JPH11223703A - 低複屈折光学部材、その成形用樹脂組成物及び光学部材の製造方法 - Google Patents
低複屈折光学部材、その成形用樹脂組成物及び光学部材の製造方法Info
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- JPH11223703A JPH11223703A JP10025621A JP2562198A JPH11223703A JP H11223703 A JPH11223703 A JP H11223703A JP 10025621 A JP10025621 A JP 10025621A JP 2562198 A JP2562198 A JP 2562198A JP H11223703 A JPH11223703 A JP H11223703A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 軽量で低複屈折かつ透明性、耐熱性、機械強
度特に耐衝撃性に優れ、吸水率の低い低屈折光学部材、
その製造法及び成形用組成物の提供。 【解決手段】 下記の成分Ａ、成分Ｂ、および、成分Ｃ
を含有する樹脂組成物を成形し、光重合硬化してなるこ
とを特徴とする低複屈折光学部材。 成分（Ａ）：脂環式炭化水素骨格ビス（メタ）アクリレ
ート 成分（Ｂ）：メルカプト化合物 成分（Ｃ）：ビスフェノールＡ骨格ビス（メタ）アクリ
レート
度特に耐衝撃性に優れ、吸水率の低い低屈折光学部材、
その製造法及び成形用組成物の提供。 【解決手段】 下記の成分Ａ、成分Ｂ、および、成分Ｃ
を含有する樹脂組成物を成形し、光重合硬化してなるこ
とを特徴とする低複屈折光学部材。 成分（Ａ）：脂環式炭化水素骨格ビス（メタ）アクリレ
ート 成分（Ｂ）：メルカプト化合物 成分（Ｃ）：ビスフェノールＡ骨格ビス（メタ）アクリ
レート
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光学用部材、その中
でも特に液晶表示パネルに適した高耐衝撃性低複屈折光
学部材に関するものである。
でも特に液晶表示パネルに適した高耐衝撃性低複屈折光
学部材に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来使用されている液晶表示用パネルは
ガラス板を基板とするものであるが、このようなパネル
ではガラスの低密度化と機械的強度の向上に関して限界
があるため現在要望されている軽量、薄型化に対応が難
しい。また生産性の向上に関しても成形性、加工性の観
点から問題点が指摘されており、プラスチックを基板と
して用いたパネルに注目が集まっている。しかし、この
様なプラスチック基板には下記のような問題点が挙げら
れる。 液晶表示に適した透明性と光学的等方性に欠ける。 耐熱性に劣る。
ガラス板を基板とするものであるが、このようなパネル
ではガラスの低密度化と機械的強度の向上に関して限界
があるため現在要望されている軽量、薄型化に対応が難
しい。また生産性の向上に関しても成形性、加工性の観
点から問題点が指摘されており、プラスチックを基板と
して用いたパネルに注目が集まっている。しかし、この
様なプラスチック基板には下記のような問題点が挙げら
れる。 液晶表示に適した透明性と光学的等方性に欠ける。 耐熱性に劣る。
【０００３】特に光学的等方性に関しては、ガラス板の
複屈折Δｎ・ｄが１ｎｍ以下であるのに対し、プラスチ
ック板では１０ｎｍを超えているのが現状である。この
複屈折性の問題は、なんらかの延伸操作あるいは材料の
流動操作が樹脂になされる成型法ではそれを解消するの
は難しく、また比較的厚い基板（たとえば０．４ｍｍ以
上）を使用する際には熱可塑性樹脂の押し出しやベルト
成形では成形が困難である。一方熱硬化性樹脂を用いた
場合には、成形時間が数時間かかるという生産上の問題
がある。
複屈折Δｎ・ｄが１ｎｍ以下であるのに対し、プラスチ
ック板では１０ｎｍを超えているのが現状である。この
複屈折性の問題は、なんらかの延伸操作あるいは材料の
流動操作が樹脂になされる成型法ではそれを解消するの
は難しく、また比較的厚い基板（たとえば０．４ｍｍ以
上）を使用する際には熱可塑性樹脂の押し出しやベルト
成形では成形が困難である。一方熱硬化性樹脂を用いた
場合には、成形時間が数時間かかるという生産上の問題
がある。
【０００４】この問題を解決する手段として、分子内に
２個以上のラジカル反応性不飽和結合を有する（メタ）
アクリレート化合物と分子内に２個以上のチオール基を
有するメルカプト化合物よりなる樹脂組成物を、光ラジ
カル重合開始剤の存在下活性エネルギー線により重合硬
化させることにより低複屈折光学部材を得る方法が提案
されている（特願平８−９０９２８）。この系はガラス
基板と比較して耐衝撃性に優れており、液晶表示パネル
の基板として好ましく用いられるものの、成形・加工工
程においてなお破損するおそれがあるため、生産性が一
定以上向上しない問題があった。特にＡ３サイズ以上の
大面積シートの成形後の脱型工程において、基板の機械
強度不足によるワレやカケは、歩留まりを低下させる大
きな要因であった。
２個以上のラジカル反応性不飽和結合を有する（メタ）
アクリレート化合物と分子内に２個以上のチオール基を
有するメルカプト化合物よりなる樹脂組成物を、光ラジ
カル重合開始剤の存在下活性エネルギー線により重合硬
化させることにより低複屈折光学部材を得る方法が提案
されている（特願平８−９０９２８）。この系はガラス
基板と比較して耐衝撃性に優れており、液晶表示パネル
の基板として好ましく用いられるものの、成形・加工工
程においてなお破損するおそれがあるため、生産性が一
定以上向上しない問題があった。特にＡ３サイズ以上の
大面積シートの成形後の脱型工程において、基板の機械
強度不足によるワレやカケは、歩留まりを低下させる大
きな要因であった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明によれば、軽量
で低複屈折かつ透明性、耐熱性、機械強度特に耐衝撃性
に優れ、吸水率の低い低複屈折光学部材、特に液晶パネ
ルとして適する低複屈折光学部材、その製造方法、及
び、その成形用樹脂組成物を提供することにある。
で低複屈折かつ透明性、耐熱性、機械強度特に耐衝撃性
に優れ、吸水率の低い低複屈折光学部材、特に液晶パネ
ルとして適する低複屈折光学部材、その製造方法、及
び、その成形用樹脂組成物を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記問題点
を解決するために鋭意検討を行った結果、分子内に２個
以上のラジカル反応性不飽和結合を有する脂環式炭化水
素骨格（メタ）アクリレート化合物と、分子内に２個以
上のチオール基を有するメルカプト化合物と、ビスフェ
ノール（Ａ）骨格を有する（メタ）アクリレート化合物
との樹脂組成物を活性エネルギー線により重合硬化させ
ることにより高耐衝撃性低複屈折光学部材が得られるこ
とを見いだし、本発明に到達した。すなわち、本発明
は、 下記の成分Ａ、成分Ｂ、及び、成分Ｃを含有する樹
脂組成物を成形し、光重合硬化してなることを特徴とす
る低複屈折光学部材。 成分（Ａ）：下記一般式［Ｉ］で示される脂環式炭化水
素骨格ビス（メタ）アクリレート３２〜９４．９重量
部。
を解決するために鋭意検討を行った結果、分子内に２個
以上のラジカル反応性不飽和結合を有する脂環式炭化水
