JPH11279145A - Ｎ―アルケニルカルボキシアミドの製造方法 - Google Patents
Ｎ―アルケニルカルボキシアミドの製造方法Info
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- JPH11279145A JPH11279145A JP11007385A JP738599A JPH11279145A JP H11279145 A JPH11279145 A JP H11279145A JP 11007385 A JP11007385 A JP 11007385A JP 738599 A JP738599 A JP 738599A JP H11279145 A JPH11279145 A JP H11279145A
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
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- C07D207/22—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D207/24—Oxygen or sulfur atoms
- C07D207/26—2-Pyrrolidones
- C07D207/263—2-Pyrrolidones with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms directly attached to other ring carbon atoms
- C07D207/267—2-Pyrrolidones with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms directly attached to other ring carbon atoms with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J29/00—Catalysts comprising molecular sieves
- B01J29/04—Catalysts comprising molecular sieves having base-exchange properties, e.g. crystalline zeolites
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- B01J29/061—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof containing metallic elements added to the zeolite
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高い転化率と、選択性の達成を可能とし、し
かも大気圧下に行なわれ得る、Ｎ−（２−ヒドロキシア
ルキル）カルボキシアミドおよび／またはそのジエーテ
ルを脱水することによりＮ−アルケニルカルボキシアミ
ドの製造方法、ことにＨＥＰからＮＶＰを合成する方法
を提供すること。 【解決手段】 触媒の存在下において、Ｎ−（２−ヒド
ロキシアルキル）カルボキシアミドおよび／またはその
ジエーテルを脱水することによりＮ−アルケニルカルボ
キシアミドを製造する方法において、触媒として分子
篩、ことにゼオライトを使用することを特徴とする方
法。
かも大気圧下に行なわれ得る、Ｎ−（２−ヒドロキシア
ルキル）カルボキシアミドおよび／またはそのジエーテ
ルを脱水することによりＮ−アルケニルカルボキシアミ
ドの製造方法、ことにＨＥＰからＮＶＰを合成する方法
を提供すること。 【解決手段】 触媒の存在下において、Ｎ−（２−ヒド
ロキシアルキル）カルボキシアミドおよび／またはその
ジエーテルを脱水することによりＮ−アルケニルカルボ
キシアミドを製造する方法において、触媒として分子
篩、ことにゼオライトを使用することを特徴とする方
法。
Description
【０００１】
【技術分野】本発明は、Ｎ−（２−ヒドロキシアルキ
