JPH11176166A - Semiconductor storage device - Google Patents
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- JPH11176166A JPH11176166A JP9342642A JP34264297A JPH11176166A JP H11176166 A JPH11176166 A JP H11176166A JP 9342642 A JP9342642 A JP 9342642A JP 34264297 A JP34264297 A JP 34264297A JP H11176166 A JPH11176166 A JP H11176166A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 異なる電源電圧仕様を同一チップで実現させ
る場合に、ATDパルス発生回路による内部タイミング
をボンディング仕様の変更により切り替えることができ
る半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】 1Mバイトワイド高速SRAMであっ
て、複数のメモリセルからなるメモリマット、ロウ/カ
ラムデコーダ、アドレスバッファ、データを検知・増幅
するセンスアンプ、データを入出力する入出力回路、A
TDパルス信号を発生するATDパルス発生回路、AT
Dパルスを集合、合成するATDパルス集合回路、イコ
ライズ/コントロール信号を発生するリード/ライトコ
ントロール回路などから構成され、ATDパルス発生回
路ATDPGの内部タイミング調整用信号ITCの電圧
レベルをボンディング仕様の変更によりHIGHまたは
LOWにすることによってパルス幅が切り替えられて内
部タイミングが調整される。
(57) Abstract: A semiconductor memory device capable of switching internal timing by an ATD pulse generation circuit by changing a bonding specification when different power supply voltage specifications are realized on the same chip. A 1-Mbyte wide high-speed SRAM comprising a memory mat including a plurality of memory cells, a row / column decoder, an address buffer, a sense amplifier for detecting and amplifying data, an input / output circuit for inputting / outputting data,
ATD pulse generation circuit for generating TD pulse signal, AT
It is composed of an ATD pulse grouping circuit for collecting and synthesizing D pulses, a read / write control circuit for generating an equalize / control signal, and the like. The voltage level of the internal timing adjustment signal ITC of the ATD pulse generation circuit ATDPG is changed by changing the bonding specification. By changing the pulse width to HIGH or LOW, the pulse width is switched to adjust the internal timing.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置技
術に関し、特に電源電圧が5V版と3.3V版などのよう
な異なる電源電圧仕様を同一チップで実現させる場合
に、ワード線選択とセンスアンプ活性化とのタイミング
設計に好適な半導体記憶装置に適用して有効な技術に関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device technology, and more particularly, to a case where different power supply voltage specifications such as a 5V version and a 3.3V version are realized on the same chip. The present invention relates to a technique that is effective when applied to a semiconductor memory device suitable for timing design with activation of an amplifier.
【0002】[0002]
【従来の技術】たとえば、本発明者が検討した技術とし
て、半導体記憶装置の一例としての1Mバイトワイド高
速SRAMにおいて、アドレスバッファおよびATD
(Address Transition Detector :アドレス遷移検出
器)パルス発生回路では、3.3V動作時はトリミングヒ
ューズを切断し、ATDパルス信号のパルス幅を調整す
る方式などが一般的に用いられている。2. Description of the Related Art For example, as a technique studied by the present inventor, an address buffer and an ATD have been proposed for a 1-Mbyte wide high-speed SRAM as an example of a semiconductor memory device.
(Address Transition Detector) In a pulse generating circuit, a method of adjusting a pulse width of an ATD pulse signal by cutting a trimming fuse at the time of 3.3V operation is generally used.
【0003】なお、このようなSRAMなどの半導体記
憶装置に関しては、たとえば昭和59年11月30日、
株式会社オーム社発行、社団法人電子通信学会編の「L
SIハンドブック」P485〜P530などに記載され
る技術などが挙げられる。A semiconductor memory device such as an SRAM is disclosed in, for example, November 30, 1984.
Published by Ohmsha Co., Ltd.
SI Handbook ", pages 485 to 530, and the like.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところで、前記のよう
なSRAMのアドレスバッファおよびATDパルス発生
回路においては、5V/3.3V品の製品展開をヒューズ
切断工程で行うため、生産上のストック工程が前工程と
後工程との両方に生じることが考えられる。たとえば、
図6の回路図例に示すように、ATDパルス発生回路A
TDPGによる内部タイミングは、5V動作時には調整
用ヒューズの未切断によるHIGHレベル、3.3V動作
時は切断によるLOWレベルにヒューズトリミングが行
われる。In the above-described SRAM address buffer and ATD pulse generation circuit, since the product development of a 5V / 3.3V product is performed in a fuse cutting step, a stock step in production is required. It is conceivable that it occurs in both the pre-process and the post-process. For example,
As shown in the example of the circuit diagram of FIG.
The internal timing by the TDPG is such that the fuse trimming is performed at the HIGH level due to the non-cutting of the adjusting fuse at the time of 5V operation, and at the LOW level due to the cutting at the time of 3.3V operation.
【0005】そこで、本発明者は、図6の回路図例に示
すようなアドレスバッファABUFとATDパルス発生
回路ATDPGとにおいて、アドレスバッファABUF
の論理しきい値の調整をボンディング仕様の変更により
切り替えていることに着目し、ATDパルス発生回路A
TDPGにおいても同じようにボンディング仕様の変更
により切り替え可能であることを考えついた。Therefore, the present inventor has proposed an address buffer ABUF in an address buffer ABUF and an ATD pulse generation circuit ATDPG as shown in the circuit diagram of FIG.