素骨格（メタ）アクリレート化合物と、分子内に２個以
上のチオール基を有するメルカプト化合物と、ビスフェ
ノール（Ａ）骨格を有する（メタ）アクリレート化合物
との樹脂組成物を活性エネルギー線により重合硬化させ
ることにより高耐衝撃性低複屈折光学部材が得られるこ
とを見いだし、本発明に到達した。すなわち、本発明
は、 下記の成分Ａ、成分Ｂ、及び、成分Ｃを含有する樹
脂組成物を成形し、光重合硬化してなることを特徴とす
る低複屈折光学部材。 成分（Ａ）：下記一般式［Ｉ］で示される脂環式炭化水
素骨格ビス（メタ）アクリレート３２〜９４．９重量
部。
【０００７】
【化１６】
【０００８】［Ｒ1 およびＲ2 は、同一でも異なっても
よく、それぞれ水素又はＣＨ3 、ｐは１又は２の整数、
ｑは０又は１］ 成分（Ｂ）：下式［II］、［III ］及び［IV］より選ば
れる少なくとも１種のメルカプト化合物０．１〜８重量
部。
よく、それぞれ水素又はＣＨ3 、ｐは１又は２の整数、
ｑは０又は１］ 成分（Ｂ）：下式［II］、［III ］及び［IV］より選ば
れる少なくとも１種のメルカプト化合物０．１〜８重量
部。
【０００９】
【化１７】
【００１０】［Ｒ3 は−ＣＨ2 −又は−ＣＨ2 ＣＨ2 −
を示し、Ｒ4 はＣ2-15炭化水素残基又はアルキルエーテ
ル残基、ａは２〜６の整数］
を示し、Ｒ4 はＣ2-15炭化水素残基又はアルキルエーテ
ル残基、ａは２〜６の整数］
【００１１】
【化１８】
【００１２】［ＸはＨＳ−（ＣＨ2 −）b （ＣＯ）−
（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）d −（ＣＨ2 ）c −（ｂ、ｄは１〜
８の整数、ｃは０〜２）］
（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）d −（ＣＨ2 ）c −（ｂ、ｄは１〜
８の整数、ｃは０〜２）］
【００１３】
【化１９】
【００１４】［Ｒ5 は酸素を含んでもよい炭化水素基、
ｅは２以上の整数］ 成分（Ｃ）：下記一般式［Ｖ］で示されるビスフェノー
ルＡ骨格ビス（メタ）アクリレート５〜６０重量部。
ｅは２以上の整数］ 成分（Ｃ）：下記一般式［Ｖ］で示されるビスフェノー
ルＡ骨格ビス（メタ）アクリレート５〜６０重量部。
【化２０】 ［Ｒ6 〜Ｒ9 は、同一でも異なってもよく、それぞれ水
素又はＣＨ3 又はハロゲン原子、Ｒ10、Ｒ11は、同一で
も異なってもよく、それぞれ水素又はＣＨ3 、ｒおよび
ｓは０〜７の整数であり、同一でも異なってもよい］ 上記成分Ａ、成分Ｂ、及び、成分Ｃを含有してなる
低複屈折光学部材用樹脂組成物。 上記成分Ａ、成分Ｂ、及び、成分Ｃを含有する樹脂
組成物を成形し、活性エネルギー線を照射して光重合硬
化することを特徴とする低複屈折光学部材の製造方法を
提供するものである。
素又はＣＨ3 又はハロゲン原子、Ｒ10、Ｒ11は、同一で
も異なってもよく、それぞれ水素又はＣＨ3 、ｒおよび
ｓは０〜７の整数であり、同一でも異なってもよい］ 上記成分Ａ、成分Ｂ、及び、成分Ｃを含有してなる
低複屈折光学部材用樹脂組成物。 上記成分Ａ、成分Ｂ、及び、成分Ｃを含有する樹脂
組成物を成形し、活性エネルギー線を照射して光重合硬
化することを特徴とする低複屈折光学部材の製造方法を
提供するものである。
【００１５】
【発明の実施の形態】本発明は、特定の脂環式炭化水素
骨格ビス（メタ）アクリレート単量体と特定のメルカプ
ト化合物及びビスフェノールＡ骨格を有する特定のビス
（メタ）アクリレート単量体を含有する重合性樹脂組成
物及びこれを成形し、光重合硬化した低複屈折光学部材
並びにその製造法に関する。ここで「含有する」という
ことは、本発明の趣旨を損なわない限り少量の補助成分
を含んでもよいことを意味するものである。
骨格ビス（メタ）アクリレート単量体と特定のメルカプ
ト化合物及びビスフェノールＡ骨格を有する特定のビス
（メタ）アクリレート単量体を含有する重合性樹脂組成
物及びこれを成形し、光重合硬化した低複屈折光学部材
並びにその製造法に関する。ここで「含有する」という
ことは、本発明の趣旨を損なわない限り少量の補助成分
を含んでもよいことを意味するものである。
【００１６】すなわち、本発明で特定する成分と共重合
可能な他の単量体を、具体的にはたとえばこの特定の３
成分の１００重量部につき３０重量部程度までの量で、
併用してもよいことを意味する。また各成分は、成分間
及び（又は）成分内においてその複数を併用してもよ
い。なお「（メタ）アクリル」及び「（メタ）アクリレ
ート」は、アクリルないしメタクリルおよびアクリレー
トないしメタクリレートを総称するものである。 ＜成分（Ａ）：ビス（メタ）アクリレート＞成分（Ａ）
は、式［Ｉ］で示される脂環式炭化水素骨格ビス（メ
タ）アクリレートである。
可能な他の単量体を、具体的にはたとえばこの特定の３
成分の１００重量部につき３０重量部程度までの量で、
併用してもよいことを意味する。また各成分は、成分間
及び（又は）成分内においてその複数を併用してもよ
い。なお「（メタ）アクリル」及び「（メタ）アクリレ
ート」は、アクリルないしメタクリルおよびアクリレー
トないしメタクリレートを総称するものである。 ＜成分（Ａ）：ビス（メタ）アクリレート＞成分（Ａ）
は、式［Ｉ］で示される脂環式炭化水素骨格ビス（メ
タ）アクリレートである。
【００１７】
【化２１】
【００１８】式中の記号は、下記の意味を持つ。 Ｒ1 およびＲ2 ：水素原子またはメチル基。Ｒ1 、Ｒ2
は同一でも異なってもよい。 ｐ：１又は２の整数。ｑ：０又は１。
は同一でも異なってもよい。 ｐ：１又は２の整数。ｑ：０又は１。
【００１９】式［Ｉ］に示される脂環式炭化水素骨格ビ
ス（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、ビス
（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デ
カン＝ジアクリレート、ビス（オキシメチル）トリシク
ロ［５．２．１．０2,6 ］デカン＝ジメタクリレート、
ビス（オキシメチル）トリシクロ［２．２．１．
０2, 6 ］デカン＝アクリレートメタクリレート及びこれ
らの混合物、ビス（オキシメチル）ペンタシクロ［６．
５．１．１3,6 ．０2,7 ．０9,13］ペンタデカン＝ジア
クリレート、ビス（オキシメチル）ペンタシクロ［６．
５．１．１3,6 ．０2, 7 ，０9,13］ペンタデカン＝ジメ
タクリレート、ビス（オキシメチル）ペンタシクロ
［６．５．１．１3,6 ．０2,7 ，０9,13］ペンタデカン
＝アクリレートメタクリレート及びこれらの混合物等が
挙げられる。これらのトリシクロデカン化合物及びペン
タシクロデカン化合物は、群内及び（又は）群間で２種
以上併用してもよい。これらの化合物は、たとえば特開
昭６２−２２５５０８号公報に示されている手法で合成
することができる。
ス（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、ビス
（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デ
カン＝ジアクリレート、ビス（オキシメチル）トリシク
ロ［５．２．１．０2,6 ］デカン＝ジメタクリレート、
ビス（オキシメチル）トリシクロ［２．２．１．
０2, 6 ］デカン＝アクリレートメタクリレート及びこれ
らの混合物、ビス（オキシメチル）ペンタシクロ［６．
