JPH11267054A - 足洗いマット - Google Patents
足洗いマットInfo
- Publication number
- JPH11267054A JPH11267054A JP7605898A JP7605898A JPH11267054A JP H11267054 A JPH11267054 A JP H11267054A JP 7605898 A JP7605898 A JP 7605898A JP 7605898 A JP7605898 A JP 7605898A JP H11267054 A JPH11267054 A JP H11267054A
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- JP
- Japan
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- substrate
- diameter
- mat
- small
- foot
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 浴場等に於て立ちながら足裏を洗い、同時に
マッサージ効果も付与する足洗いマットを提供する。 【解決手段】 略矩形状に形成された半硬質物質から成
る基板２と、該基板２上に略半円形状の大径棒状隆起部
３ａと該大径棒状隆起部３ａと所定距離Ｒを有して小径
棒状隆起部を該大径棒状隆起部３ａに対して並設する。
又、之等大径及び小径の棒状隆起部３ａ及び３ｂを含
み、該基板２上に多数の小突起５ａ，５ａ…を密に突設
した刺激材５を装着する。
マッサージ効果も付与する足洗いマットを提供する。 【解決手段】 略矩形状に形成された半硬質物質から成
る基板２と、該基板２上に略半円形状の大径棒状隆起部
３ａと該大径棒状隆起部３ａと所定距離Ｒを有して小径
棒状隆起部を該大径棒状隆起部３ａに対して並設する。
又、之等大径及び小径の棒状隆起部３ａ及び３ｂを含
み、該基板２上に多数の小突起５ａ，５ａ…を密に突設
した刺激材５を装着する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は足洗いマットに関
するものであり、特に、足の裏を洗う際、老人にとって
好適な足洗いマットを提供するものである。
するものであり、特に、足の裏を洗う際、老人にとって
好適な足洗いマットを提供するものである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
此種足洗いマットは嘗て存在しない。特に、浴場にて老
人が足の裏を洗うとき、浴場に座った状態で腰を曲げて
足の裏を洗うことは極めて困難な場合が多い。
此種足洗いマットは嘗て存在しない。特に、浴場にて老
人が足の裏を洗うとき、浴場に座った状態で腰を曲げて
足の裏を洗うことは極めて困難な場合が多い。
【０００３】そこで、立った儘の状態で足の裏を洗うこ
とができ、且つ、足の踵或いは土踏まず部位又は指の付
根等を適度な刺激を付与し乍ら洗うことができるように
するために解決せらるべき技術的課題が生じてくるので
あり、本発明は該課題を解決することを目的とする。
とができ、且つ、足の踵或いは土踏まず部位又は指の付
根等を適度な刺激を付与し乍ら洗うことができるように
するために解決せらるべき技術的課題が生じてくるので
あり、本発明は該課題を解決することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために提案せられたものであり、略矩形状の基板で
あって、該基板は半硬質物質にて成形され、且つ、表面
に断面略半円形状の棒状隆起部が該基板の幅方向に設け
られると共に、該棒状隆起部の表面と共に該基板表面
に、小突起を密に形成した刺激材を装着した足洗いマッ
ト、及び上記断面略半円形状の棒状隆起部は、上記基板
表面に所定間隔を有して大径棒状隆起部と小径棒状隆起
部が並設された足洗いマットを提供するものである。
するために提案せられたものであり、略矩形状の基板で
あって、該基板は半硬質物質にて成形され、且つ、表面
に断面略半円形状の棒状隆起部が該基板の幅方向に設け
