JPH11281319A - 光学素子の位置設定装置、及び光学素子の位置設定方法 - Google Patents
光学素子の位置設定装置、及び光学素子の位置設定方法Info
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- JPH11281319A JPH11281319A JP8446098A JP8446098A JPH11281319A JP H11281319 A JPH11281319 A JP H11281319A JP 8446098 A JP8446098 A JP 8446098A JP 8446098 A JP8446098 A JP 8446098A JP H11281319 A JPH11281319 A JP H11281319A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 32
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 29
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 良好な反射光が得られない場合にも調整が可
能となること。 【解決手段】 反射部１９ａを持つリファレンス基板１
９を調整機構にセットし、光線が前記リファレンス基板
１９で反射することによって、前記調整機構による調整
を行い、そのときの複数の検出器Ａ，Ｂ，Ｃの検出を記
録し、次に、光学素子１７を前記調整機構２１にセット
して、前記リファレンス基板１９に設定された設定カ所
の検出と同じカ所において前記複数の検出器Ａ，Ｂ，Ｃ
による検出を行い、ずれ量を算出し、該ずれ量を補正す
るように調整を行い、検出結果がすべての検出値におい
て一致するようにする。
能となること。 【解決手段】 反射部１９ａを持つリファレンス基板１
９を調整機構にセットし、光線が前記リファレンス基板
１９で反射することによって、前記調整機構による調整
を行い、そのときの複数の検出器Ａ，Ｂ，Ｃの検出を記
録し、次に、光学素子１７を前記調整機構２１にセット
して、前記リファレンス基板１９に設定された設定カ所
の検出と同じカ所において前記複数の検出器Ａ，Ｂ，Ｃ
による検出を行い、ずれ量を算出し、該ずれ量を補正す
るように調整を行い、検出結果がすべての検出値におい
て一致するようにする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、調整の対象となる
光学素子の位置設定装置、及び光学素子の位置設定方法
に属する。
光学素子の位置設定装置、及び光学素子の位置設定方法
に属する。
【０００２】
【従来の技術】従来の光学素子の位置設定方法では、光
軸上に小さな穴のあいたマスクを置き、その穴から調整
の対象となる光学素子へ光を入射させ、その反射光をマ
スクの位置で検出し、反射光がその穴に戻るように調整
している。
軸上に小さな穴のあいたマスクを置き、その穴から調整
の対象となる光学素子へ光を入射させ、その反射光をマ
スクの位置で検出し、反射光がその穴に戻るように調整
している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
光学素子の位置設定方法では、調整の対象となる光学素
子から調整のための良好な反射光が得られない場合に
は、適用できないという問題がある。
光学素子の位置設定方法では、調整の対象となる光学素
子から調整のための良好な反射光が得られない場合に
は、適用できないという問題がある。
【０００４】それ故に、本発明の課題は、光学素子を光
学系の光軸に対して精度よく取り付け調整することを可
能とした光学素子の光学素子の位置設定装置、及び位置
設定方法を提供することにある。
学系の光軸に対して精度よく取り付け調整することを可
能とした光学素子の光学素子の位置設定装置、及び位置
設定方法を提供することにある。
【０００５】また、本発明の他の課題は、光学系から得
られる結像または焦点の品質、再現性およびその位置の
制御性を向上させることができる光学素子の位置設定装
置、及び光学素子の位置設定方法を提供することにあ
る。
られる結像または焦点の品質、再現性およびその位置の
制御性を向上させることができる光学素子の位置設定装
置、及び光学素子の位置設定方法を提供することにあ
