JPH11213470A - Magneto-optical disk and its manufacture - Google Patents
Magneto-optical disk and its manufactureInfo
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- JPH11213470A JPH11213470A JP1076598A JP1076598A JPH11213470A JP H11213470 A JPH11213470 A JP H11213470A JP 1076598 A JP1076598 A JP 1076598A JP 1076598 A JP1076598 A JP 1076598A JP H11213470 A JPH11213470 A JP H11213470A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、トラッキング制御
用のグルーブが形成された光磁気ディスク及びその製造
方法に関する。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a magneto-optical disk having a groove for tracking control formed thereon and a method of manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】光磁気記録方式は、磁性材料からなる記
録層を部分的にキュリー点または温度補償点以上に昇温
させることによって保磁力を小さくし、外部から記録磁
界を印加することによって記録層の磁化方向を変化させ
て情報信号の記録を行う方式である。この光磁気記録方
式は、光ファイリングシステムやコンピュータの外部記
憶装置、あるいは音響情報、映像情報の記録装置等にお
いて実用化が進められている。2. Description of the Related Art In a magneto-optical recording system, a recording layer made of a magnetic material is partially heated to a temperature higher than a Curie point or a temperature compensation point to reduce a coercive force, and recording is performed by externally applying a recording magnetic field. In this method, information signals are recorded by changing the magnetization direction of the layer. This magneto-optical recording method is being put to practical use in an optical filing system, an external storage device of a computer, or a recording device for audio information and video information.
【0003】上記の光磁気記録方式によって記録が行わ
れる光磁気ディスクとしては、例えば、ポリカーボネー
トのようなプラスチックやガラス等からなるディスク基
板上に光磁気膜を有する記録層を形成した光磁気ディス
クがある。A magneto-optical disk on which recording is performed by the above-described magneto-optical recording method is, for example, a magneto-optical disk having a recording layer having a magneto-optical film formed on a disk substrate made of plastic such as polycarbonate or glass. is there.
【0004】通常、このような光磁気ディスクに用いら
れるディスク基板の表面には、トラッキング制御用のグ
ルーブが、記録トラックに沿ってスパイラル状に設けら
れている。Usually, grooves for tracking control are provided in a spiral shape along recording tracks on the surface of a disk substrate used for such a magneto-optical disk.
【0005】近年の高記録密度化に伴い、光磁気ディス
クにおいても記録密度の向上が強く求められている。こ
の要請に応えるために、光磁気ディスク用対物レンズの
高NA化、レーザー光の短波長化などの研究が進んでい
る。これに伴って光磁気ディスクの狭トラックピッチ化
も進んでおり、光スポット径に対するトラック幅も初期
の光磁気ディスクに比べるとかなり狭まっている。With the recent increase in recording density, there has been a strong demand for improvements in recording density of magneto-optical disks. In order to respond to this demand, researches on increasing the NA of the objective lens for a magneto-optical disk and shortening the wavelength of a laser beam have been advanced. Along with this, the track pitch of the magneto-optical disk has been narrowed, and the track width with respect to the light spot diameter has become considerably narrower than that of the initial magneto-optical disk.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、光磁気
ディスクを狭トラックピッチ化すると、上記トラッキン
グ制御用グルーブの側壁上に形成された記録層の磁化の
乱れに起因するノイズが大きな問題となってくる。つま
り、光スポット径を固定して狭トラックピッチ化する
と、グルーブの側壁がスポットの中心に近づくことによ
りノイズが上昇してしまう。対物レンズの高NA化に際
しても、光スポット径を小さくするとともに狭トラック
ピッチ化しても、磁化の乱れた領域であるグルーブの側
壁の大きさは一定なので、やはりノイズの上昇の原因と
なる。また、レーザー光の短波長化に対しても、同様に
ノイズの原因となる。However, when the track pitch of the magneto-optical disk is reduced, noise caused by disturbance of the magnetization of the recording layer formed on the side wall of the tracking control groove becomes a serious problem. . That is, when the light spot diameter is fixed and the track pitch is reduced, noise increases due to the side wall of the groove approaching the center of the spot. Even when the NA of the objective lens is increased, even if the light spot diameter is reduced and the track pitch is reduced, the size of the side wall of the groove, which is a region in which magnetization is disordered, is constant, which also causes an increase in noise. Also, shortening the wavelength of the laser light similarly causes noise.
【0007】グルーブからのノイズを低減するには、グ
ルーブの形状を変えることが有効である。従来は、ポリ
カーボネート成形時に、原盤からの凹凸の転写性を変え
ることでグルーブの形状を変えて最適な条件を出してい
た。しかし、この方法ではグルーブからのノイズを十分
に低減させることはできなかった。To reduce noise from the groove, it is effective to change the shape of the groove. Conventionally, at the time of polycarbonate molding, the optimum condition has been obtained by changing the shape of the groove by changing the transferability of the unevenness from the master. However, this method could not sufficiently reduce the noise from the groove.
【0008】本発明は上述したような従来の実情に鑑み
て提案されたものであり、ディスク基板に遠紫外線を照
射することでグルーブの形状を規定し、グルーブからの
ノイズを低減させた光磁気ディスク及びその製造方法を
提供することを目的とする。The present invention has been proposed in view of the above-mentioned conventional situation, and a magneto-optical disk in which the shape of a groove is defined by irradiating a disk substrate with far ultraviolet rays to reduce noise from the groove. An object of the present invention is to provide a disk and a method of manufacturing the same.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明の光磁気ディスク
は、記録トラックに沿ってグルーブが形成されたディス
ク基板上に、磁気光学効果を有する光磁気膜が形成さ
れ、上記グルーブのエッジ部分は曲面とされるととも
に、それらの曲率半径が20nm以上であることを特徴
とする。According to the magneto-optical disk of the present invention, a magneto-optical film having a magneto-optical effect is formed on a disk substrate having grooves formed along recording tracks, and the edge portions of the grooves are formed. It is characterized by being curved surfaces and having a radius of curvature of 20 nm or more.