られると共に、該棒状隆起部の表面と共に該基板表面
に、小突起を密に形成した刺激材を装着した足洗いマッ
ト、及び上記断面略半円形状の棒状隆起部は、上記基板
表面に所定間隔を有して大径棒状隆起部と小径棒状隆起
部が並設された足洗いマットを提供するものである。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を図
１乃至図３に従って詳述する。図に於て符号１は足洗い
マットである。該足洗いマット１は基板２と該基板２上
に設けた大径棒状隆起部３ａ及び小径棒状隆起部３ｂ
と、該大径棒状隆起部３ａ及び小径棒状隆起部３ｂを含
み、該基板２上に装着された刺激材５とから成る。而し
て、該基板２は略矩形状に形成され、且つ、該基板２上
に足を乗せるに充分な大きさに形成される。而して、該
基板２はポリエチレン等の略半硬質の物質にて形成され
ている。斯くして、該基板２を浴場の床面等に敷設し、
そして、後述する如く、該基板２上に人体の足を載置し
て足の裏を洗うとき、該基板２が該浴場の床面に密着し
て不慮滑動するようなことはない。勿論、滑り止め部材
４，４…が該基板２の裏面に装着されて該基板２の上記
滑動防止を助成できるように構成される。
１乃至図３に従って詳述する。図に於て符号１は足洗い
マットである。該足洗いマット１は基板２と該基板２上
に設けた大径棒状隆起部３ａ及び小径棒状隆起部３ｂ
と、該大径棒状隆起部３ａ及び小径棒状隆起部３ｂを含
み、該基板２上に装着された刺激材５とから成る。而し
て、該基板２は略矩形状に形成され、且つ、該基板２上
に足を乗せるに充分な大きさに形成される。而して、該
基板２はポリエチレン等の略半硬質の物質にて形成され
ている。斯くして、該基板２を浴場の床面等に敷設し、
そして、後述する如く、該基板２上に人体の足を載置し
て足の裏を洗うとき、該基板２が該浴場の床面に密着し
て不慮滑動するようなことはない。勿論、滑り止め部材
４，４…が該基板２の裏面に装着されて該基板２の上記
滑動防止を助成できるように構成される。
【０００６】又、該基板２の上面には大径棒状隆起部３
ａ及び小径棒状隆起部３ｂが突設されている。之等大径
及び小径の夫々の棒状隆起部３ａ及び３ｂは断面略半円
形状に形成され、そして、湾曲面が上面になるように該
基板２上であって、且つ、該基板２の幅方向に突設され
る。
ａ及び小径棒状隆起部３ｂが突設されている。之等大径
及び小径の夫々の棒状隆起部３ａ及び３ｂは断面略半円
形状に形成され、そして、湾曲面が上面になるように該
基板２上であって、且つ、該基板２の幅方向に突設され
る。
【０００７】而して、該大径及び小径の棒状隆起部３ａ
及び３ｂは該基板２と同質の物質で、該基板２の成形と
同時に一体成形されるを可とする。然るときは、成形が
簡便であり、且つ、後述するように足裏に適度の刺激を
付与することができる。然し、必要に応じて該棒状隆起
部３ａ及び３ｂのみを硬質物質にて成形して該基板２上
に一体的に接合してもよい。然るときは、該棒状隆起部
３ａ及び３ｂ上に足裏を乗せて該足裏を洗うとき、好み
に応じて踵部位或いは土踏まず部位等に対して充分な刺
激を付与して洗うことが可能となる。
及び３ｂは該基板２と同質の物質で、該基板２の成形と
同時に一体成形されるを可とする。然るときは、成形が
簡便であり、且つ、後述するように足裏に適度の刺激を
付与することができる。然し、必要に応じて該棒状隆起
部３ａ及び３ｂのみを硬質物質にて成形して該基板２上
に一体的に接合してもよい。然るときは、該棒状隆起部
３ａ及び３ｂ上に足裏を乗せて該足裏を洗うとき、好み
に応じて踵部位或いは土踏まず部位等に対して充分な刺
激を付与して洗うことが可能となる。
【０００８】又、該大径棒状隆起部３ａ及び小径棒状隆
起部３ｂは所定の距離Ｒを有し、該基板２上に並設され
る。而して、前記所定の距離Ｒは該基板２上に足を乗
せ、且つ、該棒状隆起部３ａ又は３ｂを用いて踵部位又
は指の付根部位或いは土踏まず部位を摺擦し乍ら洗うと
き、相互に邪魔にならない程度の距離であればよい。
又、図１及び図２に於ては大径棒状隆起部３ａが上部に
設けられているが、逆であってもよい。
起部３ｂは所定の距離Ｒを有し、該基板２上に並設され
る。而して、前記所定の距離Ｒは該基板２上に足を乗
