JPH11249299A - Photosensitive dispersed matter, photosensitive sheet and manufacture of conductive pattern - Google Patents
Photosensitive dispersed matter, photosensitive sheet and manufacture of conductive patternInfo
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、感光性分散物、感
光性シート、及び導電性パターンの製造方法に関する。
さらに詳しくは、本発明は、導電性回路に代表される導
電性パターンの有利な製造方法、およびその導電性パタ
ーンの製造方法に有利に利用できる感光性分散物および
感光性シートに関する。[0001] The present invention relates to a photosensitive dispersion, a photosensitive sheet, and a method for producing a conductive pattern.
More specifically, the present invention relates to an advantageous method for producing a conductive pattern represented by a conductive circuit, and a photosensitive dispersion and a photosensitive sheet that can be advantageously used in the method for producing the conductive pattern.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年開発が進んでいる液晶表示装置や画
像読み取り装置等では、その電気回路の高密度化への要
求が高く、そのため高密度の配線パターンの形成や電極
間の高密度接続の実現を求めて研究が行なわれている。2. Description of the Related Art In a liquid crystal display device, an image reading device, and the like, which have been developed in recent years, there is a high demand for a high density of an electric circuit. Therefore, a high density wiring pattern is formed and a high density connection between electrodes is required. Research is being carried out for realization.
【0003】特開平8−62617号公報には、高密度
の電極間の電気的接続のために、導電性微粒子を感光性
樹脂に分散させた導電性感光性樹脂組成物を用いる方法
が開示されている。この公報によれば、基板上に形成し
た電極の表面に、上記の導電性感光性樹脂組成物を塗布
し、光照射し、現像処理することにより導電性領域を選
択的に形成させ、この導電性領域の表面に、別に用意し
た電極付きの基板を位置合わせして接続することによっ
て、電極間の高密度の電気的な接続が可能であるとされ
ている。Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-62617 discloses a method using a conductive photosensitive resin composition in which conductive fine particles are dispersed in a photosensitive resin for high-density electrical connection between electrodes. ing. According to this publication, the conductive photosensitive resin composition is coated on the surface of an electrode formed on a substrate, irradiated with light, and developed to selectively form a conductive region. It is stated that high-density electrical connection between the electrodes is possible by aligning and connecting a separately prepared substrate with electrodes to the surface of the conductive region.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】上記特開平8−626
17号公報に記載されているように、電極間の高密度の
電気的な接続方法として、導電性粒子を含む感光性樹脂
組成物を用いる方法は、既に知られている。このような
導電性粒子を含む感光性樹脂組成物を用いる方法は、電
極間の高密度の接続を行なったり、高密度の電気回路を
形成したりする目的では、その作業工程が簡単であると
ころから、工業的に利用するために有利な方法と云うこ
とができる。しかしながら、本願発明者の研究による
と、形成された導電性粒子を含む層は充分な導電性を示
しにくいことが判明した。SUMMARY OF THE INVENTION The above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-626 is disclosed.
As described in JP-A No. 17, a method using a photosensitive resin composition containing conductive particles is already known as a high-density electrical connection method between electrodes. The method of using the photosensitive resin composition containing such conductive particles is such that the working process is simple for the purpose of making high-density connection between electrodes or forming a high-density electric circuit. Therefore, it can be said that this method is advantageous for industrial use. However, according to the study of the present inventor, it has been found that the formed layer containing the conductive particles does not easily exhibit sufficient conductivity.
【0005】従って、本発明の目的は、電極間の良好な
電気的接続を高い信頼性で可能にする導電性粒子を含む
感光性樹脂組成物を提供することにある。また、本発明
は、導電性粒子を含む感光性樹脂組成物を用いて、信頼
性の高い配線パターンや電極間の良好な電気的接続部な
どのような導電性パターンを形成する方法を提供するこ
とをも目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a photosensitive resin composition containing conductive particles which enables good electrical connection between electrodes with high reliability. The present invention also provides a method for forming a conductive pattern such as a highly reliable wiring pattern or a good electrical connection between electrodes using a photosensitive resin composition containing conductive particles. The purpose is also.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は、光重合性化合
物と光重合開始剤とを含む溶液に、140〜280℃の
範囲内の温度で分解する低温分解性のポリマーで被覆さ
れた導電性粒子が分散されてなる感光性分散物にある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a conductive polymer coated with a low-temperature decomposable polymer which decomposes at a temperature in the range of 140 to 280 ° C. in a solution containing a photopolymerizable compound and a photopolymerization initiator. In a photosensitive dispersion obtained by dispersing conductive particles.
【0007】本発明はまた、140〜280℃の範囲内
の温度で分解する低温分解性のポリマーで被覆された導
電性粒子が、光重合性化合物と光重合開始剤とを含むシ
ート状に形成された組成物中に分散されてなる感光性シ
ートにもある。According to the present invention, there is also provided a method for forming conductive particles coated with a low-temperature decomposable polymer which decomposes at a temperature in the range of 140 to 280 ° C. into a sheet containing a photopolymerizable compound and a photopolymerization initiator. There is also a photosensitive sheet dispersed in the prepared composition.
【0008】本発明はまた、非導電性基板上に、140
〜280℃の範囲内の温度で分解する低温分解性のポリ
マーで被覆された導電性粒子が、シート状に形成された
光重合性化合物と光重合開始剤を含む脂組成物中に分散
されてなる感光性層を設ける工程;該感光性層をパター
ン状に露光させる工程;露光させた感光性層を現像し
て、感光性層の露光部分から構成されるパターン状硬化
層を得る工程;そして該パターン状硬化層を140℃以
上の温度、好ましくは140〜280℃の範囲の温度、
に加熱することにより、導電性粒子の周囲の低温分解性
のポリマーを分解させる工程からなることを特徴とする
導電性パターンの製造方法にもある。[0008] The present invention also provides a method for fabricating 140 non-conductive substrates.
