JPH112769A - Optical scanning device - Google Patents
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- JPH112769A JPH112769A JP9156730A JP15673097A JPH112769A JP H112769 A JPH112769 A JP H112769A JP 9156730 A JP9156730 A JP 9156730A JP 15673097 A JP15673097 A JP 15673097A JP H112769 A JPH112769 A JP H112769A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ビームスポットの形状が良好で、ビームヒポ
ットサイズや光パワーが安定し、光パワーの利用効率が
高い光走査装置。
【解決手段】 副走査方向において、アパーチャ61の
実像63が被走査面17の偏向器側に、光源1の実像5
3が被走査面17の偏向器とは反対側に位置するように
配置され、被走査面17が副走査方向における略ビーム
ウエスト位置に配置されており、アパーチャ61は光ビ
ームの中心強度に対して25%以下の位置から副走査方
向の外側の部分を遮蔽するように設定されており、被走
査面17のデフォーカスによるビームスボットサイズの
変動を最小にでき、ビームスポットサイズが最も小さい
部分を使用することができ、さらに、光パワーの利用効
率が高い。
(57) [Problem] To provide an optical scanning device having a good beam spot shape, a stable beam hippot size and optical power, and a high optical power utilization efficiency. SOLUTION: In a sub-scanning direction, a real image 63 of an aperture 61 is placed on a deflector side of a surface 17 to be scanned, and a real image 5
3 is arranged on the opposite side of the deflector from the surface to be scanned 17, the surface to be scanned 17 is arranged at a substantially beam waist position in the sub-scanning direction, and the aperture 61 has a center intensity of the light beam. Is set so as to block the portion outside the sub-scanning direction from the position of 25% or less, and the fluctuation of the beam spot size due to the defocus of the scanned surface 17 can be minimized. It can be used, and the utilization efficiency of optical power is high.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザービームプ
リンタ等に用いられる光走査装置に係り、特に、光ビー
ムを偏向器に入射させる整形光学系中にアパーチャを備
えた光走査装置において、デフォーカスによるビームス
ポットサイズの変動を少なくしかつ光パワー利用効率の
良い光走査装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical scanning device used for a laser beam printer or the like, and more particularly, to an optical scanning device having an aperture in a shaping optical system for entering a light beam into a deflector. The present invention relates to an optical scanning device that reduces fluctuations in beam spot size due to light emission and has high optical power utilization efficiency.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、レーザービームプリンタ等の画像
記録装置や、各種画像読込み、測定装置に用いられる光
走査装置は、一般的に半導体レーザー等の光源から射出
した光ビームを整形光学系を経て偏向手段である回転多
面鏡等の偏向器で偏向させ、この偏向された光ビームを
f・θレンズである結像レンズ系によって被走査面上に
ビームスポットを形成して走査するように構成してい
る。2. Description of the Related Art Conventionally, an image recording device such as a laser beam printer and an optical scanning device used for various image reading and measuring devices generally form a light beam emitted from a light source such as a semiconductor laser through a shaping optical system. The beam is deflected by a deflector such as a rotating polygon mirror as a deflecting means, and the deflected light beam is scanned by forming a beam spot on a surface to be scanned by an imaging lens system as an f · θ lens. ing.
【0003】これらの装置においては、被走査面上にお
いて直線あるいは曲線上に光ビームを繰り返し走査し、
被走査面に位置する被走査媒体を前記の走査方向とはお
おむね直交方向に相対移動させ2次元の走査を行う。前
者の光走査装置による走査方向を主走査方向、後者の被
走査媒体の相対移動方向を副走査方向とする。In these apparatuses, a light beam is repeatedly scanned on a surface to be scanned in a straight line or a curved line.
The two-dimensional scanning is performed by relatively moving the medium to be scanned located on the surface to be scanned in a direction substantially orthogonal to the above-described scanning direction. The scanning direction of the former optical scanning device is referred to as a main scanning direction, and the latter direction of relative movement of the medium to be scanned is referred to as a sub-scanning direction.
【0004】このような光走査装置において、光ビーム
を偏向器に入射させる整形光学系中にアパーチャを備
え、その実像を被走査面の入射側近傍に結像させ、か
つ、光源の実像を被走査面より後方に結像させて被走査
面上でのデフォーカスによるビームスポットサイズの安
定化を図ったものが特開平4−229819号において
提案されている。In such an optical scanning device, an aperture is provided in a shaping optical system for making a light beam incident on a deflector, a real image is formed near an incident side of a surface to be scanned, and a real image of a light source is formed. Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 4-229819 proposes a method in which an image is formed behind the scanning surface to stabilize the beam spot size by defocusing on the surface to be scanned.
【0005】ところで、前記のような光走査装置におい
て、解像度や処理速度の向上のために、光源から射出さ
れた光ビームを主走査方向に非常に直径の小さい状態で
回転多面鏡に入射させ、偏向された光ビームを伝達光学
系を介して再び回転多面鏡に入射させる高速光走査装置
が、特開昭51−32340号等において提案されてい
る。この回転多面鏡に光ビームを2度入射させる光走査
装置は、光ビームが最初に回転多面鏡に入射するときの
主走査方向の光ビームの直径を2回目に入射する場合に
比べて極めて小さくし、かつ、2回目に回転多面鏡に入
射する光ビームが回転する反射面の主走査方向の中心点
を追従するように伝達光学系を構成している。In the above-described optical scanning apparatus, a light beam emitted from a light source is incident on a rotary polygon mirror with a very small diameter in the main scanning direction in order to improve resolution and processing speed. Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 51-32340 proposes a high-speed optical scanning device in which a deflected light beam is again incident on a rotary polygon mirror via a transmission optical system. In the optical scanning device in which the light beam is incident twice on the rotating polygon mirror, the diameter of the light beam in the main scanning direction when the light beam first enters the rotating polygon mirror is extremely smaller than when the light beam enters the second time. In addition, the transmission optical system is configured such that the light beam incident on the rotating polygon mirror for the second time follows the center point of the rotating reflecting surface in the main scanning direction.
【0006】一方、光走査装置において、回転多面鏡の
回転軸に垂直な走査面に対し角度を持って光ビームを入
射させ偏向を行うものが、例えば特開平1−16942
2号等において知られている。On the other hand, in an optical scanning apparatus, a light beam is incident at an angle to a scanning plane perpendicular to the rotation axis of a rotary polygon mirror to deflect the light beam.
No. 2 and the like.
【0007】上記のように回転多面鏡の異なる反射面に
順に2度入射させることを、本明細書においては「2度
入射」と呼ぶことにする。また、回転多面鏡の走査面に
角度を有して光ビームを入射させることを、「斜め入
射」と呼ぶことにする。In the present specification, the case where the light is incident twice on different reflecting surfaces of the rotary polygon mirror as described above is referred to as "double incidence". Further, letting the light beam enter the scanning plane of the rotating polygon mirror at an angle will be referred to as “oblique incidence”.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】ところで、光ビームを
偏向器に入射させる整形光学系中にアパーチャを備えた
光走査装置においては、アパーチャの実像が被走査面の
近傍に位置するため、光源の実像と被走査面とを一致さ
せると、アパーチャの回折の影響により、デフォーカス
によるビームスポットサイズの変動が大きいという問題
がある。In an optical scanning device having an aperture in a shaping optical system for making a light beam incident on a deflector, a real image of the aperture is located near a surface to be scanned. When the real image and the surface to be scanned coincide with each other, there is a problem that the beam spot size largely fluctuates due to defocus due to the influence of aperture diffraction.
【0009】特開平4−229819号のものにおい
て、被走査面前後における副走査方向のビームスポット
直径は、図16に示すようになっている。図16の横軸
のデフォーカスZが0の位置が特開平4−229819
号における被走査面位置であり、アパーチャの実像は、
被走査面に対して光源側(Aの位置)、光源の実像は被
走査面に対して光源とは反対側(B位置)、ビームウエ
スト(ビームスポットサイズが最小となる位置)は、ア
パーチャの実像(Aの位置)と光源の実像(B位置)の
間でかつ被走査面に対して光源側(Cの位置)に位置し
ている。In Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-229819, the beam spot diameter in the sub-scanning direction before and after the surface to be scanned is as shown in FIG. The position where the defocus Z on the horizontal axis of FIG.
The actual image of the aperture is
The light source side (position A) with respect to the surface to be scanned, the real image of the light source is opposite to the light source with respect to the surface to be scanned (position B), and the beam waist (the position where the beam spot size is minimum) is the aperture of the aperture. It is located between the real image (position A) and the real image of the light source (position B) and on the light source side (position C) with respect to the surface to be scanned.
【0010】また、特開平4−229819号のものに
おいては、アパーチャによる遮蔽がなされるのは、光ビ
ームの中心強度の少なくとも40%(具体的な実施例で
は、少なくとも71%)以下の部分であり、遮蔽部分が
大きいため、次の2つの問題がある。 (1)図16から明らかなように、ビームスポットサイ
ズを示す曲線が傾いている位置(デフォーカスが0の位
置)に被走査面を配置するので、デフォーカスによるビ
ームスポットサイズの変動がまだ大きい。 (2)アパーチャの遮光による光パワー損失が大きく、
光パワーの利用効果が悪い。In Japanese Unexamined Patent Publication No. 4-229819, the aperture is blocked by a portion of at least 40% (in the concrete embodiment, at least 71%) of the central intensity of the light beam. Yes, since the shielding portion is large, there are the following two problems. (1) As is clear from FIG. 16, since the surface to be scanned is arranged at the position where the curve indicating the beam spot size is inclined (the position where the defocus is 0), the fluctuation of the beam spot size due to the defocus is still large. . (2) optical power loss due to light blocking of the aperture is large,
Poor utilization of optical power.