【0010】上述したような本発明に係る光磁気ディス
クでは、上記グルーブのエッジ部分が曲面とされるとと
もに、それらの曲率半径が20nm以上とされているの
で、曲面部分に形成された上記光磁気膜の磁化方向に乱
れが生じ難く、ノイズが低減される。In the above-described magneto-optical disk according to the present invention, the edge portions of the grooves are curved and their radii of curvature are set to 20 nm or more. Disturbance does not easily occur in the magnetization direction of the film, and noise is reduced.
【0011】本発明の光磁気ディスクの製造方法は、グ
ルーブを有するディスク基板を作製するディスク基板作
製工程と、上記ディスク基板作製工程で作製された上記
ディスク基板に対し不活性ガス雰囲気下で遠紫外線を照
射する遠紫外線照射工程と、上記遠紫外線照射工程で遠
紫外線が照射された上記ディスク基板上に磁気光学効果
を有する光磁気膜を形成する成膜工程とを有することを
特徴とする。A method of manufacturing a magneto-optical disk according to the present invention includes a disk substrate manufacturing step of manufacturing a disk substrate having a groove, and a method of manufacturing the disk substrate manufactured in the disk substrate manufacturing step by using far-ultraviolet light under an inert gas atmosphere. And a film forming step of forming a magneto-optical film having a magneto-optical effect on the disk substrate irradiated with the far ultraviolet light in the far ultraviolet light irradiating step.
【0012】上述したような本発明に係る光磁気ディス
クの製造方法では、グルーブを有するディスク基板に対
して不活性ガス雰囲気下で遠紫外線を照射するので、グ
ルーブの形状が最適化され、グルーブ部分に形成される
光磁気膜の磁化方向が乱れ難くなる。In the above-described method for manufacturing a magneto-optical disk according to the present invention, since the disk substrate having the groove is irradiated with far ultraviolet rays in an inert gas atmosphere, the shape of the groove is optimized, and the groove portion is optimized. The magnetization direction of the magneto-optical film formed on the substrate is less likely to be disturbed.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0014】本発明に係る光磁気ディスクの一構成例を
図1に示す。この光磁気ディスク1は、合成樹脂材料か
らなるディスク基板2と、このディスク基板2上に形成
されて、情報信号が記録される記録層3と、この記録層
3を保護する保護層4とが積層されてなる。FIG. 1 shows a configuration example of a magneto-optical disk according to the present invention. The magneto-optical disk 1 includes a disk substrate 2 made of a synthetic resin material, a recording layer 3 formed on the disk substrate 2 for recording information signals, and a protective layer 4 for protecting the recording layer 3. It is laminated.
【0015】ディスク基板2は、数mm程度の厚さを有
する円盤状の基板である。このディスク基板2の材料と
しては、例えば、ポリカーボネート樹脂等のプラスチッ
ク材料や、ガラス材料等が用いられる。The disk substrate 2 is a disk-shaped substrate having a thickness of about several mm. As a material of the disk substrate 2, for example, a plastic material such as a polycarbonate resin, a glass material, or the like is used.
【0016】記録層3は、ディスク基板2上に形成され
ている。この記録層3は、例えば、情報信号が記録され
る光磁気膜と反射膜とがこの順に積層されてなる。ここ
で、光磁気膜は、膜面と垂直方向に磁化容易軸を有する
とともに、大きな磁気光学効果を有する。このような光
磁気膜には、例えば、希土類−遷移金属合金非結晶薄膜
等からなる光磁性薄膜がある。The recording layer 3 is formed on the disk substrate 2. The recording layer 3 is formed, for example, by stacking a magneto-optical film on which an information signal is recorded and a reflective film in this order. Here, the magneto-optical film has an easy axis of magnetization in a direction perpendicular to the film surface and has a large magneto-optical effect. Examples of such a magneto-optical film include a magneto-optical thin film made of a rare earth-transition metal alloy amorphous thin film or the like.
【0017】保護層4は、記録層3の上に形成され、例
えば紫外線硬化樹脂からなる。The protective layer 4 is formed on the recording layer 3 and is made of, for example, an ultraviolet curable resin.
【0018】また、この光磁気ディスク1では、ディス
ク基板2の表面に、トラッキング制御用のグルーブ5
が、約0.1μm〜約1μm程度の幅で、約0.5μm
〜約1.6μm程度のピッチでディスク全面に亘ってス
パイラル状に形成されている。In the magneto-optical disk 1, a groove 5 for tracking control is formed on the surface of the disk substrate 2.
Has a width of about 0.1 μm to about 1 μm and a width of about 0.5 μm
It is formed spirally over the entire surface of the disk at a pitch of about 1.6 μm.
【0019】図2は、このようなグルーブ5が形成され
たディスク基板2を拡大して示す断面図である。グルー
ブ5とグルーブ5の間の凸部であるランド6と、グルー
ブ5との境界は斜面7とされている。FIG. 2 is an enlarged sectional view showing the disk substrate 2 on which such a groove 5 is formed. The boundary between the groove 5 and the land 6 which is a convex portion between the groove 5 and the groove 5 is a slope 7.