る。
【０００６】また、本発明の他の課題は、解像度、スポ
ット径、歪み、焦点深度などの性能を実際の装置上で実
現することができる光学素子の位置設定装置、及び光学
素子の位置設定方法を提供することにある。
ット径、歪み、焦点深度などの性能を実際の装置上で実
現することができる光学素子の位置設定装置、及び光学
素子の位置設定方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、光学素
子をＸ軸、Ｙ軸、及びＺ軸方向の傾きに関して、位置調
整可能な調整機構と、調整に用いる光線を通す光通過部
を持つ基板とを含む光学素子の位置設定装置において、
前記調整機構に光軸を一致させて前記光学素子をセット
する前に、前記光通過部を通過した前記光線を前記光通
過部に戻るように、前記Ｘ軸、Ｙ軸及び傾きに関して前
記調整機構による調整を行うためのリファレンス基板を
有し、該リファレンス基板は、前記光通過部を通過した
前記光線を反射させて、前記光通過部に戻す反射部を有
していることを特徴とする光学素子の位置設定装置が得
られる。
子をＸ軸、Ｙ軸、及びＺ軸方向の傾きに関して、位置調
整可能な調整機構と、調整に用いる光線を通す光通過部
を持つ基板とを含む光学素子の位置設定装置において、
前記調整機構に光軸を一致させて前記光学素子をセット
する前に、前記光通過部を通過した前記光線を前記光通
過部に戻るように、前記Ｘ軸、Ｙ軸及び傾きに関して前
記調整機構による調整を行うためのリファレンス基板を
有し、該リファレンス基板は、前記光通過部を通過した
前記光線を反射させて、前記光通過部に戻す反射部を有
していることを特徴とする光学素子の位置設定装置が得
られる。
【０００８】また、本発明によれば、光学素子をＸ軸、
Ｙ軸、及びＺ軸方向の傾きに関して、位置調整可能な調
整機構に、光軸を一致させてセットするに際し、複数カ
所に検出部を持つとともに反射部を持つリファレンス基
板を前記調整機構にセットし、前記調整機構の上方に、
前記反射部までの距離を検出する前記複数の検出器を設
置するとともに、光線の通過可能な微小な光通過部を持
つ基板をセットして、前記光通過部を通過した前記光線
が前記リファレンス基板で反射して、再び前記光通過部
に戻るように、前記Ｘ軸、Ｙ軸及び傾きに関して前記調
整機構による調整を行い、そのときの前記複数の検出器
の検出を記録し、次に、前記リファレンス基板に代えて
複数カ所に検出部を持つ前記光学素子を前記調整機構に
セットして、前記リファレンス基板に設定された設定カ
所の前記検出と同じカ所において前記光学素子の前記複
数の検出器による検出を行い、ずれ量を算出し、該ずれ
量がある場合はそのずれ量を補正するように、前記Ｘ
軸、Ｙ軸及び傾きに関する調整を行い、検出結果がすべ
ての検出値において一致するようにすることを特徴とす
る光学素子の位置設定方法が得られる。
Ｙ軸、及びＺ軸方向の傾きに関して、位置調整可能な調
整機構に、光軸を一致させてセットするに際し、複数カ
所に検出部を持つとともに反射部を持つリファレンス基
板を前記調整機構にセットし、前記調整機構の上方に、
前記反射部までの距離を検出する前記複数の検出器を設
置するとともに、光線の通過可能な微小な光通過部を持
つ基板をセットして、前記光通過部を通過した前記光線
が前記リファレンス基板で反射して、再び前記光通過部
に戻るように、前記Ｘ軸、Ｙ軸及び傾きに関して前記調
整機構による調整を行い、そのときの前記複数の検出器
の検出を記録し、次に、前記リファレンス基板に代えて
複数カ所に検出部を持つ前記光学素子を前記調整機構に
セットして、前記リファレンス基板に設定された設定カ
所の前記検出と同じカ所において前記光学素子の前記複
数の検出器による検出を行い、ずれ量を算出し、該ずれ
量がある場合はそのずれ量を補正するように、前記Ｘ
軸、Ｙ軸及び傾きに関する調整を行い、検出結果がすべ
ての検出値において一致するようにすることを特徴とす
る光学素子の位置設定方法が得られる。
【０００９】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の光学素子の位置
設定装置における光学系に適用した部分を示している。
図１を参照して、この装置の構成では、調整に用いる光
線（ここでは、基準光１０と呼ぶ）を通す小さな光通過
部１３ａを持つ基板１３と、図２のＡ，Ｂ，Ｃの検出点