ル）カルボキシアミドおよび／またはそのジエーテルを
触媒の存在下に脱水してＮ−アルケニルカルボキシアミ
ドを製造する方法に関する。
ル）カルボキシアミドおよび／またはそのジエーテルを
触媒の存在下に脱水してＮ−アルケニルカルボキシアミ
ドを製造する方法に関する。
【０００２】
【従来技術】Ｎ−アルケニルカルボキシアミドは、各種
工業製品に広く使用されている。例えばＮ−ビニルピロ
リドン（ＮＶＰ）は、ポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）
（ＰＶＰ）を製造するために使用される。このＰＶＰ
は、例えばヘアスプレーの添加剤として、軟膏における
ＰＶＰ／沃素錯体として、溶融押出ペレットの組成分と
して、あるいはビール醸造における清澄剤として使用さ
れ、ＮＶＰは、アセチレンを使用してピロリドンをビニ
ル化する、いわゆるレッペ法により製造され得る。しか
しながら、ピロリドンの製造にも使用されるアセチレン
の工業的規模の取扱は、その反応性の故に困難であり、
かつ危険を伴なう。
工業製品に広く使用されている。例えばＮ−ビニルピロ
リドン（ＮＶＰ）は、ポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）
（ＰＶＰ）を製造するために使用される。このＰＶＰ
は、例えばヘアスプレーの添加剤として、軟膏における
ＰＶＰ／沃素錯体として、溶融押出ペレットの組成分と
して、あるいはビール醸造における清澄剤として使用さ
れ、ＮＶＰは、アセチレンを使用してピロリドンをビニ
ル化する、いわゆるレッペ法により製造され得る。しか
しながら、ピロリドンの製造にも使用されるアセチレン
の工業的規模の取扱は、その反応性の故に困難であり、
かつ危険を伴なう。
【０００３】ＮＶＰを得るための他のルートは、容易に
入手可能のブチロラクトンおよびモノエタノールアミン
から製造されるＮ−（２−ヒドロキシエチル）ピロリド
ン（ＨＥＰ）の脱水である。この種の多くの方法が各種
文献に記載されている。
入手可能のブチロラクトンおよびモノエタノールアミン
から製造されるＮ−（２−ヒドロキシエチル）ピロリド
ン（ＨＥＰ）の脱水である。この種の多くの方法が各種
文献に記載されている。
【０００４】西独特願公開２１３５２１１号公報には、
ジルコニウム、トリウム、セリウム、亜鉛、クロムまた
は亜鉛／クロムの酸化物を触媒として使用するＮ−ビニ
ルピロリドンの製造が記載されている。
ジルコニウム、トリウム、セリウム、亜鉛、クロムまた
は亜鉛／クロムの酸化物を触媒として使用するＮ−ビニ
ルピロリドンの製造が記載されている。
【０００５】米国特許２６６９５７０号明細書において
は、活性化された酸化アルミニウムが、脱水触媒として
使用されている。
は、活性化された酸化アルミニウムが、脱水触媒として
使用されている。
【０００６】欧州特願公開６０８６９０号公報には、燐
酸で処理した二酸化珪素またはランタンの硝酸塩および
燐酸塩で処理した珪藻土の使用が記載されている。
酸で処理した二酸化珪素またはランタンの硝酸塩および
燐酸塩で処理した珪藻土の使用が記載されている。
【０００７】同７０１９９８号公報においては、アルカ
リ金属塩でドーピングした二酸化珪素が使用されてい
る。
リ金属塩でドーピングした二酸化珪素が使用されてい
る。
【０００８】しかしながら、これらの方法は、あるもの
は減圧下に行なわねばならず、またあるものは選択性が
著しく低い。
は減圧下に行なわねばならず、またあるものは選択性が
著しく低い。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】そこで、この技術分野
の課題ないし本発明の目的は、高い転化率と、選択性の
達成を可能とし、しかも大気圧下に行なわれ得る、Ｎ−
（２−ヒドロキシアルキル）カルボキシアミドおよび／
またはそのジエーテルを脱水することによりＮ−アルケ
ニルカルボキシアミドの製造方法、ことにＨＥＰからＮ
ＶＰを合成する方法を提供することである。
の課題ないし本発明の目的は、高い転化率と、選択性の
達成を可能とし、しかも大気圧下に行なわれ得る、Ｎ−
（２−ヒドロキシアルキル）カルボキシアミドおよび／
