JPH11212249A - フォトマスクの洗浄装置 - Google Patents
フォトマスクの洗浄装置Info
- Publication number
- JPH11212249A JPH11212249A JP1135298A JP1135298A JPH11212249A JP H11212249 A JPH11212249 A JP H11212249A JP 1135298 A JP1135298 A JP 1135298A JP 1135298 A JP1135298 A JP 1135298A JP H11212249 A JPH11212249 A JP H11212249A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- case
- cleaning
- foreign matter
- air blow
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000005406 washing Methods 0.000 title abstract 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 69
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims abstract description 48
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims description 22
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 18
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 14
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 7
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 8
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 101100269850 Caenorhabditis elegans mask-1 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
およびフォトマスクケースの内部も清掃できると共に、
洗浄後のフォトマスク表面の異物検査も効率良く行える
洗浄装置を提供する。 【解決手段】 所定の位置に載置したフォトマスクケー
ス2よりフォトマスク1を取り出し、第1のエアーブロ
ーノズル10により付着した異物を除去するフォトマス
ク洗浄手段と、フォトマスク洗浄手段により洗浄された
フォトマスク1の面上の異物を検査するために洗浄され
たフォトマスク1を所定の状態に設定するフォトマスク
検査位置設定手段と、エアーブローのためにフォトマス
クが取り出された状態のフォトマスクケース2の内部を
第2のエアーブローノズル11により清掃するケース内
部清掃手段と、異物検査の終了したフォトマスク1を内
部が清掃されたフォトマスクケース1に収納する収納手
段とを備える。
Description
製造工程、特にリソグラフィ工程で用いるフォトマスク
(例えば、レチクル単体あるいはペリクル付きのレチク
ル等)の表面に付着した異物を除去するためのフォトマ
スクの洗浄装置に関するものである。
号公報に示された従来の異物除去部を含むフォトマスク
(レチクル単体あるいはペリクル付きのレチクル)の異
物検査装置の構成を示す斜視図である。この従来の異物
検査装置は、作業者の手に頼ることなく、フォトマスク
上の異物を好適に除去することができるフォトマスクの
異物検査装置を提供することを目的としたものであり、
所定の搬送経路に従ってフォトマスク1を搬送するマス
ク搬送機構40〜90と、そのマスク搬送機構によって
規定の検査位置に搬送されたフォトマスク1上の異物の
有無を検査する異物検査部20と、フォトマスク1を収
容し、フォトマスク1上の異物をエアー吹き出し部10
0からのエアー吹き出しにより除去(即ち、洗浄)する
異物除去部30とを備えたものである。
可能)なフォトマスクカセットキャリア40と、フォト
マスクカセットキャリア40によって所定位置に搬送さ
れたフォトマスクカセットからその内部に収納されてい
たフォトマスク1を1個ずつ受け取って搬出するマスク
搬出ハンド50と、未使用フォトマスクと使用済みフォ
トマスクの位置を反転させる回転機能を備えたフォトマ
