JPH11223702A - 低複屈折光学部材、その成形用樹脂組成物及び光学部材の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 軽量で低複屈折かつ透明性、耐熱性、機械強
度特に耐衝撃性に優れ、吸水率の低い低屈折光学部材、
その製造法及び成形用組成物の提供。 【解決手段】 下記の成分Ａ、成分Ｂ、及び、成分Ｃを
含有する樹脂組成物を成形し、光重合硬化してなること
を特徴とする低複屈折光学部材。 成分（Ａ）：脂環式炭化水素骨格ビスメタアクリレート 成分（Ｂ）：脂環式炭化水素骨格ビスアクリレート 成分（Ｃ）：特定構造のメルカプト化合物

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光学用部材、その中
でも特に液晶表示パネルに適した高耐衝撃性低複屈折光
学部材に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来使用されている液晶表示用パネルは
ガラス板を基板とするものであるが、このようなパネル
ではガラスの低密度化と機械的強度の向上に関して限界
があるため現在要望されている軽量、薄型化に対応が難
しい。また生産性の向上に関しても成形性、加工性の観
点から問題点が指摘されており、プラスチックを基板と
して用いたパネルに注目が集まっている。しかし、この
様なプラスチック基板には下記のような問題点が挙げら
れる。 液晶表示に適した透明性と光学的等方性に欠ける。 耐熱性に劣る。

【０００３】特に光学的等方性に関しては、ガラス板の
複屈折Δｎ・ｄが１ｎｍ以下であるのに対し、プラスチ
ック板では１０ｎｍを超えているのが現状である。この
複屈折性の問題は、なんらかの延伸操作あるいは材料の
流動操作が樹脂になされる成型法ではそれを解消するの
は難しく、また比較的厚い基板（たとえば０．４ｍｍ以
上）を使用する際には熱可塑性樹脂の押し出しやベルト
成形では成形が困難である。一方熱硬化性樹脂を用いた
場合には、成形時間が数時間かかるという生産上の問題
がある。

【０００４】この問題を解決する手段として、分子内に
２個以上のラジカル反応性不飽和結合を有する（メタ）
アクリレート化合物と分子内に２個以上のチオール基を
有するメルカプト化合物よりなる樹脂組成物を、光ラジ
カル重合開始剤の存在下活性エネルギー線により重合硬
化させることにより低複屈折光学部材を得る方法が提案
されている（特願平８−９０９２８）。この系はガラス
基板と比較して耐衝撃性に優れており、液晶表示パネル
の基板として好ましいものの、成形・加工工程において
なお破損するおそれがあるため、生産性が一定以上向上
しない問題があった。特にＡ３サイズ以上の大面積シー
トの成形後の脱型工程において、基板の機械強度不足に
よるワレやカケは、歩留まりを低下させる大きな要因で
あった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、軽量で低複
屈折であり、かつ透明性、耐熱性、機械強度特に耐衝撃
性に優れ、吸水率の低い低複屈折光学部材、特に液晶パ
ネルに適する低複屈折光学部材、その製造方法、およ
び、低複屈折光学部材成形用樹脂組成物を提供すること
にある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記問題点
を解決するために鋭意検討を行った結果、分子内に２個
以上のラジカル反応性不飽和結合を有する脂環式炭化水
素骨格メタクリレート化合物と、同様に分子内に２個以
上のラジカル反応性不飽和結合を有する脂環式炭化水素
骨格アクリレート化合物と、更に分子内に２個以上のチ
オール基を有するメルカプト化合物よりなる樹脂組成物
を活性エネルギー線により重合硬化させることにより目
的とする高耐衝撃性低複屈折光学部材が得られることを
見いだし、本発明に到達した。すなわち、本発明は、 下記の成分Ａ、成分Ｂ、及び、成分Ｃを含有する樹
脂組成物を成形し、光重合硬化してなることを特徴とす
る低複屈折光学部材。 成分（Ａ）：下記一般式［Ｉ］で示される脂環式炭化水
素骨格ビス（メタ）アクリレート３２〜９４．９重量
部。