【0011】ところで、前記の特開昭51−32340
号等の2度入射の光走査装置においては、第1反射面上
の主走査方向のビームスポットサイズが極めて小さい
上、光源、第1反射面、第2反射面、被走査面を共役に
して面倒れ補正を行うと、副走査方向でも第1反射面上
のビームスポットサイズは極めて小さい。したがって、
第1反射面上の光ビームの断面積は極めて小さく、その
反射面に存在する傷や反射面上に付着した塵が結像特性
に悪影響を及ぼし、被走査面上のビームスポット形状が
崩れたりビームが遮られることにより、光ビームのパワ
ーが低下するという問題がある。Incidentally, the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. S51-32340.
In a twice-incident optical scanning device, the beam spot size in the main scanning direction on the first reflecting surface is extremely small, and the light source, the first reflecting surface, the second reflecting surface, and the surface to be scanned are conjugated. When the surface tilt correction is performed, the beam spot size on the first reflecting surface is extremely small even in the sub-scanning direction. Therefore,
The cross-sectional area of the light beam on the first reflecting surface is extremely small, and scratches on the reflecting surface and dust adhering to the reflecting surface adversely affect the imaging characteristics, and the beam spot shape on the surface to be scanned is distorted. There is a problem that the power of the light beam is reduced due to the interruption of the beam.
【0012】本発明は従来技術のこのような点に鑑みて
なされたものであり、その目的は、光ビームを偏向器に
入射させる整形光学系中にアパーチャを備えた光走査装
置において、ビームスポットの形状が良好で、ビームヒ
ポットサイズや光パワーが安定し、光パワーの利用効率
が高い光走査装置を提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of such a point of the prior art, and has as its object to provide a beam spot in an optical scanning device having an aperture in a shaping optical system for making a light beam incident on a deflector. An object of the present invention is to provide an optical scanning device which has a good shape, a stable beam hipot size and optical power, and a high optical power utilization efficiency.
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の光走査装置は、光ビームを発生する光源と、前記光
源からの光ビームを所定の特性の整形光ビームに変換す
る整形光学系と、前記整形光学系中に設けられたアパー
チャと、前記整形光ビームを反射偏向させる複数の反射
面を有する偏向器と、前記偏向器の反射面により反射偏
向された光ビームを被走査面上にビームスポットを形成
させて走査させる走査光学系とを備えた光走査装置にお
いて、副走査方向において、前記アパーチャの実像が前
記被走査面の前記偏向器側に、前記光源の実像が前記被
走査面の前記偏向器とは反対側に位置するように配置さ
れ、有効走査範囲において、前記被走査面が副走査方向
における略ビームウエスト位置に配置されており、か
つ、前記アパーチャは光ビームの中心強度に対して25
%以下の位置から副走査方向の外側の部分を遮蔽するよ
うに設定されていることを特徴とするものである。In order to achieve the above object, the present invention provides an optical scanning apparatus comprising: a light source for generating a light beam; and a shaping optical system for converting the light beam from the light source into a shaped light beam having predetermined characteristics. An aperture provided in the shaping optical system; a deflector having a plurality of reflection surfaces for reflecting and deflecting the shaping light beam; and a light beam reflected and deflected by the reflection surface of the deflector on a surface to be scanned. A scanning optical system for forming and scanning a beam spot in the sub-scanning direction, wherein the real image of the aperture is on the deflector side of the surface to be scanned, and the real image of the light source is The deflector is located on the opposite side of the surface, and in the effective scanning range, the surface to be scanned is arranged at a substantially beam waist position in the sub-scanning direction; 25 with respect to central intensity of the light beam
% Is set so as to block the portion outside the sub-scanning direction from the position of% or less.
【0014】この場合、偏向器は回転多面鏡からなり、
その回転多面鏡の第1反射面により反射偏向された光ビ
ームを回転多面鏡の第2反射面に伝達入射させる伝達光
学系を備え、その第2反射面により反射偏向された光ビ
ームを走査光学系により被走査面上にビームスポットを
形成させて走査させるように構成することが望ましい。
そして、伝達光学系は副走査方向において第1反射面と
第2反射面とを略共役関係にしており、走査光学系は副
走査方向において第2反射面と被走査面とを略共役関係
にしていることが望ましい。なお、整形光学系の光軸、
伝達光学系の光軸、走査光学系の光軸が、回転多面鏡の
回転軸を含む共通の副走査面内に配置されているものと
することができる。In this case, the deflector comprises a rotating polygon mirror,
A transmission optical system for transmitting and entering the light beam reflected and deflected by the first reflection surface of the rotary polygon mirror to the second reflection surface of the rotary polygon mirror, and scanning the light beam reflected and deflected by the second reflection surface It is desirable that the system is configured to scan by forming a beam spot on the surface to be scanned.
The transmission optical system has a substantially conjugate relationship between the first reflection surface and the second reflection surface in the sub-scanning direction, and the scanning optical system has a substantially conjugate relationship between the second reflection surface and the surface to be scanned in the sub-scanning direction. Is desirable. The optical axis of the shaping optical system,
The optical axis of the transmission optical system and the optical axis of the scanning optical system may be arranged in a common sub-scanning plane including the rotation axis of the rotary polygon mirror.
【0015】本発明においては、副走査方向において、
アパーチャの実像が被走査面の偏向器側に、光源の実像
が被走査面の偏向器とは反対側に位置するように配置さ
れ、有効走査範囲において、被走査面が副走査方向にお
ける略ビームウエスト位置に配置されており、かつ、ア
パーチャは光ビームの中心強度に対して25%以下の位
置から副走査方向の外側の部分を遮蔽するように設定さ
れているので、被走査面のデフォーカスによるビームス
ボットサイズの変動を最小にでき、また、ビームスポッ
トサイズが最も小さい部分を使用することができ、さら
に、光パワーの利用効率が高い。また、本発明を2度入
射の光走査装置に適用することにより、第1反射面の
傷、塵によっても悪影響を受けることがなく、被走査面
上で良好な形状で光パワーの安定したビームスポットを
得ることができる。In the present invention, in the sub-scanning direction,
The real image of the aperture is located on the deflector side of the surface to be scanned, and the real image of the light source is located on the opposite side of the deflector on the surface to be scanned. In the effective scanning range, the surface to be scanned is substantially a beam in the sub-scanning direction. Since it is arranged at the waist position and the aperture is set so as to block the portion outside the sub-scanning direction from a position of 25% or less with respect to the center intensity of the light beam, the defocus of the scanning surface is performed. The variation of the beam spot size due to the above can be minimized, the portion having the smallest beam spot size can be used, and the light power utilization efficiency is high. In addition, by applying the present invention to a twice-incident optical scanning device, a beam having a good shape and a stable optical power on the surface to be scanned is not adversely affected by scratches and dust on the first reflecting surface. You can get a spot.
【0016】[0016]
【発明の実施の形態】以下、図面に基づき本発明の光走
査装置について詳細に説明する。まず、本発明の光走査
装置の実施例について説明する。図1は本実施例の光走
査装置の構成を示す平面図、図2はその側面図、図3は
その主要部の斜視図、図4はその主要部の側面図、図5
はアパーチャを半導体レーザー側から見た図である。以
下、本発明では、光学系の任意の位置において、その位
置における光学系の光軸を含み偏向器である回転多面鏡
4の回転軸41に平行な面を副走査面と定義し、光軸を
含み副走査面に垂直な面を主走査面と定義する。さら
に、主走査面内において、光軸に垂直な方向を主走査方
向と定義し、また、副走査面内において、光軸に垂直な
方向を副走査方向と定義する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an optical scanning device according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. First, an embodiment of the optical scanning device of the present invention will be described. FIG. 1 is a plan view showing the configuration of the optical scanning device of the present embodiment, FIG. 2 is a side view thereof, FIG. 3 is a perspective view of a main part thereof, FIG.
FIG. 3 is a diagram of the aperture as viewed from the semiconductor laser side. Hereinafter, in the present invention, at an arbitrary position of the optical system, a plane including the optical axis of the optical system at that position and being parallel to the rotation axis 41 of the rotary polygon mirror 4, which is a deflector, is defined as a sub-scanning plane. And a plane perpendicular to the sub-scanning plane is defined as a main scanning plane. Further, a direction perpendicular to the optical axis in the main scanning plane is defined as a main scanning direction, and a direction perpendicular to the optical axis in the sub-scanning plane is defined as a sub-scanning direction.