せ、且つ、該棒状隆起部３ａ又は３ｂを用いて踵部位又
は指の付根部位或いは土踏まず部位を摺擦し乍ら洗うと
き、相互に邪魔にならない程度の距離であればよい。
又、図１及び図２に於ては大径棒状隆起部３ａが上部に
設けられているが、逆であってもよい。
【０００９】又、該基板２の表面には該大径棒状隆起部
３ａ及び小径棒状隆起部３ｂを含み、細かい小突起５
ａ，５ａ…を密に設けたポリウレタン等から成る刺激材
５が装着されている。勿論、該刺激材５は前記小突起５
ａ，５ａ…を表面にして該基板２上に接着剤を用いて強
固に接合される。従って、該基板２の上面は該刺激材５
によって被蔽される。
３ａ及び小径棒状隆起部３ｂを含み、細かい小突起５
ａ，５ａ…を密に設けたポリウレタン等から成る刺激材
５が装着されている。勿論、該刺激材５は前記小突起５
ａ，５ａ…を表面にして該基板２上に接着剤を用いて強
固に接合される。従って、該基板２の上面は該刺激材５
によって被蔽される。
【００１０】又、図に於て、該基板２の上端部中央部に
引掛部６を突設し、該引掛部６に引掛孔６ａを開穿し、
浴場等の壁部に突設された釘（図示せず）等に該引掛孔
６ａを引掛し、該足洗いマット１の不使用時に該足洗い
マット１を収納しておくように形成されている。
引掛部６を突設し、該引掛部６に引掛孔６ａを開穿し、
浴場等の壁部に突設された釘（図示せず）等に該引掛孔
６ａを引掛し、該足洗いマット１の不使用時に該足洗い
マット１を収納しておくように形成されている。
【００１１】この発明の一実施の形態は上述せる如き構
成に係るから、足洗いマット１を用いて足の裏を洗うと
き、該足洗いマット１を浴場の床面に敷設する。そし
て、該足洗いマット１上に人体の両足を乗せ、片足づつ
を該足洗いマット１上に摺擦し乍ら該足裏を洗う。この
ときは該足洗いマット１上に適温の湯水並びにボディソ
ープ等をかけておき、そして、上述するように足裏を該
足洗いマット１上に摺擦することにより、立ちながら該
足裏を充分に洗うことが可能となる。即ち、手にて壁面
の手すり等を把持し、足洗いマット１上に両足を乗せ、
そして、片足づつを該足洗いマット１に摺擦して洗うと
き、他の片足は該足洗いマット１上に乗って人体の重量
が該足洗いマット１上に負荷されているので、足洗い操
作中、該足洗いマット１は浴場等の床面を不慮滑動する
ようなことはない。特に、前述する如く基板２が半硬質
物質にて成形され、特に、裏面に滑り止め部材４，４…
を装着しているので、前記滑動防止は助成される。
成に係るから、足洗いマット１を用いて足の裏を洗うと
き、該足洗いマット１を浴場の床面に敷設する。そし
て、該足洗いマット１上に人体の両足を乗せ、片足づつ
を該足洗いマット１上に摺擦し乍ら該足裏を洗う。この
ときは該足洗いマット１上に適温の湯水並びにボディソ
ープ等をかけておき、そして、上述するように足裏を該
足洗いマット１上に摺擦することにより、立ちながら該
足裏を充分に洗うことが可能となる。即ち、手にて壁面
の手すり等を把持し、足洗いマット１上に両足を乗せ、
そして、片足づつを該足洗いマット１に摺擦して洗うと
き、他の片足は該足洗いマット１上に乗って人体の重量
が該足洗いマット１上に負荷されているので、足洗い操
作中、該足洗いマット１は浴場等の床面を不慮滑動する
ようなことはない。特に、前述する如く基板２が半硬質
物質にて成形され、特に、裏面に滑り止め部材４，４…
を装着しているので、前記滑動防止は助成される。
【００１２】又、前記小突起５ａ，５ａ…は足裏を刺激
し、マッサージ効果も付与されるのであり、特に、足裏
の土踏まず部位又は踵部位等は前記大径棒状隆起部３ａ
を用いて洗い、指の付根部位等は前記小径棒状隆起部３
ｂを用いて洗うことにより、より効果的に足裏の洗浄が
可能となる。
し、マッサージ効果も付与されるのであり、特に、足裏
の土踏まず部位又は踵部位等は前記大径棒状隆起部３ａ
を用いて洗い、指の付根部位等は前記小径棒状隆起部３
ｂを用いて洗うことにより、より効果的に足裏の洗浄が
可能となる。
【００１３】尚、本発明は、本発明の精神を逸脱しない
限り種々の改変を為すことができ、そして、本発明が該
改変されたものに及ぶことは当然である。
