JPH11160726A - Liquid crystal element and its production - Google Patents
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Landscapes
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- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光を照射して情報
を書き込む光書き込み型の素子に用いられて好適な液晶
素子、及びその製造方法に関する。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a liquid crystal element suitable for use in an optical writing element for writing information by irradiating light, and a method of manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、光を照射して情報を書き込む
光書き込み型液晶素子又は空間光変調素子(Spati
al Light Modulater)と呼ばれる素
子(以下、これらをまとめて“SLM”と称する)が提
案されている。2. Description of the Related Art Conventionally, a light-writing type liquid crystal element or a spatial light modulator (Spati) for writing information by irradiating light.
An element called an “Al Light Modulator” (hereinafter, these are collectively referred to as “SLM”) has been proposed.
【0003】このSLMは、光電変換半導体層と液晶と
を備えており、書き込み光を照射して情報を書き込むと
共に、読み出し光を照射して情報を表示するように構成
された一種の液晶素子である。The SLM includes a photoelectric conversion semiconductor layer and a liquid crystal, and is a kind of liquid crystal element configured to irradiate writing light to write information and irradiate reading light to display information. is there.
【0004】また、このSLMは、観察側とは反対の側
から読み出し光を照射する透過型のものと、読み出し光
を観察側から照射する反射型のものとに分類できる。[0004] The SLMs can be classified into a transmission type in which readout light is emitted from the side opposite to the observation side and a reflection type in which readout light is emitted from the observation side.
【0005】このうち、透過型のSLMとしては、「J
ournal of Photopolymer Sc
ience and Technology,Volu
me5,Number 2,1992,p.397−4
05」や特開平3−275723号公報に記載されたも
のがある。[0005] Of these, the transmission type SLM is described in "J.
ownnal of Photopolymer Sc
ence and Technology, Volu
me5, Number 2, 1992, p. 397-4
05 "and JP-A-3-275723.
【0006】このSLM1は、図1に示すように、所定
間隙を開けた状態に配置された一対の透明なガラス基板
2,3を備えており、それぞれのガラス基板2,3の内
面にはITOからなる透明電極5,6が形成されてい
る。As shown in FIG. 1, the SLM 1 includes a pair of transparent glass substrates 2 and 3 arranged with a predetermined gap therebetween. Transparent electrodes 5 and 6 are formed.
【0007】また、一方の透明電極5の表面側には、2
μmの厚さの光電変換半導体層としての光導電性高分子
膜7が形成されており、他方の透明電極6の表面には配
向膜12が形成されている。そして、これらの基板2,
3は不図示のシール材によって貼り合わされており、そ
の基板間隙には強誘電性液晶9が挟持されている。On the surface side of one transparent electrode 5, 2
A photoconductive polymer film 7 as a photoelectric conversion semiconductor layer having a thickness of μm is formed, and an alignment film 12 is formed on the surface of the other transparent electrode 6. And these substrates 2,
Numeral 3 is attached with a sealing material (not shown), and a ferroelectric liquid crystal 9 is sandwiched between the substrates.
【0008】ところで、上述した光導電性高分子膜7及
び配向膜12は、製造プロセスにおいて両者共にラビン
グ処理が施されて、しかも、結晶化のために300℃近
辺の熱処理を必要としている。The above-mentioned photoconductive polymer film 7 and alignment film 12 are both subjected to a rubbing treatment in the manufacturing process, and require a heat treatment at around 300 ° C. for crystallization.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】図1のSLMでは、光
導電性高分子膜7をラビング及び熱処理により一軸性配
向膜となるポリイミドにて形成しているため、含有させ
る物質、即ち電荷発生物質や電荷輸送性物質等は耐熱性
及び耐薬品性を考慮して選択しなければならない。よっ
て、その選択の自由度が狭くなり、その結果、感度が悪
くなる等の問題があった。又、コントラストを高くし得
るブックシェルフ層構造を呈するカイラルスメクチック
液晶を用いる場合には、配向欠陥が生じ易くなることが
あった。In the SLM shown in FIG. 1, the photoconductive polymer film 7 is formed of polyimide which becomes a uniaxial alignment film by rubbing and heat treatment. And the charge transporting substance must be selected in consideration of heat resistance and chemical resistance. Therefore, there is a problem that the degree of freedom of the selection is narrowed, and as a result, the sensitivity is deteriorated. In addition, when a chiral smectic liquid crystal having a bookshelf layer structure capable of increasing the contrast is used, alignment defects may easily occur.
【0010】一方、SLMとは異なり、光電変換半導体
層を用いない液晶素子としては、複数の走査電極と複数
の情報電極とからなるマトリクス電極によりマルチプレ
キシング駆動を行い、画像を表示する表示素子が知られ
ている。On the other hand, unlike an SLM, a liquid crystal element that does not use a photoelectric conversion semiconductor layer is a display element that displays an image by performing multiplexing driving using a matrix electrode including a plurality of scanning electrodes and a plurality of information electrodes. Are known.
【0011】このうちカイラルスメクチック液晶を用い
た表示素子は、高精細ディスプレイとして有望である
が、液晶分子を欠陥なく配向させる配向技術が難しいと
いわれている。Among them, a display element using a chiral smectic liquid crystal is promising as a high-definition display, but it is said that an alignment technique for aligning liquid crystal molecules without defects is difficult.
【0012】特に、カイラルスメクチック液晶をブック
シェルフ層構造に配向させるには高度な技術が要求され
ている。この技術は例えば、1995年8月1日に米国
出願された「Liquid Crystal devi
ce」という名称の、シリアルNo.509,929号
明細書またはEPO695965号公報に記載されてい
る。In particular, a high technology is required to align a chiral smectic liquid crystal in a bookshelf layer structure. This technology is described in, for example, “Liquid Crystal device” filed on Aug. 1, 1995 in the United States.
ce ", a serial No. No. 509,929 or EPO6995965.
【0013】しかしながら、こうしたブックシェルフ層
構造を呈する表示素子を低コストで再現性良く製造する
には、未だ充分ではなかった。具体的には、配向欠陥の
発生を抑えてブックシェルフ層構造を得ること、液晶の
注入を良好にすること、駆動時に流れる電流により発生
する熱分布を抑制すること等である。However, it has not been enough to manufacture a display element having such a bookshelf layer structure at low cost and with good reproducibility. Specifically, it is to obtain a bookshelf layer structure by suppressing the occurrence of alignment defects, to improve the injection of liquid crystal, and to suppress the heat distribution generated by the current flowing during driving.
【0014】そこで、本発明は、製造プロセスが簡単で
安価な液晶素子及びその製造方法を提供することを目的
とするものである。It is an object of the present invention to provide an inexpensive liquid crystal device having a simple manufacturing process and a method for manufacturing the same.
【0015】また、本発明は、温度変化による表示特性
の劣化が抑制され、良好な配向状態により表示品質が良
好な液晶素子を提供することを目的とするものである。It is another object of the present invention to provide a liquid crystal element in which display characteristics are prevented from deteriorating due to a temperature change and display quality is good due to a favorable alignment state.
【0016】さらに、本発明は、感度が良好な光書き込
み型の液晶素子を提供することを目的とするものであ
る。Another object of the present invention is to provide a photo-writing type liquid crystal element having good sensitivity.
【0017】またさらに、本発明は、透光性が良好な光
書き込み型の液晶素子を提供することを目的とするもの
である。Still another object of the present invention is to provide a light-writing type liquid crystal element having good translucency.
【0018】[0018]
【課題を解決するための手段】本発明は、所定間隙を開
けて配置された一対の透明基板と、一対の透明電極と、
光電変換半導体層と、配向膜と、該配向膜と該光電変換
半導体層間に挟持された液晶と、を備えた液晶素子にお
いて、前記配向膜にのみラビング処理を施し、前記光電
変換半導体層にはラビング処理を施さない、ことを特徴
とするものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention comprises a pair of transparent substrates arranged at a predetermined gap, a pair of transparent electrodes,
In a liquid crystal element including a photoelectric conversion semiconductor layer, an alignment film, and a liquid crystal sandwiched between the alignment film and the photoelectric conversion semiconductor layer, a rubbing process is performed only on the alignment film, and the photoelectric conversion semiconductor layer includes The rubbing treatment is not performed.
【0019】また本発明は、一対の基板間に挟持された
液晶を備えた液晶素子において、該液晶に接する一対の
層のうち一方が電荷輸送性の光電変換半導体層であり、
前記一対の層のうち他方のみが一軸性配向膜である、こ
とを特徴とするものである。According to the present invention, in a liquid crystal device having a liquid crystal sandwiched between a pair of substrates, one of a pair of layers in contact with the liquid crystal is a charge-transporting photoelectric conversion semiconductor layer;
Only the other of the pair of layers is a uniaxial alignment film.
【0020】また本発明は、一対の基板間に挟持された
液晶を備えた液晶素子において、該液晶に接する一対の
層のうち一方が光電変換有機半導体層であり、一対の層
のうち他方のみが一軸性配向膜であり、前記液晶が、ブ
ックシェルフ層構造を呈するカイラルスメクチック液晶
である、ことを特徴とするものである。According to the present invention, in a liquid crystal device having a liquid crystal sandwiched between a pair of substrates, one of a pair of layers in contact with the liquid crystal is a photoelectric conversion organic semiconductor layer, and only the other of the pair of layers is a photoelectric conversion organic semiconductor layer. Is a uniaxial alignment film, and the liquid crystal is a chiral smectic liquid crystal having a bookshelf layer structure.
【0021】また本発明は、前記光電変換有機半導体層
を光減衰曲線の微分係数(Δ電位/Δ光量)−光量特性
に極大値を有するものとすることを特徴とするものであ
る。The present invention is also characterized in that the photoelectric conversion organic semiconductor layer has a maximum value in a differential coefficient (Δpotential / Δlight amount) -light amount characteristic of a light attenuation curve.
【0022】また本発明は、液晶素子の製造方法におい
て、一対の透明基板にそれぞれ透明電極を形成する工程
と、前記一対の透明基板の一方の表面上に光電変換有機
半導体層を形成する工程と、前記一対の透明基板の他方
の表面上に配向膜を形成する工程と、前記光電変換有機
半導体層と配向膜のうち配向膜にのみラビング処理を施
す工程と、前記光電変換有機半導体層の表面にスぺーサ
ーとなる硬化性樹脂を配置する工程と、前記各透明基板
を貼り合わせる工程と、前記硬化性樹脂を硬化させる工
程と、前記貼り合わされた一対の透明基板の間隙に液晶
を注入する工程と、を備えたことを特徴とするものであ
る。According to the present invention, in a method of manufacturing a liquid crystal element, a step of forming a transparent electrode on each of a pair of transparent substrates and a step of forming a photoelectric conversion organic semiconductor layer on one surface of the pair of transparent substrates are provided. Forming an alignment film on the other surface of the pair of transparent substrates, performing a rubbing process only on the alignment film of the photoelectric conversion organic semiconductor layer and the alignment film, and forming a surface of the photoelectric conversion organic semiconductor layer. Disposing a curable resin serving as a spacer, bonding the respective transparent substrates, curing the curable resin, and injecting a liquid crystal into a gap between the bonded pair of transparent substrates. And a step.
【0023】[0023]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。Embodiments of the present invention will be described below.
【0024】本発明の第1の実施の形態について、図
2、図3を参照して説明する。A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
【0025】本実施の形態に係る液晶素子を用いた電気
光学装置は、光書き込み型液晶素子からなるSLM21
と書き込み光照射装置26とを備えており、書き込み光
照射装置26から光を照射することにより、SLM21
に情報を書き込むことができる。An electro-optical device using a liquid crystal element according to the present embodiment is an SLM 21 composed of a light-writing type liquid crystal element.
And a writing light irradiation device 26. By irradiating light from the writing light irradiation device 26, the SLM 21
Information can be written to the
【0026】SLM21は、所定間隙を開けた状態に配
置された一対の透明な基板2,3を備えており、それぞ
れの基板2,3の内面側には透明電極5,6が形成され
ている。このうち、一方の透明電極5の表面には光電変
換半導体層(以下、光電変換層と称する)が形成されて
おり、他方の透明電極6の表面には、一軸性配向規制力
をもつ一軸性配向膜12が形成されている。The SLM 21 includes a pair of transparent substrates 2 and 3 arranged with a predetermined gap therebetween. Transparent electrodes 5 and 6 are formed on the inner surfaces of the substrates 2 and 3, respectively. . Among them, a photoelectric conversion semiconductor layer (hereinafter, referred to as a photoelectric conversion layer) is formed on the surface of one transparent electrode 5, and a uniaxial film having a uniaxial alignment regulating force is formed on the surface of the other transparent electrode 6. An alignment film 12 is formed.
【0027】そして、これらの基板2,3は不図示のシ
ール材によって端部を貼り合わされており、これらの基
板2,3の間隙には液晶13が挟持されている。なお、
基板間隙は必要に応じて不図示の接着性スペーサー及び
/又は非接着性スペーサーによって規定されている。The ends of the substrates 2 and 3 are bonded together by a sealing material (not shown), and a liquid crystal 13 is held between the substrates 2 and 3. In addition,
The substrate gap is defined by an adhesive spacer and / or a non-adhesive spacer (not shown) as necessary.
【0028】さらに、各基板2,3の外表面側には、偏
光方向が互いに直交するように偏光板30,31が配置
されている。Further, polarizing plates 30 and 31 are arranged on the outer surface side of each of the substrates 2 and 3 so that the polarization directions are orthogonal to each other.
【0029】ところで、上述した光電変換層22は、光
の照射により電荷キャリア(電子及び正孔)を発生する
機能と、該キャリアに対する移動度の大きな電荷輸送機
能をもつ層が採用されている。なお、図2において、2
3は電荷発生層、25は電荷輸送層である。The above-mentioned photoelectric conversion layer 22 employs a layer having a function of generating charge carriers (electrons and holes) by light irradiation and a function of transporting charges having a high mobility with respect to the carriers. In FIG. 2, 2
3 is a charge generation layer and 25 is a charge transport layer.
【0030】そして、光電変換層22の液晶13と接す
る面22fには、ラビング等の一軸性配向処理が施され
ていない。一方、一軸性配向膜12の液晶13と接する
面12fには、ラビング等の一軸性配向処理が施されて
いる。The surface 22f of the photoelectric conversion layer 22 which is in contact with the liquid crystal 13 has not been subjected to a uniaxial alignment treatment such as rubbing. On the other hand, a surface 12f of the uniaxial alignment film 12 which is in contact with the liquid crystal 13 is subjected to a uniaxial alignment treatment such as rubbing.
【0031】液晶13が配向する際には、一軸性配向膜
12側から、液晶分子が優先的にスメクチック層を構成
するように配列し、光電変換層22からは優先的にスメ
クチック層を構成するように配列しない。When the liquid crystal 13 is oriented, the liquid crystal molecules are preferentially arranged to form a smectic layer from the uniaxial orientation film 12 side, and the smectic layer is preferentially formed from the photoelectric conversion layer 22. Are not arranged like this.
