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JPH11204728A - High frequency semiconductor device - Google Patents

High frequency semiconductor device

Info

Publication number
JPH11204728A
JPH11204728A JP10002288A JP228898A JPH11204728A JP H11204728 A JPH11204728 A JP H11204728A JP 10002288 A JP10002288 A JP 10002288A JP 228898 A JP228898 A JP 228898A JP H11204728 A JPH11204728 A JP H11204728A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pad
semiconductor substrate
ground
chip
terminal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10002288A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshiki Seshimo
下 敏 樹 瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP10002288A priority Critical patent/JPH11204728A/en
Publication of JPH11204728A publication Critical patent/JPH11204728A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain stable performance by reducing effect of mutual inductance. SOLUTION: A device is provided with a chip 10 having a semiconductor substrate on which at least two elements Q1 and Q2 are formed, a first pad 14 formed on this semiconductor substrate which is connected with one element Q1 of those two elements, a second pad 18 formed on the semiconductor substrate so as to be made adjacent to the first pad 14 which is connected with the other element Q2 of the two elements, and a third pad 16 formed on the semiconductor substrate between the first and the second pads 14 and 18 which is not connected with any element formed on the semiconductor substrate, a substrate 2 having a first and a second terminals GND2 and GND3 and a third terminal GND6 arranged between the first and the second terminals on which the chip is mounted, and a first, a second, and a third bonding wires 84 , 86 , and 88 for connecting the first, the second, and the third pads with the first, the second, and the third terminals. The third pad is connected with a ground potential.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は高周波半導体装置に
関する。
[0001] The present invention relates to a high-frequency semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に高周波半導体装置は高周波増幅器
を備えている。
2. Description of the Related Art A high-frequency semiconductor device generally includes a high-frequency amplifier.

【0003】1GHz以上の高周波信号の増幅を行う従
来の高周波増幅器について、パーソナルハンディホンシ
ステム(PHS)の端末に用いられる送信用増幅器を例
にとってその構成を説明する。このような高周波増幅器
では、通常GaAsMESFETによるソース接地増幅
器が用いられる。1段当たりの電力利得は10dB程度
であり、増幅段を2段から4段とすることにより、20
dBから40dB程度の電力利得を持たせることができ
る。このような高周波増幅器はMMIC(Monolithic M
icrowave Integrated Circuit)として広く市販されてい
る。従来の増幅器の構成例を図5に示す。
A configuration of a conventional high-frequency amplifier for amplifying a high-frequency signal of 1 GHz or more will be described by taking a transmission amplifier used in a terminal of a personal handy phone system (PHS) as an example. In such a high-frequency amplifier, a common-source amplifier using a GaAs MESFET is usually used. The power gain per stage is about 10 dB, and by increasing the number of amplification stages from two to four,
A power gain of about 40 dB to about 40 dB can be provided. Such a high frequency amplifier is a MMIC (Monolithic M).
icrowave Integrated Circuit). FIG. 5 shows a configuration example of a conventional amplifier.

【0004】図5は、2つのソース接地MESFET
(以下、単にトランジスタという)Q1 ,Q2 による2
段構成の高周波増幅器の一例である。初段の増幅回路を
構成するソース接地されたトランジスタQ1 のゲートは
入力整合回路12を介してRF信号入力端子11に接続
され、またトランジスタQ1 のゲートとソース間には安
定化抵抗R1 が接続されている。
FIG. 5 shows two grounded MESFETs.
(Hereinafter simply referred to as transistor) 2 by Q 1 and Q 2
It is an example of a high-frequency amplifier having a stage configuration. Source grounded gate of the transistor Q 1 constituting the amplifier circuit of the first stage is connected to the RF signal input terminal 11 via the input matching circuit 12, also between the gate and source of the transistor Q 1 is stabilized resistor R 1 It is connected.

【0005】ソース接地されたトランジスタQ1 のドレ
インと、2段目の増幅回路を構成するソース接地された
トランジスタQ2 のゲートとの間には、電源回路を兼ね
るインダクタL1 と、段間の直流遮断を兼ねる容量素子
1 とから構成される段間整合回路が接続されている。
[0005] and the drain of the source grounded transistor Q 1, between the second-stage gate of the amplification source grounded transistor Q 2 constituting a circuit, an inductor L 1 also serves as a power supply circuit, interstage inter-stage matching circuit is connected composed of the capacitive element C 1 Metropolitan which also serves as a DC blocking.

【0006】ソース接地されたトランジスタQ2 のゲー
トとソース間には安定化抵抗R2 が接続され、またトラ
ンジスタQ2 のドレインは、RF信号出力端子20に接
続され、RF信号出力はMMICチップの外部に構成さ
れる出力整合回路に入力される。
[0006] Between the source grounded transistor Q 2 gate and source is connected stabilizing resistor R 2, the drain of the transistor Q 2 is connected to the RF signal output terminal 20, RF signal output of the MMIC chip It is input to an output matching circuit configured externally.

【0007】さて、このような、ソース接地されたトラ
ンジスタの多段接続からなる高周波増幅器の設計で直面
する問題として、グランド電位(GND)の浮きによる
発振の問題が挙げられる。すなわち、チップのグランド
パッドから外囲器パッケージのリードまでのボンディン
グワイヤによるインダクタンスと、リードのインダクタ
ンスにより(以後これらのインダクタンスの総和をソー
スインダクタンスと呼ぶ)、チップ上のグランド電位は
AC的にはもやは理想のグランド電位ではなく、理想の
グランド電位からソースインダクタンスによって浮いた
状態にある。このようにチップ上のグランド電位が浮い
ているので、多段構成の増幅器の各ソース接地されたト
ランジスタそれぞれのソース電極をチップ内の同一グラ
ンド電位パッドに共通接続することは多くの場合許され
ない。仮に、チップ内の同一グランドパッドに共通接続
したとすると、例えば図5で示した2段構成の増幅器を
想定すると、2段目のソース接地されたトランジスタQ
2 のソースから1段目のソース接地されたトランジスタ
1 のソースに通ずる帰還パスが生じることになる。こ
の帰還パスは正帰還である。また、仮に、グランド電位
の浮き、つまり、ソースインダクタンス値がある大きさ
以上になると、帰還量が安定条件の範囲を超えてしま
い、増幅器は発振してしまうことになる。このような理
由により、通常、各増幅段のグランドパッドは独立に設
けられる。
[0007] A problem encountered in the design of such a high-frequency amplifier comprising a multi-stage connection of transistors whose sources are grounded is the problem of oscillation caused by floating ground potential (GND). That is, due to the inductance of the bonding wire from the ground pad of the chip to the lead of the package and the inductance of the lead (hereinafter, the sum of these inductances is referred to as source inductance), the ground potential on the chip is also AC. It is not the ideal ground potential, but is floating from the ideal ground potential by the source inductance. Since the ground potential on the chip floats in this manner, it is often not permissible to commonly connect the source electrodes of the transistors whose sources are grounded in the multistage amplifier to the same ground potential pad in the chip. Assuming that the amplifiers are commonly connected to the same ground pad in the chip, for example, assuming a two-stage amplifier shown in FIG.
A feedback path from the source of No. 2 to the source of the transistor Q 1 whose source is grounded at the first stage is generated. This return path is positive feedback. Also, if the ground potential rises, that is, if the source inductance value exceeds a certain value, the feedback amount exceeds the range of the stable condition, and the amplifier oscillates. For this reason, the ground pad of each amplification stage is usually provided independently.