位置にある複数の検出器（以下、これらの検出器をＡ，
Ｂ，Ｃとする）を配置した検出部材１５と、図３に示す
光学素子１７もしくは図４に示すリファレンス基板１９
と、調整機構２１とからなっている。基板１３の光通過
部１３ａは、例えば、微細な円形の穴、角形の穴や細長
いスリットである。
設定装置における光学系に適用した部分を示している。
図１を参照して、この装置の構成では、調整に用いる光
線（ここでは、基準光１０と呼ぶ）を通す小さな光通過
部１３ａを持つ基板１３と、図２のＡ，Ｂ，Ｃの検出点
位置にある複数の検出器（以下、これらの検出器をＡ，
Ｂ，Ｃとする）を配置した検出部材１５と、図３に示す
光学素子１７もしくは図４に示すリファレンス基板１９
と、調整機構２１とからなっている。基板１３の光通過
部１３ａは、例えば、微細な円形の穴、角形の穴や細長
いスリットである。
【００１０】検出部材１５は、図２に示したように、調
整の対象となる光学素子１７との距離を測定するように
３つの角部の近傍にそれぞれ配置された３つの検出器
Ａ，Ｂ，Ｃを有している。ただし、図２中の検出器Ｃ
は、用途、装置の構成によっては省略することができ
る。
整の対象となる光学素子１７との距離を測定するように
３つの角部の近傍にそれぞれ配置された３つの検出器
Ａ，Ｂ，Ｃを有している。ただし、図２中の検出器Ｃ
は、用途、装置の構成によっては省略することができ
る。
【００１１】光学素子１７は、図３に示したように、検
出器Ａ，Ｂ，Ｃで距離を検出することができる作用部分
（反射部）をもたせたものである。すなわち、光学素子
１７は、ホルダなど光学素子１７と相対的に位置、角度
を固定された部分についても一部と見做す。なお、図３
中のＤ，Ｅ，Ｆの検出点位置には、光学素子１７の複数
の検出部（以下、こららの検出器をＤ，Ｅ，Ｆとする）
である。なお、検出器をＥ，Ｆは、用途や装置の構成に
よって省略化することができるものである。
出器Ａ，Ｂ，Ｃで距離を検出することができる作用部分
（反射部）をもたせたものである。すなわち、光学素子
１７は、ホルダなど光学素子１７と相対的に位置、角度
を固定された部分についても一部と見做す。なお、図３
中のＤ，Ｅ，Ｆの検出点位置には、光学素子１７の複数
の検出部（以下、こららの検出器をＤ，Ｅ，Ｆとする）
である。なお、検出器をＥ，Ｆは、用途や装置の構成に
よって省略化することができるものである。
【００１２】リファレンス基板１９は、図４に示すよう
に、検出器Ａ，Ｂ，Ｃで距離の検出を可能にする作用部
分（反射部１９ａ）をもち、かつ光学素子１７とほぼ同
じ条件で光学系に組み込むことができ、かつ調整に用い
る基準光を反射する作用をもつ基板である。なお、図４
中のＧ，Ｈ，Ｉは、リファレンス基板１９の検出点位置
にある検出部（以下、こららの検出部をＧ，Ｈ，Ｉとす
る）である。
に、検出器Ａ，Ｂ，Ｃで距離の検出を可能にする作用部
分（反射部１９ａ）をもち、かつ光学素子１７とほぼ同
じ条件で光学系に組み込むことができ、かつ調整に用い
る基準光を反射する作用をもつ基板である。なお、図４
中のＧ，Ｈ，Ｉは、リファレンス基板１９の検出点位置
にある検出部（以下、こららの検出部をＧ，Ｈ，Ｉとす
る）である。
【００１３】調整機構２１は、図５乃至図７にも示すよ
うに、調整の対象となる光学素子１７，１９の角度を調
整する機構である。この調整機構２１は、一対の保持板
２１ａ，２１ｂと、一対の保持板２１ａ，２１ｂ間で一
方側に介在されてバネ部材２３と、一対の保持板２１
ａ，２１ｂ間で一方側と他方側とにそれぞれ介在とされ
ている一対のボール部材２５と、一対の保持板２１ａ，
２１ｂに挿通されて保持板２１ａ，２１ｂの傾きを調整
するあおり調整ネジ２７とを有している。
うに、調整の対象となる光学素子１７，１９の角度を調
整する機構である。この調整機構２１は、一対の保持板
２１ａ，２１ｂと、一対の保持板２１ａ，２１ｂ間で一
方側に介在されてバネ部材２３と、一対の保持板２１
ａ，２１ｂ間で一方側と他方側とにそれぞれ介在とされ
ている一対のボール部材２５と、一対の保持板２１ａ，
２１ｂに挿通されて保持板２１ａ，２１ｂの傾きを調整
するあおり調整ネジ２７とを有している。
【００１４】また、一対の保持板２１ａ，２１ｂの中央
部分は、透過部２１ａとなっている。なお、検出部Ａ，
Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅ，Ｆ，Ｇ，Ｈ，Ｉの配置は、図１乃至図
