JPH11274207A - Method and device for forming bump electrode - Google Patents
Method and device for forming bump electrodeInfo
- Publication number
- JPH11274207A JPH11274207A JP9231798A JP9231798A JPH11274207A JP H11274207 A JPH11274207 A JP H11274207A JP 9231798 A JP9231798 A JP 9231798A JP 9231798 A JP9231798 A JP 9231798A JP H11274207 A JPH11274207 A JP H11274207A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stencil mask
- bump electrode
- filled
- forming
- electronic component
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims abstract description 9
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 abstract description 23
- 239000006071 cream Substances 0.000 abstract description 20
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 7
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 11
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 238000002507 cathodic stripping potentiometry Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、基板上に表面実装
されるIC、LSI等のチップ状の半導体素子、半導体
素子がモールドされたBGA、CSP等のパッケージ、
コネクタ等の電子部品や基板自体にバンプ電極を形成す
るバンプ電極形成方法およびその装置に係り、詳しく
は、上記電子部品の電極形成面に良好な密着力でバンプ
電極を形成することができるバンプ電極形成方法および
その装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chip-shaped semiconductor element such as an IC or LSI, which is surface-mounted on a substrate, a package such as a BGA or CSP in which the semiconductor element is molded,
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for forming a bump electrode on an electronic component such as a connector or a substrate itself, and more particularly, to a bump electrode capable of forming a bump electrode with good adhesion to an electrode forming surface of the electronic component. The present invention relates to a forming method and an apparatus therefor.
【0002】[0002]
【従来の技術】最近の電子機器のダウンサイジング化お
よび低コスト化に伴い、IC、LSI等のチップ状の半
導体素子、半導体素子がモールドされたBGA、CSP
等のパッケージ、及びコネクタ等の電子部品が、バンプ
電極を介して基板上に表面実装されるようになってき
た。特に、IC、LSI等の半導体素子は、パッケージ
ングせずにフリップチップとして基板上にバンプ電極を
介して表面実装される傾向になってきた。このような電
子部品の基板上への表面実装を行うために、電子部品側
にバンプ電極を形成することが考えられる。2. Description of the Related Art Along with recent downsizing and cost reduction of electronic equipment, chip-shaped semiconductor elements such as ICs and LSIs, BGAs and CSPs in which semiconductor elements are molded.
And electronic components such as connectors have been surface-mounted on substrates via bump electrodes. In particular, semiconductor devices such as ICs and LSIs have been tending to be surface-mounted as flip-chips on substrates via bump electrodes without packaging. In order to perform surface mounting of such an electronic component on a substrate, it is conceivable to form a bump electrode on the electronic component side.
【0003】上記基板上に表面実装される電子部品や基
板自体にバンプ電極を形成する方法として、電子部品の
電極形成面に装着した孔版マスク(印刷マスク)の貫通
孔に、導電性ペースト充填部材としてのスキージを用い
て導電性ペーストを充填した後、該電子部品と該孔版マ
スクとを離すことにより電極を形成する方法が提案され
ている。As a method of forming a bump electrode on an electronic component surface-mounted on the substrate or on the substrate itself, a conductive paste filling member is inserted into a through hole of a stencil mask (print mask) mounted on the electrode forming surface of the electronic component. There has been proposed a method of forming an electrode by filling a conductive paste using a squeegee and separating the electronic component from the stencil mask.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の孔版マスクを用いた電極形成法では、上記貫通孔に
導電性ペーストを充填した後、孔版マスクを電子部品か
ら離す際に貫通孔内の導電性ペーストの一部が孔版マス
クに密着して引きずられ、良好なバンプ電極を形成でき
ない場合があった。なお、このような問題点は、基板上
に表面実装される電子部品に電極を形成する場合だけで
なく、基板自体に電極を形成する場合にも発生し得るも
のである。However, in the above-described electrode forming method using a stencil mask, after the conductive paste is filled in the through-holes, when the stencil mask is separated from the electronic component, the conductive material in the through-holes is removed. In some cases, a portion of the conductive paste was dragged in close contact with the stencil mask, and a good bump electrode could not be formed. Such a problem can occur not only when an electrode is formed on an electronic component surface-mounted on a substrate but also when an electrode is formed on the substrate itself.
