alternatively, the compound is a secondary alkyl group, an aryl-substituted primary or secondary alkyl group, an unsubstituted aryl group, or an oxygen-containing or sulfur-containing 5- to 6-membered heteromonocyclic group.

【0020】更に好ましい式(II)の化合物は、R1
びR2 が同一又は異なって、 (1)非置換低級アルキル基; (2)アラルキル基; (3)アラルキル置換アラルキル基; (4)低級第3級アルコキシカルボニル基、アシル基又
はアリールスルホニル基で保護されたアミノ酸残基; (5)シクロアルキル置換低級アルキル基; (6)非置換フェニル基又はアリール置換フェニル基; (7)低級アルコキシカルボニルピペリジル基;又は (8)チエニル基又はフリル基;であり、R3 が非置換
低級第1級もしくは第2級アルキル基又はフェニル置換
低級第1級もしくは第2級アルキル基である化合物であ
る。
Further preferred compounds of the formula (II) are those wherein R 1 and R 2 are the same or different and are (1) an unsubstituted lower alkyl group; (2) an aralkyl group; (3) an aralkyl-substituted aralkyl group; An amino acid residue protected with a lower tertiary alkoxycarbonyl group, an acyl group or an arylsulfonyl group; (5) a cycloalkyl-substituted lower alkyl group; (6) an unsubstituted phenyl group or an aryl-substituted phenyl group; A carbonylpiperidyl group; or (8) a thienyl group or a furyl group; wherein R 3 is an unsubstituted lower primary or secondary alkyl group or a phenyl substituted lower primary or secondary alkyl group. .

【0021】R3 としては、メチル、エチル、プロピル
又はベンジルが好ましい。
R 3 is preferably methyl, ethyl, propyl or benzyl.

【0022】本製法発明の目的化合物(II)及び原料化
合物(I)には光学活性体が含まれるが、本製法発明に
よれば、原料化合物(I)に光学活性体を用いれば、ラ
セミ化することなく光学活性な目的化合物(II)を得る
ことができる。
The objective compound (II) and the starting compound (I) of the present invention include optically active substances. According to the present invention, when the optically active substance is used as the starting compound (I), racemization occurs. The optically active target compound (II) can be obtained without performing the above.

【0023】本発明の方法における原料化合物である
N,N′−ジアシルシスチン化合物(I)は、次の方法
によって製造される。
The N, N'-diacylcystine compound (I) which is a starting compound in the method of the present invention is produced by the following method.

【0024】a R1 =R2 である対称型の原料化合物
(I)は、例えばJ. Am. Chem, Soc., Vol.79, p.4538-
4544 (1957) 、J. Chem. Soc., 3638-3644 (1964) 記載
の方法に準じて製造される。 b (i)R1 ≠R2 である非対称型の原料化合物
(I)は、例えば特開平4−230359号公報に記載
の方法に準じて製造される。 (ii)また非対称型の原料化合物は、次の方法によって
も製造される。
A The symmetrical starting compound (I) wherein R 1 = R 2 is described, for example, in J. Am. Chem, Soc., Vol. 79, p.
4544 (1957) and J. Chem. Soc., 3638-3644 (1964). b (i) The asymmetric starting compound (I) wherein R 1 ≠ R 2 is produced, for example, according to the method described in JP-A-4-230359. (Ii) The asymmetric starting compound is also produced by the following method.

【0025】[0025]

【化8】 Embedded image

【0026】A工程は、ベンジルオキシカルボニル基な
どの慣用の保護基を用いるアミノ基の保護化である。B
工程は、エステル化工程であって、ハロゲン化物(R3
X)やアルコール(R3 OH)による慣用手段によって
行われる。C工程及びE工程は、N−アシル化工程であ
って、カルボン酸(R1 COOH、R2 COOH)又は
その反応性誘導体(酸ハライド、酸無水物、活性エステ
ル)による慣用手段によって行われる。D工程は、ベン
ジルオキシカルボニル基などの保護基の脱保護であっ
て、慣用手段によって行われる。
Step A is the protection of the amino group using a conventional protecting group such as a benzyloxycarbonyl group. B
The step is an esterification step in which a halide (R 3
X) or an alcohol (R 3 OH). Steps C and E are N-acylation steps, which are carried out by conventional means using carboxylic acids (R 1 COOH, R 2 COOH) or their reactive derivatives (acid halides, acid anhydrides, active esters). Step D is deprotection of a protecting group such as a benzyloxycarbonyl group, and is performed by a conventional means.

【0027】上記A工程及びD工程については、上述の
J. Am. Chem, Soc.,、J. Chem, Soc.,に記載の方法及び
T. W. Geene "Protection Groups in Organic Synthesi
s" John Wiley & Sons, Inc. (1991) に記載の方法によ
り、またB工程、C工程及びE工程については、R. C.
Larock "Comprehensive Organic Transformations, AGu
ide to Functional Group Preparations" VHC Publisch
ers, Inc. (1989) に記載の方法が参照される。
The above steps A and D are described above.
J. Am. Chem, Soc., J. Chem, Soc.,
TW Geene "Protection Groups in Organic Synthesi
s "John Wiley & Sons, Inc. (1991), and for Steps B, C and E, RC
Larock "Comprehensive Organic Transformations, AGu
ide to Functional Group Preparations "VHC Publisch
ers, Inc. (1989).

【0028】有機スズ化合物としては、下記a)〜e)
から選ばれるものが用いられる。
Examples of the organotin compound include the following a) to e)
What is selected from is used.

【0029】[0029]

【化9】 Embedded image

【0030】(式中、R4 〜R14は、同一又は異なっ
て、それぞれ低級アルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基又はハロゲン原子を表し、Y1 〜Y4 は、同一又
は異なってそれぞれヒドロキシ基又はアルコキシ基を表
す)
(Wherein, R 4 to R 14 are the same or different and each represent a lower alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a halogen atom, and Y 1 to Y 4 are the same or different and each represent a hydroxy group Or represents an alkoxy group)

【0031】上記の有機スズ化合物(a)としては、例
えばビス(トリシクロヘキシルスズ)オキサイド、ビス
(シクロヘキシルアルキルスズ)オキサイド、ビス(ト
リフェニルスズ)オキサイド、ビス(クロロ−ジn−ブ
チルスズ)オキサイド、ビス(ジクロロ−n−ブチルス
ズ)オキサイド、ビス(クロロ−ジフェニルスズ)オキ
サイド、ビス(ジクロロ−フェニルスズ)オキサイド、
ビス(トリメチルスズ)オキサイド、ビス(トリ−n−
ブチルスズ)オキサイドが挙げられる。
Examples of the organotin compound (a) include bis (tricyclohexyltin) oxide, bis (cyclohexylalkyltin) oxide, bis (triphenyltin) oxide, bis (chloro-di-n-butyltin) oxide, Bis (dichloro-n-butyltin) oxide, bis (chloro-diphenyltin) oxide, bis (dichloro-phenyltin) oxide,
Bis (trimethyltin) oxide, bis (tri-n-
(Butyltin) oxide.

【0032】有機スズ化合物(b)としては、例えばジ
n−ブチルスズオキサイド、ジフェニルスズオキサイド
が挙げられる。
Examples of the organic tin compound (b) include di-n-butyltin oxide and diphenyltin oxide.

【0033】有機スズ化合物(c)としては、例えばト
リメチルスズヒドロキシド、トリフェニルスズヒドロキ
シド、トリn−ブチルスズメトキシド、トリブチルスズ
エトキシド、トリフェニルスズメトキシドが挙げられ
る。
Examples of the organotin compound (c) include trimethyltin hydroxide, triphenyltin hydroxide, tri-n-butyltin methoxide, tributyltin ethoxide, and triphenyltin methoxide.

【0034】有機スズ化合物(d)としては、例えばメ
チルスタンノン酸、フェニルスタンノン酸が挙げられ
る。
Examples of the organotin compound (d) include methylstannoic acid and phenylstannoic acid.

【0035】有機スズ化合物(e)としては、例えばジ
ブチルスズジメトキシドが挙げられる。
Examples of the organotin compound (e) include dibutyltin dimethoxide.

【0036】本発明の製法においては、溶媒の存在下又
は不存在下に反応が行われる。溶媒としては、ジエチル
エーテル、ジメトキシメタン、ジオキサンなどのエーテ
ル系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水
素系溶媒;アセトニトリルなどの不活性溶媒を単独で又
は混合して用いられる。
In the production method of the present invention, the reaction is carried out in the presence or absence of a solvent. As the solvent, ether solvents such as diethyl ether, dimethoxymethane and dioxane; hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene; and inert solvents such as acetonitrile are used alone or in combination.

【0037】反応温度は、冷時から各溶媒の沸点の範囲
で反応させることができる。また無溶媒での反応は有機
スズ化合物の沸点以下の温度で反応させることができ
る。
The reaction can be carried out at a temperature ranging from the time of cooling to the boiling point of each solvent. The reaction without a solvent can be carried out at a temperature lower than the boiling point of the organotin compound.

【0038】本明細書において、アルキル、第1級アル
キル及びアルコキシの炭素数は1−20が;低級アルキ
ル、低級第1級アルキル及び低級アルコキシの炭素数は
1−6が;第2級アルキルの炭素数は3−20が;低級
第2級アルキル炭素数は3−6が;第3級アルキルの炭
素数は4−20が;低級第3級アルキル炭素数は4−6
が;アルケニル及びアルキニルの炭素数は2−20が;
シクロアルキル及びシクロアルケニルの炭素数は3−8
が;アリールの炭素数は6−14が好ましい。
In the present specification, the alkyl, primary alkyl and alkoxy have 1-20 carbon atoms; lower alkyl, lower primary alkyl and lower alkoxy have 1-6 carbon atoms; Carbon number 3-20; lower secondary alkyl carbon number 3-6; tertiary alkyl carbon number 4-20; lower tertiary alkyl carbon number 4-6
Alkenyl and alkynyl have 2 to 20 carbon atoms;
Cycloalkyl and cycloalkenyl have 3 to 8 carbon atoms.
However, the aryl preferably has 6 to 14 carbon atoms.

【0039】アシルとしては、例えば、ホルミル、アセ
チル、プロピオニルなどのアルキルカルボニル、ベンゾ
イルなどのアリールカルボニル、アリール置換アルキル
カルボニル、複素環カルボニル、カルバモイルなどが挙
げられる。
Examples of the acyl include alkylcarbonyl such as formyl, acetyl and propionyl, arylcarbonyl such as benzoyl, aryl-substituted alkylcarbonyl, heterocyclic carbonyl, carbamoyl and the like.

【0040】[0040]

【実施例】実施例1Embodiment 1

【0041】[0041]

【化10】 Embedded image

【0042】化合物1aの493mg(1.0mmol)/ト
ルエン(40ml)溶液に、(n−Bu3 Sn)2O 5.
96g(10.0mmol)を加え、アルゴン雰囲気下、1
00℃に加温して撹拌した。22時間後、トルエンを留
去し、残渣に10%KF溶液50mlと酢酸エチル50ml
を加え、30分間激しく撹拌した。分解したスズ化合物
を除き、水層を分取した。水槽は10%HClで酸性に
して、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は飽和食塩
水で洗浄し、乾燥後、溶媒を留去した。残渣を酢酸エチ
ル−ヘキサンで再結晶し、無色結晶2aを398mg(収
率91%)得た。
To a solution of compound 1a in 493 mg (1.0 mmol) / toluene (40 ml) was added (n-Bu 3 Sn) 2 O 5.
96 g (10.0 mmol) were added, and 1
The mixture was heated to 00 ° C and stirred. After 22 hours, toluene was distilled off, and the residue was mixed with 50 ml of a 10% KF solution and 50 ml of ethyl acetate.
Was added and stirred vigorously for 30 minutes. The water layer was separated by removing the decomposed tin compound. The water bath was acidified with 10% HCl and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with saturated saline, dried, and the solvent was distilled off. The residue was recrystallized from ethyl acetate-hexane to give 398 mg (yield 91%) of colorless crystals 2a.

【0043】実施例2Embodiment 2

【0044】[0044]

【化11】 Embedded image

【0045】実施例1と同様に処理し、化合物1bから
化合物2b(収率90%)を得た。
By treating in the same manner as in Example 1, compound 2b (90% yield) was obtained from compound 1b.

【0046】実施例3Embodiment 3

【0047】[0047]

【化12】 Embedded image

【0048】化合物1c 350mg(0.83mmol)/
トルエン(25ml)溶液に、(n−Bu3 Sn)2
4.9g(8.2mmol)を加え、アルゴン雰囲気下、1
00℃で終夜撹拌した。反応液を濃縮して析出するスズ
−エステルを濾取し、エチルエーテルで洗浄した。これ
を酢酸2mlを含む水20ml−エチルエーテル20mlに溶
解し、1時間激しく撹拌した。水層を分取し、エチルエ
ーテルで洗浄後、減圧下で水及び酢酸を留去し、化合物
2cを259mg(収率85%)得た。
Compound 1c 350 mg (0.83 mmol) /
(N-Bu 3 Sn) 2 O was added to a toluene (25 ml) solution.
4.9 g (8.2 mmol) were added, and 1 under an argon atmosphere.
Stirred at 00 ° C. overnight. The reaction solution was concentrated, and the precipitated tin-ester was collected by filtration and washed with ethyl ether. This was dissolved in 20 ml of water-20 ml of ethyl ether containing 2 ml of acetic acid and stirred vigorously for 1 hour. The aqueous layer was separated, washed with ethyl ether, and then water and acetic acid were distilled off under reduced pressure to obtain 259 mg of compound 2c (yield: 85%).

【0049】実施例4Embodiment 4

【0050】[0050]

【化13】 Embedded image

【0051】実施例3と同様に処理して、化合物1dか
ら化合物2d(収率90%)を得た。
By treating in the same manner as in Example 3, compound 2d was obtained from compound 1d (yield 90%).

【0052】実施例5〜10 実施例1と同様にして下表第1表の化合物を得る。Examples 5 to 10 In the same manner as in Example 1, the compounds shown in Table 1 below are obtained.

【0053】[0053]

【表1】 [Table 1]

【0054】参考例1Reference Example 1

【0055】[0055]

【化14】 Embedded image

【0056】氷冷下、化合物3の2.9g(6.14mm
ol)/酢酸(40ml)溶液に、25%HBr酢酸溶液
(29ml)を滴下し、70分撹拌した。反応液にエチル
エーテル300mlを加え、0℃で30分撹拌した。デカ
ンテーションでエチルエーテルを除き、更に減圧下でH
Br−酢酸、エチルエーテルを除去した。得られた残渣
をジクロロメタン150mlに溶解し、−78℃で塩化ベ
ンゾイル949mg(6.75mmol)/CH2 Cl2 (1
5ml)溶液を滴下し、次いでジイソプロピルエチルアミ
ン1.75g(13.51mmol)/CH2 Cl2 (15
ml)溶液を滴下し、徐々に室温まで昇温した。反応液に
氷水を加え、有機層を分取し、水洗、乾燥後、溶媒を留
去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶
媒:ヘキサン−酢酸エチル=3:7)で精製し、化合物
1bを1.22g(化合物3からの収率45%)を得
た。
Under ice cooling, 2.9 g of compound 3 (6.14 mm
ol) / acetic acid (40 ml), a 25% HBr acetic acid solution (29 ml) was added dropwise, and the mixture was stirred for 70 minutes. 300 ml of ethyl ether was added to the reaction solution, and the mixture was stirred at 0 ° C. for 30 minutes. Ethyl ether was removed by decantation, and H
Br-acetic acid and ethyl ether were removed. The obtained residue was dissolved in 150 ml of dichloromethane, and 949 mg (6.75 mmol) of benzoyl chloride / CH 2 Cl 2 (1
5 ml) solution was added dropwise, and then 1.75 g (13.51 mmol) of diisopropylethylamine / CH 2 Cl 2 (15
ml) The solution was added dropwise, and the temperature was gradually raised to room temperature. Ice water was added to the reaction solution, the organic layer was separated, washed with water, dried, the solvent was distilled off, and the residue was purified by silica gel chromatography (elution solvent: hexane-ethyl acetate = 3: 7) to give compound 1b. 1.22 g (45% yield from compound 3) was obtained.

