JPH11273358A - Semiconductor storage device - Google Patents
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- JPH11273358A JPH11273358A JP7883498A JP7883498A JPH11273358A JP H11273358 A JPH11273358 A JP H11273358A JP 7883498 A JP7883498 A JP 7883498A JP 7883498 A JP7883498 A JP 7883498A JP H11273358 A JPH11273358 A JP H11273358A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置に
関し、詳しくは、1ビットのメモリセルに4値以上の情
報を記憶する多値メモリに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a multi-valued memory that stores four or more values of information in a 1-bit memory cell.
【0002】[0002]
【従来の技術】図6は、多値メモリのメモリセルの一例
の構成概念図である。同図においては、1ビットのメモ
リセル30およびバイアス回路32が示されている。メ
モリセル30は、フローティング・ゲート型のN型MO
Sトランジスタであり、そのゲート、ソースおよびドレ
インは、各々ワード線WL、グランドおよびビット線B
Lに接続されている。また、バイアス回路32はビット
線BLに接続されている。2. Description of the Related Art FIG. 6 is a conceptual diagram showing an example of a memory cell of a multilevel memory. In FIG. 1, a 1-bit memory cell 30 and a bias circuit 32 are shown. The memory cell 30 is a floating gate type N-type MO.
S transistor whose gate, source and drain are connected to a word line WL, a ground and a bit line B, respectively.
L. The bias circuit 32 is connected to the bit line BL.
【0003】ここでは、メモリセル30が、4値の情報
‘00’,‘01’,‘10’および‘11’を記憶す
るものとして、多値メモリのメモリセル30に記憶され
ている情報の読み出し動作について説明する。Here, it is assumed that the memory cell 30 stores quaternary information '00', '01', '10', and '11', and that the information stored in the memory cell 30 of the multilevel memory is The read operation will be described.
【0004】メモリセル30から情報を読み出す場合、
まず、ワード線WLにより、メモリセル30のトランジ
スタのオンオフが制御される。この時、図7に示すよう
に、ビット線BLの電位は、バイアス回路32により、
メモリセル30に記憶されている情報‘00’,‘0
1’,‘10’および‘11’に対応して、それぞれ所
定の一定電位VB0,VB1,VB2,VB3(VB0
>VB1>VB2>VB3)となるよう制御される。When reading information from the memory cell 30,
First, on / off of the transistor of the memory cell 30 is controlled by the word line WL. At this time, as shown in FIG. 7, the potential of the bit line BL is
Information “00”, “0” stored in the memory cell 30
1 ',' 10 'and' 11 ', corresponding to predetermined constant potentials VB0, VB1, VB2, VB3 (VB0
>VB1>VB2> VB3).
【0005】続いて、例えば特開平7−37393号公
報や特開平9−69293号公報に開示されているよう
に、差動増幅センスアンプを用いて、リファレンス電位
を切り替えながら、ビット線BLの電位とリファレンス
電位とを順次比較することにより、メモリセル30の情
報を読み出す。以下、特開平9−69293号公報に開
示の多値センスアンプの場合を例に挙げて、従来の多値
メモリにおける情報の読み出し動作とその問題点につい
て説明する。Subsequently, as disclosed in, for example, JP-A-7-37393 and JP-A-9-69293, the potential of the bit line BL is switched while the reference potential is switched using a differential amplification sense amplifier. And the reference potential are sequentially compared to read out the information of the memory cell 30. Hereinafter, the operation of reading information in a conventional multi-valued memory and its problems will be described with reference to the multi-valued sense amplifier disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-69293 as an example.
【0006】図8は、上述する特開平9−69293号
公報に開示の多値センスアンプの一例の構成概念図であ
る。同図に示すように、この多値センスアンプ34は、
ビット線BLの電位とリファレンス電位とを比較する差
動増幅センスアンプ36、差動増幅センスアンプ36の
比較結果を保持する2つのラッチ回路42a,42bを
有する出力バッファ38、および、所定のリファレンス
電位を出力するリファレンス回路40を備えている。FIG. 8 is a conceptual diagram of an example of a multi-level sense amplifier disclosed in the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-69293. As shown in FIG.