スク交換ハンド60と、フォトマスク検査用の直動ステ
ージ70と、ステッパ本体(図示せず)との間でフォト
マスク1の授受を行うフォトマスク送り込みハンド80
とから構成されている。また、異物検査部20は所定の
検査位置に搬送されたフォトマスク1に対して検査用の
レーザ光等をマスク表面に斜めに照射する光射出部と、
そのマスク表面に照射された光の散乱反射を利用してフ
ォトマスク1上に異物が存在しているか否かを判定する
検査機能を備えている。また、異物除去部30は異物検
査部20に隣接して設けられ、その底部にはエアー吹出
部100が架設されている。さらに直動ステージ70の
移動方向を案内するガイドシャフト90が延出してお
り、これによって直動ステージ70が異物検査部20と
異物除去部30との間を自由に往復移動できる構成とな
っている。
は、異物検査部20にて異物ありと判定されたフォトマ
スク1を異物除去部30に収容し、そこでエアー吹出部
100からのエアー吹き付けにより異物の除去を自動的
に行うので、人為的ミスによるフォトマスク1の破損は
無くなる。また、エアーの吹き付けによりフォトマスク
1上の異物を除去する場合は、シャッター部110を閉
じることで、異物除去部30から異物検査部20への異
物の侵入を阻止することができるため、異物検査部20
における清掃雰囲気が汚染されることも防止できる。さ
らに、異物除去部30に排出部120を設けることによ
ってもフォトマスク1上から除去した異物をエアーと共
に排出部120から外部に排出するように構成されてい
るので、エアーの吹き付けにより舞い上がった異物がフ
ォトマスク1に再付着することも防げる。
のクリーンルームの中には1ラインあたり数千〜数万枚
のフォトマスクが動いており、たとえクリーンルームの
中であっても作業者や物が動いているので、クリーンル
ーム内部では浮遊塵となった異物が発生しており、フォ
トマスクを保護するためにフォトマスク1個毎にフォト
マスクケース(フォトマスクカセット)が必要である。
また、保管庫と生産装置の間でフォトマスクのハンドリ
ング作業があり、作業者からフォトマスクへ異物が付着
する可能性があるためケースによるハンドリングが必要
である。このような理由により、半導体工場内では必ず
フォトマスク1個に対してフォトマスクケース1個が一
対となって動いており、フォトマスクケースの内部には
半導体工場内の微細な浮遊塵等が付着している。従っ
て、フォトマスクケースの内部に付着していた浮遊塵等
が異物としてフォトマスクの表面に付着する可能性があ
る。
ンを有する半導体集積回路の製造環境は益々クリーン化
が要求されており、フォトマスクの洗浄と共にフォトマ
スクケースの内部も洗浄する必要が生じてきている。し
かしながら、上記のような従来のフォトマスクの異物検
査装置の異物除去部20はフォトマスク1の表面に付着
した異物を除去するだけであり、フォトマスクカセット
キャリア40に載置されているフォトマスクケース(フ
ォトマスクカセット)の内部を清掃することはできな
い。また、容易に検査環境を最適に設定することによ
り、洗浄後のフォトマスク表面の異物除去工程における
異物の検査品質も更なる改善を図って行かなければなら
ない。また、フォトマスクおよびフォトマスクケース内
部の清掃(即ち、異物除去)工程およびフォトマスク表
面の異物検査工程は一連の作業として自動化され、作業
効率の高いものでなければならない。
めになされたもので、第1の目的はフォトマスクケース
の内部も清掃することのできる装置を実現することにあ
る。また、第2の目的はフォトマスクおよびフォトマス
クケース内部の清掃機能およびフォトマスク表面の異物
検査機能を一体的に備え、自動化された作業性の高い装
置を実現することにある。また、第3の目的は洗浄後の
フォトマスク表面の異物検査を最適な状態で容易に実施
できる装置を実現することにある。
スクの洗浄装置は、所定の位置に載置したフォトマスク
ケースよりフォトマスクを取り出し、第1のエアーブロ
ーノズルにより付着した異物を除去するフォトマスク洗
浄手段と、上記フォトマスク洗浄手段により洗浄された
フォトマスクの面上の異物を検査するために、上記洗浄
されたフォトマスクを所定の状態に設定するフォトマス
ク検査位置設定手段と、エアーブローのためにフォトマ
スクが取り出された状態の上記フォトマスクケースの内
部を第2のエアーブローノズルにより清掃するケース内
部清掃手段と、異物検査の終了したフォトマスクを上記
ケース内部清掃手段により内部が清掃されたフォトマス
クケースに収納する収納手段とを備えたものである。