【0005】本発明は以上の問題点に鑑みなされたもの
であり、その目的は、導電性ペーストを乾燥させたり酸
化させたりすることなく、貫通孔に導電性ペーストを充
填した孔版マスクを長時間かけて電子部品から離すこと
ができるようにすることにより、孔版マスクを電子部品
から離す際の導電性ペーストのぬけ性に優れ、良好なバ
ンプ電極を形成することができるバンプ電極形成方法お
よびその装置を提供することである。The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a stencil mask in which through holes are filled with a conductive paste for a long time without drying or oxidizing the conductive paste. Bump electrode forming method and apparatus capable of forming a good bump electrode by exposing the stencil mask to the electronic component by separating the stencil mask from the electronic component by allowing the stencil mask to be separated from the electronic component It is to provide.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1の発明は、バンプ電極形成用の貫通孔が形
成された孔版マスクを通して、電子部品の電極形成面に
導電性ペーストを印刷することにより、該電極形成面に
バンプ電極を形成するバンプ電極形成方法であって、不
活性ガスが満たされ且つ飽和蒸気圧の雰囲気中で、該導
電性ペーストが充填された孔版マスクを該電子部品から
離すことを特徴とするものである。この請求項1のバン
プ電極形成方法では、不活性ガスが満たされ且つ飽和蒸
気圧の雰囲気中で、導電性ペーストが充填された孔版マ
スクを電子部品から離しているので、貫通孔内の導電性
ペーストの一部が孔版マスクに密着して引きずられない
ように孔版マスクを電子部品から長時間かけて離す場合
でも、貫通孔に充填された導電性ペーストが酸化したり
乾燥したりすることがない。In order to achieve the above object, the invention of claim 1 is to provide a stencil mask in which a through hole for forming a bump electrode is formed by applying a conductive paste to an electrode forming surface of an electronic component. A bump electrode forming method of forming a bump electrode on the electrode forming surface by printing, wherein the stencil mask filled with the conductive paste is filled with an inert gas and in an atmosphere of a saturated vapor pressure. It is characterized by being separated from electronic components. In the bump electrode forming method of the present invention, the stencil mask filled with the conductive paste is separated from the electronic component in an atmosphere filled with an inert gas and at a saturated vapor pressure. Even when the stencil mask is separated from the electronic component for a long time so that a part of the paste does not stick to the stencil mask and is not dragged, the conductive paste filled in the through holes does not oxidize or dry. .
【0007】請求項2の発明は、請求項1のバンプ電極
形成方法において、上記雰囲気中で、上記電子部品に接
触させた上記孔版マスクの貫通孔に上記導電性ペースト
を充填することを特徴とするものである。この請求項2
のバンプ電極形成方法では、上記雰囲気中で、電子部品
に接触させた孔版マスクの貫通孔に導電性ペーストを充
填しているので、該貫通孔の充填に用いる導電性ペース
トを酸化及び乾燥させることなく、該貫通孔の充填に長
時間にわたって用いることができる。According to a second aspect of the present invention, in the method of forming a bump electrode according to the first aspect, the conductive paste is filled into the through-holes of the stencil mask in contact with the electronic component in the atmosphere. Is what you do. This claim 2
In the bump electrode forming method, the conductive paste is filled in the through-hole of the stencil mask that has been brought into contact with the electronic component in the above atmosphere, so that the conductive paste used for filling the through-hole is oxidized and dried. In addition, it can be used for a long time to fill the through hole.