【0008】図6は図5に示す従来の高周波増幅器用M
MICチップ70をプラスチック製外囲器パッケージ8
0に実装した一構成例である。入力整合回路12は、各
々が金属−絶縁体−金属構造の2個の容量12a,12
dと、2個のスパイラルインダクタ12b,12cで構
成されている。RF入力信号用パッド11はリードIN
にボンディングワイヤ81 で接続されている。パッド1
3は入力整合回路12のグランド端子であり、リードG
ND1 にボンディングワイヤ82 で接続されている。パ
ッド14は初段のトランジスタQ1 のグランド端子であ
り、リードGND2 に2本のボンディングワイヤ83
4 で接続されている。パッド18およびパッド19は
ともに第2段のトランジスタQ2 のグランド端子であ
る。トランジスタQ2 のサイズはMMICチップ70の
y軸方向の長さを決めるほどに大きく、必然的にMMI
Cチップ70の上下方向にグランドパッド18,19が
設けられることになる。パッド18はリードGND3
よびリードGND4 と、それぞれ2本のボンディングワ
イヤ88 ,89 および812,813で接続され、パッド1
9はリードGND5 と2本のボンディングワイヤ810
11で接続されている。このように、各増幅段のグラン
ドパッドは1段目と2段目のグランドパッドは分離され
ていることになる。
FIG. 6 shows a conventional M for a high-frequency amplifier shown in FIG.
MIC chip 70 in plastic envelope package 8
0 is an example of a configuration mounted on the “0”. The input matching circuit 12 includes two capacitors 12 a and 12 each having a metal-insulator-metal structure.
d and two spiral inductors 12b and 12c. RF input signal pad 11 is lead IN
It is connected by a bonding wire 81 to. Pad 1
3 is a ground terminal of the input matching circuit 12,
It is connected by the bonding wire 8 2 ND 1. Pad 14 is the ground terminal of the first stage transistors Q 1, lead GND 2 to two bonding wires 8 3,
It is connected by 8 4. Pad 18 and pad 19 are both transistors Q 2 of the ground terminal of the second stage. The size of the transistor Q 2 is large enough to determine the length of the y-axis direction of the MMIC chip 70, inevitably MMI
The ground pads 18 and 19 are provided in the vertical direction of the C chip 70. The pad 18 is connected to the lead GND 3 and the lead GND 4 by two bonding wires 8 8 , 8 9 and 8 12 , 8 13 , respectively.
9 is a lead GND 5 and two bonding wires 8 10 ,
8 11 Connected. As described above, the ground pads of the respective amplification stages are separated from the ground pads of the first and second stages.

【0009】なお、大きいサイズのFETに対するグラ
ンドパッドほどより多くのボンディングワイヤを接続し
ているが、その理由は、サイズの大きいFETほどソー
スインダクタンスによる利得の低下が著しいためであ
る。
The larger the size of the ground pad, the larger the number of bonding wires connected to the ground pad. This is because the larger the size of the FET, the more the source inductance reduces the gain.

【0010】なお、上記トランジスタQ1 ,Q2 はマル
チフィンガ型電界効果トランジスタであって、そのレイ
アウトを図7に示す。
The transistors Q 1 and Q 2 are multi-finger field effect transistors, and the layout is shown in FIG.

【0011】一般にマルチフィンガ型トランジスタは、
ゲート幅を大きくするために複数のトランジスタ素子を
並列に配置するとともに各トランジスタ素子のゲート電
極(フィンガとも称される)104を共通に接続した構
成となっている(図7参照)。このため、隣り合うトラ
ンジスタ素子のドレイン領域同士、またはソース領域同
士が隣接するように配置される。そして隣接するように
配置されたドレイン領域はオーミック電極からなるドレ
イン電極116によって接続され、各ドレイン電極11
6は端部において共通に接続される(図7参照)。ま
た、隣接するように配置されたソース領域同士はオーミ
ック電極からなるソース電極118によって接続され、
各ソース電極118は端において、第2層配線119に
よって共通に接続される(図8)。そして、上記高周波
増幅器に用いられる場合には共通に接続されたゲート電
極104は、半導体基板内に形成された拡散層からなる
抵抗R(図6においては抵抗R1 またはR2 )と端子1
22を介して電気的に接続される。またこの抵抗Rは、
端子124を介してソース引出し電極126と接続さ
れ、このソース引出し電極126は、共通に接続された
ソース電極118と電気的に接続されている。
Generally, a multi-finger transistor is
In order to increase the gate width, a plurality of transistor elements are arranged in parallel, and a gate electrode (also called a finger) 104 of each transistor element is commonly connected (see FIG. 7). Therefore, the drain regions or the source regions of adjacent transistor elements are arranged so as to be adjacent to each other. The drain regions arranged adjacent to each other are connected by a drain electrode 116 composed of an ohmic electrode.
6 are connected in common at the ends (see FIG. 7). In addition, adjacent source regions are connected to each other by a source electrode 118 including an ohmic electrode,
Each source electrode 118 is commonly connected at an end by a second layer wiring 119 (FIG. 8). When used in the above-described high-frequency amplifier, the commonly connected gate electrode 104 is connected to a resistor R (resistor R 1 or R 2 in FIG. 6) formed of a diffusion layer formed in a semiconductor substrate and a terminal 1.
22 are electrically connected. The resistance R is
The source lead electrode 126 is connected to the source lead electrode 126 via the terminal 124, and the source lead electrode 126 is electrically connected to the commonly connected source electrode 118.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】さて、上記のように、
グランドパッドを分離することにより、チップ上のグラ
ンドパッド間の帰還パスは一見無いように見える。しか
しながら、各グランドパッドに対するボンディングワイ
ヤ間およびリード間に存在する相互インダクタンスの存
在により、帰還パスが生じ、これにより発振の危険性が
生じるのである。特に、隣り合うボンディングワイヤお
よびリード間の相互インダクタンスが問題となる。すな
わち、図6のボンディングワイヤ88 とボンディングワ
イヤ84 の間の相互インダクタンスおよびリードGND
3 とリードGND2 の間の相互インダクタンスが問題と
なる。
Now, as described above,
By separating the ground pads, the return path between the ground pads on the chip appears to be invisible. However, the presence of mutual inductance between the bonding wires and the leads to each ground pad creates a feedback path, thereby creating a risk of oscillation. In particular, mutual inductance between adjacent bonding wires and leads is a problem. That is, the mutual inductance and the lead GND between the bonding wires 8 8 and the bonding wires 8 4 6
The mutual inductance between the lead 3 and the lead GND 2 becomes a problem.