装置は、フォトマスク洗浄手段、フォトマスク検査位置
設定手段および収納手段による作業は、それぞれ自動的
にその作業が処理されるように構成されていることを特
徴とするものである。
装置のケース内部清掃手段は、フォトマスク洗浄手段に
よるフォトマスクの取り出し方向に対してフォトマスク
ケースを略90度回転する回転駆動機構と、略90度回
転された上記フォトマスクケースの開口部より第2のエ
アーブローノズルを上記フォトマスクケースの内部の所
定の位置まで挿入させる機構と、上記第2のエアーブロ
ーノズルが上記フォトマスクケース内に挿入されると自
動的にエアーブローを開始させる機構とを有したもので
ある。
装置のフォトマスク検査位置設定手段は、投光器からの
照射光に対するフォトマスクの面の角度を所定の値に設
定できるように構成されているものである。
形態を図面に基づいて説明する。尚、図において従来と
同一符号は従来のものと同一あるいは相当のものを表
す。図1はこの発明の実施の形態1であるフォトマスク
の洗浄装置の全体構成を示す斜視図、図2は要部の概略
構成を示す側面図、図3はフォトマスク内部の清掃動作
を説明するための図である。図1乃至図3において、1
はフォトマスク、2はこのフォトマスク1を収納するフ
ォトマスクケース、3はこのフォトマスクケース2から
フォトマスクを出し入れする際に開閉自在なフォトマス
クケース2の蓋、4はこのフォトマスクケース2を載置
するケース載せ台、5はこのケース載せ台4に取り付け
られ、フォトマスクケースを固定するためのフォトマス
クケース固定部、6はケース載せ台4に取り付けられ、
ケース載せ台を回転するための回転用シリンダー、7は
直線移動および昇降自在で、かつフォトマスクケース2
を着脱自在に挟持するフォトマスクチャックである。
保持するフォトマスクハンド、9はこのフォトマスクハ
ンド8を直線移動および昇降駆動するフォトマスクハン
ド駆動部、10はフォトマスクハンド8の上下にそれぞ
れ配置され、複数の小径のエアー吹き出し孔を有し、フ
ォトマスクハンド8の直線移動方向に平行移動自在な一
対のエアーブローノズル(10Aおよび10B)からな
る第1のエアーブローノズルである。また、11はフォ
トマスクケース2の内部を清掃するための第2のエアー
ブローノズル、12は第1のエアーブローノズル10に
よるフォトマスク1の表面に付着した異物を除去する異
物除去工程後のフォトマスク表面の残存異物の有無を目
視検査するための投光器である。また、13はフォトマ
スクケース2が載置されたケース載せ台4を回転用シリ
ンダー6により回転駆動してフォトマスクケース2を所
定の角度に設定するフォトマスクケース傾斜機構部とフ
ォトマスクケース2を所定の位置まで上下方向に移動さ
せるフォトマスクケース上下機構部とを備えたフォトマ
スクケース駆動部である。
洗浄装置の詳細な構成と動作を作業手順に従って時系列
的に説明する。 (1)フォトマスクケースのセット a.まず、図示しないケースワゴン(従来装置のフォト
マスクカセットキャリア40に相当するもの)からフォ
トマスク1が収納されているフォトマスクケース2をケ
ース載せ台4(このケース載せ台4はフォトマスクケー
ス2を位置決めクランプするためのケースホルダーの役
目を有する。)ヘ作業者がセットし、装置前面に設置さ
れた操作スイッチ『スタート』ボタン(図示せず)を押
す。これによりこれ以降はオートモードにより自動運転
を始める。
ても、フォトマスクケース2が落下しないように、フッ
クでフォトマスクケース2の端部を係止できるような構
造となっており、セットの際にフォトマスクケース2の
蓋3が奥の方(即ち、フォトマスクハンド8の方向)に
なる向きにセットする。尚、現状ではケースワゴンから
のフォトマスクケース2の取り出し工程とケース載せ台
4の所定の位置に取り出されたフォトマスクケース2を
セットする工程は自動化されておらず、作業者が手作業
で取り出しセットしている。必要に応じてこれらの工程
を自動化することは容易であるが、発明の核心に関する
部分ではないので、この工程の自動化のための説明は省
略する。
作について説明する。 a.まず、図示しないケース固定用シリンダーの駆動に
よりフォトマスクケース2をケース載せ台4の所定の位
置で自動的に固定する。 b.図示しない蓋開用シリンダーの駆動により、自動的
にフォトマスクケース2の蓋3が開く。 c.先端部にフォトマスクチャック7を設けたフォトマ
スクハンド8がフォトマスクハンド駆動部9により後退
端から前進端まで移動し、フォトマスクケース2内ヘ自
動的に挿入される。 d.フォトマスク1をフォトマスクハンド8がチャッキ
