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JPH11220003A - Wafer holding device - Google Patents

Wafer holding device

Info

Publication number
JPH11220003A
JPH11220003A JP10022000A JP2200098A JPH11220003A JP H11220003 A JPH11220003 A JP H11220003A JP 10022000 A JP10022000 A JP 10022000A JP 2200098 A JP2200098 A JP 2200098A JP H11220003 A JPH11220003 A JP H11220003A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
hand
cassette
movable claw
light receiving
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP10022000A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Makimoto
博之 槙本
Masaki Sakaguchi
勝紀 坂口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shinmaywa Industries Ltd
Original Assignee
Shin Meiva Industry Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Meiva Industry Ltd filed Critical Shin Meiva Industry Ltd
Priority to JP10022000A priority Critical patent/JPH11220003A/en
Publication of JPH11220003A publication Critical patent/JPH11220003A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 ウエハ処理工程で生じたカセットの変形や各
ウエハの引掛かりにより、その収容位置にばらつきがあ
っても、それらウエハを確実に把持して取り出すように
する。 【解決手段】 ハンド1の前進により、可動爪支持体2
0の前端面にてウエハW外周縁部を押圧してウエハWを
カセットCの内奥面C1に当接する位置まで移動させ、
その状態で可動爪支持体20が後退移動して、前側の板
ばね19が前側発光部25Fから前側受光部27Fに至
る光路LFを遮断せず、かつ後側の板ばね19が後側発
光部25Rから後側受光部27Rに至る光路LRを遮る
位置まで変位した状態を、各ウエハWを把持可能な正常
位置と判別する。
(57) [Summary] (Problem corrected) [PROBLEMS] To reliably hold and take out wafers even if their accommodation positions vary due to deformation of a cassette or hooking of each wafer caused in a wafer processing step. To SOLUTION: A movable claw support 2 is moved by a hand 1 being advanced.
0, the outer peripheral edge of the wafer W is pressed at the front end face to move the wafer W to a position where the wafer W comes into contact with the inner back face C1 of the cassette C;
In this state, the movable claw support 20 moves backward, the front leaf spring 19 does not block the optical path LF from the front light emitting section 25F to the front light receiving section 27F, and the rear leaf spring 19 is moved to the rear light emitting section. A state in which the wafer W is displaced to a position that blocks the optical path LR from the rear light receiving unit 27R to the rear light receiving unit 27R is determined as a normal position where each wafer W can be gripped.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ウエハ把持装置に
関し、特に、カセット内に収容されたウエハを把持して
取り出すのに好適なものに関する技術分野に属する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer holding device, and more particularly to a technical field related to a device suitable for holding and taking out a wafer housed in a cassette.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、ウエハを把持して搬送するウ
エハ把持装置として、特開平7―201947号公報に
示されるように、ハンドの先端部に左右1対の固定爪を
固定する一方、ハンドの基端部の左右中央部に1つの可
動爪を前後移動可能に設けて、この可動爪のハンドに対
する相対的な前進によって固定爪との間にウエハを把持
するようにし、可動爪をばねによって前進側に付勢する
とともに、可動爪にリンク機構を介してリングに連結
し、ハンドの回転中心回りの回転動作に伴うリングの回
動によりリンク機構を介して可動爪をばねの付勢力に抗
して後退移動させるようにしたものが知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a wafer gripping device for gripping and transferring a wafer, a pair of right and left fixed claws are fixed to the distal end of a hand, as shown in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-201947. A movable claw is provided at the left and right central portion of the base end of the movable claw so as to be able to move back and forth, and the movable claw is gripped with a fixed claw by a relative advance of the movable claw with respect to the hand. Along with urging forward, the movable pawl is connected to the ring via a link mechanism, and the movable pawl resists the urging force of the spring via the link mechanism by the rotation of the ring due to the rotation operation around the rotation center of the hand. It is known to move the vehicle backward.

【0003】ところで、一般に、この種のウエハの処理
工程においては、そのウエハを収容するためにカセット
が用いられている。そして、このカセットの製造時の変
形歪みを検出する目的で、従来、例えば特開平5―47
725号や特開平2―154105号の各公報に示され
ているものが提案されている。前者(特開平5―477
25号公報)のものでは、カセットに収容するウエハと
同一形状の触知板をロボットハンドに設け、この触知板
を実際にカセットに挿入して、そのときの抵抗の有無に
基づいてカセット形状の良否を判定したり、カセットに
おけるウエハ収容用の溝部に光ビームを投射して、その
光ビームの減衰量から溝部の形状の良否を判定したりす
るようになされている。
[0003] In the process of processing wafers of this type, a cassette is generally used to accommodate the wafers. Conventionally, for the purpose of detecting deformation and distortion at the time of manufacturing the cassette, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No.
No. 725 and JP-A-2-154105 have been proposed. The former (JP-A-5-477
No. 25), a tactile plate having the same shape as the wafer accommodated in the cassette is provided on the robot hand, and this tactile plate is actually inserted into the cassette, and the cassette shape is determined based on the resistance at that time. Is determined, or a light beam is projected onto the groove for accommodating the wafer in the cassette, and the quality of the shape of the groove is determined based on the attenuation of the light beam.

【0004】一方、後者(特開平2―154105号公
報)のものでは、カセットの左右両側にウエハ収容用の
棚ピッチに合わせてマークを付け、カセットと左右の光
センサとを相対移動させて光センサによりマークの位置
を検出し、左右両側の光センサからのパルス信号の一致
の有無に基づいてカセット形状の良否を判定するように
なされている。
On the other hand, in the case of the latter (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-154105), marks are provided on both the left and right sides of the cassette in accordance with the pitch of shelves for accommodating wafers, and the cassette and the left and right optical sensors are moved relative to each other. The position of the mark is detected by a sensor, and the quality of the cassette shape is determined based on the presence or absence of coincidence of the pulse signals from the optical sensors on both the left and right sides.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来のも
のでは、いずれも、カセットそのものの変形歪みを検査
するものであるので、以下の問題を解決することは困難
である。すなわち、変形歪みの生じていない正常なカセ
ットであっても、これをウエハ処理工程でロボットによ
りハンドリングして所定位置に載置したり取り上げたり
していると、その繰返しによってカセットが徐々に変形
してくることがある。また、ロボットがカセットを無理
に押したり落下させたりしてもカセットが変形すること
もあり、このようなウエハ処理工程中のカセットの変形
に伴い、カセット内でのウエハの収容位置にばらつきが
生じる。従って、このカセット内にロボットの把持部を
挿入して、その内部に収容されているウエハをハンドに
より把持して取り出す場合、上記の如きウエハ収容位置
のばらつきがあると、そのカセット内のウエハを確実に
把持できないことがあり、ロボットの搬送作業の信頼性
が低下するという問題があった。
However, in the above-mentioned conventional devices, since the deformation of the cassette itself is inspected, it is difficult to solve the following problems. In other words, even if a normal cassette without deformation distortion is handled by a robot in the wafer processing process and is placed or picked up at a predetermined position, the cassette is gradually deformed by repetition. May come. In addition, the cassette may be deformed even if the robot forcibly pushes or drops the cassette, and the deformation of the cassette during the wafer processing process causes a variation in the wafer accommodation position in the cassette. . Therefore, when the gripping portion of the robot is inserted into the cassette and the wafers housed therein are gripped and taken out by the hand, if there is a variation in the wafer housing position as described above, the wafers in the cassette are removed. There has been a problem that the robot cannot be reliably gripped, and the reliability of the transfer operation of the robot is reduced.

【0006】また、変形歪みのない正常なカセットであ
っても、その内部に収容されるウエハが引掛ったりし
て、ウエハの位置がばらついていると、上記と同様にロ
ボットがウエハを確実に把持することはできない。
[0006] Even in a normal cassette having no deformation and distortion, if a wafer accommodated in the cassette is caught and the position of the wafer is varied, the robot surely removes the wafer as described above. It cannot be gripped.