【０００７】

【化１６】

【０００８】［Ｒ¹ 、Ｒ² は同一でも異なってもよく、
それぞれ水素又はＣＨ₃ （ただしＲ¹、Ｒ² ともに水素
であってはならない）、ｐは１又は２の整数、ｑは０又
は１］ 成分（Ｂ）：下記一般式［II］で示される脂環式炭化水
素骨格ビスアクリレート５〜６０重量部。

【０００９】

【化１７】

【００１０】［ｒは１又は２の整数、ｓは０又は１］ 成分（Ｃ）：下式［III ］、［IV］及び［Ｖ］より選ば
れる少なくとも１種のメルカプト化合物０．１〜８重量
部。

【００１１】

【化１８】

【００１２】［Ｒ³ は−ＣＨ₂ −又は−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −
を示し、Ｒ⁴ はＣ_2-15炭化水素残基又はアルキルエーテ
ル残基、ａは２〜６の整数］

【００１３】

【化１９】

【００１４】［ＸはＨＳ−（ＣＨ₂ −）_b （ＣＯ）−
（ＯＣＨ₂ ＣＨ₂ ）_d −（ＣＨ₂ ）_c −（ｂ、ｄは１〜
８の整数、ｃは０〜２）］

【００１５】

【化２０】

【００１６】［Ｒ⁵ は酸素を含んでもよい炭化水素基、
ｅは２以上の整数］ 上記成分Ａ、成分Ｂ、及び成分Ｃを含有することを
特徴とする低複屈折光学部材成形用樹脂組成物、及び、 上記成分Ａ、成分Ｂ、及び成分Ｃを含有する樹脂組
成物を成形し、活性エネルギー線を照射して光重合硬化
することを特徴とする低複屈折光学部材の製造方法、を
提供することにある。

【００１７】

【発明の実施の形態】本発明は、特定の脂環式炭化水素
骨格ビスメタクリレート単量体と特定の脂環式炭化水素
骨格ビスアクリレート単量体及び特定のメルカプト化合
物とを含有する重合性組成物及びそれを光重合硬化して
形成された低複屈折光学部材並びにその製造法に関す
る。ここで「含有する」ということは、本発明の趣旨を
損なわない限り補助成分を含んでもよいことを意味する
ものである。

【００１８】すなわち、本発明で特定する成分と共重合
可能な他の単量体を、具体的にはたとえばこの特定の３
成分の１００重量部につき３０重量部程度までの量で、
併用してもよいことを意味する。また各成分は、成分間
及び（又は）成分内においてその複数を併用してもよ
い。 ＜成分（Ａ）：ビス（メタ）アクリレート＞成分（Ａ）
は、式［Ｉ］で示される脂環式炭化水素骨格ビス（メ
タ）アクリレートである。

【００１９】

【化２１】

【００２０】式中の記号は、下記の意味を持つ。Ｒ¹ 、
Ｒ² は同一でも異なってもよく、それぞれ水素又はＣＨ
₃ （ただしＲ¹、Ｒ² とともに水素であってはならな
い） ｐ：１又は２の整数。ｑ：０又は１。

【００２１】式［Ｉ］に示される脂環式炭化水素骨格ビ
ス（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、ビス
（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^2,6 ］デ
カン＝ジメタクリレート、ビス（オキシメチル）トリシ
クロ［２．２．１．０^2,6 ］デカン＝アクリレートメタ
クリレート及びこれらの混合物、ビス（オキシメチル）
ペンタシクロ［６．５．１．１^3,6 ．０^2,7 ．０^9,13］
ペンタデカン＝ジメタクリレート、ビス（オキシメチ
ル）ペンタシクロ［６．５．１．１^3,6 ．０^2,7．０
^9,13］ペンタデカン＝アクリレートメタクリレート及び
これらの混合物等が挙げられる。これらのトリシクロデ
カン化合物及びペンタシクロデカン化合物は、群内及び
（又は）群間で２種以上併用してもよい。これらの化合
物は、たとえば特開昭６２−２２５５０８号公報に示さ
れている手法で合成することができる。