A differential amplification sense amplifier 36 for comparing the potential of the bit line BL with a reference potential, an output buffer 38 having two latch circuits 42a and 42b for holding the comparison result of the differential amplification sense amplifier 36, and a predetermined reference potential Is provided.
【0007】ここで、リファレンス回路40から出力さ
れるリファレンス電位は、図9に示すように、ビット線
BLの電位VB0,VB1,VB2,VB3の内、隣接
する2つの電位の間の電位に設定されている。すなわ
ち、リファレンス電位VR0は、電位VB0と電位VB
1との間の電位に設定され、リファレンス電位VR1
は、電位VB1と電位VB2との間の電位に設定され、
リファレンス電位VR2は、電位VB2と電位VB3と
の間の電位に設定されている。Here, the reference potential output from the reference circuit 40 is set to a potential between two adjacent potentials among the potentials VB0, VB1, VB2, VB3 of the bit line BL as shown in FIG. Have been. That is, the reference potential VR0 is equal to the potential VB0 and the potential VB.
1 and a reference potential VR1
Is set to a potential between the potential VB1 and the potential VB2,
The reference potential VR2 is set to a potential between the potential VB2 and the potential VB3.
【0008】この多値センスアンプ34においては、ま
ず、リファレンス回路40から中央のリファレンス電位
VR1が出力され、差動増幅センスアンプ36によっ
て、ビット線BLの電位とリファレンス電位VR1とが
比較される。これにより、メモリセル30の情報の上位
ビットが‘0’なのか‘1’なのかが検出される。差動
増幅センスアンプ36の比較結果はラッチ回路42aに
保持され、メモリセル30の情報の上位ビットB1とし
て出力される。In the multi-level sense amplifier 34, first, the reference circuit 40 outputs the central reference potential VR1, and the differential amplifier sense amplifier 36 compares the potential of the bit line BL with the reference potential VR1. As a result, it is detected whether the upper bit of the information of the memory cell 30 is “0” or “1”. The comparison result of the differential amplifier sense amplifier 36 is held in the latch circuit 42a and output as the upper bit B1 of the information of the memory cell 30.
【0009】続いて、ラッチ回路42aに保持された情
報の上位ビットはリファレンス回路40にフィードバッ
クされる。この時、ラッチ回路42aからフィードバッ
クされたメモリセル30の情報の上位ビットが‘0’で
あれば、切替信号の制御によって、リファレンス回路4
0から出力されるリファレンス電位は、リファレンス電
位VR1からリファレンス電位VR0へ切り替えられ、
‘1’であれば、リファレンス電位VR2へ切り替えら
れる。Subsequently, the upper bits of the information held in the latch circuit 42a are fed back to the reference circuit 40. At this time, if the upper bit of the information of the memory cell 30 fed back from the latch circuit 42a is “0”, the control of the switching signal causes the reference circuit 4
The reference potential output from 0 is switched from the reference potential VR1 to the reference potential VR0,
If it is “1”, it is switched to the reference potential VR2.
【0010】すなわち、リファレンス回路40からは、
メモリセルの情報の上位ビットに応じて、リファレンス
電位VR0またはVR2が出力され、差動増幅センスア
ンプ36によって、ビット線BLの電位とリファレンス
電位VR0またはVR2とが比較される。これにより、
情報の下位ビットが‘0’なのか‘1’なのかが検出さ
れ、ラッチ回路42bに保持されて、メモリセル30の
情報の下位ビットB0として出力される。That is, from the reference circuit 40,
The reference potential VR0 or VR2 is output according to the upper bits of the information of the memory cell, and the potential of the bit line BL is compared with the reference potential VR0 or VR2 by the differential amplifier sense amplifier. This allows
Whether the lower bit of the information is '0' or '1' is detected, held in the latch circuit 42b, and output as the lower bit B0 of the information of the memory cell 30.