【0020】光磁気ディスクのノイズの原因として、こ
の斜面7の部分に形成された光磁気膜の磁化の乱れによ
るものが大きい。A major cause of the noise of the magneto-optical disk is a disturbance of the magnetization of the magneto-optical film formed on the slope 7.
【0021】光磁気膜は、薄膜の垂直磁化膜であるが、
斜面7の部分に形成される光磁気膜の法線方向は光の入
射方向と一致しない。従って、光磁気膜に磁化の乱れが
ほとんどみられない場合、この斜面7の部分ではカー効
果が小さいのでノイズの原因とはならない。The magneto-optical film is a thin perpendicular magnetization film.
The normal direction of the magneto-optical film formed on the slope 7 does not coincide with the light incident direction. Therefore, when the magneto-optical film shows almost no disturbance in magnetization, the Kerr effect is small at the slope 7, so that it does not cause noise.
【0022】しかし、ランド6と斜面7との境界部分
(以下、ランド側エッジ8と称する。)又はグルーブ5
と斜面7との境界部分(以下、グルーブ側エッジ9と称
する。)で急峻に角度が変化していると、そのエッジ部
分に形成された光磁気膜の磁気異方性が乱れ、これに付
随して、斜面7の部分に形成される光磁気膜の磁気異方
性までが乱れてしまう。このようにして乱れた磁化がカ
ー効果を起こしてノイズの原因となると考えられる。However, a boundary portion between the land 6 and the slope 7 (hereinafter referred to as a land side edge 8) or the groove 5
If the angle changes steeply at the boundary between the groove and the slope 7 (hereinafter, referred to as the groove-side edge 9), the magnetic anisotropy of the magneto-optical film formed at the edge will be disturbed, and this will be accompanied. As a result, the magnetic anisotropy of the magneto-optical film formed on the slope 7 is disturbed. It is considered that the disordered magnetization causes the Kerr effect and causes noise.
【0023】そこで、本発明に係る光磁気ディスク1で
は、図2に示すように、ディスク基板2のランド側エッ
ジ8及びグルーブ側エッジ9が曲面とされている。そし
て、このディスク基板2では、ランド側エッジ8の曲率
半径R1及びグルーブ側エッジ9の曲率半径R2が20n
m以上となされている。Therefore, in the magneto-optical disk 1 according to the present invention, the land side edge 8 and the groove side edge 9 of the disk substrate 2 are curved as shown in FIG. Then, in the disc substrate 2, the radius of curvature R 2 of the radius of curvature R 1 and a groove-side edge 9 of the land side edge 8 20n
m or more.
【0024】この光磁気ディスク1では、ディスク基板
2のランド側エッジ8の曲率半径R1及びグルーブ側エ
ッジ9の曲率半径R2が、20nm以上と十分大きくな
されているので、ディスク基板2上に形成された光磁気
膜の磁気異方性軸の向きがこの曲面で徐々に変化する。
従って、斜面7の部分に形成された光磁気膜の磁気異方
性軸の乱れが生じ難くなり、ノイズを低減することがで
きる。[0024] In the magneto-optical disc 1, the radius of curvature R 2 of the radius of curvature R 1 and a groove-side edge 9 of the land side edge 8 of the disc substrate 2, since being made more sufficiently large 20 nm, on the disk substrate 2 The direction of the magnetic anisotropy axis of the formed magneto-optical film gradually changes on this curved surface.
Therefore, the magnetic anisotropy axis of the magneto-optical film formed on the slope 7 is less likely to be disturbed, and noise can be reduced.
【0025】なお、この光磁気ディスク1では、記録層
3が、光磁気膜の上層又は下層に配された誘電体膜を有
していてもよい。In the magneto-optical disk 1, the recording layer 3 may have a dielectric film disposed above or below the magneto-optical film.
【0026】上述したような光磁気ディスク1は、次の
ようにして製造される。The magneto-optical disk 1 as described above is manufactured as follows.
【0027】まず、光トラッキング用のグルーブを有す
るディスク基板を作製する。First, a disk substrate having a groove for optical tracking is manufactured.
【0028】ディスク基板には、光磁気ディスクの基板
として通常用いられている公知の材料が用いられる。具
体的には、例えばポリカーボネート樹脂等のプラスチッ
クや、ガラス材料等が挙げられる。As the disk substrate, a known material that is generally used as a substrate for a magneto-optical disk is used. Specifically, for example, a plastic such as a polycarbonate resin, a glass material, or the like is used.
【0029】グルーブを有するディスク基板を作製する
には、射出成形法や、紫外線硬化樹脂法等、公知の方法
により作製することができる。A disk substrate having grooves can be manufactured by a known method such as an injection molding method or an ultraviolet curing resin method.
【0030】例えば、基板材料としてガラスを用いる場
合は、ガラス基板上に例えば紫外線硬化樹脂を塗布し、
この紫外線硬化樹脂に原盤を密着させて紫外線硬化樹脂
を紫外線硬化した後、原盤を剥すことにより基板上の紫
外線硬化樹脂にグルーブが転写形成される(以下、この
ような基板をガラス2P基板と称する。)また、基板材
料としてポリカーボネートを用いる場合は、所定の凹凸
が形成された原盤を用いて、射出成形によりディスク基
板を成形することによりグルーブを形成することができ
る。For example, when glass is used as a substrate material, for example, an ultraviolet curable resin is applied on a glass substrate,
After the master is brought into close contact with the ultraviolet-curable resin to cure the ultraviolet-curable resin with ultraviolet rays, the master is peeled off to transfer and form grooves on the ultraviolet-curable resin on the substrate (hereinafter, such a substrate is referred to as a glass 2P substrate). In the case where polycarbonate is used as the substrate material, a groove can be formed by molding a disk substrate by injection molding using a master having predetermined irregularities.