Conductive particles coated with a low-temperature decomposable polymer that decomposes at a temperature in the range of 2280 ° C. are dispersed in a fat composition containing a photopolymerizable compound and a photopolymerization initiator formed in a sheet shape. Providing a photosensitive layer comprising: exposing the photosensitive layer in a pattern; developing the exposed photosensitive layer to obtain a patterned cured layer composed of exposed portions of the photosensitive layer; and A temperature of 140 ° C. or higher, preferably a temperature in the range of 140 to 280 ° C.,
The method also comprises a step of decomposing the low-temperature decomposable polymer around the conductive particles by heating the conductive pattern.
【0009】本発明で使用する導電性粒子は、カーボン
ブラックであることが好ましい。また、低温分解性のポ
リマーは、その分子構造中にカルボン酸基あるいはカル
ボン酸塩基などのような極性基を有することが好まし
い。そして、本発明の感光性組成物および感光性シート
は、更にバインダを使用することが望ましい。そのバイ
ンダとしては、上記の低温分解性のポリマー、あるいは
低温分解性ポリマと他のポリマーとの混合物を用いるこ
とが好ましい。The conductive particles used in the present invention are preferably carbon black. Further, the low-temperature decomposable polymer preferably has a polar group such as a carboxylic acid group or a carboxylic acid group in its molecular structure. And it is desirable that the photosensitive composition and the photosensitive sheet of the present invention further use a binder. As the binder, it is preferable to use the above-mentioned low-temperature decomposable polymer or a mixture of the low-temperature decomposable polymer and another polymer.
【0010】[0010]
【発明の実施の形態】本発明の導電性粒子を含有する感
光性分散物、感光性シート、そして導電性パターンの製
造方法について説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A method for producing a photosensitive dispersion containing a conductive particle, a photosensitive sheet, and a conductive pattern according to the present invention will be described.
【0011】本発明の感光性分散物は、光重合性化合物
と光重合開始剤とを含む溶液に、140〜280℃の範
囲内の温度で分解する低温分解性のポリマーで被覆され
た導電性粒子を分散することにより得られる。The photosensitive dispersion of the present invention is a conductive dispersion coated with a low-temperature decomposable polymer which decomposes at a temperature in the range of 140 to 280 ° C. in a solution containing a photopolymerizable compound and a photopolymerization initiator. Obtained by dispersing particles.
【0012】本発明で用いる光重合性化合物は、エチレ
ン性不飽和二重結合を有し、光の照射によって付加重合
するモノマーであることが好ましい。そのようなモノマ
ーとしては、分子中に少なくとも1個の付加重合可能な
エチレン性不飽和基を有し、沸点が常圧で100℃以上
の化合物を挙げることができる。その例としては、ポリ
エチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプ
ロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート及びフェ
ノキシエチル(メタ)アクリレートなどの単官能アクリ
レートや単官能メタクリレート;ポリエチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペン
チルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリス
リトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
トールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリト
ールペンタ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリ(アク
リロイルオキシエチル)イソシアヌレート、トリ(アク
リロイルオキシエチル)シアヌレート、グリセリントリ
(メタ)アクリレート;トリメチロールプロパンやグリ
セリン等の多官能アルコールにエチレンオキシドにプロ
ピレンオキシドを付加した後(メタ)アクリレート化し
たもの等の多官能アクリレートや多官能メタクリレート
を挙げることができる。さらに特公昭48−41708
号公報、特公昭50−6034号公報及び特開昭51−
37193号公報に記載されているウレタンアクリレー
ト類;特開昭48−64183号公報、特公昭49−4
3191号公報及び特公昭52−30490号公報に記
載されているポリエステルアクリレート類;エポキシ樹
脂と(メタ)アクリル酸の反応生成物であるエポキシア
クリレート類等の多官能アクリレートやメタクリレート
を挙げることができる。これらの中で、トリメチロール
プロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリト
ールペンタ(メタ)アクリレートが好ましい。これらの
モノマーは、単独でも、二種類以上を混合して用いても
良く、その感光性分散液の全固形分に対する含有量は5
〜50重量%が一般的であり、10〜40重量%が好ま
しい。The photopolymerizable compound used in the present invention is preferably a monomer having an ethylenically unsaturated double bond and capable of undergoing addition polymerization upon irradiation with light. Examples of such a monomer include compounds having at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated group in the molecule and having a boiling point of 100 ° C. or more at normal pressure. Examples thereof include monofunctional acrylates and monofunctional methacrylates such as polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate and phenoxyethyl (meth) acrylate; polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate. ) Acrylate, trimethylolethane triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane diacrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (Meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, hexanediol (Meth) acrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, tri (acryloyloxyethyl) cyanurate, glycerin tri (meth) acrylate; polyfunctional alcohols such as trimethylolpropane and glycerin And polyfunctional acrylates and polyfunctional methacrylates obtained by adding propylene oxide to ethylene oxide and then (meth) acrylated. Furthermore, Japanese Patent Publication No. 48-41708
JP, JP-B-50-6034 and JP-A-51-
Urethane acrylates described in JP 37193; JP-A-48-64183, JP-B-49-4
Polyester acrylates described in JP-A-3191 and JP-B-52-30490; polyfunctional acrylates and methacrylates such as epoxy acrylates which are reaction products of an epoxy resin and (meth) acrylic acid. Among these, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and dipentaerythritol penta (meth) acrylate are preferred. These monomers may be used alone or in combination of two or more kinds. The content of the photosensitive dispersion with respect to the total solid content is 5%.
It is generally from 50 to 50% by weight, and preferably from 10 to 40% by weight.