【0011】上述するように、従来の多値メモリにおい
ては、メモリセル30の情報を読み出すために差動増幅
センスアンプ36を用いているため、一度に読み出され
る1ワードのメモリセル30のビット数が増加するにし
たがって消費電力が大きくなるという問題点があった。
また、リファレンス電位を順次切り替えて比較を行い、
ビット線BLの電位を検出しているため、メモリセル3
0からの情報の読み出し速度が遅くなるという問題点も
あった。As described above, in the conventional multi-valued memory, since the differential amplification sense amplifier 36 is used to read information from the memory cell 30, the number of bits of one word of the memory cell 30 to be read at a time is read. However, there is a problem that the power consumption increases as the number increases.
In addition, the comparison is performed by sequentially switching the reference potential,
Since the potential of the bit line BL is detected, the memory cell 3
There is also a problem that the reading speed of information from 0 becomes slow.
【0012】[0012]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、前記
従来技術に基づく問題点をかえりみて、多値メモリの低
消費電力化および動作高速化が可能な半導体記憶装置を
提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of reducing the power consumption and operating speed of a multi-valued memory in view of the problems based on the above-mentioned prior art. .
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、n値(nは4以上の整数)の情報を記憶
する複数のメモリセルと、これらのメモリセルから出力
される情報を保持する(n−1)個のラッチ回路と、こ
れらのラッチ回路の出力をエンコードするエンコーダと
を備えており、前記(n−1)個のラッチ回路の動作ス
イッチングポイントが、前記n値の情報に対応する電位
の内の隣接する2つの電位の間の電位に各々設定されて
いることを特徴とする半導体記憶装置を提供するもので
ある。In order to achieve the above object, the present invention provides a plurality of memory cells for storing n-value (n is an integer of 4 or more) information, and outputs from these memory cells. And (n-1) latch circuits for holding information, and an encoder for encoding the outputs of these latch circuits. The operation switching point of the (n-1) latch circuits is determined by the n value The semiconductor memory device is set to a potential between two adjacent potentials among the potentials corresponding to the above information.
【0014】[0014]
【発明の実施の形態】以下に、添付の図面に示す好適実
施例に基づいて、本発明の半導体記憶装置を詳細に説明
する。図1は、本発明の半導体記憶装置のメモリセルの
一実施例の構成概念図である。同図においては、説明を
容易化するために、1ビットのメモリセル10およびプ
リチャージ回路12が示されている。もちろん、複数の
ワードを備えていてもよいし、1ワードが複数のメモリ
セル10を備えていてもよい。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a semiconductor memory device according to the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings. FIG. 1 is a conceptual diagram showing a configuration of one embodiment of a memory cell of a semiconductor memory device according to the present invention. In FIG. 1, a 1-bit memory cell 10 and a precharge circuit 12 are shown for ease of explanation. Of course, a plurality of words may be provided, or one word may include a plurality of memory cells 10.
【0015】ここで、メモリセル10は、n値(nは4
以上の整数)の情報を記憶するもので、本実施例の場
合、従来例との対比が容易なように、‘00’,‘0
1’,‘10’および‘11’の4値の情報を記憶する
ものとする。メモリセル10は、図示例では、フローテ
ィング・ゲート型のN型MOSトランジスタが用いられ
ており、そのゲート、ソースおよびドレインは、それぞ
れワード線WL、グランドおよびビット線BLに接続さ
れている。Here, the memory cell 10 has an n value (n is 4).
In the case of the present embodiment, '00', '0' are stored so as to be easily compared with the conventional example.
It is assumed that quaternary information of 1 ',' 10 'and' 11 'is stored. In the example shown, a floating gate type N-type MOS transistor is used for the memory cell 10, and its gate, source, and drain are connected to a word line WL, a ground, and a bit line BL, respectively.