【0013】これを回避するには、問題となるボンディ
ングワイヤおよびリードの間隔を広げればよいが、2本
の導線の相互インダクタンスは導線の間隔に対して緩や
かに減少する関数であるため、かなりの間隔を広げない
と相互インダクタンス低減の効果はない。本発明者の実
験によると、長さ1mmのボンディングワイヤの自己イ
ンダクタンスは約0.9nHであるが、このボンディン
グワイヤが0.16mmの間隔で2本存在する場合の相
互インダクタンスは0.34nHであり自己インダクタ
ンスの38%にもなる。そこで、2本のボンディングワ
イヤの間隔を広げて相互インダクタンスを測定した所、
相互インダクタンスを半分の0.17nHにするために
は間隔を3倍の0.48mmにまで広げなければならな
いことが分かった。
To avoid this, it is sufficient to increase the distance between the bonding wire and the lead, which is a problem. However, since the mutual inductance of the two wires is a function that decreases gradually with respect to the distance between the wires, a considerable amount is obtained. If the interval is not widened, there is no effect of reducing the mutual inductance. According to the experiment of the present inventor, the self-inductance of a bonding wire having a length of 1 mm is about 0.9 nH, and the mutual inductance when two bonding wires are present at an interval of 0.16 mm is 0.34 nH. It is 38% of the self inductance. Therefore, when the mutual inductance was measured by increasing the distance between the two bonding wires,
It was found that the interval had to be tripled to 0.48 mm in order to reduce the mutual inductance to 0.17 nH.

【0014】ボンディングワイヤの間隔を広げることは
パッド間隔を広げることを意味し、MMICチップ70
のサイズの増大を招き、コスト増大をもたらす。また、
相互インダクタンスが存在しても安定な増幅器を実現す
るには、安定化抵抗の値を小さくするなど回路定数の調
整をする必要がある。この場合、利得と安定性のトレー
ドオフにより利得が低下することになる。
Increasing the spacing between the bonding wires means increasing the pad spacing.
Increase in size and cost. Also,
In order to realize a stable amplifier even in the presence of mutual inductance, it is necessary to adjust circuit constants such as reducing the value of the stabilizing resistor. In this case, the gain is reduced due to a trade-off between the gain and the stability.

【0015】以上、説明したように、従来の高周波半導
体装置においては、グランドパッドに対するボンディン
グワイヤおよびリードの相互インダクタンスの影響が懸
念され、このためにチップサイズを大きくするか、さも
なければ安定化のために利得を下げなければならないと
いった問題点があった。
As described above, in the conventional high-frequency semiconductor device, there is a concern that the mutual inductance of the bonding wire and the lead with respect to the ground pad may affect the chip size. Therefore, there was a problem that the gain had to be lowered.

【0016】本発明は上記事情を考慮してなされたもの
であって、チップサイズをほとんど増加させずにボンデ
ィングワイヤ間の相互インダクタンスによる帰還を抑制
し、安定な高周波半導体装置を得ることを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to obtain a stable high-frequency semiconductor device by suppressing feedback due to mutual inductance between bonding wires without substantially increasing the chip size. I do.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】本発明による高周波半導
体装置は、少なくとも2つの素子が形成された半導体基
板と、この半導体基板上に形成されて前記2つの素子の
一方と接続される第1のパッドと、この第1のパッドと
隣り合うように前記半導体基板上に形成されて前記2つ
の素子の他方と接続される第2のパッドと、前記第1お
よび第2のパッドの間の前記半導体基板に設けられ、こ
の半導体基板上に形成されたどの素子とも接続されない
第3のパッドとを有するチップと、第1および第2の端
子と、これらの第1の端子と第2の端子との間に配置さ
れる第3の端子とを有し、前記チップが実装される基板
と、前記第1、第2、第3のパッドと前記第1、第2、
第3の端子とを各々接続する第1、第2、第3のボンデ
ィングワイヤと、を備え、前記第3のパッドはグランド
電位に接続されることを特徴とする。
A high-frequency semiconductor device according to the present invention comprises a semiconductor substrate having at least two elements formed thereon, and a first substrate formed on the semiconductor substrate and connected to one of the two elements. A pad, a second pad formed on the semiconductor substrate adjacent to the first pad and connected to the other of the two elements, and the semiconductor between the first and second pads A chip provided on the substrate and having a third pad that is not connected to any element formed on the semiconductor substrate; first and second terminals; and a first terminal and a second terminal. A substrate on which the chip is mounted, a third terminal disposed between the first, second, and third pads and the first, second, and third pads;
And first, second, and third bonding wires respectively connecting the third terminal and the third terminal, wherein the third pad is connected to a ground potential.

【0018】また、本発明による高周波半導体装置は、
少なくとも2つの素子が形成された半導体基板と、この
半導体基板上に形成されて前記2つの素子の一方と接続
される第1のパッドと、この第1のパッドと隣り合うよ
うに前記半導体基板上に形成されて前記2つの素子の他
方と接続される第2のパッドと、前記第1および第2の
パッドの間の前記半導体基板に設けられ、この半導体基
板上に形成されたどの素子とも接続されない第3のパッ
ドとを有するチップと、第1および第2の端子と、これ
らの第1の端子と第2の端子との間に配置される第3の
端子と、前記チップが載置されるグランドベッドとを有
する基板と、前記第1乃至第3のパッドを前記グランド
ベッドに各々接続する第1乃至第3のボンディングワイ
ヤと、を備え、前記第3のパッドはグランド電位に接続
されることを特徴とする。
Further, the high frequency semiconductor device according to the present invention comprises:
A semiconductor substrate on which at least two elements are formed; a first pad formed on the semiconductor substrate and connected to one of the two elements; and a first pad on the semiconductor substrate adjacent to the first pad. A second pad formed on the semiconductor substrate between the first and second pads, and connected to any of the elements formed on the semiconductor substrate. A chip having a third pad that is not provided, first and second terminals, a third terminal disposed between the first terminal and the second terminal, and the chip mounted thereon. A ground bed, and first to third bonding wires respectively connecting the first to third pads to the ground bed, wherein the third pad is connected to a ground potential. Features To.

【0019】また、本発明による高周波半導体装置は、
少なくとも2つの素子が形成された半導体基板と、この
半導体基板上に形成されて前記2つの素子の一方に接続
される第1のパッドと、この第1のパッドと隣り合うよ
うに前記半導体基板上に形成されて前記2つの素子の他
方と接続される第2のパッドとを有するチップと、配置
される第1および第2の端子と、これらの第1の端子と
第2の端子との間に配置される第3の端子と、前記チッ
プが載置されるグランドベッドとを有する基板と、前記
第1および第2のパッドと前記第1および第2の端子と
を各々接続する第1および第2のボンディングパッド
と、一端が前記グランドベッドに接続され、他端が前記
第3の端子に接続される第3のボンディングワイヤと、
を備えていることを特徴とする。
Further, the high frequency semiconductor device according to the present invention comprises:
A semiconductor substrate on which at least two elements are formed; a first pad formed on the semiconductor substrate and connected to one of the two elements; and a first pad on the semiconductor substrate adjacent to the first pad. A chip having a second pad formed to be connected to the other of the two elements, first and second terminals to be arranged, and between the first and second terminals. , A substrate having a ground bed on which the chip is placed, and first and second terminals respectively connecting the first and second pads to the first and second terminals. A second bonding pad; a third bonding wire having one end connected to the ground bed and the other end connected to the third terminal;
It is characterized by having.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】本発明による高周波半導体装置の
第1の実施の形態の構成を図1に示す。この第1の実施
の形態の高周波半導体装置は高周波増幅器用MMICチ
ップ10をプラスチック製外囲器パッケージ2に実装し
た構成となっている。
FIG. 1 shows the structure of a first embodiment of a high-frequency semiconductor device according to the present invention. The high-frequency semiconductor device of the first embodiment has a configuration in which the MMIC chip 10 for a high-frequency amplifier is mounted on a plastic envelope package 2.

【0021】この第1の実施の形態にかかるMMICチ
ップ10は、図6に示す従来の高周波半導体装置にかか
るMMICチップ70において、グランドパッド14と
グランドパッド18の間にグランドパッド16を新たに
設けるとともに、電源パッド15とグランドパッド19
との間にグランドパッド17を新たに設け、更にこれら
のグランドパッド16とグランドパッド17とを配線2
5によって接続した構成となっている。
In the MMIC chip 10 according to the first embodiment, a ground pad 16 is newly provided between the ground pad 14 and the ground pad 18 in the MMIC chip 70 according to the conventional high-frequency semiconductor device shown in FIG. With the power pad 15 and the ground pad 19
And a ground pad 17 is newly provided between the ground pad 17 and the ground pad 16 and the ground pad 17.
5 are connected.

【0022】またこの第1の実施の形態にかかる外囲器
パッケージ2は、図6に示す従来の高周波半導体装置に
かかる外囲器パッケージにおいて、リードGND2 とリ
ードGND3 の間にリードGND6 を新たに設けるとと
もに駆動電源に接続されるリードVddとリードGND5
との間にリードGND7 を新たに設けた構成となってい
る。そしてリードGND6 はボンディングワイヤ86
介してグランドパッド16と接続される。またリードG
ND7 はボンディングワイヤ87 を介してグランドパッ
ド17と接続される。なお、リードGND7 は理想的な
グランド電位に接続される。
The envelope package 2 according to the first embodiment is different from the envelope package according to the conventional high-frequency semiconductor device shown in FIG. 6 in that the lead GND 6 is located between the lead GND 2 and the lead GND 3. And a lead V dd and a lead GND 5 connected to the driving power supply.
And a lead GND 7 is newly provided between them. The lead GND 6 is connected to the ground pad 16 via bonding wires 8 6. Also lead G
ND 7 is connected to the ground pad 17 via bonding wires 8 7. Note that the lead GND 7 is connected to an ideal ground potential.

【0023】次に第1の実施の形態の作用を図2を参照
して説明する。図2(a)は第1の実施の形態の高周波
半導体装置のボンディングワイヤ84 ,86 ,87 ,8
8 に対してモデル化した回路図であり、図2(b)は従
来の高周波半導体装置のボンディングワイヤ84 ,88
に対してモデル化した回路図である。
Next, the operation of the first embodiment will be described with reference to FIG. 2 (a) is a bonding wire 8 4 of the high-frequency semiconductor device of the first embodiment, 8 6, 8 7, 8
8 is a circuit diagram that models respect, FIG. 2 (b) bonding wires 8 4 of a conventional high-frequency semiconductor device, 8 8
FIG. 3 is a circuit diagram modeled with respect to FIG.

【0024】なお、本モデルでは、リードのインダクタ
ンスはボンディングワイヤのインダクタンスに比べて小
さいと仮定し、その存在を無視する。またMMICを実
装基板に直接に実装するタイプではそもそもリードのイ
ンダクタンスは存在せず、本モデルがそのまま適用され
る。そして、グランドパッド用ボンディングワイヤのみ
をインダクタンスLでモデル化すると共に、各インダク
タ間に存在する相互インダクタの影響を考える。
In the present model, the lead inductance is assumed to be smaller than the bonding wire inductance, and its existence is ignored. In the type in which the MMIC is directly mounted on the mounting board, there is no lead inductance in the first place, and the present model is applied as it is. Then, only the bonding wire for the ground pad is modeled by the inductance L, and the influence of the mutual inductor existing between the inductors is considered.

【0025】図2(b)の回路に対する回路方程式は式
(1a),(1b)の連立方程式で表される。 sLI1+sMI2=e …(1a) sMI1+(sL+Z)I2=0 …(1b) ここで、s=jωである。(j:単位虚数、ω=角周波
数) ボンディングワイヤ88 に電流I1が流れると、相互イ
ンダクタMの存在により、ボンディングワイヤ84 に電
流I2が生じることになる。この電流I2はボンディン
グワイヤ84 に接続されるインピーダンスZに存在する
が、仮にZ=0であるとすると、電流I2の符号は電流
I1と逆、すなわち、電流I2と電流I1の位相差は1
80度となることが式(1b)から分かる。すなわち、
チップ10からボンディングワイヤ88 を通って接地電
源へのAC電流が生じると、その一部はボンディングワ
イヤ84 からチップ10側へ戻ることが分かる。これが
帰還のメカニズムである。
The circuit equation for the circuit of FIG. 2B is represented by simultaneous equations of equations (1a) and (1b). sLI1 + sMI2 = e (1a) sMI1 + (sL + Z) I2 = 0 (1b) Here, s = jω. (J: a unit imaginary number, omega = angular frequency) when the current I1 flows through the bonding wire 8 8, due to the presence of mutual inductance M, so that the current I2 generated in the bonding wire 8 4. This current I2 is present in the impedance Z that is connected to the bonding wires 8 4, Assuming that to be the Z = 0, the sign of the current I2 is a current I1 opposite, i.e., the phase difference between the current I2 and current I1 1
It can be seen from equation (1b) that the angle is 80 degrees. That is,
When AC current from the chip 10 to the ground power supply through a bonding wire 8 8 occurs, some of it can be seen that return from the bonding wires 8 4 to the chip 10 side. This is the return mechanism.

【0026】これに対して、本実施の形態をモデル化し
た回路図を図2(a)に示す。この図2(a)に示す回
路はボンディングワイヤ87 と他のボンディングワイヤ
との間隔が十分広く、それらの間の相互インダクタンス
は無視できるものとしている。この図2(a)に示す回
路に対する回路方程式は式(2a),(2b),(2
c)の連立方程式で表される。 sLI1+sM12I2+sM13I3=e …(2a) sM12I1+2sLI2+sM23I3=0 …(2b) sM13I1+sM23I2+(sL+Z)I3=0 …(2c) ここでM12はボンディングワイヤ88 とポンディングワ
イヤ86 との間の相互インダクタンス、M23はボンディ
ングワイヤ86 とボンディングワイヤ84 との間の相互
インダクタンス、M13はボンディングワイヤ88 とボン
ディングワイヤ84 との間の相互インダクタンスを示
す。
On the other hand, a circuit diagram modeling this embodiment is shown in FIG. The circuit shown in FIG. 2 (a) is widely distance between the bonding wires 8 7 and another bonding wire sufficiently, as the mutual inductance between them negligible. The circuit equations for the circuit shown in FIG. 2A are given by equations (2a), (2b), and (2).
c) is represented by the simultaneous equations. sLI1 + sM 12 I2 + sM 13 I3 = e ... (2a) sM 12 I1 + 2sLI2 + sM 23 I3 = 0 ... (2b) sM 13 I1 + sM 23 I2 + (sL + Z) I3 = 0 ... (2c) where M 12 is a bonding wire 8 8 a bonding wire 8 mutual inductance, M 23 of between 6 shows the mutual inductance between the mutual inductance, M 13 is the bonding wire 8 8 and the bonding wires 8 4 between the bonding wires 8 6 and the bonding wire 8 4.

【0027】今、上記方程式のパラメータを次のように
与えるものとする。 1) 各ボンディングワイヤの長さは1mmとし、その
時の実験値として L=0.91nH 2) ボンディングワイヤ88 とボンディングワイヤ8
4 の間隔を0.32mmとした場合の相互インダクタン
スの実験値として M=M13=0.225nH 3) ボンディングワイヤ86 はボンディングワイヤ8
8 とボンディングワイヤ84 の真中に位置するとして、 M12=M23=0.336nH 4) Z=0 5) 角周波数ω=2π×1.9GHzとする。
Now, assume that the parameters of the above equation are given as follows. 1) a 1mm length of the bonding wire, L = 0.91nH 2) the bonding wire 8 8 and the bonding wire 8 as an experimental value at that time
4 distance M = M 13 as experimental value of the mutual inductance in the case of a 0.32mm = 0.225nH 3) the bonding wires 8 6 bonding wire 8
As it positioned in the middle of the 8 and the bonding wire 8 4, M 12 = M 23 = 0.336nH 4) and Z = 0 5) angular frequency ω = 2π × 1.9GHz.

【0028】以上のパラメータを式(1a)〜(1b)
および(2a)〜(2c)に代入し、それぞれの連立方
程式を解いた結果を次に説明する。
The above parameters are expressed by the following equations (1a) to (1b).
The results of solving the simultaneous equations by substituting into (2a) to (2c) and (2a) will be described below.

【0029】図2(b)に対する電流の帰還量I2/I
1は式(1a)〜(1b)の解から I2/I1=−0.247 となる。一方、式(2a)〜(2c)の解として I3/I1=−0.193 となる。すなわち、本実施の形態によって相互インダク
タンスによる電流の帰還量は従来の場合に比べて22%
軽減される。
The amount of current feedback I2 / I with respect to FIG.
1 is I2 / I1 = -0.247 from the solutions of the equations (1a) and (1b). On the other hand, as a solution of the equations (2a) to (2c), I3 / I1 = −0.193. That is, according to the present embodiment, the amount of current feedback due to mutual inductance is 22% as compared with the conventional case.
It is reduced.

【0030】本モデルではボンディングワイヤのインダ
タクタンスを一律Lで扱っているが、もしも、ボンディ
ングワイヤ87 のインダクタンス(例えばL4とする)
をボンディング本数を多くする等、他に比べて小さくで
きれば帰還量I3/I1はさらに軽減できる。L4を0
にした極限では、 I3/I1=−0.129 となり、電流の帰還量は従来のほぼ半分となる。
[0030] While the present model deals with indanyl Taku chest of the bonding wire in uniform L, if, (for example, L4) the bonding wire 8 7 inductance
The feedback amount I3 / I1 can be further reduced if the number can be reduced as compared with the other cases, such as by increasing the number of bondings. L4 to 0
In the limit described above, I3 / I1 = -0.129, and the amount of current feedback is almost half of the conventional value.

【0031】以上は数式を厳密に解いた結果であるが、
近似的な考え方を使ってもう少し直感的な説明を以下に
行う。
The above is the result of strictly solving the equation.
A slightly more intuitive explanation is given below using an approximate idea.

【0032】ボンディングワイヤ88 に流れる電流(I
aとする)によって、ボンディングワイヤ84 には電流
Iaと逆方向の電流(Ibとする)が流れる。電流Ib
は次のように表すことが出来る。
The current flowing through the bonding wires 8 8 (I
by the a), the current Ia and the reverse current (Ib are the bonding wires 8 4) flows. Current Ib
Can be expressed as follows.

【0033】 Ib=−k1Ia , (0<k1<1) また、電流Iaによって、ボンディングワイヤ88 とボ
ンディングワイヤ84の間にあるボンディングワイヤ8
6 に電流(Icとする)が流れる。電流Icは電流Ia
と電流Ibの両方の影響を受けるが、電流Ibは電流I
aに比べ小さいはずであるから、近似的な電流Ibの影
響を無視したとすると、 Ic=−k2 Ia , (0<k1<k2<1) となる。
[0033] Ib = -k1Ia, (0 <k1 <1) The bonding wires 8 in the currents Ia, between the bonding wires 8 8 and the bonding wire 8 4
A current (Ic) flows through 6. The current Ic is the current Ia
Current Ib is affected by the current Ib
Since it should be smaller than a, if the effect of the approximate current Ib is neglected, Ic = −k2 Ia, (0 <k1 <k2 <1).

【0034】次に電流Icによってボンディングワイヤ
4 に生じる電流Idを考えると、 Id=−k2Ic=k22 Ia となる。ここで、ボンディングワイヤ86 はボンディン
グワイヤ88 と84 の真中に位置するものとし、電流I
dと電流Icの結合定数は電流Icと電流Iaの結合定
数と同じものとした。よって、ボンディングワイヤ84
に流れる合計の電流Ib+Idは次で与えられることに
なる。
[0034] Next considering the current Id generated in the bonding wire 8 4 by the current Ic, the Id = -k2Ic = k2 2 Ia. Here, it is assumed that the bonding wires 8 6 located in the middle of the bonding wire 8 8 8 4, the current I
The coupling constant between d and current Ic was the same as the coupling constant between current Ic and current Ia. Therefore, the bonding wire 8 4
Will be given by the following equation.

【0035】Ib+Id=−(k1−k22 )Ia すなわち、ボンディングワイヤ86 の存在によって、電
流Ibの一部を相殺する電流Idが生じ、ボンディング
ワイヤ88 に流れる電流によってボンディングワイヤ8
4 に生じる電流が軽減されるのである。
[0035] Ib + Id = - (k1- k2 2) Ia that is, by the presence of the bonding wires 8 6 produces a current Id to offset a portion of the current Ib, the bonding wire 8 by a current flowing through the bonding wire 8 8
The current generated in 4 is reduced.