またはそのジエーテルを脱水することによりＮ−アルケ
ニルカルボキシアミドの製造方法、ことにＨＥＰからＮ
ＶＰを合成する方法を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】しかるに、この課題ない
し目的は、上述した反応における触媒として、分子篩、
ことにゼオライトを使用することにより解決ないし達成
されることが本発明者らにより見出された。
し目的は、上述した反応における触媒として、分子篩、
ことにゼオライトを使用することにより解決ないし達成
されることが本発明者らにより見出された。
【００１１】この分子篩を基礎とする触媒は、モジュラ
ス、すなわち二酸化珪素として計算される珪素の、二酸
化アルミニウムとして計算されるアルミニウムに対する
割合が少なくとも１４０、好ましくは１５０、ことに２
００、なかんずく２５０である場合、ＨＥＰからＮＶＰ
を高い選択性を以て製造するのにことに適する。
ス、すなわち二酸化珪素として計算される珪素の、二酸
化アルミニウムとして計算されるアルミニウムに対する
割合が少なくとも１４０、好ましくは１５０、ことに２
００、なかんずく２５０である場合、ＨＥＰからＮＶＰ
を高い選択性を以て製造するのにことに適する。
【００１２】低いモジュラス、すなわち酸中心が高密度
の場合には、ＮＶＰ選択性は低い。ＨＥＰ２分子からの
Ｈ2 Ｏ除去によりもたらされるエーテルの優勢的形成の
ためである。しかしながら、このエーテル自体がＮＶＰ
製造のための出発材料として作用し得る。従って、これ
は循環的に使用され、連続的合成においては、収率の低
減をもたらすことはない。
の場合には、ＮＶＰ選択性は低い。ＨＥＰ２分子からの
Ｈ2 Ｏ除去によりもたらされるエーテルの優勢的形成の
ためである。しかしながら、このエーテル自体がＮＶＰ
製造のための出発材料として作用し得る。従って、これ
は循環的に使用され、連続的合成においては、収率の低
減をもたらすことはない。
【００１３】高モジュラス、すなわち酸性中心が低密度
の場合、高いＮＶＰの選択性および収率と共にピロリド
ンを形成する傾向の減少が認められる。分子篩、ことに
ゼオライトを、少なくとも一種類のアルカリ金属または
アルカリ土類金属の化合物でドーピング処理するとき
は、エーテルの形成はさらに低減される。ドーピング
は、アルカリ金属で、ことにナトリウムおよび／または
カリウムの塩で行なうのが好ましい。この場合には、Ｈ
ＥＰのジエーテルは実質的に形成されない。さらにピロ
リドン形成も著しく低減され、転化率は高くなる。
の場合、高いＮＶＰの選択性および収率と共にピロリド
ンを形成する傾向の減少が認められる。分子篩、ことに
ゼオライトを、少なくとも一種類のアルカリ金属または
アルカリ土類金属の化合物でドーピング処理するとき
は、エーテルの形成はさらに低減される。ドーピング
は、アルカリ金属で、ことにナトリウムおよび／または
カリウムの塩で行なうのが好ましい。この場合には、Ｈ
ＥＰのジエーテルは実質的に形成されない。さらにピロ
リドン形成も著しく低減され、転化率は高くなる。
【００１４】触媒としては、ことにタイプＺＳＭ５（Ｍ
ＦＩ）、Ｙ（ＦＡＵ）、ＬＤＫ１０またはシリカライト
のゼオライトを使用するのが好ましい。
ＦＩ）、Ｙ（ＦＡＵ）、ＬＤＫ１０またはシリカライト
のゼオライトを使用するのが好ましい。
【００１５】本発明方法において使用される触媒は、静
態的または撹拌式触媒床における成形体として使用され
るのが好ましい。成形体は、例えば押出成形体または球
体であって、その成形には、コンデア社のＰｕｒａｌ
（登録商標）、ヴォルフ／ヴァルスローデ社のＷａｌｏ
ｃｅｌ（登録商標）、ポテトスターチまたはデグッサ社
のＡｅｒｏｓｉｌ（登録商標）、ことにＷａｌｏｃｅｌ
とＡｅｒｏｓｉｌが助剤として有利に使用される。成形
体における助剤の割合は０から６０重量％、ことに１０
から４０重量％である。
態的または撹拌式触媒床における成形体として使用され
るのが好ましい。成形体は、例えば押出成形体または球
体であって、その成形には、コンデア社のＰｕｒａｌ
（登録商標）、ヴォルフ／ヴァルスローデ社のＷａｌｏ
ｃｅｌ（登録商標）、ポテトスターチまたはデグッサ社