【0031】次に、グルーブが形成されたディスク基板
の表面に、波長が約100nm〜約400nm程度の遠
紫外線を照射する。遠紫外線を照射することにより、一
般式(1)に示すように、ディスク基板の表面の有機物
質がCO、CO2、H2O等の揮発性物質に分解されて、
揮発除去される。Next, the surface of the disk substrate on which the grooves are formed is irradiated with far ultraviolet rays having a wavelength of about 100 nm to about 400 nm. By irradiating far ultraviolet rays, as shown in the general formula (1), organic substances on the surface of the disk substrate are decomposed into volatile substances such as CO, CO 2 , and H 2 O,
Volatilized and removed.
【0032】 Cm−Hn−Ok → Cm・Hn・Ok → CO,CO2,H2O (1) ディスク基板の表面に遠紫外線を照射し、ディスク基板
表面の一部を分解して揮発除去することにより、ランド
側エッジ及びグルーブ側エッジを大きな曲率半径を有す
る曲面とするとともに、ディスク基板表面を平滑にする
ことができる。[0032] C m -H n -O k → C m · H n · O k → CO, CO 2, H 2 O (1) was irradiated with far ultraviolet ray on the surface of the disc substrate, the portion of the disc substrate surface By decomposing and volatilizing and removing, the land side edge and the groove side edge can be curved surfaces having a large radius of curvature, and the disk substrate surface can be smoothed.
【0033】ランド側エッジ及びグルーブ側エッジを大
きな曲率半径を有する曲面とすることで、この曲面部分
に形成される光磁気膜の磁気異方性軸の乱れが防止され
る。By forming the land side edge and the groove side edge as curved surfaces having a large radius of curvature, disturbance of the magnetic anisotropy axis of the magneto-optical film formed on the curved surface portion is prevented.
【0034】光磁気膜の厚みやトラックピッチ等を考慮
すると、この曲面の曲率半径は、約20nm〜約2μm
程度とすればよい。Considering the thickness of the magneto-optical film and the track pitch, the radius of curvature of this curved surface is about 20 nm to about 2 μm.
It should be about the degree.
【0035】このように、エッジの曲率半径を十分大き
くすることで、エッジ部分に形成される光磁気膜の磁気
異方性軸の方向を徐々に変化させることができ、斜面部
分に形成される光磁気膜の磁気異方性軸の乱れを防止す
ることができる。従って、斜面部分の磁化の乱れによる
ノイズを抑えることができる。As described above, by making the radius of curvature of the edge sufficiently large, the direction of the magnetic anisotropy axis of the magneto-optical film formed at the edge portion can be gradually changed, and formed at the slope portion. Disturbance of the magnetic anisotropy axis of the magneto-optical film can be prevented. Therefore, it is possible to suppress noise due to disturbance of the magnetization of the slope portion.
【0036】このような遠紫外線を供給する光源として
は、例えば、低圧水銀ランプ(波長184.0nm及び
253.7nmにスペクトルが集中)、高圧水銀ランプ
(波長約200nm〜約300nm程度)、Fe系メタ
ルハライドランプ(波長約300nm〜約400nm程
度)、水銀−キセノンショートアークランプ(波長約3
00nm〜400nm程度)等が挙げられる。As a light source for supplying such far ultraviolet rays, for example, a low-pressure mercury lamp (the spectrum is concentrated at a wavelength of 184.0 nm and 253.7 nm), a high-pressure mercury lamp (a wavelength of about 200 nm to about 300 nm), an Fe-based lamp Metal halide lamp (wavelength about 300 nm to about 400 nm), mercury-xenon short arc lamp (wavelength about 3 nm)
(About 00 nm to 400 nm).
【0037】遠紫外線照射は、窒素ガス等の不活性ガス
雰囲気下で行うことが好ましい。遠紫外線照射をN2ガ
ス雰囲気中で行うとディスク基板表面の有機物質の分解
速度が抑えられる。また、酸素の含まれるガス雰囲気中
で遠紫外線照射を行うと、185nmの波長の遠紫外線
は酸素に吸収されてしまい、ディスク基板に到達する光
量が少なく、ディスク基板表面の有機物質を分解する効
率が低下する。Irradiation with far ultraviolet rays is preferably performed in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen gas. When the far ultraviolet irradiation is performed in an N 2 gas atmosphere, the decomposition rate of the organic substance on the disk substrate surface can be suppressed. Further, when far-ultraviolet radiation is performed in a gas atmosphere containing oxygen, far-ultraviolet light having a wavelength of 185 nm is absorbed by oxygen, the amount of light reaching the disk substrate is small, and the efficiency of decomposing organic substances on the disk substrate surface is reduced. Decrease.