５．１．１3,6 ．０2,7 ．０9,13］ペンタデカン＝ジア
クリレート、ビス（オキシメチル）ペンタシクロ［６．
５．１．１3,6 ．０2, 7 ，０9,13］ペンタデカン＝ジメ
タクリレート、ビス（オキシメチル）ペンタシクロ
［６．５．１．１3,6 ．０2,7 ，０9,13］ペンタデカン
＝アクリレートメタクリレート及びこれらの混合物等が
挙げられる。これらのトリシクロデカン化合物及びペン
タシクロデカン化合物は、群内及び（又は）群間で２種
以上併用してもよい。これらの化合物は、たとえば特開
昭６２−２２５５０８号公報に示されている手法で合成
することができる。
【００２０】＜成分（Ｂ）：メルカプト化合物＞成分
（Ｂ）は、式［II］、［III ］及び［IV］で示される分
子内に２個以上のチオール基を有するメルカプト化合物
より選ばれる少なくとも１種のメルカプト化合物であ
る。
（Ｂ）は、式［II］、［III ］及び［IV］で示される分
子内に２個以上のチオール基を有するメルカプト化合物
より選ばれる少なくとも１種のメルカプト化合物であ
る。
【００２１】
【化２２】
【００２２】式中の記号は、下記の意味を表わす。 Ｒ3 ：メチレン基またはエチレン基。 Ｒ4 ：エーテル酸素、チオエーテル硫黄を含んでもよい
炭素数２〜１５の炭化水素残基。好ましくは炭素数２〜
６の炭化水素残基。 ａ：２〜６の整数。 Ｘ：ＨＳ−（ＣＨ2 −）b （ＣＯ）−（ＯＣＨ2 Ｃ
Ｈ2 ）d −（ＣＨ2 ）c − （ｂ、ｄは１〜８の整数、ｃは０〜２）］ Ｒ5 ：酸素を含んでもよい炭化水素基。 ｅ：２以上の整数。
炭素数２〜１５の炭化水素残基。好ましくは炭素数２〜
６の炭化水素残基。 ａ：２〜６の整数。 Ｘ：ＨＳ−（ＣＨ2 −）b （ＣＯ）−（ＯＣＨ2 Ｃ
Ｈ2 ）d −（ＣＨ2 ）c − （ｂ、ｄは１〜８の整数、ｃは０〜２）］ Ｒ5 ：酸素を含んでもよい炭化水素基。 ｅ：２以上の整数。
【００２３】式［II］に示されるメルカプト化合物は、
２〜６価のチオグリコール酸エステル又はチオプロピル
酸エステルである。式［II］の化合物の具体例として
は、たとえばペンタエリスリトールテトラキス（β−チ
オプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス
（チオグリコレート）、トリメチロールプロパントリス
（β−チオプロピオネート）、トリメチロールプロパン
トリス（チオグリコレート）、ジエチレングリコールビ
ス（β−チオプロピオネート）、ジエチレングリコール
ビス（チオグリコレート）、トリエチレングリコールビ
ス（β−チオプロピオネート）、トリエチレングリコー
ル（チオグリコレート）、ジペンタエリスリトールヘキ
サキス（β−チオプロピオネート）、ジペンタエリスリ
トールヘキサキス（チオグリコレート）等が挙げられ
る。
２〜６価のチオグリコール酸エステル又はチオプロピル
酸エステルである。式［II］の化合物の具体例として
は、たとえばペンタエリスリトールテトラキス（β−チ
オプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス
（チオグリコレート）、トリメチロールプロパントリス
（β−チオプロピオネート）、トリメチロールプロパン
トリス（チオグリコレート）、ジエチレングリコールビ
ス（β−チオプロピオネート）、ジエチレングリコール
ビス（チオグリコレート）、トリエチレングリコールビ
ス（β−チオプロピオネート）、トリエチレングリコー
ル（チオグリコレート）、ジペンタエリスリトールヘキ
サキス（β−チオプロピオネート）、ジペンタエリスリ
トールヘキサキス（チオグリコレート）等が挙げられ
る。
【００２４】式［III ］の化合物は、ω−ＳＨ基含有イ
ソシアヌレートである。式［III ］の化合物の具体例と
しては、たとえば、トリス［２−（β−チオプロピオニ
ルオキシ）エチル］イソシアヌレート、トリス（２−チ
オグリコニルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス
［２−（β−チオグリコニルオキシエトキシ）エチル］
イソシアヌレート、トリス（２−チオグリコニルオキシ
エトキシエチル）イソシフヌレート、トリス［３−（β
−チオプロピオニルオキシ）プロピル］イソシアヌレー
ト、トリス（３−チオグリコニルオキシプロピル）イソ
シアヌレート等が挙げられる。
ソシアヌレートである。式［III ］の化合物の具体例と
しては、たとえば、トリス［２−（β−チオプロピオニ
ルオキシ）エチル］イソシアヌレート、トリス（２−チ
オグリコニルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス
［２−（β−チオグリコニルオキシエトキシ）エチル］
イソシアヌレート、トリス（２−チオグリコニルオキシ
エトキシエチル）イソシフヌレート、トリス［３−（β
−チオプロピオニルオキシ）プロピル］イソシアヌレー
ト、トリス（３−チオグリコニルオキシプロピル）イソ
シアヌレート等が挙げられる。
【００２５】式［IV］で示される化合物はＳＨ基含有炭
化水素である。式［IV］の化合物の具体例としては、た
とえば、ベンゼンジメルカプタン、キシリレンジメルカ
プタン、４，４′−ジメルカプトジフェニルスルフィ
ド、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルＳ
Ｈ化物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルＳＨ化
物等が挙げられる。
化水素である。式［IV］の化合物の具体例としては、た
とえば、ベンゼンジメルカプタン、キシリレンジメルカ
プタン、４，４′−ジメルカプトジフェニルスルフィ
ド、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルＳ
Ｈ化物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルＳＨ化
物等が挙げられる。
【００２６】前記成分（Ａ）の脂環式炭化水素骨格ビス
（メタ）アクリレートは、それ単独でも重合させること
ができるが、得られる硬化樹脂は複屈折が大きく、ま
た耐衝撃性などの機械強度に劣る欠点がある。前記一
般式［II］ないし［IV］で表される成分（Ｂ）のメルカ
プト化合物を配合することにより、メルカプト化合物中
のチオール基が連鎖移動剤として作用し、重合硬化をお
だやかに均一に進行させ、硬化樹脂の複屈折を大幅に軽
減することができる。また前記［Ｉ］の脂環式炭化水素
骨格ビス（メタ）アクリレート化合物により形成される
３次元網目構造に入り込み、適度な靱性を付与すること
が可能である。本発明では分子内に２個以上のチオール
基を有する、すなわち多官能性のメルカプト化合物を用
いているため、得られる硬化物の耐熱性を大きく損なう
ことなく、上記の複屈折の問題をまず解決することが
できる。
（メタ）アクリレートは、それ単独でも重合させること
ができるが、得られる硬化樹脂は複屈折が大きく、ま
た耐衝撃性などの機械強度に劣る欠点がある。前記一
般式［II］ないし［IV］で表される成分（Ｂ）のメルカ
プト化合物を配合することにより、メルカプト化合物中
のチオール基が連鎖移動剤として作用し、重合硬化をお
だやかに均一に進行させ、硬化樹脂の複屈折を大幅に軽
減することができる。また前記［Ｉ］の脂環式炭化水素
骨格ビス（メタ）アクリレート化合物により形成される