【0008】請求項3の発明は、バンプ電極形成用の貫
通孔が形成された孔版マスクを通して、電子部品の電極
形成面に導電性ペーストを印刷することにより、該電極
形成面にバンプ電極を形成するバンプ電極形成装置であ
って、不活性ガスが満たされ且つ飽和蒸気圧の雰囲気を
維持可能な気密筺体を備え、該気密筺体内に、該孔版マ
スクに接触した電子部品を保持する保持手段と、該孔版
マスクを該電子部品から離すように離間手段とを設けた
ことを特徴とするものである。この請求項3のバンプ電
極形成装置では、不活性ガスが満たされ且つ飽和蒸気圧
の雰囲気の気密筺体内で、保持手段で保持された電子部
品から導電性ペーストが充填された孔版マスクを電子部
品から離間手段によって離しているので、貫通孔内の導
電性ペーストの一部が孔版マスクに密着して引きずられ
ないように孔版マスクを電子部品から長時間かけて離す
場合でも、貫通孔に充填された導電性ペーストが酸化し
たり乾燥したりすることがない。According to a third aspect of the present invention, a bump electrode is formed on the electrode forming surface by printing a conductive paste on the electrode forming surface of the electronic component through a stencil mask having a through hole for forming a bump electrode. A bump electrode forming apparatus, comprising a hermetic housing filled with an inert gas and capable of maintaining an atmosphere of a saturated vapor pressure, and holding means for holding an electronic component in contact with the stencil mask in the hermetic housing. And a separating means provided to separate the stencil mask from the electronic component. In the bump electrode forming apparatus according to the third aspect, the stencil mask filled with the conductive paste from the electronic component held by the holding means is sealed in the airtight housing filled with the inert gas and at the atmosphere of the saturated vapor pressure. Even when the stencil mask is separated from the electronic component for a long time so that a part of the conductive paste in the through-hole is not in close contact with the stencil mask and is not dragged, the through-holes are filled. The conductive paste does not oxidize or dry.
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】以下、本発明を、電子部品として
の半導体素子(半導体チップ)が多数形成されたウェー
ハに導電性ペーストからなるバンプ電極を一括形成する
バンプ電極形成方法及び装置に適用した実施形態につい
て説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention is applied to a method and an apparatus for forming bump electrodes made of a conductive paste on a wafer on which a large number of semiconductor elements (semiconductor chips) as electronic components are formed. An embodiment will be described.
【0010】図1は、本実施形態に係るバンプ電極形成
方法を実現することができる装置の概略構成図である。
このバンプ電極形成装置は、機密筺体100の内部に、
複数(本実施形態では10組)のバンプ電極形成用のユ
ニットU1〜U10を備えている。各ユニットは、主軸
10、該主軸10の端部に取り付けられたプーリー1
1、該主軸に一方の端部が固定された1組のアーム部材
12、該アーム部材の他端に回転可能に取り付けられた
1組のテーブルホルダー13、該テーブルホルダー13
の鉛直方向の一端部に固定されたテーブル14などによ
り構成されている。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an apparatus capable of realizing the bump electrode forming method according to the present embodiment.
This bump electrode forming apparatus is provided inside the confidential housing 100,
A plurality (10 sets in this embodiment) of units U1 to U10 for forming bump electrodes are provided. Each unit includes a main shaft 10 and a pulley 1 attached to an end of the main shaft 10.
1. a set of arm members 12 having one end fixed to the main shaft; a set of table holders 13 rotatably attached to the other end of the arm members;
And a table 14 fixed to one end in the vertical direction.
【0011】上記主軸11のプーリー11は、駆動モー
タ15の回転軸15aに取り付けられた駆動プーリー1
6とベルト17で連結され、両プーリー間で回転駆動力
を伝達可能になっている。また、各ユニットの主軸10
は軸受け18で連結されている。The pulley 11 of the main shaft 11 is a drive pulley 1 attached to a rotary shaft 15a of a drive motor 15.
6 and a belt 17 so that the rotational driving force can be transmitted between both pulleys. Also, the main shaft 10 of each unit
Are connected by a bearing 18.
【0012】上記テーブル14及びテーブルホルダー1
3は、ウェーハ1および孔版マスク2を保持する保持手
段としても用いられ、ウェーハ1および孔版マスク2を
図示しないクランプ機構で保持できるようになってい
る。また、テーブル14の上方にはテーブル14上のウ
ェーハ1から孔版マスク2を所望の時間で離すための図
示しないサーボモータやリニアモータ等で構成された離
間手段が設けられている。The above table 14 and table holder 1
Numeral 3 is also used as a holding means for holding the wafer 1 and the stencil mask 2, so that the wafer 1 and the stencil mask 2 can be held by a clamp mechanism (not shown). Above the table 14, there is provided a separating means constituted by a servo motor or a linear motor (not shown) for separating the stencil mask 2 from the wafer 1 on the table 14 for a desired time.
【0013】上記気密筺体100の内部は、図示しない
温度調整装置によりほぼ一定温度に保持されている。ま
た、この気密筺体100の内部は窒素ガスなどの不活性
ガスで満たされ、バンプ電極形成に用いるクリームはん
だ等が酸化しないようにしている。また、気密筺体10
0の内部には、アルコール等の液体19を収容した容器
20が設置され、該容器20から蒸発した蒸気により気
密筺体100の内部がほぼ飽和蒸気圧の雰囲気になり、
これにより、上記クリームはんだの乾燥を長時間(例え
ば1時間以上)防止できるようになっている。上記容器
20内の液体は、自然蒸発させてもいいし、加熱して強
制的に蒸発させてもよい。また、液体を霧吹きノズルか
らミスト状にして気密筺体100内に放出させることに
より、所定の雰囲気にしてもよい。この気密筺体100
の内部の雰囲気をより正確に調整するために、蒸気圧セ
ンサを設置し、該センサの出力に基づいて上記液体の加
熱や霧吹き動作を制御してもよい。The inside of the hermetic housing 100 is maintained at a substantially constant temperature by a temperature controller (not shown). Further, the inside of the hermetic housing 100 is filled with an inert gas such as a nitrogen gas so that cream solder or the like used for forming bump electrodes is not oxidized. In addition, the airtight housing 10
0, a container 20 accommodating a liquid 19 such as alcohol is installed, and the vapor evaporated from the container 20 causes the inside of the hermetic housing 100 to have an atmosphere of a substantially saturated vapor pressure,
Thereby, drying of the cream solder can be prevented for a long time (for example, 1 hour or more). The liquid in the container 20 may be spontaneously evaporated, or may be heated and forcibly evaporated. Alternatively, a predetermined atmosphere may be obtained by discharging the liquid into the airtight housing 100 in the form of a mist from the spray nozzle. This airtight housing 100
In order to more accurately adjust the atmosphere inside the device, a vapor pressure sensor may be provided, and the heating and spraying of the liquid may be controlled based on the output of the sensor.
【0014】また、上記気密筺体100のドアは、上記
所定の雰囲気を保持するために2重扉構造にするのが好
ましい。It is preferable that the door of the hermetic housing 100 has a double door structure in order to maintain the predetermined atmosphere.
【0015】上記構成のバンプ電極形成装置では、図1
のユニットU1に示すように、まずテーブル14上にウ
ェーハ1がセットされ、該ウェーハ1の電極形成面に孔
版マスク2を接触させ、該孔版マスク2の上からスキー
ジ4を用いてクリームはんだ塗り込み、該孔版マスク2
の貫通孔にクリームはんだを充填する。In the bump electrode forming apparatus having the above configuration, FIG.
As shown in the unit U1, the wafer 1 is first set on the table 14, the stencil mask 2 is brought into contact with the electrode forming surface of the wafer 1, and cream solder is applied from above the stencil mask 2 using a squeegee 4. , The stencil mask 2
Is filled with cream solder.
【0016】次に、図1のユニットU2に示すように、
上記クリームはんだを充填した後、テーブルホルダー1
3を軸13aの周りに180度回転させ、主軸10側に
孔版マスク2が位置するようにする。そして、駆動モー
タをONして主軸10を回転させ、ウェーハ1および孔
版マスク2を、アーム部材12、テーブルホルダー13
およびテーブル14とともに回転させる。この回転によ
り、図2に示すように孔版マスク2の貫通孔2aに充填
されたクリームはんだ中のはんだ粒子をウェーハ1の電
極形成面側に遠心力で移動させ、該電極形成面に接する
部分のクリームはんだ中の導電性粒子の密度を高める。
これにより、ウェーハ1の電極形成面とクリームはんだ
との密着力(タッキング力)が強くなるととともに、孔
版マスク2の貫通孔2aの内壁とクリームはんだとの密
着力(ズリ応力)が弱くなる。Next, as shown in the unit U2 in FIG.
After filling the cream solder, the table holder 1
3 is rotated by 180 degrees around the axis 13a so that the stencil mask 2 is positioned on the main shaft 10 side. Then, the drive motor is turned on to rotate the main shaft 10, and the wafer 1 and the stencil mask 2 are moved to the arm member 12 and the table holder 13
And with the table 14. By this rotation, as shown in FIG. 2, the solder particles in the cream solder filled in the through holes 2a of the stencil mask 2 are moved to the electrode forming surface side of the wafer 1 by centrifugal force. Increase the density of conductive particles in cream solder.