ングするための微調整を行うために、フォトマスクハン
ド駆動部9の図示しない下降用シリンダーの駆動により
フォトマスクハンド8が自動的にわずかに下降する。
2より取り出すために、フォトマスクチャック用シリン
ダーの駆動によりフォトマスク1を自動的にセンターリ
ングし、チャッキングする。 f.フォトマスク1をチャックした状態でフォトマスク
ハンド駆動部9の図示しない上昇用シリンダーの駆動に
より自動的に上昇し、フォトマスクケース2からフォト
マスク1を取り出す時の所定の位置にセットされる。 g.所定の位置まで上昇したフォトマスクハンド8は、
フォトマスク1の表面の異物をエアー吹き付けにより除
去するための第1のエアーブローノズル10によるフォ
トマスクブローの開始位置まで自動的に後退する。以上
で、フォトマスク1の取り出し動作が終了する。
除去)動作について説明する。 a.まず、第1のエアーブローノズル10を構成する一
対の連動する上下2本のエアーブロー用ノズル10Aお
よび10Bがフォトマスク1の両面に接近するために、
シリンダーの駆動により待機位置からエアーブローする
ための位置へ移動する。 b.そして、一対のエアーブローノズル10Aおよび1
0Bからクリーンエアー(露天−60℃、ダスト50ヶ
/0.1μmcf)が自動的に吹出してエアーブロー洗
浄し、フォトマスク1の両面を清掃して異物を除去す
る。ここで、エアーブローノズルのエアー吹き出し用の
穴は複数個あり、フォトマスク1の面に対するノズルか
らのエアー吹き出しの角度は任意に設定可能であるが、
経験的に20度が最適である。また、エアーブローの流
れがフォトマスク面にあたるのをフォトマスクチャック
7のアームが妨げとならないように、フォトマスク1の
両面をエアーブローする際に、フォトマスクチャック7
のアームがフォトマスク1の両側端面を挟み込むような
構造となっている。(図2参照) c.フォトマスク1のエアーブローが終了する位置まで
フォトマスクハンド8が後退した時点で、第1のエアー
ブローノズル10の各エアーノズル10Aおよび10B
からのエアーブローは自動的に停止し、第1のエアーブ
ローノズル10の各エアーノズル10Aおよび10Bは
図示しないシリンダーの作動によって、所定の待機位置
まで移動する。以上で、フォトマスク1の両面の洗浄動
作が終了する。
れ、空の状態でケース載せ台4に載置されているフォト
マスクケース2の内部をエアー洗浄するための動作につ
いて説明する。 a.フォトマスク1の表面洗浄動作が終了し、第1のエ
アーブローノズル10のエアーノズル10Aおよび10
Bが所定の待機位置で停止すると、ケース載せ台4はフ
ォトマスクケース駆動部13のケース傾斜機構部の回転
用シリンダー6の駆動によりフォトマスクケース2の蓋
3がある方の開口部を下に向けるために水平方向から垂
直方向へ90度回転する。尚、図1における2’はフォ
トマスクケース2が90度回転したときの状態を示して
いる。 b.そこで、この垂直方向に回転したケース載せ台4は
フォトマスクケース駆動部13のケース上下機構部の下
降用エアーシリンダーの駆動により、フォトマスクケー
ス内部清掃用の第2のエアーブローノズル11の方向に
向かって自動的に下降を開始する。(図3参照) このような構成を採用したことにより、フォトマスク1
の表面に投光器12から光をあてるスペースができ、か
つ、下の方に配置されたフォトマスクケース2の内部ブ
ロー用の第2のエアーブローノズル11は、フォトマス
クケース2の蓋3が開いた開口部よりフォトマスクケー
ス2の内部に挿入することが可能となる。
ォトマスクケース2の内部へ挿入できるようにフォトマ
スクケースの内寸より小さく設計され、かつ、フォトマ
スク検査のための投光器12の位置よりも下の方に配置
されており、フォトマスクケース駆動部13のシリンダ
駆動によりフォトマスクケース2の内部へ自動的に挿入
される。なお、この第2のエアーブローノズル11には
全方向へ吹き出し可能なように複数の穴が設けられてい
る。 d.フォトマスクケース駆動部13の駆動によりフォト
マスクケース2が下降し、第2のエアーブローノズル1
1がフォトマスクケース2の内部へ挿入し始めると、こ
の状態を検知して第2のエアーブローノズル11からク
リーンエアーの吹き出しを自動的に開始するようにプロ
グラム設計されている。そして、フォトマスクケース2
が下降中にクリーンエアーがフォトマスクケース2の内
面全体にまんべんなく吹き付けられる。 e.第2のエアーブローノズル11がフォトマスクケー
ス2の内部の最も奥まで挿入される位置までケース載せ
台4が下降した時に、第2のエアーブローノズル11の