【0016】なお、図示例では、メモリセル10とし
て、単にフローティング・ゲート型のN型MOSトラン
ジスタを示しているが、マスクROMやEPROM、E
2 PROM、フラッシュメモリ等のメモリセルを用いて
もよい。また、メモリセル10へ情報を記憶させる方法
や手段も何ら限定されない。プリチャージ回路12は、
ビット線BLを所定の電位にプリチャージするものであ
り、同図に示すようにビット線BLに接続されている。In the illustrated example, the memory cell 10 is simply a floating gate type N-type MOS transistor.
2 A memory cell such as a PROM or a flash memory may be used. Further, the method and means for storing information in the memory cell 10 are not limited at all. The precharge circuit 12
The bit line BL is precharged to a predetermined potential, and is connected to the bit line BL as shown in FIG.
【0017】メモリセル10から情報を読み出す場合、
まず、ビット線BLが、プリチャージ回路12によって
所定の電位にプリチャージされる。続いて、ワード線W
Lにより、メモリセル10のトランジスタのオンオフが
制御される。この時、ビット線BLは、図2に示すよう
に、メモリセル10を通して、メモリセル10の情報
‘00’,‘01’,‘10’および‘11’に対応し
た速度でディスチャージされ、その電位が次第に低下す
る。When reading information from the memory cell 10,
First, the bit line BL is precharged to a predetermined potential by the precharge circuit 12. Then, the word line W
On / off of the transistor of the memory cell 10 is controlled by L. At this time, the bit line BL is discharged through the memory cell 10 at a speed corresponding to the information "00", "01", "10" and "11" of the memory cell 10, as shown in FIG. Gradually decreases.
【0018】本実施例においては、メモリセル10の情
報が‘01’,‘10’,‘11’の場合、ビット線B
Lは‘01’<‘10’<‘11’の速度でディスチャ
ージされ、ビット線BLの電位は最終的にグランド電位
となる。なお、メモリセル10の情報が‘00’の場
合、本実施例では、ビット線BLはディスチャージされ
ず、ビット線BLの電位0は、プリチャージ回路12に
よってプリチャージされたままの状態を保持する。In this embodiment, when the information of the memory cell 10 is "01", "10", "11", the bit line B
L is discharged at a rate of '01'<'10'<'11', and the potential of the bit line BL finally becomes the ground potential. When the information of the memory cell 10 is “00”, in this embodiment, the bit line BL is not discharged, and the potential 0 of the bit line BL maintains a state of being precharged by the precharge circuit 12. .
【0019】ここで、メモリセル10の情報の読み出し
動作が開始されてから、すなわち、ワード線WLがロー
レベルからハイレベルになってから、一定時間Tswの経
過後のビット線BLの電位の内の隣接する2つの電位の
間の電位、すなわち、ビット線BLの電位VB0および
VB1の間の電位を電位VSW0とし、電位VB1およ
びVB2の間の電位を電位VSW1とし、電位VB2お
よびVB3の間の電位を電位VSW2とする。Here, after the operation of reading information from the memory cell 10 is started, that is, after the word line WL has changed from the low level to the high level, the potential of the bit line BL after a lapse of a predetermined time T sw has elapsed. Of the bit line BL, that is, the potential between the potentials VB0 and VB1 of the bit line BL, the potential VSW0, the potential between the potentials VB1 and VB2 as the potential VSW1, and the potential between the potentials VB2 and VB3. Is the potential VSW2.
【0020】以上のように、メモリセル10の情報はビ
ット線BLへ出力される。続いて、本発明の特徴部分と
なる読み出し回路について説明する。図3は、本発明の
半導体記憶装置の読み出し回路の一実施例の構成回路図
である。読み出し回路14は、メモリセル10の情報が
出力されるビット線BLの電位を検出してメモリセル1
0の情報を読み出すもので、同図に示すように、ラッチ
回路群16およびエンコーダ18を有する。As described above, the information of the memory cell 10 is output to the bit line BL. Next, a reading circuit which is a feature of the present invention will be described. FIG. 3 is a configuration circuit diagram of one embodiment of the read circuit of the semiconductor memory device of the present invention. The read circuit 14 detects the potential of the bit line BL to which the information of the memory cell 10 is output, and
It reads information of 0, and has a latch circuit group 16 and an encoder 18 as shown in FIG.