【0013】本発明で用いられる光重合開始剤として
は、米国特許第2367660号明細書に開示されてい
るビシナルポリケタルドニル化合物、米国特許第244
8828号明細書に記載されているアシロインエーテル
化合物、米国特許第2722512号明細書に記載のα
−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国
特許第3046127号明細書及び同第2951758
号明細書に記載の多核キノン化合物、米国特許第354
9367号明細書に記載のトリアリールイミダゾール二
量体とp−アミノケトンの組合せ、特公昭51−485
16号公報に記載のベンゾチアゾール化合物とトリハロ
メチル−s−トリアジン化合物、米国特許第42398
50号明細書に記載されているトリハロメチル−s−ト
リアジン化合物、米国特許第4212976号明細書に
記載されているトリハロメチルオキサジアゾール化合物
等を挙げることができる。特に、トリハロメチル−s−
トリアジン、トリハロメチルオキサジアゾール及びトリ
アリールイミダゾール二量体が好ましい。感光性分散物
の全固形分に対する光重合開始剤の含有量は、0.5〜
20重量%が一般的であり、1〜15重量%が好まし
い。The photopolymerization initiator used in the present invention includes a vicinal polyketaldonyl compound disclosed in US Pat. No. 2,367,660 and US Pat.
No. 8828, an acyloin ether compound described in US Pat. No. 2,722,512.
-Aromatic acyloin compounds substituted with hydrocarbons, U.S. Pat. Nos. 3,046,127 and 2,951,758
Quinone compounds described in U.S. Pat.
No. 9367, a combination of a triarylimidazole dimer and a p-aminoketone, JP-B-51-485.
No. 16 benzothiazole compound and trihalomethyl-s-triazine compound described in U.S. Pat.
Examples thereof include a trihalomethyl-s-triazine compound described in Japanese Patent No. 50, and a trihalomethyloxadiazole compound described in US Pat. No. 4,221,976. In particular, trihalomethyl-s-
Triazine, trihalomethyloxadiazole and triarylimidazole dimers are preferred. The content of the photopolymerization initiator with respect to the total solid content of the photosensitive dispersion is 0.5 to
20% by weight is common and 1-15% by weight is preferred.
【0014】本発明の感光性分散物では、導電性粒子の
被覆に用いられている低温分解性のポリマーが感光性シ
ート形成時のバインダとしても機能するため、必ずしも
別にバインダを用意する必要はないが、十分な自己支持
性を持つ感光性シートを製造するためには、バインダを
併用することが好ましい。In the photosensitive dispersion of the present invention, since the low-temperature decomposable polymer used for coating the conductive particles also functions as a binder at the time of forming the photosensitive sheet, it is not always necessary to prepare a separate binder. However, in order to produce a photosensitive sheet having a sufficient self-supporting property, it is preferable to use a binder in combination.
【0015】上記のバインダに関しては特に制限はな
く、通常の膜形成性のポリマーを用いることができる。
ただし、本発明でバインダとして有利に用いられるの
は、分解温度が140〜280℃で、側鎖にカルボン酸
基やカルボン酸塩基などの極性基を有するポリマーであ
る。その例としては、後述の導電性粒子の被覆に用いる
ことのできる低温分解性ポリマーを挙げることができ
る。これらの極性基を有するバインダポリマーは、単独
で用いてもよく、あるいは通常の膜形成性のポリマーと
併用する組成物の状態で使用してもよい。The binder is not particularly limited, and a usual film-forming polymer can be used.
However, a polymer having a decomposition temperature of 140 to 280 ° C. and having a polar group such as a carboxylic acid group or a carboxylate group in a side chain is advantageously used as the binder in the present invention. Examples thereof include low-temperature decomposable polymers that can be used for coating the conductive particles described below. These binder polymers having a polar group may be used alone or in the form of a composition used in combination with a usual film-forming polymer.
【0016】上記のバインダは、140〜280℃の範
囲の温度で分解するような低温分解性を示すものである
ことが好ましい。The above-mentioned binder preferably has low-temperature decomposability such that it decomposes at a temperature in the range of 140 to 280 ° C.
【0017】本発明で用いる導電性粒子の例としては、
金、銅、ニッケル、カーボンブラック、カーボンファイ
バー、酸化亜鉛、表面が酸化錫によりコーティングされ
た硫酸バリウムや硼酸アルミニウムウイスカー、酸化錫
/酸化アンチモン複合酸化物、酸化インジウム/酸化錫
複合酸化物などの粒子、そして金属メッキされたアクリ
ル、ポリスチレン等のプラスチック粒子等をあげること
ができる。特に好ましいのは、カーボンブラックであ
る。導電性粒子は、その分散安定性を考慮すると、平均
粒径が0.001〜1μmの範囲にあることが好まし
い。導電性粒子の量は、感光性分散物の全固形成分に対
して10〜80重量%の範囲にあることが好ましい。な
お、導電性粒子として光の透過を邪魔しないような粒子
を用いる必要がある場合には、400〜700nmの波
長領域における光吸収の小さいものを用いることが好ま
しい。Examples of the conductive particles used in the present invention include:
Particles of gold, copper, nickel, carbon black, carbon fiber, zinc oxide, barium sulfate and aluminum borate whiskers coated with tin oxide, tin oxide / antimony oxide composite oxide, and indium oxide / tin oxide composite oxide And metal-plated plastic particles such as acrylic and polystyrene. Particularly preferred is carbon black. The conductive particles preferably have an average particle size in the range of 0.001 to 1 μm in consideration of the dispersion stability. The amount of the conductive particles is preferably in the range of 10 to 80% by weight based on all solid components of the photosensitive dispersion. Note that in the case where particles which do not hinder light transmission need to be used as the conductive particles, particles having low light absorption in a wavelength region of 400 to 700 nm are preferably used.