【0032】即ち、一軸性配向膜12の面12f側か
ら、液晶分子がスメクチック層を構成するように層の成
長を始め、光電変換層22の面22f側で成長が終了す
る。こうして、配向欠陥の少ないブックシェルフ層構造
(疑似ブックシェルフ層構造もブックシェルフ層構造の
1つとみなす)が得られる。That is, the layer starts to grow from the surface 12f side of the uniaxial alignment film 12 so that the liquid crystal molecules constitute a smectic layer, and the growth ends on the surface 22f side of the photoelectric conversion layer 22. In this way, a bookshelf layer structure with few orientation defects (a pseudo bookshelf layer structure is regarded as one of the bookshelf layer structures) is obtained.
【0033】しかも、透明電極5,6のいずれも、フォ
トリソグラフィー等を利用してパターニングする必要が
ない。よって、液晶13に接する面12f,22fはい
ずれも平坦な面となり、良質のブックシェルフ層構造の
発現をアシストする。Moreover, it is not necessary to pattern any of the transparent electrodes 5 and 6 using photolithography or the like. Therefore, the surfaces 12f and 22f that are in contact with the liquid crystal 13 are both flat surfaces, and assist in developing a good bookshelf layer structure.
【0034】又、液晶13に接する面12f,22fが
平坦であること、及び、光電変換層22が透明電極等に
比べて軟らかく、周知のポリイミド配向膜に比べて厚い
ことから、液晶13の注入が容易になり、SLMの製造
時間が短くなる。Further, since the surfaces 12f and 22f in contact with the liquid crystal 13 are flat and the photoelectric conversion layer 22 is softer than a transparent electrode or the like and thicker than a known polyimide alignment film, the injection of the liquid crystal 13 is performed. And the manufacturing time of the SLM is shortened.
【0035】(液晶素子の駆動法)図2に示すSLM2
1を例に挙げて、本発明のSLMの駆動法について説明
する。(Driving Method of Liquid Crystal Element) SLM2 shown in FIG.
Taking 1 as an example, the driving method of the SLM of the present invention will be described.
【0036】まず、一方の透明電極5と他方の透明電極
6との間に直流電圧を印加するために、透明電極5を基
準電位に保持し、スイッチSw1により端子Cと端子A
とを接続する。First, in order to apply a DC voltage between one transparent electrode 5 and the other transparent electrode 6, the transparent electrode 5 is held at a reference potential, and the switch Sw1 is connected to the terminals C and A.
And connect.
【0037】次に、光照射装置26を動作させて、所定
の画像情報をもつ書き込み光を偏光板30、透明基板
2、透明電極5を介して光電変換層22の受光面22p
に照射する。Next, the light irradiation device 26 is operated to write writing light having predetermined image information through the polarizing plate 30, the transparent substrate 2, and the transparent electrode 5 to the light receiving surface 22p of the photoelectric conversion layer 22.
Irradiation.
【0038】書き込み光を受容した光電変換層22で
は、主として電荷発生層23内で受光光量に応じた電荷
を発生する。書き込み光は画像情報光である為、光量が
平内分布をもっており、電荷発生層23ではそれに応じ
た量の電荷分布をもつ。発生した電荷のうち正孔は、電
荷輸送層25を通じて、液晶13と接する面22fまで
輸送される。The photoelectric conversion layer 22 that has received the writing light mainly generates charges in the charge generation layer 23 according to the amount of received light. Since the writing light is image information light, the light amount has an in-plane distribution, and the charge generation layer 23 has a corresponding amount of charge distribution. Holes among the generated charges are transported through the charge transport layer 25 to the surface 22 f in contact with the liquid crystal 13.
【0039】また、電子は相対的に電位の高い透明電極
5に流れ込む。即ち、受光光量に応じて光電変換層22
の局部的な抵抗値が低下することになる。従って、受光
光量の多い部分では、液晶13に印加される実効電圧が
大きく、受光光量の少ない部分では液晶13に印加され
る実効電圧が低くなる。The electrons flow into the transparent electrode 5 having a relatively high potential. That is, the photoelectric conversion layer 22 depends on the amount of received light.
Will be reduced. Therefore, the effective voltage applied to the liquid crystal 13 is large in a portion where the amount of received light is large, and the effective voltage applied to the liquid crystal 13 is low in a portion where the amount of received light is small.
【0040】こうして、印加される実効電圧が液晶の反
転(スイッチング)しきい値を越えた部分では、液晶分
子が一方の安定状態から他方の安定状態に反転する。こ
の様子を図3に示す。As described above, in a portion where the applied effective voltage exceeds the inversion (switching) threshold of the liquid crystal, the liquid crystal molecules are inverted from one stable state to the other. This is shown in FIG.
【0041】液晶13に印加される実効電圧がしきい値
を越えた部分では液晶分子は反転し、他方の安定状態U
2に配向する。液晶13に印加される実効電圧がしきい
値を越えていない部分では、一方の安定状態U1のまま
である。In a portion where the effective voltage applied to the liquid crystal 13 exceeds the threshold, the liquid crystal molecules are inverted, and the other stable state U
Orientation to 2. In a portion where the effective voltage applied to the liquid crystal 13 does not exceed the threshold, one stable state U1 remains.
【0042】光電変換層22の面内における分解能の単
位は電荷1つ分、実質的に無限であるが、液晶13の面
内における分解能はドメイン単位である為、表示画像の
分解能は液晶13のドメインに制限を受ける。しかしな
がら、100μm×100μm程度の大きさの部分には
100個以上、場合によっては10,000個以上のド
メインが存在し得る。従って、当該部分が受容した電荷
量に応じて反転するドメイン数が変化する為、当該部分
では256レベル以上の諧調表現がなされているように
見える。こうして、SLM21では強誘電性液晶を用い
てアナログ的諧調表現が可能である。Although the unit of the resolution in the plane of the photoelectric conversion layer 22 is substantially infinite for one charge, the resolution in the plane of the liquid crystal 13 is a domain unit. Restricted to domains. However, a portion having a size of about 100 μm × 100 μm may have 100 or more, and in some cases, 10,000 or more domains. Therefore, since the number of domains to be inverted changes in accordance with the amount of charge received by the portion, it appears that the portion has 256 or more gradations. Thus, the SLM 21 can perform analog gradation expression using the ferroelectric liquid crystal.
【0043】次にスイッチSw1を操作して、端子Dと
端子Cとを短絡する。すると透明電極5,6は共に同電
位となる為、液晶13には実質的に電界が外部から印加
されない。ここで、液晶13はカイラルスメクチック相
にある為、液晶分子は配向状態を保持している。Next, the switch Sw1 is operated to short-circuit the terminals D and C. Then, since the transparent electrodes 5 and 6 have the same potential, an electric field is not substantially applied to the liquid crystal 13 from the outside. Here, since the liquid crystal 13 is in the chiral smectic phase, the liquid crystal molecules maintain the alignment state.
【0044】そして、光照射装置26より読み出し光が
照射される。読み出し光は書き込み光と同様に偏光板3
0を通してSLM21に照射され、偏光板31を通して
出射する。出射光は観察者OBにより認識できる。Then, the reading light is irradiated from the light irradiation device 26. The reading light is the same as the writing light,
The light is radiated to the SLM 21 through 0 and exits through the polarizing plate 31. The emitted light can be recognized by the observer OB.
【0045】書き込み光としては、光電変換層22によ
り吸収され、電荷を発生するようなエネルギー(波長)
をもつ光が選択される。これに対し、読み出し光は、光
電変換層22にて吸収され難いエネルギー(波長の光)
をもつ光とするか、光電変換層22では完全に吸収出来
ない程多い量の光とすべきである。As the writing light, energy (wavelength) that is absorbed by the photoelectric conversion layer 22 and generates an electric charge.
Is selected. On the other hand, the read light is energy (light having a wavelength) that is hardly absorbed by the photoelectric conversion layer 22.
Or a large amount of light that cannot be completely absorbed by the photoelectric conversion layer 22.
【0046】クロスニコルに配された偏光板30,31
が状態U1で非透過、状態U2で透過するように位置合
わせされていれば、明るい書き込み情報は、明るい読み
出し情報となり、暗い書き込み情報は、暗い読み出し情
報となる。逆に、偏光板30,31を状態U1で透過、
状態U2で非透過となるように位置合わせすれば、明情
報は暗情報に、暗情報は明情報に反転変換される。この
ような光情報の反転・非反転は、印加の電圧の極性を変
えることによっても、行い得る。Polarizing plates 30, 31 arranged in crossed Nicols
Are aligned so as to be non-transmissive in state U1 and transparent in state U2, bright write information becomes bright read information and dark write information becomes dark read information. Conversely, the polarizers 30 and 31 are transmitted in the state U1,
If the position is adjusted to be non-transparent in the state U2, the bright information is inverted and converted into dark information, and the dark information is inverted and converted into bright information. Such inversion / non-inversion of the optical information can also be performed by changing the polarity of the applied voltage.
【0047】以上の動作を繰り返し行う場合には、上記
工程後、スイッチSw1を切換えて端子Bと端子Cとを
短絡させて充分大きな逆電界を液晶に印加する。このよ
うなリセット動作によりSLM21の液晶は全て状態U
1にそろう。この時、光量の面内分布のない光をリセッ
ト光として照射すれば、比較的低い逆電界であっても液
晶13を状態U1にリセットできる。When the above operation is repeatedly performed, after the above-described process, the switch Sw1 is switched to short-circuit the terminals B and C, and a sufficiently large reverse electric field is applied to the liquid crystal. Due to such a reset operation, all the liquid crystals of the SLM 21 are in the state U.
Follow one. At this time, by irradiating light having no in-plane distribution of light amount as reset light, the liquid crystal 13 can be reset to the state U1 even with a relatively low reverse electric field.
【0048】又、本実施の形態に係るSLM21は、強
誘電性液晶のメモリー性を利用して表示を行うものであ
るから、駆動方式としては、特開昭59−216126
号公報(発明者:金子修三、出願人:キヤノン)に記載
したものも使用できる。Also, since the SLM 21 according to the present embodiment performs display using the memory properties of ferroelectric liquid crystal, the driving method is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 59-216126.
Japanese Patent Publication (Inventor: Shuzo Kaneko, Applicant: Canon) can also be used.
【0049】(基板)次に、基板2,3について説明す
る。(Substrate) Next, the substrates 2 and 3 will be described.
【0050】本発明に用いられる基板2,3としては、
ガラス、石英、アルミナ等の無機材料又はプラスチック
フィルム等の有機材料からなる可撓性又は非可撓性の基
板が挙げられる。なお、基板の一方をリジッドな基板と
し、他方をフレキシブルな基板としてもよい。又、偏光
板30と基板2、偏光板31と基板3とをそれぞれ貼り
合わせて一体化してもよい。The substrates 2 and 3 used in the present invention include:
A flexible or non-flexible substrate made of an inorganic material such as glass, quartz, or alumina, or an organic material such as a plastic film may be used. Note that one of the substrates may be a rigid substrate and the other may be a flexible substrate. Alternatively, the polarizing plate 30 and the substrate 2 and the polarizing plate 31 and the substrate 3 may be bonded and integrated.
【0051】(透明電極)次に、透明電極5,6につい
て説明する。(Transparent Electrodes) Next, the transparent electrodes 5 and 6 will be described.
【0052】本発明に用いられる透明電極5,6として
は、酸化錫、酸化インジウム錫(ITO)、酸化亜鉛、
酸化イリジウム等の透明導電性の酸化物が好適である。The transparent electrodes 5 and 6 used in the present invention include tin oxide, indium tin oxide (ITO), zinc oxide,
A transparent conductive oxide such as iridium oxide is preferable.
【0053】(一軸性配向膜)次に、一軸性配向膜12
について説明する。(Uniaxial Alignment Film) Next, the uniaxial alignment film 12
Will be described.
【0054】本発明に用いられる一軸性配向膜12とし
ては、斜方蒸着された酸化シリコン等の無機配向膜や、
ラビングされたポリイミドやポリアミドのような有機配
向膜が好適な材料として挙げられる。又、前述した米国
出願シリアルNo.509929号の明細書に記載の一
軸性配向膜も好適に用いられる。As the uniaxial alignment film 12 used in the present invention, an inorganic alignment film made of obliquely deposited silicon oxide or the like,
A suitable material is an organic alignment film such as rubbed polyimide or polyamide. Also, as described in the above-mentioned US application serial no. The uniaxial alignment film described in the specification of Japanese Patent No. 509929 is also preferably used.
【0055】(光電変換層)次に、光電変換層22につ
いて説明する。(Photoelectric Conversion Layer) Next, the photoelectric conversion layer 22 will be described.
【0056】本発明に用いられる光電変換層22として
は、図2に示したような電荷発生層23と電荷輸送層2
5とに機能分離された光導電層の他に、電荷発生物質と
電荷輸送性物質とを樹脂中に混合(含有)させて形成し
た単一の光導電層としても良い(前者を積層型、後者を
単層型とそれぞれ称する)。The photoelectric conversion layer 22 used in the present invention includes a charge generation layer 23 and a charge transport layer 2 as shown in FIG.
5 may be a single photoconductive layer formed by mixing (containing) a charge generating substance and a charge transporting substance in a resin (the former is a laminated type, The latter is referred to as a single-layer type).
【0057】又、図2に示す積層型の場合、透明電極5
に接するように電荷発生層23を配置すると共に、液晶
13に接するように電荷輸送層25を配置しているが、
透明電極5に接するように電荷輸送層25を配置し、且
つ液晶13に接するように電荷発生層23を配しても良
い。In the case of the laminated type shown in FIG.
The charge generation layer 23 is arranged so as to be in contact with the liquid crystal 13, and the charge transport layer 25 is arranged so as to be in contact with the liquid crystal 13.
The charge transport layer 25 may be disposed so as to be in contact with the transparent electrode 5, and the charge generation layer 23 may be disposed so as to be in contact with the liquid crystal 13.
【0058】(電荷発生層)ここで、電荷発生層23
は、光導電物質(電荷発生物質)の粒子を樹脂中に分散
させたものであり、この光導電物質(電荷発生物質)と
しては、例えば分子内に電子供与性部と電子受容性部と
を有する化合物、スーダンレッド、ダイアンブルーなど
のアゾ顔料、ピレンキノン、アントアントロンなどのキ
ノン顔料、インジゴ、チオインジゴなどのインジゴ顔
料、アズレニウム塩顔料、銅フタロシアニン、チタニル
フタロシアニンなどのフタロシアニン顔料、等が挙げら
れる。また、これらの粒子を分散させる樹脂としては、
ポリビニルブチラール、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニ
ル、アクリル樹脂、ポリビニルピロリドン、エチルセル
ロース、酢酸−酪酸セルロースなどの結着剤系樹脂が挙
げられる。なお、この電荷発生層23の膜厚は0.01
〜2.0μm、より好ましくは0.01〜0.2μm程
度が好ましい。(Charge Generating Layer) Here, the charge generating layer 23
Is a material in which particles of a photoconductive substance (charge generating substance) are dispersed in a resin. As the photoconductive substance (charge generating substance), for example, an electron donating portion and an electron accepting portion are included in a molecule. Compounds, azo pigments such as Sudan Red and Diane Blue, quinone pigments such as pyrenequinone and anthantrone, indigo pigments such as indigo and thioindigo, azurenium salt pigments, and phthalocyanine pigments such as copper phthalocyanine and titanyl phthalocyanine. In addition, as a resin for dispersing these particles,
Binder resins such as polyvinyl butyral, polystyrene, polyvinyl acetate, acrylic resin, polyvinyl pyrrolidone, ethyl cellulose, and cellulose acetate-butyrate are exemplified. The charge generation layer 23 has a thickness of 0.01
To 2.0 μm, more preferably about 0.01 to 0.2 μm.