３次元網目構造に入り込み、適度な靱性を付与すること
が可能である。本発明では分子内に２個以上のチオール
基を有する、すなわち多官能性のメルカプト化合物を用
いているため、得られる硬化物の耐熱性を大きく損なう
ことなく、上記の複屈折の問題をまず解決することが
できる。
【００２７】本発明におけるメルカプト化合物の組成割
合は、全モノマー成分１００重量部に対し０．１〜８重
量部、好ましくは１〜８重量部になるようにする。メル
カプト化合物の割合が少なすぎると硬化樹脂の複屈折改
良効果が得られなくなるし、逆に多すぎると硬化樹脂の
耐熱性が低くなる。 ＜成分（Ｃ）：ビスフェノールＡ骨格ビス（メタ）アク
リレート＞成分（Ｃ）は、式［Ｖ］で示されるビスフェ
ノールＡ骨格ビス（メタ）アクリレートである。
合は、全モノマー成分１００重量部に対し０．１〜８重
量部、好ましくは１〜８重量部になるようにする。メル
カプト化合物の割合が少なすぎると硬化樹脂の複屈折改
良効果が得られなくなるし、逆に多すぎると硬化樹脂の
耐熱性が低くなる。 ＜成分（Ｃ）：ビスフェノールＡ骨格ビス（メタ）アク
リレート＞成分（Ｃ）は、式［Ｖ］で示されるビスフェ
ノールＡ骨格ビス（メタ）アクリレートである。
【００２８】
【化２３】
【００２９】式中の記号は、下記の意味を持つ。 Ｒ6 〜Ｒ9 ：水素原子又はメチル基又はハロゲン原子。
Ｒ6 〜Ｒ9 は同一でも異なってもよい。 Ｒ10〜Ｒ11：水素原子又はメチル基。同一でも異なって
もよい。 ｒおよびｓ：０〜７の整数。ｒとｓは同一でも異なって
もよい。
Ｒ6 〜Ｒ9 は同一でも異なってもよい。 Ｒ10〜Ｒ11：水素原子又はメチル基。同一でも異なって
もよい。 ｒおよびｓ：０〜７の整数。ｒとｓは同一でも異なって
もよい。
【００３０】式［Ｖ］に示されるビスフェノールＡ骨格
ビス（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、ビ
スフェノールＡジアクリレート、ビスフェノールＡジメ
タクリレート、ビスフェノールＡアクリレートメタクリ
レート及びこれらの混合物、ビスフェノールＡビス
［（オキシエチル）エーテル］＝ジアクリレート、ビス
フェノールＡビス［（オキシエチル）エーテル］＝ジメ
タクリレート、ビスフェノールＡビス［（オキシエチ
ル）エーテル］＝アクリレートメタクリレート及びこれ
らの混合物、テトラブロモビスフェノールＡビス［（オ
キシエチル）エーテル］＝ジアクリレート、テトラブロ
モビスフェノールＡビス［（オキシエチル）エーテル］
＝ジメタクリレート、テトラブロモビスフェノールＡビ
ス［（オキシエチル）エーテル］＝アクリレートメタク
リレート及びこれらの混合物、ビスフェノールＡビス
［（ジオキシエチル）エーテル］＝ジアクリレート、ビ
スフェノールＡビス［（ジオキシエチル）エーテル］＝
ジメタクリレート、ビスフェノールＡビス［（ジオキシ
エチル）エーテル］＝アクリレートメタクリレート及び
これらの混合物、ビスフェノールＡビス［（ポリオキシ
エチル）エーテル］＝ジアクリレート、ビスフェノール
Ａビス［（ポリオキシエチル）エーテル］＝ジメタクリ
レート、ビスフェノールＡビス［（ポリオキシエチル）
エーテル］＝アクリレートメタクリレート及びこれらの
混合物等が挙げられる。
ビス（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、ビ
スフェノールＡジアクリレート、ビスフェノールＡジメ
タクリレート、ビスフェノールＡアクリレートメタクリ
レート及びこれらの混合物、ビスフェノールＡビス
［（オキシエチル）エーテル］＝ジアクリレート、ビス
フェノールＡビス［（オキシエチル）エーテル］＝ジメ
タクリレート、ビスフェノールＡビス［（オキシエチ
ル）エーテル］＝アクリレートメタクリレート及びこれ
らの混合物、テトラブロモビスフェノールＡビス［（オ
キシエチル）エーテル］＝ジアクリレート、テトラブロ
モビスフェノールＡビス［（オキシエチル）エーテル］
＝ジメタクリレート、テトラブロモビスフェノールＡビ
ス［（オキシエチル）エーテル］＝アクリレートメタク
リレート及びこれらの混合物、ビスフェノールＡビス
［（ジオキシエチル）エーテル］＝ジアクリレート、ビ
スフェノールＡビス［（ジオキシエチル）エーテル］＝
ジメタクリレート、ビスフェノールＡビス［（ジオキシ
エチル）エーテル］＝アクリレートメタクリレート及び
これらの混合物、ビスフェノールＡビス［（ポリオキシ
エチル）エーテル］＝ジアクリレート、ビスフェノール
Ａビス［（ポリオキシエチル）エーテル］＝ジメタクリ
レート、ビスフェノールＡビス［（ポリオキシエチル）
エーテル］＝アクリレートメタクリレート及びこれらの
混合物等が挙げられる。
【００３１】本発明は成分（Ｃ）のビスフェノールＡ骨
格ビス（メタ）アクリレートを配合することを特徴とす
る。成分（Ｃ）のビスフェノール骨格ビス（メタ）アク
リレートを配合することにより、ビスフェノールＡの適
度に強靱な構造が脂環式炭化水素骨格ビス（メタ）アク
リレート及びメルカプト化合物により形成される３次元
網目構造に組み込まれ、硬化物の耐衝撃性等の機械強度
を飛躍的に向上させることができる。
格ビス（メタ）アクリレートを配合することを特徴とす
る。成分（Ｃ）のビスフェノール骨格ビス（メタ）アク
リレートを配合することにより、ビスフェノールＡの適
度に強靱な構造が脂環式炭化水素骨格ビス（メタ）アク
リレート及びメルカプト化合物により形成される３次元
網目構造に組み込まれ、硬化物の耐衝撃性等の機械強度
を飛躍的に向上させることができる。
【００３２】本発明におけるビスフェノールＡ骨格ビス
（メタ）アクリレートの組成割合は、全モノマー成分１
００重量部に対し５〜６０重量部、好ましくは８〜５０
重量部、更に好ましくは８〜４０重量部である。ビスフ
ェノールＡ骨格ビス（メタ）アクリレートの割合が少な
すぎると硬化樹脂の耐衝撃性等の機械強度を向上させる
効果が得られなくなるし、逆に多すぎると硬化樹脂の屈
折率が大きくなりすぎて光学特性が損なわれ好ましくな
い。
（メタ）アクリレートの組成割合は、全モノマー成分１
００重量部に対し５〜６０重量部、好ましくは８〜５０
重量部、更に好ましくは８〜４０重量部である。ビスフ
ェノールＡ骨格ビス（メタ）アクリレートの割合が少な
すぎると硬化樹脂の耐衝撃性等の機械強度を向上させる
効果が得られなくなるし、逆に多すぎると硬化樹脂の屈
折率が大きくなりすぎて光学特性が損なわれ好ましくな
い。
【００３３】＜補助成分＞本発明による低複屈折部材は
成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含んでなる樹脂組成物
を重合硬化させてなるものであり、この樹脂組成物が少
量の補助成分を含んでもよいことは前記したところであ
る。従って本発明の低複屈折光学部材用樹脂組成物は、
その硬化前の組成物１００重量部に対し３０重量部程度
までの量でラジカル重合可能な他の単量体を混合して共
重合させて製造することも可能である。その際に用いる
他の単量体としては、たとえばメチル（メタ）アクリレ
ート、フェニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ
エチル（メタ）アクリレート、メタクリロイルオキシメ
チルテトラシクロデカン、メタクリロイルオキシメチル
テトラシクロドデセン、エチレングリコールジ（メタ）
アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、１，６−ヘキセンジオールジ（メタ）アクリレ