Noting that the adjustment of the logic threshold value of the ATD is switched by changing the bonding specification, the ATD pulse generation circuit A
It has been conceived that the TDPG can be similarly switched by changing the bonding specification.
【0006】そこで、本発明の目的は、5V版と3.3V
版などのような異なる電源電圧仕様を同一チップで実現
させる場合に、トリミングヒューズによる信号の代わり
に論理追加し、ATDパルス発生回路による内部タイミ
ングをボンディング仕様の変更により切り替えることが
できる半導体記憶装置を提供するものである。Therefore, an object of the present invention is to provide a 5V version and a 3.3V version.
When realizing different power supply voltage specifications such as a plate, etc. on the same chip, a semiconductor memory device which can add logic instead of a signal by a trimming fuse and switch an internal timing by an ATD pulse generation circuit by changing a bonding specification. To provide.
【0007】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。[0007] The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
次のとおりである。SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows.
【0009】すなわち、本発明による半導体記憶装置
は、ATDパルス信号による内部タイミングをボンディ
ング仕様の変更により切り替えるATDパルス発生回路
を有するものである。たとえば、5V版と3.3V版とに
おいて、3.3V動作時のみ活性化する信号を、トリミン
グヒューズによる信号の代わりにATDパルス発生回路
に論理追加するものである。That is, the semiconductor memory device according to the present invention has an ATD pulse generation circuit that switches the internal timing based on the ATD pulse signal by changing the bonding specification. For example, in the 5V version and the 3.3V version, a signal that is activated only at the time of 3.3V operation is logically added to the ATD pulse generation circuit instead of the signal by the trimming fuse.
【0010】このATDパルス発生回路は、ボンディン
グ仕様の変更により所望のパルス幅に調整可能な複数段
からなる遅延回路を有し、またボンディング仕様は半導
体記憶装置の機能変更と同じボンディング仕様の変更に
より切り替え、さらにこのボンディング仕様の変更はワ
イヤボンディングまたはワイヤレスボンディングにより
所望の電圧レベルに接続して行い、特に異なる電源電圧
仕様を同一チップで実現させるSRAMなどに適用する
ようにしたものである。This ATD pulse generation circuit has a delay circuit composed of a plurality of stages which can be adjusted to a desired pulse width by changing the bonding specification. The bonding specification is changed by the same bonding specification change as the function change of the semiconductor memory device. The switching and the change of the bonding specification are performed by connecting to a desired voltage level by wire bonding or wireless bonding, and the present invention is particularly applied to an SRAM or the like that realizes different power supply voltage specifications on the same chip.
【0011】よって、前記半導体記憶装置によれば、ヒ
ューズ切断と同じ効果をボンディングの切り替えにより
得られるので、ボンディングオプションにより品種を展
開する場合、展開品のタイミングが調整できるので、特
性を向上させることができる。さらに、製品生産上のス
トック工程が後工程のみとなるため、前工程における不
良資産所持の低減が図れる。Therefore, according to the semiconductor memory device, the same effect as the fuse cutting can be obtained by switching the bonding. Therefore, when a product is developed by a bonding option, the timing of the developed product can be adjusted, and the characteristics can be improved. Can be. Furthermore, since the stock process in product production is only a post-process, the possession of defective assets in the pre-process can be reduced.
【0012】また、ヒューズトリミングに比べて、レー
ザ照射によるヒューズの切断ミスなどの危険性が回避で
き、さらにトリミングの効果をプローブ検査で確認して
からボンディングできるために安全性が高く、また製品
の早期立ち上げによって試作・評価期間の短縮が可能で
ある。Also, compared to fuse trimming, the risk of erroneous cutting of the fuse due to laser irradiation can be avoided, and bonding can be performed after confirming the effect of trimming by probe inspection, so that safety is high. The early launch can shorten the prototype and evaluation period.
【0013】さらに、1チップでいくつもの品種展開を
行う際、内部タイミングのずれが予め予測できていれ
ば、品種切り替え用の信号にパルス幅調整用の信号を関
係付けることで、品種切り替えとその品種に最適なパル
ス幅調整が同時に行え、また量産化した後でも製品のス
トック工程が後工程のみとなり、顧客要求に素早く対応
できる。Further, when a variety of product types are developed on one chip, if a shift in internal timing can be predicted in advance, a signal for pulse width adjustment is associated with a signal for product type switching, so that product type switching and its The optimum pulse width adjustment for each product type can be performed at the same time, and even after mass production, the stock process of the product becomes only the post process, and it can respond quickly to customer requirements.
【0014】[0014]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
【0015】図1は本発明の一実施の形態である半導体
記憶装置を示す全体ブロック図、図2は本実施の形態に
おける半導体記憶装置のATDパルス発生回路を示すブ
ロック図、図3はアドレスバッファとATDパルス発生
回路の具体例を示す回路図、図4は読み出し動作を示す
タイミング図、図5はATDパルス幅の変化による影響
例を説明するタイミング図である。FIG. 1 is an overall block diagram showing a semiconductor memory device according to one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a block diagram showing an ATD pulse generation circuit of the semiconductor memory device in this embodiment, and FIG. FIG. 4 is a timing chart showing a read operation, and FIG. 5 is a timing chart for explaining an example of the influence of a change in the ATD pulse width.
【0016】まず、図1により本実施の形態の半導体記
憶装置の構成を説明する。First, the configuration of the semiconductor memory device according to the present embodiment will be described with reference to FIG.
【0017】本実施の形態の半導体記憶装置は、たとえ
ば1Mバイトワイド高速SRAMとされ、ワード線WL
とデータ線DLとの交点に配置される複数のメモリセル
MCからなるメモリマットMMATと、このメモリマッ
トMMAT内の任意のメモリセルMCを選択するロウデ
コーダRDECおよびカラムデコーダCDECと、アド
レス信号を入力としてロウ/カラムアドレス信号を発生
するアドレスバッファABUFと、出力データを検知・
増幅するセンスアンプSAと、データを入出力する入出
力回路DI/Oと、ATDパルス信号を発生するATD
パルス発生回路ATDPGと、ATDパルスを集合、合
成するATDパルス集合回路ATDPIと、イコライズ
/コントロール信号を発生するリード/ライトコントロ
ール回路RWCなどから構成されている。The semiconductor memory device of the present embodiment is, for example, a 1-Mbyte wide high-speed SRAM, and has a word line WL.
MMAT composed of a plurality of memory cells MC arranged at the intersection of the data line DL, a row decoder RDEC and a column decoder CDEC for selecting an arbitrary memory cell MC in the memory mat MMAT, and an address signal. Address buffer ABUF for generating a row / column address signal and detecting output data.
A sense amplifier SA for amplification, an input / output circuit DI / O for inputting / outputting data, and an ATD for generating an ATD pulse signal
It comprises a pulse generating circuit ATDPG, an ATD pulse collecting circuit ATDPI for collecting and synthesizing ATD pulses, a read / write control circuit RWC for generating an equalize / control signal, and the like.
【0018】このSRAMには、外部からアドレス信号
AがアドレスバッファABUFに入力され、ロウアドレ
ス信号、カラムアドレス信号が生成されて、それぞれロ
ウデコーダRDEC、カラムデコーダCDECに入力さ
れ、メモリマットMMAT内の任意のメモリセルMCが
選択される。そして、入出力データDI/DOは、書き
込み動作時に入出力回路DI/Oを介して入力され、読
み出し動作時にセンスアンプSA、入出力回路DI/O
を介して出力される。In this SRAM, an address signal A is externally input to an address buffer ABUF, a row address signal and a column address signal are generated, and input to a row decoder RDEC and a column decoder CDEC, respectively. An arbitrary memory cell MC is selected. The input / output data DI / DO is input via the input / output circuit DI / O at the time of the write operation, and the sense amplifier SA and the input / output circuit DI / O at the time of the read operation.
Is output via.
【0019】また、アドレス信号Aは、アドレスバッフ
ァABUFを通してATDパルス発生回路ATDPGに
入力され、このATDパルス発生回路ATDPGにおい
て基本のATDパルス信号ATDPが発生され、さらに
ATDパルス集合回路ATDPIを介してATDパルス
信号ATDPが合成され、リード/ライトコントロール
回路RWCにて、チップセレクト信号/CSやライトイ
ネーブル信号/WEなどと合成され、データ線イコライ
ズ信号DTEQ、コモンデータ線イコライズ信号CDE
Q、センスアンプイコライズ信号SAEQ、センスアン
プコントロール信号SACなどのATDパルス信号が発
生される。このATDパルス信号は各種内部回路に送り
込まれ、データ読み出し系のイコライズやコントロール
に用いられる。The address signal A is input to an ATD pulse generation circuit ATDPG through an address buffer ABUF. The ATD pulse generation circuit ATDPG generates a basic ATD pulse signal ATDP. The pulse signal ATDP is synthesized, and is synthesized by the read / write control circuit RWC with the chip select signal / CS, the write enable signal / WE, etc., and the data line equalize signal DTEQ and the common data line equalize signal CDE
ATD pulse signals such as Q, a sense amplifier equalize signal SAEQ, and a sense amplifier control signal SAC are generated. The ATD pulse signal is sent to various internal circuits and used for equalizing and controlling a data reading system.
【0020】特に、本実施の形態におけるATDパルス
発生回路ATDPGは、たとえば図2に示すように、遅
延回路DELと排他的論理和回路EORとからなり、ア
ドレスバッファABUFからの信号を入力として、一方
は遅延回路DELを介し、他方は直接に排他的論理和回
路EORに入力され、所望のパルス幅に調整される。こ
の遅延回路DELは複数段からなり、内部タイミング調
整用信号ITCにより段数が制御されてディレイがその
ままパルス幅となる。In particular, the ATD pulse generation circuit ATDPG in the present embodiment includes a delay circuit DEL and an exclusive OR circuit EOR as shown in FIG. 2, for example, and receives a signal from an address buffer ABUF as one input. Is input to an exclusive-OR circuit EOR via a delay circuit DEL, and is adjusted to a desired pulse width. The delay circuit DEL has a plurality of stages, the number of stages is controlled by the internal timing adjustment signal ITC, and the delay becomes the pulse width as it is.