【0021】ここで、ラッチ回路群16は、n値の情報
を記憶するメモリセル10からビット線BLへ出力され
る情報を保持するもので、(n−1)個のラッチ回路を
備えている。本実施例の場合、メモリセル10に記憶さ
れる4値の情報に対応する3個のラッチ回路20a,2
0b,20cを備えている。例えば、ラッチ回路20a
は、N型MOSトランジスタ(以下、NMOSという)
22、インバータIV0およびクロックドインバータ2
4を有する。Here, the latch circuit group 16 holds information output from the memory cell 10 for storing n-value information to the bit line BL, and has (n-1) latch circuits. . In the case of the present embodiment, three latch circuits 20a, 20 corresponding to the four-valued information stored in the memory cell 10
0b and 20c. For example, the latch circuit 20a
Is an N-type MOS transistor (hereinafter referred to as NMOS)
22, inverter IV0 and clocked inverter 2
4
【0022】ラッチ回路20aにおいて、NMOS22
は、ビット線BLとインバータIV0との間に接続さ
れ、そのゲートは制御信号φに接続されている。インバ
ータIV0およびクロックドインバータ24は、互いに
一方の出力が他方の入力に入力されており、インバータ
IV0の出力X0 はエンコーダ18に入力されている。
また、クロックドインバータ24の制御入力は制御信号
φ ̄に接続され、その反転制御入力は制御信号φに接続
されている。In the latch circuit 20a, the NMOS 22
Is connected between the bit line BL and the inverter IV0, and its gate is connected to the control signal φ. Inverters IV0 and the clocked inverter 24, one output to each other is input to the other input, the output X 0 of the inverters IV0 is inputted to the encoder 18.
The control input of clocked inverter 24 is connected to control signal φ, and its inverted control input is connected to control signal φ.
【0023】なお、ラッチ回路20bおよび20cは、
インバータIV0の代わりに、それぞれインバータIV
1およびIV2が用いられており、その出力がそれぞれ
X1およびX2 である点を除いて、ラッチ回路20aと
全く同じ構成である。Note that the latch circuits 20b and 20c
Instead of inverter IV0, each inverter IV
1 and IV2 have been used, except that the output is X 1 and X 2, respectively, is exactly the same structure as the latch circuit 20a.
【0024】このラッチ回路群16においては、図4に
示すように、ワード線WLがハイレベルとされるのと同
時に制御信号φがハイレベルとされ、NMOS22がオ
ン、かつ、クロックドインバータ24がオフされる。そ
の後、所定の一定時間Tsw後に制御信号φがローレベル
とされ、NMOS22がオフ、かつ、クロックドインバ
ータ24がオンされる。これにより、ビット線BLに出
力されたメモリセル10の情報がラッチ回路群16に保
持される。In the latch circuit group 16, as shown in FIG. 4, the control signal φ is made high at the same time as the word line WL is made high, the NMOS 22 is turned on, and the clocked inverter 24 is turned on. Turned off. Thereafter, after a predetermined time T sw , the control signal φ is set to the low level, the NMOS 22 is turned off, and the clocked inverter 24 is turned on. Thereby, the information of the memory cell 10 output to the bit line BL is held in the latch circuit group 16.
【0025】ここで、ラッチ回路20a,20b,20
cを構成するインバータIV0,IV1,IV2の動作
スイッチングポイントは、各々前述の電位VSW0,V
SW1,VSW2に設定されている。図5(a)に上記
インバータの概念図、図5(b)に、その動作スイッチ
ングポイントのグラフを示す。図5(a)に示すよう
に、ここでは、インバータIV0,IV1,IV2の入
力電位をAとし、その出力電位をYとする。Here, the latch circuits 20a, 20b, 20
The operation switching points of the inverters IV0, IV1 and IV2 that constitute c are the above-mentioned potentials VSW0 and VSW0, respectively.