【0038】このような遠紫外線照射は、例えばポリカ
ーボネートからなるディスク基板を用いた場合、遠紫外
線の照射エネルギーを50mJ/cm2以上とすること
が好ましい。また、ガラス2P基板を用いた場合、遠紫
外線の照射エネルギーを200mJ/cm2以上とする
ことが好ましい。遠紫外線の照射エネルギーを上述のよ
うにすることで、ディスク基板表面の有機物質の分解を
効率よく行うことができる。In the case of using a far-ultraviolet ray irradiation, for example, when a disk substrate made of polycarbonate is used, the irradiation energy of the far-ultraviolet ray is preferably set to 50 mJ / cm 2 or more. When a glass 2P substrate is used, the irradiation energy of far ultraviolet rays is preferably set to 200 mJ / cm 2 or more. By setting the irradiation energy of the far ultraviolet as described above, the organic substance on the surface of the disk substrate can be efficiently decomposed.
【0039】次に、遠紫外線照射が行われたディスク基
板上に記録層と保護層とを形成することにより、図1に
示されるような構成の光磁気ディスク1が作製される。Next, a magneto-optical disk 1 having the structure shown in FIG. 1 is manufactured by forming a recording layer and a protective layer on the disk substrate that has been irradiated with the far ultraviolet rays.
【0040】記録層は、例えば、情報信号が記録される
光磁気膜と反射膜とが積層されてなる。これらの光磁気
膜及び反射膜は、蒸着法やスパッタリング法等の、いわ
ゆる気相メッキ法により形成される。また、光磁気膜の
上層又は下層に誘電体膜を形成してもよい。The recording layer is formed, for example, by laminating a magneto-optical film on which an information signal is recorded and a reflective film. These magneto-optical films and reflective films are formed by a so-called vapor phase plating method such as a vapor deposition method or a sputtering method. Further, a dielectric film may be formed above or below the magneto-optical film.
【0041】保護層は、例えば紫外線硬化樹脂を、例え
ばスピンコートにより記録層上に塗布し、遠紫外線を照
射して紫外線硬化樹脂を硬化させることにより形成され
る。The protective layer is formed, for example, by applying an ultraviolet curable resin onto the recording layer by, for example, spin coating, and irradiating far ultraviolet rays to cure the ultraviolet curable resin.
【0042】以下、ディスク基板上に遠紫外線照射を行
った実験例について説明する。Hereinafter, an experimental example in which far ultraviolet irradiation is performed on a disk substrate will be described.
【0043】〈実験例1〉基板材料としてポリカーボネ
ートを用いたディスク基板の表面に遠紫外線照射を行っ
た。遠紫外線照射を行う前のディスク基板の形状を図3
に示す。遠紫外線照射前は、ランド側エッジの曲率半径
が約10nm、グルーブ側エッジの曲率半径が約10n
mであった。<Experimental Example 1> The surface of a disk substrate using polycarbonate as a substrate material was irradiated with far ultraviolet rays. FIG. 3 shows the shape of the disk substrate before irradiation with deep ultraviolet rays.
Shown in Before the irradiation with the far ultraviolet rays, the radius of curvature of the land side edge is about 10 nm, and the radius of curvature of the groove side edge is about 10 n.
m.
【0044】遠紫外線照射は、N2で置換された雰囲気
下で行った。光源としては低圧水銀ランプを用いた。遠
紫外線照射は180mJ/cm2の照射エネルギーで約
3分間行った。また、このときのディスク基板上の光強
度は約1mW/cm2であった。The irradiation with far ultraviolet rays was performed in an atmosphere substituted with N 2 . A low-pressure mercury lamp was used as a light source. The far ultraviolet irradiation was performed at an irradiation energy of 180 mJ / cm 2 for about 3 minutes. At this time, the light intensity on the disk substrate was about 1 mW / cm 2 .
【0045】遠紫外線照射を約3分間行った後のディス
ク基板の形状を図4に示す。図4から明らかなように、
ディスク基板の形状の変形が確認された。遠紫外線照射
開始後約1分でディスク基板の変形が始まり、遠紫外線
照射約3分でグルーブの深さが照射前のグルーブの深さ
の約半分となった。ランド及びグルーブのエッジが丸く
なり、また、ディスク基板表面の平滑度が向上した。遠
紫外線照射後は、ランド側エッジの曲率半径が約80n
m、グルーブ側エッジの曲率半径が約30nmとなって
いた。FIG. 4 shows the shape of the disk substrate after irradiation with far ultraviolet rays for about 3 minutes. As is clear from FIG.
Deformation of the shape of the disk substrate was confirmed. The deformation of the disk substrate started about 1 minute after the start of the irradiation with the far ultraviolet light, and the depth of the groove became about half of the depth of the groove before the irradiation about 3 minutes after the irradiation with the far ultraviolet light. The lands and grooves have rounded edges, and the smoothness of the disk substrate surface is improved. After irradiating far ultraviolet rays, the radius of curvature of the land side edge is about 80n.
m, the radius of curvature of the groove side edge was about 30 nm.
【0046】このようにディスク基板の表面に遠紫外線
を照射して変形を施した後に、光磁気膜を形成して、ノ
イズの特性を評価した。After the surface of the disk substrate was deformed by irradiating it with far ultraviolet rays, a magneto-optical film was formed, and the noise characteristics were evaluated.
【0047】遠紫外線の照射時間と、C/Nとの関係を
図5に示す。このときのレーザ光の波長は690nmで
あり、対物レンズのNAは0.55である。また、トラ
ックピッチは0.85μmである。図5から明らかなよ
うに、遠紫外線照射時間が3分までの範囲では、C/N
が徐々に向上しており、遠紫外線照射の効果が明らかに
認められた。FIG. 5 shows the relationship between the irradiation time of far ultraviolet rays and C / N. At this time, the wavelength of the laser beam is 690 nm, and the NA of the objective lens is 0.55. The track pitch is 0.85 μm. As is clear from FIG. 5, when the far ultraviolet irradiation time is up to 3 minutes, C / N
Gradually increased, and the effect of the irradiation with far ultraviolet rays was clearly recognized.