【００２２】＜成分（Ｂ）：ビスアクリレート＞成分
（Ｂ）は、式［II］で示される脂環式炭化水素骨格アク
リレートである。

【００２３】

【化２２】

【００２４】式中の記号は、下記の意味を持つ。 ｒ：１又は２の整数。ｓ：０又は１。式［II］に示され
る脂環式炭化水素骨格ビスアクリレート化合物の具体例
としては、ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．
１．０^2,6 ］デカン＝ジメタクリレート、ビス（オキシ
メチル）ペンタシクロ［６．５．１．１^3,6 ．０^2,7．
０^9,13］ペンタデカン＝ジアクリレート等が挙げられ
る。これらの化合物は単独で使用してもよいし、２種以
上を併用してもよい。これらの化合物は、たとえば特開
昭６２−２２５５０８号公報に示されている手法で合成
することができる。

【００２５】本発明は成分（Ｂ）の脂環式炭化水素骨格
アクリレートを共重合させることを特徴とする。前記成
分（Ａ）の脂環式炭化水素骨格ビス（メタ）アクリレー
トは、それ単独でも重合させることができるが、得られ
る硬化樹脂は耐衝撃性などの機械強度に劣り、また
複屈折が大きい欠点がある。成分（Ｂ）の脂環式炭化水
素骨格アクリレートを配合することにより、硬化物の耐
衝撃性等の機械強度を飛躍的に向上させることができ、
上記のの問題点を解決することができる。

【００２６】その性能発現のメカニズムは必ずしも明ら
かではないが、成分（Ｂ）の（メタ）アクリレートと成
分（Ａ）のアクリレートの反応速度が異なるため、重合
が比較的に穏やかに進行し、重合硬化後に残留する歪み
エネルギーが３次元網目構造内に広く分散することによ
り、耐衝撃性等の機械物性が向上すると推定される。本
発明における脂環式炭化水素骨格アクリレートの組成割
合は、全モノマー成分１００重量部に対し５〜６０重量
部、好ましくは８〜５０重量部、更に好ましくは８〜４
０重量部である。脂環式炭化水素骨格アクリレートの割
合が少なすぎると硬化樹脂の耐衝撃性等の機械強度を向
上させる効果がえられなくなるし、逆に多すぎると硬化
反応速度が大きくなりすぎ光学歪みが増大するので好ま
しくない。

【００２７】＜成分（Ｃ）：メルカプト化合物＞成分
（Ｃ）は式［III ］、［IV］及び［Ｖ］で示される分子
内に２個以上のチオール基を有するメルカプト化合物よ
り選ばれる少なくとも１種のメルカプト化合物である。

【００２８】

【化２３】

【００２９】式中の記号は、下記の意味を表わす。 Ｒ³ ：メチレン基またはエチレン基。Ｒ⁴ ：エーテル酸
素、チオエーテル硫黄を含んでもよい炭素数２〜１５の
炭化水素残基。好ましくは炭素数２〜６の炭化水素残
基。 ａ：２〜６の整数。 Ｘ：ＨＳ−（ＣＨ₂ −）_b （ＣＯ）−（ＯＣＨ₂ Ｃ
Ｈ₂ ）_d −（ＣＨ₂ ）_c − （ｂ、ｄは１〜８の整数、ｃは０〜２）］ Ｒ⁵ ：酸素を含んでもよい炭化水素基。 ｅ：２以上の整数。

【００３０】式［III ］に示されるメルカプト化合物
は、２〜６価のチオグリコール酸エステル又はチオプロ
ピル酸エステルである。式［III ］の化合物の具体例と
しては、たとえばペンタエリスリトールテトラキス（β
−チオプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラ
キス（チオグリコレート）、トリメチロールプロパント
リス（β−チオプロピオネート）、トリメチロールプロ
パントリス（チオグリコレート）、ジエチレングリコー
ルビス（β−チオプロピオネート）、ジエチレングリコ
ールビス（チオグリコレート）、トリエチレングリコー
ルビス（β−チオプロピオネート）、トリエチレングリ
コール（チオグリコレート）、ジペンタエリスリトール
ヘキサキス（β−チオプロピオネート）、ジペンタエリ
スリトールヘキサキス（チオグリコレート）等が挙げら
れる。

【００３１】式［IV］の化合物は、ω−ＳＨ基含有イソ
シアヌレートである。式［IV］の化合物の具体例として
は、たとえば、トリス［２−（β−チオプロピオニルオ
キシ）エチル］イソシアヌレート、トリス（２−チオグ
リコニルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス［２
−（β−チオグリコニルオキシエトキシ）エチル］イソ
シアヌレート、トリス（２−チオグリコニルオキシエト
キシエチル）イソシフヌレート、トリス［３−（β−チ
オプロピオニルオキシ）プロピル］イソシアヌレート、
トリス（３−チオグリコニルオキシプロピル）イソシア
ヌレート等が挙げられる。

【００３２】式［Ｖ］で示される化合物はＳＨ基含有炭
化水素である。式［Ｖ］の化合物の具体例としては、た
とえば、ベンゼンジメルカプタン、キシリレンジメルカ
プタン、４，４′−ジメルカプトジフェニルスルフィ
ド、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルＳ
Ｈ化物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルＳＨ化
物等が挙げられる。

【００３３】前記［III ］ないし［Ｖ］で表される成分
（Ｂ）のメルカプト化合物を配合することにより、メル
カプト化合物中のチオール基が連鎖移動剤として作用
し、重合硬化をおだやかに均一に進行させ、硬化樹脂の
複屈折を大幅に軽減することができる。また前記［Ｉ］
及び［II］の脂環式炭化水素骨格ビス（メタ）アクリレ
ート化合物により形成される３次元網目構造に入り込
み、適度な靱性を付与することが可能である。本発明で
分子内に２個以上のチオール基を有する、すなわち多官
能性のメルカプト化合物を用いているため、得られる硬
化物の耐熱性を大きく損なうことなく、上記の複屈折
の問題を解決することができる。本発明におけるメルカ
プト化合物の組成割合は、全モノマー成分１００重量部
に対し０．１〜８重量部、好ましくは１〜８重量部にな
るようにする。メルカプト化合物の割合が少なすぎると
硬化樹脂の複屈折改良硬化が得られなくなるし、逆に多
すぎると硬化樹脂の耐熱性が低くなる。

【００３４】＜補助成分＞本発明による低複屈折部材は
成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含んでなる樹脂組成物
を重合硬化させてなるものであり、この樹脂組成物が少
量の補助成分を含んでもよいことは前記したところであ
る。従って本発明の低複屈折光学部材用樹脂組成物は、
その硬化前の組成物１００重量部に対し３０重量部程度
までの量でラジカル重合可能な他の単量体を混合して共
重合させて製造することも可能である。その際に用いる
他の単量体としては、たとえばメチル（メタ）アクリレ
ート、フェニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ
エチル（メタ）アクリレート、メタクリロイルオキシメ
チルテトラシクロデカン、メタクリロイルオキシメチル
テトラシクロドデセン、エチレングリコールジ（メタ）
アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、１，６−ヘキセンジオールジ（メタ）アクリレ
ート、２，２−ビス［４−（β−メタクリロイルオキシ
エトキシ）フェニル］プロパン、２，２′−ビス［４−
（β−メタクリロイルオキシエトキシ）シクロヘキシ
ル］プロパン、１，４−ビス（メタクリロイルオキシメ
チル）シクロヘキサン、トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート化合
物、スチレン、クロルスチレン、ジビニルベンゼン、α
−メチルスチレン等の核及び（または）側鎖置換および
非置換スチレン等が挙げられる。これらの他の単量体の
中でもメタクリロイルオキシメチルシクロドデカン、
２，２−ビス［４−（β−メタクリロイルオキシエトキ
シ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（β−メ
タクリロイルオキシエトキシ）シクロヘキシル］プロパ
ン、１，４−ビス（メタクリロイルオキシメチル）シク
ロヘキサン、およびこれらの混合物が特に好ましい。補
助成分としては、その他にも、酸化防止剤、紫外線吸収
剤、染顔料、充填剤、可塑剤、チクソトロピック性付与
剤、離型剤、消泡剤、レベリング剤などがある。