のＡｅｒｏｓｉｌ（登録商標）、ことにＷａｌｏｃｅｌ
とＡｅｒｏｓｉｌが助剤として有利に使用される。成形
体における助剤の割合は０から６０重量％、ことに１０
から４０重量％である。
【００１６】脱水反応は気相において、必要であれば担
体ガスの存在下に行なわれる。この場合、静態的もしく
は撹拌式触媒床、ことに前者を使用するのが好ましい。
体ガスの存在下に行なわれる。この場合、静態的もしく
は撹拌式触媒床、ことに前者を使用するのが好ましい。
【００１７】反応は連続的に、２００から４５０℃の温
度で行なうのが好ましい。温度が高過ぎると好ましくな
い副生成物が形成され、低過ぎると転化率が低下し、経
済的に不利である。ことに２００から４００℃が好まし
い。
度で行なうのが好ましい。温度が高過ぎると好ましくな
い副生成物が形成され、低過ぎると転化率が低下し、経
済的に不利である。ことに２００から４００℃が好まし
い。
【００１８】担体ガスとしては、例えばアルゴンまたは
窒素、ことに後者が好ましい。反応は０．０５から５バ
ールまでの圧力下、ことに大気圧下で行なわれるのが好
ましい。不活性ガスは、０から９０モル％、ことに５０
から８５モル％の割合で反応器に給送される。
窒素、ことに後者が好ましい。反応は０．０５から５バ
ールまでの圧力下、ことに大気圧下で行なわれるのが好
ましい。不活性ガスは、０から９０モル％、ことに５０
から８５モル％の割合で反応器に給送される。
【００１９】単位時間当たり、触媒容積単位当たりのＮ
−（２−ヒドロキシアルキル）カルボキシアミド量とし
て示される触媒上空間速度は、０．５から３０モル／ｌ
ｈ、ことに１から１５モル／ｌｈである。空間速度が低
過ぎると時空収率が低下し、高過ぎると転化が不満足と
なり、後処理のコストを増大させる。
−（２−ヒドロキシアルキル）カルボキシアミド量とし
て示される触媒上空間速度は、０．５から３０モル／ｌ
ｈ、ことに１から１５モル／ｌｈである。空間速度が低
過ぎると時空収率が低下し、高過ぎると転化が不満足と
なり、後処理のコストを増大させる。
【００２０】副生成物としてもたらされる未脱水のＮ−
（２−ヒドロキシアルキル）カルボキシアミドおよび／
またはそのジエーテルは、連続的方法における脱水に循
環使用するのが好ましい。
（２−ヒドロキシアルキル）カルボキシアミドおよび／
またはそのジエーテルは、連続的方法における脱水に循
環使用するのが好ましい。
【００２１】Ｎ−（２−ヒドロキシアルキル）カルボキ
シアミドとしては、Ｃ2 −Ｃ12アルキル化合物、好まし
くはＣ2 −Ｃ6 アルキル化合物、ことに（２−ヒドロキ
シエチル）ピロリドンまたはそのジエーテルを使用する
のが好ましい。
シアミドとしては、Ｃ2 −Ｃ12アルキル化合物、好まし
くはＣ2 −Ｃ6 アルキル化合物、ことに（２−ヒドロキ
シエチル）ピロリドンまたはそのジエーテルを使用する
のが好ましい。
【００２２】本発明を以下の実施例によりさらに具体的
に説明する。
に説明する。
【００２３】
【実施例】（触媒の製造） 触媒Ａ ５００ｇのＬＤＫ１０（ＵＳＹ、Ｕｅｔｉｋｏｎ社、ｍ
ｏｄ．５．２）を、３５ｇのヴォルフ／ヴァルスローデ
社製Ｗａｌｃｅｌおよび４７０ｍｌの水と混練機により
１時間混練し、８０バールのプレス圧で２ｍｍ径の押出
成形体とした。これを１１０℃で１６時間乾燥し、５０
０℃で１６時間か焼した。
ｏｄ．５．２）を、３５ｇのヴォルフ／ヴァルスローデ
社製Ｗａｌｃｅｌおよび４７０ｍｌの水と混練機により
１時間混練し、８０バールのプレス圧で２ｍｍ径の押出
成形体とした。これを１１０℃で１６時間乾燥し、５０
０℃で１６時間か焼した。
【００２４】触媒Ｂ １６０ｇのＨ−ＺＳＭ−５（ＶＡＷ社、ｍｏｄ．２８．
６）を、４０ｇのデグッサ社製Ａｅｒｏｓｉｌ（登録商
標）２００、５％のポテトスターチ、および１８５ｇの
水と共に混練機で４５分間混和し、９０バールのプレス
圧で２ｍｍ径の押出成形体とし、１１０℃で１６時間乾
燥し、５００℃で１６時間か焼した。
６）を、４０ｇのデグッサ社製Ａｅｒｏｓｉｌ（登録商
標）２００、５％のポテトスターチ、および１８５ｇの
水と共に混練機で４５分間混和し、９０バールのプレス
圧で２ｍｍ径の押出成形体とし、１１０℃で１６時間乾