【0048】また、遠紫外線の照射時間と、プルインレ
ベル(光レベルからの戻り光量)との関係を図6に示
す。図6から、遠紫外線照射時間が長くなるとともにプ
ルインレベルが上昇していることがわかる。プルインレ
ベルの上昇は、遠紫外線照射によってグルーブの深さが
浅くなり、また、ランド部分の幅が広がることによるも
ので、遠紫外線照射の効果が確認できる。FIG. 6 shows the relationship between the irradiation time of far ultraviolet rays and the pull-in level (the amount of light returning from the light level). From FIG. 6, it can be seen that the pull-in level increases as the far ultraviolet irradiation time increases. The increase in the pull-in level is due to the fact that the depth of the groove becomes shallower due to the irradiation of the far ultraviolet light and the width of the land portion is widened.
【0049】また、上記プルインレベルで規格化した遠
紫外線照射時間とキャリアレベル及びノイズレベルとの
関係を図7に示す。図7から、キャリアレベルは遠紫外
線照射時間によらずほぼ一定であるが、ノイズレベルは
遠紫外線照射時間に従って徐々に低下していることがわ
かる。従って、遠紫外線照射によるディスク基板の形状
の変形がノイズレベルの低減に効果があることが確認で
きる。FIG. 7 shows the relationship between the far ultraviolet irradiation time normalized by the pull-in level, the carrier level and the noise level. FIG. 7 shows that the carrier level is almost constant irrespective of the far ultraviolet irradiation time, but the noise level gradually decreases with the far ultraviolet irradiation time. Therefore, it can be confirmed that the deformation of the shape of the disk substrate due to the irradiation of far ultraviolet rays is effective in reducing the noise level.
【0050】また、図8は、ランド側エッジの曲率半径
とC/Nとの関係を示した図である。図8から明らかな
ように、エッジ部分の曲率半径が大きい程、光磁気膜の
磁化の乱れがなくなり、曲率半径が20nm以上のとき
に高いC/Nが得られていることがわかる。FIG. 8 is a diagram showing the relationship between the radius of curvature of the land side edge and C / N. As is clear from FIG. 8, the larger the radius of curvature of the edge portion is, the less the disturbance of the magnetization of the magneto-optical film is, and the higher the radius of curvature is 20 nm or higher, the higher the C / N ratio is obtained.
【0051】〈実験例2〉ガラス2P基板の表面に遠紫
外線照射を行った。遠紫外線照射を行う前のディスク基
板の形状を図9に示す。遠紫外線照射前は、ランド側エ
ッジの曲率半径が約95nm、グルーブ側エッジは曲率
半径が測定不能なほど急峻に屈曲していた。<Experimental Example 2> The surface of the glass 2P substrate was irradiated with far ultraviolet rays. FIG. 9 shows the shape of the disk substrate before the irradiation with far ultraviolet rays. Before the irradiation with the far ultraviolet ray, the radius of curvature of the land side edge was about 95 nm, and the groove side edge was bent so steeply that the radius of curvature could not be measured.
【0052】遠紫外線照射は、N2で置換された雰囲気
下で行った。光源としては低圧水銀ランプを用いた。遠
紫外線照射は600mJ/cm2の照射エネルギーで約
10分間行った。このときのディスク基板上の光強度は
約1mW/cm2であった。The irradiation with far ultraviolet rays was performed in an atmosphere substituted with N 2 . A low-pressure mercury lamp was used as a light source. The far ultraviolet irradiation was performed at an irradiation energy of 600 mJ / cm 2 for about 10 minutes. At this time, the light intensity on the disk substrate was about 1 mW / cm 2 .
【0053】遠紫外線照射を行った後のディスク基板の
形状を図10に示す。図10から明らかなように、基板
の形状の変形が確認された。また、グルーブの深さは照
射前の約半分まで浅くなっていた。また、遠紫外線照射
を行うことにより、ディスク基板表面の平滑度が明らか
に向上している。遠紫外線照射後は、ランド側エッジの
曲率半径が約110nm、グルーブ側エッジの曲率半径
が約40nmとなっていた。FIG. 10 shows the shape of the disk substrate after irradiation with far ultraviolet rays. As is clear from FIG. 10, deformation of the shape of the substrate was confirmed. The depth of the groove was reduced to about half of that before irradiation. Further, by performing the irradiation with the far ultraviolet rays, the smoothness of the disk substrate surface is clearly improved. After the irradiation with the far ultraviolet rays, the radius of curvature of the land side edge was about 110 nm, and the radius of curvature of the groove side edge was about 40 nm.
【0054】窒素ガスの置換が十分なされていない遠紫
外線照射装置で同様の実験を行ったところ、グルーブの
変形の効率が悪く、2J/cm2の照射でもグルーブの
エッジが一部残り、表面の平滑性も悪かった。従って、
本発明では、窒素ガス雰囲気中で遠紫外線照射したとき
に、効果がより認められる。When a similar experiment was performed using a far ultraviolet irradiation apparatus in which the replacement of nitrogen gas was not sufficient, the efficiency of groove deformation was low, and even at 2 J / cm 2 irradiation, a part of the groove edge remained, and The smoothness was also poor. Therefore,
In the present invention, the effect is more remarkable when far ultraviolet irradiation is performed in a nitrogen gas atmosphere.