【００３５】＜重合硬化＞本発明における成分Ａ、Ｂお
よびＣからなる樹脂組成物は成形されて硬化される。そ
の硬化は、紫外線等の活性エネルギー線によりラジカル
を発生する光重合開始剤を添加する公知のラジカル重合
により行う。その際に用いる光重合開始剤としては、た
とえばベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインイソプロピルエーテル、ジエトキシアセトフェ
ノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、
２，６−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキ
シド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホ
スフィンオキシド等が挙げられる。好ましい光重合開始
剤としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェ
ニルホスフィンオキシドＭ、ベンゾフェノンである。

【００３６】光重合開始剤は２種以上を併用してもよ
い。これらの光重合開始剤の添加量は、モノマー１００
重量部に対し０．０１〜１重量部、好ましくは０．０２
〜０．３重量部である。光重合開始剤の添加量が多すぎ
ると、重合が急激に進行し複屈折の増大をもたらすだけ
でなく色相も悪化する。また少なすぎると組成物を十分
に硬化させることができなくなる。照射する活性エネル
ギー線の量は、光重合開始剤がラジカルを発生させる範
囲であれば任意であるが、極端に少ない場合は重合が不
完全なため硬化物の耐熱性、機械特性が十分に発現され
ず、逆に極端に過剰な場合は硬化物の黄変等の光による
劣化を生じるので、モノマーの組成及び光重合開始剤の
種類、量に合わせて波長２００〜４００ｎｍの紫外線を
好ましくは０．１〜２００ｊの範囲で照射する。使用す
るランプの具体例としては、メタルハライドランプ、高
圧水銀灯ランプ等を挙げることができる。

【００３７】硬化を速やかに完了させる目的で、熱重合
を併用してもよい。すなわち光照射と同時に組成物並び
に型全体を３０〜３００℃の範囲で加熱する。この場合
は重合をよりよく完結するためにラジカル重合開始剤を
添加してもよいが、過剰な使用は複屈折の増大と色相の
悪化をもたらす。熱重合開始剤の具体例としてはベンゾ
イルパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシカーボネ
ート、ｔ−ブチルパーオキシ（２−エチルヘキサノエー
ト）等が挙げられ、使用量はモノマー１００重量部に対
して１重量部以下が好ましい。

【００３８】更に本発明において光照射によるラジカル
重合を行った後、硬化物を加熱することにより重合反応
の完結及び重合時に発生する内部歪を低減することも可
能である。加熱温度は、硬化物の組成やガラス転移温度
に合わせて適宜選択されるが、過剰な加熱は硬化物の色
相悪化をもたらすため、ガラス転移温度付近かそれ以下
の温度が好ましい。

【００３９】本発明によって得られる硬化物の表面に
は、種々の方法により、ガスバリア膜を形成することが
でき、ガスバリア付き光学部材として利用することがで
きる。ガスバリア膜としては公知のものが使用できる。
例えば、ＳｉＯｘなどのケイ素酸化物あるいはＰＶＡや
アクリル樹脂などを単層あるいは積層することが可能で
ある。

【００４０】本発明によって得られる硬化物の表面には
種々の手法により各種透明導電膜を好ましく形成するこ
とができ、透明電極付光学部材として利用することがで
きる。硬化物の表面に形成できる透明導電膜には特に制
限はないが、例えばＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｌ、Ｃ
ｒ、Ｒｈ等の金属導電膜、Ｉｎ₂ Ｏ₃ 、ＳｎＯ₂ 、Ｃｄ
₂ ＳｎＯ₄ 、ＣｄＯ等の酸化物半導電体膜が挙げられ
る。これらのうちＩｎ₂Ｏ₃ 、ＳｎＯ₂ 及びＣｄ₂ Ｓｎ
Ｏ₄ が導電性、透明性及び膜強度等の面で好ましく、さ
らにＩｎ₂ Ｏ₃ にＳｎをドープしたいわゆるＩＴＯが最
も好ましい。透明導電膜を形成する手法としては特に制
限はないが、例えばスプレー法、気相反応法（ＣＶＤ
法）、塗布法等の化学的成膜法、真空蒸着法、スパッタ
法等の物理的成膜法が挙げられる。