【0018】本発明の感光性分散物の分散体である導電
性粒子は、140〜280℃の範囲内の温度で分解する
低温分解性のポリマーで被覆されていることを特徴とす
る。この被覆ポリマーは、感光性分散物中では、導電性
粒子の分散安定性を高めて、導電性粒子の凝集や沈殿な
どを防止する機能を示すポリマーである。従って、この
被覆ポリマーは、側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基
などの極性基を有するポリマーであることが好ましい。
その例としては、特開昭59−44615号公報、特公
昭54−34327号公報、特公昭58−12577号
公報、特公昭54−25957号公報、特開昭59−5
3836号公報、及び特開昭59−71048号公報に
記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル
酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合
体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共
重合体等を挙げることができる。また側鎖にカルボン酸
基を有するセルローズ誘導体も挙げることができる。こ
の他に水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加し
たものも好ましく使用することができる。特に、米国特
許第4139391号明細書に記載のベンジル(メタ)
アクリレートと(メタ)アクリル酸の共重合体やベンジ
ル(メタ)アクリレートと(メタ)アクリル酸と他のモ
ノマーとの多元共重合体を挙げることができる。The conductive particles, which are dispersions of the photosensitive dispersion of the present invention, are characterized in that they are coated with a low-temperature decomposable polymer which decomposes at a temperature in the range of 140 to 280 ° C. This coating polymer is a polymer having a function of enhancing the dispersion stability of the conductive particles in the photosensitive dispersion and preventing aggregation and precipitation of the conductive particles. Therefore, this coating polymer is preferably a polymer having a polar group such as a carboxylic acid group or a carboxylic acid group in the side chain.
Examples thereof include JP-A-59-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12577, JP-B-54-25959, and JP-A-59-5.
No. 3836, and methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer as described in JP-A-59-71048, A partially esterified maleic acid copolymer can be used. Further, a cellulose derivative having a carboxylic acid group in a side chain can also be mentioned. In addition, those obtained by adding a cyclic acid anhydride to a polymer having a hydroxyl group can also be preferably used. In particular, benzyl (meth) described in U.S. Pat. No. 4,139,391.
Copolymers of acrylate and (meth) acrylic acid and multi-component copolymers of benzyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid and other monomers can be mentioned.
【0019】本発明の感光性分散物には、上記成分の他
に、更に熱重合防止剤を含むことが好ましい。熱重合防
止剤の例としては、ハイドロキノン、p−メトキシフェ
ノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロー
ル、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’−
チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、
2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、2−メルカプトベンズイミダゾール、フ
ェノチアジン等が挙げられる。The photosensitive dispersion of the present invention preferably further contains a thermal polymerization inhibitor in addition to the above components. Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4′-
Thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol),
2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2-mercaptobenzimidazole, phenothiazine and the like.
【0020】さらに、本発明の感光性分散物には必要に
応じて公知の添加剤、例えば可塑剤、界面活性剤、溶剤
等を添加することができる。Further, known additives such as a plasticizer, a surfactant and a solvent can be added to the photosensitive dispersion of the present invention, if necessary.
【0021】本発明の感光性分散物は、上記の各固形成
分を、溶剤に溶解もしくは分散させて調製する。この感
光性分散物は、塗布液として、仮支持体や基板等の表面
に感光性樹脂組成物層を形成するために利用される。The photosensitive dispersion of the present invention is prepared by dissolving or dispersing the above solid components in a solvent. This photosensitive dispersion is used as a coating liquid to form a photosensitive resin composition layer on the surface of a temporary support, a substrate, or the like.
【0022】感光性分散物の調製に使用される溶剤の例
としては、メチルエチルケトン、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロヘキサ
ノール、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム等を
挙げることができる。Examples of the solvent used for preparing the photosensitive dispersion include methyl ethyl ketone, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, cyclohexanone, cyclohexanol, ethyl lactate, methyl lactate, caprolactam and the like. .
【0023】本発明の感光性分散物は、公知の方法で基
板あるいは仮支持体の表面に塗布乾燥して、感光性シー
トとすることができる。なお、感光性シートは、基板の
上に形成した状態の感光性層としても、あるいは感光性
層を一旦剥離して独立のシートとして用いることもでき
る。The photosensitive dispersion of the present invention can be applied to the surface of a substrate or a temporary support by a known method and dried to form a photosensitive sheet. Note that the photosensitive sheet can be used as a photosensitive layer formed on a substrate or as an independent sheet after the photosensitive layer is once peeled off.
【0024】感光性分散物の塗布は、例えば、スピナ、
ホワイラ、ローラーコータ、カーテンコータ、ナイフコ
ータ、ワイヤーバーコータ、エクストルーダ等の塗布機
を用いて行なう。そして、形成された塗布層は、その後
乾燥することにより感光性層もしくは感光性シートを得
ることができる。The application of the photosensitive dispersion is carried out, for example, by using a spinner,
The coating is performed using a coating machine such as a wiper, a roller coater, a curtain coater, a knife coater, a wire bar coater, and an extruder. The formed coating layer is then dried to obtain a photosensitive layer or a photosensitive sheet.
【0025】なお、本発明の感光性シートは、上記組成
物の塗布液を塗布し、乾燥させることにより形成でき
る。本発明の感光性シートは特に、柔軟な材料からなる
シート状の仮支持体上に感光性樹脂組成物層を設けた感
光性転写材料(感光性転写シート)の形態で、その後の
各種の用途に用いることが好ましい。The photosensitive sheet of the present invention can be formed by applying a coating solution of the above composition and drying. The photosensitive sheet of the present invention is particularly in the form of a photosensitive transfer material (photosensitive transfer sheet) in which a photosensitive resin composition layer is provided on a temporary support in the form of a sheet made of a flexible material. Is preferably used.