【0007】本発明は斯かる諸点に鑑みてなされたもの
で、その目的は、上記のようなウエハ把持装置における
把持機構の構成を改良することで、カセットの変形歪み
やカセット内のウエハの引掛かりによりウエハの収容位
置がばらついていても、そのウエハを確実に把持して取
り出し得るようにすることにある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned points, and an object of the present invention is to improve the configuration of a gripping mechanism in a wafer gripping device as described above, thereby deforming a cassette and deforming a wafer in the cassette. An object of the present invention is to ensure that a wafer can be reliably grasped and taken out even if the accommodation position of the wafer varies due to the hook.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、この発明では、ロボットのハンドに可動爪を相対
移動可能に支持する可動爪支持体を利用し、ハンドの前
進動作により可動爪支持体でウエハを押圧してカセット
内の奥端部に押し付けるとともに、その押付け状態での
可動爪支持体の相対的な変位量に基づいてウエハが把持
可能であるかどうかを判別するようにした。
In order to achieve the above object, the present invention utilizes a movable claw support which supports a movable claw in a robot hand so that the movable claw can move relative to each other. The wafer is pressed by the support and pressed against the rear end in the cassette, and it is determined whether or not the wafer can be gripped based on the relative displacement of the movable claw support in the pressed state. .

【0009】具体的には、請求項1の発明では、カセッ
ト内に収容されているウエハを把持して取り出すロボッ
トに設けられるウエハ把持装置として、ロボットアーム
に連結されるハンドと、このハンドに設けられ、ハンド
先端側に固定された固定爪と、ハンド基端側に前後移動
可能に支持された可動爪とを有し、この固定爪及び可動
爪をウエハ外周部の間隔をあけた位置に係合させて該ウ
エハを把持する把持手段とを備えた構成とする。
More specifically, according to the first aspect of the present invention, a hand connected to a robot arm and a hand provided on the hand are provided as a wafer holding device provided in a robot for holding and taking out a wafer contained in a cassette. A fixed claw fixed to the distal end of the hand, and a movable claw supported to be movable back and forth at the base end of the hand. The fixed claw and the movable claw are engaged at positions spaced apart from the outer peripheral portion of the wafer. And a holding means for holding the wafer together.

【0010】そして、上記把持手段は、さらに、ハンド
の基端部にハンドの移動方向に沿って相対移動可能に支
持された移動体と、この移動体にハンドの移動方向に沿
って相対移動可能に弾性支持され、上記可動爪を支持す
るとともに、ハンドの前進移動によりウエハの外周縁部
を押圧して該ウエハをカセットの内奥面に当接する位置
まで移動させる可動爪支持体とを有するものとする。
[0010] The gripping means further includes a moving body supported at a base end of the hand so as to be relatively movable in the hand moving direction, and a relatively movable body in the moving body along the hand moving direction. A movable claw support for elastically supporting the movable claw and for pressing the outer peripheral edge of the wafer by the forward movement of the hand to move the wafer to a position where the wafer abuts on the inner surface of the cassette. And

【0011】また、上記ウエハがカセットの内奥面に当
接する位置まで移動した状態で、ハンドの前進移動に伴
って上記可動爪支持体がハンド後退方向に変位したこと
を検出する前後位置検出手段を備えた構成とする。
A front-rear position detecting means for detecting that the movable claw support is displaced in the hand retreating direction with the advance movement of the hand in a state where the wafer has moved to a position where it comes into contact with the inner surface of the cassette. The configuration is provided with.

【0012】上記の構成により、カセットに収容されて
いるウエハをハンドにより把持して取り出す場合、ハン
ドを前進させてその把持手段をカセット内のウエハ側方
に挿入する。そのとき、ハンドの前進に伴い、ハンドに
移動体を介して支持されている可動爪支持体がウエハの
外周縁部を押圧し、この可動爪支持体の押圧によってウ
エハがカセットの内奥面に当接する位置まで移動する。
この可動爪支持体はハンドの移動体に対し、ハンドの移
動方向に沿って相対移動可能に弾性支持されているの
で、上記カセットの内奥面に当接しているウエハから押
圧されると、それに伴ってハンド後退方向に変位し、こ
の変位が前後位置検出手段によって検出される。従っ
て、この前後位置検出手段による可動爪支持体の変位が
所定範囲にあると検出されたときには、ウエハ処理工程
で生じたカセットの変形歪みやカセット内のウエハの引
掛かり等により、カセット内のウエハの収容位置がばら
ついていても、そのウエハは把持手段によって把持可能
な位置にあることとなり、このウエハを確実に把持する
ことができる。
According to the above configuration, when a wafer contained in the cassette is gripped and taken out by the hand, the hand is advanced and the gripping means is inserted into a side of the wafer in the cassette. At this time, as the hand advances, the movable claw support supported by the hand via the movable body presses the outer peripheral edge of the wafer, and the wafer is pushed onto the inner back surface of the cassette by the pressing of the movable claw support. Move to the contact position.
Since the movable claw support is elastically supported so as to be relatively movable along the moving direction of the hand with respect to the moving body of the hand, when the movable claw support is pressed from the wafer in contact with the inner back surface of the cassette, the movable claw support is Accordingly, the hand is displaced in the retreating direction, and this displacement is detected by the front / rear position detecting means. Therefore, when the displacement of the movable claw support is detected by the front / rear position detecting means to be within a predetermined range, the wafer in the cassette may be deformed due to the deformation of the cassette caused in the wafer processing process or the wafer in the cassette may be caught. Even if the accommodation positions of the wafers vary, the wafer is at a position where it can be gripped by the gripping means, and the wafer can be gripped reliably.

【0013】また、上記可動爪支持体は、把持手段にお
いてウエハを把持するための可動爪を支持するものであ
るので、把持手段という既存の部材を用いてウエハを把
持可能かどうかを検出することができる。
Further, since the movable claw support supports the movable claw for holding the wafer by the holding means, it is necessary to detect whether or not the wafer can be held by using an existing member called the holding means. Can be.

【0014】尚、この後、上記把持手段がウエハを把持
し、しかる後にハンドが後退し、ウエハが把持手段によ
り把持された状態でカセット内から取り出されて搬送さ
れる。よって、ロボットの搬送作業を中断せず信頼性よ
く行うことができる。
Thereafter, the gripping means grips the wafer, and then the hand retreats, and the wafer is taken out of the cassette and transported while being gripped by the gripping means. Therefore, the transfer operation of the robot can be performed with high reliability without interruption.

【0015】請求項2の発明では、ハンドの少なくとも
左右中央の両側に、ウエハ前後方向の外周縁部の位置を
検出する左右位置検出手段を備えているものとする。こ
うすれば、例えばカセットの上部と下部とが左右にずれ
るように変形していても、その変形歪みに基づくウエハ
の左右方向のずれを左右位置検出手段の検出状態によっ
て判別でき、その変形歪みに伴うウエハの把持不能状態
を精度よく確実に検出することができる。
According to the second aspect of the present invention, it is assumed that right and left position detecting means for detecting the position of the outer peripheral edge in the front-rear direction of the wafer are provided at least on both sides of the center of the hand. In this way, for example, even if the upper part and the lower part of the cassette are deformed so as to be shifted left and right, the shift in the horizontal direction of the wafer based on the deformation distortion can be determined by the detection state of the left and right position detection means, and The state in which the wafer cannot be gripped can be accurately and reliably detected.

