JPH11209745A - ガラス研磨用研磨材組成物およびその研磨方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 研磨材等の残留付着物がなく、高精度のガラ
ス研磨面が得られる研磨材組成物を提供する。 【解決手段】 マグネシウムの塩基性塩を含有すること
を特徴とするガラス研磨用研磨材組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス研磨用研磨
材組成物に関し、詳しくは欠陥のない優れた研磨面を形
成することができるガラス研磨用研磨材組成物であり、
特に低浮上量で磁気ヘッドが飛行するのに適した高精度
鏡面に研磨できる磁気ディスク用ガラス研磨用研磨材組
成物およびその研磨方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】パソコン等の記憶媒体として、ドライブ
装置に組み込まれて使用される磁気ディスク用基板とし
て、アルミニウム基板に比べて衝撃性に強く、かつ平滑
度を高くすることが可能という利点から、ガラス基板が
利用されている。最近、高記録密度化への要求から、磁
気ヘッドと磁気ディスク基板の間隔がますます小さくな
る傾向にあり、磁気ディスク用ガラス基板はより高精度
な平坦度、より小さい表面粗さおよび欠陥の少ないもの
が強く求められている。各種ガラス研磨には、酸化セリ
ウム、酸化ジルコニウム、酸化鉄、二酸化ケイ素等の材
料が古くから使用されている。現在、研磨能率が高いこ
とから酸化セリウムを主成分とする研磨材組成物（以
下、「酸化セリウム系研磨材組成物」という）が主に用
いられている。

【０００３】磁気ディスク用ガラス基板の研磨材組成物
は、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウ
ムを主成分とする研磨材に添加剤を加えスラリー特性を
調整することによって、研磨能率、研磨精度を向上させ
ることを目的とした以下のような技術がある。 特開平３−１４６５８４「ガラス研磨用研磨材」 酸化ジルコニウムを主成分とするものにアルミン酸カル
シウム、硫酸マグネシウム、塩化マグネシウムを含有さ
せるもの 特開平３−１４６５８５「ガラス研磨用研磨材」 酸化セリウムを主成分とするものに塩化マグネシウムを
含有させるもの 特開平９−１０９０２０「磁気ディスク研磨用組成物
及びそれを用いた研磨液」 酸化アルミニウムを主成分とするものにギブサイト及び
分散剤を含有させるもの 磁気ディスク用ガラス基板は日進月歩で表面精度を益々
高めている。磁気ディスク用ガラス基板の特性として要
求されている低浮上量を安定的に確保するためには、従
来の研磨材組成物ではそれに必要な表面粗さと付着物の
ない清浄なガラス表面を確保することができない。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】前述のように、磁気デ
ィスクの高記録密度化のためには、磁気ヘッド浮上高さ
を小さくすることが必須となり、そのために磁気ディス
ク面精度の高精度化への要求が一段と厳しくなりつつあ
る。磁気ディスク用ガラス基板に使用される結晶化ガラ
スや強化ガラス基板において、従来より用いられている
酸化セリウム系研磨材組成物を用いて研磨しても、磁気
ヘッドの浮上高さを要求されるレベルまで低くするため
に必要な面粗さが得られないという問題が生じている。
また、酸化セリウム系研磨材組成物は、ガラスとの化学
的反応性が高いことから、磁気ディスク用ガラス基板表
面に付着物が残留し、超音波洗浄やスクラブ洗浄等の機
械的エネルギーを加えても付着物を完全に除去すること
が難しく、残留付着物に磁気ヘッドが接触するため実質
的に磁気ヘッドの浮上高さを低下するのに適した高精度
の磁気ディスク表面を得るには難点がある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者は、磁気ディス
ク用ガラス基板に対して高精度な研磨面を得るため最適
な研磨材の研究を鋭意重ねた結果、マグネシウムの塩基
性塩、なかでも特に水酸化マグネシウム、炭酸マグネシ
ウム、塩基性炭酸マグネシウム、各種リン酸マグネシウ
ムから選ばれる少なくとも１種からなるガラス研磨用研
磨材組成物を使用することにより、従来の酸化セリウム
系研磨材組成物では到達できなかった高精度な研磨面が
得られることを見い出した。また、酸化セリウム、酸化
ジルコニウム、酸化鉄、二酸化ケイ素の少なくとも１種
を主成分とする研磨材を用いて研磨することにより得ら
れるガラス研磨面を、マグネシウムの塩基性塩、なかで
も特に、水酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、塩基
性炭酸マグネシウム、各種リン酸マグネシウムから選ば
れる少なくとも１種以上を含有する研磨材組成物を用い
て研磨をすることにより、酸化セリウム系研磨材等の残
留付着物の除去が可能となり、同時に高精度のガラス研
磨面を得ることができる。その結果、従来達成できなか
った磁気ヘッド浮上高さの低下が可能となる。