【0036】以上説明したように、本実施の形態の高周
波半導体装置によれば、相互インダクタンスの影響を低
減させることができ、安定した性能を得ることができ
る。本実施の形態においては、チップ10にはパッド1
6,17および配線25が設けられているが、これによ
るチップサイズの増加はほとんどない。
As described above, according to the high-frequency semiconductor device of the present embodiment, the influence of mutual inductance can be reduced, and stable performance can be obtained. In this embodiment, the chip 10 has the pad 1
6, 17 and the wiring 25 are provided, but there is almost no increase in chip size.

【0037】なお、本実施の形態においては、パッド1
7に接続されるボンディングワイヤ87 はリードGND
5 に接続されるボンディングワイヤ810から比較的離れ
た位置に設けられているのが好ましい。このことは重要
なことである。本実施の形態の作用の項で説明したよう
に、ボンディングワイヤ87 は他のボンディングワイ
ヤ、特にグランドパッド用のボンディングワイヤ810
離れていてそれらの相互インダクタンスが小さいことが
必要であるからである。
In this embodiment, the pad 1
Bonding wires 8 7 connected to the 7 lead GND
Preferably from the bonding wires 8 10 connected to 5 the provided relatively far position. This is important. In As explained in the operation of the present embodiment, the bonding wire 8 7 another bonding wire, because it is necessary that their mutual inductance is small in particular away from the bonding wires 8 10 for ground pad is there.

【0038】また、本実施の形態においては、パッド1
6は、トランジスタQ1 用のグランドパッド14と、ト
ランジスタQ2 用のグランドパッド18との中点よりも
トランジスタQ2 側に位置していることが好ましい。こ
れは、パッド18に接続されるボンディングワイヤ88
の実効的な自己インダクタンスの低減という付加的な効
果が得られるためである。
In this embodiment, the pad 1
6, a ground pad 14 of the transistor Q 1, is preferably located in the transistor Q 2 side than the midpoint between the ground pad 18 of the transistor Q 2. This is because the bonding wire 8 8 connected to the pad 18
This is because an additional effect of reducing the effective self-inductance can be obtained.

【0039】なお、上記第1の実施の形態においては、
増幅器の段数は2段であったが、3段以上の段数の増幅
器を有している高周波半導体装置の場合は、新たなグラ
ンドパッド(第1の実施の形態においてはグランドパッ
ド16)は、ゲインの大きな増幅器のグランドパッド
(第1の実施の形態ではトランジスタQ2 のグランドパ
ッド18)に隣接して設けることが好ましい。なお、ゲ
インがほぼ等しい場合は、上述の新たなグランドパッド
は最後段の増幅器のグランドパッドに隣接して設けるこ
とが好ましい。なお、新たなグランドパッドは各段間に
設けても良いことは言うまでもない。
In the first embodiment,
Although the number of amplifier stages is two, in the case of a high-frequency semiconductor device having three or more stages of amplifiers, a new ground pad (the ground pad 16 in the first embodiment) has a gain. is preferably provided adjacent to the (ground pads 18 of the transistor Q 2 is in the first embodiment) ground pad of a large amplifier. When the gains are almost equal, it is preferable that the new ground pad be provided adjacent to the ground pad of the last amplifier. It goes without saying that a new ground pad may be provided between each stage.

【0040】次に本発明による高周波半導体装置の第2
の実施の形態を図3を参照して説明する。図3は第2の
実施の形態の高周波半導体装置の構成を示す平面図であ
る。
Next, the second embodiment of the high-frequency semiconductor device according to the present invention will be described.
The embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a plan view showing the configuration of the high-frequency semiconductor device according to the second embodiment.

【0041】この第2の実施の形態の高周波半導体装置
は、第1の実施の形態と異なりMMICチップ10を外
囲器パッケージを用いずに実装基板3に直接実装した構
成となっている。この第2の実施の形態においては、M
MICチップ10は図3に示すように理想のグランド電
位と見なせるグランドベッド4に置かれている。そして
MMICチップ10のグランドパッド13はボンディン
グワイヤ92 を介して、グランドパッド14はボンディ
ングワイヤ93 ,94 を介して、グランドパッド16は
ボンディングワイヤ96 を介して、グランドパッド17
はボンディングワイヤ97 を介して、グランドパッド1
8はボンディングワイヤ98 ,99 ,912,913を介し
て、またグランドパッド19はボンディングワイヤ
10,911を介してグランドベッド4に各々接続され
る。この第2の実施の形態のような実装形態は、リード
が存在しないため、第1の実施の形態の作用の項で説明
したモデルによく合致し、第1の実施の形態に比べてよ
り一層安定した性能を得ることができる。
The high-frequency semiconductor device of the second embodiment differs from the first embodiment in that the MMIC chip 10 is directly mounted on the mounting substrate 3 without using an envelope package. In the second embodiment, M
The MIC chip 10 is placed on a ground bed 4 which can be regarded as an ideal ground potential as shown in FIG. The ground pad 13 of the MMIC chip 10 through the bonding wires 9 2, ground pad 14 via a bonding wire 9 3, 9 4, the ground pad 16 via a bonding wire 9 6, ground pad 17
Via bonding wires 9 7, ground pad 1
8 is connected to the ground bed 4 via bonding wires 9 8 , 9 9 , 9 12 , 9 13 , and the ground pad 19 is connected via bonding wires 9 10 , 9 11 respectively. Since the mounting form such as the second embodiment has no lead, it conforms well to the model described in the section of the operation of the first embodiment, and has a much larger size than the first embodiment. Stable performance can be obtained.

【0042】なお第2の実施の形態においては、入力整
合回路12のパッド11は実装基板3に設けられた入力
端子INとボンディングワイヤ91 を介して接続され、
MMICチップ10の電源パッド15は実装基板3に設
けられた電源端子Vddとボンディングワイヤ95 を介し
て接続され、MMICチップ10の出力パッド20は実
装基板3に設けられた出力端子OUTとボンディングワ
イヤ914を介して接続される。
[0042] In the second embodiment, the pad 11 of the input matching circuit 12 is connected through an input terminal IN and the bonding wires 9 1 provided on the mounting substrate 3,
Power supply pads 15 of the MMIC chip 10 is connected via the power supply terminal and V dd to the bonding wires 9 5 provided on the mounting board 3, the output terminal OUT and the bonding output pad 20 of the MMIC chip 10 is provided on the mounting board 3 It is connected via a wire 9 14.