【0016】請求項3の発明では、上記ハンドに複数の
把持手段をハンドの進退方向と直交する方向に並んで設
ける。こうすれば、カセット内に収容されている複数の
ウエハの収容位置がばらついていても、それらウエハの
全体を同時に可動爪支持体によって押圧移動させてカセ
ット内の奥端面に当接させることができる。そして、各
ウエハが、対応する把持手段によって把持不能の位置に
あると、その各ウエハに対応する把持手段の可動爪支持
体の変位が所定範囲外になるので、ウエハを把持不能と
判別できる。特に、この発明では、複数の把持手段によ
り把持される複数のウエハを可動爪支持体が個別に同時
に押圧するので、例えばカセットの上部が下部に比べて
反開口側に傾倒するように変形していても、その変形歪
みに伴うウエハの把持不能状態を精度よく確実に検出す
ることができる。
According to the third aspect of the present invention, the hand is provided with a plurality of gripping means arranged in a direction orthogonal to the hand moving direction. With this configuration, even if the storage positions of the plurality of wafers stored in the cassette are varied, the entirety of the wafers can be simultaneously pressed and moved by the movable claw support and brought into contact with the rear end surface in the cassette. . If each wafer is at a position where it cannot be gripped by the corresponding gripping means, the displacement of the movable claw support of the gripping means corresponding to each wafer falls outside the predetermined range, so that it can be determined that the wafer cannot be gripped. In particular, in the present invention, since the movable claw support individually and simultaneously presses the plurality of wafers held by the plurality of holding means, the upper portion of the cassette is deformed so as to be inclined to the opposite opening side as compared with the lower portion. However, it is possible to accurately and reliably detect a state in which the wafer cannot be gripped due to the deformation distortion.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】図1〜図3は本発明の実施形態に
係るウエハ把持装置を示し、Cは図で右側が開口とされ
た矩形箱状のウエハ収容用カセットで、このカセットC
内には、同じ径及び厚さを有する円板形状の複数枚(例
えば25枚)のウエハW,W,…が水平状態に段積みさ
れて収容され、これら複数のウエハW,W,…はカセッ
トC内の左右側壁面に対向して突設した支持棚(図示せ
ず)によって上下方向に一定間隔(例えば10mm)を
あけて支持されている。
1 to 3 show a wafer holding device according to an embodiment of the present invention. In the drawing, reference numeral C denotes a rectangular box-shaped wafer accommodating cassette having an opening on the right side in FIG.
, A plurality of (for example, 25) disk-shaped wafers W, W,... Having the same diameter and thickness are stacked and stored in a horizontal state, and the plurality of wafers W, W,. The cassette C is supported at regular intervals (for example, 10 mm) in the vertical direction by supporting shelves (not shown) protruding from the left and right side walls in the cassette C.

【0018】1は、上記カセットC内に収容されている
ウエハW,W,…をクリーンルームで取り出して搬送す
るロボット(図示せず)のアーム先端に連結されるハン
ドであって、このハンド1はハンド本体2を有する。こ
のハンド本体2には複数の把持機構4,4,…がハンド
1の進退方向と直交する方向である上下方向に並んで設
けられ、これらの把持機構4,4,…は後述の固定爪
7,7及び可動爪22を上記各ウエハWの外周縁部の間
隔をあけた位置に係合させて該ウエハWをそれぞれ把持
するものである。
Reference numeral 1 denotes a hand connected to the end of an arm of a robot (not shown) for taking out and transferring wafers W, W,... Stored in the cassette C in a clean room. It has a hand body 2. The hand main body 2 is provided with a plurality of gripping mechanisms 4, 4,... Arranged in a vertical direction which is a direction orthogonal to the advance / retreat direction of the hand 1. These gripping mechanisms 4, 4,. , 7 and the movable claw 22 are engaged with the outer peripheral edge of each wafer W at a distance from each other to grip the wafer W.

【0019】上記複数の把持機構4,4,…は互いに同
じ構成のもので、いずれも、基端部がハンド本体2に固
定されかつ中央に軽量化のための開口5aを有する薄板
状の支持板5を有する。この各支持板5先端部の左右両
側にはそれぞれ2つの固定爪7,7が取り付けられ、こ
の各固定爪7は、上側溝面が下側溝面よりも短くて略後
側に開放された断面V字状の係合溝8を有しており、こ
の両固定爪7,7によりその各係合溝8にて各ウエハW
のカセット内奥側の左右両側外周縁部を係合するように
している。また、各支持板5の基端寄りの左右両側には
各ウエハWのカセット開口側の外周縁部を載置する左右
1対の載置板10,10が取り付けられている。
Each of the plurality of gripping mechanisms 4, 4,... Has the same configuration, and each has a base end fixed to the hand body 2 and a thin plate-shaped support having an opening 5a at the center for reducing weight. It has a plate 5. Two fixed claws 7, 7 are respectively attached to the left and right sides of the front end of each support plate 5, and each fixed claw 7 has a cross section in which the upper groove surface is shorter than the lower groove surface and is opened substantially rearward. Each of the fixing claws 7 has a V-shaped engagement groove 8, and each wafer W
The outer peripheral edges on the left and right sides on the inner side of the cassette are engaged with each other. A pair of left and right mounting plates 10 for mounting the outer peripheral edge of each wafer W on the cassette opening side is attached to the left and right sides near the base end of each support plate 5.

【0020】一方、ハンド本体2の左右中央部には、そ
のハンド本体2から上記支持板5,5,…の基端寄りの
左右中央部に亘って上下方向に貫通する開口部12が形
成され、この開口部12内には中央に開口を有する矩形
枠状の移動体14がハンド本体2の進退方向(前後方
向)に沿って相対移動可能に配置支持されている。この
移動体14は、ハンド本体2に取付固定したアクチュエ
ータとしての前後方向に延びるシリンダ15のピストン
ロッド15aに対し、左右方向に延びる連結板16及び
前後方向に延びる連結ロッド17を介して連結支持され
ており、シリンダ15の伸縮作動により移動体14をハ
ンド本体2に対し相対的に前後移動させ、シリンダ15
の収縮作動により移動体14を前進させる一方、シリン
ダ15の伸長作動により移動体14を後退させるように
している。
On the other hand, an opening 12 penetrating in the vertical direction is formed in the left and right central portions of the hand main body 2 from the hand main body 2 to the left and right central portions near the base ends of the support plates 5, 5,. In the opening 12, a rectangular frame-shaped moving body 14 having an opening at the center is arranged and supported so as to be relatively movable along the advancing / retreating direction (front-back direction) of the hand main body 2. The moving body 14 is connected and supported to a piston rod 15a of a cylinder 15 extending in the front-rear direction as an actuator attached and fixed to the hand main body 2 via a connecting plate 16 extending in the left-right direction and a connecting rod 17 extending in the front-rear direction. The moving body 14 is moved back and forth relative to the hand main body 2 by the expansion and contraction operation of the cylinder 15,
The moving body 14 is moved forward by the contraction operation of the moving body 14, while the moving body 14 is moved backward by the extending operation of the cylinder 15.

【0021】上記移動体14の左側の縦枠部には上記各
支持板5の下側に対応した位置に、それぞれ弾性手段と
しての前後1対の板ばね19,19の基端部が取付固定
されている。これら両板ばね19,19は移動体14の
右側の縦枠部に向かって互いに平行に水平に延び、その
先端部には各支持板5の下側でかつ移動体14内の開口
の左右中央に位置する矩形板状の可動爪支持体20が取
付固定されている。つまり、この可動爪支持体20は、
移動体14に対しハンド1の進退方向に沿って相対移動
可能に弾性支持されており、ハンド1を前進移動させて
各把持機構4をカセットC内における各ウエハWの上側
空間に挿入した際、可動爪支持体20の先端面(前端
面)により、対応するウエハWのカセット開口側の外周
縁部を押圧して複数のウエハW,W,…の全体を同時
に、カセットCの内奥面C1に当接する位置まで移動さ
せ、さらに、この当接により各ウエハWが移動規制され
た状態でハンド1を前進させると、可動爪支持体20が
ウエハWからの押圧によりハンド1の後退方向に変位す
るようになっている。
At the left vertical frame portion of the moving body 14, base ends of a pair of front and rear leaf springs 19, 19 as elastic means are attached and fixed at positions corresponding to the lower sides of the support plates 5, respectively. Have been. The two leaf springs 19 extend horizontally in parallel with each other toward the right vertical frame portion of the moving body 14, and the leading end thereof is located below each support plate 5 and at the left and right center of the opening in the moving body 14. Is fixedly mounted. That is, the movable claw support 20 is
When the hand 1 is moved forward and each gripping mechanism 4 is inserted into the space above each wafer W in the cassette C, it is elastically supported so as to be relatively movable along the moving direction of the hand 1 with respect to the moving body 14. By pressing the outer peripheral edge of the corresponding wafer W on the cassette opening side by the front end surface (front end surface) of the movable claw support 20, the whole of the plurality of wafers W, W,. When the hand 1 is moved forward in a state where the movement of each wafer W is restricted by this contact, the movable claw support 20 is displaced in the retreating direction of the hand 1 by pressing from the wafer W. It is supposed to.