限り種々の改変を為すことができ、そして、本発明が該
改変されたものに及ぶことは当然である。
【００１４】
【発明の効果】本発明は上記一実施の形態にて詳述する
如く、特に、老人等は腰を曲げず立ち乍ら足裏を洗うこ
とができるので、極めて楽な姿勢で足裏を充分に洗うこ
とができる。更に、足裏に適度の刺激を付与するのでマ
ッサージ効果も期待でき、健康促進にも寄与する等、正
に著大なる効果を奏する発明である。
如く、特に、老人等は腰を曲げず立ち乍ら足裏を洗うこ
とができるので、極めて楽な姿勢で足裏を充分に洗うこ
とができる。更に、足裏に適度の刺激を付与するのでマ
ッサージ効果も期待でき、健康促進にも寄与する等、正
に著大なる効果を奏する発明である。
【図１】本発明の一実施の形態を示し、足洗いマットの
平面図。
平面図。
【図２】図１の裏面図。
【図３】図１のＡ−Ａ線断面図。
１ 足洗いマット ２ 基板 ３ａ 大径棒状隆起部 ３ｂ 小径棒状隆起部 ５ 刺激材 ５ａ 小突起 ５
Claims (2)
- 【請求項１】 略矩形状の基板であって、該基板は半硬
質物質にて成形され、且つ、表面に断面略半円形状の棒
状隆起部が該基板の幅方向に設けられると共に、該棒状
隆起部の表面と共に該基板表面に、小突起を密に形成し
た刺激材を装着したことを特徴とする足洗いマット。 - 【請求項２】 上記断面略半円形状の棒状隆起部は、上
記基板表面に所定間隔を有して大径棒状隆起部と小径棒
状隆起部が並設されたことを特徴とする足洗いマット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7605898A JPH11267054A (ja) | 1998-03-24 | 1998-03-24 | 足洗いマット |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7605898A JPH11267054A (ja) | 1998-03-24 | 1998-03-24 | 足洗いマット |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11267054A true JPH11267054A (ja) | 1999-10-05 |
Family
ID=13594183
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7605898A Pending JPH11267054A (ja) | 1998-03-24 | 1998-03-24 | 足洗いマット |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11267054A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004045353A1 (es) * | 2002-11-19 | 2004-06-03 | Albert Fernandez Mateu | Alfombrilla de uso terapeutico y de higiene personal |
-
1998
- 1998-03-24 JP JP7605898A patent/JPH11267054A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004045353A1 (es) * | 2002-11-19 | 2004-06-03 | Albert Fernandez Mateu | Alfombrilla de uso terapeutico y de higiene personal |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040528 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20050308 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20050705 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |