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JPH11213332A - 薄膜磁気ヘッド及び磁気ディスク装置 - Google Patents

薄膜磁気ヘッド及び磁気ディスク装置

Info

Publication number
JPH11213332A
JPH11213332A JP1013898A JP1013898A JPH11213332A JP H11213332 A JPH11213332 A JP H11213332A JP 1013898 A JP1013898 A JP 1013898A JP 1013898 A JP1013898 A JP 1013898A JP H11213332 A JPH11213332 A JP H11213332A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
film
thin
magnetic head
pole tip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1013898A
Other languages
English (en)
Inventor
Gen Oikawa
玄 及川
Makoto Morijiri
誠 森尻
Noriyuki Saiki
教行 斉木
Sho Kondo
祥 近藤
Hiroshi Kikuchi
廣 菊池
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP1013898A priority Critical patent/JPH11213332A/ja
Publication of JPH11213332A publication Critical patent/JPH11213332A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】磁極端が正確に位置合わせされ、磁極端の幅及
び厚みが厳密に制御された薄膜磁気ヘッド及びこれを用
いた磁気ディスク装置を提供する。 【解決手段】薄膜磁気ヘッドにおいて、ギャップ材とし
て第一及び第二の磁極端層と同等以上の硬度をもつRh
あるいは、Ru、Re、Mo、Ir、Pdの非磁性金属
膜を使用する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は薄膜磁気ヘッド及び
この薄膜磁気ヘッドを用いた磁気ディスク装置に関する
ものであり、さらに詳細には薄膜磁気ヘッド用に改良さ
れた磁極端構造技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】磁気ディスク装置の大容量化、小型化は
年々急速に進み、高記録密度化技術の開発が必須であ
る。高記録密度化に対応して、再生ヘッドを異方性磁気
抵抗効果(AMR)を用いたMR素子だけでなく、巨大
磁気抵抗効果(GMR)を利用したスピンバルブ型MR
素子とし、記録ヘッドをインダクティブ素子とした記録
再生分離型ヘッドの開発が進んでいる。
【0003】これに伴い、記録ヘッド素子に関しては、
上部書き込みポールのトラック幅狭小化及び高精度化が
要求されている。従来、第二の磁気ヨーク層を電気めっ
き法により形成しているが、めっきパターンを形成する
レジストフレームの形成精度が、要求されるトラック幅
精度に適合できなくなってきている。トラック幅2μm
以下、ポール膜厚3〜5μmの場合、ゼロスロートレベ
ルでのレジストフレームの膜厚は、塗布レジストのつき
まわりからコイル及び絶縁膜上のレジスト膜厚をめっき
膜厚以上に確保する為、10〜15μmが必要で0スロ
ートレベルにおけるレジストフレームのアスペクト比は
5以上となり、従来のフォトリソグラフィ技術の限界に
近づきつつある。また、上部書き込みポールからのフリ
ンジングにより、書き込みパターンのエッヂが上部ポー
ル側に湾曲している。これにより書き込みトラック幅の
拡大、再生出力の低下を招いている。これらのことは高
記録密度化を達成するためには致命的な不具合となって
いる。
【0004】これらの問題を解決すべく、記録ヘッド素
子の構造としては同一のレジストフレームを用いて第一
の磁極端、ギャップ膜、第二の磁極端を電気めっきによ