【0022】また、上記各可動爪支持体20の先端部
(前端部)上面には、支持板5の上側に位置する凹形ロ
ーラからなる1つの可動爪22が上下方向に延びる支持
軸21によって回転可能に支持されている。すなわち、
上記可動爪22は移動体14に対し板ばね19,19に
よってハンド本体2の進退方向に相対移動可能に支持さ
れている。また、この凹形ローラからなる可動爪22の
外周面全体には、上記固定爪7の係合溝8と同じ高さ位
置に位置しかつ上側溝面が下側溝面よりも短い断面V字
状の凹溝23が形成されており、この可動爪22により
その外周面の凹溝23にて各ウエハWのカセット開口側
の外周縁部を係合するようにしている。
On the upper surface of the tip (front end) of each movable claw support 20, one movable claw 22 composed of a concave roller located above the support plate 5 is supported by a support shaft 21 extending vertically. It is rotatably supported. That is,
The movable claw 22 is supported by the leaf springs 19, 19 so as to be relatively movable with respect to the moving body 14 in the advancing and retreating direction of the hand main body 2. In addition, the entire outer peripheral surface of the movable claw 22 composed of the concave roller is located at the same height position as the engagement groove 8 of the fixed claw 7 and the upper groove surface is shorter than the lower groove surface in a V-shaped cross section. The movable claw 22 engages the outer peripheral edge of each wafer W on the cassette opening side with the concave groove 23 on the outer peripheral surface.

【0023】上記移動体14の上側横枠部下面には下方
に発光する前側発光部25Fが、また後面には同様の後
側発光部25Rがブラケット26を介してそれぞれ取付
固定されている。一方、移動体14の下側横枠部上面に
は上記前側発光部25Fの真下の位置に、前側発光部2
5Fからの光が入射される前側受光部27Fが、また横
枠部後面には上記後側発光部25Rの真下の位置に、後
側発光部25Rからの光が入射される後側受光部27R
がブラケット28を介してそれぞれ取付固定されてお
り、前側発光部25Fから前側受光部27Fに至る光路
LFは、上記湾曲していない状態の前側の板ばね19の
真上位置を、また後側発光部25Rから後側受光部27
Rに至る光路LRは、同様の状態の後側板ばね19の真
後ろの位置をそれぞれ通るように設定されている(尚、
各発光部25F,25Rを移動体14の下側に、また各
受光部27F,27Rを移動体14上側にそれぞれ逆転
させてもよい)。
A front light-emitting portion 25F that emits light downward is mounted on the lower surface of the upper horizontal frame portion of the moving body 14, and a similar rear light-emitting portion 25R is mounted and fixed on the rear surface thereof via a bracket 26. On the other hand, on the upper surface of the lower horizontal frame portion of the moving body 14, the front light emitting unit 2
A front light receiving portion 27F on which light from 5F is incident, and a rear light receiving portion 27R on which light from the rear light emitting portion 25R is incident on a rear surface of the horizontal frame portion just below the rear light emitting portion 25R.
Are mounted and fixed via a bracket 28, respectively, and an optical path LF from the front side light emitting portion 25F to the front side light receiving portion 27F is located just above the front side leaf spring 19 in the uncurved state, and the rear side light emitting portion. From the part 25R to the rear light receiving part 27
The optical path LR reaching R is set so as to pass through a position directly behind the rear leaf spring 19 in the same state (note that the optical path LR is the same).
The respective light emitting units 25F and 25R may be reversed below the moving body 14 and the respective light receiving units 27F and 27R may be reversed above the moving body 14).

【0024】上記発光部25F,25R及び受光部27
F,27Rは共に前後位置検出手段を構成しており、上
記のように、各ウエハWがカセットCの内奥面C1に当
接する位置まで移動した状態で、上記ハンド1のさらな
る前進移動に伴って可動爪支持体20がハンド後退方向
に変位したとき、そのことを発光部25F,25R及び
受光部27F,27Rで検出し、可動爪支持体20の適
正な変位により、前側発光部25Fから前側受光部27
Fに至る光路LFの位置から前側の板ばね19が外れ
て、前側発光部25Fからの光が前側受光部27Fによ
り受光され、かつ後側発光部25Rから受光部27Rに
至る光路LRを後側の板ばね19が遮断して、後側発光
部25Rからの光を後側受光部27Rが受光しなかった
とき、その状態を正常状態として検出する。一方、可動
爪支持体20が変位せずに、後側発光部25Rから後側
受光部27Rに至る光路LRの位置から後側の板ばね1
9が外れて、後側発光部25Rからの光が後側受光部2
7Rにより受光され、かつ前側発光部25Fから前側受
光部27Fに至る光路LFを前側の板ばね19が遮断し
て、前側発光部25Fからの光を前側受光部27Fが受
光しなかったとき、或いは、可動爪支持体20の過度の
変位により、前側発光部25Fから前側受光部27Fに
至る光路LFの位置から前側の板ばね19が、また後側
発光部25Rから後側受光部27Rに至る光路LRの位
置から後側の板ばね19がそれぞれ外れて、前側及び後
側発光部25F,25Rからの光が共にそれぞれ前側及
び後側受光部27F,27Rにより受光されたとき、そ
の状態をいずれも異常状態として検出し、この検出信号
によりロボットの搬送動作を停止したり、ウエハWの把
持不良の警告を行ったりするようにしている。
The light emitting units 25F and 25R and the light receiving unit 27
F and 27R together constitute front / rear position detecting means. As described above, with each wafer W moved to a position where it comes into contact with the inner back surface C1 of the cassette C, the hand 1 is further moved forward. When the movable claw support 20 is displaced in the hand retreating direction, this is detected by the light emitting units 25F and 25R and the light receiving units 27F and 27R, and the proper displacement of the movable claw support 20 causes the front light emitting unit 25F to move forward. Light receiving unit 27
The front leaf spring 19 is displaced from the position of the optical path LF reaching F, the light from the front light emitting section 25F is received by the front light receiving section 27F, and the light path LR from the rear light emitting section 25R to the light receiving section 27R is moved to the rear side. When the leaf spring 19 is cut off and the light from the rear light emitting unit 25R is not received by the rear light receiving unit 27R, the state is detected as a normal state. On the other hand, the movable platen support 20 is not displaced, and the rear leaf spring 1 is moved from the position of the optical path LR from the rear light emitting portion 25R to the rear light receiving portion 27R.
9 comes off, and the light from the rear light emitting unit 25R is transmitted to the rear light receiving unit 2R.
7R, and the front leaf spring 19 cuts off the optical path LF from the front light emitting unit 25F to the front light receiving unit 27F, and the front light receiving unit 27F does not receive the light from the front light emitting unit 25F, or Due to the excessive displacement of the movable claw support 20, the front leaf spring 19 moves from the position of the optical path LF extending from the front light emitting section 25F to the front light receiving section 27F, and the optical path extends from the rear light emitting section 25R to the rear light receiving section 27R. When the rear leaf springs 19 are disengaged from the LR position, respectively, and the light from the front and rear light-emitting portions 25F and 25R is received by the front and rear light-receiving portions 27F and 27R, respectively, both states are changed. It is detected as an abnormal state, and based on this detection signal, the transfer operation of the robot is stopped, or a warning of a poor grip of the wafer W is issued.

【0025】さらに、上記移動体14の上側横枠部上面
には前側に延びる板状ブラケット31の後端部が取付固
定され、この板状ブラケット31の前端部下面には下方
に発光する4つの発光部32,32,…(図2に2つの
みを示している)が各把持機構4の支持板5に対し適正
位置にあるウエハWの後端側外周縁部の位置に対応する
ようにハンド1の左右中央に対し対称にかつ円弧状に取
り付けられている。また、移動体14の下側横枠部下面
には同様に前側に延びる板状ブラケット33の後端部が
取付固定され、この板状ブラケット33の前端部上面に
は上記発光部32,32,…に上下に対応した位置(支
持板5上の適正位置にあるウエハWの後端側外周縁部の
位置に対応した円弧上の位置)に、該発光部32,3
2,…からの光がそれぞれ入射される受光部34,3
4,…が取付固定されており、各発光部32ら対応する
各受光部34に至る光路Lは、上記各支持板5上の適正
位置にあるウエハWの後端側外周縁部の位置を通るよう
に設定されている(尚、この場合も各発光部32を移動
体14の下側に、また各受光部34を移動体14上側に
それぞれ逆転させてもよい)。
Further, a rear end of a plate-shaped bracket 31 extending forward is mounted and fixed on the upper surface of the upper horizontal frame portion of the moving body 14, and four lower light-emitting portions are provided on the lower surface of the front end of the plate-shaped bracket 31. .. (Only two are shown in FIG. 2) correspond to the position of the outer peripheral edge of the rear end side of the wafer W at an appropriate position with respect to the support plate 5 of each gripping mechanism 4. The hand 1 is attached symmetrically to the left and right centers and in an arc shape. Further, a rear end of a plate-like bracket 33 extending similarly to the front side is attached and fixed to the lower surface of the lower horizontal frame portion of the movable body 14, and the light-emitting portions 32, 32, The light-emitting portions 32, 3 are located at positions corresponding to the top and bottom (circular positions corresponding to the positions of the outer peripheral edge portions on the rear end side of the wafer W at appropriate positions on the support plate 5).
Light receiving sections 34, 3 on which light from 2, 2,.
The light path L extending from each light emitting section 32 to each corresponding light receiving section 34 corresponds to the position of the rear end side outer peripheral edge of the wafer W at an appropriate position on each support plate 5. It is set so as to pass (in this case, each light emitting unit 32 may be reversed below the moving body 14 and each light receiving unit 34 may be reversed above the moving body 14).

【0026】上記発光部32,32,…及び受光部3
4,34,…は共に左右位置検出手段を構成しており、
上記のようにハンド1の前進移動に伴うウエハW,W,
…からの押圧により可動爪支持体20のハンド後退方向
への変位を検出してウエハW,W,…の前後方向の位置
を判定した後にハンド1を後退させる際、発光部32,
32,…から対応する受光部34,34,…への光の入
射がいずれかのウエハW,W,…によって遮断されてい
る状態から、ハンド1の後退によって各発光部32から
の光が各受光部34へ入射開始される状態のタイミング
を検出し、この検出タイミングが予め設定されている基
準値よりも所定以上ずれていないときには、その状態を
正常状態として検出する一方、検出タイミングが設定基
準値よりも所定以上ずれているときには、その状態を異
常状態として検出し、この検出信号によりロボットの搬
送動作を停止し、或いはウエハWの把持不良の警告を行
うようにしている。
The light emitting units 32, 32,...
, 34,... Together constitute left and right position detecting means.
As described above, the wafers W, W,
When the hand 1 is retracted after detecting the displacement of the movable claw support 20 in the hand retreating direction by pressing from the... And determining the position of the wafers W, W,.
.. From the light receiving portions 34, 34,... Are blocked by any of the wafers W, W,. The timing of the state where the light enters the light receiving unit 34 is detected. If the detection timing does not deviate from the preset reference value by a predetermined amount or more, the state is detected as a normal state. When the value deviates from the value by a predetermined amount or more, the state is detected as an abnormal state, and the detection signal is used to stop the transfer operation of the robot or to warn of a gripping failure of the wafer W.

【0027】尚、予めカセットCの内奥面C1に当接す
る位置に存在するウエハWについては、可動爪支持体2
0により移動はしない。また、カセットCの内奥部には
ウエハWの外周縁部が当接した状態でも、その左右両側
に固定爪7,7を収容可能なスペースが設けられてい
る。
Incidentally, for the wafer W which is in contact with the inner back surface C1 of the cassette C in advance, the movable claw support 2
0 does not move. Further, even in a state where the outer peripheral edge of the wafer W is in contact with the inner deep portion of the cassette C, spaces are provided on both left and right sides of the cassette C so that the fixing claws 7 can be accommodated.

【0028】次に、上記実施形態1の作動について説明
する。カセットC内に収容されている複数のウエハW,
W,…をロボットの搬送ハンドにより把持して取り出し
搬送する場合、まず、ハンド本体2のシリンダ15が伸
長作動して移動体14がハンド本体2に対し相対的に後
退し、この移動体14に板ばね19,19及び可動爪支
持体20によって弾性支持されている各可動爪22も後
退する。この状態では、各把持機構4における可動爪2
2が支持板5先端部の固定爪7,7から離れて、これら
固定爪7,7及び可動爪22は各々の間に各ウエハWを
嵌挿配置可能な開いた状態とされている。
Next, the operation of the first embodiment will be described. The plurality of wafers W stored in the cassette C,
When gripping and transporting W,... By the transfer hand of the robot, first, the cylinder 15 of the hand body 2 is extended to move the moving body 14 relatively to the hand body 2, and Each movable claw 22 elastically supported by the leaf springs 19 and 19 and the movable claw support 20 also retracts. In this state, the movable claw 2 in each gripping mechanism 4
2 is separated from the fixed claws 7, 7 at the tip of the support plate 5, and the fixed claws 7, 7 and the movable claws 22 are in an open state in which the respective wafers W can be inserted and arranged therebetween.

【0029】この後、図1及び図2に示すように、ハン
ド1が前進して、その各把持機構4の支持板5がそれに
対応するカセットC内の各ウエハWの上側空間に挿入さ
れる。このようなハンド1の前進に伴い、まず、ハンド
本体2に支持されている上記可動爪支持体20が先端面
(前端面)にて対応する各ウエハWのカセット開口側の
外周縁部を左右中央の1か所で押圧し、この可動爪支持
体20の押圧によって各ウエハWがカセットCの内奥面
C1に当接する位置まで移動する。このことで、カセッ
トC内でウエハW,W,…の当初の収容位置がばらつい
ていても、そのウエハW,W,…はいずれも上記可動爪
支持体20の押圧移動により、常にカセットCの内奥面
C1に対して所定の許容収容位置に位置付けられること
となる。
Thereafter, as shown in FIGS. 1 and 2, the hand 1 advances, and the support plate 5 of each gripping mechanism 4 is inserted into the upper space of each wafer W in the cassette C corresponding thereto. . With the advance of the hand 1, first, the movable claw support 20 supported by the hand body 2 moves the corresponding outer peripheral edge of the corresponding wafer W on the cassette opening side at the front end surface (front end surface). The wafer C is pressed at one position in the center, and each wafer W is moved to a position where it comes into contact with the inner back surface C1 of the cassette C by the pressing of the movable claw support 20. Thus, even if the initial accommodation positions of the wafers W, W,... In the cassette C vary, all of the wafers W, W,. It will be located at a predetermined allowable accommodation position with respect to the inner back surface C1.

