JPH11194211A - カラーフィルタ基板とその製造方法、該基板を用いた液晶素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 インクジェット方式を用いたストライプ状の
カラーフィルタ基板の製造方法において、隣接する異な
る色の着色部間での混色を防止し、且つ、隣接する同一
色の着色部間での着色むらを防止する。 【解決手段】 支持基板１上に全面に金属膜からなる遮
光層とポジ型の感光性樹脂組成物層を形成し、該感光性
樹脂組成物層を格子状のパターニングして、これをマス
クとして遮光層をパターニングしてブラックマトリクス
２とし、感光性樹脂組成物層はさらにストライプ状にパ
ターニングして隔壁３とし、該隔壁３で囲まれた領域に
所定の色の硬化型着色インクをインクジェット方式によ
り付与し、硬化して着色部４を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーテレビ、パ
ーソナルコンピュータ、パチンコ遊戯台等に使用されて
いるカラー液晶ディスプレイのカラーフィルタ基板とそ
の製造方法に関し、特に、インクジェット方式を用い
た、各着色部がストライプ状に配置されたカラーフィル
タ基板の製造方法に関する。また、本発明は、上記カラ
ーフィルタ基板を具備した液晶素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータの発達、
特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、液晶
ディスプレイ、特にカラー液晶ディスプレイの需要が増
加する傾向にある。しかしながら、さらなる普及のため
にはコストダウンが必要であり、特にコスト的に比重の
重いカラーフィルタのコストダウンに対する要求が高ま
っている。

【０００３】従来から、カラーフィルタの要求特性を満
足しつつ上記の要求に応えるべく種々の方法が試みられ
ているが、いまだ全ての要求特性を満足する方法は確率
されていない。以下にそれぞれの方法を説明する。

【０００４】第一の方法は染色法である。染色法は、先
ずガラス基板上に染色用の材料である水溶性の高分子材
料を形成し、これをフォトリソグラフィ工程により所望
の形状にパターニングした後、得られたパターンを染色
浴に浸漬して着色されたパターンを得る。これを３回繰
り返すことにより、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の各
着色部からなるカラーフィルタ層を形成する。

【０００５】第二の方法は顔料分散法であり、近年染色
法に取って代わりつつある。この方法は、先ず基板上に
顔料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニ
ングすることにより単色のパターンを得る。さらにこの
工程を３回繰り返すことにより、Ｒ，Ｇ，Ｂの各着色部
からなるカラーフィルタ層を形成する。

【０００６】第三の方法としては電着法がある。この方
法は、先ず基板上に透明電極をパターニングし、顔料、
樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第一の色
を電着する。この工程を３回繰り返してＲ，Ｇ，Ｂから
なるカラーフィルタ層を形成し、最後に焼成するもので
ある。

【０００７】第四の方法としては、熱硬化型の樹脂に顔
料を分散させ、印刷を３回繰り返すことにより、Ｒ，
Ｇ，Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより
着色層を形成するものである。

【０００８】いずれの方法においても、着色層（カラー
フィルタ層）の上に保護層を形成するのが一般的であ
る。

【０００９】これらの方法に共通している点は、Ｒ，
Ｇ，Ｂの３色を着色するために同一の工程を３回繰り返
す必要があり、コスト高になることである。また、工程
が多い程、歩留が低下するという問題もある。さらに、
電着法においては、形成可能なパターン形状が限定され
るため、現状の技術ではＴＦＴ用には適用困難である。
また、印刷法は、解像性が悪いためファインピッチのパ
ターンの形成には不向きである。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】これらの問題点を補う
べく、インクジェット方式を用いたカラーフィルタの製
造方法として、特開昭５９−７５２０５号公報、特開昭
６３−２３５９０１号公報、特開平１−２１７３２０号
公報等に開示された提案があるが、いまだ不十分であ
る。

【００１１】特に、インクジェット方式によるカラーフ
ィルタの製造方法においては、隣接する異なる着色部間
での混色が問題となる。そこで、カラーフィルタの各着
色部間での混色を防止する方法として、特開平４−１２
３００５号公報に開示された提案がある。この方法は、
ブラックマトリクス上に撥水、撥油性の大きなシリコー
ンゴムのパターンを形成して、インクジェット法或いは
印刷法における混色を防止するものである。