【0026】感光性転写材料としては、その感光性樹脂
材料として上記の感光性樹脂組成物を用いること以外
は、公知の感光性転写材料と基本的には同一の構成を有
するように構成することができる。公知の感光性転写材
料の構成の例は、特開平5−173320号公報に記載
がある。感光性転写材料の最も単純な構成は、柔軟なプ
ラスチックフィルムなどからなる支持体シートの上に、
感光性樹脂組成物からなる薄層が形成された構成である
が、支持体シートと感光性樹脂組成物層との間に、それ
らの間の剥離を容易にする層、感光性樹脂組成物層のク
ッションとなる層などのような下塗層や中間層を任意に
設けることができる。好ましい構成の例としては、支持
体シートの上に、アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層、中間
層、そして感光性樹脂組成物層が形成された構成を挙げ
ることができる。なお、感光性層(感光性樹脂組成物
層)の上には、任意に保護フィルムが積層される。The photosensitive transfer material should be constructed so as to have basically the same configuration as a known photosensitive transfer material except that the above-mentioned photosensitive resin composition is used as the photosensitive resin material. Can be. An example of the constitution of a known photosensitive transfer material is described in JP-A-5-173320. The simplest structure of the photosensitive transfer material is on a support sheet made of a flexible plastic film, etc.
Although a thin layer made of a photosensitive resin composition is formed, a layer for facilitating separation between the support sheet and the photosensitive resin composition layer, a photosensitive resin composition layer An undercoat layer or an intermediate layer such as a layer serving as a cushion can be optionally provided. As an example of a preferable configuration, a configuration in which an alkali-soluble thermoplastic resin layer, an intermediate layer, and a photosensitive resin composition layer are formed on a support sheet can be given. In addition, a protective film is arbitrarily laminated on the photosensitive layer (photosensitive resin composition layer).
【0027】次に本発明の導電性パターンの製造方法に
ついて説明する。本発明の導電性パターンの製造方法
は、次の各工程を順次行なうことを特徴とする。 (1)非導電性基板上に、140〜280℃の範囲内の
温度で分解する低温分解性のポリマーで被覆された導電
性粒子が、シート状に形成された光重合性化合物と光重
合開始剤を含む樹脂組成物中に分散されてなる感光性層
を設ける工程; (2)上記感光性層をパターン状に露光させる工程; (3)露光させた感光性層を現像して、感光性層の露光
部分から構成されるパターン状硬化層を得る工程;そし
て、 (4)上記パターン状硬化層を140℃以上の温度に加
熱することにより、導電性粒子の周囲の低温分解性のポ
リマーを分解させる工程。Next, a method for manufacturing a conductive pattern according to the present invention will be described. The method of manufacturing a conductive pattern according to the present invention is characterized in that the following steps are sequentially performed. (1) Conductive particles coated on a non-conductive substrate with a low-temperature decomposable polymer that decomposes at a temperature in the range of 140 to 280 ° C. start photopolymerization with a photopolymerizable compound formed in a sheet shape. Providing a photosensitive layer dispersed in a resin composition containing an agent; (2) exposing the photosensitive layer in a pattern; and (3) developing the exposed photosensitive layer to form a photosensitive layer. Obtaining a patterned cured layer composed of exposed portions of the layer; and (4) heating the patterned cured layer to a temperature of 140 ° C. or higher to remove the low-temperature decomposable polymer around the conductive particles. The process of decomposing.
【0028】上記の工程(1)は、基板(ガラス板、プ
ラスチックシート、ガラス繊維補強プラスチックシート
など)の表面に直接感光性分散液を塗布し、乾燥させる
ことにより行なってもよいが、一旦、別に用意した仮支
持体(柔軟なプラスチック材料製のシート)上に感光性
層を形成させて感光性シートとし、この感光性シートの
感光性層を基板表面に転写させる方法を利用して行なう
ことが好ましい。The above step (1) may be carried out by directly applying a photosensitive dispersion on the surface of a substrate (a glass plate, a plastic sheet, a glass fiber reinforced plastic sheet, etc.) and drying it. A method in which a photosensitive layer is formed on a separately prepared temporary support (a sheet made of a flexible plastic material) to form a photosensitive sheet, and the photosensitive layer of the photosensitive sheet is transferred to a substrate surface. Is preferred.
【0029】上記の感光性層に対しては、次いでフォト
マスクなどを用いる像様露光によりパターン状に露光さ
せる工程、すなわち工程(2)が施され、次に、現像液
を用いて光照射を受けなかった部分を溶出除去する現像
工程、すなわち工程(3)が行なわれる。このようにし
て、基板の上に感光性層の露光部分に対応するパターン
状硬化層を得ることができる。The above-mentioned photosensitive layer is then subjected to a step of patternwise exposing by imagewise exposure using a photomask or the like, that is, step (2). Next, light irradiation is performed using a developing solution. A development step for eluting and removing the portion that has not been subjected, that is, step (3) is performed. In this way, a patterned cured layer corresponding to the exposed portion of the photosensitive layer can be obtained on the substrate.
【0030】上記の工程(1)乃至(3)は、感光性転
写材料を用いる画像形成方法において、一般的に用いら
れる方法であり、たとえば、特開平5−173320号
公報に記載されている。また、代表的な画像形成方法と
しては、感光性転写材料の感光性樹脂組成物層を被転写
材料(液晶表示素子に設置する透明基板等)の表面に重
ね、支持体シートを剥がし取ったのち、その被転写材料
上の感光性樹脂組成物層にフォトマスクを介してパター
ン状の露光を行なう工程、露光後に感光性樹脂層を60
〜180℃の範囲の温度で加熱する工程、現像処理して
未露光部分を溶解除去する工程などを組み合わせた方法
を利用することができる。The above steps (1) to (3) are generally used in an image forming method using a photosensitive transfer material, and are described, for example, in JP-A-5-173320. As a typical image forming method, a photosensitive resin composition layer of a photosensitive transfer material is overlaid on the surface of a material to be transferred (such as a transparent substrate provided on a liquid crystal display element), and the support sheet is peeled off. Subjecting the photosensitive resin composition layer on the material to be transferred to pattern exposure through a photomask.
A method in which a step of heating at a temperature in the range of 180 ° C. to 180 ° C. and a step of dissolving and removing an unexposed portion by developing treatment can be used.