【0030】この後、さらにハンド1が前進するが、各
ウエハWはカセットCの内奥面C1に当接して移動規制
されているので、ハンド1の前進に伴い、今度は逆に上
記可動爪支持体20がウエハWから押されて板ばね1
9,19を湾曲させながら相対的にハンド1の後退方向
に変位する。そして、この各可動爪支持体20の変位に
より、前側発光部25Fから前側受光部27Fに至る光
路LFの位置から前側の板ばね19が外れて、前側発光
部25Fからの光が前側受光部27Fにより受光され、
かつ、後側発光部25Rから後側受光部27Rに至る光
路LRを後側の板ばね19が遮断して、後側発光部25
Rからの光を後側受光部27Rが受光しなかったとき、
その状態が正常状態と判定される。すなわち、この前側
受光部27Fが受光状態にありかつ後側受光部27Rが
受光遮断状態にあると、ウエハ処理工程で生じたカセッ
トCの変形歪みやカセットC内のウエハW,W,…の引
掛かり等により、カセットC内のウエハW,W,…の収
容位置がばらついていても、そのウエハW,W,…は把
持機構4,4,…によって把持可能な位置にあることが
検出される。
Thereafter, the hand 1 further moves forward. Since the movement of each wafer W is restricted by contacting the inner back surface C1 of the cassette C, the movable claw is reversed with the advance of the hand 1. The support 20 is pushed from the wafer W and the leaf spring 1
The hand 9 is relatively displaced in the retreating direction while bending the hands 9 and 19. Then, due to the displacement of each movable claw support 20, the front leaf spring 19 is displaced from the position of the optical path LF extending from the front light emitting section 25F to the front light receiving section 27F, and the light from the front light emitting section 25F is transmitted to the front light receiving section 27F. Received by
Further, an optical path LR from the rear light emitting unit 25R to the rear light receiving unit 27R is blocked by the rear leaf spring 19, and the rear light emitting unit 25R is closed.
When the light from R is not received by the rear light receiving unit 27R,
The state is determined to be a normal state. That is, when the front side light receiving portion 27F is in the light receiving state and the rear side light receiving portion 27R is in the light blocking state, the deformation distortion of the cassette C generated in the wafer processing step and the pulling of the wafers W, W,. Even if the accommodation positions of the wafers W, W,... In the cassette C vary due to the hanging or the like, it is detected that the wafers W, W,. .

【0031】一方、上記可動爪支持体20が変位しなか
ったり、或いは過度に変位したりすると、後側発光部2
5Rから後側受光部27Rに至る光路LRの位置から後
側の板ばね19が外れて後側発光部25Rからの光が後
側受光部27Rにより受光され、かつ前側発光部25F
から前側受光部27Fに至る光路LFが前側の板ばね1
9で遮断されるか、或いは、前側発光部25Fから前側
受光部27Fに至る光路LFの位置から前側の板ばね1
9が、また後側発光部25Rから後側受光部27Rに至
る光路LRの位置から後側の板ばね19がそれぞれ外れ
て、前側及び後側発光部25F,25Rからの光がそれ
ぞれ前側及び後側受光部27F,27Rにより受光され
る。このときには異常状態と判定され、この異常検出信
号によりロボットの搬送動作が停止されたり、ウエハW
の把持不良の警告が行われる。
On the other hand, if the movable claw support 20 is not displaced or is displaced excessively, the rear light emitting section 2
The rear leaf spring 19 is disengaged from the position of the optical path LR from 5R to the rear light receiving section 27R, and the light from the rear light emitting section 25R is received by the rear light receiving section 27R and the front light emitting section 25F.
The optical path LF from the front to the front light receiving portion 27F is the front leaf spring 1.
9, or from the position of the optical path LF from the front light-emitting portion 25F to the front light-receiving portion 27F to the front leaf spring 1
9, the rear leaf springs 19 are displaced from the position of the optical path LR from the rear light-emitting portion 25R to the rear light-receiving portion 27R, and light from the front and rear light-emitting portions 25F and 25R is respectively transmitted to the front and rear. The light is received by the side light receiving units 27F and 27R. At this time, it is determined that the robot is in an abnormal state and the transfer operation of the robot is stopped or the wafer W
Is warned.

【0032】上記カセットC内のウエハW,W,…の前
後位置が把持可能な位置にあることが検出されると、引
き続きハンド1が後退して、一旦カセットCから抜き出
される。
When it is detected that the front and rear positions of the wafers W, W,... In the cassette C are at grippable positions, the hand 1 continues to retreat and is once extracted from the cassette C.

【0033】そして、このようにハンド1が後退する
際、それまでは、上側の板状ブラケット31の4つの発
光部32,32,…から対応する4つの受光部34,3
4,…へそれぞれ入射される光の光路L,L,…が各ウ
エハWによって遮断されているが、ハンド1の後退に伴
い、各発光部32から対応する各受光部34への光の入
射が開始される。これら4つの受光部34,34,…の
光の入射タイミングが検出されて、予め設定されている
基準値と比較され、入射タイミングが基準値よりも所定
以上ずれていないときには、その状態が正常状態として
検出される。一方、検出タイミングが設定基準値よりも
所定以上ずれているときには、その状態は異常状態と検
出され、この検出信号によりロボットの搬送動作が停止
され、或いはウエハWの把持不良の警告が行われる。例
えば、いずれかのウエハWが左側にずれているときに
は、右側の受光部34,34の受光タイミングが左側の
受光部34,34よりも相対的に早くなるので、そのこ
とをいずれかのウエハWの左側へのずれとして検出する
ことができる。
When the hand 1 retreats in this manner, the four light-emitting portions 32, 32,... Of the upper plate-shaped bracket 31 correspond to the four light-receiving portions 34, 3 until then.
The light paths L, L,... Of the light incident on the light-receiving portions 34 are blocked by the wafers W, respectively. Is started. The incident timing of the light of these four light receiving units 34, 34,... Is detected and compared with a preset reference value. Is detected as On the other hand, when the detection timing deviates from the set reference value by a predetermined amount or more, the state is detected as an abnormal state, and the robot operation is stopped by this detection signal, or a warning of a defective gripping of the wafer W is issued. For example, when any of the wafers W is shifted to the left, the light receiving timing of the right light receiving units 34, 34 is relatively earlier than that of the left light receiving units 34, 34. To the left.

【0034】具体的には、4つの受光部34,34,…
のうちから組み合わされる3つの受光部34,34,…
の受光タイミングからウエハWに関して4種類の円の外
径とその中心位置とを求め、その中でずれが最大である
最も悪い情報の外径及び中心位置をそれぞれ基準値と比
較して、その差が許容範囲にあるかどうかが判定され
る。
Specifically, four light receiving sections 34, 34,.
Three light receiving units 34, 34,...
The outer diameters and center positions of the four types of circles with respect to the wafer W are obtained from the light receiving timing, and the outer diameter and the center position of the worst information having the largest deviation among them are respectively compared with a reference value, and the difference is calculated. Is within the allowable range.

【0035】このようにしてウエハW,W,…の把持可
能状態が判定されると、ハンド1が若干下方に移動した
後に再度前進し、その各把持機構4の支持板5がそれに
対応する各ウエハWの下側空間に再挿入される。このハ
ンド1は、図3に示すように、各把持機構4における支
持板5先端部の左右固定爪7,7がウエハWのカセット
内奥側の外周縁部よりも少しカセットCの内奥側に移動
するまで前進して、各把持機構4の開き状態にある固定
爪7,7及び可動爪22間にそれぞれウエハWが位置付
けられる。
When the grippable state of the wafers W, W,... Is determined in this way, the hand 1 moves slightly downward and then advances again, and the support plate 5 of each gripping mechanism 4 moves to the corresponding position. The wafer W is reinserted into the lower space. In this hand 1, as shown in FIG. 3, the right and left fixing claws 7, 7 at the tip of the support plate 5 in each gripping mechanism 4 are slightly deeper inside the cassette C than the outer peripheral edge of the wafer W inside the cassette. And the wafer W is positioned between the fixed claws 7 and the movable claws 22 in the open state of the respective gripping mechanisms 4.

【0036】その後、ハンド1が若干上昇して、各ウエ
ハWがカセットCの図示しない各支持棚から持ち上げら
れる。この状態では、左右の固定爪7,7の係合溝8,
8の下側溝面上に各ウエハWのカセット内奥側の左右外
周縁部が、また各支持板5の基端側寄りの左右両側に取
り付けた載置板10,10上にウエハWのカセット開口
側の左右外周縁部がそれぞれ載置される。
Thereafter, the hand 1 is slightly raised, and each wafer W is lifted from each support shelf (not shown) of the cassette C. In this state, the engagement grooves 8,
8, the left and right outer peripheral portions on the inner side of the cassette on the lower groove surface of each wafer W, and the cassettes of the wafers W on the mounting plates 10, 10 attached to the left and right sides near the base end side of each support plate 5. The left and right outer peripheral edges on the opening side are respectively placed.