クリーンエアーの吹出しは自動的に停止するよう設定さ
れている。以上で、フォトマスクケースの洗浄動作が終
了する。
いて説明する。 a.フォトマスクハンド8は、エアーブローによる洗浄
の終了したフォトマスク1をフォトマスクブローが終了
した位置から所定の目視検査位置(例えば、前進端)ま
で自動的に移動する。 b.フォトマスク1が目視検査位置まで移動した時点
で、フォトマスクハンド駆動部9のフォトマスクハンド
回転用モーターによって作業者よりみて時計方向へ40
度自動的に回転する。尚、この40度という数値は、投
光器からの光を横からあてた場合に、これに対する被検
査面であるクロム面の水平方向からの角度が40度前後
が異物の有無の目視検査に最も適した角度であることが
経験的に知られている。また、この角度は、作業者の背
の高さにより多少異なるので、検査角度微調整ボタンを
押すことにより作業者によるパネル操作により35度と
45度にもマニュアルで調整できる構成となっている。 c.そして、投光器12を点灯し、投光器12の照明光
によってフォトマスク表面(クロム面)の異物の有無を
作業者が目視により検査する。
場合は、作業者が装置前面の操作パネルの『合格』ボタ
ンを押す。また、目視検査において再度エアーブローが
必要な場合は、作業者が装置前面の操作スイッチ『再エ
アーブロー』を押すと、フォトマスクハンド8が反時計
方向へ自動的に40度回転して、水平方向に戻り、前述
のフォトマスク1のエアーブロー(洗浄動作)工程を再
度行う。なお、再エアーブローは表面と裏面とは独立
(連続処理されない)であり、表面の検査する時は、表
面を上にしてエアーブローし、裏面の検査をする時は裏
面を上にしてエアーブローするようなしくみになってい
る。但し、目視検査の結果、明らかに不良と判定され、
再ブローが不要の場合は後述する不良フォトマスクの処
理を行う。
者よりみて反時計方向へ220度(前記40度に180
度を加えた値)自動的に回転し水平となる。作業者は、
この220度まで回転している途中の段階においても目
視検査を行う。この後、時計方向へ40度自動的に回転
する。これらの時点で投光器12の照明によって(この
フォトマスク検査器の場合、作業者からみて右側より投
光器12から光が水平方向に当てられる。)フォトマス
ク裏面(ガラス面)の異物を作業者が目視にて検査を行
う。 f.検査合格の場合は、作業者が装置前面の操作スイッ
チ『合格』を押す。以上で、フォトマスク1の裏面の異
物検査が終了する。 g.目視検査において再ブローが必要な場合は、作業者
が装置前面の操作スッチ『再ブロー』を押すと、フォト
マスクハンド8が反時計方向へ40度自動的に回転して
水平に戻り、再度エアーブローを行う。但し、目視検査
の結果、明らかに不良と判定され、再ブローが不要の場
合は後述する不良フォトマスクの処理を行う。
いて説明する。 a.フォトマスク1の表と裏の両面の異物目視検査が終
了すると、フォトマスクハンド8は時計方向へ140度
自動的に回転することにより水平となり、かつ、フォト
マスクハンド8はフォトマスクブローの終了位置まで自
動的に後退して停止する。 b.そして前述したフォトマスクケース2の内部のエア
ー洗浄工程が終了し、下降端にて垂直状態で待機してい
た清掃済みのフォトマスクケース2を載せたケース載せ
台4は自動的に上昇し、所定の位置で停止し、フォトマ
スクケース駆動部13の回転用シリンダー6の駆動によ
り垂直方向から水平方向へ90度自動的に回転して待機
する。 c.次に、(4)項の異物検査が終了し、フォトマスク
ハンド8の先端に取付けフォトマスクチャック7に保持
されて待機していたフォトマスク1は、フォトマスクハ
ンド駆動部9のモータ駆動により自動的に前進移動し、
待機していた内部清掃済みのフォトマスクケース2内ヘ
搬送される。
クハンドは自動的に下降し、フォトマスクハンド8の先
端にとりつけられたフォトマスクチャック7が保持して
いたフォトマスク1は、図示しないフォトマスクチャッ
ク開放用シリンダーによって、フォトマスク1をフォト
マスクチャック7から自動的に開放し、フォトマスクケ
ース2内の所定の定位置へセットされる。 e.フォトマスクハンド駆動部9の上下動シリンダーに
よってフォトマスクハンド8は自動的に上昇し、モータ
駆動によりフォトマスクハンド8は後退端まで移動して
停止する。 f.フォトマスクの蓋開閉用シリンダーにより、フォト
マスクケースの蓋3が自動的に閉じる。 g.最後に、異物の目視検査が終了して合格と判定され
たフォトマスク1が収納されているフォトマスクケース
2をケース載せ台4から取り出す。
処置について。前述の(5)項における目視検査作業に