As a result, the adhesive force (tacking force) between the electrode forming surface of the wafer 1 and the cream solder increases, and the adhesive force (shear stress) between the inner wall of the through hole 2a of the stencil mask 2 and the cream solder decreases.
【0017】次に、図1のユニットU3に示すように、
テーブルホルダー13を再び軸13aの周りに180度
回転させて、ウェーハ1及び孔版マスク2を元の位置に
戻す。そして、ウェーハ1及び孔版マスク2を気密筺体
100内に必要に応じて放置し、さらにウェーハ1の電
極形成面とクリームはんだとの密着力(タッキング力)
を強める。Next, as shown in the unit U3 in FIG.
The table holder 13 is again rotated by 180 degrees around the axis 13a to return the wafer 1 and the stencil mask 2 to their original positions. Then, the wafer 1 and the stencil mask 2 are left in the hermetic housing 100 as necessary, and the adhesion (tacking force) between the electrode forming surface of the wafer 1 and the cream solder.
Strengthen.
【0018】次に、図1のユニットU10に示すよう
に、ウェーハ1から孔版マスク2を図示しない離間手段
により長時間かけてゆっくりと離すことにより、ウェー
ハ2の各半導体素子上にバンプ電極が一括形成される。Next, as shown in a unit U10 in FIG. 1, the stencil mask 2 is slowly separated from the wafer 1 by a separating means (not shown) over a long period of time, so that bump electrodes are collectively formed on each semiconductor element of the wafer 2. It is formed.
【0019】以上、本実施形態によれば、クリームはん
だを乾燥させたり酸化させたりすることなく、貫通孔2
aにクリームはんだを充填した孔版マスク2を長時間か
けてウェーハ1から離すことができるので、貫通孔2a
内のクリームはんだの一部が該孔版マスク2に密着して
引きずられることなく、孔版マスク2を電子部品から離
す際の導電性ペーストのぬけ性に優れ、ウェーハ1の電
極形成面に良好なバンプ電極を形成することができる。As described above, according to this embodiment, the through-hole 2 is formed without drying or oxidizing the cream solder.
Since the stencil mask 2 filled with the cream solder can be separated from the wafer 1 for a long time, the through-hole 2a
A portion of the cream solder in the stencil mask 2 is not in contact with the stencil mask 2 and is not dragged. Electrodes can be formed.
【0020】また、複数のウェーハを上記気密筺体10
0内にセットし、クリームはんだの酸化や乾燥を防止し
ながら、複数のウェーハ1及び孔版マスク2を回転させ
たり長時間かけて孔版マスクを離したりすることによ
り、ウェーハ1の電極形成面とクリームはんだとの密着
力(タッキング力)を強めた状態で版離し動作を行うこ
とができるので、良好なバンプ電極が形成されたウェー
ハ1の生産性を高めることができる。Further, a plurality of wafers can be stored in the hermetic housing 10.
0, and rotating the plurality of wafers 1 and the stencil mask 2 or separating the stencil mask over a long period of time while preventing the cream solder from oxidizing and drying. Since the plate separating operation can be performed in a state in which the adhesive force (tacking force) with the solder is increased, the productivity of the wafer 1 on which good bump electrodes are formed can be increased.
【0021】なお、上記実施形態において、上記ユニッ
トの回転で発生した気流が隣のユニットに及ばないよう
に、各ユニットの間に仕切り壁を設けても良い。また、
上記実施形態では、10組のユニットを設けた場合につ
いて説明したが、本発明は、ユニットの数に限定される
ことなくて適用できるものである。In the above embodiment, a partition wall may be provided between the units so that the air flow generated by the rotation of the units does not reach the adjacent units. Also,
In the above embodiment, the case where ten sets of units are provided has been described, but the present invention can be applied without being limited to the number of units.
【0022】また、上記実施形態においては、導電性ペ
ーストとしてクリームはんだを充填する場合について説
明したが、本発明は、このクリームはんだに限らす他の
導電性ペーストを充填する場合にも適用できるものであ
る。In the above embodiment, the case where cream solder is filled as the conductive paste has been described. However, the present invention can be applied to the case where another conductive paste limited to this cream solder is filled. It is.