【００４１】本発明によって得られる光学部材は、複屈
折が小さく耐衝撃性が良好で、かつ透明性に優れる。従
って、ディスプレイパネル板、液晶パネル板、各種レン
ズ、プリズム光ファイバー、光学フィルタ、光ディスク
等多くの光学部材に用いることができる。また本発明に
よって得られる透明電極付光学部材は、透明導電膜の硬
化物表面に対する密着性に優れ、また透明性も良好であ
るので、ディスプレイパネル板や液晶パネル板等に有利
に利用できる。

【００４２】

【実施例】以下の実施例は本発明をより具体的に説明す
るためのものである。なお実施例、比較例中の部は重量
部を示す。また実施例に記載の硬化物の諸物性は下記の
試験法により測定された。 （１）光線透過率 ５００ｎｍにおける光線硬化率を測
定した。 （２）複屈折 複屈折測定装置（オーク社製）を用いて
２５℃に測定した。 （３）耐熱性 ビカット軟化試験において１２０℃以下
で圧子が０．３ｍｍ以上進入したものを×、しなかった
ものを○とした。圧子断面積１．０ｍｍ² 、荷重５ｋ
ｇ、昇温速度５０℃／Ｈｒ。 （４）曲げ弾性率 幅１ｃｍの板について支点間距離３
ｃｍにてオートグラフ試験装置を用いて２５℃で測定し
た。 （５）耐衝撃性 ４０ｍｍ角の板をサンプルとし、落球
試験機（東京精密社製）を用いて８ｇの鋼球を高さ１０
ｃｍの位置から落下させてサンプルに衝撃を与える。鋼
球を落下させる位置を１０ｃｍずつ高くし、破壊するま
で落球を繰り返す。落球衝撃強度＝（サンプルが破壊し
たときの落球高さ）−１０ｃｍとする。 （６）脱型性 脱型する際に硬化物にクラックが入った
ものを×とした。 （７）酸素透過率 ＡＳＴＮ Ｄ３９８５に準じてモダ
ンコントロール社ＯＸ−ＴＲＡＮ１００を用いて、２３
℃−８０％ＲＨ条件下で測定した。 （８）抵抗値 三菱化学製ロレスタを用いて測定した。

【００４３】［実施例１］ビス（オキシメチル）トリシ
クロ［５．２．１．０^2,6 ］デカン＝ジメタクリレート
７５部、ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．
１．０^2,6 ］デカン＝ジアクリレート２０部、ペンタエ
リスリトールテトラキス（β−チオプロピオネート）５
部、光開始剤として２，４，６−トリメチルベンゾイル
ジフェニルホスフィンオキシド（ＢＡＳＦ社製「ルシリ
ンＴＰＯ」）０．０５部、ベンゾフェノン０．０２部を
均一に攪拌混合した後、脱泡して組成物を得た。この組
成物を２枚の光学研磨ガラス板と厚さ１ｍｍのシリコン
スペーサーで構成された型に注液し、ガラス面より距離
４０ｃｍで上下にある出力８０Ｗ／ｃｍのメタルハライ
ドランプの間にて、５分間紫外線を照射した。紫外線照
射後脱型し、１２０℃で１時間加熱して硬化物を得た。
硬化物の諸特性は表１に示すとおりであった。

【００４４】［実施例２］ビス（オキシメチル）トリシ
クロ［５．２．１．０^2,6 ］デカン＝ジメタクリレート
５５部、ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．
１．０^2,6 ］デカン＝ジアクリレートメタクリレート２
０部、ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．
０^2,6 ］デカン＝ジアクリレート２０部、ペンタエリス
リトールテトラキス（β−チオプロピオネート）５部を
用いた以外は実施例１と同様にして硬化物を得た。硬化
物の諸特性は表１に示すとおりであった。

【００４５】［実施例３］ペンタエリスリトールテトラ
キス（β−チオプロピオネート）５部の代わりにペンタ
エリスリトールテトラキス（β−チオグリコート）５部
を用いた以外は実施例１と同様にして硬化物を得た。硬
化物の諸特性は表１に示すとおりであった。