おいて、不良と判定された場合は、作業者が装置前面の
操作スイッチ『NG』を押すと、自動的に不良品のフォ
トマスクはフォトマスクケース2へ収納され、不良品と
しての所定の処理が施される。
フォトマスクの洗浄装置は、ウエハプロセス写真製版工
程におけるフォトマスク検査工程の作業性の改善及びコ
スト削減を図るために、フォトマスク1およびフォトマ
スクケース2の洗浄およびフォトマスク表面に付着して
いる異物検査のために開発されたものである。そして、
この装置は、フォトマスクケース2の内部の清掃作業の
ための機構、異物の目視検査作業前のエアーブローによ
る洗浄作業のための機構および目視検査のための機構を
一体化して構築されており、さらにその操作はタッチパ
ネル操作方式であり、この操作パネルは、初期画面、オ
ート操作画面、マニュアル操作画面、エラーメッセージ
画面の4種類が用意されている。また、フォトマスクケ
ース2の始めのセットと最後の取り外し動作以外は、通
常は全自動であるが、マニュアル操作画面を5秒間押し
続けると自動からマニュアルに切り替えることができ
る。
の洗浄装置によれば、フォトマスクケース2の内部も自
動的に清掃されるので、フォトマスクケース2の内部の
壁面等に付着していた微細な塵埃がフォトマスクの表面
に異物として付着するのを確実に防止できると共に、こ
のフォトマスクケース2の内部の清掃作業、異物の目視
検査作業前のエアーブローによる洗浄作業および異物の
目視検査のためのフォトマスク検査位置の設定作業がほ
ぼ自動的に連続して実施することが可能となり、大幅な
作業性の改善を実現することが可能となる。
れば、所定の位置に載置したフォトマスクケースよりフ
ォトマスクを取り出し、第1のエアーブローノズルによ
り付着した異物を除去するフォトマスク洗浄手段と、フ
ォトマスク洗浄手段により洗浄されたフォトマスクの面
上の異物を検査するために上記洗浄されたフォトマスク
を所定の状態に設定するフォトマスク検査位置設定手段
と、エアーブローのためにフォトマスクが取り出された
状態のフォトマスクケースの内部を第2のエアーブロー
ノズルにより清掃するケース内部清掃手段と、異物検査
の終了したフォトマスクをケース内部清掃手段により内
部が清掃されたフォトマスクケースに収納する収納手段
とを備えているので、フォトマスクケースの内部も清掃
できることになり、フォトマスクケースの内部に付着し
ていた微細な塵埃がフォトマスクの表面に異物として付
着するのを確実に防止できると共に、このフォトマスク
ケースの内部の清掃作業、異物の目視検査作業前のエア
ーブローによる洗浄作業および異物の目視検査作業のた
めのフォトマスク検査位置設定作業が一体の装置として
構成されているので作業性の改善を図ることができると
いう効果を奏する。
によれば、フォトマスク洗浄手段、フォトマスク検査位
置設定手段および収納手段による作業は、それぞれ自動
的にその作業が処理されるように構成されているので、
フォトマスクケースの内部に付着していた微細な塵埃が
フォトマスクの表面に異物として付着するのを確実に防
止できると共に、フォトマスクケースの内部の清掃作
業、異物の目視検査作業前のエアーブローによる洗浄作
業および異物の目視検査作業のためのフォトマスク検査
位置設定作業がほぼ自動的に連続して実施することが可
能となり、大幅な作業性の改善を実現できるという効果
を奏する。
によれば、そのケース内部清掃手段は、フォトマスク洗
浄手段によるフォトマスクの取り出し方向に対してフォ
トマスクケースを略90度回転する回転駆動機構と、略
90度回転された上記フォトマスクケースの開口部より
第2のエアーブローノズルを上記フォトマスクケースの
内部の所定の位置まで挿入させる機構と、上記第2のエ
アーブローノズルが上記フォトマスクケース内に挿入さ
れると自動的にエアーブローを開始させる機構としたの
で、簡単な構成でケース内部清掃手段を実現できると共
に、フォトマスクの表面に投光器から光をあてるための
スペースが確保できるという効果を奏する。
装置のフォトマスク検査位置設定手段は、投光器からの
照射光に対するフォトマスクの面の角度を所定の値に設
定できるように構成されているので、最適な状態で目視
による異物検査が容易に可能となり、検査品質の向上と
検査作業の改善が図れるという効果を奏する。
洗浄装置の全体構成を示す斜視図である。
洗浄装置の要部の概略構成を示す側面図である。
洗浄装置のフォトマスクケース内部の清掃動作を説明す
るための図である。
示す斜視図である。
ス 3 蓋 4 ケース載せ台 5 フォトマスクケー
ス固定部 6 回転用シリンダー 7 フォトマスクチャ