【0031】本発明の画像形成方法(導電性パターンの
製造方法)は、上記のパターン露光と現像処理による未
露光部分の除去により得られたパターン状硬化層を、1
40℃以上の温度(好ましくは140〜280℃の範囲
の温度)に加熱することにより、導電性粒子の周囲の低
温分解性のポリマー、そしてバインダとして同じく低温
分解性のポリマーを用いた場合には、そのバインダ部分
をも分解させる工程、すなわち工程(4)を行なうこと
を特徴とする。すなわち、導電性粒子の分散液中の分散
状態の保護のための分散剤や感光性層の結合剤(バイン
ダ)として、通常の低分子化合物やポリマーを用いた場
合に発生するそれらの低分子化合物やポリマーの介在に
よる導電性粒子間の接触の不充分さを、本発明では、低
温分解性のポリマーを導電性粒子の被覆材料として用
い、さらに好ましくは、その低温分解性ポリマーをバイ
ンダとしても用いて、導電性粒子の分散液中の分散安定
性を確保し、次いで感光層の成型性と物理的強度をも確
保した上で、導電性パターンなどのような画像様パター
ンに対応する硬化パターン層を形成した後に、その硬化
パターン層を、低温分解性ポリマーの分解温度以上に加
熱することによって、導電性粒子の被覆層、そして所望
により、硬化パターン層の一部をも分解除去し、導電性
粒子間の接触を高めることによって、解決したものであ
る。The image forming method (a method for producing a conductive pattern) according to the present invention comprises the steps of:
By heating to a temperature of 40 ° C. or higher (preferably a temperature in the range of 140 to 280 ° C.), when a low-temperature decomposable polymer around the conductive particles is used, and when a low-temperature decomposable polymer is also used as a binder, And the step of decomposing the binder portion, that is, the step (4) is performed. That is, those low-molecular compounds generated when a normal low-molecular compound or a polymer is used as a dispersant for protecting the dispersed state of the conductive particles in the dispersion or a binder (binder) for the photosensitive layer. Insufficiency of contact between conductive particles due to the presence of a polymer or the like, in the present invention, a low-temperature decomposable polymer is used as a coating material for the conductive particles, and more preferably, the low-temperature decomposable polymer is also used as a binder To secure the dispersion stability of the conductive particles in the dispersion liquid, and then secure the moldability and physical strength of the photosensitive layer, and then set the cured pattern layer corresponding to an image-like pattern such as a conductive pattern. After forming the cured pattern layer, by heating the cured pattern layer at a temperature equal to or higher than the decomposition temperature of the low-temperature decomposable polymer, the coating layer of the conductive particles and, if desired, a part of the cured pattern layer are also formed. And the solution removed by increasing the contact between the conductive particles is obtained by solving.
【0032】なお、上記の硬化パターン層の加熱処理
は、加圧下で行なってもよく、加圧処理後に加熱処理を
行なってもよい。The heat treatment of the cured pattern layer may be performed under pressure or may be performed after the pressure treatment.
【0033】[0033]
【実施例】[ 実施例1] (1)感光性転写シートの作成 厚さ100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム
の仮支持体上に、下記表1に示した組成からなる塗布液
を塗布、乾燥して、乾燥膜厚が20μmの熱可塑性樹脂
層を形成した。EXAMPLES Example 1 (1) Preparation of Photosensitive Transfer Sheet A coating solution having the composition shown in Table 1 below was applied to a temporary support of a 100 μm-thick polyethylene terephthalate film, followed by drying. A thermoplastic resin layer having a dry film thickness of 20 μm was formed.
【0034】[0034]
【表1】 表1 熱可塑性樹脂層形成用塗布液の組成 ────────────────────────────────── メチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/ ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体 (共重合組成比(モル比)=55/28.8/11.7/ 4.5、重量平均分子量=90000 15重量部 ポリプロピレングリコールジアクリレート (平均分子量=822) 6.5重量部 テトラエチレングリコールジメタクリレート 1.5重量部 p−トルエンスルホン酸アミド 0.5重量部 ベンゾフェノン 1.0重量部 メチルエチルケトン 30重量部 ──────────────────────────────────[Table 1] Table 1 Composition of coating liquid for forming thermoplastic resin layer Methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymer composition ratio (molar ratio) = 55 / 28.8 / 11.7 / 4.5, weight average molecular weight = 90000 15 parts by weight polypropylene glycol Diacrylate (average molecular weight = 822) 6.5 parts by weight Tetraethylene glycol dimethacrylate 1.5 parts by weight p-toluenesulfonic acid amide 0.5 parts by weight Benzophenone 1.0 parts by weight Methyl ethyl ketone 30 parts by weight ────────────────────────────
【0035】次に上記熱可塑性樹脂層上に下記表2の組
成からなる塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が1.6
μmの中間層を設けた。Next, a coating liquid having the composition shown in the following Table 2 was applied on the thermoplastic resin layer and dried, and the dried film thickness was 1.6.
A μm intermediate layer was provided.
【0036】[0036]
【表2】 表2 中間層形成用塗布液の組成 ────────────────────────────────── ポリビニルアルコール(クラレ(株)製PVA205, ケン化率=80%) 130重量部 ポリビニルピロリドン(GAFコーポレーション製 PVP、K−90) 60重量部 フッ素系界面活性剤(旭硝子(株)製サーフロンS−131) 10重量部 蒸留水 3350重量部 ──────────────────────────────────[Table 2] Composition of coating liquid for forming intermediate layer ポ リ ビ ニ ル Polyvinyl alcohol (PVA205 manufactured by Kuraray Co., Ltd., saponification ratio = 80%) 130 parts by weight Polyvinylpyrrolidone (PVP, K-90 manufactured by GAF Corporation) 60 parts by weight Fluorinated surfactant (Surflon S-131 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) 10 Parts by weight distilled water 3350 parts by weight ──────────────────────────────────
【0037】上記熱可塑性樹脂層及び中間層を有する仮
支持体上に、下記表3に示した組成の感光性樹脂層形成
用塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が約8μmの感光
性樹脂層を形成し。さらにこの感光性樹脂層上にポリプ
ロピレン(厚さ12μm)の保護シートを圧着して、感
光性転写材料を作成した。On a temporary support having the above-mentioned thermoplastic resin layer and intermediate layer, a coating solution for forming a photosensitive resin layer having the composition shown in Table 3 below was applied and dried to obtain a photosensitive film having a dry film thickness of about 8 μm. Form a resin layer. Further, a protective sheet of polypropylene (thickness: 12 μm) was pressed on the photosensitive resin layer to prepare a photosensitive transfer material.