４に示した形にとらわれず、本目的を達成するために
は、他の配置であってもよい。
部分は、透過部２１ａとなっている。なお、検出部Ａ，
Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅ，Ｆ，Ｇ，Ｈ，Ｉの配置は、図１乃至図
４に示した形にとらわれず、本目的を達成するために
は、他の配置であってもよい。
【００１５】さらに、調整機構２１は、図中に示した矢
印のＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸方向の調整機能を追加することが
きる。調整機構２１の駆動は、モータ（エンコーダ付き
も含む）などで自動化することも可能である。
印のＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸方向の調整機能を追加することが
きる。調整機構２１の駆動は、モータ（エンコーダ付き
も含む）などで自動化することも可能である。
【００１６】次に、本発明の光学素子の位置設定方法に
おける調整作業について説明する。調整作業は、二段階
で行われる。
おける調整作業について説明する。調整作業は、二段階
で行われる。
【００１７】まず、第一段階として、リファレンス基板
１９を光学系に取り付ける。基準光１０のリファレンス
基板１９からの反射光が、基板１３の小さな光通過部１
３ａに正確に戻るように、調整機構２１を用いて調整す
る。調整が完了した後、検出器Ａ，Ｂ，Ｃの読取値（距
離値）を記録する。
１９を光学系に取り付ける。基準光１０のリファレンス
基板１９からの反射光が、基板１３の小さな光通過部１
３ａに正確に戻るように、調整機構２１を用いて調整す
る。調整が完了した後、検出器Ａ，Ｂ，Ｃの読取値（距
離値）を記録する。
【００１８】次に、第二段階として、リファレンス基板
１９は、調整の対象とする光学素子７に交換する。ここ
で、検出器Ａ，Ｂ，Ｃからの読取値を調整機構２１で記
録した各々の検出器Ａ，Ｂ，Ｃの値と比較し、読取値に
差があった場合には、それを補正するように、調整機構
２１を調整し、リファレンス基板１９によって調整され
た値と読取値とが同じになるようにする。
１９は、調整の対象とする光学素子７に交換する。ここ
で、検出器Ａ，Ｂ，Ｃからの読取値を調整機構２１で記
録した各々の検出器Ａ，Ｂ，Ｃの値と比較し、読取値に
差があった場合には、それを補正するように、調整機構
２１を調整し、リファレンス基板１９によって調整され
た値と読取値とが同じになるようにする。
【００１９】すなわち、リファレンス基板１９に代えて
光学素子１７を調整機構２１にセットして、リファレン
ス基板１９に設定された設定カ所の検出と同じカ所にお
いて複数の検出器Ａ，Ｂ，Ｃによる検出を行い、ずれ量
を算出し、ずれ量がある場合はそのずれ量を補正するよ
うに、Ｘ軸、Ｙ軸及び傾きに関する調整を行い、検出結
果がすべての検出値において一致するようにする。
光学素子１７を調整機構２１にセットして、リファレン
ス基板１９に設定された設定カ所の検出と同じカ所にお
いて複数の検出器Ａ，Ｂ，Ｃによる検出を行い、ずれ量
を算出し、ずれ量がある場合はそのずれ量を補正するよ
うに、Ｘ軸、Ｙ軸及び傾きに関する調整を行い、検出結
果がすべての検出値において一致するようにする。
【００２０】また、光学素子１７とリファレンス基板１
９との厚みの差が予測される場合には、検出器Ｃ−Ａ、
検出器Ｃ−Ｂといった演算処理を用いて比較し、オフセ
ット量（図６及び図７に示すＺ方向）の影響を除くこと
ができる。このように、Ｚ方向の調整を調整機構２１に
加えることで光学素子１７の距離の調整も可能になる。
９との厚みの差が予測される場合には、検出器Ｃ−Ａ、
検出器Ｃ−Ｂといった演算処理を用いて比較し、オフセ
ット量（図６及び図７に示すＺ方向）の影響を除くこと
ができる。このように、Ｚ方向の調整を調整機構２１に
加えることで光学素子１７の距離の調整も可能になる。
【００２１】なお、本発明の光学素子の位置設定方法に
おいては、検出器Ａ，Ｂ，Ｃから得られた値を数値化す
ることができ、数値データとして変異量をとらえること
ができるので、調整機構２１に駆動装置をもちいること
で自動化することが可能である。同様に、アナログデー
タとして検出し、ハードウエア演算回路を用いての自動