ック 8 フォトマスクハンド 9 フォトマスクハン
ド駆動部 10 第1のエアーブローノズル 11 第2のエアーブローノズル 12 投光器 13 フォトマスクケ
ース駆動部
Claims (4)
- 【請求項1】 所定の位置に載置したフォトマスクケー
スよりフォトマスクを取り出し、第1のエアーブローノ
ズルにより付着した異物を除去するフォトマスク洗浄手
段と、 上記フォトマスク洗浄手段により洗浄されたフォトマス
クの面上の異物を検査するために、上記洗浄されたフォ
トマスクを所定の状態に設定するフォトマスク検査位置
設定手段と、 エアーブローのためにフォトマスクが取り出された状態
の上記フォトマスクケースの内部を第2のエアーブロー
ノズルにより清掃するケース内部清掃手段と、 異物検査の終了したフォトマスクを上記ケース内部清掃
手段により内部が清掃されたフォトマスクケースに収納
する収納手段とを備えたことを特徴とするフォトマスク
の洗浄装置。 - 【請求項2】 フォトマスク洗浄手段、フォトマスク検
査位置設定手段および収納手段による作業は、それぞれ
自動的にその作業が処理されるように構成されているこ
とを特徴とする請求項1に記載のフォトマスクの洗浄装
置。 - 【請求項3】 ケース内部清掃手段は、フォトマスク洗
浄手段によるフォトマスクの取り出し方向に対してフォ
トマスクケースを略90度回転する回転駆動機構と、略
90度回転された上記フォトマスクケースの開口部より
第2のエアーブローノズルを上記フォトマスクケースの
内部の所定の位置まで挿入させる機構と、上記第2のエ
アーブローノズルが上記フォトマスクケース内に挿入さ
れると自動的にエアーブローを開始させる機構とを有し
ていることを特徴とする請求項1または2のいずれかに
記載のフォトマスクの洗浄装置。 - 【請求項4】 フォトマスク検査位置設定手段は、投光
器からの照射光に対するフォトマスクの面の角度を所定
の値に設定できるように構成されていることを特徴とす
る請求項1または2のいずれかに記載のフォトマスクの
洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1135298A JPH11212249A (ja) | 1998-01-23 | 1998-01-23 | フォトマスクの洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1135298A JPH11212249A (ja) | 1998-01-23 | 1998-01-23 | フォトマスクの洗浄装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11212249A true JPH11212249A (ja) | 1999-08-06 |
Family
ID=11775656
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1135298A Pending JPH11212249A (ja) | 1998-01-23 | 1998-01-23 | フォトマスクの洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11212249A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100615611B1 (ko) | 2005-01-05 | 2006-08-25 | 삼성전자주식회사 | 파티클 제거장치를 갖는 건식 식각 장치 및 이를 이용한위상반전 마스크 제조방법. |
JP5071109B2 (ja) * | 2005-12-28 | 2012-11-14 | 株式会社ニコン | レチクル搬送装置、露光装置、レチクル搬送方法、レチクルの処理方法、及びデバイス製造方法 |
KR101433535B1 (ko) * | 2013-10-10 | 2014-08-22 | 씨티에스(주) | 포토마스크 세정기 |
JP2022041795A (ja) * | 2020-09-01 | 2022-03-11 | 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 | マスクケース洗浄装置 |
CN117825389A (zh) * | 2024-01-09 | 2024-04-05 | 昱天(上海)新材料有限公司 | 一种塑料薄膜光学检测仪器 |
-
1998