【００１２】しかしながら、シリコーンゴムのパターン
を形成する方法としては、感光性樹脂層上にシリコーン
ゴム層を形成した後フォトリソグラフィによってシリコ
ーンゴム層或いはシリコーンゴム層と感光性樹脂層を除
去するため、２回の塗布工程が必要であり、製造工程的
に不利である。

【００１３】そこで、より簡便な方法で表面が撥水、撥
油性を有するブラックマトリクスを得る方法として、特
開平７−３５９１６号公報に示された提案がある。該公
報には、ブラックマトリクス形成用部材の上に、シリコ
ーン微粒子を含有する光透過性の感光性樹脂を形成し、
該感光性樹脂をフォトリソ工程によりパターニングした
後、パターニングされた感光性樹脂をマスクとしてブラ
ックマトリクス形成用部材を加工する方法が記載されて
いる。しかしながら、当該方法は、感光性樹脂中に微粒
子状態でシリコーンを含有するため、 （１）シリコーン微粒子が現像残渣となり、これがブラ
ックマトリクス形成用部材に転写されてブラックマトリ
クスに欠陥が発生する。 （２）シリコーン微粒子の添加量を多くすると解像性が
低下するため、微細パターンの形成には不向きである。
等の問題がある。

【００１４】さらに、上記ブラックマトリクスを用い、
各色の着色部をストライプ状に配置したカラーフィルタ
を形成した場合に、以下のような問題を発生した。 （３）インクジェット方式では、各ブラックマトリクス
の開口部に対して、各色毎に同一量のインクを付与する
必要があるが、インク滴の吐出毎に液滴量や着弾位置に
微妙な差が生じた場合、ストライプ方向に隣接する同一
色の開口部間で付与されるインク量に差が生じ、着色む
らとなる。

【００１５】本発明の目的は、ブラックマトリクスと、
各着色部をストライプ状に配置してなるカラーフィルタ
と、を有するカラーフィルタ基板を、インクジェット方
式により簡易な工程で且つ隣接する異なる着色部間での
混色や隣接する同一色の着色部間での着色むらを生じる
ことなく提供することにある。

【００１６】

【課題を解決するための手段】本発明は、支持基板上
に、ブラックマトリクスと、各着色部をストライプ状に
配置してなるカラーフィルタと、を有するカラーフィル
タ基板の製造方法であって、支持基板上に遮光層を形成
する工程と、上記遮光層の上にポジ型の感光性樹脂組成
物層を形成する工程と、上記感光性樹脂組成物層を格子
状にパターニングする工程と、上記感光性樹脂組成物層
をマスクとして上記遮光層を格子状にパターニングして
ブラックマトリクスを形成する工程と、上記感光性樹脂
組成物層を着色領域の最外周を残してストライプ状にパ
ターニングして隔壁を形成する工程と、インクジェット
方式により、上記隔壁で囲まれた各領域に所定の色の硬
化型着色インクを付与、硬化して着色部を形成する工程
と、を少なくとも有することを特徴とするカラーフィル
タ基板の製造方法である。

【００１７】本発明は、遮光層の上にポジ型の感光性樹
脂組成物層を形成し、該組成物層を格子状にパターニン
グしてこれをマスクとして遮光層を格子状にパターニン
グしてブラックマトリクスを形成した後、上記格子状の
感光性樹脂組成物層をストライプ状にパターニングする
ため、ライン状に配置した同一色の着色部は、該着色部
間隙を遮光するブラックマトリクスを跨いでライン状に
連続して形成される。従って、上記感光性樹脂組成物層
の開口部に付与された硬化型着色インクは、各着色部間
においてむらなく付与され、着色部間での着色むらがな
く、また、隣接する異なる色の着色部の間隙には、上記
感光性樹脂組成物層が隔壁として存在するため、該着色
部間での混色が良好に防止される。

【００１８】また本発明は、上記製造方法によって製造
されたことを特徴とするカラーフィルタ基板、及び、該
カラーフィルタ基板を用いて構成したことを特徴とする
液晶素子を提供するものである。

【００１９】

【発明の実施の形態】図１に本発明のカラーフィルタ基
板の一実施形態の部分断面模式図を示す。図中、１は支
持基板、２は遮光層、３は隔壁、４は着色部、５は保護
層である。