【0059】(電荷輸送層)電荷輸送層25は、キャリ
ア移動度の大きな電荷輸送性物質を、成膜性を有する樹
脂に溶解させたものである。ここで、この電荷輸送性物
質としては、例えば主鎖または側鎖にビフェニレン、ア
ントラセン、ピレン、フェナントレンなどの構造を有す
る多環芳香族化合物、インドール、カルバゾール、オキ
サジアゾール、ピラゾリンなどの含窒素複素環式化合
物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物等が挙げられ
る。また、成膜性を有する樹脂としては、ポリエステ
ル、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸エステル、ポ
リスチレン、ポリアミドなどが挙げられる。(Charge Transporting Layer) The charge transporting layer 25 is formed by dissolving a charge transporting substance having a high carrier mobility in a resin having a film forming property. Here, as the charge transporting substance, for example, a polycyclic aromatic compound having a structure such as biphenylene, anthracene, pyrene, or phenanthrene in a main chain or a side chain, or a nitrogen-containing complex such as indole, carbazole, oxadiazole, or pyrazoline is used. Cyclic compounds, hydrazone compounds, styryl compounds, and the like. Examples of the resin having a film forming property include polyester, polycarbonate, polymethacrylate, polystyrene, and polyamide.
【0060】なお、SLM21の液晶層の厚さを一定に
する為にスペーサーを配する場合には、電荷輸送層25
に接触するように配置されて基板間隙を規定するが、こ
の間隙寸法を正確に管理するため、電荷輸送層25の硬
さは2B以上(鉛筆高度)とすることが好ましい。ま
た、電荷輸送層25の厚さは、0.1〜1.8μm程度
が好ましく、光導電層22の表面(液晶層13Aに接す
る側の面)の表面エネルギーは30dyn/cm2 以下
であることが好ましい。When a spacer is provided to keep the thickness of the liquid crystal layer of the SLM 21 constant, the charge transport layer 25
In order to accurately manage the gap size, the charge transport layer 25 preferably has a hardness of 2B or more (pencil height). Further, the thickness of the charge transport layer 25 is preferably about 0.1 to 1.8 μm, and the surface energy of the surface of the photoconductive layer 22 (the surface in contact with the liquid crystal layer 13A) is 30 dyn / cm 2 or less. Is preferred.
【0061】またさらに、透明電極5と光電変換層22
との間に中間層を設けてもよい。そして、このような中
間層を設けることにより、透明電極5と光電変換層22
との密着性を向上させ、又透明電極5側からの余分な電
荷の注入を阻止することができる。よって、このような
中間層は密着層あるいは電荷注入防止層と呼ばれる。な
お、この中間層は、1層のみで構成されているもので
も、複数の層で構成されていてもよい。Further, the transparent electrode 5 and the photoelectric conversion layer 22
And an intermediate layer between them. By providing such an intermediate layer, the transparent electrode 5 and the photoelectric conversion layer 22 are provided.
And the injection of extra charges from the transparent electrode 5 side can be prevented. Therefore, such an intermediate layer is called an adhesion layer or a charge injection prevention layer. The intermediate layer may be composed of only one layer, or may be composed of a plurality of layers.
【0062】ここで中間層の膜厚は、複数ある場合でも
5μm以下、好ましくは1.0μm以下、更には0.5
μm以下が好適である。なお、この中間層24は、例え
ばカゼイン、ポリビニルアルコール、ニトロセルロー
ス、ポリアミド(ナイロン6、ナイロン66、ナイロン
610、共重合ナイロン、N−アルコキシメチル化ナイ
ロン等)、ポリイミド、ポリウレタン、ポリエステル、
フェノール樹脂等によって形成することができる。Here, the thickness of the intermediate layer is 5 μm or less, preferably 1.0 μm or less, and more preferably 0.5 μm or less, even when there are a plurality of intermediate layers.
μm or less is preferred. The intermediate layer 24 is made of, for example, casein, polyvinyl alcohol, nitrocellulose, polyamide (nylon 6, nylon 66, nylon 610, copolymer nylon, N-alkoxymethylated nylon, etc.), polyimide, polyurethane, polyester,
It can be formed of a phenol resin or the like.
【0063】次に、光電変換層22の具体例について述
べる。アゾ顔料やi型のチタニルフタロシアニンにて光
電変換層を形成した場合には、透過率がより向上し、可
視領域(全波長)で良好な透過特性が得られる。Next, a specific example of the photoelectric conversion layer 22 will be described. When the photoelectric conversion layer is formed of an azo pigment or i-type titanyl phthalocyanine, the transmittance is further improved, and good transmission characteristics are obtained in the visible region (all wavelengths).
【0064】つまり、図4は、電荷輸送層25にヒドラ
ゾン化合物を用い、電荷発生層23にアゾ顔料を用いた
光導電層22の透過特性を示す図であるが、光の波長が
550nm程度で透過率が50%以上となって、充分な
透過率が得られることが理解できる。That is, FIG. 4 is a diagram showing the transmission characteristics of the photoconductive layer 22 using the hydrazone compound for the charge transport layer 25 and the azo pigment for the charge generation layer 23. The light wavelength is about 550 nm. It can be understood that a sufficient transmittance can be obtained when the transmittance is 50% or more.
【0065】また、図5は、電荷輸送層25にヒドラゾ
ン化合物を用い、電荷発生層23にi型のチタニルフタ
ロシアニンを用いた光導電層22の透過特性を示す図で
あるが、光の波長が400〜700nmで透過率が40
%以上となり、同じく充分な透過率が得られることが理
解できる。FIG. 5 is a graph showing the transmission characteristics of the photoconductive layer 22 in which the hydrazone compound is used for the charge transport layer 25 and i-type titanyl phthalocyanine is used for the charge generation layer 23. 40 transmittance at 400-700 nm
% Or more, and it can be understood that a sufficient transmittance can be obtained.
【0066】さらに、図6は、アゾ顔料を用いた混合型
光導電層の透過特性を示す図であり、図7は、i型のチ
タニルフタロシアニンを用いた混合型光導電層の透過特
性を示す図であるが、いずれの場合も透過率が40%以
上となることがわかる。FIG. 6 is a graph showing the transmission characteristics of a mixed photoconductive layer using an azo pigment, and FIG. 7 is a graph showing the transmission characteristics of a mixed photoconductive layer using an i-type titanyl phthalocyanine. As can be seen from the figure, the transmittance is 40% or more in each case.
【0067】またさらに、光電変換層は2μm以下、よ
り好ましくは1μm以下と薄くすることにより解像度を
より高めることができる。Further, the resolution can be further enhanced by reducing the thickness of the photoelectric conversion layer to 2 μm or less, more preferably 1 μm or less.
【0068】ここで、図8は、光導電層22の膜厚が1
μm、2μm、3μm、4μmの場合、及び液晶13と
光導電層22との間に膜厚0.2μmのポリシロキサン
層(中間層)を介装させた場合の解像力を比較したもの
である。この図より、光導電層22を薄く、かつ中間層
を介装させない方が解像度が高くなることが理解でき
る。なお、解像力の判断は、Crマスクを使用して像を
転写し、1mm当たりに判別可能なライン本数を数える
ことによって行った。FIG. 8 shows that the photoconductive layer 22 has a thickness of 1
The comparison is made between the resolutions of μm, 2 μm, 3 μm, and 4 μm, and the resolution when a 0.2 μm-thick polysiloxane layer (intermediate layer) is interposed between the liquid crystal 13 and the photoconductive layer 22. From this figure, it can be understood that the resolution is higher when the photoconductive layer 22 is thinner and the intermediate layer is not interposed. The resolution was determined by transferring an image using a Cr mask and counting the number of discriminable lines per 1 mm.
【0069】また、上述した実施の形態においては、読
み出し光を照射して情報を表示したが、もちろんこれに
限る必要はなく、書き込んだ情報をレーザースキャニン
グやCCDによって読み取るようにしても良い。In the above-described embodiment, the information is displayed by irradiating the reading light. However, the present invention is not limited to this, and the written information may be read by laser scanning or CCD.
【0070】さらに、繰り返して異なる情報を書き込む
場合には、書き込み光の量を、光導電層22が光メモリ
ーを起こさない程度にする必要があるが、逆に、画像を
長時間メモリーしたい場合には、書き込み光の量を多く
して光メモリーを起こさせるようにすると良い。Further, when different information is repeatedly written, the amount of light to be written needs to be small enough to prevent the photoconductive layer 22 from causing optical memory. It is preferable to increase the amount of writing light to cause an optical memory.
【0071】ここで、図9は、書き込み光の光量とフォ
トメモリーの有無との関係を示す図である。なお、図9
(a)は、書き込み光にレーザー光を用いると共に光電
変換層としてi型のチタニルフタロシアニンを用いた例
で、図9(b)は、書き込み光にアナログ光を用いると
共に光電変換層としてアゾ顔料を用いた例である。ま
た、電荷輸送材としては、いずれもヒドラゾン系の化合
物を用いた。FIG. 9 is a diagram showing the relationship between the amount of writing light and the presence or absence of a photo memory. Note that FIG.
FIG. 9A shows an example in which laser light is used as writing light and i-type titanyl phthalocyanine is used as a photoelectric conversion layer. FIG. 9B shows an example in which analog light is used as writing light and an azo pigment is used as a photoelectric conversion layer. This is an example used. In addition, as the charge transporting material, a hydrazone-based compound was used.
【0072】又、光電変換層としては良好なコントラス
トを得るべく下記に示される条件式を満足するように設
計されると良い。The photoelectric conversion layer is preferably designed so as to satisfy the following conditional expression in order to obtain good contrast.
【0073】[0073]
【数2】 A×T≧1×104 [lux.sec ]の時 0.1≦|VM /VD |≦1.0 A[lux ]:照射光強度 T[sec ]:光照射時間 VD [V]:光未照射部分の光電変換層に分担される電
位 VM [V]:光未照射部分の光電変換層に分担される電
位と光照射部分の光電変換層に分担される電位との差分 このようにすれば、光情報による光電変換層への書き込
みと、液晶への電圧印加による液晶層への情報書き込み
が独立に行えるようになり、SLMが扱い易くなる。[Number 2] A × T ≧ 1 × 10 4 [lux.sec] 0.1 ≦ when | V M / V D | ≦ 1.0 A [lux]: irradiation light intensity T [sec]: irradiation time V D [V]: potential is shared by the photoelectric conversion layer of light non-irradiated portion V M [V]: is shared by the photoelectric conversion layer and the potential of the light irradiation portion to be shared by the photoelectric conversion layer of light non-irradiated portion In this way, writing to the photoelectric conversion layer by optical information and information writing to the liquid crystal layer by applying a voltage to the liquid crystal can be performed independently, and the SLM can be easily handled.
【0074】また、光を照射して情報を書き込む際、例
えばレーザーやLEDなどのビームをコンピューター、
スキャナー等からのデジタル画像信号により変調し、こ
の変調ビームをSLMに照射してドット状の光書き込み
を行なう場合がある。ここで、このようなドット状の光
書き込みを行なう場合のドット露光は輝度1〜5mWで
20〜100μmのパルス露光であり、輝度分布はガウ
ス分布となる。When writing information by irradiating light, for example, a beam such as a laser or LED
In some cases, the light is modulated by a digital image signal from a scanner or the like, and this modulated beam is applied to the SLM to perform dot-shaped optical writing. Here, dot exposure in the case of performing such dot-shaped optical writing is pulse exposure of 20 to 100 μm at a luminance of 1 to 5 mW, and the luminance distribution is a Gaussian distribution.
【0075】ところが、このようなドット露光は理想的
な図10の(a)に示すような矩形とは異なり、実際に
は同図の(b)に示すようななだらかな山型となり、こ
のようなドット露光により光書き込みを行った場合に
は、解像力の悪いドット画像が得られてしまうといった
問題があった。However, such dot exposure is different from an ideal rectangle as shown in FIG. 10A, and actually has a gentle mountain shape as shown in FIG. 10B. In the case where optical writing is performed by a proper dot exposure, there is a problem that a dot image having a low resolution is obtained.
【0076】この問題を解決するためには、光減衰曲線
の微分係数(Δ電位/Δ光量)−光量特性が極大値を持
つように光電変換層を設計することが好ましい。そし
て、前記光電変換層の光減衰曲線により算出される規格
化された微分係数の値が少なくとも3以上、好ましくは
5以上とするとよい。In order to solve this problem, it is preferable to design the photoelectric conversion layer so that the differential coefficient (Δpotential / Δlight amount) -light amount characteristic of the light attenuation curve has a maximum value. The normalized differential coefficient calculated from the light attenuation curve of the photoelectric conversion layer may be at least 3 or more, preferably 5 or more.
【0077】ところで、このような構成の光電変換層に
ドット状の光を照射すると、光キャリアのなだれ現象を
利用したアバランシェ現象により光電流が流れ、この光
電流により液晶の配向状態が変化し、解像度の高い情報
の書き込みが行われる。なお、本発明に係る光電変換層
は、低光量では光電流が流れず、ある光量以上で急激に
光電流が流れ、図17に示す光減衰曲線に極大値を示す
特性を有するものであり、このような光減衰曲線を有す
る光電変換層を、光γ光減衰性光電変換層という。When the photoelectric conversion layer having such a structure is irradiated with dot-shaped light, a photocurrent flows due to an avalanche phenomenon utilizing the avalanche phenomenon of photocarriers, and the orientation state of the liquid crystal changes due to the photocurrent. Writing of high-resolution information is performed. Note that the photoelectric conversion layer according to the present invention has a characteristic in which a photocurrent does not flow at a low light amount, a photocurrent rapidly flows at a certain light amount or more, and shows a maximum value in a light attenuation curve shown in FIG. A photoelectric conversion layer having such a light decay curve is referred to as a light γ light attenuating photoelectric conversion layer.
【0078】ここで、この高γ光減衰性光電変換層は、
光減衰領域において光減衰曲線における電位V(規格
化)を光量Eを作用変数(規格化)として微分すると、
図18のように初期には微分係数|ΔV/ΔE|(絶対
値)は零を含む比較的小さな値を示し、次いで急峻に増
大し、極大値を経て再び零に収斂する。Here, the high γ light attenuating photoelectric conversion layer is
Differentiating the potential V (normalized) on the light decay curve in the light decay region with the light amount E as an action variable (normalized),
As shown in FIG. 18, the derivative | ΔV / ΔE | (absolute value) initially shows a relatively small value including zero, then increases sharply, and converges to zero again through the local maximum value.
【0079】そして、このような特性を有する光電変換
層22をSLMに用いて、輝度1〜5mWで100μm
以下という極めて狭いパルス幅でドット状の光書き込み
を行なった場合、光電変換層22におけるドット画像
(情報書き込み)が図10の(a)に極めて近く鮮鋭で
あり、デジタル方式の情報書き込みには、好都合であ
る。Then, the photoelectric conversion layer 22 having such characteristics is used for an SLM, and a luminance of 1 to 5 mW and 100 μm
When dot-shaped optical writing is performed with an extremely narrow pulse width of the following, the dot image (information writing) on the photoelectric conversion layer 22 is very close to (a) in FIG. It is convenient.