燥し、５００℃で１６時間か焼した。
【００２５】触媒Ｃ １２０ｇのＨ−ＺＳＭ−５（Ｕｅｔｉｋｏｎ社、ｍｏ
ｄ．５７．４）を、混練機により、５％のポテトスター
チおよび２００ｇの水と４５分間混和し、１１０バール
のプレス圧で２ｍｍ径の押出成形体を形成し、１１０℃
で１６時間乾燥し、５００℃で１６時間か焼した。
ｄ．５７．４）を、混練機により、５％のポテトスター
チおよび２００ｇの水と４５分間混和し、１１０バール
のプレス圧で２ｍｍ径の押出成形体を形成し、１１０℃
で１６時間乾燥し、５００℃で１６時間か焼した。
【００２６】触媒Ｄ ７００ｇのＮＨ4 −ＺＳＭ−５（Ｃｏｎｄｅｋａ社、ｍ
ｏｄ．１４０）を、混練機により７％のＷａｌｏｃｅｌ
（登録商標）、３３０ｇの水およびＮＨ4 ＯＨの２％溶
液と４５分間混和し、次いで９０バールのプレス圧で２
ｍｍ径の押出成形体とし、１１０℃で１６時間乾燥、５
００℃で１６時間か焼した。
ｏｄ．１４０）を、混練機により７％のＷａｌｏｃｅｌ
（登録商標）、３３０ｇの水およびＮＨ4 ＯＨの２％溶
液と４５分間混和し、次いで９０バールのプレス圧で２
ｍｍ径の押出成形体とし、１１０℃で１６時間乾燥、５
００℃で１６時間か焼した。
【００２７】触媒Ｅ ８００ｇのＮａ−Ｙゼオライト（ＢＡＳＦ社、ｍｏｄ．
３．３）を、撹拌しながら、８０℃において２時間にわ
たり、ＮＨ4 ＯＨの２０％溶液（１：５）でイオン交換
に附し、硝酸塩が無くなるまで水洗し、１１０℃で乾
燥、５９０℃で２時間か焼した。この処理を３回反覆し
た。これにより得られた生成物を、２ＮのＨＮＯ3 溶液
（１：６）中において、９５℃で３時間撹拌し、加熱水
で洗浄し、１１０℃で乾燥、５３０℃で４時間か焼し
た。このようにして得られた生成物は、ＸＲＤパターン
によると、ホージャサイトタイプのゼオライトであっ
た。元素分析の結果、モジュラスは１４９であった。こ
のゼオライト２００ｇを、混練機により、ヴォルフ／ヴ
ァルスローデ社のＷａｌｏｃｅｌ（登録商標）８％およ
び水２２０ｇと４５分間混和し、１００バールのプレス
圧で２ｍｍ径の押出成形体とし、１１０℃で乾燥、５０
０℃で１６時間か焼した。
３．３）を、撹拌しながら、８０℃において２時間にわ
たり、ＮＨ4 ＯＨの２０％溶液（１：５）でイオン交換
に附し、硝酸塩が無くなるまで水洗し、１１０℃で乾
燥、５９０℃で２時間か焼した。この処理を３回反覆し
た。これにより得られた生成物を、２ＮのＨＮＯ3 溶液
（１：６）中において、９５℃で３時間撹拌し、加熱水
で洗浄し、１１０℃で乾燥、５３０℃で４時間か焼し
た。このようにして得られた生成物は、ＸＲＤパターン
によると、ホージャサイトタイプのゼオライトであっ
た。元素分析の結果、モジュラスは１４９であった。こ
のゼオライト２００ｇを、混練機により、ヴォルフ／ヴ
ァルスローデ社のＷａｌｏｃｅｌ（登録商標）８％およ
び水２２０ｇと４５分間混和し、１００バールのプレス
圧で２ｍｍ径の押出成形体とし、１１０℃で乾燥、５０
０℃で１６時間か焼した。
【００２８】触媒Ｆ ２４０ｇのＨ−ＺＳＭ−５（ＢＡＳＦ社、ｍｏｄ．３８
６）を、混練機により、Ｃｏｎｄｅａ社のＰｕｒａｌ
（登録商標）、２％の蟻酸、および１８０ｇの水と４５
分間混和し、次いで７０バールのプレス圧で２ｍｍ径の
押出成形体とし、１１０℃で１６時間乾燥、５００℃で
１６時間か焼した。
６）を、混練機により、Ｃｏｎｄｅａ社のＰｕｒａｌ
（登録商標）、２％の蟻酸、および１８０ｇの水と４５
分間混和し、次いで７０バールのプレス圧で２ｍｍ径の
押出成形体とし、１１０℃で１６時間乾燥、５００℃で
１６時間か焼した。
【００２９】触媒Ｇ 前記触媒Ｅの押出成形体１００ｍｌを、３００ｍｌの水
に溶解させた酢酸カリウム３０ｇの溶液と共に、８０℃
で２４時間撹拌した。これを濾別し、加熱水で洗浄し、
１１０℃で乾燥、５００℃で１６時間か焼した。
に溶解させた酢酸カリウム３０ｇの溶液と共に、８０℃
で２４時間撹拌した。これを濾別し、加熱水で洗浄し、
１１０℃で乾燥、５００℃で１６時間か焼した。
【００３０】触媒Ｈ ２４０ｇのボロシリカライト（ＢＡＳＦ社、ｍｏｄ．３
４０）を、混練機により、１０５ｇのＡｅｒｏｓｉｌ