【0017】光源としての半導体レーザー1から射出し
た光ビームは、アパーチャ61、第1整形レンズ2、第
2整形レンズ3を透過して整形され、偏向器としての回
転多面鏡4の第1反射面5に入射し、1度目の偏向がな
される。このとき、光ビームは、回転多面鏡4の回転軸
41に垂直な面に対して角度を持って第1反射面5に入
射するため、入射する光ビームと反射された光ビームは
干渉しない。第1反射面5で反射された光ビームは、第
1伝達レンズ7、第2伝達レンズ8、第3伝達レンズ9
を透過して第1伝達ミラー10で反射され、第4伝達レ
ンズ11、第5伝達レンズ12を透過して第2伝達ミラ
ー13で反射され、再び回転多面鏡4の第2反射面6に
入射し、2度目の偏向がなされる。このときも、光ビー
ムは、回転多面鏡4の回転軸41に垂直な面に対して角
度を持って第2反射面6に入射するため、入射する光ビ
ームと反射された光ビームは干渉しない。A light beam emitted from a semiconductor laser 1 as a light source passes through an aperture 61, a first shaping lens 2, and a second shaping lens 3 and is shaped, and a first reflecting surface of a rotary polygon mirror 4 as a deflector. 5 and is deflected for the first time. At this time, since the light beam is incident on the first reflection surface 5 at an angle with respect to a plane perpendicular to the rotation axis 41 of the rotary polygon mirror 4, the incident light beam and the reflected light beam do not interfere with each other. The light beam reflected by the first reflection surface 5 is transmitted to the first transmission lens 7, the second transmission lens 8, the third transmission lens 9
And is reflected by the first transmission mirror 10, transmitted through the fourth transmission lens 11 and the fifth transmission lens 12, reflected by the second transmission mirror 13, and again incident on the second reflection surface 6 of the rotary polygon mirror 4. Then, the second deflection is performed. Also at this time, since the light beam is incident on the second reflecting surface 6 at an angle with respect to the plane perpendicular to the rotation axis 41 of the rotary polygon mirror 4, the incident light beam and the reflected light beam do not interfere with each other. .
【0018】第2反射面6で反射された光ビームは、第
1走査レンズ14、第2走査レンズ15及び第3走査レ
ンズ16により被走査面17上に光ビームスポットとし
て結像されて走査される。回転多面鏡4の面数は12面
(偶数)である。第3走査レンズ16は、副走査方向に
偏心しており、その方向は図2中の矢印の方向である。
第3走査レンズ16をこのように偏心させる理由は、回
転多面鏡4の第2反射面6で反射され偏向される光ビー
ムは円錐状の軌跡を描き、その光ビームの断面の座標系
が偏向角に依存して回転してしまい、被走査面17上の
結像スポットの形状が崩れてしまうが、第3走査レンズ
16をこのように偏心させることにより、その崩れが防
止できるからである。The light beam reflected by the second reflecting surface 6 is formed as a light beam spot on a surface 17 to be scanned by a first scanning lens 14, a second scanning lens 15, and a third scanning lens 16 and scanned. You. The number of surfaces of the rotary polygon mirror 4 is 12 (even number). The third scanning lens 16 is decentered in the sub-scanning direction, which is the direction of the arrow in FIG.
The reason why the third scanning lens 16 is decentered in this manner is that the light beam reflected and deflected by the second reflecting surface 6 of the rotary polygon mirror 4 draws a conical trajectory, and the coordinate system of the cross section of the light beam is deflected. This is because the image formation spot on the scanned surface 17 is distorted due to the rotation depending on the angle, but the decentering of the third scanning lens 16 can prevent the dislocation.
【0019】ところで、半導体レーザー1から第1反射
面5までの間の光学系を整形光学系21、第1反射面5
から第2反射面6の間の光学系を伝達光学系22、第2
反射面6から被走査面17までの間の光学系を走査光学
系23と称するとすると、回転多面鏡4の第1反射面5
と第2反射面6は回転軸41を挟んで対向する相互に平
行な反射面であり、かつ、整形光学系21、伝達光学系
22、走査光学系23の光軸は回転軸41を含む共通の
副走査面内に配置されている。したがって、この光走査
装置は、2度入射で斜め入射でありながら、この副走査
面に関して対称な構成になっている。このような配置に
すると、整形光学系21、伝達光学系22、走査光学系
23の光軸が主走査面で見て一直線上に配置されるの
で、構造上の主走査方向の基準面が1面に集約され、光
学系を構成する各要素を高精度に配置することができ
る。また、主走査面で見て、伝達光学系22の光軸が整
形光学系21及び走査光学系23の光軸と一部重なるた
め、少ないスペースで配置でき、光走査装置の設置面積
の減少、装置の小型化が図れる。そして、このような配
置により、回転多面鏡4の回転軸41の偏心に基づく走
査線の副走査方向での位置変動を防止することができ
る。By the way, the optical system between the semiconductor laser 1 and the first reflecting surface 5 is formed by the shaping optical system 21 and the first reflecting surface 5.
The optical system between the second reflecting surface 6 and the transmission optical system 22,
If the optical system between the reflecting surface 6 and the surface to be scanned 17 is called a scanning optical system 23, the first reflecting surface 5 of the rotary polygon mirror 4
And the second reflective surface 6 are mutually parallel reflective surfaces facing each other across the rotation axis 41, and the optical axes of the shaping optical system 21, the transmission optical system 22, and the scanning optical system 23 include the rotation axis 41. Are arranged in the sub-scanning plane. Therefore, this optical scanning device has a symmetrical configuration with respect to the sub-scanning surface, while being incident twice and obliquely incident. With such an arrangement, the optical axes of the shaping optical system 21, the transmission optical system 22, and the scanning optical system 23 are arranged in a straight line when viewed in the main scanning plane. Each element constituting the optical system can be arranged with high accuracy on a plane. In addition, since the optical axis of the transmission optical system 22 partially overlaps the optical axes of the shaping optical system 21 and the scanning optical system 23 when viewed on the main scanning plane, the optical axis can be arranged in a small space, and the installation area of the optical scanning device can be reduced. The size of the device can be reduced. With such an arrangement, it is possible to prevent a position change of the scanning line in the sub-scanning direction due to the eccentricity of the rotating shaft 41 of the rotating polygon mirror 4.
【0020】図6に、整形光学系21の主走査方向の光
路図(a)と副走査方向の光路図(b)を示す。主走査
面に垂直で副走査面に平行な接合面を備えカバーガラス
を有する半導体レーザー1から副走査方向に比べて主走
査方向により広がるように射出された光ビームb(図5
参照)は、第1整形レンズ2の入射面位置に配置された
矩形開口のアパーチャ61によって周辺部が遮蔽され、
非球面コリメータレンズを構成する第1整形レンズ2に
より平行な光ビームに変換される。第2整形レンズ2は
副走査方向にのみ正屈折力を有する正シリンドリカルレ
ンズである。そのため、第2整形レンズ2を透過した光
ビームは、主走査面において平行な光ビームとして第1
反射面5に入射し、副走査面においては第1反射面5近
傍に結像(収束)する。FIG. 6 shows an optical path diagram (a) in the main scanning direction of the shaping optical system 21 and an optical path diagram (b) in the sub-scanning direction. The light beam b (FIG. 5) emitted from the semiconductor laser 1 having a bonding surface perpendicular to the main scanning surface and having a bonding surface parallel to the sub-scanning surface and having a cover glass so as to spread more in the main scanning direction than in the sub-scanning direction.
), The peripheral part is shielded by an aperture 61 having a rectangular opening arranged at the position of the incident surface of the first shaping lens 2,
The light is converted into a parallel light beam by the first shaping lens 2 constituting the aspherical collimator lens. The second shaping lens 2 is a positive cylindrical lens having a positive refractive power only in the sub-scanning direction. Therefore, the light beam transmitted through the second shaping lens 2 is converted into a parallel light beam on the main scanning surface by the first light beam.
The light enters the reflecting surface 5 and forms an image (convergence) near the first reflecting surface 5 on the sub-scanning surface.
【0021】図7に、伝達光学系22の主走査方向の光
路図(a)と副走査方向の光路図(b)を示す。第1伝
達レンズ7、第2伝達レンズ8、第3伝達レンズ9は何
れも主走査方向にのみ屈折力を有するシリンドリカルレ
ンズであり、第1伝達レンズ7と第2伝達レンズ8は正
シリンドリカルレンズ、第3伝達レンズ9は負シリンド
リカルレンズであり、これら3枚で主走査方向正屈折力
伝達レンズ群24を構成している。また、第4伝達レン
ズ11は副走査方向にのみ正屈折力を有する正シリンド
リカルレンズであり、第5伝達レンズ12は正屈折力を
有する球面レンズである。そして、これらの作用は、第
1反射面5で反射された光ビームは、主走査面におい
て、主走査方向正屈折力伝達レンズ群24により一旦結
像する。伝達レンズ群24の像側焦点と第5伝達レンズ
12の物体側焦点は一致し、主走査面においてアフォー
カル光学系を構成している。そのため、光ビームは、第
5伝達レンズ12で再び平行な光ビームに変換され、第
2反射面6に入射する。副走査面においては、第4伝達
レンズ11と第5伝達レンズ12の合成正屈折力によ
り、第1反射面5と第2反射面6とは共役関係になって
おり、第1反射面5近傍の収束点を第2反射面6近傍に
再び結像する。FIG. 7 shows an optical path diagram (a) in the main scanning direction of the transmission optical system 22 and an optical path diagram (b) in the sub-scanning direction. Each of the first transmission lens 7, the second transmission lens 8, and the third transmission lens 9 is a cylindrical lens having a refractive power only in the main scanning direction, and the first transmission lens 7 and the second transmission lens 8 are positive cylindrical lenses. The third transmission lens 9 is a negative cylindrical lens, and these three lenses form a main scanning direction positive refractive power transmission lens group 24. The fourth transmission lens 11 is a positive cylindrical lens having a positive refractive power only in the sub-scanning direction, and the fifth transmission lens 12 is a spherical lens having a positive refractive power. In these operations, the light beam reflected by the first reflection surface 5 is once formed on the main scanning surface by the main scanning direction positive refractive power transmission lens group 24. The image-side focal point of the transmission lens group 24 and the object-side focal point of the fifth transmission lens 12 coincide, and constitute an afocal optical system on the main scanning plane. Therefore, the light beam is converted again into a parallel light beam by the fifth transmission lens 12 and enters the second reflection surface 6. On the sub-scanning surface, the first reflection surface 5 and the second reflection surface 6 are in a conjugate relationship due to the combined positive refracting power of the fourth transmission lens 11 and the fifth transmission lens 12, and the vicinity of the first reflection surface 5 Is formed again in the vicinity of the second reflecting surface 6.