【００２０】図２及び図３に本発明のカラーフィルタ基
板の製造方法の一実施形態として、図１の構成のカラー
フィルタ基板の製造工程を示す。尚、便宜上、Ｒ，Ｇ，
Ｂ各着色部を２個ずつ有するカラーフィルタ基板を例に
挙げて説明する。図中、２１は遮光層、２２及び２２’
は感光性樹脂組成物層であり、紙面左側が平面図、右側
が該平面図のＡ−Ａ’断面図である。以下、各工程を説
明するが、図２、図３の（ａ）〜（ｅ）はそれぞれ下記
工程−ａ〜ｅに対応する断面模式図である。

【００２１】工程−ａ 先ず、支持基板１上に遮光層２１を形成する。本発明に
おいて、支持基板１としては一般的にガラス基板が用い
られるが、カラーフィルタ基板としての透明性、機械的
強度等の必要特性を有するものであればプラスチック等
も用いることができる。また、用途によっては不透明基
板を用いる場合もある。

【００２２】本発明で用いられる遮光層２１は、最終的
にブラックマトリクスとして使用されるものであり、十
分な遮光性或いは基板側から見た際の低反射性等ブラッ
クマトリクスとして要求される特性を有するものであれ
ば使用可能である。具体的には、スパッタ等により形成
されたクロム膜等の金属膜、酸化クロム／クロムの金属
多層膜或いは黒色顔料を分散した樹脂組成物をスピンコ
ートした樹脂膜等を用いることができる。特に、本発明
に用いられる遮光層は、後述するポジ型の感光性樹脂組
成物層をマスクとして加工でき得るものである必要があ
り、さらに後述のフォトリソグラフィ工程においてポジ
型の感光性樹脂組成物層を現像する際の現像液に対する
十分な耐性が要求される。また、後述のインクジェット
方式による硬化型着色インクの付与の際に、ストライプ
方向におけるインクの移動の自由度を大きくするために
は膜厚を極力薄くすることが好ましく、薄い膜厚で十分
な遮光性を有することが要求される。これらの特性を全
て満足する遮光層としては、クロム原子を含有する金属
膜が好適に用いられる。

【００２３】工程−ｂ 遮光層２１上に、ポジ型の感光性樹脂組成物層２２を形
成する。本発明に用いられるポジ型の感光性樹脂組成物
としては、一般的なポジ型フォトレジストやポジ型ポリ
イミド等を使用することが可能であるが、後述する硬化
型インクに対して耐性を有する必要があり、熱処理によ
り硬化可能なものを用いることが好ましい。また、ポジ
型の感光性樹脂組成物層２２の形成には、スピンコー
ト、ロールコート、バーコート、スプレーコート、ディ
ップコート等の塗布方法を用いることができ、特に限定
されない。さらに、塗布膜厚は任意に設定することが可
能であるが、後述するインクジェット方式による硬化型
着色インク付与時に混色を防止するための隔壁として機
能するために十分な高さを有し、尚且つ着色部形成後に
該着色部との表面段差が極力小さくなるようインクの付
与量を考慮して膜厚を設定することが好ましい。

【００２４】工程−ｃ 格子状のパターンを有するフォトマスクを用いて、一連
のフォトリソグラフィ工程により、ポジ型の感光性樹脂
組成物層２２を格子状にパターニングする（２２’）。

【００２５】工程−ｄ 上記格子状にパターニングされたポジ型の感光性樹脂組
成物層２２’をマスクとして遮光層２１をエッチング
し、開口部を形成してブラックマトリクス２とする。

【００２６】工程−ｅ ストライプ状のパターンを有するフォトマスクを用い
て、再度一連のフォトリソグラフィ工程を行って、ポジ
型の感光性樹脂組成物層２２’をストライプ状にパター
ニングして、素材に応じて熱処理等を施し、硬化させて
隔壁３を形成すると同時に、同一色の着色部間隙を遮光
するブラックマトリクス２を露出させる。尚、上記パタ
ーニングに際し、ポジ型の感光性樹脂組成物層２２’の
最外周は除去しないようにする。これは、後述の硬化型
着色インクが端部から流れ出さないようにするためであ
る。