【0021】続いて、図3によりアドレスバッファAB
UFおよびATDパルス発生回路ATDPGの具体的な
回路構成を説明する。ここでは、5V動作時と3.3V動
作時とに対応可能な回路例を示す。Next, referring to FIG.
A specific circuit configuration of the UF and ATD pulse generation circuit ATDPG will be described. Here, an example of a circuit that can cope with the 5 V operation and the 3.3 V operation is shown.
【0022】アドレスバッファABUFは、たとえばイ
ンバータIV1〜IV6とPMOSトランジスタTP
1,TP2とからなり、外部からのアドレス信号Aを入
力としてロウデコーダRDEC、カラムデコーダCDE
Cに対する選択信号ST/非選択信号SBが2系統に分
岐されて縦列接続されたインバータIV1〜IV6を介
して出力される。また、インバータIV1とIV2間の
接続ノードと電源電圧VCC間に直列接続された電源電
圧VCC側のPMOSトランジスタTP1のゲートには
論理しきい値調整用信号VLTCが入力され、この調整
用信号VLTCの電圧レベルのHIGH(5V動作時)
/LOW(3.3V動作時)によりインバータIV1〜I
V6の論理しきい値が調整される。The address buffer ABUF includes, for example, inverters IV1 to IV6 and a PMOS transistor TP
1 and TP2, and receives an external address signal A as an input, a row decoder RDEC and a column decoder CDE.
A selection signal ST / non-selection signal SB for C is branched into two systems and output via inverters IV1 to IV6 connected in cascade. The logic threshold value adjustment signal VLTC is input to the gate of the PMOS transistor TP1 on the power supply voltage VCC side connected in series between the connection node between the inverters IV1 and IV2 and the power supply voltage VCC. High voltage level (5V operation)
/ LOW (at 3.3 V operation), the inverters IV1 to I
The logic threshold of V6 is adjusted.
【0023】また、ATDパルス発生回路ATDPG
は、たとえばインバータIV7,IV8,IV11とP
MOSトランジスタTP3〜TP5とNMOSトランジ
スタTN1〜TN3とを有する遅延回路DELと、イン
バータIV9,IV10とPMOSトランジスタTP
6,TP7とNMOSトランジスタTN4,TN5とを
有する排他的論理和回路EORとからなり、アドレスバ
ッファABUFからの信号を入力として遅延回路DEL
により所望のパルス幅に調整されて基本のATDパルス
信号ATDPが発生される。このATDパルス信号AT
DPのパルス幅は、遅延回路DELの最終段のCMOS
回路の電源電圧側、接地電圧側にそれぞれ接続されたP
MOSトランジスタTP4とNMOSトランジスタTN
3とに入力される内部タイミング調整用信号ITCによ
り制御され、この調整用信号ITCの電圧レベルのHI
GH(5V動作時)/LOW(3.3V動作時)により内
部タイミングが調整される。ATD pulse generation circuit ATDPG
Are, for example, inverters IV7, IV8, IV11 and P
A delay circuit DEL having MOS transistors TP3 to TP5 and NMOS transistors TN1 to TN3, inverters IV9 and IV10, and a PMOS transistor TP
6, TP7 and an exclusive OR circuit EOR having NMOS transistors TN4 and TN5. The delay circuit DEL receives a signal from the address buffer ABUF as an input.
Thus, the basic ATD pulse signal ATDP is generated after being adjusted to a desired pulse width. This ATD pulse signal AT
The pulse width of the DP is the same as the CMOS of the last stage of the delay circuit DEL.
P connected to the power supply voltage side and the ground voltage side of the circuit, respectively.
MOS transistor TP4 and NMOS transistor TN
3 is controlled by the internal timing adjustment signal ITC input to
The internal timing is adjusted by GH (at the time of 5V operation) / LOW (at the time of 3.3V operation).
【0024】以上のように構成されるアドレスバッファ
ABUFおよびATDパルス発生回路ATDPGにおい
ては、調整用信号の電圧レベルがボンディング仕様の変
更により同時に切り替えられ、たとえば5V動作時のH
IGHレベルとする場合には電源電圧VCCに接続さ
れ、また3.3V動作時のLOWレベルとする場合には接
地電圧GNDに接続される。この場合に、論理しきい値
調整用信号VLTCと内部タイミング調整用信号ITC
とはともに5V動作時、3.3V動作時で同じ電圧レベル
となるので、1個のボンディングパッドBPATに接続
することが可能であるが、電圧レベルが異なる場合には
別々のボンディングパッドに接続することになる。In the address buffer ABUF and the ATD pulse generation circuit ATDPG configured as described above, the voltage level of the adjustment signal is simultaneously switched by changing the bonding specification.
When it is set to the IGH level, it is connected to the power supply voltage VCC, and when it is set to the LOW level during 3.3 V operation, it is connected to the ground voltage GND. In this case, the logic threshold adjustment signal VLTC and the internal timing adjustment signal ITC
Both have the same voltage level at the time of 5V operation and 3.3V operation, so they can be connected to one bonding pad BPAT. However, if the voltage levels are different, they are connected to different bonding pads. Will be.
【0025】次に、本実施の形態の作用について、図1
を参照しながら図4に基づいてSRAMの読み出し動作
を説明する。Next, the operation of this embodiment will be described with reference to FIG.
The read operation of the SRAM will be described with reference to FIG.