【0080】このように、光電変換層がアバランシェ効
果を有する高γ光減衰性光電変換層であるため、特にデ
ジタル方式で画像処理する書き込み光出射装置と組み合
わせると、ドット再現性の優れた高解像な情報書き込み
が可能となる。As described above, since the photoelectric conversion layer is a high γ light attenuating photoelectric conversion layer having an avalanche effect, especially when combined with a writing light emitting device that performs digital image processing, a high resolution light having excellent dot reproducibility can be obtained. Image information can be written.
【0081】また、図10を参照に説明した上記問題
は、所定間隙を開けて配置された一対の透明基板と、そ
れぞれの透明基板に形成された透明電極と、一方の透明
基板に形成された光電変換層と、他方の透明基板に形成
された配向膜と、これら一対の透明基板間に挟持された
液晶とを備え、光を照射することにより情報の書き込み
を行う光書き込み型液晶素子において、光電変換層が、
電荷発生層と電荷輸送層とを有する機能分離型構成で、
電荷発生層の電気容量(CCGL )と電荷輸送層の電気容
量(CCTL )の比(CCTL )/(CCGL )が1.0以上
である一方、配向膜のみラビング処理を施し、光電変換
層にはラビング処理を施さないことを特徴とするSLM
によっても解決できる。The problem described above with reference to FIG. 10 is caused by a pair of transparent substrates arranged at a predetermined gap, a transparent electrode formed on each transparent substrate, and a transparent electrode formed on one transparent substrate. A photoelectric conversion layer, an alignment film formed on the other transparent substrate, and a liquid crystal sandwiched between the pair of transparent substrates, a light-writing type liquid crystal element for writing information by irradiating light, Photoelectric conversion layer,
With a function-separated type configuration having a charge generation layer and a charge transport layer,
While the ratio (C CTL ) / (C CGL ) of the electric capacity (C CGL ) of the charge generation layer to the electric capacity (C CTL ) of the charge transport layer is 1.0 or more, the rubbing treatment is performed only on the alignment film, and SLM characterized by not subjecting the conversion layer to rubbing
Can also be solved.
【0082】そして、液晶表示の光電変換層の耐圧を充
分にとるためには、(CCTL )/(CCGL )が2.5以
上であることがより好ましく、(CCTL )/(CCGL )
が5.0以上であることが更に好ましい。In order to sufficiently secure the withstand voltage of the photoelectric conversion layer of the liquid crystal display, it is more preferable that (C CTL ) / (C CGL ) be 2.5 or more, and (C CTL ) / (C CGL ) )
Is more preferably 5.0 or more.
【0083】本実施の形態のSLMに光を照射すると、
電荷発生層と電荷輸送層とを有する機能分離型構成で、
電荷発生層の電気容量(CCGL )と電荷輸送層の電気容
量(CCTL )の比(CCTL )/(CCGL )が1.0以上
である光電変換層には、アバランシェ現象により光電流
が流れる。これにより液晶の配向状態が変化し、解像度
の高い情報の書き込みが行われる。When the SLM of this embodiment is irradiated with light,
With a function-separated type configuration having a charge generation layer and a charge transport layer,
The photoelectric conversion layer having a ratio (C CTL ) / (C CGL ) of the electric capacity (C CGL ) of the charge generation layer to the electric capacity (C CTL ) of the charge transport layer of 1.0 or more has a photocurrent due to an avalanche phenomenon. Flows. As a result, the alignment state of the liquid crystal changes, and high-resolution information is written.
【0084】この場合に好適な電荷発生層中の電荷発生
物質としては、モノアゾ、ビスアゾ及びトリスアゾ等の
アゾ顔料、金属フタロシアニン及び無金属フタロシアニ
ン等のフタロシアニン顔料、インジゴ及びチオインジゴ
等のインジゴ顔料、アントアントロン及びピレンキノン
等の多環キノン顔料、ペリレン酸無水物及びペリレン酸
イミド等のペリレン顔料、スクワリリウム色素、ピロロ
ピロール顔料、ピリリウム及びチアピリリウム塩類及び
トリフェニルメタン色素が挙げられ、各種結晶系のS
e、Se−As、CdS、結晶性Si、a−Si等であ
ってもよい。In this case, suitable charge generating substances in the charge generating layer include azo pigments such as monoazo, bisazo and trisazo, phthalocyanine pigments such as metal phthalocyanine and non-metal phthalocyanine, indigo pigments such as indigo and thioindigo, and anthantrone. And polycyclic quinone pigments such as pyrenequinone, perylene anhydrides such as perylene anhydride and perylene imide, squarylium dyes, pyrrolopyrrole pigments, pyrylium and thiapyrylium salts, and triphenylmethane dyes.
e, Se-As, CdS, crystalline Si, a-Si or the like may be used.
【0085】特には材料選択の自由度があるアゾ系顔料
が好ましく、その中では、下記一般式の電荷発生材料が
好ましい。In particular, azo-based pigments having a high degree of freedom in material selection are preferable, and among them, a charge generating material represented by the following general formula is preferable.
【0086】[0086]
【化2】 式中、Xは水素原子、フッ素原子、塩素原子または臭素
原子等のハロゲン原子を示す。R1、R2、R3、R
4、R5は、水素原子、フッ素原子、塩素原子または臭
素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、置換基
を有してもよいメチル、エチル、n−プロピル、iso
−プロピル、ブチル等のアルキル基、メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ等のアルコキシ基、ベンジル、フェネチ
ル等のアラルキル基、フェニル、ナフチル等のアリール
基、ジメチルアミノ、ジエキルアミノ等のアルキルアミ
ノ基を示し、同じであつても異なっていてもよい。m及
びnは1または2を示し、同じであっても異なっていて
もよい。上記表現の置換基としては、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ
基、メチル、エチル、n−プロピル、iso−プロピ
ル、ブチル等のアルキル基、メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ等のアルコキシ基、ベンジル、フェネチル等のア
ラルキル基、フェニル、ナフチル等のアリール基、ジメ
チルアミノ、ジエチルアミノ等のアルキルアミノ基を示
す。Embedded image In the formula, X represents a halogen atom such as a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom. R1, R2, R3, R
4, R5 is a halogen atom such as a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom, a nitro group, a cyano group, an optionally substituted methyl, ethyl, n-propyl, iso
-Represents an alkyl group such as propyl and butyl, an alkoxy group such as methoxy, ethoxy and propoxy, an aralkyl group such as benzyl and phenethyl, an aryl group such as phenyl and naphthyl, and an alkylamino group such as dimethylamino and diethylamino. Or different. m and n represent 1 or 2, and may be the same or different. Examples of the substituent in the above expression include a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom, an alkyl group such as a nitro group, a cyano group, methyl, ethyl, n-propyl, iso-propyl and butyl, methoxy, ethoxy and propoxy. And the like, an aralkyl group such as benzyl and phenethyl, an aryl group such as phenyl and naphthyl, and an alkylamino group such as dimethylamino and diethylamino.
【0087】以上の電荷発生材料を適当な溶剤を用い結
着樹脂(バインダー樹脂)、例えばポリビニルアセター
ル、ポリスチレン、ポリエステル、ポリ酢酸ビニル、メ
タクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルピロリドン及
びセルロース系樹脂、以上の樹脂にホール搬送性或はエ
レクトロン搬送性を持たせた樹脂等の樹脂中に分散させ
た溶液を塗布し、乾燥することによって形成することが
できる。The above-mentioned charge generating material is prepared by using a suitable solvent with a binder resin (binder resin), for example, polyvinyl acetal, polystyrene, polyester, polyvinyl acetate, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinylpyrrolidone and cellulose resin. It can be formed by applying a solution dispersed in a resin such as a resin having a hole transporting property or an electron transporting property and drying the applied solution.
【0088】この時の電荷発生層の膜厚は通常0.01
〜2.0μm が好ましく、特には0.1〜1.8μm が
好ましい。電荷発生材料(P)と結着樹脂(B)の重量
比P/Bは4/1〜1/10が好ましい。The thickness of the charge generation layer at this time is usually 0.01
To 2.0 .mu.m, particularly preferably 0.1 to 1.8 .mu.m. The weight ratio P / B of the charge generation material (P) to the binder resin (B) is preferably from 4/1 to 1/10.
【0089】一方、電荷輸送層は成膜性を有する樹脂の
溶液に電荷輸送材料を溶解した溶液を塗布し、乾燥する
ことによって形成される。電荷輸送材料は電子輸送材料
と正孔輸送材料に大別される。電子輸送材料としては、
2、4、7−トリニトロフルオレノン、2、4、5、7
−テトラニトロフルオレノン、クロラニル、テトラシア
ノキノジメタン及びアルキル置換ジフェノキノン等の電
子受容性物質やこれら電子受容性物質を高分子化したも
のが挙げられ、正孔輸送材料としてはピレン及びアント
ラセン等の多環芳香物化合物、カルバゾール、インドー
ル、オキサゾール、チアゾール、オキサジアゾール、ピ
ラゾール、ピラゾリン、チアジアゾール及びトリアゾー
ル等の複素環化合物、p−ジエチルアミノベンズアルデ
ヒド−N、N−ジフェニルヒドラゾン及びN、N−ジフ
ェニルヒドラジノ−3−メチリデン−9−エチルカルバ
ゾール等のヒドラゾン系化合物、α−フェニル−4’−
N、N−ジフェニルアミノスチルベン及び5−[4−
(ジ−p−トリルアミノ)ベンジリデン]−5H−ジベ
ンゾ[a、d]シクロヘプテン等のスチリル系化合物、
ベンジジン系化合物、トリアリールメタン系化合物、ト
リフェニルアミン、トリトリルアミン等のトリアリール
アミン系化合物或はこれらの化合物からなる基を主鎖ま
たは側鎖に有するポリマー(例えばポリ−N−ビニルカ
ルバゾール及びポリビニルアントラセン等)が挙げられ
る。On the other hand, the charge transport layer is formed by applying a solution in which a charge transport material is dissolved in a solution of a resin having film forming properties, and drying the solution. Charge transport materials are broadly classified into electron transport materials and hole transport materials. As electron transport materials,
2,4,7-trinitrofluorenone, 2,4,5,7
Electron-accepting substances such as tetranitrofluorenone, chloranil, tetracyanoquinodimethane, and alkyl-substituted diphenoquinone, and those obtained by polymerizing these electron-accepting substances; and hole transporting materials such as pyrene and anthracene. Ring aromatic compounds, carbazole, indole, oxazole, thiazole, oxadiazole, pyrazole, pyrazoline, heterocyclic compounds such as thiadiazole and triazole, p-diethylaminobenzaldehyde-N, N-diphenylhydrazone and N, N-diphenylhydrazino- Hydrazone-based compounds such as 3-methylidene-9-ethylcarbazole, α-phenyl-4′-
N, N-diphenylaminostilbene and 5- [4-
Styryl compounds such as (di-p-tolylamino) benzylidene] -5H-dibenzo [a, d] cycloheptene;
Benzidine compounds, triarylmethane compounds, triarylamine compounds such as triphenylamine and tolylamine, or polymers having a group consisting of these compounds in the main chain or side chain (for example, poly-N-vinylcarbazole and polyvinyl Anthracene).
【0090】成膜性を有する樹脂としては、ポリエステ
ル、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸エステル及び
ポリスチレン等が挙げられる。Examples of the resin having a film forming property include polyester, polycarbonate, polymethacrylate, and polystyrene.
【0091】この時の電荷輸送層の膜厚は1.0μm 以
下が好ましく、特に0.2μm 以下が好ましい。At this time, the thickness of the charge transport layer is preferably 1.0 μm or less, particularly preferably 0.2 μm or less.
【0092】また、光電変換層22の表面(液晶13に
接する側の面)の表面エネルギーは30dyn/cm2
以下であることが好ましい。The surface energy of the surface of the photoelectric conversion layer 22 (the surface in contact with the liquid crystal 13) is 30 dyn / cm 2.
The following is preferred.
【0093】ところで、本発明において、この光電変換
層22の電荷発生層23の電気容量(CCGL )と電荷輸
送層25の電気容量(CCTL )との比(CCTL )/(C
CGL)が1.0以上となるように構成すると、光キャリ
ヤのなだれ現象を利用したアバランシェ現象が発生する
特性、即ち図17に示すように低光量では光電流が流れ
ずに、ある光量以上で急激に光電流が流れる特性を備え
るようになる。このため、このような光電変換層22に
光を照射すると、アバランシェ現象により光電流が流れ
るようになり、これにより液晶の配向状態が変化し、解
像度の高い情報の書き込みが行われるようになる。In the present invention, the ratio (C CTL ) / (C C) of the electric capacity (C CGL ) of the charge generation layer 23 of the photoelectric conversion layer 22 to the electric capacity (C CTL ) of the charge transport layer 25 is used.
When CGL is 1.0 or more, the avalanche phenomenon using the avalanche phenomenon of the optical carrier occurs. That is, as shown in FIG. It has a characteristic that a photocurrent flows rapidly. Therefore, when such a photoelectric conversion layer 22 is irradiated with light, a photocurrent flows due to the avalanche phenomenon, whereby the alignment state of the liquid crystal is changed and writing of high-resolution information is performed.
【0094】ここで、液晶表示の光電変換層22の耐圧
を充分にとるためには、(CCTL )/(CCGL )が2.
5以上であることがより好ましい。更に好ましくは(C
CTL)/(CCGL )が5.0以上であることが好まし
い。なお、本発明において、電荷発生層の電気容量(C
CGL )と電荷輸送層の電気容量(CCTL )の比
(CCTL)/(CCGL )は、誘電率(ε)と各層の膜厚
(dCGL 、dCTL )より算出し、誘電率(ε)は、1K
Hz以上での値を使用した。Here, in order to sufficiently secure the withstand voltage of the photoelectric conversion layer 22 of the liquid crystal display, (C CTL ) / (C CGL ) is set to 2.
More preferably, it is 5 or more. More preferably (C
( CTL ) / (C CGL ) is preferably 5.0 or more. In the present invention, the electric capacity (C
CGL) and the ratio (C CTL) / (C CGL electric capacitance (C CTL) of the charge transport layer), dielectric constant (epsilon) and the thickness of each layer (d CGL, calculated from d CTL), dielectric constant ( ε) is 1K
Values above Hz were used.
【0095】一方、この(CCTL )/(CCGL )は、各
層の誘電率の値に大きく左右され、この誘電率は特に電
荷発生材料(P)及び結着樹脂(B)自体とこれらの重
量比P/Bと膜厚に大きく影響される。従って、これら
の最適な選択は本発明の重要な要素の1つである。ま
た、必要に応じて既述した電荷輸送材料を添加してもよ
い。On the other hand, (C CTL ) / (C CGL ) largely depends on the value of the dielectric constant of each layer, and this dielectric constant is particularly affected by the charge generation material (P) and the binder resin (B) themselves and It is greatly affected by the weight ratio P / B and the film thickness. Therefore, these optimal choices are one of the important factors of the present invention. Further, the charge transport material described above may be added as needed.