【０００６】

【発明の実施の形態】本発明に用いられるマグネシウム
の塩基性塩の具体例としては、水酸化マグネシウム、炭
酸マグネシウム、塩基性炭酸マグネシウム（３ＭｇＣＯ
₃ ・Ｍｇ（ＯＨ）₂ ）およびリン酸マグネシウム、リン
酸水素マグネシウム等の各種リン酸マグネシウムなどを
挙げることができるが、これらに本発明は限定されるも
のではない。また、本発明においては、これらの化合物
の純度は特に限定されるものではない。本発明に用いら
れるマグネシウムの塩基性塩は、それ自身粉末状態で研
磨に寄与するため、その好ましい粒度は平均粒子径とし
て０．１〜１０μｍである。１０μｍを越えるとスラリ
ーでの沈降が著しくなり作業的に問題となるだけでな
く、場合により必要とされる研磨面粗さが得られなくな
り、一方０．１μｍ未満では研磨能率が低下し過ぎ好ま
しくない。

【０００７】本発明に用いられるマグネシウムの塩基性
塩の添加量は、スラリー中の固形分濃度として（２種以
上のマグネシウムの塩基性塩を使用する場合はその総量
として）、１〜４０ｗｔ．％が好ましく、より好ましく
は、５〜３０ｗｔ．％である。１ｗｔ．％未満では高精
度表面が得難く、表面欠陥も発生し易い。また、４０ｗ
ｔ．％を越えると増量による更なる向上効果が得難く好
ましくない。マグネシウムの塩基性塩を１種以上混合す
る場合には、それらの混合比率は任意に選択し得る。ま
た、本発明に用いられるマグネシウムの塩基性塩は、結
晶水を除いた化学式が同じで、結晶水の数が異なった
り、結晶系が異なったり、外観的形状、形態の異なるも
のもあるが、特にそれらに限定されるものではない。本
発明の研磨材組成物の溶媒は水に限定されるものではな
いが、多くの場合水系が種々の点で好ましい。

【０００８】本発明の研磨材組成物には更に分散性向
上、沈降防止、安定性向上および作業性向上のため、必
要によりエチレングリコール、ポリエチレングリコール
等のグリコール類、トリポリリン酸塩、ヘキサメタリン
酸塩等のリン酸塩、ポリアクリル酸塩のような高分子分
散剤、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース
等のセルロースエーテル類、ポリビニルアルコール等の
水溶性高分子を添加してもよい。これらの研磨材に対す
る添加量は０．０５〜２０ｗｔ．％の範囲が通常であ
り、好ましくは０．１〜１５ｗｔ．％、より好ましくは
０．１〜１０ｗｔ．％である。