【００２７】工程−ｆ 隔壁３で囲まれた領域に、インクジェット方式により所
定の色の硬化型着色インクを付与する。該着色インクは
通常、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色である。必
要に応じて該着色インクの乾燥を行う。

【００２８】本発明においては、隣接する異なる色の着
色部との間は隔壁３によって隔てられているため、異な
る色の着色部間での混色が避けられる。また、ストライ
プに平行な方向に隣接する同一色の着色部間では、該ス
トライプ方向に着色インクが自由に移動し得るため、同
一色の着色部間で着色むらを生じることがなく、均一な
着色部を形成することができる。

【００２９】本発明において用いられる硬化型着色イン
クとしては、染料系、顔料系共に用いることが可能であ
るが、後工程におけるプロセス耐性、信頼性等を考慮し
た場合、熱処理或いは光処理により硬化し、インクの着
色剤として使用する染料或いは顔料を固定化できる成
分、即ち架橋可能なモノマー或いはポリマー等の成分を
含有するインクを用いることが好ましい。

【００３０】さらに、インクジェット方式としては、エ
ネルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバブルジ
ェットタイプ、或いは圧電素子を用いたピエゾジェット
タイプ等が使用可能であり、インク１滴当たりのインク
量、着色部１個当たりのインク付与量は任意に設定する
ことができる。

【００３１】次いで、必要に応じて、図１に示したよう
に保護層５を形成しても良い。保護層としては、光硬化
タイプ、熱硬化タイプ或いは光熱併用タイプの樹脂材
料、蒸着、スパッタ等によって形成された無機膜等を用
いることができ、カラーフィルタ基板としての透明性を
有し、その後のＩＴＯ形成プロセス、配向膜形成プロセ
ス等に耐え得るものであれば使用可能である。

【００３２】図４に本実施形態のカラーフィルタ基板を
組み込んだＴＦＴカラー液晶素子の一実施形態を示す。
図４において、１２は共通電極、１３は配向膜、３１は
対向基板、３２は画素電極、３３は配向膜、３４は液晶
化合物である。

【００３３】カラー液晶素子は、一般的にカラーフィル
タ基板と対向基板３１を合わせ込み、液晶化合物３４を
封入することにより形成される。液晶素子の一方の基板
３１の内側に、ＴＦＴ（図示しない）と透明な画素電極
３２がマトリクス状に形成される。また、もう一方の基
板１の内側には、画素電極３２に対向する位置に、Ｒ、
Ｇ、Ｂが配列するようにカラーフィルタの着色部４が設
置され、その上に透明な共通電極１２が一面に形成され
る。さらに、両基板の面内には配向膜１３、３３が形成
されており、これらをラビング処理することにより液晶
分子を一定方向に配列させることができる。これらの基
板はスペーサー（図示しない）を介して対向配置され、
シール材（図示しない）によって貼り合わされ、その間
隙に液晶化合物３４が充填される。

【００３４】上記液晶素子は、それぞれの基板の外側に
偏光板を接着し、一般的に蛍光灯と散乱板を組み合わせ
たバックライトを用い、液晶化合物をバックライトの光
の透過率を変化させる光シャッターとして機能させるこ
とにより表示を行う。

【００３５】上記実施形態においてはＴＦＴ型液晶素子
について説明したが、本発明はこれに限定されるもので
はなく、単純マトリクス型等他の駆動タイプの液晶素子
にも好ましく適用される。

【００３６】また、本発明の液晶素子においては、本発
明のカラーフィルタ基板を用いて構成されていれば、他
の部材については従来の技術をそのまま用いることがで
きる。従って、液晶化合物についても、一般に用いられ
ているＴＮ型液晶や強誘電性液晶等を用いることができ
る。

【００３７】

【実施例】［実施例１］膜厚０．２μｍの酸化クロム／
クロムからなる金属膜を有するガラス基板（コーニング
社製「１７３７」）上に、ポジ型フォトレジスト（東京
応化社製「ＯＦＰＲ−８００）を膜厚１μｍとなるよう
にスピンコートし、９０℃で２０分間のプリベークを行
った。