【0038】[0038]
【表3】 表3 黒色感光性樹脂層形成用塗布液の組成 ────────────────────────────────── アクリル酸/ベンジルメタクリレート共重合体(アクリル酸/ ベンジルメタクリレート=27/73(モル比)、 重量平均分子量30000、分解温度170℃) 26重量部 多官能アクリレート(DPHA:日本化薬(株)製) 27重量部 カーボンブラック 45重量部 フッ素系界面活性剤 (F177P:大日本インキ化学工業(株)製) 0.1重量部 2,4−ビス(トリクロロメチル)[4−(N,N−ジエトキシ カルボメチル)ブロモフェニル]−s−トリアジン 1重量部 ヒドロキノンモノメチルエーテル 0.02重量部 メチルエチルケトン 240重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 160重量部 ──────────────────────────────────[Table 3] Table 3 Composition of coating solution for forming black photosensitive resin layer ─ Acrylic acid / benzyl methacrylate copolymer (acrylic acid / benzyl methacrylate = 27/73 (molar ratio), weight average molecular weight 30,000, decomposition temperature 170 ° C.) 26 parts by weight polyfunctional acrylate (DPHA: manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 27 parts by weight Carbon black 45 parts by weight Fluorinated surfactant (F177P: manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.1 part by weight 2,4-bis (trichloromethyl) [4- (N, N-diethoxy) Carbomethyl) bromophenyl] -s-triazine 1 part by weight Hydroquinone monomethyl ether 0.02 parts by weight Methyl ethyl ketone 240 parts by weight Propylene glycol monomethyl ether Acetate 160 parts by weight ──────────────────────────────────
【0039】(2)導電性パターンの製造 感光性転写シートの感光性層側表面から保護フィルムを
除去した後、この表面を、厚さ1.1mmのガラス基板
に、ファーストラミネータ(VP200型、大成ラミネ
ータ(株)製)を用いて加圧(10kg/cm)下に、
加熱(130℃)して貼り合わせ、続いて仮支持体と熱
可塑性樹脂との界面で剥離し、仮支持体を除去した。次
に、基板上の感光性層の表面を所定のマスクを介して2
00mj/cmにてパターン露光し、続いてアルカリ現
像液(TPDおよびTCD:富士写真フィルム(株)
製)を用いて現像して、不要部分を除去し、ガラス基板
上に導電性パターン状の硬化層を形成した。次いで、こ
の硬化層を220℃で2時間の熱処理を行った。得られ
た導電性パターンの表面抵抗から算出した導電性パター
ンの体積抵抗は約3Ω・mであった。(2) Production of Conductive Pattern After removing the protective film from the photosensitive layer side surface of the photosensitive transfer sheet, the surface is placed on a 1.1 mm thick glass substrate by a first laminator (VP200, Taisei). Under pressure (10 kg / cm) using a laminator
It was bonded by heating (130 ° C.) and subsequently peeled off at the interface between the temporary support and the thermoplastic resin to remove the temporary support. Next, the surface of the photosensitive layer on the substrate is
Pattern exposure at 00 mj / cm, followed by an alkaline developer (TPD and TCD: Fuji Photo Film Co., Ltd.)
Unnecessary portions were removed, and a conductive pattern-shaped cured layer was formed on a glass substrate. Next, this cured layer was subjected to a heat treatment at 220 ° C. for 2 hours. The volume resistance of the conductive pattern calculated from the surface resistance of the obtained conductive pattern was about 3 Ω · m.
【0040】[比較例1]実施例1で作成した感光性転
写シートを用い、硬化パターン形成後の熱処理を行わな
かった以外は実施例1と同様にして導電性パターンを作
成した。得られた導電性パターンの表面抵抗から算出し
た導電性パターンの体積抵抗は105 Ω・m以上であっ
た。Comparative Example 1 Using the photosensitive transfer sheet prepared in Example 1, a conductive pattern was formed in the same manner as in Example 1 except that the heat treatment after the formation of the cured pattern was not performed. The volume resistance of the conductive pattern calculated from the surface resistance of the obtained conductive pattern was 10 5 Ω · m or more.
【0041】[比較例2]実施例1の感光性転写シート
の作成時において、分解温度170℃のアクリル酸/ベ
ンジルメタクリレート共重合体の代りに、スチレン/無
水マレイン酸共重合体(スチレン/無水マレイン酸=5
0/50(モル比)、重量平均分子量30000,分解
温度240℃以上)のベンジルアミン変性体を用いた以
外は実施例1と同様にして導電性パターンを作成した。
得られた導電性パターンの表面抵抗から算出した導電性
パターンの体積抵抗は105 Ω・m以上であった。Comparative Example 2 In preparing the photosensitive transfer sheet of Example 1, a styrene / maleic anhydride copolymer (styrene / anhydride) was used instead of the acrylic acid / benzyl methacrylate copolymer having a decomposition temperature of 170 ° C. Maleic acid = 5
A conductive pattern was prepared in the same manner as in Example 1 except that a benzylamine modified product having a 0/50 (molar ratio), a weight average molecular weight of 30,000 and a decomposition temperature of 240 ° C. or more) was used.
The volume resistance of the conductive pattern calculated from the surface resistance of the obtained conductive pattern was 10 5 Ω · m or more.