SW1 and VSW2. FIG. 5A is a conceptual diagram of the inverter, and FIG. 5B is a graph of the operation switching point. As shown in FIG. 5A, the input potential of the inverters IV0, IV1, and IV2 is A, and the output potential is Y.
【0026】図5(b)に示すように、インバータIV
0の動作スイッチングポイントは、図2において、メモ
リセル10の情報の読み出し動作が開始されてから、所
定の一定時間Tsw後のビット線BLの電位VB0および
VB1の間の電位VSW0である。同じく、インバータ
IV1の動作スイッチングポイントは、電位VB1およ
びVB2の間の電位VSW1であり、インバータIV2
の動作スイッチングポイントは、電位VB2およびVB
3の間の電位VSW1である。As shown in FIG. 5B, the inverter IV
0 Operation Switching point, in FIG. 2, since the read operation of the data of the memory cell 10 is started, the potential VSW0 between potential VB0 and VB1 of the bit line BL after a predetermined fixed time T sw. Similarly, the operation switching point of the inverter IV1 is the potential VSW1 between the potentials VB1 and VB2,
The operation switching points of the potentials VB2 and VB
3 is the potential VSW1.
【0027】この読み出し回路14においては、メモリ
セル10の情報の読み出し動作が開始されてから、一定
時間Tsw後のビット線BLの電位がVB0である場合、
すなわち、メモリセル10の情報が‘00’である場
合、各々のインバータIV0,IV1,IV2の動作ス
イッチングポイントは、それぞれ電位VSW0,VSW
1,VSW2であるため、ラッチ回路20a,20b,
20cの出力X0 ,X1,X2 はいずれも‘0’とな
る。In the read circuit 14, when the potential of the bit line BL is VB0 after a predetermined time T sw from the start of the information read operation of the memory cell 10,
That is, when the information of the memory cell 10 is “00”, the operation switching points of the inverters IV0, IV1, IV2 are set to the potentials VSW0, VSW, respectively.
1, VSW2, the latch circuits 20a, 20b,
The outputs X 0 , X 1 , and X 2 of 20c are all “0”.
【0028】同じように、ビット線BLの電位がVB1
である場合、ラッチ回路20aからは‘1’が出力さ
れ、ラッチ回路20b,20cからは‘0’が出力され
る。また、ビット線BLの電位がVB2である場合、ラ
ッチ回路20a,20bからは‘1’が出力され、ラッ
チ回路20cからは‘0’が出力される。また、ビット
線BLの電位がVB3である場合、ラッチ回路20a,
20b,20cからはいずれも‘1’が出力される。Similarly, when the potential of the bit line BL is VB1
In this case, "1" is output from the latch circuit 20a, and "0" is output from the latch circuits 20b and 20c. When the potential of the bit line BL is VB2, "1" is output from the latch circuits 20a and 20b, and "0" is output from the latch circuit 20c. When the potential of the bit line BL is VB3, the latch circuit 20a,
'1' is output from both 20b and 20c.
【0029】続いて、エンコーダ18は、ラッチ回路群
16の出力をエンコードするもので、本実施例の場合、
ラッチ回路群16の出力X0 ,X1 ,X2 をエンコード
するEORゲート26およびバッファ28を有する。こ
こで、EORゲート26には出力X0 ,X1 ,X2 が入
力され、バッファ28には出力X1 が入力され、これら
EORゲート26およびバッファ28の出力が、それぞ
れメモリセル10の記憶情報の下位ビットB0および上
位ビットB1とされている。Subsequently, the encoder 18 encodes the output of the latch circuit group 16, and in the case of this embodiment,
An EOR gate 26 for encoding the outputs X 0 , X 1 , and X 2 of the latch circuit group 16 and a buffer 28 are provided. Here, the outputs X 0 , X 1 , and X 2 are input to the EOR gate 26, the output X 1 is input to the buffer 28, and the outputs of the EOR gate 26 and the buffer 28 are respectively stored in the memory cell 10. , The lower bit B0 and the upper bit B1.