ート、２，２−ビス［４−（β−メタクリロイルオキシ
エトキシ）フェニル］プロパン、２，２′−ビス［４−
（β−メタクリロイルオキシエトキシ）シクロヘキシ
ル］プロパン、１，４−ビス（メタクリロイルオキシメ
チル）シクロヘキサン、トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート化合
物、スチレン、クロルスチレン、ジビニルベンゼン、α
−メチルスチレン等の核及び（または）側鎖置換および
非置換スチレン等が挙げられる。これらの他の単量体の
中でもメタクリロイルオキシメチルシクロドデカン、
２，２−ビス［４−（β−メタクリロイルオキシエトキ
シ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（β−メ
タクリロイルオキシエトキシ）シクロヘキシル］プロパ
ン、１，４−ビス（メタクリロイルオキシメチル）シク
ロヘキサン、およびこれらの混合物が特に好ましい。補
助成分としては、その他にも、酸化防止剤、紫外線吸収
剤、染顔料、充填剤などがある。
成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含んでなる樹脂組成物
を重合硬化させてなるものであり、この樹脂組成物が少
量の補助成分を含んでもよいことは前記したところであ
る。従って本発明の低複屈折光学部材用樹脂組成物は、
その硬化前の組成物１００重量部に対し３０重量部程度
までの量でラジカル重合可能な他の単量体を混合して共
重合させて製造することも可能である。その際に用いる
他の単量体としては、たとえばメチル（メタ）アクリレ
ート、フェニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ
エチル（メタ）アクリレート、メタクリロイルオキシメ
チルテトラシクロデカン、メタクリロイルオキシメチル
テトラシクロドデセン、エチレングリコールジ（メタ）
アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、１，６−ヘキセンジオールジ（メタ）アクリレ
ート、２，２−ビス［４−（β−メタクリロイルオキシ
エトキシ）フェニル］プロパン、２，２′−ビス［４−
（β−メタクリロイルオキシエトキシ）シクロヘキシ
ル］プロパン、１，４−ビス（メタクリロイルオキシメ
チル）シクロヘキサン、トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート化合
物、スチレン、クロルスチレン、ジビニルベンゼン、α
−メチルスチレン等の核及び（または）側鎖置換および
非置換スチレン等が挙げられる。これらの他の単量体の
中でもメタクリロイルオキシメチルシクロドデカン、
２，２−ビス［４−（β−メタクリロイルオキシエトキ
シ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（β−メ
タクリロイルオキシエトキシ）シクロヘキシル］プロパ
ン、１，４−ビス（メタクリロイルオキシメチル）シク
ロヘキサン、およびこれらの混合物が特に好ましい。補
助成分としては、その他にも、酸化防止剤、紫外線吸収
剤、染顔料、充填剤などがある。
【００３４】＜重合硬化＞本発明における成分Ａ、Ｂお
よびＣからなる樹脂組成物は成形されて硬化される。そ
の硬化は、紫外線等の活性エネルギー線によりラジカル
を発生する光重合開始剤を添加する公知のラジカル重合
により行う。その際に用いる光重合開始剤としては、た
とえばベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインイソプロピルエーテル、ジエトキシアセトフェ
ノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、
２，６−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキ
シド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホ
スフィンオキシド等が挙げられる。好ましい光重合開始
剤としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェ
ニルホスフィンオキシドＭ、ベンゾフェノンである。
よびＣからなる樹脂組成物は成形されて硬化される。そ
の硬化は、紫外線等の活性エネルギー線によりラジカル
を発生する光重合開始剤を添加する公知のラジカル重合
により行う。その際に用いる光重合開始剤としては、た
とえばベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインイソプロピルエーテル、ジエトキシアセトフェ
ノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、
２，６−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキ
シド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホ
スフィンオキシド等が挙げられる。好ましい光重合開始
剤としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェ
ニルホスフィンオキシドＭ、ベンゾフェノンである。
【００３５】光重合開始剤は２種以上を併用してもよ
い。これらの光重合開始剤の添加量は、モノマー１００
重量部に対し０．０１〜１重量部、好ましくは０．０２
〜０．３重量部である。光重合開始剤の添加量が多すぎ
ると、重合が急激に進行し複屈折の増大をもたらすだけ
でなく色相も悪化する。また少なすぎると組成物を十分
に硬化させることができなくなる。照射する活性エネル
ギー線の量は、光重合開始剤がラジカルを発生させる範
囲であれば任意であるが、極端に少ない場合は重合が不
完全なため硬化物の耐熱性、機械特性が十分に発現され
ず、逆に極端に過剰な場合は硬化物の黄変等の光による
劣化を生じるので、モノマーの組成および光重合開始剤
の種類、量に合わせて波長２００〜４００ｎｍの紫外線
を好ましくは０．１〜２００ｊの範囲で照射する。使用
するランプの具体例としては、メタルハライドランプ、
高圧水銀灯ランプ等を挙げることができる。
い。これらの光重合開始剤の添加量は、モノマー１００
重量部に対し０．０１〜１重量部、好ましくは０．０２
〜０．３重量部である。光重合開始剤の添加量が多すぎ
ると、重合が急激に進行し複屈折の増大をもたらすだけ
でなく色相も悪化する。また少なすぎると組成物を十分
に硬化させることができなくなる。照射する活性エネル
ギー線の量は、光重合開始剤がラジカルを発生させる範
囲であれば任意であるが、極端に少ない場合は重合が不
完全なため硬化物の耐熱性、機械特性が十分に発現され
ず、逆に極端に過剰な場合は硬化物の黄変等の光による
劣化を生じるので、モノマーの組成および光重合開始剤
の種類、量に合わせて波長２００〜４００ｎｍの紫外線
を好ましくは０．１〜２００ｊの範囲で照射する。使用
するランプの具体例としては、メタルハライドランプ、
高圧水銀灯ランプ等を挙げることができる。
【００３６】硬化を速やかに完了させる目的で、熱重合
を併用してもよい。すなわち光照射と同時に組成物並び
に型全体を３０〜３００℃の範囲で加熱する。この場合