（登録商標）２００、５％のポテトスターチ、および２
００ｇの水と４５分間混和し、７０バールのプレス圧で
２ｍｍ径の押出成形体とし、１１０℃で１６時間乾燥、
５００℃で１６時間か焼した。このようにして得られた
生成物３０ｇを、１８ｇの水に溶解させた３ｇの炭酸カ
リウムの溶液で含浸させ、６０℃および１１０℃で乾
燥、５４０℃で２時間か焼した。
４０）を、混練機により、１０５ｇのＡｅｒｏｓｉｌ
（登録商標）２００、５％のポテトスターチ、および２
００ｇの水と４５分間混和し、７０バールのプレス圧で
２ｍｍ径の押出成形体とし、１１０℃で１６時間乾燥、
５００℃で１６時間か焼した。このようにして得られた
生成物３０ｇを、１８ｇの水に溶解させた３ｇの炭酸カ
リウムの溶液で含浸させ、６０℃および１１０℃で乾
燥、５４０℃で２時間か焼した。
【００３１】触媒Ｊ ２４０ｇのＺＳＭ−５（ＢＡＳＦ社、ｍｏｄ．３８６）
を、混練機により、１６０ｇのＰｕｒａｌ（６０：４
０）、２％の蟻酸、および１８０ｇの水と４５分間混和
し、７０バールのプレス圧で２ｍｍ径の押出成形体と
し、１１０℃で乾燥、５００℃で１６時間か焼した。こ
のようにして得られた生成物１００ｍｌを、８０℃にお
いて、３００ｍｌの水に溶解させた２９．４４ｇの酢酸
カリウムの溶液で２４時間処理し、１１０℃で乾燥、５
００℃で１６時間か焼した。
を、混練機により、１６０ｇのＰｕｒａｌ（６０：４
０）、２％の蟻酸、および１８０ｇの水と４５分間混和
し、７０バールのプレス圧で２ｍｍ径の押出成形体と
し、１１０℃で乾燥、５００℃で１６時間か焼した。こ
のようにして得られた生成物１００ｍｌを、８０℃にお
いて、３００ｍｌの水に溶解させた２９．４４ｇの酢酸
カリウムの溶液で２４時間処理し、１１０℃で乾燥、５
００℃で１６時間か焼した。
【００３２】（脱水） 一般的実験処理 実験は、内径２０ｍｍの電気加熱式竪型管状反応器で行
なった。これに上述した触媒押出成形体（３０ｍｌ）を
触媒床として装填した。この触媒床上に石英リング床
（５０ｍｌ）を設け、上方から給送される液状出発材料
用の揮発層とした。触媒床の温度を、中央に配置され、
上下方向に運動可能の熱電対により測定し、制御した。
担体ガス流として高純度の窒素を別個に計量給送した。
生成物流を反応器底部から取出し、コイル冷却器により
完全に凝縮させ、内標準を使用して、ガスクロマトグラ
フィー分析した。その結果は、安定状態に達してから数
時間にわたって測定された数値の平均値から得られたも
のである。標準条件、３５０℃、大気圧、ＨＥＰの空間
速度２．３モル／ｌｈ、窒素の空間速度１０モル／ｌ
ｈ。
なった。これに上述した触媒押出成形体（３０ｍｌ）を
触媒床として装填した。この触媒床上に石英リング床
（５０ｍｌ）を設け、上方から給送される液状出発材料
用の揮発層とした。触媒床の温度を、中央に配置され、
上下方向に運動可能の熱電対により測定し、制御した。
担体ガス流として高純度の窒素を別個に計量給送した。
生成物流を反応器底部から取出し、コイル冷却器により
完全に凝縮させ、内標準を使用して、ガスクロマトグラ
フィー分析した。その結果は、安定状態に達してから数
時間にわたって測定された数値の平均値から得られたも
のである。標準条件、３５０℃、大気圧、ＨＥＰの空間
速度２．３モル／ｌｈ、窒素の空間速度１０モル／ｌ
ｈ。
【００３３】
【表１】
【００３４】
【表２】
【００３５】
【表３】 実施例９から１１の結果から認められるように、ＮＶＰ
に関する選択性は、広範囲の空間速度にわたって実質上
一定である。
に関する選択性は、広範囲の空間速度にわたって実質上
一定である。
【００３６】
【表４】 実施例１２の上記結果から認められるように、この触媒
組成物は、連続的方法においてジエーテルを循環使用し
て、ジエーテルをＮＶＰに転化するのに適する。本実施
例は、温度を４００℃としたほかは、上記標準条件下に
行なわれた。
組成物は、連続的方法においてジエーテルを循環使用し
て、ジエーテルをＮＶＰに転化するのに適する。本実施
例は、温度を４００℃としたほかは、上記標準条件下に