【0037】次いで、ハンド1がカセットCから若干後
退した後、上記シリンダ15が収縮作動して移動体14
がハンド本体2に対し相対的に前進し、この移動体14
に弾性支持された各可動爪22が前方向に移動する。こ
のことで、可動爪22が支持板5先端部の固定爪7,7
に近付いて固定爪7,7及び可動爪22間が閉じ、これ
ら各爪7,7,22間に各ウエハWがその外周縁部を固
定爪7の係合溝8及び可動爪22の凹溝23の各溝底部
に係合した状態で把持される。この把持状態では、各可
動爪22を弾性支持している板ばね19,19が後側に
撓んで、そのばね力によって可動爪22が前側に付勢さ
れた状態となり、この付勢力によってウエハWが固定爪
7,7側に押し付けられて把持される。
Next, after the hand 1 has retreated slightly from the cassette C, the cylinder 15 contracts to move
Moves forward relative to the hand main body 2 and the moving body 14
The movable claws 22 elastically supported by the movable member 22 move forward. As a result, the movable claw 22 is fixed to the fixed claw 7, 7 at the tip of the support plate 5.
And the gap between the fixed claws 7, 7 and the movable claw 22 is closed, and each wafer W has its outer peripheral edge between the claws 7, 7, 22 in the engagement groove 8 of the fixed claw 7 and the concave groove of the movable claw 22. 23 are held in a state of being engaged with the bottom of each groove. In this gripping state, the leaf springs 19, 19, which elastically support the movable claws 22, are bent rearward, and the movable claws 22 are urged forward by the spring force. Is pressed against the fixed claws 7, 7 and gripped.

【0038】その際、上記可動爪22は回転可能な凹形
ローラであるので、ウエハWが把持時に左右に移動した
としても可動爪22が転動するようになり、その可動爪
22とウエハWとの間は転がり摩擦状態となる。このた
め、上記と同様に、可動爪22とウエハWとの間が摺動
摩擦状態である場合に比べて発塵を低減することがで
き、ウエハWの製造行程での発塵性を抑えることができ
る。
In this case, since the movable claw 22 is a rotatable concave roller, the movable claw 22 rolls even if the wafer W moves to the right or left during gripping. Is in a rolling friction state. For this reason, similarly to the above, dust generation can be reduced as compared with the case where the movable claw 22 and the wafer W are in a sliding friction state, and dust generation during the manufacturing process of the wafer W can be suppressed. it can.

【0039】こうして複数のウエハW,W,…をそれぞ
れ対応する把持機構4,4,…によって把持した後、ハ
ンド本体2が後退移動し、複数のウエハW,W,…が把
持機構4,4,…により把持された状態でカセットC内
から取り出され、しかる後に他の所定工程に搬送され
る。
After the plurality of wafers W are gripped by the corresponding gripping mechanisms 4, 4,..., The hand body 2 moves backward, and the plurality of wafers W, W,. Are taken out of the cassette C while being gripped by the..., And then transported to another predetermined process.

【0040】したがって、この実施形態においては、上
記のように、カセットC内の複数のウエハW,W,…を
それぞれ把持機構4,4,…により把持する前に、その
カセットC内のウエハW,W,…がいずれも常にカセッ
トCの内奥面C1に当接した位置に位置付けられる。し
かも、ウエハ処理工程で生じたカセットCの変形歪みや
カセットC内のウエハWの引掛かり等により、カセット
C内のウエハW,W,…の収容位置がばらついていて
も、受光部27F,27R,34,34への発光部25
F,25R,32,32からの光の受光又は受光遮断状
態が適正に検出されさえすれば、そのウエハW,W,…
は把持機構4,4,…によって把持可能な位置にあるこ
ととなる。このため、ロボットは、把持機構4,4,…
が上記カセットCの内奥面C1に当接した位置を基準と
してウエハW,W,…を把持するように作動制御すれば
必ずウエハW,W,…を把持できることとなり、そのウ
エハW,W,…を確実に把持して取り出すことができ、
ロボットの搬送作業を中断せず信頼性よく行うことがで
きる。
Therefore, in this embodiment, as described above, before the plurality of wafers W, W,... In the cassette C are gripped by the gripping mechanisms 4, 4,. , W,... Are always positioned at positions in contact with the inner back surface C1 of the cassette C. Moreover, even if the accommodation positions of the wafers W, W,... In the cassette C vary due to the deformation distortion of the cassette C generated in the wafer processing process or the hooking of the wafers W in the cassette C, the light receiving units 27F, 27R , 25 to 34, 34, 34
F, 25R, 32, 32, as long as the light reception or the light reception cutoff state is properly detected, the wafer W, W,.
Are at positions where they can be gripped by the gripping mechanisms 4, 4,.... For this reason, the robot uses the gripping mechanisms 4, 4,.
.. Can always be gripped by gripping the wafers W, W,... On the basis of the position of the wafer W, W,. ... can be securely grasped and taken out,
The transfer operation of the robot can be performed reliably without interruption.

【0041】また、上記可動爪支持体20は、各把持機
構4においてウエハWを把持するための可動爪22を支
持するものであるので、既存の把持機構4の構成部材を
用いてウエハWを把持可能かどうかを検出することがで
きる。
The movable claw support 20 supports the movable claw 22 for gripping the wafer W in each of the gripping mechanisms 4. It is possible to detect whether or not it is possible to hold.

【0042】また特に、この実施形態の場合、複数の把
持機構4,4,…により把持される複数のウエハW,
W,…をそれぞれ可動爪支持体20,20,…が個別に
同時に押圧するので、仮にカセットCの上部が下部に比
べて反開口側に傾倒するように変形していても、その変
形に伴うウエハW,W,…の把持不能状態を精度よく確
実に検出することができる。
In particular, in the case of this embodiment, the plurality of wafers W,
,... Are individually and simultaneously pressed by the movable claw support members 20, 20,..., Respectively. It is possible to accurately and reliably detect the non-holding state of the wafers W, W,...

【0043】尚、上記実施形態では、左右位置検出手段
として、発光部32及び受光部34の対をハンド1の左
右にそれぞれ2つずつ合計4つ設けているが、この発光
部32及び受光部34の対をハンド1の左右に少なくと
も1つずつ(合計2つ)設ければよい。
In the above-described embodiment, four pairs of the light emitting section 32 and the light receiving section 34 are provided on each of the left and right sides of the hand 1 as the left and right position detecting means. At least one pair (34 in total) may be provided on the left and right sides of the hand 1.

【0044】また、上記実施形態では、カセットC内に
収容されている複数のウエハW,W,…を一挙に取り出
す場合について説明しているが、本発明は、カセットC
に収容されている複数のウエハW,W,…の中の1枚を
取り出す場合や、カセットが1枚のウエハWを収容する
タイプで、その1枚のウエハWを取り出す場合にも適用
することができる。
In the above embodiment, the case where a plurality of wafers W, W,... Accommodated in the cassette C are taken out at once is explained.
, Or a case where a cassette accommodates one wafer W and the single wafer W is taken out. Can be.

【0045】また、把持機構4は、上記実施形態のよう
に支持板5先端部の左右2つの固定爪7,7と、移動体
14に弾性支持した1つの可動爪22とを有する構造に
限定されず、固定爪7,7や可動爪22の数を増減させ
ることもできる。要は、固定爪及び可動爪を有してい
て、これら固定爪及び可動爪をウエハWの外周縁部に係
合させてウエハWを把持するものであればよい。
Further, the gripping mechanism 4 is limited to a structure having two fixed claws 7 on the right and left ends of the support plate 5 and one movable claw 22 elastically supported by the moving body 14 as in the above embodiment. Instead, the number of the fixed claws 7, 7 and the number of the movable claws 22 can be increased or decreased. In short, it is only necessary to have a fixed claw and a movable claw, and hold the wafer W by engaging the fixed claw and the movable claw with the outer peripheral edge of the wafer W.