【0042】[0042]
【発明の効果】本発明の導電性粒子を含む感光性分散液
あるいは感光性シートとを用いることによって、信頼性
の高い配線パターンや電極間の良好な電気的接続部など
のような電気的特性に優れた導電性パターンを得ること
ができる。By using the photosensitive dispersion or the photosensitive sheet containing the conductive particles of the present invention, electrical characteristics such as a highly reliable wiring pattern and a good electrical connection between electrodes can be obtained. An excellent conductive pattern can be obtained.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H05K 3/10 H05K 3/10 C ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI H05K 3/10 H05K 3/10 C
Claims (11)
溶液に、140〜280℃の範囲内の温度で分解する低
温分解性のポリマーで被覆された導電性粒子が分散され
てなる感光性分散物。1. A photosensitive method comprising dispersing, in a solution containing a photopolymerizable compound and a photopolymerization initiator, conductive particles coated with a low-temperature decomposable polymer that decomposes at a temperature in the range of 140 to 280 ° C. Dispersion.
求項1に記載の感光性分散物。2. The photosensitive dispersion according to claim 1, wherein the conductive particles are carbon black.
中に極性基を有する請求項1もしくは2に記載の感光性
分散物。3. The photosensitive dispersion according to claim 1, wherein the low-temperature decomposable polymer has a polar group in its molecular structure.
項1乃至3のうちのいずれかの項に記載の感光性分散
物。4. The photosensitive dispersion according to claim 1, further comprising a binder in the solution.
する低温分解性のポリマーで被覆された導電性粒子が、
光重合性化合物と光重合開始剤とを含むシート状に形成
された組成物中に分散されてなる感光性シート。5. The conductive particles coated with a low-temperature decomposable polymer that decomposes at a temperature in the range of 140 to 280 ° C.,
A photosensitive sheet dispersed in a sheet-shaped composition containing a photopolymerizable compound and a photopolymerization initiator.
求項5に記載の感光性シート。6. The photosensitive sheet according to claim 5, wherein the conductive particles are carbon black.
中に極性基を有する請求項5もしくは6に記載の感光性
シート。7. The photosensitive sheet according to claim 5, wherein the low-temperature decomposable polymer has a polar group in its molecular structure.
項5乃至7のうちのいずれかの項に記載の感光性シー
ト。8. The photosensitive sheet according to claim 5, further comprising a binder in the composition.
範囲内の温度で分解する低温分解性のポリマーで被覆さ
れた導電性粒子が、シート状に形成された光重合性化合
物と光重合開始剤を含む組成物中に分散されてなる感光
性層を設ける工程;該感光性層をパターン状に露光させ
る工程;露光させた感光性層を現像して、感光性層の露
光部分から構成されるパターン状硬化層を得る工程;そ
して、該パターン状硬化層を140℃以上の温度に加熱
することにより、導電性粒子の周囲の低温分解性のポリ
マーを分解させる工程からなることを特徴とする導電性
パターンの製造方法。9. A photopolymerizable compound formed on a non-conductive substrate and coated with a low-temperature decomposable polymer that decomposes at a temperature in the range of 140 to 280 ° C. Providing a photosensitive layer dispersed in a composition containing a polymerization initiator; exposing the photosensitive layer in a pattern; developing the exposed photosensitive layer to form a photosensitive layer; Obtaining a patterned hardened layer constituted; and heating the patterned hardened layer to a temperature of 140 ° C. or higher to decompose the low-temperature decomposable polymer around the conductive particles. A method for producing a conductive pattern.
その分子構造中に極性基を有する請求項9に記載の導電
性パターンの製造方法。10. The low-temperature decomposable polymer of the photosensitive layer,
The method for producing a conductive pattern according to claim 9, having a polar group in its molecular structure.
バインダを含む請求項9もしくは10に記載の導電性パ
ターンの製造方法。11. The method for producing a conductive pattern according to claim 9, wherein the composition for forming the photosensitive layer further contains a binder.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6429598A JPH11249299A (en) | 1998-02-27 | 1998-02-27 | Photosensitive dispersed matter, photosensitive sheet and manufacture of conductive pattern |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH11249299A true JPH11249299A (en) | 1999-09-17 |
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Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH11249299A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003015276A (en) * | 2001-06-27 | 2003-01-15 | Jsr Corp | Radiation sensitive composition for protrusion material of perpendicular alignment type color liquid crystal display panel |
GB2424761A (en) * | 2005-03-29 | 2006-10-04 | Dainippon Printing Co Ltd | Conductivity variable composition, conductivity variable laminated body and conductive pattern formed body |
JP2019024132A (en) * | 2018-11-15 | 2019-02-14 | カンタツ株式会社 | Circuit pattern forming sheet, circuit pattern manufacturing apparatus, circuit pattern manufacturing method, and circuit pattern manufacturing program |
-
1998
- 1998-02-27 JP JP6429598A patent/JPH11249299A/en not_active Withdrawn
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003015276A (en) * | 2001-06-27 | 2003-01-15 | Jsr Corp | Radiation sensitive composition for protrusion material of perpendicular alignment type color liquid crystal display panel |
JP4660985B2 (en) * | 2001-06-27 | 2011-03-30 | Jsr株式会社 | Projection material for vertical alignment color LCD panel |
GB2424761A (en) * | 2005-03-29 | 2006-10-04 | Dainippon Printing Co Ltd | Conductivity variable composition, conductivity variable laminated body and conductive pattern formed body |
GB2424761B (en) * | 2005-03-29 | 2010-10-27 | Dainippon Printing Co Ltd | Conductivity variable composition, conductivity variable laminated body, and conductive pattern formed body |
US8142688B2 (en) | 2005-03-29 | 2012-03-27 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Conductivity variable composition, conductivity variable laminated body, and conductive pattern formed body |
JP2019024132A (en) * | 2018-11-15 | 2019-02-14 | カンタツ株式会社 | Circuit pattern forming sheet, circuit pattern manufacturing apparatus, circuit pattern manufacturing method, and circuit pattern manufacturing program |
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