【0026】まず、アドレスバッファABUFに入力さ
れたアドレス信号Aの活性化に同期して、ATDパルス
発生回路ATDPGから発生する基本のATDパルス信
号ATDPをHIGHレベルにするとともに、ワード線
WLおよび列選択スイッチYSを活性化してメモリマッ
トMMAT内の所望のメモリセルMCを選択する。First, in synchronization with the activation of the address signal A input to the address buffer ABUF, the basic ATD pulse signal ATDP generated from the ATD pulse generation circuit ATDPG is set to the HIGH level, and the word line WL and the column selection signal are selected. The switch YS is activated to select a desired memory cell MC in the memory mat MMAT.
【0027】さらに、ATDパルス発生回路ATDPG
からのATDパルス信号ATDPのLOWレベルへの移
行に同期して、リード/ライトコントロール回路RWC
から発生するデータ線イコライズ信号DTEQによりデ
ータ線DL、コモンデータ線イコライズ信号CDEQに
よりコモンデータ線CDLをそれぞれ活性化する。Further, an ATD pulse generation circuit ATDPG
Read / write control circuit RWC in synchronization with the transition of ATD pulse signal ATDP to LOW level from
, The data line DL is activated by a data line equalize signal DTEQ and the common data line CDL is activated by a common data line equalize signal CDEQ.
【0028】そして、ATDパルス信号ATDPのLO
Wレベルへの移行に同期してリード/ライトコントロー
ル回路RWCから発生するセンスアンプコントロール信
号SACによりセンスアンプ出力SAOを活性化し、選
択されたメモリセルMCのデータを入出力回路DI/O
を介して読み出すことができる。Then, the LO of the ATD pulse signal ATDP is
The sense amplifier output SAO is activated by the sense amplifier control signal SAC generated from the read / write control circuit RWC in synchronization with the shift to the W level, and the data of the selected memory cell MC is input / output circuit DI / O.
Can be read out via
【0029】続いて、図5に基づいて読み出し動作にお
けるATDパルス信号ATDPのパルス幅の変化による
影響例を説明する。Next, an example of the influence of a change in the pulse width of the ATD pulse signal ATDP in the read operation will be described with reference to FIG.
【0030】この読み出し動作においては、ワード線W
Lおよびデータ線DLの活性化後に、読み出し動作のタ
イミングを決めるセンスアンプコントロール信号SAC
を発生するが、このセンスアンプコントロール信号SA
Cのパルス幅が読み出しデータに影響する。In this read operation, the word line W
L and the data line DL are activated, a sense amplifier control signal SAC for determining the timing of the read operation is provided.
, But this sense amplifier control signal SA
The pulse width of C affects read data.
【0031】たとえば、5V動作と3.3V動作などのよ
うな電源電圧仕様を同一チップで実現させる場合に、プ
ロセスがばらついたときなどは内部のタイミングが適正
な設計値に対してずれるため、パルス幅が狭い場合には
誤ったデータを読み出す誤動作が発生し、またパルス幅
が広い場合にはアクセスの遅れが生じる。For example, when the power supply voltage specifications such as the 5V operation and the 3.3V operation are realized on the same chip, when the process varies, the internal timing is shifted from an appropriate design value. If the width is narrow, an erroneous operation of reading erroneous data occurs. If the pulse width is wide, access delay occurs.
【0032】そこで、本実施の形態においては、図3に
示すATDパルス発生回路ATDPGの内部タイミング
調整用信号ITCの電圧レベルを、アドレスバッファA
BUFの論理しきい値調整用信号VLTCと同様にボン
ディング仕様の変更によりHIGHまたはLOWの電圧
レベルにすることにより、センスアンプコントロール信
号SACのパルス幅を切り替えて内部タイミングを調整
することができる。Therefore, in the present embodiment, the voltage level of the internal timing adjustment signal ITC of the ATD pulse generation circuit ATDPG shown in FIG.
By changing the bonding specification to a HIGH or LOW voltage level as in the case of the BUF logical threshold value adjustment signal VLTC, the internal timing can be adjusted by switching the pulse width of the sense amplifier control signal SAC.
【0033】たとえば、図3のように5V動作時のHI
GHレベルとする場合には、ATDパルス発生回路AT
DPGの内部タイミング調整用信号ITCのパッドを電
源電圧VCCのパッドにワイヤボンディングや、フリッ
プチップ方式、ビームリード方式、テープキャリヤ方式
などのワイヤレスボンディングにより接続する。また、
3.3V動作時のLOWレベルとする場合には、内部タイ
ミング調整用信号ITCのパッドを接地電圧GNDのパ
ッドに接続する。For example, as shown in FIG.
When the GH level is set, the ATD pulse generation circuit AT
The pad for the internal timing adjustment signal ITC of the DPG is connected to the pad for the power supply voltage VCC by wire bonding or wireless bonding such as a flip chip method, a beam lead method, or a tape carrier method. Also,
To set the LOW level at the time of 3.3 V operation, the pad for the internal timing adjustment signal ITC is connected to the pad for the ground voltage GND.