は重合をよりよく完結するためにラジカル重合開始剤を
添加してもよいが、過剰な使用は複屈折の増大と色相の
悪化をもたらす。熱重合開始剤の具体例としてはベンゾ
イルパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシカーボネ
ート、ｔ−ブチルパーオキシ（２−エチルヘキサノエー
ト）等が挙げられ、使用量はモノマー１００重量部に対
して１重量部以下が好ましい。
を併用してもよい。すなわち光照射と同時に組成物並び
に型全体を３０〜３００℃の範囲で加熱する。この場合
は重合をよりよく完結するためにラジカル重合開始剤を
添加してもよいが、過剰な使用は複屈折の増大と色相の
悪化をもたらす。熱重合開始剤の具体例としてはベンゾ
イルパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシカーボネ
ート、ｔ−ブチルパーオキシ（２−エチルヘキサノエー
ト）等が挙げられ、使用量はモノマー１００重量部に対
して１重量部以下が好ましい。
【００３７】更に本発明において光照射によるラジカル
重合を行った後、硬化物を加熱することにより重合反応
の完結及び重合時に発生する内部歪を低減することも可
能である。加熱温度は、硬化物の組成やガラス転移温度
に合わせて適宜選択されるが、過剰な加熱は硬化物の色
相悪化をもたらすため、ガラス転移温度付近かそれ以下
の温度が好ましい。
重合を行った後、硬化物を加熱することにより重合反応
の完結及び重合時に発生する内部歪を低減することも可
能である。加熱温度は、硬化物の組成やガラス転移温度
に合わせて適宜選択されるが、過剰な加熱は硬化物の色
相悪化をもたらすため、ガラス転移温度付近かそれ以下
の温度が好ましい。
【００３８】本発明によって得られる硬化物の表面に
は、種々の方法により、ガスバリア膜を形成することが
でき、ガスバリア付き光学部材として利用することがで
きる。ガスバリア膜としては公知のものが使用できる。
例えば、ＳｉＯｘなどのケイ素酸化物あるいはＰＶＡや
アクリル樹脂などを単層あるいは積層することが可能で
ある。
は、種々の方法により、ガスバリア膜を形成することが
でき、ガスバリア付き光学部材として利用することがで
きる。ガスバリア膜としては公知のものが使用できる。
例えば、ＳｉＯｘなどのケイ素酸化物あるいはＰＶＡや
アクリル樹脂などを単層あるいは積層することが可能で
ある。
【００３９】本発明によって得られる硬化物の表面には
種々の手法により各種透明導電膜を好ましく形成するこ
とができ、透明電極付光学部材として利用することがで
きる。硬化物の表面に形成できる透明導電膜には特に制
限はないが、例えばＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｌ、Ｃ
ｒ、Ｒｈ等の金属導電膜、Ｉｎ2 Ｏ3 、ＳｎＯ2 、Ｃｄ
2 ＳｎＯ4 、ＣｄＯ等の酸化物半導電体膜が挙げられ
る。これらのうちＩｎ2Ｏ3 、ＳｎＯ2 及びＣｄ2 Ｓｎ
Ｏ4 が導電性、透明性及び膜強度等の面で好ましく、さ
らにＩｎ2 Ｏ3 にＳｎをドープしたいわゆるＩＴＯが最
も好ましい。透明導電膜を形成する手法としては特に制
限はないが、例えばスプレー法、気相反応法（ＣＶＤ
法）、塗布法等の化学的成膜法、真空蒸着法、スパッタ
法等の物理的成膜法が挙げられる。
種々の手法により各種透明導電膜を好ましく形成するこ
とができ、透明電極付光学部材として利用することがで
きる。硬化物の表面に形成できる透明導電膜には特に制
限はないが、例えばＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｌ、Ｃ
ｒ、Ｒｈ等の金属導電膜、Ｉｎ2 Ｏ3 、ＳｎＯ2 、Ｃｄ
2 ＳｎＯ4 、ＣｄＯ等の酸化物半導電体膜が挙げられ
る。これらのうちＩｎ2Ｏ3 、ＳｎＯ2 及びＣｄ2 Ｓｎ
Ｏ4 が導電性、透明性及び膜強度等の面で好ましく、さ
らにＩｎ2 Ｏ3 にＳｎをドープしたいわゆるＩＴＯが最
も好ましい。透明導電膜を形成する手法としては特に制
限はないが、例えばスプレー法、気相反応法（ＣＶＤ
法）、塗布法等の化学的成膜法、真空蒸着法、スパッタ
法等の物理的成膜法が挙げられる。
【００４０】本発明によって得られる光学部材は、複屈
折が小さく耐衝撃性が良好で、かつ透明性に優れる。従
って、ディスプレイパネル板、液晶パネル板、各種レン
ズ、プリズム光ファイバー、光学フィルタ、光ディスク
等多くの光学部材に用いることができる。また本発明に
よって得られる透明電極付光学部材は、透明導電膜の硬
化物表面に対する密着性に優れ、また透明性も良好であ
るので、ディスプレイパネル板や液晶パネル板等に有利
に利用できる。
折が小さく耐衝撃性が良好で、かつ透明性に優れる。従
って、ディスプレイパネル板、液晶パネル板、各種レン
ズ、プリズム光ファイバー、光学フィルタ、光ディスク
等多くの光学部材に用いることができる。また本発明に
よって得られる透明電極付光学部材は、透明導電膜の硬
化物表面に対する密着性に優れ、また透明性も良好であ
るので、ディスプレイパネル板や液晶パネル板等に有利
に利用できる。
【００４１】
【実施例】以下の実施例は本発明をより具体的に説明す
るためのものである。なお例中の部は重量部を示す。ま
た実施例に記載の硬化物の諸物性は下記の試験法により
測定された。 （１）光線透過率 ５００ｎｍにおける光線硬化率を測
定した。 （２）複屈折 複屈折測定装置（オーク社製）を用いて
２５℃に測定した。 （３）耐熱性 ビカット軟化試験において１２０℃以下
で圧子が０．３ｍｍ以上進入したものを×、しなかった
ものを○とした。圧子断面積１．０ｍｍ2 、荷重５ｋ
ｇ、昇温速度５０℃／Ｈｒ。 （４）曲げ弾性率 幅１ｃｍの板について支点間距離３
ｃｍにてオートグラフ試験装置を用いて２５℃で測定し
た。 （５）耐衝撃性 ４０ｍｍ角の板をサンプルとし、落球
試験機（東京精密社製）を用いて８ｇの鋼球を高さ１０
ｃｍの位置から落下させてサンプルに衝撃を与える。鋼
球を落下させる位置を１０ｃｍずつ高くし、破壊するま
で落球を繰り返す。落球衝撃強度＝（サンプルが破壊し
たときの落球高さ）−１０ｃｍとする。 （６）脱型性 脱型する際に硬化物にクラックが入った
ものを×とした。 （７）酸素透過率 ＡＳＴＮ Ｄ３９８５に準じてモダ
ンコントロール社ＯＸ−ＴＲＡＮ１００を用いて、２３
℃−８０％ＲＨ条件下で測定した。 （８）抵抗値 三菱化学製ロレスタを用いて測定した。
るためのものである。なお例中の部は重量部を示す。ま
た実施例に記載の硬化物の諸物性は下記の試験法により
測定された。 （１）光線透過率 ５００ｎｍにおける光線硬化率を測
定した。 （２）複屈折 複屈折測定装置（オーク社製）を用いて
２５℃に測定した。 （３）耐熱性 ビカット軟化試験において１２０℃以下
で圧子が０．３ｍｍ以上進入したものを×、しなかった
ものを○とした。圧子断面積１．０ｍｍ2 、荷重５ｋ
ｇ、昇温速度５０℃／Ｈｒ。 （４）曲げ弾性率 幅１ｃｍの板について支点間距離３
ｃｍにてオートグラフ試験装置を用いて２５℃で測定し
た。 （５）耐衝撃性 ４０ｍｍ角の板をサンプルとし、落球
試験機（東京精密社製）を用いて８ｇの鋼球を高さ１０
ｃｍの位置から落下させてサンプルに衝撃を与える。鋼
球を落下させる位置を１０ｃｍずつ高くし、破壊するま
で落球を繰り返す。落球衝撃強度＝（サンプルが破壊し
たときの落球高さ）−１０ｃｍとする。 （６）脱型性 脱型する際に硬化物にクラックが入った