【０００９】また、本発明の研磨材組成物の研磨能率を
向上させるため、ガラスに対し研磨促進効果を有する物
質、例えばアルギニンなどのアミノ酸系、メラミン、ト
リエタノールアミンなどのアミン系、フッ化セリウムな
どのフッ化希土化合物、クエン酸、酒石酸、リンゴ酸、
グルコン酸等の有機酸を添加してもよい。本発明の研磨
材組成物の造り方は、種々原材料を混合すればよく、特
に限定されるものではなく、好ましくは、ボールミル、
高速ミキサー等により、上記混合割合にて機械的に混合
調製すればよい。本発明の研磨材組成物を使用する方法
は、通常の研磨材組成物と同様に行えることができる
が、更によい研磨方法としては、酸化セリウム、酸化ジ
ルコニウム、酸化鉄、二酸化ケイ素の少なくとも１種を
主成分とする研磨材により粗研磨した後、マグネシウム
の塩基性塩、なかでも特に、水酸化マグネシウム、炭酸
マグネシウム、塩基性炭酸マグネシウム、リン酸マグネ
シウム、リン酸水素マグネシウム等の各種リン酸マグネ
シウムから選ばれる少なくとも１種以上のマグネシウム
の塩基性塩を含有する研磨材組成物を用いて研磨するこ
とであり、このことにより従来にはない高精度の研磨を
効率的に行なうことができる。

【００１０】研磨後の被研磨物は、純水中にて、場合に
より界面活性剤を添加し、超音波洗浄するのが通常であ
る。更に、容易に洗浄するためには、塩酸、硫酸、硝酸
等の強酸の場合は希釈した水溶液、弱酸の場合はそのま
まか、多少希釈した水溶液を、水酸化マグネシウムの場
合には更にアンモニウム塩の水溶液を使用するとよい。
本発明の研磨材組成物による研磨では、上記のような洗
浄後ガラス表面に残留付着物は、従来品に比べて皆無で
あり、磁気ヘッドの浮上高さを０．２５マイクロインチ
程度に下げることができ、磁気ディスク用ガラス基板の
高密度化に対して多大な効果が得られる。

【００１１】

【実施例】以下、実施例および比較例に基づき本発明を
詳細に説明する。マグネシウムの塩基性塩の具体例とし
て水酸化マグネシウム、炭酸マグネシウムについて、実
施例を記載するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。

【００１２】実施例１〜１４ 協和化学工業社製水酸化マグネシウム（キョーワスイマ
グＦ、平均粒子径ｄ₅₀＝４μｍ）を原料として分級し、
粗大粒子を除去し、平均粒子径ｄ₅₀＝３．５μｍのもの
を造った（「水酸化マグネシウムＡ」とする）。上記原
料の水酸化マグネシウムを粉砕した後、分級し、細粒
（平均粒子径ｄ₅₀＝０．５μｍ）を造った（「水酸化マ
グネシウムＢ」とする）。また、炭酸マグネシウムは、
協和化学工業社製のもの（平均粒子径ｄ₅₀＝１．０μ
ｍ、フィラー用）を粉砕後、分級し、平均粒子径ｄ₅₀＝
０．５μｍの細粒を造った。

【００１３】表１に示す条件で高速ミキサーを用い、純
水分散系の研磨材組成物実施例１〜１４を造った。この
際、総てのものにつきポリアクリル酸系分散剤（花王
（株）社製、ポイズ５３０）を上記粉末に対し、１ｗ
ｔ．％を添加した。被加工物として、予め酸化セリウム
系研磨材（東北金属化学（株）製ＲＯＸＨ−１）で研磨
した２．５インチリチウムシリケートを主成分とする結
晶化ガラス基板（（リチウムシリケートとクリストバラ
イトの結晶相とアモルファス相を含んでいる）Ｒ_a ＝１
０Å、Ｒ_max ＝２５０Å）（表１において「ワーク甲」
とする。）又は、アルミノシリケートを主成分とする強
化ガラス基板（Ｒ_a ＝９Å、Ｒ_max ＝１８０Å）（表１
において「ワーク乙」とする。）を用いて下記の条件で
研磨した。