【００４６】［実施例４］ペンタエリスリトールテトラ
キス（β−チオプロピオネート）５部の代わりにトリス
［２−（β−チオプロピオニルオキシ）エチル］イソシ
アヌレート５部を用いた以外は実施例１と同様にして硬
化物を得た。硬化物の諸特性は表１に示すとおりであっ
た。

【００４７】［実施例５］実施例１で得られた１ｍｍ厚
の硬化物上に、スパッタ装置（徳田製作所；形式ＣＦＳ
−４ＥＳ）にてＳｉＯ₂ を２００オングストローム成膜
した。得られたシートの諸特性は表１に示すとおりであ
った。また得られたシートの酸素透過率は１ｃｃ／ｍ²
・２４ｈ・ａｔｍであった。

【００４８】［実施例６］実施例１で得られた１ｍｍ厚
の硬化物上に、スパッタ装置（徳田製作所；形式ＣＦＳ
−４ＥＳ）にてＩＴＯを１５００オングストローム成膜
した。得られたシートの諸特性は表１に示すとおりであ
った。また得られたシートの表面抵抗値は３０Ω／□で
あった。

【００４９】［実施例７］実施例１で得られた１ｍｍ厚
の硬化物上に、スパッタ装置（徳田製作所；形式ＣＦＳ
−４ＥＳ）にてＳｉＯ₂ を２００・成膜し、さらにその
上に同じ装置を用いてＩＴＯを１５００オングストロー
ム成膜した。得られたシートの諸特性は表１に示すとお
りであった。また得られたシートの酸素透過率は１ｃｃ
／ｍ² ・２４ｈ・ａｔｍであり、表面抵抗値は３０Ω／
□であった。

【００５０】［比較例１］ビス（オキシメチル）トリシ
クロ［５．２．１．０^2,6 ］デカン＝ジメタクリレート
１００部を用いて、脂環骨格アクリケート及びメルカプ
ト化合物を配合せず、実施例１と同様にして硬化物を得
た。硬化物の諸特性は表１に示すとおりであった。

【００５１】［比較例２］ビス（オキシメチル）トリシ
クロ［５．２．１．０^2,6 ］デカン＝ジメタクリレート
９５部、ペンタエリスリトールテトラキス（β−チオプ
ロピオネート）５部を用いて、脂環骨格ジアクリレート
を配合せず、実施例１と同様にして硬化物を得た。硬化
物の諸特性は表１に示すとおりであった。

【００５２】［比較例３］ビス（オキシメチル）トリシ
クロ［５．２．１．０^2,6 ］デカン＝ジメタクリレート
６０部、ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．
１．０^2,6 ］デカン＝ジアクリレート２０部、ペンタエ
リスリトールテトラキス（β−チオプロピオネート）２
０部を用いた以外は実施例１と同様にして硬化物を得
た。硬化物の諸特性は表１に示すとおりであった。