【0022】図8に、走査光学系23の主走査方向の光
路図(a)と副走査方向の光路図(b)を示す。第1走
査レンズ14は正屈折力を有する球面レンズである。第
2走査レンズ15は副走査方向にのみ屈折作用を有する
プリズムであり、第3走査レンズ16は樹脂製の主走査
方向に長い長尺レンズである。第3走査レンズ16の入
射面は、主走査方向に曲率半径の大きな凹形状となって
おり、副走査面方向には曲率半径の小さな凸形状となっ
ており、主走査方向の断面曲線をその入射面よりも被走
査面17側に位置する主走査方向に平行な軸の回りに回
転させることにより形成される面である。このような面
は鞍型トーリック面とも呼ばれる。また、第3走査レン
ズ16の射出面は、主走査方向で曲率半径の大きな凸形
状の非円弧状であり、副走査方向の断面形状は直線であ
り屈折力を有さない。このような構成の走査光学系23
は、副走査面において、第2反射面6と被走査面17を
共役関係にして、第2反射面6近傍の収束点を被走査面
17近傍に結像する。また、主走査面においては、第2
反射面6から反射された平行な光ビームを被走査面17
近傍に結像する。FIG. 8 shows an optical path diagram (a) in the main scanning direction of the scanning optical system 23 and an optical path diagram (b) in the sub-scanning direction. The first scanning lens 14 is a spherical lens having a positive refractive power. The second scanning lens 15 is a prism having a refracting action only in the sub-scanning direction, and the third scanning lens 16 is a long lens made of resin and long in the main scanning direction. The entrance surface of the third scanning lens 16 has a concave shape with a large radius of curvature in the main scanning direction and a convex shape with a small radius of curvature in the sub-scanning surface direction. This is a surface formed by rotating around an axis parallel to the main scanning direction, which is located closer to the scanned surface 17 than the incident surface. Such a surface is also called a saddle-shaped toric surface. The exit surface of the third scanning lens 16 has a convex non-arc shape having a large radius of curvature in the main scanning direction, and has a linear cross section in the sub-scanning direction and has no refractive power. Scanning optical system 23 having such a configuration
Makes the second reflection surface 6 and the surface to be scanned 17 conjugate in the sub-scanning surface, and forms an image of a convergence point near the second reflection surface 6 near the surface to be scanned 17. In the main scanning plane, the second
The parallel light beam reflected from the reflecting surface 6 is scanned by the scanning surface 17.
An image is formed in the vicinity.
【0023】次に、伝達光学系22の作用について説明
する。図9は伝達光学系22の主走査面の断面展開図で
ある。第1伝達レンズ7、第2伝達レンズ8、第3伝達
レンズ9により構成される主走査方向正屈折力伝達レン
ズ群24を、簡素化して単レンズとして示してある。第
4伝達レンズ11は主走査方向の屈折力を持たないた
め、図示していない。図9(a)と(b)に回転多面鏡
4が回転するときの光ビームの状態を示す。ところで、
図1〜図4等に示すように、伝達光学系22の光路は、
伝達ミラー10、13により2回反射される。すなわ
ち、偶数回反射される。図9では、これらの偶数回の反
射について展開しているので、図9(b)のように、第
1反射面5と第2反射面6の回転方向は同じである。Next, the operation of the transmission optical system 22 will be described. FIG. 9 is a sectional development view of the main scanning surface of the transmission optical system 22. The main scanning direction positive refractive power transmitting lens group 24 composed of the first transmitting lens 7, the second transmitting lens 8, and the third transmitting lens 9 is simplified and shown as a single lens. The fourth transmission lens 11 has no refractive power in the main scanning direction, and is not shown. FIGS. 9A and 9B show the state of the light beam when the rotary polygon mirror 4 rotates. by the way,
As shown in FIGS. 1 to 4 and the like, the optical path of the transmission optical system 22 is
The light is reflected twice by the transmission mirrors 10 and 13. That is, the light is reflected an even number of times. In FIG. 9, since the development is performed for these even-numbered reflections, the rotation directions of the first reflection surface 5 and the second reflection surface 6 are the same as in FIG. 9B.
【0024】第1反射面5に入射する平行な光ビームの
直径はwi である。伝達光学系22は主走査面内ではア
フォーカル光学系を構成しているので、第2反射面6に
入射する光ビームも平行であり、光ビームの直径はwo
である。伝達レンズ群24の焦点距離をf1 、第5伝達
レンズ12の焦点距離をf2 とすると、wo をwi で除
した光ビームの直径の比の値は、f2 をf1 で除した値
に等しい。The diameter of the parallel light beam incident on the first reflecting surface 5 is w i . Since the transmission optical system 22 forms an afocal optical system in the main scanning plane, the light beam incident on the second reflection surface 6 is also parallel, and the diameter of the light beam is w o.
It is. Assuming that the focal length of the transmission lens group 24 is f 1 and the focal length of the fifth transmission lens 12 is f 2 , the ratio of the diameter of the light beam obtained by dividing w o by w i is f 2 divided by f 1 . Is equal to
【0025】図9(b)に示すように、回転多面鏡4が
角度θ1 だけ回転すると、第1反射面5で光ビームは角
度2θ1 だけ偏向される。偏向された光ビームは伝達レ
ンズ群24、第5伝達レンズ12を透過して、角度θ2
だけ偏向される。この光ビームは点Qで光軸と交差す
る。第2反射面6上において、偏向された光ビームと光
軸との距離はdであるが、回転多面鏡4が角度θ1 だけ
回転すると、第2反射面6も同じ距離dだけ移動するよ
うな位置関係に設定される。したがって、光ビームの移
動量と第2反射面6の移動量が一致し、第2反射面6か
ら光ビームがはみ出すことはない。As shown in FIG. 9B, when the rotating polygon mirror 4 rotates by the angle θ 1 , the light beam is deflected by the first reflection surface 5 by the angle 2θ 1 . The deflected light beam passes through the transmission lens group 24 and the fifth transmission lens 12 and has an angle θ 2
Is only deflected. This light beam intersects the optical axis at point Q. On the second reflecting surface 6, the distance between the deflected light beam and the optical axis is d, the rotary polygon mirror 4 is rotated by an angle theta 1, so that also the second reflecting surface 6 moves by the same distance d Is set to a proper positional relationship. Therefore, the movement amount of the light beam and the movement amount of the second reflection surface 6 match, and the light beam does not protrude from the second reflection surface 6.
【0026】このとき、偏向された光ビームは、第2反
射面6に対して角度θ2 だけ入射角が増大する側に偏向
されるので、第2反射面6で反射された光ビームの走査
角θs は、θs =2θ1 +θ2 と表わされる。At this time, the deflected light beam is deflected to the side where the incident angle increases with respect to the second reflection surface 6 by an angle θ 2, so that the light beam reflected by the second reflection surface 6 is scanned. The angle θ s is represented as θ s = 2θ 1 + θ 2 .
【0027】本実施例の伝達光学系22は主走査面にお
いてアフォーカル光学系であるので、その光学倍率βは
焦点距離f2 を焦点距離f1 で除した値であり、上記の
ように、光ビームの直径の比wo /wi にも等しい。ま
た、伝達光学系22を透過する光ビームは角度2θ1 か
ら角度θ2 に偏向角が変化するので、光学倍率βは2θ
1 /θ2 と表すこともできる。したがって、光学倍率β
は次式で表される。Since the transmission optical system 22 of this embodiment is an afocal optical system on the main scanning plane, its optical magnification β is a value obtained by dividing the focal length f 2 by the focal length f 1 . It is also equal to the light beam diameter ratio w o / w i . Further, since the deflection angle changes the light beam transmitted through the transmission optical system 22 from the angle 2 [Theta] 1 in the angle theta 2, the optical magnification β is 2 [Theta]
It can also be expressed as 1 / θ 2 . Therefore, the optical magnification β
Is represented by the following equation.
【0028】 β=wo /wi =f2 /f1 =2θ1 /θ2 本実施例では光学倍率βを、1<β<20としている。Β = w o / w i = f 2 / f 1 = 2θ 1 / θ 2 In this embodiment, the optical magnification β is set to 1 <β <20.