【0055】このように、ディスク基板の表面に遠紫外
線を照射して変形を施した後に、光磁気膜を形成して、
特性を評価した。As described above, after the surface of the disk substrate is deformed by irradiating it with ultraviolet rays, a magneto-optical film is formed.
The properties were evaluated.
【0056】遠紫外線の照射時間と、C/Nとの関係を
図11に示す。このときのレーザー光の波長は640n
m、レンズのNAは0.85である。光スポット径は小
さいが、トラックピッチは0.55μmであり、ポリカ
ーボネートでの実験例の場合と、光スポット径に対して
同じトラック幅となっている。FIG. 11 shows the relationship between the irradiation time of far ultraviolet rays and C / N. The wavelength of the laser beam at this time is 640 n
m, the NA of the lens is 0.85. Although the light spot diameter is small, the track pitch is 0.55 μm, and the track width is the same as the light spot diameter as in the experimental example using polycarbonate.
【0057】図11から明らかなように、遠紫外線の照
射時間が10分までの範囲では、遠紫外線照射時間に伴
ってC/Nが徐々に向上している。遠紫外線を10分間
照射した後では、遠紫外線照射前に比べてC/Nが約5
dBも向上しており、狭トラックピッチの場合に、遠紫
外線照射によるグルーブ形状の変形の効果がより高いこ
とが確認できる。As is clear from FIG. 11, in the range where the irradiation time of the far ultraviolet rays is up to 10 minutes, the C / N gradually increases with the irradiation time of the far ultraviolet rays. After irradiating with far ultraviolet rays for 10 minutes, the C / N is about 5 times higher than before irradiating with far ultraviolet rays.
The dB is also improved, and it can be confirmed that, in the case of a narrow track pitch, the effect of the deformation of the groove shape by irradiation with far ultraviolet rays is higher.
【0058】また、図12は、グルーブ側エッジの曲率
半径とC/Nとの関係を示した図である。図12から明
らかなように、グルーブ側エッジの曲率半径が大きい
程、光磁気膜の磁化の乱れがなくなり、曲率半径が20
nm以上のときに高いC/Nが得られていることがわか
る。FIG. 12 is a diagram showing the relationship between the radius of curvature of the groove side edge and C / N. As is clear from FIG. 12, the larger the radius of curvature of the groove-side edge is, the less the magnetization of the magneto-optical film is disturbed, and the larger the radius of curvature becomes.
It can be seen that a high C / N is obtained when the thickness is equal to or more than nm.
【0059】また、図13は、図9の遠紫外線照射前の
ディスク基板を元にして作製された反転基板の形状であ
る。このディスク基板上に光磁気膜を形成し、同様にC
/Nを評価したところ、C/Nが低いという結果が得ら
れた。したがって、グルーブのエッジ部分は、どちらか
一方が急峻であっても、光磁気膜の磁化が乱れてしまう
ため、ランド側、グルーブ側のエッジがともに曲面とさ
れ、その曲率半径が十分に大きいことが好ましい。FIG. 13 shows the shape of an inverted substrate manufactured based on the disk substrate before the irradiation with the far ultraviolet rays in FIG. A magneto-optical film is formed on this disk substrate, and C
When the / N was evaluated, the result that the C / N was low was obtained. Therefore, the magnetization of the magneto-optical film is disturbed at the edge portion of the groove even if either one is steep, so both the land side and the groove side edges are curved surfaces, and the radius of curvature thereof is sufficiently large. Is preferred.
【0060】[0060]
【発明の効果】本発明の光磁気ディスクでは、上記ラン
ドと上記斜面との境界及び上記グルーブと上記斜面との
境界が曲面とされるとともに、その曲率半径が20nm
以上となされているので、曲面部分に形成された光磁気
膜の磁化方向に乱れが生じ難く、ノイズが少なく、高い
C/Nを有する優れた光磁気ディスクを実現することが
できる。According to the magneto-optical disk of the present invention, the boundary between the land and the slope and the boundary between the groove and the slope are curved, and the radius of curvature is 20 nm.
As described above, it is possible to realize an excellent magneto-optical disk in which the magnetization direction of the magneto-optical film formed on the curved surface portion hardly disturbs, the noise is small, and the C / N is high.
【0061】また、本発明の光磁気ディスクの製造方法
では、グルーブが形成されたディスク基板に対して不活
性ガス雰囲気下で遠紫外線を照射するので、グルーブの
形状が最適化され、グルーブ部分に形成される光磁気膜
の磁化方向が乱れ難くなるため、ノイズが少なく、高い
C/Nを有する優れた光磁気ディスクを得ることができ
る。In the method for manufacturing a magneto-optical disk according to the present invention, the disk substrate on which the groove is formed is irradiated with far ultraviolet rays in an inert gas atmosphere, so that the shape of the groove is optimized, and Since the magnetization direction of the formed magneto-optical film is less likely to be disturbed, an excellent magneto-optical disk having low noise and high C / N can be obtained.
【図1】本発明の光磁気ディスクの一構成例を示す断面
図である。FIG. 1 is a sectional view showing a configuration example of a magneto-optical disk according to the present invention.
【図2】図1のディスク基板の形状を示す断面図であ
る。FIG. 2 is a sectional view showing the shape of the disk substrate of FIG.