【0023】また、上記実施形態においては、基板に表
面実装される半導体素子が複数形成されているウェーハ
1上にバンプ電極を一括形成する場合について説明した
が、本発明は、半導体チップがモールドされたBGA、
CSPタイプのパッケージや、基板に表面実装されるコ
ネクタ類にバンプ電極を形成する場合にも適用すること
ができ、同様な効果が得られるものである。Further, in the above embodiment, the case where bump electrodes are collectively formed on the wafer 1 on which a plurality of semiconductor elements to be surface-mounted on a substrate are formed has been described. BGA,
The present invention can also be applied to a case where bump electrodes are formed on a CSP type package or connectors mounted on a surface of a substrate, and the same effect can be obtained.
【0024】また、パッケージやコネクタ等の電子部品
にバンプ電極を形成する場合、バンプ電極形成面が同一
の仮想平面上に位置するように複数の電子部品を並べ、
該複数の電子部品のバンプ電極形成面にバンプ電極を一
括形成するようにしてもよい。When bump electrodes are formed on an electronic component such as a package or a connector, a plurality of electronic components are arranged so that the bump electrode formation surface is located on the same virtual plane.
The bump electrodes may be collectively formed on the bump electrode formation surfaces of the plurality of electronic components.
【0025】[0025]
【発明の効果】請求項1乃至3の発明によれば、導電性
ペーストを乾燥させたり酸化させたりすることなく、貫
通孔に導電性ペーストを充填した孔版マスクを長時間か
けて電子部品から離すことができるので、孔版マスクを
電子部品から離す際の導電性ペーストのぬけ性に優れ、
良好なバンプ電極を形成することができるという効果が
ある。According to the present invention, the stencil mask filled with the conductive paste in the through holes is separated from the electronic component for a long time without drying or oxidizing the conductive paste. Because it is possible to exfoliate the conductive paste when separating the stencil mask from the electronic component,
There is an effect that a good bump electrode can be formed.
【0026】特に、請求項2の発明によれば、孔版マス
クの貫通孔の充填に用いる導電性ペーストを酸化及び乾
燥させることなく、該貫通孔の充填に長時間にわたって
用いることができるという効果がある。In particular, according to the invention of claim 2, there is an effect that the conductive paste used for filling the through holes of the stencil mask can be used for a long time to fill the through holes without oxidizing and drying. is there.
【図1】本発明の実施形態に係るバンプ電極形成装置の
概略構成図。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a bump electrode forming apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図2】同装置におけるウェーハ及び孔版マスクの回転
時に作用する遠心力の説明図。FIG. 2 is an explanatory diagram of a centrifugal force acting when the wafer and the stencil mask rotate in the same apparatus.
1 ウェーハ 1a 導電性パッド 2 孔版マスク 2a 貫通孔 3 クリームはんだ 3a はんだ粒子 4 スキージ 10 主軸 11 プーリー 12 アーム部材 13 テーブルホルダー 14 テーブル 15 駆動モータ 16 駆動プーリー 17 ベルト 18 軸受け 19 飽和蒸気圧維持用の液体 20 容器 100 気密筐体 U1〜U10 バンプ電極形成用のユニット Reference Signs List 1 wafer 1a conductive pad 2 stencil mask 2a through hole 3 cream solder 3a solder particle 4 squeegee 10 main shaft 11 pulley 12 arm member 13 table holder 14 table 15 drive motor 16 drive pulley 17 belt 18 bearing 19 bearing liquid for maintaining saturated vapor pressure Reference Signs 20 container 100 hermetic housing U1 to U10 unit for forming bump electrode
Claims (3)
版マスクを通して、電子部品の電極形成面に導電性ペー
ストを印刷することにより、該電極形成面にバンプ電極
を形成するバンプ電極形成方法であって、 不活性ガスが満たされ且つ飽和蒸気圧の雰囲気中で、該
導電性ペーストが充填された孔版マスクを該電子部品か
ら離すことを特徴とするバンプ電極形成方法。A method of forming a bump electrode on a surface of an electronic component by printing a conductive paste through a stencil mask in which a through hole for forming a bump electrode is formed. A method of forming a bump electrode, wherein a stencil mask filled with the conductive paste is separated from the electronic component in an atmosphere filled with an inert gas and at a saturated vapor pressure.