【００３８】次いで、ブラックマトリクス形成用の格子
状パターンを有するフォトマスクを介して、４０ｍＪ／
ｃｍ² の露光量で露光し、現像（東京応化社製「ＮＭＤ
−３」）及びリンス（イオン交換水）処理を行ってポジ
型フォトレジストを格子状にパターニングした。引き続
きスピンドライ及び９０℃で５分間の熱処理を行って乾
燥した後、クロム用エッチング液に浸漬して酸化クロム
／クロムからなる金属膜を格子状にエッチングしてブラ
ックマトリクスを形成した。

【００３９】さらにリンス及び乾燥を行った後、ストラ
イプパターンを有するフォトマスクを介して、８０ｍＪ
／ｃｍ² の露光量で露光し、再度現像、リンス、乾燥処
理を行って、ポジ型フォトレジストを最外周を残してス
トライプ状にパターニングし、２００℃で３０分間の熱
処理を行い、ハードベークして隔壁を形成した。

【００４０】インクジェット記録装置を用いて、水及び
有機溶剤、メラミン樹脂、顔料からなるＲ，Ｇ，Ｂの熱
硬化型の顔料インクをそれぞれライン状に付与してスト
ライプパターンを形成し、９０℃で５分間、引き続き２
３０℃で３０分間の熱処理を行って硬化させた。

【００４１】上記のようにして形成されたカラーフィル
タ基板を光学顕微鏡により観察したところ、異なる着色
部間での混色は観察されなかった。また、顕微分光測定
装置を用いて色度を測定したところ、ライン状に配置し
た同一色の着色部間での色度差は確認されなかった。

【００４２】［実施例２］膜厚０．１５μｍの酸化クロ
ム／クロムからなる金属膜を有するガラス基板（コーニ
ング社製「１７３７」）上に、ポジ型ポリイミド（日産
化学社製）を膜厚１．５μｍとなるようスピンコート
し、９０℃で２０分間のプリベークを行った。

【００４３】次いで、ブラックマトリクス形成用の格子
状パターンを有するフォトマスクを介して、９０ｍＪ／
ｃｍ² の露光量で露光し、現像（東京応化社製「ＮＭＤ
−３」）及びリンス（イオン交換水）処理を行ってポジ
型ポリイミドを格子状にパターニングした。

【００４４】引き続き、スピンドライ及び９０℃で５分
間の熱処理を行って乾燥した後、クロム用エッチング液
に浸漬して酸化クロム／クロムからなる金属膜を格子状
にエッチングしてブラックマトリクスを形成した。

【００４５】さらにリンス及び乾燥を行った後、ストラ
イプパターンを有するフォトマスクを介して、２００ｍ
Ｊ／ｃｍ² の露光量で露光し、再度現像、リンス、乾燥
処理を行ってポジ型ポリイミドを最外周を残してストラ
イプ状にパターニングし、さらに２３０℃で３０分間の
熱処理を行ってポジ型ポリイミドをキュアし、隔壁を形
成した。

【００４６】インクジェット記録装置を用いて、水及び
有機溶剤、メラミン樹脂、顔料からなるＲ，Ｇ，Ｂの熱
硬化型の顔料インクをそれぞれライン状に付与してスト
ライプパターンを形成し、９０℃で５分間、引き続き２
３０℃で３０分間の熱処理を行って硬化させた。

【００４７】上記のようにして形成されたカラーフィル
タ基板を光学顕微鏡により観察したところ、異なる着色
部間での混色は観察されなかった。また、顕微分光測定
装置を用いて色度を測定したところ、ライン状に配置し
た同一色の着色部間での色度差は確認されなかった。

【００４８】［比較例１］膜厚０．２μｍの酸化クロム
／クロムからなる金属膜を有するガラス基板（コーニン
グ社製「１７３７」）上に、ポジ型フォトレジスト（東
京応化社製「ＯＦＰＲ−８００」）を膜厚１μｍとなる
ようにスピンコートし、９０℃で２０分間のプリベーク
を行った。

【００４９】次いで、ブラックマトリクス形成用の格子
状パターンを有するフォトマスクを介して、４０ｍＪ／
ｃｍ² の露光量で露光し、現像（東京応化社製「ＮＭＤ
−３」）及びリンス（イオン交換水）処理を行ってポジ
型フォトレジストを格子状にパターニングした。