【0096】(液晶)次に、液晶13について説明す
る。(Liquid Crystal) Next, the liquid crystal 13 will be described.
【0097】本発明に用いられる液晶13としてはカイ
ラルスメクチック相を呈するカイラルスメクチック液
晶、特に強誘電性を有するカイラルスメクチック液晶が
好適である。特にコレステリック相を呈さない相転移系
列をもつ液晶が好適である、またカイラルスメクチック
液晶の層構造が、層傾きが実質的にブックシェルフの状
態に近い、クエイサイブックシェルフであっても良い。As the liquid crystal 13 used in the present invention, a chiral smectic liquid crystal exhibiting a chiral smectic phase, particularly a chiral smectic liquid crystal having ferroelectricity, is suitable. In particular, a liquid crystal having a phase transition series not exhibiting a cholesteric phase is preferable, and a chiral smectic liquid crystal layer structure may be a quasi-bookshelf having a layer inclination substantially close to a bookshelf state.
【0098】ブックシェルフ層構造もしくはクエイサイ
ブックシェルフ層構造を呈する液晶としては、例えば、
フルオロカーボン末端鎖と、炭化水素末端鎖からなるフ
ッ素含有液晶化合物であって、該末端鎖が中心核によっ
て結合され、スメクチック中間層、あるいは、潜在的ス
メクチック中間相をもつような化合物を含有する液晶を
用いることができる。Examples of the liquid crystal exhibiting a bookshelf layer structure or a quasi bookshelf layer structure include, for example,
A fluorine-containing liquid crystal compound comprising a fluorocarbon terminal chain and a hydrocarbon terminal chain, wherein the terminal chain is bonded by a central nucleus, and a liquid crystal containing a compound having a smectic intermediate layer or a latent smectic intermediate phase. Can be used.
【0099】また、強誘電性の高分子液晶や1994年
8月1日に出願した「LiquidCrystal D
evice」というタイトルの米国特許出願シリアルN
o.283141号明細書に開示された液晶を用いるこ
ともできる。Further, a ferroelectric polymer liquid crystal and “Liquid Crystal D” filed on Aug. 1, 1994
US Patent Application Serial N titled "device"
o. The liquid crystal disclosed in Japanese Patent No. 283141 can also be used.
【0100】(光照射装置)次に、光照射装置26につ
いて説明する。(Light Irradiation Apparatus) Next, the light irradiation apparatus 26 will be described.
【0101】本発明に用いられる光照射装置26として
は、カメラ、プロジェクター、フィルムスキャナー等の
結像装置、レーザー光スキャナー、CRT、LEDアレ
イ等の像形成装置が好適である。As the light irradiation device 26 used in the present invention, an image forming device such as a camera, a projector, and a film scanner, and an image forming device such as a laser light scanner, a CRT, and an LED array are preferable.
【0102】結像装置としては、被写体からの反射光を
SLMに結像する装置や、ネガフィルム等の像坦持体を
介した光をSLMに結像する装置である。The image forming apparatus is an apparatus that forms an image of reflected light from a subject on an SLM, or an apparatus that forms an image of light passing through an image carrier such as a negative film on the SLM.
【0103】通常のカメラに使用される光学的なシャッ
ターや電気的なシャッターを使用する場合には、光電変
換層22がフィルムの代わりとなる。When an optical shutter or an electric shutter used in a normal camera is used, the photoelectric conversion layer 22 replaces the film.
【0104】像形成装置としては、レーザー光等をスキ
ャンしてSLMの光電変換層に潜像を形成する装置であ
る。The image forming apparatus scans a laser beam or the like to form a latent image on the photoelectric conversion layer of the SLM.
【0105】また、レーザー光で像を形成する場合は、
アルゴンレーザー(514,488nm)や、ヘリウム
−ネオンレーザー(633nm)や、半導体レーザー
(780nm、810nm等)等のレーザーを光源とし
て使用し、画像信号、文字信号、コード信号、線画信号
に対応してレーザーをスキャンニングして、SLMの光
電変換層を露光する。When an image is formed by laser light,
A laser such as an argon laser (514, 488 nm), a helium-neon laser (633 nm), or a semiconductor laser (780 nm, 810 nm, etc.) is used as a light source, and supports image signals, character signals, code signals, and line drawing signals. The laser is scanned to expose the photoelectric conversion layer of the SLM.
【0106】なお、画像のようなアナログ的な記録は、
レーザーの光強度を変調して行い、文字、コード、線画
のようなデジタル的な記録は、レーザー光のON−OF
F制御により行う。網点にて画像を形成する場合には、
レーザー光をドットジェネレーターによりON−OFF
制御する。Incidentally, analog recording such as an image,
Digital recording such as characters, codes, and line drawings is performed by modulating the laser light intensity.
This is performed by F control. When forming an image with halftone dots,
Laser light ON / OFF by dot generator
Control.
【0107】(液晶素子の製造法)次に、本発明の液晶
素子の製造法について説明する。(Method of Manufacturing Liquid Crystal Element) Next, a method of manufacturing the liquid crystal element of the present invention will be described.
【0108】ガラスや石英又はプラスチックフィルム等
の基板2、3を2枚用意してその表面上に真空蒸着やス
パッタリングによって、ITO等の透明導電膜を形成す
る。この時の透明導電膜の厚さは、10nm〜1μmの
範囲内から適宜選択する。又一枚のマーザーボードに透
明導電膜を形成し、それを分割して2枚の透明電極付基
板としてもよい。いずれにしても、こうして図11の
(a)に示す基板2、3を用意する。[0108] Two substrates 2 and 3 made of glass, quartz or a plastic film are prepared, and a transparent conductive film such as ITO is formed on the surface thereof by vacuum evaporation or sputtering. At this time, the thickness of the transparent conductive film is appropriately selected from the range of 10 nm to 1 μm. Alternatively, a transparent conductive film may be formed on one mother board, and then divided into two substrates with a transparent electrode. In any case, the substrates 2 and 3 shown in FIG.
【0109】次に、図11の(b)に示すように基板2
の表面に光電変換層22として電荷発生層23及び電荷
輸送層25を形成する(光電変換層形成工程)。その形
成方法としては、成膜性を有する樹脂に電荷発生物質や
電荷輸送物質を含有させた溶液をスピンコート法、ロー
ルコーティング、ディッピング、キャスティング、スプ
レー、ビーム、ブレード、ワイヤーバーコーティングな
どの方法により、基板表面上に各層23、25を形成す
る。Next, as shown in FIG.
A charge generation layer 23 and a charge transport layer 25 are formed as a photoelectric conversion layer 22 on the surface of (a) (photoelectric conversion layer forming step). As a forming method, a solution containing a charge generating substance and a charge transporting substance in a resin having a film forming property is formed by a method such as spin coating, roll coating, dipping, casting, spraying, beam, blade, wire bar coating, and the like. Then, the layers 23 and 25 are formed on the substrate surface.
【0110】また、電荷輸送層を形成するに際しては、
上述のような溶液を用いず、1種類もしくは、数種類の
光導電物質を直接堆積させてもよい。その場合には、真
空蒸着、スパッタリング、化学気相成長(CVD)及び
イオンプレーティング等の方法を用いればよい。こうし
て形成された光電変換層22の表面22fには、ラビン
グ等の一軸性配向処理を施さない。In forming the charge transport layer,
Instead of using the solution as described above, one or several kinds of photoconductive substances may be directly deposited. In that case, methods such as vacuum deposition, sputtering, chemical vapor deposition (CVD), and ion plating may be used. No uniaxial orientation treatment such as rubbing is performed on the surface 22f of the photoelectric conversion layer 22 thus formed.
【0111】また、図11の(c)に示すように一方の
基板3には配向膜12を形成し、該配向膜12にラビン
グ処理を施し一軸性配向膜とする。As shown in FIG. 11C, an alignment film 12 is formed on one of the substrates 3 and the alignment film 12 is subjected to a rubbing process to form a uniaxial alignment film.
【0112】次に両基板2、3の少なくとも一方の端部
に液晶の注入口となる部分を除いてシール剤を配設し、
両者を貼り合わせてシール剤を硬化させる。この時、必
要に応じて画像表示領域となる部分に非接着性のスぺー
サーや接着性のスぺーサーの少なくとも1つを分散配置
することも好ましいものである。この場合は光電変換層
の表面上にそれらスぺーサーを分散配置してから両基板
を貼り合わせてセルを作成することが好ましい。Next, a sealant is provided on at least one end of both substrates 2 and 3 except for a portion serving as a liquid crystal injection port.
The two are bonded together to cure the sealant. At this time, it is also preferable to disperse and arrange at least one of a non-adhesive spacer and an adhesive spacer in a portion to be an image display area as needed. In this case, it is preferable to form the cell by disposing the spacers on the surface of the photoelectric conversion layer and then bonding the two substrates together.
【0113】次いで、SLMを減圧又は常圧下において
注入口から液晶を加熱して等方相の状態で注入し、基板
間に配置した後、カイラルスメクチック層を呈する状態
まで徐冷する。Next, the SLM is injected under a reduced pressure or normal pressure from the injection port by heating the liquid crystal in the state of an isotropic phase. After the SLM is arranged between the substrates, the SLM is gradually cooled to a state where a chiral smectic layer is exhibited.
【0114】また、液晶を注入した後はセルを冷却する
が、少なくとも等方相からSmA相への相移点近傍では
1℃/min以下の徐冷速度で冷却することが好まし
い。After the liquid crystal is injected, the cell is cooled, but it is preferable to cool the cell at a slow cooling rate of 1 ° C./min or less at least near the phase transition point from the isotropic phase to the SmA phase.
【0115】一軸性配向膜12の表面12f側からの液
晶分子のスメクチック相への転移の方が、光電変換層2
2の表面22f側からのスメクチック相への転移の方が
優先的に生じ、液晶は配向不良の少ない良好な、ブック
シェルフ層構造を示す。こうして、図11の(d)に示
す液晶素子が得られる。なお、(d)において、27は
スペーサーである。The transition of the liquid crystal molecules from the surface 12f side of the uniaxial alignment film 12 to the smectic phase is better in the photoelectric conversion layer 2
The transition from the surface 22f side of No. 2 to the smectic phase occurs preferentially, and the liquid crystal shows a good bookshelf layer structure with little alignment failure. Thus, the liquid crystal element shown in FIG. 11D is obtained. In addition, in (d), 27 is a spacer.
【0116】ところで、上述したシール剤は、光電変換
層22や配向膜12や透明電極の少なくともいずれか1
つを部分的に除去した上でガラス基板の表面又は電極の
表面等に直に塗布するようにしてもよい。この場合に
は、より強い密着力を得ることができる。The above-mentioned sealant is used for at least one of the photoelectric conversion layer 22, the alignment film 12, and the transparent electrode.
One of them may be partially removed and then applied directly to the surface of the glass substrate or the surface of the electrode. In this case, a stronger adhesion can be obtained.
【0117】以上が本発明の一実施形態による基本的な
SLMの構造であるが、この構造に付加的な機能又は手
段を設けることもできる。Although the basic structure of the SLM according to the embodiment of the present invention has been described above, additional functions or means may be provided in this structure.
【0118】図12は、別の実施の形態に係るSLMの
構成を説明するための断面図である。同図において、5
1はSLMであり、このSLM51においては、基板2
と透明電極5との間にカラーフィルタCFを配置してい
る。このカラーフィルタCFは、RGBの3色にパター
ニングされた着色層と、それを保護し、且つ平坦化する
為の透明層とを含む。ここで電荷発生層23としては、
アナログ光に感度のあるアゾ顔料を用いて形成するとよ
い。FIG. 12 is a cross-sectional view for illustrating a configuration of an SLM according to another embodiment. In FIG.
Reference numeral 1 denotes an SLM. In this SLM 51, a substrate 2
A color filter CF is disposed between the transparent electrode 5 and the transparent electrode 5. The color filter CF includes a colored layer patterned into three colors of RGB and a transparent layer for protecting and flattening the colored layer. Here, as the charge generation layer 23,
It is preferable to use an azo pigment sensitive to analog light.
【0119】ここで、書き込みを行う場合は、書き込み
光としてアナログ光を用い、Rの光、Gの光、Bの光と
順次に書き込みを行う。なお、その他の構成は前出の実
施の形態と同様である。そして、このようにカラーフィ
ルタCFを備えることにより、カラー画像を得ることが
できる。When writing is performed, analog light is used as writing light, and writing is performed sequentially with R light, G light, and B light. Other configurations are the same as those of the above-described embodiment. By providing the color filter CF in this manner, a color image can be obtained.
【0120】なお、上記実施の形態においては、1つの
SLM51にストライプ状又はモザイク状に配された3
色のカラーフィルタを形成してカラー表示を可能とした
が、3つのSLMを用い、それらをR色のカラーフィル
タを形成したSLM、G色のカラーフィルタを形成した
SLM、並びにB色のカラーフィルタを形成したSLM
で構成し、これら3つのSLMによってカラー表示を行
うようにしてもよい。In the above embodiment, the three SLMs 51 are arranged in a stripe or mosaic.
A color display was made possible by forming color filters, but three SLMs were used, and an SLM formed with an R color filter, an SLM formed with a G color filter, and a B color filter were used. SLM formed
, And color display may be performed by these three SLMs.
【0121】ついで、図13を参照して、本発明の更に
別の実施の形態によるSLMについて説明する。Next, an SLM according to still another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
【0122】本実施例に係るSLM41は、透明基板と
してのPETフィルム42,43を備えている。なお、
これらのPETフィルム42,43の厚さは100μm
程度である。The SLM 41 according to this embodiment has PET films 42 and 43 as transparent substrates. In addition,
The thickness of these PET films 42 and 43 is 100 μm
It is about.
【0123】また、液晶13としては、フィルム状の高
分子型の強誘電性液晶を用いる。この液晶13は、強誘
電性低分子液晶と熱可塑性非晶質ポリマーとの混合物に
よって形成されている。ここで、低分子液晶としては、
ブックシェルフ構造を持つものを使用する。また、熱可
塑性非晶質ポリマーには、ポリスチレン、ポリカーボネ
ート等の光学的異方性を有していないものを用いる。As the liquid crystal 13, a film-type polymer type ferroelectric liquid crystal is used. The liquid crystal 13 is formed of a mixture of a ferroelectric low-molecular liquid crystal and a thermoplastic amorphous polymer. Here, as a low-molecular liquid crystal,
Use one with a bookshelf structure. Further, as the thermoplastic amorphous polymer, a polymer having no optical anisotropy such as polystyrene and polycarbonate is used.
【0124】まず、PETフィルム42,43の表面に
ITOを室温にて蒸着させ、パターニングを行って透明
電極5,6を形成する。なお、ITOは、ゾルゲル法に
よって塗布するようにしてもよい。First, transparent electrodes 5 and 6 are formed by depositing ITO on the surfaces of PET films 42 and 43 at room temperature and performing patterning. The ITO may be applied by a sol-gel method.
【0125】一方のPETフィルム43にポリイミドを
100Åの厚さに印刷し、これを150℃の温度で焼成
して、配向膜12を形成する。なお、配向膜12の表面
には、ナイロン製の布によってラビング処理を施す。A polyimide film is printed on one of the PET films 43 to a thickness of 100 °, and is fired at a temperature of 150 ° C. to form the alignment film 12. The surface of the alignment film 12 is subjected to a rubbing treatment with a nylon cloth.