行なわれた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｃ 233/02 Ｃ０７Ｃ 233/02 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 トーマス、ナルベスフーバー ドイツ、67069、ルートヴィッヒスハーフ ェン、クルト−シューマハー−シュトラー セ、29 (72)発明者 オイゲーン、ゲーラー ドイツ、67069、ルートヴィッヒスハーフ ェン、ロンドナー、リング、２
Claims (10)
- 【請求項１】 触媒の存在下において、Ｎ−（２−ヒド
ロキシアルキル）カルボキシアミドおよび／またはその
ジエーテルを脱水することによりＮ−アルケニルカルボ
キシアミドを製造する方法において、触媒として分子
篩、ことにゼオライトを使用することを特徴とする方
法。 - 【請求項２】 分子篩のモジュラスが少なくとも１４０
であることを特徴とする、請求項（１）の方法。 - 【請求項３】 使用される触媒が、タイプＺＳＭ５（Ｍ
ＦＩ）、Ｙ（ＦＡＵ）、ＬＤＫ１０またはシリカライト
のゼオライトであることを特徴とする、請求項（１）ま
たは（２）の方法。 - 【請求項４】 触媒が、少なくとも一種類のアルカリ金
属化合物またはアルカリ土類金属化合物でドーピング処
理されていることを特徴とする、請求項（１）から
（３）のいずれかの方法。 - 【請求項５】 触媒が、静態的もしくは撹拌触媒床にお
ける有形体として使用されることを特徴とする、請求項
（１）から（４）のいずれかの方法。 - 【請求項６】 脱水反応が、担体ガスの存在もしくは不
存在下に、気相において行なわれることを特徴とする、
請求項（１）から（５）のいずれかの方法。 - 【請求項７】 脱水反応が、連続的に行なわれることを
特徴とする、請求項（１）から（６）の方法。 - 【請求項８】 副生成物として形成される未脱水のＮ−
（２−ヒドロキシアルキル）カルボキシアミドおよび／
またはそのジエーテルを脱水反応に循環給送することを
特徴とする、請求項（７）の方法。 - 【請求項９】 （２−ヒドロキシエチル）ピロリドンま
たはそのジエーテルを脱水することを特徴とする、請求
項（１）から（８）のいずれかの方法。 - 【請求項１０】 請求項（１）から（５）のいずれかに
記載された分子篩を、Ｎ−（２−ヒドロキシアルキル）
カルボキシアミドおよび／またはそのジエーテルの脱水
反応触媒として使用する方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19801549.6 | 1998-01-16 | ||
| DE19801549A DE19801549A1 (de) | 1998-01-16 | 1998-01-16 | Verfahren zur Herstellung von N-Alkenylcarbonsäureamiden |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11279145A true JPH11279145A (ja) | 1999-10-12 |
Family
ID=7854850
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11007385A Withdrawn JPH11279145A (ja) | 1998-01-16 | 1999-01-14 | Ｎ―アルケニルカルボキシアミドの製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5994562A (ja) |
| EP (1) | EP0930293B1 (ja) |
| JP (1) | JPH11279145A (ja) |
| DE (2) | DE19801549A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
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|---|---|---|---|---|
| US6982337B1 (en) | 2004-07-28 | 2006-01-03 | Lyondell Chemical Technology, L.P. | Process for making N-vinyl-2-pyrrolidone |