【0029】本実施例のような回転多面鏡4で光ビーム
が2度の偏向をされる光走査装置は、従来の1度しか偏
向されない光走査装置に比べて、走査速度を速くするこ
とができる。このことについて次に説明する。The optical scanning device in which the light beam is deflected twice by the rotary polygon mirror 4 as in this embodiment can increase the scanning speed compared to the conventional optical scanning device in which the light beam is deflected only once. it can. This will be described below.
【0030】従来の1度しか偏向しない光走査装置で
は、回転多面鏡が回転すると反射面が移動するため、1
回の走査において常に光ビーム全体を同一反射面に入れ
るために、回転多面鏡に入射する光ビームの主走査方向
の大きさよりも、反射面の大きさを大きくしなければな
らない。したがって、回転多面鏡の反射面の面数をあま
り多くすることができない。In a conventional optical scanning device that deflects only once, the reflection surface moves when the rotating polygon mirror rotates.
In order to always put the entire light beam on the same reflecting surface in each scanning, the size of the reflecting surface must be larger than the size of the light beam incident on the rotary polygon mirror in the main scanning direction. Therefore, the number of reflecting surfaces of the rotary polygon mirror cannot be increased so much.
【0031】本実施例では、主走査面において、第1反
射面5に平行な光ビームが入射する。また、β>1であ
るため、第1反射面5上における光ビームの主走査方向
の直径wi は、第2反射面6上における光ビームの主走
査方向の直径wo よりも小さい。そのため、従来の光走
査装置に対して第1反射面5の大きさが小さくても、1
回の走査において常に光ビーム全体を同一反射面に入れ
ることができる。wiを小さくすればする程、さらに第
1反射面5の大きさを小さくすることができる。また、
2度目の偏向では、回転多面鏡4が回転したときの光ビ
ームの移動量と第2反射面6の移動量が一致するため、
第2反射面6の主走査方向の大きさは、少なくとも入射
する光ビームの大きさと同じ大きさだけあればよい。In this embodiment, a light beam parallel to the first reflecting surface 5 is incident on the main scanning surface. Since β> 1, the diameter w i of the light beam in the main scanning direction on the first reflecting surface 5 is smaller than the diameter w o of the light beam in the main scanning direction on the second reflecting surface 6. Therefore, even if the size of the first reflecting surface 5 is smaller than that of the conventional optical scanning device,
In each scan, the entire light beam can always enter the same reflecting surface. The smaller the value of w i , the smaller the size of the first reflecting surface 5 can be. Also,
In the second deflection, the amount of movement of the light beam when the rotary polygon mirror 4 rotates and the amount of movement of the second reflecting surface 6 match.
The size of the second reflection surface 6 in the main scanning direction only needs to be at least as large as the size of the incident light beam.
【0032】したがって、従来の1度しか偏向しない光
走査装置に比べて、本実施例の2度の偏向をする光走査
装置では、第2反射面6上における光ビームの主走査方
向の直径wo に対して、第1反射面5上における光ビー
ムの主走査方向の直径wi を小さくすることにより、回
転多面鏡4の反射面を小さくすることができるため、反
射面の面数を多くすることができ、それだけ走査速度を
上げることができる。Therefore, in comparison with the conventional optical scanning device that deflects only once, the optical scanning device that deflects twice in the present embodiment has the diameter w in the main scanning direction of the light beam on the second reflecting surface 6. On the other hand, by reducing the diameter w i of the light beam on the first reflecting surface 5 in the main scanning direction, the reflecting surface of the rotary polygon mirror 4 can be reduced, so that the number of reflecting surfaces is increased. And the scanning speed can be increased accordingly.
【0033】このように構成された光走査装置の具体的
な数値例を表−1に示す。この表−1では、シリンドリ
カル面、トーリック面は副走査方向、主走査方向の曲率
半径をrix、riyとしている(iは光源1から被走査面
17までの面番号を示す。)。また、非球面である面に
ついては、曲率半径は光軸上の値を示している。なお、
長さの単位はmmである。Table 1 shows specific examples of numerical values of the optical scanning device thus configured. In Table 1, the radius of curvature of the cylindrical surface and the toric surface in the sub-scanning direction and the main scanning direction are rix and riy (i indicates the surface number from the light source 1 to the surface 17 to be scanned). For the aspherical surface, the radius of curvature indicates a value on the optical axis. In addition,
The unit of the length is mm.
【0034】 注)Si :面番号iの面、 ri :面番号iの曲率半径、 di :面番号iとi+1の間の面間隔、 ni :面番号iとi+1の間の媒体の波長780nmの屈折率である。[0034] Note) S i: the surface of the surface number i, r i: curvature of the surface number i radius, d i: surface distance between the surface of number i and i + 1, n i: wavelength 780nm of the medium between the surface number i and i + 1 Is the refractive index of
【0035】第2整形レンズ2及び第3走査レンズ16
の非球面を表す式は、 zi =(y2 /ri )/[1+{1−(Ki +1)(y
/ri )2 }1/2 ]+Ai y4 +Bi y6 +Ci y8 であり、その非球面係数を次の表−2に示す。Second shaping lens 2 and third scanning lens 16
The expression representing the aspherical surface of is given by z i = (y 2 / r i ) / [1+ {1− (K i +1) (y
/ R i) 2} 1/2] a + A i y 4 + B i y 6 + C i y 8, showing the aspherical coefficients in the following Table 2.
【0036】 注)S4 :面番号4の非球面係数、 S26y :面番号26の主走査方向の非球面係数である。[0036] Note) S 4 : Aspherical surface coefficient of surface number 4, S 26y : Aspherical surface coefficient of surface number 26 in the main scanning direction.
【0037】この具体例において、第3走査レンズ16
の入射面S25は、r25y =−1475.39378の円
弧をr25x =37.95675で回転させて形成される
トーリック面である。なお、第2走査レンズ15、第3
走査レンズ16を通過するときのように、光路が屈折さ
れるときは、光軸は主光線と同じように屈折されるもの
とし、表−1、表−2のパラメータの基準となる光軸
は、常に走査中心を走査するビームの主光線に一致する
ものとする。In this specific example, the third scanning lens 16
Of the incident surface S 25 is a toric surface formed by an arc of r 25y = -1475.39378 rotated at r 25x = 37.95675. The second scanning lens 15 and the third
When the optical path is refracted, such as when passing through the scanning lens 16, the optical axis is refracted in the same manner as the principal ray. , Always coincides with the principal ray of the beam that scans the scanning center.
【0038】また、回転多面鏡4の面数は12、その内
接円直径は38.64mmであり、回転多面鏡4の第1
反射面5、第2反射面6への光ビームの副走査方向の入
射角は何れも6°であり、第1伝達ミラー10、第2伝
達ミラー13への光ビームの副走査方向の入射角は何れ
も3°である。また、第2走査レンズ15の射出面S24
は副走査断面において13°傾いており、第3走査レン
ズ16の入射面S25は副走査断面において8.7503
87°傾いており、第3走査レンズ16の射出面S26は
副走査断面において2.875374°傾いている。こ
れらの傾き角の向きについては、図2、図4参照。The number of faces of the rotary polygon mirror 4 is 12, and the diameter of the inscribed circle is 38.64 mm.
The incident angle of the light beam on the reflecting surface 5 and the second reflecting surface 6 in the sub-scanning direction is 6 °, and the incident angle of the light beam on the first transmitting mirror 10 and the second transmitting mirror 13 in the sub-scanning direction. Is 3 °. Also, the exit surface S 24 of the second scanning lens 15
Is inclined by 13 ° in the sub-scan section, and the incident surface S 25 of the third scanning lens 16 is 8.7503 in the sub-scan section.
The exit surface S 26 of the third scanning lens 16 is inclined by 2.875374 ° in the sub-scan section. See FIGS. 2 and 4 for the directions of these inclination angles.
【0039】また、第1整形レンズ入射面S3 に一致し
て、主走査方向0.7154mm、副走査方向1.05
26mmの矩形のアパーチャ61が配置されている。そ
して、副走査方向において、発光点1と回転多面鏡4の
第1反射面5は幾何光学的共役関係から外れている。た
だし、回転多面鏡4の第1反射面5、第2反射面6、被
走査面17の3面は、何れも互いに共役関係にあるた
め、回転多面鏡4の面倒れ補正が行われている。したが
って、発光点1と被走査面17は共役関係から外れてい
る。しかしながら、回折の影響により、光ビームが最小
となる位置(ビームウエスト)は幾何光学的結像点から
ずれた位置にあり、光ビームが略最小となる位置(ビー
ムウエスト)に被走査面17が配置されている。この点
は後で説明する。Further, in accordance with the first shaping lens incident surface S 3 , the main scanning direction is 0.7154 mm, and the sub-scanning direction is 1.05 mm.
A 26 mm rectangular aperture 61 is arranged. Then, in the sub-scanning direction, the light emitting point 1 and the first reflecting surface 5 of the rotary polygon mirror 4 are out of the geometrical conjugate relationship. However, since the first reflecting surface 5, the second reflecting surface 6, and the scanned surface 17 of the rotary polygon mirror 4 are all in a conjugate relationship with each other, the tilting of the rotary polygon mirror 4 is corrected. . Therefore, the light emitting point 1 and the scanned surface 17 are out of the conjugate relationship. However, the position where the light beam becomes minimum (beam waist) is shifted from the geometrical optical imaging point due to the influence of diffraction, and the scanned surface 17 is located at the position where the light beam becomes substantially minimum (beam waist). Are located. This will be described later.