【0126】また、他方のPETフィルム42には光電
変換層としての光導電層22を形成する。なお、この光
導電層22の表面エネルギー、具体的には光導電層22
が積層型の場合には電荷輸送層25の表面エネルギーを
30dyn/cm2 以下にする。また、液晶自身がメモ
リ性をもつことから、光導電層22の表面、具体的には
光導電層22が積層型の場合には電荷輸送層25の表面
は必ずしも固い必要はなく、4B以上の硬度(鉛筆硬
度)であれば良い。The photoconductive layer 22 as a photoelectric conversion layer is formed on the other PET film 42. The surface energy of the photoconductive layer 22, specifically, the photoconductive layer 22
Is a stacked type, the surface energy of the charge transport layer 25 is set to 30 dyn / cm 2 or less. In addition, since the liquid crystal itself has a memory property, the surface of the photoconductive layer 22, specifically, when the photoconductive layer 22 is a stacked type, the surface of the charge transporting layer 25 does not necessarily have to be hard, and the Any hardness (pencil hardness) is acceptable.
【0127】その後、光導電層22の表面上に粒径が2
μmのスペーサを散布し、他方のフィルムに、高分子型
の強誘電性液晶を塗布する。そして、これらのフィルム
を、100℃に加熱した上で圧着し、はみ出した液晶を
拭き取る。さらに、室温まで徐冷し、エポキシの接着剤
を用いて封止する。Thereafter, a particle size of 2 is formed on the surface of the photoconductive layer 22.
A μm spacer is scattered, and a polymer type ferroelectric liquid crystal is applied to the other film. Then, these films are heated to 100 ° C. and then pressed, and the protruding liquid crystal is wiped off. Furthermore, it is gradually cooled to room temperature and sealed with an epoxy adhesive.
【0128】なお、上述したスペーサは、非接着性及び
/又は接着性のスぺーサーであり、強誘電性液晶を均一
厚さに塗布した小さな画面のSLMの場合には不要とな
ることもある。また、光導電層22は混合型であっても
良い。The above-mentioned spacer is a non-adhesive and / or adhesive spacer, and may not be necessary in the case of a small-screen SLM in which ferroelectric liquid crystal is applied to a uniform thickness. . Further, the photoconductive layer 22 may be of a mixed type.
【0129】次に、本実施の形態の実施例について説明
する。 〈実施例1〉強誘電性液晶として、下記処方の液晶組成
物を用意した。Next, an example of the present embodiment will be described. Example 1 A liquid crystal composition having the following formulation was prepared as a ferroelectric liquid crystal.
【0130】この組成物は25℃での自発分極は26n
C/cm2 、20℃でのスメクチック層の傾き角δ=0
°であり、見かけのチルト角は27°である。This composition has a spontaneous polarization at 25 ° C. of 26 n
C / cm 2 , inclination angle δ = 0 of the smectic layer at 20 ° C.
° and the apparent tilt angle is 27 °.
【0131】[0131]
【化3】 まず、2枚のガラス基板の表面にITO膜をそれぞれス
パッタリングにて70nm厚で成膜し、シール部分とな
る端部をパターニングで除去して透明電極を形成した。Embedded image First, an ITO film was formed to a thickness of 70 nm on each of the surfaces of two glass substrates by sputtering, and an end portion serving as a seal portion was removed by patterning to form a transparent electrode.
【0132】分散液として、下記の構造式の化合物4
部、ベンザール樹脂(重量平均分子量24000)2
部、及びシクロヘキサノン34部と、直径1mmのガラ
スビーズとを、サンドミル装置で20hr温浴分散さ
せ、その後、ブタノール60部を加えたものを用意し
た。As a dispersion, a compound 4 of the following structural formula
Part, benzal resin (weight average molecular weight 24000) 2
And 34 parts of cyclohexanone and glass beads having a diameter of 1 mm were dispersed in a hot-water bath for 20 hours using a sand mill, and then 60 parts of butanol was added.
【0133】[0133]
【化4】 次に、基板の表面に上記分散液をスピンコートし、80
℃で15分間乾燥させて厚さ0.2μmの電荷発生層を
形成した。Embedded image Next, the dispersion liquid is spin-coated on the surface of the substrate,
Drying was performed at 15 ° C. for 15 minutes to form a 0.2 μm thick charge generation layer.
【0134】次に、下記の構造式のヒドラゾン化合物1
0部、及びビスフェノールZ型ポリカーボネート(重量
平均分子量39000)10部をジクロロメタン40部
及びモノクロルベンゼン20部からなる混合溶媒中に溶
解して、溶液を作成し、この溶液を電荷発生層の表面に
スピンコート法でコーティングし、120℃で60分乾
燥させて膜厚0.85μmの電荷輸送層を形成した。Next, a hydrazone compound 1 of the following structural formula
0 parts and 10 parts of bisphenol Z-type polycarbonate (weight average molecular weight 39000) are dissolved in a mixed solvent composed of 40 parts of dichloromethane and 20 parts of monochlorobenzene to prepare a solution, and this solution is spun on the surface of the charge generation layer. Coating was performed by a coating method, and the coating was dried at 120 ° C. for 60 minutes to form a charge transport layer having a thickness of 0.85 μm.
【0135】[0135]
【化5】 一方の基板にはポリイミド配向膜を200Åの厚さに印
刷法で形成し、オーブンによって220℃の温度で1h
r焼成した。その後、ナイロン製の布を用い、一軸性配
向規制力をもつに充分な強度でナイロン布に加重をかけ
て配向膜の表面にラビング処理を施した。Embedded image On one of the substrates, a polyimide alignment film was formed to a thickness of 200 ° by a printing method, and was heated in an oven at a temperature of 220 ° C. for 1 hour.
b. Thereafter, a rubbing treatment was performed on the surface of the alignment film by applying a load to the nylon cloth using a nylon cloth with sufficient strength to have a uniaxial alignment regulating force.
【0136】次に、粒径が2.0μmのスペーサービー
ズを分散させたIPA溶液を、配向膜側基板の表面にス
ピンナーにて塗布し、オーブンによって110℃の温度
に5分間のオーブン乾燥を行った。Next, an IPA solution in which spacer beads having a particle size of 2.0 μm are dispersed is applied to the surface of the substrate on the alignment film side by a spinner, and oven-dried in an oven at a temperature of 110 ° C. for 5 minutes. Was.
【0137】さらに、配向膜側基板の周縁にエポキシ系
シール材を塗布(印刷)し、レベリング乾燥の後、基板
と基板とを貼り合わせた。Further, an epoxy-based sealing material was applied (printed) to the periphery of the substrate on the orientation film side, and after leveling and drying, the substrates were bonded together.
【0138】その後、基板を貼り合わせたものをオーブ
ンにて140℃の温度に1.5hr加熱し、液晶を注入
した。注入の際は、温度を95℃に加熱し、注入を行っ
た。冷却速度を1℃/minで行った。After that, the substrate bonded was heated in an oven at a temperature of 140 ° C. for 1.5 hours to inject a liquid crystal. At the time of the injection, the temperature was heated to 95 ° C., and the injection was performed. The cooling rate was 1 ° C./min.
【0139】液晶注入後、110℃に加熱し、0.1℃
/minの降温速度で90℃まで徐冷し、更に室温まで
放冷した。After injecting the liquid crystal, heat to 110 ° C.
The mixture was gradually cooled to 90 ° C. at a cooling rate of / min, and then allowed to cool to room temperature.
【0140】次に、図14のようにして評価を行った。Next, evaluation was performed as shown in FIG.
【0141】書き込み光照射装置として、半導体レーザ
ー60と光ファイバー61とを用い、図14の(a)の
ようにして、マスク62を介して波長780nmの赤外
線レーザー光LW をSLM21に照射し、画像情報の書
き込みを行った。なお、マスク62は図14の(b)に
示すものとし、レーザー光のエネルギー密度は0.03
μm/cm2 とした。[0141] As the writing light irradiation device, using the semiconductor laser 60 and optical fiber 61, as in FIG. 14 (a), irradiated with infrared laser light L W of wavelength 780nm to SLM21 through the mask 62, the image Information was written. The mask 62 is shown in FIG. 14B, and the energy density of the laser beam is 0.03.
μm / cm 2 .
【0142】その後、図14の(c)に示すように、ク
ロスニコルに配置した偏光板30,31の間にSLM2
1を配置し、白色の読み出し光LR をSLM21に照射
したところ、同図(d)に示す画像が表示された。Thereafter, as shown in FIG. 14C, the SLM 2 is disposed between the polarizing plates 30 and 31 arranged in crossed Nicols.
1 Place was irradiated with white reading light L R in SLM21, the image shown in FIG. (D) is displayed.
【0143】なお、エネルギー密度の状態を変えると、
表示画像のコントラストも変化した。また、偏光板3
0,31の向きを変えると、ポジ−ネガ反転した像が表
示された。 〈実施例2〉本発明に用いられる光電変換層としては、
SLMの表示画像のコントラストを向上させる為に次に
述べるような特性を示すように設計することが望ましい
ものである。When the state of the energy density is changed,
The contrast of the displayed image also changed. In addition, the polarizing plate 3
When the direction of 0, 31 was changed, a positive-negative inverted image was displayed. <Example 2> As the photoelectric conversion layer used in the present invention,
It is desirable to design the SLM so as to exhibit the following characteristics in order to improve the contrast of the displayed image.
【0144】光電変換層に局所的に光を照射すると、光
照射部分と未照射部分との間に電位差が生じる。これを
光メモリ性と呼ぶ。When light is locally irradiated on the photoelectric conversion layer, a potential difference occurs between the light-irradiated portion and the non-irradiated portion. This is called an optical memory property.
【0145】そして、このように電位差(光メモリ性)
が生じている光導電層を備えたSLMに外部から電圧を
印加すると、この電位差(光メモリ性)に応じて表示画
像のコントラストが決定される。The potential difference (optical memory property) is thus obtained.
When a voltage is externally applied to the SLM provided with the photoconductive layer in which the image is generated, the contrast of the displayed image is determined according to the potential difference (optical memory property).
【0146】そこで、本発明者は、照射光強度と光照射
時間との積及び電位差から良好なコントラストを生じさ
せるための光メモリ性を表す条件式を次に示す測定法に
より求めた。Therefore, the present inventor obtained a conditional expression representing an optical memory property for producing a good contrast from the product of the irradiation light intensity and the light irradiation time and a potential difference by the following measuring method.
【0147】まず、図15(a)に示すように、透明電
極105上に本発明の光導電層122を設けたサンプル
SPに、(b)に示すような中央部に帯状の開口部12
7aを有する遮光マスク127上から照射光強度がA
[lux ]の光をT[sec ]間照射する。次に、照射光強
度Aと光照射時間Tとの積が1×104 [lux ・sec ]
以上になった後、サンプルSPを市販の静電複写紙試験
装置(川口電機製、エレクトロスタティック・ペ−パー
・アナライザ/EPA−8100型)にセットし、コロ
ナ帯電を与えた。First, as shown in FIG. 15A, a sample SP in which the photoconductive layer 122 of the present invention is provided on the transparent electrode 105 is provided with a band-shaped opening 12 in the center as shown in FIG.
Irradiation light intensity is A from the light shielding mask 127 having 7a.
[Lux] light is irradiated for T [sec]. Next, the product of the irradiation light intensity A and the light irradiation time T is 1 × 10 4 [lux · sec].
After the above, the sample SP was set in a commercially available electrostatic copying paper test apparatus (manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd., Electrostatic Paper Analyzer / EPA-8100), and corona charging was applied.
【0148】ここで、光導電層122のマスク127の
開口部127aに対応する光照射部分が光メモリー性を
有しているため、図15(c)に示すように、光照射部
分の表面電位は未照射部分に比べVM [V]減少し、こ
のVM [V]の値によりコントラストが生じる。Since the light-irradiated portion corresponding to the opening 127a of the mask 127 of the photoconductive layer 122 has optical memory properties, as shown in FIG. the V M [V] decreased compared with unirradiated portion, contrast is caused by the value of the V M [V].
【0149】そこで、電位降下分VM とVD の比をと
り、このような良好なコントラストを生じさせるため下
記に示すような条件式を算出した。[0149] Therefore, taking the ratio of the potential drop V M and V D, was calculated such good contrast as shown below to produce the condition.
【0150】[0150]
【数3】 A×T≧1×104 [lux.sec ]の時 0.1≦|VM /VD |≦1.0 A[lux ]:照射光強度 T[sec ]:光照射時間 VD [V]:光未照射部分の光導電層に分担される電位 VM [V]:光未照射部分の光導電層に分担される電位
と光照射部分の光導電層に分担される電位との差分 従って、高コントラストのSLMを作製する場合には上
述した条件を満足するように各層の材料及び層厚を定め
ることが好ましい。Equation 3] A × T ≧ 1 × 10 4 [lux.sec] 0.1 ≦ when | V M / V D | ≦ 1.0 A [lux]: irradiation light intensity T [sec]: irradiation time V D [V]: potential is shared in the photoconductive layer of the light unirradiated portion V M [V]: is shared on the photoconductive layer of the potential and the light irradiation portion to be shared on the photoconductive layer of the light non-irradiated portion Therefore, when fabricating a high-contrast SLM, it is preferable to determine the material and layer thickness of each layer so as to satisfy the above-described conditions.
【0151】その為の具体例について述べる。A specific example for that will be described.
【0152】まず、多数枚のガラス基板の表面に膜厚が
700ÅのITO膜をゾルゲル法によって塗布・硬化さ
せ、パターニングを行って透明電極を形成した。First, an ITO film having a thickness of 700 ° was applied and hardened on the surface of many glass substrates by a sol-gel method, and was patterned to form a transparent electrode.
【0153】なお、分散液として、下記構造式の化合物
4.2部、ポリメチルメタアクリレート(重量平均分子
量11000)2部、及びシクロヘキサノン35部と直
径1mmのガラスビーズとをサンドミル装置で12時間分
散させ、その後、MEK60部を加えたものを用意し
た。As a dispersion, 4.2 parts of a compound having the following structural formula, 2 parts of polymethyl methacrylate (weight average molecular weight: 11,000), and 35 parts of cyclohexanone and glass beads having a diameter of 1 mm were dispersed in a sand mill for 12 hours. After that, what added MEK60 part was prepared.
【0154】[0154]
【化6】 次に、4つの基板の表面に分散液をスピンコートし、9
0℃で15分間乾燥させて膜厚が0.10μmの電荷発
生層を形成した。Embedded image Next, the dispersion liquid was spin-coated on the surfaces of the four substrates, and 9
After drying at 0 ° C. for 15 minutes, a charge generation layer having a thickness of 0.10 μm was formed.