【図3】遠紫外線照射前のディスク基板の形状を示す断
面図である。FIG. 3 is a sectional view showing a shape of a disk substrate before irradiation with far ultraviolet rays.
【図4】遠紫外線照射後のディスク基板の形状を示す断
面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing the shape of a disk substrate after irradiation with far ultraviolet rays.
【図5】遠紫外線照射時間とC/Nとの関係を示す図で
ある。FIG. 5 is a diagram showing a relationship between a far ultraviolet irradiation time and C / N.
【図6】遠紫外線照射時間とプルインレベルとの関係を
示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a relationship between a far ultraviolet irradiation time and a pull-in level.
【図7】遠紫外線照射時間とノイズレベル及びキャリア
レベルとの関係を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a relationship between a far ultraviolet irradiation time, a noise level, and a carrier level.
【図8】ディスク基板のエッジの曲率半径とC/Nとの
関係を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing the relationship between the radius of curvature of the edge of the disk substrate and C / N.
【図9】遠紫外線照射前のディスク基板の形状を示す断
面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view showing a shape of a disk substrate before irradiation with far ultraviolet rays.
【図10】遠紫外線照射後のディスク基板の形状を示す
断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing the shape of the disk substrate after irradiation with far ultraviolet rays.
【図11】遠紫外線照射時間とC/Nとの関係を示す図
である。FIG. 11 is a diagram showing a relationship between a far ultraviolet irradiation time and C / N.
【図12】ディスク基板のエッジの曲率半径とC/Nと
の関係を示す図である。FIG. 12 is a diagram showing the relationship between the radius of curvature of the edge of the disk substrate and C / N.
【図13】図9のディスク基板を反転させたディスク基
板の形状を示す断面図である。13 is a cross-sectional view illustrating a shape of a disk substrate obtained by inverting the disk substrate of FIG.
【符号の説明】 1 光磁気ディスク、 2 ディスク基板、 3 記録
層、 4 保護層、5 グルーブ、 6 ランド、 7
斜面、 8 ランド側エッジ、 9 グルーブ側エッ
ジ[Description of Signs] 1 magneto-optical disk, 2 disk substrate, 3 recording layer, 4 protective layer, 5 groove, 6 land, 7
Slope, 8 Land side edge, 9 Groove side edge
Claims (7)
れたディスク基板上に、磁気光学効果を有する光磁気膜
が形成され、上記グルーブのエッジ部分は曲面とされる
とともに、それらの曲率半径が20nm以上であること
を特徴とする光磁気ディスク。1. A magneto-optical film having a magneto-optical effect is formed on a disk substrate on which a groove is formed along a recording track, and the edge of the groove has a curved surface and the radius of curvature thereof is 20 nm. A magneto-optical disk characterized by the above.
上記側壁と上記底面との境界は曲面とされるとともに、
それらの曲率半径が20nm以上であることを特徴とす
る請求項1記載の光磁気ディスク。2. The groove has a side wall and a bottom surface,
The boundary between the side wall and the bottom surface is a curved surface,
2. The magneto-optical disk according to claim 1, wherein the radius of curvature thereof is 20 nm or more.
からなることを特徴とする請求項1記載の光磁気ディス
ク。3. The magneto-optical disk according to claim 1, wherein said disk substrate is made of polycarbonate.
を有していることを特徴とする請求項1記載の光磁気デ
ィスク。4. The magneto-optical disk according to claim 1, wherein said disk substrate has an ultraviolet curable resin layer.
るディスク基板作製工程と、 上記ディスク基板作製工程で作製された上記ディスク基
板に対して、不活性ガス雰囲気下で遠紫外線を照射する
遠紫外線照射工程と、 上記遠紫外線照射工程で遠紫外線が照射された上記ディ
スク基板上に、磁気光学効果を有する光磁気膜を成膜す
る成膜工程とを有することを特徴とする光磁気ディスク
の製造方法。5. A disk substrate manufacturing step for manufacturing a disk substrate having a groove, and a far ultraviolet irradiation step of irradiating the disk substrate manufactured in the disk substrate manufacturing step with far ultraviolet light in an inert gas atmosphere. And a film forming step of forming a magneto-optical film having a magneto-optical effect on the disk substrate irradiated with the far ultraviolet light in the far ultraviolet light irradiating step.
とする請求項5記載の光磁気ディスクの製造方法。6. The method for manufacturing a magneto-optical disk according to claim 5, wherein said inert gas is nitrogen.
0nmとすることを特徴とする請求項5記載の光磁気デ
ィスクの製造方法。7. The wavelength of the far ultraviolet light is from 100 nm to 40 nm.
6. The method for manufacturing a magneto-optical disk according to claim 5, wherein the thickness is set to 0 nm.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1076598A JPH11213470A (en) | 1998-01-22 | 1998-01-22 | Magneto-optical disk and its manufacture |
Applications Claiming Priority (1)
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JP1076598A JPH11213470A (en) | 1998-01-22 | 1998-01-22 | Magneto-optical disk and its manufacture |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH11213470A true JPH11213470A (en) | 1999-08-06 |
Family
ID=11759434
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JP1076598A Abandoned JPH11213470A (en) | 1998-01-22 | 1998-01-22 | Magneto-optical disk and its manufacture |
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Country | Link |
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JP (1) | JPH11213470A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004006240A1 (en) | 2002-07-04 | 2004-01-15 | Sony Corporation | Magneto-optical recording medium |
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-
1998
- 1998-01-22 JP JP1076598A patent/JPH11213470A/en not_active Abandoned
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