【0040】なお、上記具体例の伝達光学系22の主走
査方向の光学倍率βは8.24、副走査方向の光学倍率
βt は1.12、走査光学系23の副走査方向の光学倍
率βs は0.406である。The optical magnification β in the main scanning direction of the transmission optical system 22 in the above specific example is 8.24, the optical magnification β t in the sub-scanning direction is 1.12, and the optical magnification β of the scanning optical system 23 in the sub-scanning direction. β s is 0.406.
【0041】ここで、第2走査レンズ15は、前記した
ように、副走査方向にのみ屈折作用を有するプリズムで
ある。このプリズムの作用について説明する。回転多面
鏡4の反射面6で反射され偏向された光ビームは円錐状
の軌跡を描き、第2走査レンズ15のプリズムを配置し
ない場合、第3走査レンズ16の長尺レンズ上で湾曲し
たビーム軌跡となってしまう。このプリズム16は、図
10に模式的に示すように、円錐状の光ビームaの軌跡
を第3走査レンズ16の入射面上で直線状のビーム軌跡
Aに変換する作用を有している。Here, as described above, the second scanning lens 15 is a prism having a refraction function only in the sub-scanning direction. The operation of the prism will be described. The light beam reflected and deflected by the reflecting surface 6 of the rotary polygon mirror 4 draws a conical trajectory, and when the prism of the second scanning lens 15 is not disposed, the beam is curved on the long lens of the third scanning lens 16. It becomes a trajectory. This prism 16 has the function of converting the trajectory of the conical light beam a into a linear beam trajectory A on the incident surface of the third scanning lens 16, as schematically shown in FIG.
【0042】図11は、上記の具体例の第3走査レンズ
16の入射面におけるビーム軌跡を示した図であり、そ
のビーム軌跡を実線で示す。なお、図のY方向が主走査
方向、X方向が副走査方向を示す。比較のために、上記
具体例の光学系の回転多面鏡4の第2反射面6から第3
走査レンズ16までの距離は変えずに、第2走査レンズ
15のみを取り除いた場合の、第3走査レンズ16の入
射面におけるビームの軌跡を破線で示す。図11より、
第2走査レンズ15のプリズム作用によりビームの軌跡
を直線状に補正する作用があることが分かる。FIG. 11 is a diagram showing the beam locus on the incident surface of the third scanning lens 16 in the above specific example, and the beam locus is shown by a solid line. In the drawing, the Y direction indicates the main scanning direction, and the X direction indicates the sub scanning direction. For comparison, the third reflection surface 6 to the third reflection surface 6
The trajectory of the beam on the incident surface of the third scanning lens 16 when only the second scanning lens 15 is removed without changing the distance to the scanning lens 16 is indicated by a broken line. From FIG.
It can be seen that the prism function of the second scanning lens 15 has the function of correcting the beam trajectory into a straight line.
【0043】図12は、第3走査レンズ16の副走査断
面を主走査方向の数か所(5か所)の位置で示したもの
で、断面形状の設計値に対する測定値の誤差を示したも
のである。図中、X、Y、Zはそれぞれ副走査方向、主
走査方向、光軸方向とする。図12のように、第3走査
レンズ16のような鞍型トーリック面を持つレンズの形
状誤差は、主走査方向の位置によらず略同じ様子を示す
が、副走査方向に周期的に変化する特徴がある。上記の
ように、第2走査レンズ15のプリズム作用により、第
3走査レンズ16上のビーム軌跡は直線Aとなり、ビー
ムは主走査方向の位置に係わらず点B1 〜B5 の常に形
状誤差が凸の部分に入射する。主走査方向の何れの位置
においても、第3走査レンズ16の形状誤差が凸の部分
に光ビームが入射すると、副走査方向の結像位置は設計
された位置より手前にずれるが、走査領域全体にわたっ
て常に同一量だけ手前にずれるため、第3走査レンズ1
6の位置を調整する等、光学系の調整をすれば補正する
ことが可能であり、このような調整により像面湾曲は生
じない。FIG. 12 shows the sub-scanning cross section of the third scanning lens 16 at several positions (five positions) in the main scanning direction, and shows the error of the measured value with respect to the design value of the cross-sectional shape. Things. In the drawing, X, Y, and Z are the sub-scanning direction, the main scanning direction, and the optical axis direction, respectively. As shown in FIG. 12, the shape error of a lens having a saddle-shaped toric surface such as the third scanning lens 16 shows substantially the same state regardless of the position in the main scanning direction, but changes periodically in the sub-scanning direction. There are features. As described above, by the prism action of the second scanning lens 15, the beam trajectories on the third scanning lens 16 linearly A, and the beam is always shape error of point regardless of the position in the main scanning direction B 1 .about.B 5 is It is incident on the convex part. At any position in the main scanning direction, when the light beam is incident on a portion where the shape error of the third scanning lens 16 is convex, the imaging position in the sub-scanning direction is shifted forward from the designed position, but the entire scanning region , The third scanning lens 1
Correction can be made by adjusting the optical system such as by adjusting the position of 6, and such adjustment does not cause curvature of field.
【0044】さて、ここで被走査面17の配置位置とア
パーチャ61の大きさについて検討する。図1等に示し
た本発明の1実施例の光走査装置の副走査方向の厳密な
光路図は図13に示す通りである。ここで、整形光学系
21、伝達光学系22、走査光学系23は、それぞれ簡
素化して単レンズとして示してある。半導体レーザー1
の実像51、52、53は、それぞれ第1反射面5、第
2反射面6、被走査面17の近傍でかつそれらの面に対
して半導体レーザー1とは反対側に位置する。また、ア
パーチャ61の実像62、63は、それぞれ第2反射面
6、被走査面17の近傍でかつそれらの面に対して半導
体レーザー1側に位置する。また、第1反射面5、第2
反射面6、被走査面17は互いに幾何学光学的な共役関
係になっている。Now, the arrangement position of the scanned surface 17 and the size of the aperture 61 will be examined. The exact optical path diagram in the sub-scanning direction of the optical scanning device according to the embodiment of the present invention shown in FIG. 1 and the like is as shown in FIG. Here, the shaping optical system 21, the transmission optical system 22, and the scanning optical system 23 are each simplified and shown as a single lens. Semiconductor laser 1
Are located near the first reflection surface 5, the second reflection surface 6, and the surface 17 to be scanned, respectively, and on the opposite side of the semiconductor laser 1 with respect to those surfaces. The real images 62 and 63 of the aperture 61 are located near the second reflection surface 6 and the surface to be scanned 17 and on the semiconductor laser 1 side with respect to those surfaces. In addition, the first reflection surface 5, the second reflection surface
The reflecting surface 6 and the surface to be scanned 17 have a geometrical optical conjugate relationship with each other.
【0045】前記の実施例の光走査装置の具体的な数値
例を用いて、被走査面17近傍のビームスポット直径を
シミュレーションによって求めた結果を図14に示す。
なお、半導体レーザー1の副走査方向の広がり角は半値
全角で10°であり、中心強度に対して10%の位置で
アパーチャ61により遮蔽されている。被走査面17は
Z=0に位置し、半導体レーザー1の実像53はZ=+
4.1mmに位置し、アパーチャ61の実像63はZ=
−7.6mmに位置する。なお、ビームスポット直径は
中心強度に対して1/e2 の強度となる位置の直径であ
る。図14のように、ビームスポットサイズが最小とな
るビームウエストは、半導体レーザー1の実像53の位
置より手前(半導体レーザー1側)のZ=0に位置す
る。この現象は、前記の特開平4−229819号にも
開示されている。FIG. 14 shows the results obtained by simulating the beam spot diameter in the vicinity of the surface 17 to be scanned by using specific numerical examples of the optical scanning device of the above embodiment.
The divergence angle of the semiconductor laser 1 in the sub-scanning direction is 10 ° at full width at half maximum, and is shielded by the aperture 61 at a position of 10% with respect to the center intensity. The scanned surface 17 is located at Z = 0, and the real image 53 of the semiconductor laser 1 is at Z = +
4.1 mm, the real image 63 of the aperture 61 is Z =
-7.6 mm. Note that the beam spot diameter is a diameter at a position where the intensity becomes 1 / e 2 with respect to the center intensity. As shown in FIG. 14, the beam waist at which the beam spot size becomes the minimum is located at Z = 0 before (on the side of the semiconductor laser 1) the position of the real image 53 of the semiconductor laser 1. This phenomenon is also disclosed in the above-mentioned JP-A-4-229819.