ものを×とした。 （７）酸素透過率 ＡＳＴＮ Ｄ３９８５に準じてモダ
ンコントロール社ＯＸ−ＴＲＡＮ１００を用いて、２３
℃−８０％ＲＨ条件下で測定した。 （８）抵抗値 三菱化学製ロレスタを用いて測定した。
【００４２】［実施例１］ビス（オキシメチル）トリシ
クロ［５．２．１．０2,6 ］デカン＝ジメタクリレート
７５部、ペンタエリスリトールテトラキス（β−チオプ
ロピオネート）５部、ビスフェノールＡビス［（オキシ
エチル）エーテル］＝ジメタクリレート２０部、光開始
剤として２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニル
ホスフィンオキシド（ＢＡＳＦ社製「ルシリンＴＰ
Ｏ」）０．０５部、ベンゾフェノン０．０２部を均一に
攪拌混合した後、脱泡して組成物を得た。この組成物を
２枚の研磨ガラス板と厚さ１ｍｍのシリコンスペーサー
で構成された型に注液し、ガラス面より距離４０ｃｍで
上下にある出力８０Ｗ／ｃｍのメタルハライドランプの
間にて、５分間紫外線を照射した。紫外線照射後脱型
し、１２０℃で１時間加熱して硬化物を得た。硬化物の
諸特性は表１に示すとおりであった。
クロ［５．２．１．０2,6 ］デカン＝ジメタクリレート
７５部、ペンタエリスリトールテトラキス（β−チオプ
ロピオネート）５部、ビスフェノールＡビス［（オキシ
エチル）エーテル］＝ジメタクリレート２０部、光開始
剤として２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニル
ホスフィンオキシド（ＢＡＳＦ社製「ルシリンＴＰ
Ｏ」）０．０５部、ベンゾフェノン０．０２部を均一に
攪拌混合した後、脱泡して組成物を得た。この組成物を
２枚の研磨ガラス板と厚さ１ｍｍのシリコンスペーサー
で構成された型に注液し、ガラス面より距離４０ｃｍで
上下にある出力８０Ｗ／ｃｍのメタルハライドランプの
間にて、５分間紫外線を照射した。紫外線照射後脱型
し、１２０℃で１時間加熱して硬化物を得た。硬化物の
諸特性は表１に示すとおりであった。
【００４３】［実施例２］ビス（オキシメチル）トリシ
クロ［５．２．１．０2,6 ］デカン＝ジメタクリレート
７５部、ペンタエリスリトールテトラキス（β−チオプ
ロピオネート）５部、ビスフェノールＡビス［（ジオキ
シエチル）エーテル］＝ジメタクリレート２０部を用い
た以外は実施例１と同様にして硬化物を得た。硬化物の
諸特性は表１に示すとおりであった。
クロ［５．２．１．０2,6 ］デカン＝ジメタクリレート
７５部、ペンタエリスリトールテトラキス（β−チオプ
ロピオネート）５部、ビスフェノールＡビス［（ジオキ
シエチル）エーテル］＝ジメタクリレート２０部を用い
た以外は実施例１と同様にして硬化物を得た。硬化物の
諸特性は表１に示すとおりであった。
【００４４】［実施例３］ビス（オキシメチル）トリシ
クロ［５．２．１．０2,6 ］デカン＝ジメタクリレート
７５部、ペンタエリスリトールテトラキス（β−チオプ
ロピオネート）５部、テトラブロモビスフェノールＡビ
ス［（オキシエチル）エーテル］＝ジメタクリレート２
０部を用いた以外は実施例１と同様にして硬化物を得
た。硬化物の諸特性は表１に示すとおりであった。
クロ［５．２．１．０2,6 ］デカン＝ジメタクリレート
７５部、ペンタエリスリトールテトラキス（β−チオプ
ロピオネート）５部、テトラブロモビスフェノールＡビ
ス［（オキシエチル）エーテル］＝ジメタクリレート２
０部を用いた以外は実施例１と同様にして硬化物を得
た。硬化物の諸特性は表１に示すとおりであった。
【００４５】［実施例４］ビス（オキシメチル）トリシ
クロ［５．２．１．０2,6 ］デカン＝ジメタクリレート
７５部、トリス［２−（β−チオプロピオニルオキシ）
エチル］トリイソシアヌレート５部、ビスフェノールＡ
ビス［（オキシエチル）エーテル］＝ジメタクリレート
２０部を用いた以外は実施例１と同様にして硬化物を得
た。硬化物の諸特性は表１に示すとおりであった。
クロ［５．２．１．０2,6 ］デカン＝ジメタクリレート
７５部、トリス［２−（β−チオプロピオニルオキシ）
エチル］トリイソシアヌレート５部、ビスフェノールＡ
ビス［（オキシエチル）エーテル］＝ジメタクリレート
２０部を用いた以外は実施例１と同様にして硬化物を得
た。硬化物の諸特性は表１に示すとおりであった。
【００４６】［実施例５］実施例１で得られた１ｍｍ厚
の硬化物上に、スパッタ装置（徳田製作所；形式ＣＦＳ
−４ＥＳ）にてＳｉＯ2 を２００オングストローム成膜
した。得られたシートの諸特性は表１に示すとおりであ
った。また得られたシートの酸素透過率は１ｃｃ／ｍ2
・２４ｈ・ａｔｍ以下であった。
の硬化物上に、スパッタ装置（徳田製作所；形式ＣＦＳ
−４ＥＳ）にてＳｉＯ2 を２００オングストローム成膜
した。得られたシートの諸特性は表１に示すとおりであ
った。また得られたシートの酸素透過率は１ｃｃ／ｍ2
・２４ｈ・ａｔｍ以下であった。
【００４７】［実施例６］実施例１で得られた１ｍｍ厚
の硬化物上に、スパッタ装置（徳田製作所；形式ＣＦＳ
−４ＥＳ）にてＩＴＯを１５００オングストローム成膜
した。得られたシートの諸特性は表１に示すとおりであ
った。また得られたシートの表面抵抗値は３０Ω／□で
あった。
の硬化物上に、スパッタ装置（徳田製作所；形式ＣＦＳ
−４ＥＳ）にてＩＴＯを１５００オングストローム成膜
した。得られたシートの諸特性は表１に示すとおりであ
った。また得られたシートの表面抵抗値は３０Ω／□で
あった。
【００４８】［実施例７］実施例１で得られた１ｍｍ厚
の硬化物上に、スパッタ装置（徳田製作所；形式ＣＦＳ
−４ＥＳ）にてＳｉＯ2 を２００オングストローム成膜
し、さらにその上に同じ装置を用いてＩＴＯを１５００
オングストローム成膜した。得られたシートの諸特性は
表１に示すとおりであった。また得られたシートの酸素
透過率は１ｃｃ／ｍ2 ・２４ｈ・ａｔｍ以下であり、表
面抵抗値は３０Ω／□であった。
の硬化物上に、スパッタ装置（徳田製作所；形式ＣＦＳ
−４ＥＳ）にてＳｉＯ2 を２００オングストローム成膜
し、さらにその上に同じ装置を用いてＩＴＯを１５００
オングストローム成膜した。得られたシートの諸特性は
表１に示すとおりであった。また得られたシートの酸素
透過率は１ｃｃ／ｍ2 ・２４ｈ・ａｔｍ以下であり、表
面抵抗値は３０Ω／□であった。
【００４９】［比較例１］ビス（オキシメチル）トリシ
クロ［５．２．１．０2,6 ］デカン＝ジメタクリレート
１００部を用いて、メルカプト化合物及びビスフェノー
ルＡ骨格ジ（メタ）アクリレートを配合せず、実施例１
と同様にして硬化物を得た。硬化物の諸特性は表１に示
すとおりであった。
クロ［５．２．１．０2,6 ］デカン＝ジメタクリレート
１００部を用いて、メルカプト化合物及びビスフェノー
ルＡ骨格ジ（メタ）アクリレートを配合せず、実施例１
と同様にして硬化物を得た。硬化物の諸特性は表１に示
すとおりであった。
【００５０】［比較例２］ビス（オキシメチル）トリシ
クロ［５．２．１．０2,6 ］デカン＝ジメタクリレート
９５部、ペンタエリスリトールテトラキス（β−チオプ
ロピオネート）５部を用いて、ビスフェノールＡ骨格ジ
（メタ）アクリレートを配合せず、実施例１と同様にし
て硬化物を得た。硬化物の諸特性は表１に示すとおりで
あった。
クロ［５．２．１．０2,6 ］デカン＝ジメタクリレート
９５部、ペンタエリスリトールテトラキス（β−チオプ