【0030】ここで、メモリセル10に記憶されている
情報に対応する、ラッチ回路群16の各出力X0 ,
X1 ,X2 およびエンコーダ18の各出力B1,B0を
下記表に示す。Here, the outputs X 0 , X 0 ,... Of the latch circuit group 16 corresponding to the information stored in the memory cell 10 are shown.
X 1 and X 2 and the respective outputs B 1 and B 0 of the encoder 18 are shown in the following table.
【0031】 [0031]
【0032】以上のように、本発明の半導体記憶装置
は、従来の多値メモリとは全く異なり、差動増幅センス
アンプやリファレンス回路を使用してメモリセルの記憶
情報を読み出すものではないため、一度に読み出される
1ワードのメモリセルのビット数が増加しても消費電力
を小さく抑えることができるし、ラッチ回路群によっ
て、ビット線BLの電位を一度で検出できるため、メモ
リセルからの情報の読み出し速度を高速化することがで
きる。As described above, the semiconductor memory device of the present invention is different from a conventional multi-valued memory in that it does not use a differential amplifier sense amplifier or a reference circuit to read information stored in a memory cell. Even if the number of bits of a memory cell of one word read at a time increases, the power consumption can be reduced, and the potential of the bit line BL can be detected at a time by the latch circuit group. The reading speed can be increased.
【0033】本発明の半導体記憶装置は、基本的に以上
のようなものである。以上、本発明の半導体記憶装置に
ついて詳細に説明したが、本発明は上記実施例に限定さ
れず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の
改良や変更をしてもよいのはもちろんである。すなわ
ち、メモリセル、プリチャージ回路、ラッチ回路および
エンコーダの回路構成は図示例のものに限定されず、従
来より公知の各種構成のものを用いることができる。The semiconductor memory device of the present invention is basically as described above. As described above, the semiconductor memory device of the present invention has been described in detail. However, the present invention is not limited to the above embodiment, and various improvements and changes may be made without departing from the gist of the present invention. is there. That is, the circuit configurations of the memory cell, the precharge circuit, the latch circuit, and the encoder are not limited to those in the illustrated example, and various conventionally known configurations can be used.
【0034】[0034]
【発明の効果】以上詳細に説明した様に、本発明の半導
体記憶装置は、メモリセルから出力される情報を、動作
スイッチングポイントが、メモリセルに記憶されている
n値の情報に対応する電位の内の隣接する2つの電位の
間の電位に各々設定されている(n−1)個のラッチ回
路で保持し、このラッチ回路の出力をエンコーダでエン
コードするものである。本発明の半導体記憶装置によれ
ば、差動増幅センスアンプおよびリファレンス回路が不
用であるため、多値メモリの消費電力を低減することが
できるとともに、その動作速度を高速化することができ
る。As described above in detail, in the semiconductor memory device of the present invention, the information output from the memory cell is used to determine whether the operation switching point is a potential corresponding to the n-value information stored in the memory cell. Are held by (n-1) latch circuits each set to a potential between two adjacent potentials, and the output of this latch circuit is encoded by an encoder. According to the semiconductor memory device of the present invention, the differential amplifier sense amplifier and the reference circuit are unnecessary, so that the power consumption of the multilevel memory can be reduced and the operation speed can be increased.
【図1】 本発明の半導体記憶装置のメモリセルの一実
施例の構成概念図である。FIG. 1 is a conceptual diagram illustrating a configuration of a memory cell of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention;
【図2】 メモリセルの動作を表す一実施例のタイミン
グチャートである。FIG. 2 is a timing chart of an embodiment showing an operation of a memory cell.
【図3】 本発明の半導体記憶装置の読み出し回路の一
実施例の構成回路図である。FIG. 3 is a configuration circuit diagram of an embodiment of a read circuit of the semiconductor memory device of the present invention.
【図4】 読み出し回路の動作を表す一実施例のタイミ
ングチャートである。FIG. 4 is a timing chart illustrating an operation of a read circuit according to an embodiment.