【0046】図14のグラフから明らかなように、半導
体レーザー1の実像53の付近ではカーブが傾いている
ので、デフォーカスによるビームズポットサイズの変動
が大きく、被走査面17を実像53に一致させることは
望ましくないと言える。そこで、前記の本発明の実施例
では、ビームズポット直径が最も小さくなるビームウエ
ストに被走査面17を略一致させしている。この位置は
カーブの底にあるので、デフォーカスによるビームスボ
ットサイズの変動は小さく、また、最も小さいビームス
ポットを利用することができる。As is apparent from the graph of FIG. 14, since the curve is inclined near the real image 53 of the semiconductor laser 1, the beam spot size greatly changes due to defocus, and the scanned surface 17 is made to coincide with the real image 53. That is undesirable. Therefore, in the above-described embodiment of the present invention, the scanned surface 17 is made to substantially coincide with the beam waist at which the beam spot diameter becomes smallest. Since this position is at the bottom of the curve, the fluctuation of the beam spot size due to defocus is small, and the smallest beam spot can be used.
【0047】また、前記の特開平4−229819号の
実施例では、アパーチャにより遮蔽する光ビームは中心
強度の40%以上の位置と大きいため、図16のよう
に、ビームウエスト位置に関してビームスポットサイズ
の変動が非対称となり、光源側にデフォーカスしたとき
のビームスポットサイズの増加が激しいので、ビームウ
エストを被走査面よりも光学系側に配置させて、ビーム
スポットサイズの変化を抑えている。In the embodiment of Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-229819, since the light beam blocked by the aperture is as large as 40% or more of the central intensity, as shown in FIG. Are asymmetric, and the beam spot size increases sharply when defocusing to the light source side. Therefore, the beam waist is arranged closer to the optical system than the surface to be scanned, and the change in the beam spot size is suppressed.
【0048】これに対して、本発明では、アパーチャに
よる遮蔽が少なく、上記数値例では、光ビームの中心強
度に対して10%の位置で遮蔽している。このような場
合は、図14に示すように、ビームスポットサイズの変
動はビームウエスト位置に関して略対称となり、被走査
面17を略ビームウエストに一致させることにより、ビ
ームスポットサイズが最も小さい部分を使用することが
でき、また、デフォーカスによるビームスポットサイズ
の変動を最小にすることができる。On the other hand, in the present invention, the shielding by the aperture is small, and in the above numerical example, the light beam is shielded at a position 10% of the center intensity of the light beam. In such a case, as shown in FIG. 14, the variation of the beam spot size becomes substantially symmetrical with respect to the beam waist position, and by making the scanned surface 17 substantially coincide with the beam waist, the portion having the smallest beam spot size is used. In addition, the fluctuation of the beam spot size due to defocus can be minimized.
【0049】前記の光学系の具体的な数値例において、
半導体レーザー1の広がり角のばらつきを考慮した場合
のビームスポット直径の変化を図15に示す。一般に、
半導体レーザー1の副走査方向の広がり角は、半値全角
で7°〜13°程度のばらつきがあり、広がり角が7
°、10°、13°の場合のビームスポット直径を図1
5に示す。広がり角が7°、10°、13°のとき、ア
パーチャ61が遮蔽する位置は、それぞれ中心強度に対
して1%、10%、25%である。何れの広がり角にお
いても、ビームスポットサイズはビームウエストに関し
て略対称になっているため、被走査面17をビームウエ
ストに略一致させることにより、デフォーカスによるビ
ームスポットサイズの変動を最小に抑えることができ
る。レンズの製造精度やレンズの取付精度や温度変動に
より、デフォーカスは凡そ±1mm程度発生するが、そ
の範囲でビームスポット直径は75±13μmと実用的
に十分なレベルが実現されている。広がり角のばらつき
は7°〜13°であり、±30%の変動があったのに対
し、ビームスポット直径は75±13μmとなってお
り、±17%に低減することができる。In a specific numerical example of the above optical system,
FIG. 15 shows a change in the beam spot diameter in consideration of the variation in the spread angle of the semiconductor laser 1. In general,
The divergence angle of the semiconductor laser 1 in the sub-scanning direction has a variation of about 7 ° to 13 ° in full width at half maximum, and the divergence angle is 7 °.
Fig. 1 shows the beam spot diameter at 10 °, 10 ° and 13 °.
It is shown in FIG. When the divergence angles are 7 °, 10 °, and 13 °, the positions where the aperture 61 blocks are 1%, 10%, and 25% with respect to the center intensity, respectively. At any divergence angle, the beam spot size is substantially symmetrical with respect to the beam waist. Therefore, by making the scanned surface 17 substantially coincide with the beam waist, it is possible to minimize the fluctuation of the beam spot size due to defocus. it can. Defocusing occurs at about ± 1 mm due to lens manufacturing accuracy, lens mounting accuracy, and temperature fluctuations. In this range, the beam spot diameter is 75 ± 13 μm, which is a practically sufficient level. The variation of the divergence angle is 7 ° to 13 ° and there is a variation of ± 30%, whereas the beam spot diameter is 75 ± 13 μm, which can be reduced to ± 17%.
【0050】一方、特開平4−229819号のよう
に、光ビームの中心強度に対して25%より大きい部分
をアパーチャで遮蔽すると、アパーチャが遮蔽する部分
が大きくなりすぎ、ビームスポットサイズの変動がビー
ムウエストに関して非対称となり、安定して小さいビー
ムスポット直径を得ることができなくなるという問題が
ある。On the other hand, when a portion larger than 25% of the center intensity of the light beam is blocked by the aperture as in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-229819, the portion blocked by the aperture becomes too large, and the beam spot size varies. There is a problem that the beam waist becomes asymmetrical and a small beam spot diameter cannot be stably obtained.
【0051】また、本発明のように、アパーチャ61が
遮蔽する位置が光ビームの中心強度に対して25%以下
であると、アパーチャによる光パワーの損失は9.6%
以下となり、光パワーの利用効率を高いものとすること
ができる。Further, as in the present invention, when the position blocked by the aperture 61 is 25% or less with respect to the center intensity of the light beam, the loss of the optical power due to the aperture is 9.6%.
Thus, the efficiency of using the optical power can be increased.
【0052】さらに、前記のような回転多面鏡4の異な
る反射面に順に2度入射させる光走査装置においては、
第1反射面5上での主走査方向のビームスポット直径は
極めて小さい。ところが、本発明のように、被走査面1
7を略ビームウエストに一致させると、図13に示した
ように、副走査方向では半導体レーザー1の実像51は
第1反射面5から離れた位置に結像するため、第1反射
面5上では光ビームはある程度の大きさを持つ。したが
って、第1反射面5に傷があったり、第1反射面5上に
塵が付着していても、結像特性に悪影響を及ぼしたり、
光ビームがこの傷や塵によって遮られることがなくな
り、被走査面17上で良好な形状で光パワーの安定した
ビームスポットが得られる。Further, in the optical scanning device in which the light is incident twice on the different reflecting surfaces of the rotary polygon mirror 4 as described above,
The beam spot diameter in the main scanning direction on the first reflection surface 5 is extremely small. However, as in the present invention, the scanned surface 1
When the beam spot 7 substantially coincides with the beam waist, the real image 51 of the semiconductor laser 1 is formed at a position distant from the first reflection surface 5 in the sub-scanning direction as shown in FIG. Then, the light beam has a certain size. Therefore, even if the first reflecting surface 5 is damaged or dust adheres to the first reflecting surface 5, the image forming characteristics are adversely affected,
The light beam is not interrupted by the scratches and dust, and a beam spot having a good shape and a stable optical power can be obtained on the surface 17 to be scanned.
【0053】なお、前記実施例では、偏向器として回転
多面鏡を使用するものについて説明したが、偏向器とし
て回転多面鏡の他に、回動軸を中心に正弦振動を行うガ
ルバノミラー、回転2面鏡の場合にも同様の効果を達成
することができる。また、回転多面鏡の反射面で2度反
射されるものだけでなく、1度だけ入射して反射偏向さ
れる光走査装置にも適用できる。以上、本発明の光走査
装置を実施例に基づいて説明してきたが、本発明はこれ
らに限定されず、種々の変形が可能である。In the above-described embodiment, the description has been given of the case where the rotary polygon mirror is used as the deflector. However, in addition to the rotary polygon mirror, a galvanometer mirror which performs a sine oscillation about the rotation axis, a rotary 2 Similar effects can be achieved with a plane mirror. In addition, the present invention can be applied not only to a device which is reflected twice by the reflecting surface of the rotary polygon mirror but also to an optical scanning device which is incident only once and is reflected and deflected. As described above, the optical scanning device of the present invention has been described based on the embodiments, but the present invention is not limited to these, and various modifications are possible.
【0054】[0054]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の光走査装置によれば、副走査方向において、アパーチ
ャの実像が被走査面の偏向器側に、光源の実像が被走査
面の偏向器とは反対側に位置するように配置され、有効
走査範囲において、被走査面が副走査方向における略ビ
ームウエスト位置に配置されており、かつ、アパーチャ
は光ビームの中心強度に対して25%以下の位置から副
走査方向の外側の部分を遮蔽するように設定されている
ので、被走査面のデフォーカスによるビームスボットサ
イズの変動を最小にでき、また、ビームスポットサイズ
が最も小さい部分を使用することができ、さらに、光パ
ワーの利用効率が高い。また、本発明を2度入射の光走
査装置に適用することにより、第1反射面の傷、塵によ
っても悪影響を受けることがなく、被走査面上で良好な
形状で光パワーの安定したビームスポットを得ることが
できる。As is apparent from the above description, according to the optical scanning device of the present invention, in the sub-scanning direction, the real image of the aperture is on the deflector side of the surface to be scanned, and the real image of the light source is on the surface of the surface to be scanned. In the effective scanning range, the surface to be scanned is arranged substantially at the beam waist position in the sub-scanning direction, and the aperture is set at 25% with respect to the center intensity of the light beam. %, The outer portion in the sub-scanning direction is set to be shielded, so that the fluctuation of the beam spot size due to the defocus of the scanned surface can be minimized, and the portion having the smallest beam spot size can be reduced. It can be used, and the utilization efficiency of optical power is high. In addition, by applying the present invention to a twice-incident optical scanning device, a beam having a good shape and a stable optical power on the surface to be scanned is not adversely affected by scratches and dust on the first reflecting surface. You can get a spot.