り形成する構造が特開平6−28626号公報に示され
ている。しかし、上記構造において電気めっきでギャッ
プ層を形成する場合、ギャップ材としてNiP、Au、
Cu等を使用することが示されている。この場合、エア
ベアリング表面(ABS)加工工程においてAuまたは
Cuのように柔らかく、硬度が約500Hv以下である
と加工ダレをおこして浮上面の磁極端形状が変化した
り、ギャップ膜厚が厳密に制御できないという問題があ
る。またNiP膜は熱処理により結晶化し、磁化してし
まうという問題がある。
【0005】一方、第二の磁極端をマスクとしてイオン
ミリングを行い第一の磁極端と同一のトラック幅を画定
する(トリミング)構造が特開平7−262519号公
報に示されている。トリミングを行う場合、ギャップ材
として無機絶縁膜のAl203等を使用すると、書き込
みポールに使用されるNi、Fe、Co等の磁性膜に対
してAl203等のギャップ材のイオンミリング速度が
遅いために、ギャップ層がマスクとなり第一の磁気ヨー
ク層が第二の磁気ヨーク層に対してアンダー側にエッチ
ングされてしまう。従って第一の磁極端トラック幅の寸
法、及び形状を精密に形成することが困難であるという
問題がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は磁極端
の幅、厚み及び形状を厳密に制御して、製造するに好適
なギャップ膜の材料を選定した薄膜磁気ヘッドを提供す
ることにある。
【0007】更に本発明の目的は、媒体ノイズの少ない
かつ高保磁力の電磁変換特性に優れた極めて高い面記録
密度が記録可能な薄膜磁気記録媒体と本発明による薄膜
磁気ヘッドと薄膜磁気ヘッドを位置決めする技術等を組
合わせることで、極めて高記録密度の高性能磁気ディス
ク装置を実現することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の薄膜磁気ヘッド
は、ギャップ材として、第一及び第二の磁極端層と同等
以上の硬さをもつRh、Ru、Re、Mo、Ir、Pd
の非磁性金属膜あるいは、この金属を主体とする合金膜
を使用することにより、磁極端の寸法と磁極端の寸法を
保持する許容誤差が、いずれも非常に精密になる利点を
有している。例えばNiFe膜のビッカース硬度は約4
00〜600Hvであり、Rh、Ru、Re、Mo、I
r、Pdの非磁性金属膜あるいは、この金属を主体とす
る合金膜のギャップ膜はNiFe膜と同等以上の硬度で
あるので、所定のスロートハイトを形成するための浮上
面ラッピングにおいて、研磨ダレを防止できる事が分か
った。更にこれらの金属膜はめっき法により形成する事
が可能であり、磁極端部分を精密な寸法及び形状に形成
するのに好適であることが分かった。
【0009】更に、本発明の磁気ディスク装置は、磁気
記録媒体と、これを記録方向に駆動する駆動部と、記録
部と再生部からなる磁気ヘッドと、該磁気ヘッドを該磁
気記録媒体に対して相対運動させる手段と、該磁気ヘッ
ドの記録信号入力と、該磁気ヘッドからの再生信号出力
を得るための記録再生信号処理手段を有する磁気ディス
ク装置に於いて、磁気ヘッドが、少なくとも上部磁性
膜、下部磁性膜、磁気ギャップ膜、導体コイル、及び絶
縁膜を有する薄膜磁気ヘッドに於いて、第一の磁極端層
と第二の磁極端層の間のギャップ層に対し、ギャップ材
として、Rh、Ru、Re、Mo、Ir、Pdの金属あ
るいは、この金属を主体とする合金膜を使用した薄膜磁
気ヘッドを備えている。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、実施例を図面を用いて具体
的に説明する。
【0011】本発明による磁極端の好ましい実施例を図
1及び図2に示す。図1はヘッドを所定のスロートハイ
トにラッピングする前の磁極端の斜視図を示し、図2は
所定のスロートハイトにラッピングした後のABSの磁
極端の検出縁を示す。図3は本実施例により完成した薄
膜磁気ヘッドを示し、図4は薄膜磁気ヘッドの先端部の
断面図を示す。なをこれらの図は記録ヘッド部の構造を
示している。図4に示すように、薄膜磁気ヘッド12は
非磁性の基板7上に付着させた第一の磁気ヨーク層5を
備え、ギャップ層3は磁気媒体に対して変換を行えるよ