【0046】[0046]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1の発明に
よると、カセット内に収容されているウエハをロボット
のハンドにより把持して取り出す場合に、ハンド先端側
に固定された固定爪と、ハンド基端側に前後移動可能に
支持された可動爪と、ハンドの基端部にハンドの移動方
向に沿って相対移動可能に支持された移動体と、この移
動体にハンドの移動方向に沿って相対移動可能に弾性支
持され、上記可動爪を支持するとともに、ハンドの前進
移動によりウエハの外周縁部を押圧して該ウエハをカセ
ットの内奥面に当接する位置まで移動させる可動爪支持
体とを有する把持手段を設け、ウエハがカセットの内奥
面に当接する位置まで移動した状態で、ハンドの前進移
動に伴って可動爪支持体がハンド後退方向に変位したこ
とを前後位置検出手段により検出するようにしたことに
より、ウエハの処理工程で生じたカセットの変形歪みや
カセット内のウエハの引掛かりによりウエハの収容位置
がばらついていても、そのウエハを把持手段により確実
に把持して取り出すことができ、ロボットの搬送作業の
信頼性を向上させることができる。
As described above, according to the first aspect of the present invention, when the wafer held in the cassette is gripped and taken out by the hand of the robot, the fixed claw fixed to the tip end of the hand is provided with: A movable claw supported on the base end side of the hand so as to be able to move back and forth; a movable body supported on the base end of the hand so as to be relatively movable along the movement direction of the hand; And a movable claw support for supporting the movable claw and for pushing the outer peripheral edge of the wafer by the forward movement of the hand to move the wafer to a position where the wafer abuts on the inner surface of the cassette. With the gripping means having a position, the front and rear positions are detected when the movable claw support is displaced in the hand retreating direction as the hand moves forward with the wafer moved to a position where it comes into contact with the inner back surface of the cassette. By detecting by step, even if the wafer storage position varies due to the deformation distortion of the cassette generated in the wafer processing process or the hooking of the wafer in the cassette, the wafer can be securely gripped by the gripping means. Can be taken out, and the reliability of the transfer operation of the robot can be improved.

【0047】請求項2の発明によると、ハンドの少なく
とも左右中央の両側に、ウエハ前後方向の外周縁部の位
置を検出する左右位置検出手段を設けたことにより、例
えばカセットの上部と下部とが左右にずれるように変位
していても、その歪みに伴うウエハの把持不能状態を精
度よく確実に検出することができる。
According to the second aspect of the present invention, the left and right position detecting means for detecting the position of the outer peripheral edge in the front-rear direction of the wafer are provided at least on both sides of the center of the hand. Even if the wafer is displaced so as to be shifted to the left and right, it is possible to accurately and reliably detect a state in which the wafer cannot be gripped due to the distortion.

【0048】請求項3の発明によると、ハンドに複数の
把持手段をハンド進退方向と直交する方向に並んで設け
たことにより、カセット内に収容されている複数のウエ
ハの収容位置がばらついていても、それらウエハを同時
に可動爪支持体によって押圧移動させてカセット内の奥
端面に当接させるとともに、複数のウエハのうちの1つ
でも把持手段によって把持不能の位置にある場合に、そ
のウエハの把持不能状態を精度よく検出することができ
る。
According to the third aspect of the present invention, a plurality of gripping means are provided on the hand in a direction perpendicular to the hand advancing and retreating direction, so that the accommodation positions of the plurality of wafers accommodated in the cassette vary. Also, the wafers are simultaneously pressed and moved by the movable claw support to abut against the rear end face in the cassette, and when even one of the plurality of wafers is in a position where it cannot be gripped by the gripping means, The non-grasping state can be accurately detected.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態においてハンドの把持機構に
おける可動爪支持体がカセット内のウエハを押圧する状
態を示す平面断面図である。
FIG. 1 is a plan sectional view showing a state in which a movable claw support in a hand gripping mechanism presses a wafer in a cassette in an embodiment of the present invention.

【図2】把持機構の可動爪支持体がウエハを押圧する状
態を示す側面断面図である。
FIG. 2 is a side sectional view showing a state in which a movable claw support of a gripping mechanism presses a wafer.

【図3】把持機構がウエハを把持するための状態を示す
平面断面図である。
FIG. 3 is a plan sectional view showing a state in which a gripping mechanism grips a wafer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

C カセット C1 内奥面 W ウエハ 1 ウエハ搬送用ハンド 2 ハンド本体 4 把持機構(把持手段) 5 支持板 7 固定爪 8 係合溝 14 移動体 19 板ばね 20 可動爪支持体 22 可動爪 23 凹溝 25F,25R 発光部(前後位置検出手段) 27F,27R 受光部(前後位置検出手段) 32 発光部(左右位置検出手段) 34 受光部(左右位置検出手段) LF,LR,L 光路 C cassette C1 Inner inner surface W Wafer 1 Wafer transfer hand 2 Hand body 4 Gripping mechanism (gripping means) 5 Support plate 7 Fixed claw 8 Engagement groove 14 Moving body 19 Leaf spring 20 Movable claw support 22 Movable claw 23 Groove 25F, 25R Light emitting unit (front / back position detecting means) 27F, 27R Light receiving unit (front / back position detecting means) 32 Light emitting unit (left / right position detecting means) 34 Light receiving unit (left / right position detecting means) LF, LR, L Optical path

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 カセット内に収容されているウエハを把
持して取り出すロボットに設けられるウエハ把持装置で
あって、 ロボットアームに連結されるハンドと、 上記ハンドに設けられ、ハンド先端側に固定された固定
爪と、ハンド基端側に前後移動可能に支持された可動爪
とを有し、上記固定爪及び可動爪をウエハ外周部の間隔
をあけた位置に係合させて該ウエハを把持する把持手段
とを備え、 上記把持手段は、ハンドの基端部にハンドの移動方向に
沿って相対移動可能に支持された移動体と、 上記移動体にハンドの移動方向に沿って相対移動可能に
弾性支持され、上記可動爪を支持するとともに、ハンド
の前進移動によりウエハの外周縁部を押圧して該ウエハ
をカセットの内奥面に当接する位置まで移動させる可動
爪支持体とを有しており、 上記ウエハがカセットの内奥面に当接する位置まで移動
した状態で、ハンドの前進移動に伴って上記可動爪支持
体がハンド後退方向に変位したことを検出する前後位置
検出手段を備えたことを特徴とするウエハ把持装置。
1. A wafer holding device provided in a robot for holding and taking out a wafer contained in a cassette, comprising: a hand connected to a robot arm; and a hand provided to the hand and fixed to a tip end side of the hand. Fixed claw, and a movable claw supported movably back and forth on the base end side of the hand, and grips the wafer by engaging the fixed claw and the movable claw at positions spaced apart from the outer peripheral portion of the wafer. A gripper, wherein the gripper is supported at a base end of the hand so as to be relatively movable in the direction of movement of the hand, and the gripper is capable of relative movement in the direction of movement of the hand. A movable claw support for elastically supporting the movable claw, pressing the outer peripheral edge of the wafer by moving the hand forward, and moving the wafer to a position where it abuts against the inner surface of the cassette; You And a front / rear position detecting means for detecting that the movable claw support is displaced in the hand retreating direction as the hand moves forward in a state where the wafer has moved to a position where the wafer comes into contact with the inner back surface of the cassette. A wafer holding device characterized by the above-mentioned.
【請求項2】 請求項1のウエハ把持装置において、 ハンドの少なくとも左右中央の両側に、ウエハ前後方向
の外周縁部の位置を検出する左右位置検出手段を備えて
いることを特徴とするウエハ把持装置。
2. The wafer holding device according to claim 1, further comprising left and right position detecting means for detecting a position of an outer peripheral edge in a front-rear direction of the wafer, at least on both left and right center sides of the hand. apparatus.
【請求項3】 請求項1又は2のウエハ把持装置におい
て、 ハンドに複数の把持手段がハンドの進退方向と直交する
方向に並んで設けられていることを特徴とするウエハ把
持装置。
3. The wafer gripping device according to claim 1, wherein a plurality of gripping means are provided on the hand in a direction orthogonal to the direction in which the hand advances and retreats.
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