【0043】この第2の実施の形態の高周波半導体装置
の安定性を調べるために回路シミュレーションを行っ
た。この回路シミュレーションでは安定性の指標となる
安定係数Kを調べた。この安定係数Kは、第2の実施の
形態の半導体装置の等価回路を4端子回路で表したとき
の四端子パラメータであるSパラメータS11,S12,S
21,S22によって次のように表わされる。 K=(1−|S112 −|S222 +|Δ|2 )/(2
・|S1221|) ここでΔ=S1122−S1221である。 |S11|<1かつ|S22|<1の場合、4端子回路が無
条件に安定であるための必要十分条件は、K>1かつ|
Δ|<1である。
A circuit simulation was performed to examine the stability of the high-frequency semiconductor device according to the second embodiment. In this circuit simulation, a stability coefficient K as an index of stability was examined. The stability coefficient K is determined by S parameters S 11 , S 12 , S which are four-terminal parameters when the equivalent circuit of the semiconductor device of the second embodiment is represented by a four-terminal circuit.
21, the S 22 is expressed as follows. K = (1- | S 11 | 2 - | S 22 | 2 + | Δ | 2) / (2
.. | S 12 S 21 |) where Δ = S 11 S 22 −S 12 S 21 . When | S 11 | <1 and | S 22 | <1, the necessary and sufficient conditions for the four-terminal circuit to be unconditionally stable are K> 1 and |
Δ | <1.

【0044】実際のFETを用いた増幅器においては、
通常|S11|<1かつ|S22|<1であって、更に|Δ
|<1を満足するため、K>1かどうかによって無条件
安定かどうかの判定を行う。
In an amplifier using an actual FET,
Usually, | S 11 | <1 and | S 22 | <1, and | Δ
In order to satisfy | <1, it is determined whether or not K> 1 to determine whether the condition is unconditionally stable.

【0045】第2の実施の形態の高周波半導体装置の安
定係数Kの全周波数範囲での最小値は1.5であり、絶
対安定条件を満たした。
The minimum value of the stability coefficient K of the high frequency semiconductor device of the second embodiment in the entire frequency range is 1.5, which satisfies the absolute stability condition.

【0046】一方、本実施の形態からパッド16,17
およびそれらを接続する配線25を除いた従来の場合の
回路では安定係数は0.9であり、絶対安定条件を満た
さなかった。この従来例では、トランジスタQ1 とトラ
ンジスタQ2 のグランドパッド間隔は第2の実施の形態
と同じであり、よってチップサイズも同一であるにも拘
らず安定係数が大幅に劣化している。従来例において安
定係数を第2の実施の形態と同じ1.5にするにはトラ
ンジスタQ1 とトランジスタQ2 のグランドパッド間隔
を2倍以上にする必要があり、これにより当然チップサ
イズは増加する。
On the other hand, according to the present embodiment, pads 16 and 17 are used.
In the conventional circuit except for the wiring 25 connecting them, the stability coefficient was 0.9, which did not satisfy the absolute stability condition. In this conventional example, a ground pad spacing of the transistor Q 1, the transistor Q 2 are the same as in the second embodiment, thus stabilizing factor despite the chip size is also the same has deteriorated significantly. To the stability factor in the conventional example in the same 1.5 and the second embodiment, it is necessary to ground pad spacing of the transistor Q 1, the transistor Q 2 more than doubled, thereby naturally chip size is increased .

【0047】次に本発明による高周波半導体装置の第3
の実施の形態を図4を参照して説明する。この第3の実
施の形態の高周波半導体装置は、裏面が理想的なグラン
ド3Aとなる実装基板3上に形成されたグランドベッド
4にMMICチップ10Aが置かれた構成となってい
る。なおこのMMICチップ10Aは例えば図1または
図3に示すMMICチップ10からパッド16,17を
削除した構成となっている。そして、MMICチップ1
0A上のグランドパッド31,33は、実装基板3に形
成されたグランド端子41,43と各々ボンディングワ
イヤ51,53を介して接続されている。
Next, the third embodiment of the high-frequency semiconductor device according to the present invention will be described.
The embodiment will be described with reference to FIG. The high-frequency semiconductor device according to the third embodiment has a configuration in which an MMIC chip 10A is placed on a ground bed 4 formed on a mounting substrate 3 whose back surface is an ideal ground 3A. The MMIC chip 10A has a configuration in which the pads 16 and 17 are deleted from the MMIC chip 10 shown in FIG. 1 or 3, for example. And MMIC chip 1
The ground pads 31 and 33 on 0A are connected to ground terminals 41 and 43 formed on the mounting substrate 3 via bonding wires 51 and 53, respectively.

【0048】また、ボンディングワイヤ51,53との
相互作用を低減するために、ボンディングワイヤ51と
ボンディングワイヤ53との間に、ボンディングワイヤ
55が設けられている。そしてこのボンディングワイヤ
55は一端がグランドベッド4に接続され、他端が実装
基板3に設けられたグランド端子45に接続されてい
る。
In order to reduce the interaction between the bonding wires 51 and 53, a bonding wire 55 is provided between the bonding wires 51 and 53. The bonding wire 55 has one end connected to the ground bed 4 and the other end connected to a ground terminal 45 provided on the mounting board 3.

【0049】この第3の実施の形態の高周波半導体装置
も第2の実施の形態と同様の効果を奏することは云うま
でもない。
It goes without saying that the high-frequency semiconductor device according to the third embodiment also has the same effect as the second embodiment.

【0050】なお第3の実施の形態においては、ボンデ
ィングワイヤ55とグランドベッド4との接続点はでき
るだけMMICチップ10Aに近い方が望ましい。ま
た、ボンディングワイヤ55はボンディングワイヤ5
1,53とできるだけ平行となるように配置することが
望ましい。
In the third embodiment, it is desirable that the connection point between the bonding wire 55 and the ground bed 4 is as close as possible to the MMIC chip 10A. The bonding wire 55 is the bonding wire 5
It is desirable to arrange them so as to be as parallel as possible to 1, 53.

【0051】またこの第3の実施の形態においてはグラ
ンド端子45はグランド端子41,43と一列となるよ
うに配置されているがx軸方向(図4参照)に移動して
配置しても良い。
In the third embodiment, the ground terminal 45 is arranged so as to be aligned with the ground terminals 41 and 43, but may be moved in the x-axis direction (see FIG. 4). .

【0052】上記第1乃至第3の実施の形態において
は、GaAs基板上に形成されたMESFETからなる
高周波増幅器を例にとって説明したが、他の電子デバイ
スにも本発明を適用できることは云うまでもない。ま
た、高周波増幅器に限らず、ボンディングワイヤ間の相
互インダクタンスによる信号のカップリングが問題とな
るMMIC全般に関して本発明は有効である。
In the first to third embodiments, a high-frequency amplifier composed of a MESFET formed on a GaAs substrate has been described as an example. However, it is needless to say that the present invention can be applied to other electronic devices. Absent. The present invention is not limited to the high-frequency amplifier, but is effective for general MMICs in which signal coupling due to mutual inductance between bonding wires becomes a problem.

【0053】[0053]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、チ
ップ面積を大幅に大きくすることなく、安定な高周波半
導体装置を得ることができる。
As described above, according to the present invention, a stable high-frequency semiconductor device can be obtained without greatly increasing the chip area.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態の構成を示す平面
図。
FIG. 1 is a plan view showing a configuration of a first embodiment of the present invention.