化も可能である。
おいては、検出器Ａ，Ｂ，Ｃから得られた値を数値化す
ることができ、数値データとして変異量をとらえること
ができるので、調整機構２１に駆動装置をもちいること
で自動化することが可能である。同様に、アナログデー
タとして検出し、ハードウエア演算回路を用いての自動
化も可能である。
【００２２】
【発明の効果】以上、実施の形態によって説明したよう
に、本発明の光学素子の位置設定装置、及び光学素子の
位置設定方法によると、調整のための用いる基準光の調
整対象の光学素子における反射光が調整のために十分良
好な条件でない場合にも、調整が可能となる。
に、本発明の光学素子の位置設定装置、及び光学素子の
位置設定方法によると、調整のための用いる基準光の調
整対象の光学素子における反射光が調整のために十分良
好な条件でない場合にも、調整が可能となる。
【００２３】また、本発明では、光学素子を光学系の光
軸に対して精度よく取り付け調整することができる。
軸に対して精度よく取り付け調整することができる。
【００２４】また、本発明では、光学系から得られる結
像または焦点の品質、再現性およびその位置の制御性を
向上させることができる。
像または焦点の品質、再現性およびその位置の制御性を
向上させることができる。
【００２５】また、本発明では、解像度、スポット径、
歪み、焦点深度などの性能を実際のの装置上で実現する
ことができる。
歪み、焦点深度などの性能を実際のの装置上で実現する
ことができる。
【図１】本発明の光学素子の位置設定装置の光学系に適
用した部分を示す構成図である。
用した部分を示す構成図である。
【図２】図１に示した検出器を示す平面図である。
【図３】図１に示した光学素子を示す平面図である。
【図４】図１に示したリファレンス基板を示す平面図で
ある。
ある。
【図５】図１に示した調整機構を示す平面図である。
【図６】図５に示した調整機構のVI-VI 断面図である。
【図７】図５に示した調整機構のVII-VII 断面図であ
る。
る。
１０ 基準光 １３ 基板 １５ 検出部材 １７ 光学素子 １９ リファレンス基板 ２１ 調整機構 Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅ，Ｆ，Ｇ，Ｈ，Ｉ 検出点（検出
部）
部）
Claims (4)
- 【請求項１】 光学素子をＸ軸、Ｙ軸、及びＺ軸方向の
傾きに関して、位置調整可能な調整機構と、調整に用い
る光線を通す光通過部を持つ基板とを含む光学素子の位
置設定装置において、前記調整機構に光軸を一致させて
前記光学素子をセットする前に、前記光通過部を通過し
た前記光線を前記光通過部に戻るように、前記Ｘ軸、Ｙ
軸及び傾きに関して前記調整機構による調整を行うため
のリファレンス基板を有し、該リファレンス基板は、前
記光通過部を通過した前記光線を反射させて、前記光通
過部に戻す反射部を有していることを特徴とする光学素
子の位置設定装置。 - 【請求項２】 請求項１記載の光学素子の位置設定装置
において、前記リファレンス基板は、前記反射部までの
距離を検出する複数の検出器を有していることをことを
特徴とする光学素子の位置設定装置。 - 【請求項３】 光学素子をＸ軸、Ｙ軸、及びＺ軸方向の
傾きに関して、位置調整可能な調整機構に、光軸を一致
させてセットするに際し、複数カ所に検出部を持つとと
もに反射部を持つリファレンス基板を前記調整機構にセ
ットし、前記調整機構の上方に、前記反射部までの距離
を検出する前記複数の検出器を設置するとともに、光線
の通過可能な光通過部を持つ基板をセットして、前記光
通過部を通過した前記光線が前記リファレンス基板で反
射して、再び前記光通過部に戻るように、前記Ｘ軸、Ｙ
軸及び傾きに関して前記調整機構による調整を行い、そ
のときの前記複数の検出器の検出を記録し、 次に、前記リファレンス基板に代えて複数カ所に検出部
を持つ前記光学素子を前記調整機構にセットして、前記
リファレンス基板に設定された設定カ所の前記検出と同
じカ所において前記光学素子の前記複数の検出器による
検出を行い、ずれ量を算出し、該ずれ量がある場合はそ
のずれ量を補正するように、前記Ｘ軸、Ｙ軸及び傾きに
関する調整を行い、検出結果がすべての検出値において
一致するようにすることを特徴とする光学素子の位置設
定方法。 - 【請求項４】 請求項３記載の光学素子の位置設定方法