【0057】参考例2Reference Example 2

【0058】[0058]

【化15】 Embedded image

【0059】参考例1と同様に処理し、化合物1c(化
合物3からの収率43%)を得た。
By treating in the same manner as in Reference Example 1, compound 1c (43% yield from compound 3) was obtained.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 式(I) 【化1】 (式中、R1 及びR2 は、同一又は異なって、アルキル
基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニ
ル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、保護
されたアミノ酸残基又は複素環式基を表し、R3 は、第
1級もしくは第2級アルキル基、アリール基又は複素環
式基を表し、上記のR1 、R2 及びR3 の各基は非置換
又は置換されていてもよい)で示されるエステル化され
たN,N′−ジアシルシスチン化合物を、有機スズ化合
物の存在下に処理して、R3 が脱離した式(II) 【化2】 (式中、R1 及びR2 は、前記と同じ)で示されるN,
N′−ジアシルシスチン化合物又はその塩の製法。
1. A compound of the formula (I) (Wherein R 1 and R 2 are the same or different and each represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, a cycloalkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an aralkyl group, a protected amino acid residue or a heterocyclic group. Wherein R 3 represents a primary or secondary alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and the above groups R 1 , R 2 and R 3 may be unsubstituted or substituted The N, N'-diacylcystine compound esterified by the formula (II) is treated in the presence of an organotin compound to remove R 3. (Wherein R 1 and R 2 are the same as described above)
A method for producing an N'-diacylcystine compound or a salt thereof.
【請求項2】 R1 及びR2 における、アルキル基、ア
ルケニル基及びアルキニル基の置換基、並びにR3 にお
けるアルキル基の置換基が、ニトロ、ヒドロキシ、オキ
ソ、チオキソ、シアノ、カルバモイル、カルボキシル、
アルコキシカルボニル、スルホ、ハロゲン、アルコキ
シ、アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、ア
ルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アミノ、ア
シルアミノ、アルキルアミノ、第3級アルコキシカルボ
ニルアミノ、アルカノイル、シクロアルキル、非置換又
は置換アリール及び複素環式基から選ばれ、R1 及びR
2 における、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、
アリール基、、アラルキル基、保護されたアミノ酸残基
及び複素環式基の置換基、並びにR3におけるアリール
基及び複素環式基の置換基が、上記置換基のほか、非置
換又は置換アルキルから選ばれる、請求項1記載の製
法。
2. The alkyl, alkenyl and alkynyl substituents in R 1 and R 2 and the alkyl substituent in R 3 are nitro, hydroxy, oxo, thioxo, cyano, carbamoyl, carboxyl,
Alkoxycarbonyl, sulfo, halogen, alkoxy, aryloxy, alkylthio, arylthio, alkylsulfinyl, alkylsulfonyl, amino, acylamino, alkylamino, tertiary alkoxycarbonylamino, alkanoyl, cycloalkyl, unsubstituted or substituted aryl and heterocyclic R 1 and R
In 2 , a cycloalkyl group, a cycloalkenyl group,
The aryl group, an aralkyl group, a protected amino acid residue and a substituent of a heterocyclic group, and the substituent of the aryl group and the heterocyclic group in R 3 are, in addition to the above substituents, unsubstituted or substituted alkyl. The method of claim 1, which is selected.
【請求項3】 R1 及びR2 は、同一又は異なって、
(1)非置換アルキル基; (2)ハロゲン、アルコキシ、非置換アリール、アリー
ル置換アリール、アラルキル置換アリール、第3級アル
コキシカルボニルアミノ、アルキルチオ、アシルアミ
ノ、複素環式基及びシクロアルキルから選ばれる基で置
換されたアルキル基; (3)シクロアルキル基; (4)非置換アリール基; (5)ニトロ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシル、ア
ルコキシカルボニル、ハロゲン、アルコキシ、アミノ、
アシルアミノ、アルキルアミノ、第3級アルコキシカル
ボニルアミノ、アルカノイル、アリール及びアラルキル
から選ばれる基で置換されたアリール基;又は (6)保護されたアミノ酸残基;であり、R3 が非置換
第1級もしくは第2級アルキル基、アリール置換第1級