【００１４】研磨機：４ウェイタイプ両面研磨機（不二
越機械工業（株）製、５Ｂ型） 研磨パッド：スウェードタイプ（千代田（株）製、シガ
ール１９００Ｗ） スラリー供給速度：６０ｍｌ／ｍｉｎ 下定盤回転数：４５ｒｐｍ 加工圧力：７５ｇ／ｃｍ² 研磨時間：７ｍｉｎ

【００１５】研磨後のガラスディスクを研磨機より取り
出し、純水による超音波洗浄を行ない、次いで希硝酸水
溶液（１ｗｔ．％濃度）浴中での超音波洗浄を行なっ
た。その後、純水により洗浄を行ない、乾燥し下記の評
価を行なった。 （ｉ）ディスク表面粗さ：Ｒ_a 、Ｒ_max 原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて表面粗さＲ_a 及びＲ
_max を測定した。 （ii）ディスク表面欠陥 表面欠陥は微分干渉顕微鏡を用いて付着、ピット、スク
ラッチについて観察し、○：良好、△：普通、×：不良
の３段階方式で評価した。 (iii）ヘッド浮上高さ：ＧＡ（グライドアバランチ） 研磨したディスクに磁性膜を塗布し、ヘッド浮上高さＧ
Ａを測定した。具体的には、スパッタリング法により、
基板温度２００℃にて、下地層としてＣｒ６０ｎｍ、磁
性層としてＣｏ₁₃Ｃｒ₆ Ｐｔ₃ Ｔａ合金２０ｎｍ、保護
層としてカーボン１０ｎｍを逐次成膜し、更にＰＦＰＥ
系潤滑剤を塗布して作成した磁性記録媒体をグライドハ
イトテスター（ソニーテクトロニクス社製）を用いてＧ
Ａの測定を行なった。これらの結果を表１に示す。な
お、研磨材の平均粒子径はＣｉｌａｓ社製Ｇｒａｎｕｌ
ｏｍｅｔｅｒ ＨＲ８５０により測定したものである。

【００１６】比較例１〜２ 比較例として、本発明に用いられるマグネシウムの塩基
性塩にかえて、予め研磨した前述ガラス基板を仕上げ研
磨用酸化セリウム研磨材（東北金属化学（株）製、ＲＯ
Ｘ Ｆ６２０）の１０ｗｔ．％水分散スラリーを用いて
研磨し、評価した。これらの条件等は、上記の実施例に
記した条件等と同じである。

【００１７】実施例、比較例の結果からわかるように、
表面粗さ・表面欠陥・グライドアバランチのいずれで
も、実施例では優れた結果を得た。ここで得られたグラ
イドアバランチは従来の研磨材では得られない低い数値
である。

【００１８】

【表１】

【００１９】

【発明の効果】本発明によると、従来の研磨材組成物で
は得られなかった面精度が得られ、磁気ディスク用ガラ
ス基板の場合には、磁気ヘッドの浮上高さをより下げる
ことができ、ハードディスクの高密度化に大きく寄与
し、本発明は極めて有用な研磨材組成物である。

フロントページの続き (72)発明者 山内 豊 千葉県市原市八幡海岸通５−１ 昭和電工 株式会社ＨＤ工場内

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 マグネシウムの塩基性塩を含有すること
   を特徴とするガラス研磨用研磨材組成物。
2. 【請求項２】 マグネシウムの塩基性塩が水酸化マグネ
   シウム、炭酸マグネシウム、塩基性炭酸マグネシウム、
   各種リン酸マグネシウムから選ばれる少なくとも１種以
   上であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
   組成物。
3. 【請求項３】 酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化
   鉄、二酸化ケイ素の少なくとも１種を主成分とする研磨
   材により研磨されたガラスを、請求項１又は請求項２記
   載のガラス研磨用研磨材組成物を用いて研磨を行うこと
   を特徴とするガラス研磨方法。