スクの貫通孔に上記導電性ペーストを充填することを特
徴とするバンプ電極形成方法。2. The bump electrode forming method according to claim 1, wherein the conductive paste is filled in a through hole of the stencil mask in contact with the electronic component in the atmosphere. .
版マスクを通して、電子部品の電極形成面に導電性ペー
ストを印刷することにより、該電極形成面にバンプ電極
を形成するバンプ電極形成装置であって、 不活性ガスが満たされ且つ飽和蒸気圧の雰囲気を維持可
能な気密筺体を備え、 該気密筺体内に、該孔版マスクに接触した電子部品を保
持する保持手段と、該孔版マスクを該電子部品から離す
ように離間手段とを設けたことを特徴とするバンプ電極
形成装置。3. A bump electrode forming apparatus for forming a bump electrode on an electrode forming surface by printing a conductive paste on an electrode forming surface of an electronic component through a stencil mask in which a through hole for forming a bump electrode is formed. An airtight housing filled with an inert gas and capable of maintaining an atmosphere of saturated vapor pressure, holding means for holding electronic components in contact with the stencil mask in the airtight housing; An apparatus for forming a bump electrode, comprising a separating means provided to separate from the electronic component.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9231798A JPH11274207A (en) | 1998-03-19 | 1998-03-19 | Method and device for forming bump electrode |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9231798A JPH11274207A (en) | 1998-03-19 | 1998-03-19 | Method and device for forming bump electrode |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11274207A true JPH11274207A (en) | 1999-10-08 |
Family
ID=14051030
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9231798A Withdrawn JPH11274207A (en) | 1998-03-19 | 1998-03-19 | Method and device for forming bump electrode |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11274207A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6196444B1 (en) * | 1996-07-17 | 2001-03-06 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for soldering ball grid array modules to substrates |
-
1998
- 1998-03-19 JP JP9231798A patent/JPH11274207A/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6196444B1 (en) * | 1996-07-17 | 2001-03-06 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for soldering ball grid array modules to substrates |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6326240B1 (en) | Apparatus for packaging semiconductor device and method for packaging the same | |
| US6398099B1 (en) | Apparatus for manufacturing plug and method of manufacturing the same | |
| US20070085216A1 (en) | Semiconductor device having a semiconductor chip, and method for the production thereof | |
| JP2962385B2 (en) | Method for manufacturing semiconductor device | |
| JPH11274207A (en) | Method and device for forming bump electrode | |
| JPH11274199A (en) | Bump electrode forming method and device method and device therefor | |
| KR20010105271A (en) | Flux cleaning method and method of manufacturing semiconductor device | |
| US6886733B2 (en) | Conductive powder applying device immersing substrate into conductive powder by rotating tank including conductive powder and substrate at opposing positions | |
| JP2836917B2 (en) | Component mounting device and component mounting method | |
| JPS6246270B2 (en) | ||
| JP3300627B2 (en) | Screen printing method and apparatus | |
| JP2537611B2 (en) | Coating material coating equipment | |
| JP2006295186A (en) | Integrated circuit packaging process by tape-free die attach method | |
| JPS58177180A (en) | Method of applying solution to square substrate | |
| JP2007336321A (en) | Method for manufacturing surface-mounted piezoelectric oscillator and method for removing foreign matter from IC component mounting pad | |
| JP2003059958A (en) | Micro bump formation method | |
| JP2000196233A (en) | Method and device for shaping soldering form of cream solder printed on printed board and method and device for storing printed board printed with cream solder | |
| JP4153723B2 (en) | Cleaning protection method, cleaning protection solution and apparatus unit | |
| JPH07161739A (en) | Method and apparatus for soldering semiconductor chips | |
| JPH11268237A (en) | Conductive paste filling member and filling device | |
| JP2001053431A (en) | Printing method and electronic part and mounted substrate | |
| JPS63202923A (en) | Applicator for sog film | |
| JP4278807B2 (en) | Method and apparatus for mounting semiconductor device | |
| JPH04313295A (en) | Soldering method in surface mounting | |
| JP2006015288A (en) | Coating machine and coating method |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050607 |