- 1998-01-23 JP JP1135298A patent/JPH11212249A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100615611B1 (ko) | 2005-01-05 | 2006-08-25 | 삼성전자주식회사 | 파티클 제거장치를 갖는 건식 식각 장치 및 이를 이용한위상반전 마스크 제조방법. |
JP5071109B2 (ja) * | 2005-12-28 | 2012-11-14 | 株式会社ニコン | レチクル搬送装置、露光装置、レチクル搬送方法、レチクルの処理方法、及びデバイス製造方法 |
KR101433535B1 (ko) * | 2013-10-10 | 2014-08-22 | 씨티에스(주) | 포토마스크 세정기 |
JP2022041795A (ja) * | 2020-09-01 | 2022-03-11 | 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 | マスクケース洗浄装置 |
CN117825389A (zh) * | 2024-01-09 | 2024-04-05 | 昱天(上海)新材料有限公司 | 一种塑料薄膜光学检测仪器 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6327021B1 (en) | Mask inspection system and method of manufacturing semiconductor device | |
US7808616B2 (en) | Reticle transport apparatus, exposure apparatus, reticle transport method, and reticle processing method | |
TWI421648B (zh) | Two-sided exposure device | |
JP6408005B2 (ja) | ノズル収納庫 | |
EP2144119A1 (en) | Reticle transport apparatus and reticle transporting method | |
US20090027634A1 (en) | Bevel Inspection Apparatus For Substrate Processing | |
JPH11212249A (ja) | フォトマスクの洗浄装置 | |
TWI699826B (zh) | 基板輸送方法及基板輸送機 | |
KR100389133B1 (ko) | 반도체소자 제조용 노광장치 및 이의 구동방법 | |
KR100193154B1 (ko) | 반도체디바이스제조장치 및 방법 | |
JPH08137091A (ja) | マスク外観検査装置 | |
JPH08300479A (ja) | レーザーマーキング方法、レーザーマーキング装置およびレーザー光照射機用排気フード | |
JPS62195143A (ja) | 基板の高速変換装置及び方法 | |
JPH0714810A (ja) | ガラス基板洗浄装置 | |
JP3167089B2 (ja) | 露光装置及び方法 | |
JP3551423B2 (ja) | 露光装置 | |
JP2000147747A (ja) | マスク検査装置 | |
JPH08316284A (ja) | フォトマスクの搬送装置 | |
JP4356443B2 (ja) | 基板移載装置 | |
JP2006228862A (ja) | 異物除去装置,処理システム及び異物除去方法 | |
JP2017130595A (ja) | ノズル収納庫 | |
JPH08193956A (ja) | フォトマスクの異物検査装置 | |
TW202044477A (zh) | 基板處理系統及基板處理裝置 | |
JP3709254B2 (ja) | ウェハ検査装置 | |
JP3145576B2 (ja) | 表面処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20031209 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20040625 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050620 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050628 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060131 |