【0155】次に、下記構造式の化合物(1)〜(4)
を用意し、それらのうち1つを10部、及びビスフェノ
ールZ型ポリカーボネート(重量平均分子量3500
0)10部をジクロロメタン40部及びモノクロルベン
ゼン20部からなる混合溶媒中に溶解して溶液を4種類
作成し、この溶液を4つの基板上の電荷発生層の表面に
スピンコート法でコーティングし、120℃で60分乾
燥させて膜厚0.9μmの電荷輸送層25を形成した。Next, the compounds of the following structural formulas (1) to (4)
Prepared, 10 parts of one of them, and bisphenol Z-type polycarbonate (weight average molecular weight 3500
0) 10 parts were dissolved in a mixed solvent consisting of 40 parts of dichloromethane and 20 parts of monochlorobenzene to prepare four types of solutions, and the solutions were coated on the surfaces of the charge generation layers on the four substrates by spin coating. After drying at 120 ° C. for 60 minutes, a charge transport layer 25 having a thickness of 0.9 μm was formed.
【0156】[0156]
【化7】 そして、異なる構造式の化合物(1)〜(4)により形
成された4種の電荷輸送層を備えた光導電層を有するそ
れぞれの基板のサンプルについて、図15の手法により
VM とVD の比を求めた。この場合のAT積は5×10
4 [lux ・sec]であった。結果を表1に示す。Embedded image Then, the samples of each of the substrates having the different structures of the compounds (1) to the photoconductive layer having a four charge transport layer formed by (4), by the method of FIG. 15 V M and V D The ratio was determined. The AT product in this case is 5 × 10
4 [lux · sec]. Table 1 shows the results.
【0157】[0157]
【表1】 この表から、VM /VD の値が既述した条件式を満たし
ているものは、化合物(1)〜(3)を電荷輸送性物質
とする基板サンプル1〜3であり、基板サンプル4は条
件式を満たしていなかった。[Table 1] From this table, that the value of V M / V D satisfies the conditional expressions described above, the compound (1) to (3) substrate samples 1 to 3 charge transport material, the substrate sample 4 Did not satisfy the conditional expression.
【0158】次に、ITOのみが形成された4つの基板
にはポリイミド配向膜を200Åの厚さに印刷し、オー
ブンによって220℃の温度で1hr焼成した。その
後、ナイロン製の布を用い、配向膜の表面にラビング処
理を施した。この後、粒径が2.0μmのスペーサービ
ーズを分散させたIPA溶液を、配向膜側基板3の表面
にスピンナーにて塗布し、オーブンによって110℃の
温度で5分間のオーブン乾燥を行った。Next, a polyimide alignment film was printed to a thickness of 200 ° on the four substrates on which only ITO was formed, and baked in an oven at a temperature of 220 ° C. for 1 hour. Thereafter, a rubbing treatment was performed on the surface of the alignment film using a nylon cloth. Thereafter, an IPA solution in which spacer beads having a particle size of 2.0 μm were dispersed was applied to the surface of the alignment film side substrate 3 by a spinner, and oven-dried at 110 ° C. for 5 minutes using an oven.
【0159】さらに、配向膜付の基板の周縁にエポキシ
系シール材を塗布(印刷)し、レベリング乾燥の後、4
つの配向膜付基板と4種の光導電層付基板とを貼り合わ
せた。強誘電性液晶としては、実施例1で用いたものと
同じ液晶組成物を用意した。Further, an epoxy-based sealing material is applied (printed) to the periphery of the substrate having the alignment film, and after leveling and drying,
One substrate with an alignment film and four types of substrates with a photoconductive layer were bonded together. As the ferroelectric liquid crystal, the same liquid crystal composition as used in Example 1 was prepared.
【0160】その後、基板を貼り合わせた4種のセルを
オーブンにて140℃の温度に1.5hr加熱し、液晶
13を注入した。なお、注入の際は、温度を95℃に加
熱し、注入を行った。冷却速度を1℃/minで行っ
た。After that, the four kinds of cells to which the substrates were bonded were heated in an oven at a temperature of 140 ° C. for 1.5 hours, and the liquid crystal 13 was injected. At the time of the injection, the temperature was heated to 95 ° C., and the injection was performed. The cooling rate was 1 ° C./min.
【0161】液晶注入後、110℃まで加熱し、この
後、0.1℃/minの降温速度で90℃まで徐冷し、
更に室温まで放冷し、SLMを作製した。なお、化合物
(1)〜(3)を電荷輸送性物質とする光導電層をそれ
ぞれ有するSLMをSLMサンプルS1〜S3とし、化
合物(4)を電荷輸送性物質とする光導電層22を有す
るSLMを比較SLMサンプルCS1とした。After the liquid crystal was injected, the mixture was heated to 110 ° C., and then gradually cooled to 90 ° C. at a rate of 0.1 ° C./min.
Furthermore, it was allowed to cool to room temperature to produce an SLM. SLMs each having a photoconductive layer using compounds (1) to (3) as a charge transporting substance are referred to as SLM samples S1 to S3, and an SLM including a photoconductive layer 22 using compound (4) as a charge transporting substance. Was set as a comparative SLM sample CS1.
【0162】次に、本発明者は、各サンプルS1〜S3
及び比較サンプルCS1に係るSLMに対し、図14
(a)に示すように半導体レーザー60と光ファイバー
61とを用い、マスク62を介してレーザー光(波長7
80nmの赤外線)を出射し、光入力を行った。なお、
マスク62は同図(b)に示すものとし、レーザー光の
エネルギー密度は0.5μJ/cm2 とした。光入力
後、直流電圧40[V]を印加して情報の書き込みを行
った。Next, the present inventor determined that each of the samples S1 to S3
14 with respect to the SLM according to the comparative sample CS1.
As shown in (a), a semiconductor laser 60 and an optical fiber 61 are used, and a laser beam (wavelength 7
80 nm of infrared light) and emitted light. In addition,
The mask 62 was as shown in FIG. 3B, and the energy density of the laser beam was 0.5 μJ / cm 2 . After the light input, information was written by applying a DC voltage of 40 [V].
【0163】その後、同図(c)に示すように、クロス
ニコルにした偏光板30,31の間にSLM21を配置
し、読み出し光LR を照射した。Thereafter, as shown in FIG. 19C, the SLM 21 was disposed between the crossed Nicols of the polarizing plates 30 and 31, and the reading light LR was irradiated.
【0164】この結果、サンプルS1〜S3のSLMを
備えた液表示素子では、同図(d)に示すような画像情
報が表示された。さらに、これらの液表示素子では、偏
光板30,31の向きによりポジネガの反転が見られ
た。一方、比較サンプルCS1のSLMはコントラスト
が低かった。 〈実施例3〉まず、8枚のガラス基板の表面にITO膜
をそれぞれスパッタ成膜し、パターニングを行って透明
電極を形成した。As a result, in the liquid display device provided with the SLMs of the samples S1 to S3, image information as shown in FIG. Further, in these liquid display elements, reversal of the positive negative was observed depending on the orientation of the polarizing plates 30 and 31. On the other hand, the contrast of the SLM of the comparative sample CS1 was low. <Example 3> First, an ITO film was formed by sputtering on the surface of each of eight glass substrates, followed by patterning to form a transparent electrode.
【0165】分散液としては、下記の構造式の化合物4
部、ベンザール樹脂(重量平均分子量24000)2
部、及びシクロヘキサノン34部と、直径1mmのガラ
スビーズとを、サンドミル装置で20時間分散させ、そ
の後、ブタノール60部を加えたものを用意した。As the dispersion, Compound 4 having the following structural formula was used.
Part, benzal resin (weight average molecular weight 24000) 2
And 34 parts of cyclohexanone and glass beads having a diameter of 1 mm were dispersed in a sand mill for 20 hours, and then 60 parts of butanol was added.
【0166】[0166]
【化8】 次に、基板の表面に分散液をスピンコートし、80℃で
15分間乾燥させて電荷発生層を形成した。Embedded image Next, the dispersion was spin-coated on the surface of the substrate and dried at 80 ° C. for 15 minutes to form a charge generation layer.
【0167】次に、前記の構造式の化合物(1)〜
(4)をそれぞれ10部、及びビスフェノールZ型ポリ
カーボネート(重量平均分子量39000)10部をジ
クロロメタン40部及びモノクロルベンゼン20部から
なる混合溶媒中に溶解して4種の溶液を作成し、この4
種の溶液を電荷発生層の表面にスピンコート法でコーテ
ィングし、120℃で60分乾燥させて膜厚0.8μm
の電荷輸送層を形成した基板サンプルを4つ形成した。Next, the compounds of the above structural formulas (1) to
10 parts of (4) and 10 parts of bisphenol Z-type polycarbonate (weight average molecular weight 39000) were dissolved in a mixed solvent composed of 40 parts of dichloromethane and 20 parts of monochlorobenzene to prepare four kinds of solutions.
The seed solution was coated on the surface of the charge generation layer by spin coating, and dried at 120 ° C. for 60 minutes to form a film having a thickness of 0.8 μm.
Four substrate samples on which the charge transport layer was formed were formed.
【0168】そして、上記と同様の方法で作製した、4
つのサンプルについて、図15の手法によりVM とVD
の比を求めた。この場合のAT積は2.5×105 [lu
x ・sec ]であった。結果を表2に示す。Then, the 4 prepared in the same manner as described above,
For one sample, V M and V D by the method of FIG.
Was determined. The AT product in this case is 2.5 × 10 5 [lu
x · sec]. Table 2 shows the results.
【0169】[0169]
【表2】 この表から、VM /VD の値が既述した条件式を満たし
ているものは、化合物(1)〜(3)を電荷輸送物質と
する基板サンプル5〜7であり、基板サンプル8は条件
式を満たしていないことが判る。[Table 2] From this table, that the value of V M / V D satisfies the conditional expressions described above, the compound (1) to (3) substrate samples 5 to 7 and a charge transport material, the substrate samples 8 It turns out that the conditional expression is not satisfied.
【0170】次に、ITO付の4つの基板にポリイミド
配向膜を形成すると共に、この4つの配向膜付基板と基
板サンプル5〜8とを貼り合わせ、その後、基板を貼り
合わせたセルをオーブンにて140℃の温度に1.5h
r加熱し、液晶13を注入した。Next, a polyimide alignment film was formed on the four substrates with ITO, and the four substrates with alignment films were bonded to substrate samples 5 to 8, and then the cells with the substrates bonded were placed in an oven. 1.5 hours at a temperature of 140 ° C
r, and the liquid crystal 13 was injected.
【0171】そして、この液晶注入後、110℃に加熱
し、この後0.1℃/minの降温速度で90℃まで徐
冷し、更に室温まで放冷し、SLMサンプルを4つ作製
した。なお、化合物(1)〜(3)を電荷輸送物質とす
る光導電層をそれぞれ有するSLMをSLMサンプルS
4〜S6とし、化合物(4)を電荷輸送物質とする光導
電層を有するSLMを比較サンプルCS2とした。After injecting the liquid crystal, the mixture was heated to 110 ° C., then gradually cooled to 90 ° C. at a rate of 0.1 ° C./min, and allowed to cool to room temperature, thereby producing four SLM samples. An SLM having a photoconductive layer using compounds (1) to (3) as a charge transporting material was prepared as SLM sample S.
4 to S6, and an SLM having a photoconductive layer using the compound (4) as a charge transport material was used as a comparative sample CS2.
【0172】次に、本発明者は、サンプルS4〜S6及
び比較サンプルCS2に対し、図14の(a)に示すレ
ーザー60に代えてカメラのストロボを用い、マスク6
2に代えてネガフィルムを介してストロボフラッシュを
出射し、光入力を行った。そして、この光入力後、直流
電圧50[V]を印加して情報の書き込みを行った。そ
の後、同図(c)に示すように、クロスニコルにした偏
光板30,31の間に各SLMサンプルを配置し、読み
出し光LR を照射した。Next, the present inventor used a camera strobe instead of the laser 60 shown in FIG.
The strobe flash was emitted through a negative film in place of 2, and light was input. Then, after this light input, a DC voltage of 50 [V] was applied to write information. Thereafter, as shown in FIG. 3C, each SLM sample was placed between the crossed Nicols polarizing plates 30 and 31, and the readout light LR was irradiated.
【0173】この結果、サンプルS4〜S6のSLMを
備えた液表示素子は、偏光板30,31の向きにより、
ポジネガの反転が見られ、フィルムの濃淡によるコント
ラストも鮮明に再現された。しかしながら、比較サンプ
ルCS2のSLMはコントラストが低かった。 〈実施例4〉液晶として実施例1と同じ液晶組成物を用
意した。又、実施例1と同様にしてITO膜付の基板を
20枚用意した。そのうち10枚には実施例1と同じ一
軸性配向膜を設けた。As a result, the liquid display device provided with the SLMs of the samples S4 to S6 depends on the orientation of the polarizing plates 30 and 31.
Inversion of the positive / negative was observed, and the contrast due to the density of the film was clearly reproduced. However, the contrast of the SLM of the comparative sample CS2 was low. Example 4 The same liquid crystal composition as in Example 1 was prepared as a liquid crystal. Further, in the same manner as in Example 1, 20 substrates with an ITO film were prepared. Ten of them were provided with the same uniaxial alignment film as in Example 1.
【0174】残りの10枚のうち、5枚には実施例1と
同じ電荷発生層を形成した。そして、図16の(a)に
示すように電荷輸送物質としてビフェニレンを用い、そ
れを5種の樹脂に分散させて5種の電荷輸送層をもつ光
電変換層を形成し、その表面エネルギーを測定した。Of the remaining ten sheets, five had the same charge generation layer as in Example 1. Then, as shown in FIG. 16 (a), biphenylene is used as a charge transporting material, and it is dispersed in five types of resins to form a photoelectric conversion layer having five types of charge transporting layers, and the surface energy is measured. did.
【0175】実施例1と同様にこれら5枚の基板と、配
向膜付の5枚の基板を貼り合わせ液晶を注入してSLM
のサンプル(No.11〜No.15)を作製した。In the same manner as in Example 1, the five substrates and the five substrates with an alignment film were attached to each other, and liquid crystal was injected.
(No. 11 to No. 15) were produced.
【0176】一方、5枚のITO膜付基板上に、図16
の(b)に示す5種の樹脂中に、電荷発生物質としての
チタニルと電荷輸送物質としてのアントラセンを分散さ
せてそれぞれ単一層からなる5種の光電変換層を形成
し、その表面エネルギーを測定した。On the other hand, on five substrates with ITO films, FIG.
In the five kinds of resins shown in (b), titanyl as a charge generating substance and anthracene as a charge transporting substance are dispersed to form five types of photoelectric conversion layers each having a single layer, and the surface energy is measured. did.
【0177】この5種のサンプル基板と、配向膜付基板
とを貼り合わせ液晶を注入して5種のSLMサンプル
(No.16〜No.20)を作製した。The five types of sample substrates and the substrate with an alignment film were attached to each other, and liquid crystal was injected to produce five types of SLM samples (Nos. 16 to 20).
【0178】こうして作製された10枚のSLMサンプ
ル(No.11〜No.20)の配向性を観察したとこ
ろ、SLMサンプル(No.11,12,13,16,
17,18)は良好な配向性を示していた。Observation of the orientation of the ten SLM samples (No. 11 to No. 20) thus produced revealed that the SLM samples (Nos. 11, 12, 13, 16, 16
17, 18) showed good orientation.