うに、好ましくは周知のようにエア・ベアリングが形成
されるように、相互作用する変換ギャップ30を画定す
る。この為、非磁性の基板7は磁気ディクス装置の動作
中に回転する磁気ディクス等の記録媒体に近接して飛翔
する、ABS13等の検出縁を有するスライダとして形
成する。第一の磁気ヨーク層5及び第二の磁気ヨーク層
6は共にABS13から後部ギャップ領域15に延び
る。2つの磁気ヨーク層5と6は、ABS13で磁極端
先端部4によって分離され、後部ギャップ領域15で互
いに接触する。ABS13と後部ギャップ領域15との
間の空間で2つの磁気ヨーク層5と6は隔置され、コイ
ル構造11用の空間を形成している。コイル構造11と
2つの磁気ヨーク層5及び6は非磁性の電気絶縁材料の
層8、9、10によって分離されている。図1を参照す
るに、コイル構造11は中央部の第一の電気接点31と
外部の電気接点32を有するらせん状の複数の巻線11
を有する。接点31と32はデータ信号を処理する為
に、外部配線及びヘッド回路(図示せず)に接続されて
いる。
【0012】磁極端先端部4は第一の磁極端層1とギャ
ップ層3と第二の磁極端層2を含み、第一の磁気ヨーク
層5に接触して形成される。磁極先端部として、例えば
トラック幅1μm、第一の磁極端層1の厚さ1μm、ギ
ャップ層3の厚さ0.4μm、第二の磁極端層2の厚さ
1μmの実施例を以下に示す。この磁極端先端部4の形
成方法は、第一の磁気ヨーク層5上にめっき下地膜とし
てNiFe系めっき用導通膜をスパッタリング法等で付
着し、その上にフォトレジストを磁極端先端部形状の開
口形にパターニングする。開口形は、例えば幅1μm、
長さ10μm高さ3μmの直方体を用いる事ができる。
【0013】めっき前処理をした後、次に電気めっきに
より第一の磁極端層FeNi1μm、ギャップ層Rh
0.4μm、第二の磁極端層FeNi1μmを連続して
めっきする。ギャップ材としてはRh以外にはRu、R
e、Mo、Ir、Pdの非磁性金属膜あるいは、この金
属を主体とする合金膜が好適である。次にフォトレジス
トを除去し、磁極端先端部以外の不要なめっき膜をドラ
イエッチング又はウェットエッチングにより除去するこ
とで磁極端先端部4が完成する。この形成方法により第
一の磁極端層と第二の磁極端層が互いに精密に位置合せ
され、ギャップ領域でのトラック幅が精密に等しい磁極
端が得られる。
【0014】このようにして得られた磁極端先端部に対
して、コイル、絶縁膜及び第二の磁気ヨーク層を形成
し、磁気ヘッドを構成する。さらに端子、保護膜を形成
する事により薄膜ヘッド素子が形成された基板が完成す
る。続いて薄膜ヘッドスライダーを作成する。この基板
を通常のスライダー作成工程と同様に薄膜ヘッドスライ
ダーバーに切断後、ABS面をラッピングにより浮上面
加工し、所定のスロートハイトに加工する。この時、ギ
ャップ膜としてRhを用いた場合、その硬さは磁極に用
いられているNi、FeあるいはCo系の磁性材料と同
等の硬度500Hv以上であるので、ラッピング時の膜
の研磨ダレを生じてしまうという欠陥を防止できる。R
hは市販のめっき液を用いて電気めっき法で形成する事
ができ、硬度は900〜1000Hvを得ることができ
る。同様に電気めっき法で形成したギャップ膜として、
Ruは約800Hv、Reは約1300Hv、Moは約
1400Hv、Irは約1700Hv、Pdは約500
Hvの硬度であり、浮上面ラッピング時の研磨ダレを防
止する事ができる。また、これらの金属膜はNiPの様
に熱処理によって磁化する事はない点でも、ギャップ膜
に適用するに適した金属膜である。本発明の他の実施例
として薄膜ヘッドの浮上面形状を図5及び図6に示す。
図5は第一の磁気ヨーク層16上にギャップ層18とし
てRhあるいはRu、Re、Mo、Ir、Pd等の金属
膜あるいは、この金属を主体とする合金膜を形成し、そ
の上に第二の磁気ヨーク層17を形成したものである。
また、図6は第一の磁気ヨーク層16上にギャップ層1
8及び第二の磁気ヨーク層17を、同一のフレームレジ
ストをマスクとしてめっき法で形成したものである。こ
れらの実施例についても、ギャップ膜に硬い非磁性金属
膜を採用する事により、所定のスロートハイトを得るた
めの浮上面ラッピング加工時に研磨ダレを防止できる事
が明らかである。