【００５３】

【表１】

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記の成分Ａ、成分Ｂ、及び、成分Ｃを
   含有する樹脂組成物を成形し、光重合硬化してなること
   を特徴とする低複屈折光学部材。 成分（Ａ）：下記一般式［Ｉ］で示される脂環式炭化水
   素骨格ビス（メタ）アクリレート３２〜９４．９重量
   部。 【化１】 ［Ｒ¹ 、Ｒ² は同一でも異なってもよく、それぞれ水素
   又はＣＨ₃ （ただしＲ¹、Ｒ² ともに水素であってはな
   らない）、ｐは１又は２の整数、ｑは０又は１］ 成分（Ｂ）：下記一般式［II］で示される脂環式炭化水
   素骨格ビスアクリレート５〜６０重量部。 【化２】 ［ｒは１又は２の整数、ｓは０又は１］ 成分（Ｃ）：下式［III ］、［IV］及び［Ｖ］より選ば
   れる少なくとも１種のメルカプト化合物０．１〜８重量
   部。 【化３】 ［Ｒ³ は−ＣＨ₂ −又は−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −を示し、Ｒ⁴
   はＣ_2-15炭化水素残基又はアルキルエーテル残基、ａは
   ２〜６の整数］ 【化４】 ［ＸはＨＳ−（ＣＨ₂ −）_b （ＣＯ）−（ＯＣＨ₂ ＣＨ
   ₂ ）_d −（ＣＨ₂ ）_c −（ｂ、ｄは１〜８の整数、ｃは
   ０〜２）］ 【化５】 ［Ｒ⁵ は酸素を含んでもよい炭化水素基、ｅは２以上の
   整数］
2. 【請求項２】 低複屈折光学部材が液晶表示パネル用板
   である請求項１記載の低複屈折光学部材。
3. 【請求項３】 樹脂組成物成形体表面にガスバリア膜が
   成膜されてなる請求項１記載の低複屈折光学部材。
4. 【請求項４】 樹脂組成物成形体表面に透明電極が成膜
   されてなる請求項１記載の低複屈折光学部材。
5. 【請求項５】 樹脂組成物成形体表面にガスバリア膜と
   透明電極膜が積層されてなる請求項１記載の低複屈折光
   学部材。
6. 【請求項６】 下記成分Ａ、成分Ｂ、及び、成分Ｃを含
   有する低複屈折光学部材用樹脂組成物。 成分（Ａ）：下記一般式［Ｉ］で示される脂環式炭化水
   素骨格ビス（メタ）アクリレート３２〜９４．９重量
   部。 【化６】 ［Ｒ¹ 、Ｒ² は同一でも異なってもよく、それぞれ水素
   又はＣＨ₃ （ただしＲ¹、Ｒ² ともに水素であってはな
   らない）、ｐは１又は２の整数、ｑは０又は１］ 成分（Ｂ）：下記一般式［II］で示される脂環式炭化水
   素骨格ビスアクリレート５〜６０重量部。 【化７】 ［ｒは１又は２の整数、ｓは０又は１］ 成分（Ｃ）：下式［III ］、［IV］及び［Ｖ］より選ば
   れる少なくとも１種のメルカプト化合物０．１〜８重量
   部。 【化８】 ［Ｒ³ は−ＣＨ₂ −又は−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −を示し、Ｒ⁴
   はＣ_2-15炭化水素残基又はアルキルエーテル残基、ａは
   ２〜６の整数］ 【化９】 ［ＸはＨＳ−（ＣＨ₂ −）_b （ＣＯ）−（ＯＣＨ₂ ＣＨ
   ₂ ）_d −（ＣＨ₂ ）_c −（ｂ、ｄは１〜８の整数、ｃは
   ０〜２）］ 【化１０】 ［Ｒ⁵ は酸素を含んでもよい炭化水素基、ｅは２以上の
   整数］
7. 【請求項７】 下記の成分Ａ、成分Ｂ、及び、成分Ｃを
   含有する樹脂組成物を成形し、活性エネルギー線を照射
   して光重合硬化することを特徴とする低複屈折光学部材
   の製造方法。 成分（Ａ）：下記一般式［Ｉ］で示される脂環式炭化水
   素骨格ビス（メタ）アクリレート３２〜９４．９重量
   部。 【化１１】 ［Ｒ¹ 、Ｒ² は同一でも異なってもよく、それぞれ水素
   又はＣＨ₃ （ただしＲ¹、Ｒ² ともに水素であってはな
   らない）、ｐは１又は２の整数、ｑは０又は１］ 成分（Ｂ）：下記一般式［II］で示される脂環式炭化水
   素骨格ビスアクリレート５〜６０重量部。 【化１２】 ［ｒは１又は２の整数、ｓは０又は１］ 成分（Ｃ）：下式［III ］、［IV］及び［Ｖ］より選ば
   れる少なくとも１種のメルカプト化合物０．１〜８重量
   部。 【化１３】 ［Ｒ³ は−ＣＨ₂ −又は−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −を示し、Ｒ⁴
   はＣ_2-15炭化水素残基又はアルキルエーテル残基、ａは
   ２〜６の整数］ 【化１４】 ［ＸはＨＳ−（ＣＨ₂ −）_b （ＣＯ）−（ＯＣＨ₂ ＣＨ
   ₂ ）_d −（ＣＨ₂ ）_c −（ｂ、ｄは１〜８の整数、ｃは
   ０〜２）］ 【化１５】 ［Ｒ⁵ は酸素を含んでもよい炭化水素基、ｅは２以上の
   整数］