において、前記光学素子と、前記リファレンス基板との
厚さが異なる場合は、あらかじめその差を考慮して補正
を行うことを特徴とする光学素子の位置設定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8446098A JPH11281319A (ja) | 1998-03-30 | 1998-03-30 | 光学素子の位置設定装置、及び光学素子の位置設定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8446098A JPH11281319A (ja) | 1998-03-30 | 1998-03-30 | 光学素子の位置設定装置、及び光学素子の位置設定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11281319A true JPH11281319A (ja) | 1999-10-15 |
Family
ID=13831246
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8446098A Withdrawn JPH11281319A (ja) | 1998-03-30 | 1998-03-30 | 光学素子の位置設定装置、及び光学素子の位置設定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11281319A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101370813B1 (ko) * | 2011-05-25 | 2014-03-10 | 메탈젠텍 주식회사 | 광학모듈, 반사판모듈, 광원모듈 및 이를 구비한 수평측정장치 |
| JP2014509750A (ja) * | 2011-03-30 | 2014-04-21 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー．ブイ． | 露光ツール用干渉計モジュールのアライメント |
| US9551563B2 (en) | 2012-09-27 | 2017-01-24 | Mapper Lithography Ip B.V. | Multi-axis differential interferometer |
-
1998
- 1998-03-30 JP JP8446098A patent/JPH11281319A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014509750A (ja) * | 2011-03-30 | 2014-04-21 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー．ブイ． | 露光ツール用干渉計モジュールのアライメント |
| US9678443B2 (en) | 2011-03-30 | 2017-06-13 | Mapper Lithography Ip B.V. | Lithography system with differential interferometer module |
| US9690215B2 (en) | 2011-03-30 | 2017-06-27 | Mapper Lithography Ip B.V. | Interferometer module |
| KR101370813B1 (ko) * | 2011-05-25 | 2014-03-10 | 메탈젠텍 주식회사 | 광학모듈, 반사판모듈, 광원모듈 및 이를 구비한 수평측정장치 |
| US9551563B2 (en) | 2012-09-27 | 2017-01-24 | Mapper Lithography Ip B.V. | Multi-axis differential interferometer |
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Legal Events
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| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050607 |