| EP2835365A1 (en) | 2013-08-06 | 2015-02-11 | S.P.C.M. Sa | A process to produce N-ethenyl-N-alkyl-alkylamides |
| WO2017191657A1 (en) | 2016-05-06 | 2017-11-09 | Council Of Scientific & Industrial Research | Glycolactam compounds, process for preparation and uses thereof |
| JP2021504355A (ja) | 2017-11-23 | 2021-02-15 | ビーエイエスエフ・ソシエタス・エウロパエアＢａｓｆ Ｓｅ | ビスピロリジン化合物の製造方法 |
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|---|---|---|---|---|
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| DE2135211A1 (de) * | 1970-07-17 | 1972-01-20 | Mitsubishi Petrochemical Co , Ltd , Tokio | Verfahren zur Herstellung von N Vinylpyrrolidon |
| DE3600811A1 (de) * | 1986-01-14 | 1987-08-06 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von nitrilen |
| DE4302325A1 (de) * | 1993-01-28 | 1994-08-04 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von N-Alkenylpyrrolidonen |
| KR100388696B1 (ko) * | 1994-09-19 | 2003-11-14 | 니폰 쇼쿠바이 컴파니 리미티드 | 3급n-알케닐카르복실산아미드류의제조용촉매및이촉매를이용한3급n-알케닐카르복실산아미드류의제조방법 |
| TW305835B (ja) * | 1995-12-09 | 1997-05-21 |
-
1998
- 1998-01-16 DE DE19801549A patent/DE19801549A1/de not_active Withdrawn
-
1999
- 1999-01-08 DE DE59910608T patent/DE59910608D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-01-08 EP EP99100146A patent/EP0930293B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-01-14 US US09/229,996 patent/US5994562A/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-01-14 JP JP11007385A patent/JPH11279145A/ja not_active Withdrawn
Also Published As
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|---|---|
| DE59910608D1 (de) | 2004-11-04 |
| US5994562A (en) | 1999-11-30 |
| EP0930293A1 (de) | 1999-07-21 |
| DE19801549A1 (de) | 1999-07-22 |
| EP0930293B1 (de) | 2004-09-29 |
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