【0015】本発明による薄膜磁気ヘッドの他の実施例
を図7及び図8に示す。これはトリミング構造の磁極先
端部の構造に本発明を適用したものである。図7はヘッ
ドを所定のスロート高さにラッピングしたときの磁極端
の斜視図を示し、図8は磁極端の検出縁を示す。この実
施例による磁極端の形成方法を以下に示す。非磁性の基
板上に第一の磁気ヨーク層22を付着させ、その上にギ
ャップ層24を付着し、さらに電気めっきにより第二の
磁気ヨーク層23を形成する。続いて第二の磁気ヨーク
層24をマスクとして、ギャップ層23と第一の磁気ヨ
ーク層22に対してArイオンミリングを行う。この形
成方法により互いに精密に位置合せされ、ギャップ領域
でのトラック幅が精密に等しい磁極端が得られる。そこ
でギャップ材としてRhあるいはRu、Re、Mo、I
r、Pd等を使用すれば、第一の磁気ヨーク層22と第
二の磁気ヨーク層23に対して同等のミリングレートを
取り、図8に示す通りトラック幅を精密に画定すること
ができる。
【0016】以上の様なトラック幅を精密に画定した記
録ヘッド部を持つ、薄膜磁気ヘッドを用いることによ
り、高記録密度の磁気ディクス装置を構成することが可
能になる。
【0017】尚、前述の実施例に示した本発明の薄膜磁
気ヘッドの特性確認及び装置として特性確認等は、図9
に示すような、媒体ノイズの少ないかつ高保磁力の電磁
変換特性に優れた極めて高い面記録密度が記録可能な薄
膜磁気記録媒体203と、これを記録方向に駆動する駆
動部であるスピンドルモータ202と、記録部と再生部
からなる本発明による薄膜磁気ヘッド204と、該薄膜
磁気ヘッド204を該磁気記録媒体203に対して相対
運動をさせる手段であるガイドアーム205と、該薄膜
磁気ヘッド204への信号入力と該薄膜磁気ヘッド20
4からの出力信号再生を行う為の記録再生信号処理回路
201を有する構成の磁気ディスク装置を作製し確認し
た。ここで、本発明による磁気ディクス装置は、複数の
磁気記録媒体203を有し、該相対運動をさせる手段2
05が複数の本発明による該薄膜磁気ヘッド204を有
した構成でも良いことは言うまでもない。また本発明に
よる磁気ディスク装置を構成する該薄膜磁気ヘッド20
4は、異方性磁気抵抗効果(AMR)を用いたMRヘッ
ドだけでなく、巨大磁気抵抗効果(GMR)を利用した
スピンバルブ型MRヘッドにも適用できるものである。
【0018】
【発明の効果】本発明によれば磁極端が正確に位置合わ
せされ、磁極端の幅及び厚みが厳密に制御された薄膜磁
気ヘッドを提供することができる。
【0019】更に本発明の目的は、媒体ノイズの少ない
かつ高保磁力の電磁変換特性に優れた極めて高い面記録
密度が記録可能な薄膜磁気記録媒体と本発明によるトラ
ック幅を精密に画定した記録ヘッドを持つ薄膜磁気ヘッ
ドと薄膜磁気ヘッドを位置決めする技術等を組合わせる
ことで、極めて高記録密度の高性能磁気ディスク装置を
実現することにある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による第一の実施例の、薄膜磁気ヘッド
の磁極端の斜視図である。
【図2】本発明による第一の実施例の、薄膜磁気ヘッド
の磁極端エア・ベアリング表面を示す図である。
【図3】本発明による薄膜磁気ヘッドの平面図である。
【図4】図3の線A−A′に沿った断面図である。
【図5】本発明による第二の実施例の、薄膜磁気ヘッド
の磁極端エア・ベアリング表面を示す図である。
【図6】本発明による第三の実施例の、薄膜磁気ヘッド
の磁極端エア・ベアリング表面を示す図である。
【図7】本発明による第四の実施例の、薄膜磁気ヘッド
の磁極端の斜視図である。
【図8】本発明による第四の実施例の、薄膜磁気ヘッド
の磁極端エア・ベアリング表面を示す図である。
【図9】本発明の一実施例の磁気ディスク装置の斜視模
式図である。
【符号の説明】
1…第一の磁極端、 2…第二の磁極端、 3…ギ
ャップ層、4…磁極端先端部、 5…第一の磁気ヨーク
層、6…第二の磁気ヨーク層、7…非磁性の基板、 8
…電気絶縁材料の層、 9…電気絶縁材料の層、10…
電気絶縁材料の層、 11…コイル構造、12…薄
膜磁気ヘッド、 13…エア・ベアリング表面、
14…ゼロスロートレベル、 15…後部ギャップ領