【0034】以上のようにして、5V動作と3.3V動作
などのような電源電圧仕様を同一チップで実現させる場
合に、パルス幅が狭かったり、あるいは広く内部のタイ
ミングが設計値に対してずれるような場合でも、適正な
パルス幅に調整して誤ったデータの読み出しや、アクセ
スの遅れを防ぐことができる。As described above, when the power supply voltage specifications such as the 5V operation and the 3.3V operation are realized on the same chip, the pulse width is narrow or the internal timing is widely shifted from the design value. Even in such a case, it is possible to prevent erroneous data reading and access delay by adjusting the pulse width to an appropriate value.
【0035】また、このようなATDパルス信号ATD
Pによるコントロールおよびイコライズの効果は、デー
タ線DL、コモンデータ線CDL、センスアンプ出力S
AO、入出力データバスなどの異電位の対をショートさ
せ、同電位にすることにより、それらの電位の反転時間
を短縮できる。また、内部動作回路を必要時間だけパル
ス駆動することにより、消費電流を低減できる。さら
に、パルス幅を調整することにより、製品の動作マージ
ンを調整できる。Further, such an ATD pulse signal ATD
The effects of control and equalization by P include the data line DL, the common data line CDL, and the sense amplifier output S.
By shorting pairs of different potentials such as AO and input / output data buses to have the same potential, the inversion time of those potentials can be reduced. In addition, current consumption can be reduced by pulse driving the internal operation circuit for a required time. Further, the operation margin of the product can be adjusted by adjusting the pulse width.
【0036】従って、本実施の形態の半導体記憶装置に
よれば、アドレスバッファABUF内のインバータの論
理しきい値を調整している信号を、トリミングヒューズ
による信号の代わりにATDパルス発生回路ATDPG
に論理追加することで、このATDパルス発生回路AT
DPGの内部タイミング調整用信号ITCをボンディン
グによる切り替えのみでアドレスバッファABUF内の
インバータの論理しきい値と内部タイミングとを同時に
切り替えることができる。Therefore, according to the semiconductor memory device of the present embodiment, the signal for adjusting the logical threshold value of the inverter in the address buffer ABUF is replaced by the ATD pulse generation circuit ATDPG instead of the signal by the trimming fuse.
The ATD pulse generation circuit AT
The logic threshold value of the inverter in the address buffer ABUF and the internal timing can be simultaneously switched only by switching the internal timing adjustment signal ITC of the DPG by bonding.
【0037】よって、ヒューズ切断と同じ効果をボンデ
ィングの切り替えにより得られるので、以下のような効
果を得ることができる。Therefore, since the same effect as that of fuse cutting can be obtained by switching the bonding, the following effects can be obtained.
【0038】(1).ボンディングオプションにより品種を
展開する場合、展開品のタイミングが調整できるので、
特性を向上させることができる。(1) When the product type is developed by the bonding option, the timing of the developed product can be adjusted.
The characteristics can be improved.
【0039】(2).製品生産上のストック工程が後工程の
みとなるため、前工程における不良資産所持を低減する
ことができる。(2) Since the stock process for product production is only the post-process, possession of defective assets in the pre-process can be reduced.
【0040】(3).ヒューズトリミングに比べて、ヒュー
ズをレーザ照射で切断した場合の切断ミスなどの危険性
を回避することができる。(3) As compared with fuse trimming, it is possible to avoid the danger of cutting mistake when the fuse is cut by laser irradiation.
【0041】(4).パッド入力によりトリミングを行うた
め、トリミングの効果をプローブ検査で確認してからボ
ンディングできるために安全性が高く、また製品の早期
立ち上げが図れ、試作・評価期間を短縮することができ
る。(4) Since trimming is performed by pad input, bonding can be performed after confirming the effect of trimming by probe inspection, so that safety is high, and the product can be started up early, shortening the trial production and evaluation period. can do.
【0042】(5).ボンディングオプションにより、1チ
ップでいくつもの品種展開を行う際、品種展開による内
部タイミングのずれが予め予測できていれば、品種切り
替え用の信号にパルス幅調整の内部タイミング調整用信
号をからませることにより、品種切り替えとその品種に
最適なパルス幅調整を同時に行うことができる。(5) When a variety of product types are developed on one chip by a bonding option, if the shift of the internal timing due to product type development can be predicted in advance, the internal timing adjustment of the pulse width adjustment for the signal for product type switching is performed. By entanglement of the use signal, it is possible to simultaneously switch the type and adjust the pulse width optimal for the type.
【0043】(6).量産化した後でも、ヒューズ切断によ
るトリミングを行わないため、製品のストック工程が後
工程のみとなり、顧客要求に素早く対応することができ
る。(6) Even after mass production, trimming by fuse cutting is not performed, so that the product stock process becomes only a post process, and it is possible to quickly respond to customer requirements.
【0044】以上、本発明者によってなされた発明をそ
の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前
記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸
脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもな
い。Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiment, the invention is not limited to the embodiment, and various modifications may be made without departing from the gist of the invention. It goes without saying that it is possible.
【0045】たとえば、前記実施の形態においては、5
V動作と3.3V動作との電源電圧仕様を同一チップで実
現させる場合について説明したが、これに限定されるも
のではなく、低電圧化に対応して、さらに低電圧の異な
る電源電圧仕様を実現する場合などについても適用可能
である。For example, in the above embodiment, 5
The case where the power supply voltage specifications of the V operation and the 3.3V operation are realized on the same chip has been described. However, the present invention is not limited to this. The present invention can be applied to such a case.