【図1】本発明の光走査装置の1実施例の構成を示す平
面図である。FIG. 1 is a plan view illustrating a configuration of an optical scanning device according to an embodiment of the present invention.
【図2】図1の光走査装置の側面図である。FIG. 2 is a side view of the optical scanning device of FIG.
【図3】図1の光走査装置の主要部の斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of a main part of the optical scanning device of FIG. 1;
【図4】図1の光走査装置の主要部の側面図である。FIG. 4 is a side view of a main part of the optical scanning device of FIG.
【図5】図1の光走査装置のアパーチャを半導体レーザ
ー側から見た図である。FIG. 5 is a diagram of an aperture of the optical scanning device of FIG. 1 as viewed from a semiconductor laser side.
【図6】図1の光走査装置の整形光学系の主走査方向と
副走査方向の光路図である。6 is an optical path diagram of a shaping optical system of the optical scanning device in FIG. 1 in a main scanning direction and a sub scanning direction.
【図7】図1の光走査装置の伝達光学系の主走査方向と
副走査方向の光路図である。7 is an optical path diagram of a transmission optical system of the optical scanning device of FIG. 1 in a main scanning direction and a sub scanning direction.
【図8】図1の光走査装置の走査光学系の主走査方向と
副走査方向の光路図である。8 is an optical path diagram of a scanning optical system of the optical scanning device of FIG. 1 in a main scanning direction and a sub-scanning direction.
【図9】伝達光学系の作用を説明するための主走査面の
断面展開図である。FIG. 9 is a developed cross-sectional view of the main scanning plane for explaining the operation of the transmission optical system.
【図10】屈折プリズムの補正作用を説明するための図
である。FIG. 10 is a diagram for explaining a correcting operation of a refractive prism.
【図11】本発明の1つの具体例の第3走査レンズの入
射面におけるビーム軌跡を示した図である。FIG. 11 is a diagram showing a beam trajectory on an incident surface of a third scanning lens according to one embodiment of the present invention.
【図12】本発明の1つの具体例において像面湾曲が発
生しない理由を説明するための図である。FIG. 12 is a diagram for explaining the reason why field curvature does not occur in one specific example of the present invention.
【図13】図1の光走査装置の副走査方向の厳密な光路
図である。13 is a strict optical path diagram in the sub-scanning direction of the optical scanning device of FIG.
【図14】本発明の1つの具体例の被走査面近傍のビー
ムスポット直径をシミュレーションによって求めた結果
を示す図である。FIG. 14 is a diagram showing a result obtained by simulating a beam spot diameter near a surface to be scanned according to one specific example of the present invention.
【図15】本発明の1つの具体例の半導体レーザーの広
がり角のばらつきを考慮した場合のビームスポット直径
の変化を示す図である。FIG. 15 is a diagram showing a change in a beam spot diameter in a case where variation in a spread angle of a semiconductor laser according to one specific example of the present invention is considered.
【図16】従来例における被走査面前後における副走査
方向のビームスポット直径を示す図である。FIG. 16 is a diagram showing a beam spot diameter in a sub-scanning direction before and after a surface to be scanned in a conventional example.
1…半導体レーザー(光源) 2…第1整形レンズ 3…第2整形レンズ 4…回転多面鏡 5…回転多面鏡の第1反射面 6…回転多面鏡の第2反射面 7…第1伝達レンズ 8…第2伝達レンズ 9…第3伝達レンズ 10…第1伝達ミラー 11…第4伝達レンズ 12…第5伝達レンズ 13…第2伝達ミラー 14…第1走査レンズ 15…第2走査レンズ(プリズム) 16…第3走査レンズ(長尺レンズ) 17…被走査面 21…整形光学系 22…伝達光学系 23…走査光学系 24…主走査方向正屈折力伝達レンズ群 41…回転多面鏡の回転軸 51、52、53…半導体レーザーの実像 61…アパーチャ 62、63…アパーチャの実像 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Semiconductor laser (light source) 2 ... 1st shaping lens 3 ... 2nd shaping lens 4 ... Rotation polygon mirror 5 ... 1st reflection surface of rotation polygon mirror 6 ... 2nd reflection surface of rotation polygon mirror 7 ... 1st transmission lens 8 Second transmission lens 9 Third transmission lens 10 First transmission mirror 11 Fourth transmission lens 12 Fifth transmission lens 13 Second transmission mirror 14 First scanning lens 15 Second scanning lens (prism) 16: Third scanning lens (long lens) 17: Scanned surface 21: Shaping optical system 22: Transmission optical system 23: Scanning optical system 24: Main scanning direction positive refractive power transmission lens group 41: Rotation of the rotating polygon mirror Axis 51, 52, 53 ... Real image of semiconductor laser 61 ... Aperture 62, 63 ... Real image of aperture
Claims (4)
らの光ビームを所定の特性の整形光ビームに変換する整
形光学系と、前記整形光学系中に設けられたアパーチャ
と、前記整形光ビームを反射偏向させる複数の反射面を
有する偏向器と、前記偏向器の反射面により反射偏向さ
れた光ビームを被走査面上にビームスポットを形成させ
て走査させる走査光学系とを備えた光走査装置におい
て、 副走査方向において、前記アパーチャの実像が前記被走
査面の前記偏向器側に、前記光源の実像が前記被走査面
の前記偏向器とは反対側に位置するように配置され、有
効走査範囲において、前記被走査面が副走査方向におけ
る略ビームウエスト位置に配置されており、かつ、前記
アパーチャは光ビームの中心強度に対して25%以下の
位置から副走査方向の外側の部分を遮蔽するように設定
されていることを特徴とする光走査装置。A light source for generating a light beam; a shaping optical system for converting the light beam from the light source into a shaped light beam having predetermined characteristics; an aperture provided in the shaping optical system; Light having a deflector having a plurality of reflecting surfaces for reflecting and deflecting a beam, and a scanning optical system for forming a beam spot on a surface to be scanned with the light beam reflected and deflected by the reflecting surface of the deflector and scanning the light beam. In the scanning device, in the sub-scanning direction, the real image of the aperture is arranged on the deflector side of the surface to be scanned, the real image of the light source is located on the opposite side of the deflector of the surface to be scanned, In the effective scanning range, the surface to be scanned is disposed substantially at the beam waist position in the sub-scanning direction, and the aperture is sub-scanned from a position of 25% or less of the center intensity of the light beam. Optical scanning apparatus characterized by being configured to shield the outer part of the direction.
回転多面鏡の第1反射面により反射偏向された光ビーム
を前記回転多面鏡の第2反射面に伝達入射させる伝達光
学系を備え、前記第2反射面により反射偏向された光ビ
ームを前記走査光学系により前記被走査面上にビームス
ポットを形成させて走査させるように構成されているこ
とを特徴とする請求項1記載の光走査装置。2. The deflector comprises a rotary polygon mirror, and has a transmission optical system for transmitting a light beam reflected and deflected by a first reflection surface of the rotary polygon mirror to a second reflection surface of the rotary polygon mirror. 2. The light according to claim 1, wherein the light beam reflected and deflected by the second reflection surface is configured to scan by forming a beam spot on the surface to be scanned by the scanning optical system. Scanning device.
記第1反射面と前記第2反射面とを略共役関係にしてお
り、前記走査光学系は副走査方向において前記第2反射
面と前記被走査面とを略共役関係にしていることを特徴
とする請求項2記載の光走査装置。3. The transmission optical system has a substantially conjugate relationship between the first reflection surface and the second reflection surface in a sub-scanning direction, and the scanning optical system has the second reflection surface and the second reflection surface in a sub-scanning direction. 3. The optical scanning device according to claim 2, wherein the surface to be scanned has a substantially conjugate relationship.
の光軸、前記走査光学系の光軸が、前記回転多面鏡の回
転軸を含む共通の副走査面内に配置されていることを特
徴とする請求項2又は3記載の光走査装置。4. An optical axis of the shaping optical system, an optical axis of the transmission optical system, and an optical axis of the scanning optical system are arranged in a common sub-scanning plane including a rotation axis of the rotary polygon mirror. 4. The optical scanning device according to claim 2, wherein:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9156730A JPH112769A (en) | 1997-06-13 | 1997-06-13 | Optical scanning device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9156730A JPH112769A (en) | 1997-06-13 | 1997-06-13 | Optical scanning device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH112769A true JPH112769A (en) | 1999-01-06 |
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ID=15634085
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9156730A Pending JPH112769A (en) | 1997-06-13 | 1997-06-13 | Optical scanning device |
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