域、16…第一の磁気ヨーク層、 17…第二の磁気
ヨーク層、18…ギャップ層、 19…第一の磁気ヨー
ク層、20…第二の磁気ヨーク層、 21…ギャップ
層、22…第一の磁気ヨーク層、 23…第二の磁気
ヨーク層、24…ギャップ層、 30…変換
ギャップ、31…コイルと外部配線との電気接点、32
…コイルと外部配線との電気接点、201…記録再生信
号処理回路、202…スピンドルモータ、203…磁気
記録媒体、 204…磁気ヘッド、205…ガイ
ドアーム。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 近藤 祥 神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社 日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者 菊池 廣 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株式 会社日立製作所生産技術研究所内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】少なくとも、上部磁性膜、下部磁性膜、磁
    気ギャップ膜、導体コイル、及び絶縁膜を有する薄膜磁
    気ヘッドにおいて、第一の磁極端層と第二の磁極端層の
    間のギャップ層に対し、ギャップ材として、Rh、R
    u、Re、Mo、Ir、Pdの金属あるいは、この金属
    を主体とする合金膜を使用する薄膜磁気ヘッド。
  2. 【請求項2】磁気記録媒体と、これを記録方向に駆動す
    る駆動部と、記録部と再生部からなる磁気ヘッドと、該
    磁気ヘッドを該磁気記録媒体に対して相対運動させる手
    段と、該磁気ヘッドへの記録信号入力と、該磁気ヘッド
    からの再生信号出力を得るための記録再生信号処理手段
    を有する磁気ディスク装置に於いて、磁気ヘッドとして
    請求項1記載の薄膜磁気ヘッドを備えた磁気ディスク装
    置。
JP1013898A 1998-01-22 1998-01-22 薄膜磁気ヘッド及び磁気ディスク装置 Pending JPH11213332A (ja)

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JP (1) JPH11213332A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7265942B2 (en) 2004-03-30 2007-09-04 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. Inductive magnetic head with non-magnetic seed layer gap structure and method for the fabrication thereof
US7268975B2 (en) * 2002-10-24 2007-09-11 Headway Technologies, Inc. High data rate writer with low resistance coil and short yoke
US7359148B2 (en) 2003-08-13 2008-04-15 Tdk Corporation Thin film magnetic head including NiPRe alloy gap layer
US7397632B2 (en) * 2005-03-23 2008-07-08 Fujitsu Limited Soft magnetic thin film and magnetic recording head
US7596855B2 (en) 2001-06-20 2009-10-06 Sae Magnetics (H.K.) Ltd. Method for manufacturing a magnetic head

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Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20040615