【0046】さらに、電源電圧仕様に基づく変更の他
に、×4、×16ビット品などのような入出力ビット構
成の変更など、半導体記憶装置の各種機能変更において
も同じボンディング仕様で対応することができる。Further, in addition to the change based on the power supply voltage specification, the same bonding specification can be used for changing various functions of the semiconductor memory device, such as a change in input / output bit configuration such as a × 4 or × 16 bit product. Can be.
【0047】また、SRAMに適用した場合について説
明したが、タイミング調整用のトリミングヒューズを有
しているDRAMなど、他の製品についても適用可能で
あることはいうまでもない。Although the description has been given of the case where the present invention is applied to the SRAM, it goes without saying that the present invention can be applied to other products such as a DRAM having a trimming fuse for timing adjustment.
【0048】[0048]
【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。Advantageous effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described.
It is as follows.
【0049】(1).ボンディング仕様の変更により内部タ
イミングを切り替えるATDパルス発生回路を有するこ
とで、ヒューズ切断と同じ効果をボンディングの切り替
えにより得ることができるので、ボンディングオプショ
ンにより品種を展開する場合、展開品のタイミング調整
によって特性の向上が可能となる。(1) By providing an ATD pulse generation circuit for switching the internal timing by changing the bonding specification, the same effect as the fuse cutting can be obtained by switching the bonding. The characteristics can be improved by adjusting the timing of the developed product.
【0050】(2).ボンディングオプションにより製品生
産上のストック工程が後工程のみとなるため、前工程に
おける不良資産所持の低減が可能となる。(2) Due to the bonding option, the stock process for product production is performed only in the post-process, so that possession of defective assets in the pre-process can be reduced.
【0051】(3).ヒューズトリミングに比べて、レーザ
照射によるヒューズの切断ミスなどの危険性を回避する
ことが可能となる。(3) Compared with fuse trimming, it is possible to avoid the danger such as mistaken cutting of a fuse due to laser irradiation.
【0052】(4).パッド入力によりトリミングを行うた
め、トリミングの効果をプローブ検査で確認してからボ
ンディングを行うことができるので、安全性が高く、製
品の早期立ち上げによって試作・評価期間の短縮が可能
となる。(4) Since the trimming is performed by pad input, the bonding can be performed after confirming the effect of the trimming by the probe inspection. Therefore, the safety is high, and the early production start-up of the product allows the trial production and evaluation period to be reduced. Shortening becomes possible.
【0053】(5).ボンディングオプションにより1チッ
プでいくつもの品種展開を行う際、内部タイミングのず
れが予め予測できていれば、品種切り替え用の信号にパ
ルス幅調整用の信号を関係付けることができるので、品
種切り替えとその品種に最適なパルス幅の調整が同時に
可能となる。(5) When a variety of product types are developed on one chip by a bonding option, if a shift in internal timing can be predicted in advance, a signal for pulse width adjustment can be associated with a signal for product type switching. Therefore, it is possible to simultaneously switch the type and adjust the pulse width optimal for the type.
【0054】(6).量産化した後でも、ヒューズ切断によ
るトリミングを行うことがないので、製品のストック工
程が後工程のみとなり、顧客要求に素早く対応すること
が可能となる。(6) Even after mass production, trimming by fuse cutting is not performed, so that the product stock process becomes only a post process, and it is possible to quickly respond to customer requirements.
【0055】(7).前記(1) 〜(6) により、異なる電源電
圧仕様を同一チップで実現させるSRAMなどの半導体
記憶装置において、ATDパルス発生回路による内部タ
イミングをボンディング仕様の変更により切り替えるこ
とができるので、品種展開における特性の向上、前工程
における不良資産所持の低減、試作・評価期間の短縮、
顧客要求への素早い対応などの実現が可能となる。(7) According to the above (1) to (6), in a semiconductor memory device such as an SRAM realizing different power supply voltage specifications on the same chip, switching the internal timing by the ATD pulse generation circuit by changing the bonding specification. Can improve the characteristics in product development, reduce the possession of defective assets in the previous process, shorten the prototype / evaluation period,
It is possible to quickly respond to customer requests.
【図1】本発明の一実施の形態である半導体記憶装置を
示す全体ブロック図である。FIG. 1 is an overall block diagram showing a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の一実施の形態における半導体記憶装置
のATDパルス発生回路を示すブロック図である。FIG. 2 is a block diagram showing an ATD pulse generation circuit of the semiconductor memory device according to one embodiment of the present invention.
【図3】本発明の一実施の形態において、アドレスバッ
ファとATDパルス発生回路の具体例を示す回路図であ
る。FIG. 3 is a circuit diagram showing a specific example of an address buffer and an ATD pulse generation circuit in one embodiment of the present invention.
【図4】本発明の一実施の形態において、読み出し動作
を示すタイミング図である。FIG. 4 is a timing chart showing a read operation in one embodiment of the present invention.
【図5】本発明の一実施の形態において、ATDパルス
幅の変化による影響例を説明するタイミング図である。FIG. 5 is a timing chart for explaining an example of the influence of a change in the ATD pulse width in one embodiment of the present invention.