ロピオネート）５部を用いて、ビスフェノールＡ骨格ジ
（メタ）アクリレートを配合せず、実施例１と同様にし
て硬化物を得た。硬化物の諸特性は表１に示すとおりで
あった。
【００５１】［比較例３］ビス（オキシメチル）トリシ
クロ［５．２．１．０2,6 ］デカン＝ジメタクリレート
６０部、ペンタエリスリトールテトラキス（β−チオプ
ロピオネート）、ビスフェノールＡビス［（オキシエチ
ル）エーテル］＝ジメタクリレート２０部を用いた以外
は実施例１と同様にして硬化物を得た。硬化物の諸特性
は表１に示すとおりであった。
クロ［５．２．１．０2,6 ］デカン＝ジメタクリレート
６０部、ペンタエリスリトールテトラキス（β−チオプ
ロピオネート）、ビスフェノールＡビス［（オキシエチ
ル）エーテル］＝ジメタクリレート２０部を用いた以外
は実施例１と同様にして硬化物を得た。硬化物の諸特性
は表１に示すとおりであった。
【００５２】
【表１】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５００
Claims (7)
- 【請求項１】 下記の成分Ａ、成分Ｂ、及び、成分Ｃを
含有する樹脂組成物を成形し、光重合硬化してなること
を特徴とする低複屈折光学部材。 成分（Ａ）：下記一般式［Ｉ］で示される脂環式炭化水
素骨格ビス（メタ）アクリレート３２〜９４．９重量
部。 【化１】 ［Ｒ1 およびＲ2 は、同一でも異なってもよく、それぞ
れ水素又はＣＨ3 、ｐは１又は２の整数、ｑは０又は
１］ 成分（Ｂ）：下式［II］、［III ］及び［IV］より選ば
れる少なくとも１種のメルカプト化合物０．１〜８重量
部。 【化２】 ［Ｒ3 は−ＣＨ2 −又は−ＣＨ2 ＣＨ2 −を示し、Ｒ4
はＣ2-15炭化水素残基又はアルキルエーテル残基、ａは
２〜６の整数］ 【化３】 ［ＸはＨＳ−（ＣＨ2 −）b （ＣＯ）−（ＯＣＨ2 ＣＨ
2 ）d −（ＣＨ2 ）c −（ｂ、ｄは１〜８の整数、ｃは
０〜２）］ 【化４】 ［Ｒ5 は酸素を含んでもよい炭化水素基、ｅは２以上の
整数］ 成分（Ｃ）：下記一般式［Ｖ］で示されるビスフェノー
ルＡ骨格ビス（メタ）アクリレート５〜６０重量部。 【化５】 ［Ｒ6 〜Ｒ9 は、同一でも異なってもよく、それぞれ水
素又はＣＨ3 又はハロゲン原子、Ｒ10、Ｒ11は、同一で
も異なってもよく、それぞれ水素又はＣＨ3 、ｒおよび
ｓは０〜７の整数であり、同一でも異なってもよい］ - 【請求項２】 低複屈折光学部材が液晶表示パネル用板
である請求項１記載の低複屈折光学部材。 - 【請求項３】 樹脂組成物成形体表面にガスバリア膜が
成膜されてなる請求項１記載の低複屈折光学部材。 - 【請求項４】 樹脂組成物成形体表面に透明電極が成膜
されてなる請求項１記載の低複屈折光学部材。 - 【請求項５】 樹脂組成物成形体表面にガスバリア膜と
透明電極膜が積層されてなる請求項１記載の低複屈折光
学部材。 - 【請求項６】 下記成分Ａ、成分Ｂ、及び、成分Ｃを含
有することを特徴とする低複屈折光学部材用樹脂組成
物。 成分（Ａ）：下記一般式［Ｉ］で示される脂環式炭化水
素骨格ビス（メタ）アクリレート３２〜９４．９重量
部。 【化６】 ［Ｒ1 およびＲ2 は、同一でも異なってもよく、それぞ
れ水素又はＣＨ3 、ｐは１又は２の整数、ｑは０又は
１］ 成分（Ｂ）：下式［II］、［III ］及び［IV］より選ば
れる少なくとも１種のメルカプト化合物０．１〜８重量
部。 【化７】 ［Ｒ3 は−ＣＨ2 −又は−ＣＨ2 ＣＨ2 −を示し、Ｒ4
はＣ2-15炭化水素残基又はアルキルエーテル残基、ａは
２〜６の整数］ 【化８】 ［ＸはＨＳ−（ＣＨ2 −）b （ＣＯ）−（ＯＣＨ2 ＣＨ
2 ）d −（ＣＨ2 ）c −（ｂ、ｄは１〜８の整数、ｃは
０〜２）］ 【化９】 ［Ｒ5 は酸素を含んでもよい炭化水素基、ｅは２以上の
整数］ 成分（Ｃ）：下記一般式［Ｖ］で示されるビスフェノー
ルＡ骨格ビス（メタ）アクリレート５〜６０重量部。 【化１０】 ［Ｒ6 〜Ｒ9 は、同一でも異なってもよく、それぞれ水
素又はＣＨ3 又はハロゲン原子、Ｒ10、Ｒ11は、同一で
も異なってもよく、それぞれ水素又はＣＨ3 、ｒおよび
ｓは０〜７の整数であり、同一でも異なってもよい］ - 【請求項７】 下記の成分Ａ、成分Ｂ、及び、成分Ｃを
含有する樹脂組成物を成形し、活性エネルギー線を照射
して光重合硬化することを特徴とする低複屈折光学部材
の製造方法。 成分（Ａ）：下記一般式［Ｉ］で示される脂環式炭化水
素骨格ビス（メタ）アクリレート３２〜９４．９重量
部。 【化１１】 ［Ｒ1 およびＲ2 は、同一でも異なってもよく、それぞ
れ水素又はＣＨ3 、ｐは１又は２の整数、ｑは０又は
１］ 成分（Ｂ）：下式［II］、［III ］及び［IV］より選ば
れる少なくとも１種のメルカプト化合物０．１〜８重量
部。 【化１２】 ［Ｒ3 は−ＣＨ2 −又は−ＣＨ2 ＣＨ2 −を示し、Ｒ4
はＣ2-15炭化水素残基又はアルキルエーテル残基、ａは
２〜６の整数］ 【化１３】 ［ＸはＨＳ−（ＣＨ2 −）b （ＣＯ）−（ＯＣＨ2 ＣＨ
2 ）d −（ＣＨ2 ）c −（ｂ、ｄは１〜８の整数、ｃは
０〜２）］ 【化１４】 ［Ｒ5 は酸素を含んでもよい炭化水素基、ｅは２以上の
整数］ 成分（Ｃ）：下記一般式［Ｖ］で示されるビスフェノー
ルＡ骨格ビス（メタ）アクリレート５〜６０重量部。 【化１５】 ［Ｒ6 〜Ｒ9 は、同一でも異なってもよく、それぞれ水
素又はＣＨ3 又はハロゲン原子、Ｒ10、Ｒ11は、同一で
も異なってもよく、それぞれ水素又はＣＨ3 、ｒおよび
ｓは０〜７の整数であり、同一でも異なってもよい］
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02562198A JP3901822B2 (ja) | 1998-02-06 | 1998-02-06 | 低複屈折光学部材、その成形用樹脂組成物及び光学部材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP02562198A JP3901822B2 (ja) | 1998-02-06 | 1998-02-06 | 低複屈折光学部材、その成形用樹脂組成物及び光学部材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11223703A true JPH11223703A (ja) | 1999-08-17 |
| JP3901822B2 JP3901822B2 (ja) | 2007-04-04 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3901822B2 (ja) |
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| US7074463B2 (en) | 2003-09-12 | 2006-07-11 | 3M Innovative Properties Company | Durable optical element |
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- 1998-02-06 JP JP02562198A patent/JP3901822B2/ja not_active Expired - Fee Related
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