もしくは第2級アルキル基、非置換アリール基又は含酸
素もしくは含硫黄5〜6員複素単環式基である、請求項
1記載の製法。
3. R 1 and R 2 are the same or different,
(1) an unsubstituted alkyl group; (2) a group selected from halogen, alkoxy, unsubstituted aryl, aryl-substituted aryl, aralkyl-substituted aryl, tertiary alkoxycarbonylamino, alkylthio, acylamino, heterocyclic group and cycloalkyl (3) cycloalkyl group; (4) unsubstituted aryl group; (5) nitro, hydroxy, cyano, carboxyl, alkoxycarbonyl, halogen, alkoxy, amino,
An aryl group substituted with a group selected from acylamino, alkylamino, tertiary alkoxycarbonylamino, alkanoyl, aryl and aralkyl; or (6) a protected amino acid residue, wherein R 3 is unsubstituted primary. The method according to claim 1, which is a secondary alkyl group, an aryl-substituted primary or secondary alkyl group, an unsubstituted aryl group, or an oxygen-containing or sulfur-containing 5- to 6-membered heteromonocyclic group.
【請求項4】 R1 及びR2 は、同一又は異なって、 (1)非置換低級アルキル基; (2)アラルキル基; (3)アラルキル置換アラルキル基; (4)低級第3級アルコキシカルボニル基、アシル基又
はアリールスルホニル基で保護されたアミノ酸残基; (5)シクロアルキル置換低級アルキル基; (6)非置換フェニル基又はアリール置換フェニル基; (7)低級アルコキシカルボニルピペリジル基;又は (8)チエニル基又はフリル基;であり、R3 が非置換
低級第1級もしくは第2級アルキル基又はフェニル置換
低級第1級もしくは第2級アルキル基である、請求項1
記載の製法。
4. R 1 and R 2 are the same or different and are (1) unsubstituted lower alkyl group; (2) aralkyl group; (3) aralkyl-substituted aralkyl group; (4) lower tertiary alkoxycarbonyl group An amino acid residue protected with an acyl group or an arylsulfonyl group; (5) a cycloalkyl-substituted lower alkyl group; (6) an unsubstituted phenyl group or an aryl-substituted phenyl group; (7) a lower alkoxycarbonylpiperidyl group; ) A thienyl group or a furyl group; wherein R 3 is an unsubstituted lower primary or secondary alkyl group or a phenyl substituted lower primary or secondary alkyl group.
The manufacturing method described.
【請求項5】 R3 が、メチル基、エチル基、プロピル
基又はベンジル基である、請求項1〜4のいずれか1項
記載の製法。
5. The method according to claim 1, wherein R 3 is a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a benzyl group.
【請求項6】 有機スズ化合物が、a)〜e)から選ば
れる、請求項1〜5のいずれか1項記載の製法。 【化3】 (式中、R4 〜R14は、それぞれ低級アルキル基、シク
ロアルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表し、Y
1 〜Y4 は、それぞれヒドロキシ基又はアルコキシ基を
表す)
6. The method according to claim 1, wherein the organotin compound is selected from a) to e). Embedded image (Wherein, R 4 to R 14 each represent a lower alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, or a halogen atom;
1 to Y 4 each represent a hydroxy group or an alkoxy group)
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160147960A (en) 2014-04-25 2016-12-23 아지노모토 가부시키가이샤 Immunostimulating agent
JP2023523976A (en) * 2020-04-28 2023-06-08 ユニリーバー・アイピー・ホールディングス・ベスローテン・ヴェンノーツハップ Method for producing N,N'-diacetyl-L-cystine

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KR20160147960A (en) 2014-04-25 2016-12-23 아지노모토 가부시키가이샤 Immunostimulating agent
US10100008B2 (en) 2014-04-25 2018-10-16 Ajinomoto Co., Inc. Immunostimulating agent
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