【図5】 (a)はインバータの概念図、(b)はその
動作スイッチングポイントを表すグラフである。5A is a conceptual diagram of an inverter, and FIG. 5B is a graph showing an operation switching point thereof.
【図6】 多値メモリのメモリセルの一例の構成概念図
である。FIG. 6 is a conceptual diagram illustrating an example of a memory cell of a multilevel memory.
【図7】 4値の情報の電位を表す一例のグラフであ
る。FIG. 7 is a graph showing an example of potentials of quaternary information;
【図8】 多値センスアンプの一例の構成概念図であ
る。FIG. 8 is a conceptual diagram illustrating a configuration of an example of a multi-level sense amplifier.
【図9】 リファレンス電位を表す一例のグラフであ
る。FIG. 9 is a graph illustrating an example of a reference potential.
10,30 メモリセル 12 プリチャージ回路 14 読み出し回路 16 ラッチ回路群 18 エンコーダ 20a,20b,20c,42a,42b ラッチ回路 22 N型MOSトランジスタ(NMOS) IV0,IV1,IV2 インバータ 24 クロックドインバータ 26 EORゲート 28 バッファ 32 バイアス回路 34 多値センスアンプ 36 差動増幅センスアンプ 38 出力バッファ 40 リファレンス回路 BL ビット線 WL ワード線 φ,φ ̄ 制御信号 10, 30 memory cell 12 precharge circuit 14 read circuit 16 latch circuit group 18 encoder 20a, 20b, 20c, 42a, 42b latch circuit 22 N-type MOS transistor (NMOS) IV0, IV1, IV2 inverter 24 clocked inverter 26 EOR gate 28 buffer 32 bias circuit 34 multi-level sense amplifier 36 differential amplification sense amplifier 38 output buffer 40 reference circuit BL bit line WL word line φ, φ ̄ control signal
Claims (1)
る複数のメモリセルと、これらのメモリセルから出力さ
れる情報を保持する(n−1)個のラッチ回路と、これ
らのラッチ回路の出力をエンコードするエンコーダとを
備えており、 前記(n−1)個のラッチ回路の動作スイッチングポイ
ントが、前記n値の情報に対応する電位の内の隣接する
2つの電位の間の電位に各々設定されていることを特徴
とする半導体記憶装置。1. A plurality of memory cells for storing n-value (n is an integer of 4 or more) information, (n-1) latch circuits for holding information output from these memory cells, And an encoder that encodes an output of the latch circuit of (a), wherein an operation switching point of the (n-1) latch circuits is between two adjacent potentials among potentials corresponding to the n-value information. Semiconductor memory devices, each set to a potential of
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7883498A JPH11273358A (en) | 1998-03-26 | 1998-03-26 | Semiconductor storage device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7883498A JPH11273358A (en) | 1998-03-26 | 1998-03-26 | Semiconductor storage device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11273358A true JPH11273358A (en) | 1999-10-08 |
Family
ID=13672867
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7883498A Pending JPH11273358A (en) | 1998-03-26 | 1998-03-26 | Semiconductor storage device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11273358A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7749718B2 (en) | 2000-05-10 | 2010-07-06 | Schering Corporation | Method for raising or isolating an antibody to DCRS5 |
US7887806B2 (en) | 2000-05-10 | 2011-02-15 | Schering Corporation | Mammalian receptor proteins DCRS5; method of treatment |
-
1998
- 1998-03-26 JP JP7883498A patent/JPH11273358A/en active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7749718B2 (en) | 2000-05-10 | 2010-07-06 | Schering Corporation | Method for raising or isolating an antibody to DCRS5 |
US7887806B2 (en) | 2000-05-10 | 2011-02-15 | Schering Corporation | Mammalian receptor proteins DCRS5; method of treatment |
US7964703B2 (en) | 2000-05-10 | 2011-06-21 | Schering Corporation | DCRS5 polypeptides |
US8097255B2 (en) | 2000-05-10 | 2012-01-17 | Schering Corporation | Mammalian receptor protein DCRS5; methods of treatment |
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