【図6】本発明の前提となる半導体記憶装置において、
アドレスバッファとATDパルス発生回路の具体例を示
す回路図である。FIG. 6 shows a semiconductor memory device as a premise of the present invention;
FIG. 3 is a circuit diagram showing a specific example of an address buffer and an ATD pulse generation circuit.
A アドレス信号 ABUF アドレスバッファ ATDP ATDパルス信号 ATDPG ATDパルス発生回路 ATDPI ATDパルス集合回路 BPAT ボンディングパッド CDEC カラムデコーダ CDEQ コモンデータ線イコライズ信号 CDL コモンデータ線 DEL 遅延回路 DL データ線 DI/DO 入出力データ DI/O 入出力回路 DT データ線 DTEQ データ線イコライズ信号 EOR 排他的論理和回路 GND 接地電圧 ITC 内部タイミング調整用信号 IV1〜IV11 インバータ MC メモリセル MMAT メモリマット RDEC ロウデコーダ RWC リード/ライトコントロール回路 SA センスアンプ SAC センスアンプコントロール信号 SAEQ センスアンプイコライズ信号 SAO センスアンプ出力 ST 選択信号 SB 非選択信号 TN1〜TN5 NMOSトランジスタ TP1〜TP7 PMOSトランジスタ VCC 電源電圧 VLTC 論理しきい値調整用信号 WL ワード線 YS 列選択スイッチ A address signal ABUF address buffer ATDP ATD pulse signal ATDPG ATD pulse generation circuit ATDPI ATD pulse aggregation circuit BPAT bonding pad CDEC column decoder CDEQ common data line equalize signal CDL common data line DEL delay circuit DL data line DI / DO input / output data DI / O Input / output circuit DT Data line DTEQ Data line equalize signal EOR Exclusive OR circuit GND Ground voltage ITC Internal timing adjustment signal IV1 to IV11 Inverter MC Memory cell MMAT Memory mat RDEC Row decoder RWC Read / write control circuit SA Sense amplifier SAC Sense amplifier control signal SAEQ Sense amplifier equalize signal SAO Sense amplifier output ST selection Signal SB Non-selection signal TN1 to TN5 NMOS transistors TP1 to TP7 PMOS transistor VCC Power supply voltage VLTC Logic threshold adjustment signal WL Word line YS Column selection switch
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 深澤 武 東京都国分寺市東恋ヶ窪三丁目1番地1 日立超エル・エス・アイ・エンジニアリン グ株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Takeshi Fukazawa 3-1-1 Higashi Koigabo, Kokubunji-shi, Tokyo Inside Hitachi Ultra-SII Engineering Co., Ltd.
Claims (5)
入力としてATDパルス信号を発生し、このATDパル
ス信号による内部タイミングをボンディング仕様の変更
により切り替えるATDパルス発生回路を有することを
特徴とする半導体記憶装置。1. A semiconductor memory device comprising: an ATD pulse signal generating circuit which receives an address signal from an address buffer as an input, generates an ATD pulse signal, and switches an internal timing based on the ATD pulse signal by changing a bonding specification.
て、前記ATDパルス発生回路は、前記ボンディング仕
様の変更により所望のパルス幅に調整可能な複数段から
なる遅延回路を有することを特徴とする半導体記憶装
置。2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said ATD pulse generation circuit has a delay circuit having a plurality of stages which can be adjusted to a desired pulse width by changing said bonding specification. Semiconductor storage device.
て、前記ボンディング仕様は、前記半導体記憶装置の機
能変更と同じボンディング仕様の変更により切り替えら
れることを特徴とする半導体記憶装置。3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the bonding specification is switched by a change in the same bonding specification as a change in a function of the semiconductor storage device.
であって、前記ボンディング仕様の変更は、ワイヤボン
ディングまたはワイヤレスボンディングにより所望の電
圧レベルに接続して行われることを特徴とする半導体記
憶装置。4. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein said bonding specification is changed by connecting to a desired voltage level by wire bonding or wireless bonding. .
記憶装置であって、前記半導体記憶装置は、異なる電源
電圧仕様を同一チップで実現させるSRAMであること
を特徴とする半導体記憶装置。5. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the semiconductor memory device is an SRAM that realizes different power supply voltage specifications on the same chip. .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34264297A JP3610211B2 (en) | 1997-12-12 | 1997-12-12 | Semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34264297A JP3610211B2 (en) | 1997-12-12 | 1997-12-12 | Semiconductor memory device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11176166A true JPH11176166A (en) | 1999-07-02 |
JP3610211B2 JP3610211B2 (en) | 2005-01-12 |
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ID=18355362
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002025272A (en) * | 2000-07-10 | 2002-01-25 | Sharp Corp | Semiconductor storage device and its evaluating method |
JP2007115362A (en) * | 2005-10-21 | 2007-05-10 | Nec Electronics Corp | Semiconductor memory apparatus |
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1997
- 1997-12-12 JP JP34264297A patent/JP3610211B2/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2002025272A (en) * | 2000-07-10 | 2002-01-25 | Sharp Corp | Semiconductor storage device and its evaluating method |
US6529408B2 (en) | 2000-07-10 | 2003-03-04 | Sharp Kabushiki Kaisha | Semiconductor storage device and method for evaluating the same |
JP2007115362A (en) * | 2005-10-21 | 2007-05-10 | Nec Electronics Corp | Semiconductor memory apparatus |
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