【図2】第1の実施の形態の作用効果を説明するモデル
回路図。
FIG. 2 is a model circuit diagram illustrating the operation and effect of the first embodiment.

【図3】本発明の第2の実施の形態の構成を示す平面
図。
FIG. 3 is a plan view showing the configuration of a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第3の実施の形態の構成を示す斜視
図。
FIG. 4 is a perspective view showing a configuration of a third embodiment of the present invention.

【図5】高周波増幅器の構成を示す回路図。FIG. 5 is a circuit diagram showing a configuration of a high-frequency amplifier.

【図6】従来の高周波半導体装置の構成を示す平面図。FIG. 6 is a plan view showing a configuration of a conventional high-frequency semiconductor device.

【図7】マルチフィンガ型FETの構成を示す平面図。FIG. 7 is a plan view showing a configuration of a multi-finger FET.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 外囲器パッケージ 3 実装基板 4 グランドベッド 8i (i=1,…13) ボンディングワイヤ 10 MMICチップ 11 入力パッド 12 入力整合回路 13,14,16,17,18,19 グランドパッド 15 電源パッド 20 出力パッド IN 入力リード Vdd 電源リード OUT 出力リード GNDi (i=1,…7) グランドリード Qi (i=1,2) GaAsMESFET Ri (i=1,2) 安定化抵抗 L1 インダクタ C1 キャパシタ2 envelope package 3 mounting board 4 ground bed 8 i (i = 1,... 13) bonding wire 10 MMIC chip 11 input pad 12 input matching circuit 13, 14, 16, 17, 18, 19 ground pad 15 power supply pad 20 output pad IN input lead V dd power supply leads OUT output lead GND i (i = 1, ... 7) ground lead Q i (i = 1,2) GaAsMESFET R i (i = 1,2) stabilizing resistor L 1 inductor C 1 capacitor

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】少なくとも2つの素子が形成された半導体
基板と、この半導体基板上に形成されて前記2つの素子
の一方と接続される第1のパッドと、この第1のパッド
と隣り合うように前記半導体基板上に形成されて前記2
つの素子の他方と接続される第2のパッドと、前記第1
および第2のパッドの間の前記半導体基板に設けられ、
この半導体基板上に形成されたどの素子とも接続されな
い第3のパッドとを有するチップと、 第1および第2の端子と、これらの第1の端子と第2の
端子との間に配置される第3の端子とを有し、前記チッ
プが実装される基板と、 前記第1、第2、第3のパッドと前記第1、第2、第3
の端子とを各々接続する第1、第2、第3のボンディン
グワイヤと、 を備え、前記第3のパッドはグランド電位に接続される
ことを特徴とする高周波半導体装置。
1. A semiconductor substrate having at least two elements formed thereon, a first pad formed on the semiconductor substrate and connected to one of the two elements, and adjacent to the first pad. Formed on the semiconductor substrate and
A second pad connected to the other of the two elements;
And provided on the semiconductor substrate between the second pad and
A chip formed on the semiconductor substrate and having a third pad that is not connected to any element; first and second terminals; and a first terminal and a second terminal. A substrate having a third terminal on which the chip is mounted, the first, second, and third pads and the first, second, and third pads;
And a first, a second, and a third bonding wire, respectively, for connecting the first and second terminals to each other, wherein the third pad is connected to a ground potential.
【請求項2】少なくとも2つの素子が形成された半導体
基板と、この半導体基板上に形成されて前記2つの素子
の一方と接続される第1のパッドと、この第1のパッド
と隣り合うように前記半導体基板上に形成されて前記2
つの素子の他方と接続される第2のパッドと、前記第1
および第2のパッドの間の前記半導体基板に設けられ、
この半導体基板上に形成されたどの素子とも接続されな
い第3のパッドとを有するチップと、 第1および第2の端子と、これらの第1の端子と第2の
端子との間に配置される第3の端子と、前記チップが載
置されるグランドベッドとを有する基板と、 前記第1乃至第3のパッドを前記グランドベッドに各々
接続する第1乃至第3のボンディングワイヤと、 を備え、前記第3のパッドはグランド電位に接続される
ことを特徴とする高周波半導体装置。
2. A semiconductor substrate having at least two elements formed thereon, a first pad formed on the semiconductor substrate and connected to one of the two elements, and adjacent to the first pad. Formed on the semiconductor substrate and
A second pad connected to the other of the two elements;
And provided on the semiconductor substrate between the second pad and
A chip formed on the semiconductor substrate and having a third pad that is not connected to any element; first and second terminals; and a first terminal and a second terminal. A substrate having a third terminal, a ground bed on which the chip is mounted, and first to third bonding wires respectively connecting the first to third pads to the ground bed; The high frequency semiconductor device, wherein the third pad is connected to a ground potential.
【請求項3】前記第1、第2、および第3のパッドとは
離れて前記半導体基板上に形成される第4のパッドと、 前記半導体基板上に形成されて前記第3のパッドと前記
第4のパッドとを接続する配線と、 を備え、前記第4のパッドはグランド電位に接続される
ことを特徴とする請求項1または2記載の高周波半導体
装置。
3. A fourth pad formed on the semiconductor substrate apart from the first, second, and third pads, and a third pad formed on the semiconductor substrate, the fourth pad being formed on the semiconductor substrate. 3. The high-frequency semiconductor device according to claim 1, further comprising: a wiring connecting to a fourth pad, wherein the fourth pad is connected to a ground potential.
【請求項4】少なくとも2つの素子が形成された半導体
基板と、この半導体基板上に形成されて前記2つの素子
の一方に接続される第1のパッドと、この第1のパッド
と隣り合うように前記半導体基板上に形成されて前記2
つの素子の他方と接続される第2のパッドとを有するチ
ップと、 第1および第2の端子と、これらの第1の端子と第2の
端子との間に配置される第3の端子と、前記チップが載
置されるグランドベッドとを有する基板と、 前記第1および第2のパッドと前記第1および第2の端
子とを各々接続する第1および第2のボンディングパッ
ドと、 一端が前記グランドベッドに接続され、他端が前記第3
の端子に接続される第3のボンディングワイヤと、 を備えていることを特徴とする高周波半導体装置。
4. A semiconductor substrate having at least two elements formed thereon, a first pad formed on the semiconductor substrate and connected to one of the two elements, and adjacent to the first pad. Formed on the semiconductor substrate and
A chip having a second pad connected to the other of the two elements, first and second terminals, and a third terminal disposed between the first and second terminals. A substrate having a ground bed on which the chip is mounted; first and second bonding pads for connecting the first and second pads to the first and second terminals, respectively; The other end is connected to the ground bed.
And a third bonding wire connected to the terminal.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2002334935A (en) * 2001-05-08 2002-11-22 Mitsubishi Electric Corp High-frequency circuit chip, high-frequency circuit device having the chip, and method of manufacturing the same
JPWO2005015636A1 (en) * 2003-08-08 2006-10-05 株式会社ルネサステクノロジ Semiconductor device
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