【００５０】引き続きスピンドライ及び９０℃で５分間
の熱処理を行って乾燥した後、クロム用エッチング液に
浸漬して酸化クロム／クロムからなる金属膜を格子状に
エッチングしてブラックマトリクスを形成した。

【００５１】さらに、リンス及び乾燥を行った後、２０
０℃で３０分間の熱処理を行って、格子状のパターニン
グされたポジ型フォトレジストをハードベークし、格子
状の隔壁を形成した。

【００５２】インクジェット記録装置を用いて、水及び
有機溶剤、メラミン樹脂、顔料からなるＲ，Ｇ，Ｂの熱
硬化型の顔料インクをそれぞれライン状に付与してスト
ライプパターンを形成し、９０℃で５分間、引き続き２
３０℃で３０分間の熱処理を行って硬化させた。

【００５３】上記のようにして形成されたカラーフィル
タ基板を光学顕微鏡により観察したところ、異なる着色
部間での混色は観察されなかった。しかしながら、顕微
分光測定装置を用いて色度を測定したところ、ライン状
に配置した同一色の着色部間での色度差が確認された。

【００５４】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
隣接する異なる色の着色部間での混色や、隣接する同一
色の着色部間での着色むらのないカラーフィルタ基板
を、インクジェット方式を用いた簡易な工程により提供
すること可能となり、カラー表示特性に優れた液晶素子
を安価に提供することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のカラーフィルタ基板の一実施形態の部
分断面模式図である。

【図２】図１のカラーフィルタ基板の製造工程を示す模
式図である。

【図３】図１のカラーフィルタ基板の製造工程を示す模
式図である。

【図４】本発明の液晶素子の一実施形態の部分断面模式
図である。

【符号の説明】

１ 支持基板 ２ ブラックマトリクス ３ 隔壁 ４ 着色部 ５ 保護層 １２ 共通電極 １３ 配向膜 ２１ 遮光層 ２２，２２’ ポジ型の感光性樹脂組成物層 ３１ 対向基板 ３２ 画素電極 ３３ 配向膜 ３４ 液晶化合物

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 祖父江 正司 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 高尾 英昭 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持基板上に、ブラックマトリクスと、
   各色の着色部がストライプ状に配置したカラーフィルタ
   とを有するカラーフィルタ基板の製造方法であって、支
   持基板上に遮光層を形成する工程と、上記遮光層の上に
   ポジ型の感光性樹脂組成物層を形成する工程と、上記感
   光性樹脂組成物層を格子状にパターニングする工程と、
   上記感光性樹脂組成物層をマスクとして上記遮光層を格
   子状にパターニングしてブラックマトリクスを形成する
   工程と、上記感光性樹脂組成物層を着色領域の最外周を
   残してストライプ状にパターニングして隔壁を形成する
   工程と、インクジェット方式により、上記隔壁に囲まれ
   た各領域に所定の色の硬化型着色インクを付与、硬化し
   て着色部を形成する工程と、を少なくとも有することを
   特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
2. 【請求項２】 上記遮光層が金属膜である請求項１記載
   のカラーフィルタ基板の製造方法。
3. 【請求項３】 上記遮光層がクロム原子を含有する金属
   膜である請求項２記載のカラーフィルタ基板の製造方
   法。
4. 【請求項４】 上記感光性樹脂組成物層をストライプ状
   にパターニングした後熱硬化して隔壁とする請求項１〜
   ３いずれかに記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
5. 【請求項５】 上記硬化型着色インクが熱または光によ
   り硬化する成分を含有する請求項１〜４いずれかに記載
   のカラーフィルタ基板の製造方法。
6. 【請求項６】 赤、緑、青の各色のインクが付与される
   請求項１〜５いずれかに記載のカラーフィルタ基板の製
   造方法。
7. 【請求項７】 支持基板上に、ブラックマトリクスと、
   各色の着色部がストライプ状に配置したカラーフィルタ
   と、を有するカラーフィルタ基板であって、請求項１〜
   ６いずれかに記載の製造方法によって製造されたことを
   特徴とするカラーフィルタ基板。
8. 【請求項８】 表面に保護層を有する請求７記載のカラ
   ーフィルタ基板。
9. 【請求項９】 一対の基板間に液晶を挟持してなり、一
   方の基板が請求項７または８に記載のカラーフィルタ基
   板であることを特徴とする液晶素子。