【0179】又、SLMサンプル(No.19,20)
は若干欠陥が見られたが、この程度の欠陥は実用上問題
ないと考えられる。In addition, SLM samples (Nos. 19 and 20)
Although some defects were observed, it is considered that such defects are not practically problematic.
【0180】SLMサンプル(No.14,15)は配
向不良が生じた為、再度加熱した後徐冷して再配向させ
る等、付加的な手段を用いないと欠陥が少なくならなか
った。Since the SLM samples (Nos. 14 and 15) suffered from poor orientation, defects were not reduced without additional means such as reheating and then gradually cooling to reorient.
【0181】ここで、上述した表面エネルギーの測定に
用いた方法について述べる。この方法は、液晶素子の各
基板におけるマクロな表面状態による表面エネルギーの
測定法である。Here, the method used for measuring the above-mentioned surface energy will be described. This method is a method of measuring surface energy based on a macroscopic surface state of each substrate of a liquid crystal element.
【0182】液滴による接触角の試薬としては、たとえ
ばA:α−ブロモナフタレン、B:ヨウ化メチレン、
C:水などを使う。そして、各A,B,C等による接触
角を測定後、例として日本接着協会誌Vol.8,N
o.3(1972)P131〜北崎ら“Fowkes式
の拡張と高分子固体の表面張力の評価”に記載の計算式
により求められる。Examples of the reagent having a contact angle of a droplet include A: α-bromonaphthalene, B: methylene iodide,
C: Use water or the like. Then, after measuring the contact angle by each of A, B, C, etc., as an example, Journal of the Adhesion Society of Japan, Vol. 8, N
o. 3 (1972) P131-Kitazaki et al. It is determined by the calculation formula described in "Expansion of Fowkes equation and evaluation of surface tension of polymer solid".
【0183】図16(a)に示したとおり、光導電層が
積層型の場合には、表面エネルギーが30dyn/cm
2 以下となるPTFE、ポリフッ化ビニリデン、ポリカ
ーボネートを用いることが好ましいことがわかる。As shown in FIG. 16A, when the photoconductive layer is of a laminated type, the surface energy is 30 dyn / cm.
It can be seen that it is preferable to use PTFE, polyvinylidene fluoride, or polycarbonate which is 2 or less.
【0184】また、図16(b)に示したとおり、光導
電層が混合型の場合には、表面エネルギーが30dyn
/cm2 以下となるポリトリフルオロエチレン、ポリア
クリルアミド、ポリカーボネートを用いれば好ましいこ
とがわかる。 〈実施例5〉本実施例に係るSLMを次のように製造し
た。まず、2枚のガラス基板の表面に膜厚が700Åの
ITO膜をゾルゲル法によって塗布・硬化させ、パター
ニングを行って透明電極を形成した。As shown in FIG. 16B, when the photoconductive layer is of a mixed type, the surface energy is 30 dyn.
/ Cm 2 or less, it is preferable to use polytrifluoroethylene, polyacrylamide, or polycarbonate. Example 5 An SLM according to this example was manufactured as follows. First, a 700 ° -thick ITO film was applied and cured on the surfaces of two glass substrates by a sol-gel method, and then patterned to form a transparent electrode.
【0185】次に、一方の基板の表面に分散液(詳細は
次述)をスピンコートし、90℃で15分間乾燥させて
膜厚0.55μmの電荷発生物質のみを含有する単一層
よりなる光導電層を形成した。Next, a dispersion liquid (described in detail below) is spin-coated on the surface of one of the substrates and dried at 90 ° C. for 15 minutes to form a single layer containing only a charge generating substance having a thickness of 0.55 μm. A photoconductive layer was formed.
【0186】なお、分散液は、チタニルフタロシアニン
とバナジルフタロシアニンの混晶フタロシアニン4部
に、ポリエステル樹脂(商品名:アルマティックスP−
645,三井東圧化学(株)製)8部、メラミン樹脂
(商品名:コーバンマ1R,三井東圧化学(株)製)2
部及びシクロヘキサノン100部と直径1mmのガラスビ
ーズとをサンドミルで70時間分散したものである。The dispersion was prepared by mixing 4 parts of a mixed crystal phthalocyanine of titanyl phthalocyanine and vanadyl phthalocyanine with a polyester resin (trade name: Almatix P-
645, 8 parts by Mitsui Toatsu Chemicals Co., Ltd., melamine resin (trade name: Kobanma 1R, Mitsui Toatsu Chemicals Co., Ltd.) 2
Part and 100 parts of cyclohexanone and glass beads having a diameter of 1 mm were dispersed in a sand mill for 70 hours.
【0187】この光導電層について図18のような光減
衰曲線を求めたところ、微分係数|ΔV/ΔE|は光量
Eに対し極大値を示し、その値は3.7であった。When a light decay curve as shown in FIG. 18 was obtained for this photoconductive layer, the differential coefficient | ΔV / ΔE | showed a maximum value with respect to the light amount E, and the value was 3.7.
【0188】一方、他方の基板にはポリイミド配向膜を
200Åの厚さに印刷し、オーブンによって220℃の
温度で1hr焼成した。その後、ナイロン製の布を用
い、配向膜の表面にラビング処理を施した。On the other hand, a polyimide alignment film was printed on the other substrate to a thickness of 200 ° and baked in an oven at a temperature of 220 ° C. for 1 hour. Thereafter, a rubbing treatment was performed on the surface of the alignment film using a nylon cloth.
【0189】次に、粒径が2.0μmのスペーサービー
ズを分散させたIPA溶液を、配向膜の表面にスピンナ
ーにて塗布し、オーブンによって110℃の温度に5分
間のオーブン乾燥を行った。さらに、配向膜の周縁にエ
ポキシ系シール材を塗布(印刷)し、レベリング乾燥の
後、配向膜付の基板とノンラビングの光導電層付基板と
を貼り合わせた。Next, an IPA solution in which spacer beads having a particle size of 2.0 μm were dispersed was applied to the surface of the alignment film by a spinner, and oven-dried at a temperature of 110 ° C. for 5 minutes using an oven. Furthermore, an epoxy-based sealing material was applied (printed) to the periphery of the alignment film, and after leveling and drying, the substrate with the alignment film and the non-rubbed substrate with a photoconductive layer were bonded.
【0190】その後、基板を貼り合わせたものをオーブ
ンにて140℃の温度に1.5hr加熱し、液晶13を
注入した。なお、注入の際は、温度を95℃に加熱し、
注入を行った。また、冷却速度を1℃/minで行っ
た。After that, the substrate thus bonded was heated in an oven at a temperature of 140 ° C. for 1.5 hours, and the liquid crystal 13 was injected. In addition, at the time of injection, heat the temperature to 95 ℃,
An injection was made. The cooling rate was 1 ° C./min.
【0191】そして、液晶注入後、110℃に加熱し、
0.1℃/minの降温速度で90℃まで徐冷し、更に
室温まで放冷し、SLMを製造した。Then, after injecting the liquid crystal, the mixture was heated to 110 ° C.
The sample was gradually cooled to 90 ° C. at a rate of 0.1 ° C./min, and then allowed to cool to room temperature to produce an SLM.
【0192】なお、シール材にはエポキシ系のものを使
用した。また、強誘電性液晶13としては、実施例1で
用いたものと同じ液晶組成物を用いた。An epoxy-based sealing material was used. The same liquid crystal composition as that used in Example 1 was used as the ferroelectric liquid crystal 13.
【0193】次に、本発明者は、このようにして製造さ
れたSLMに対し、図14の(a)に示すように半導体
レーザー60とレーザー走査部61とを用い、レーザー
光(波長780nmの赤外線)を出射し、直流電圧40
〔V〕を印加して、(文字画像の)書き込みを行った。Next, the present inventor uses a semiconductor laser 60 and a laser scanning unit 61 as shown in FIG. 14A to apply a laser beam (wavelength of 780 nm) to the SLM manufactured as described above. (Infrared ray) and direct current voltage 40
[V] was applied to perform writing (of a character image).
【0194】そして、その後、同図の(b)に示すよう
に、クロスニコルにした偏光板30,31の間にSLM
21を配置し、読み出し光LR を照射した。その結果、
本実施例のSLMは、偏向板30,31の向きによりポ
ジネガの反転が見られ、同図の(c)に示すように、ド
ット再現性は非常に鮮明であった。 〈実施例6〉本実施例に係るSLMを次のように製造し
た。まず、2枚のガラス基板の表面にITO膜をそれぞ
れスパッタ成膜し、パターニングを行って透明電極を形
成した。次に、一方の基板の表面に分散液(詳細は次
述)をスピンコートし、80℃で15分間乾燥させて膜
厚0.65μmの光導電層を形成した。Then, as shown in FIG. 17B, the SLM is placed between the crossed Nicol polarizing plates 30 and 31.
21 was arranged, and the reading light LR was irradiated. as a result,
In the SLM of this embodiment, the reversal of the positive / negative was observed depending on the direction of the deflecting plates 30 and 31, and the dot reproducibility was very clear as shown in FIG. Example 6 An SLM according to this example was manufactured as follows. First, ITO films were formed by sputtering on the surfaces of two glass substrates, respectively, and were patterned to form transparent electrodes. Next, a dispersion liquid (described in detail below) was spin-coated on the surface of one of the substrates, and dried at 80 ° C. for 15 minutes to form a photoconductive layer having a thickness of 0.65 μm.
【0195】なお、分散液は、α型銅フタロシアニン1
0部、テトラニトロ化した銅フタロシアニン0.3部に
ポリエステル樹脂(商品名:アルマティックスP−64
5,三井東圧化学(株)製)40部、メラミン樹脂(商
品名:ユーバン20−HS,三井東圧化学(株)製)1
0部及びシクロヘキサノン200部と直径1mmのガラス
ビーズとをサンドミルで20時間分散したものである。The dispersion was composed of α-type copper phthalocyanine 1
0 parts, 0.3 parts of tetranitrated copper phthalocyanine and polyester resin (trade name: Almatics P-64)
5, 40 parts of Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd., melamine resin (trade name: Uban 20-HS, Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd.) 1
0 parts and 200 parts of cyclohexanone and glass beads having a diameter of 1 mm were dispersed in a sand mill for 20 hours.
【0196】次に、この光導電層について光減衰曲線を
求めたところ、微分係数|ΔV/ΔE|は光量Eに対し
極大値を示し、その値は5.1であった。そして、この
後、既述した実施例5と同様にしてSLMを製造した。Next, when a light attenuation curve was obtained for this photoconductive layer, the derivative | ΔV / ΔE | showed a maximum value with respect to the light amount E, and the value was 5.1. Thereafter, an SLM was manufactured in the same manner as in Example 5 described above.
【0197】次に、本発明者は、このようにして製造さ
れたSLMに対し、図14の(a)に示すように直流電
圧45(V)を印加してレ−ザー光(波長810nm)
による文字画像の書き込みを行なった。Next, the present inventor applied a DC voltage of 45 (V) to the SLM manufactured as described above, as shown in FIG.
The writing of the character image was performed.
【0198】そして、その後、同図の(b)に示すよう
に、クロスニコルにした偏光板30,31の間にSLM
21を配置し、読み出し光LR を照射した。その結果、
本実施例のSLMは、偏光板30,31の向きにより、
ポジ,ネガの反転が見られ、ドット再現性も実施例5に
もまして非常に鮮明であった。Then, as shown in FIG. 18B, the SLM is placed between the crossed Nicol polarizers 30 and 31.
21 was arranged, and the reading light LR was irradiated. as a result,
The SLM of this embodiment depends on the directions of the polarizing plates 30 and 31.
Positive and negative inversions were observed, and the dot reproducibility was much clearer than in Example 5.
【0199】次に、本発明の実施例5及び6に対する比
較例について説明する。Next, a comparative example with respect to the fifth and sixth embodiments of the present invention will be described.
【0200】比較例に係るSLMを次のように製造し
た。まず、2枚のガラス基板の表面にITO膜をそれぞ
れスパッタ成膜し、パターニングを行って透明電極を形
成した。次に、一方の基板の表面に分散液(詳細は次
述)をスピンコートし、80℃で15分間乾燥させて膜
厚0.6μmの光導電層を形成した。An SLM according to a comparative example was manufactured as follows. First, ITO films were formed by sputtering on the surfaces of two glass substrates, respectively, and were patterned to form transparent electrodes. Next, a dispersion (described in detail below) was spin-coated on the surface of one of the substrates, and dried at 80 ° C. for 15 minutes to form a photoconductive layer having a thickness of 0.6 μm.
【0201】なお、分散液は、下記構造式の電荷発生物
質5部と電荷輸送性物質5部にポリカーボネート樹脂
(商品名:Z−200)5部及びモノクロルベンゼン4
0部、ジクロロメタン80部からなる混合溶媒直径1mm
のガラスビーズを加え、サンドミル装置で40時間分散
させたものである。The dispersion was prepared by adding 5 parts of a charge generating substance having the following structural formula and 5 parts of a charge transporting substance to 5 parts of a polycarbonate resin (trade name: Z-200) and 4 parts of monochlorobenzene.
0 part, mixed solvent diameter 1mm consisting of 80 parts of dichloromethane
And dispersed in a sand mill for 40 hours.
【0202】[0202]
【化9】 次に、この光導電層について光減衰曲線を求めたとこ
ろ、微分係数|ΔV/ΔE|は光量Eに対し極大値を示
さず、その値はほとんど1であった。そして、この後、
既述した実施例5と同様にしてSLMを製造した。Embedded image Next, when a light decay curve was obtained for this photoconductive layer, the derivative coefficient | ΔV / ΔE | did not show a maximum value with respect to the light amount E, and the value was almost 1. And after this,
An SLM was manufactured in the same manner as in Example 5 described above.
【0203】次に、このようにして製造されたSLMに
対し、図14の(a)に示すように直流電圧70(V)
を印加してレ−ザー光(波長810nm)による文字画
像の書き込みを行なった。Next, a DC voltage of 70 (V) was applied to the SLM manufactured as described above, as shown in FIG.
To write a character image using laser light (wavelength 810 nm).
【0204】そして、その後、同図の(b)に示すよう
に、クロスニコルにした偏光板30,31の間にSLM
を配置し、読み出し光LR を照射した。その結果、本比
較例のSLMは、偏光板30,31の向きにより、ポ
ジ,ネガの反転が見られたもののドットの周囲に不鮮明
な部分がみられた。Then, as shown in FIG. 17B, the SLM is placed between the crossed Nicol polarizers 30 and 31.
The place was irradiated with reading light L R. As a result, in the SLM of this comparative example, depending on the orientation of the polarizing plates 30 and 31, positive / negative inversion was observed, but an unclear portion was observed around the dot.
【0205】以上説明したように、光導電層を光減衰曲
線の微分係数(Δ電位/Δ光量)−光量特性に極大値を
有する光導電層とすることにより、光照射時、光導電層
には光電流が流れ、この光電流により液晶の配向状態が
変化し、解像度の高い情報の書き込みを行うことができ
る。これにより、反射型のような複雑な光学系、遮光
膜、誘電体ミラー等が不要となり、構造を簡単にするこ
とができると共に、特にデジタル方式で画像処理する書
き込み光出射装置と組み合わせると、ドット再現性の優
れた高解像な情報書き込みが可能となる。 〈実施例7〉本実施例においては、まず、22枚のガラ
ス基板の表面に膜厚が700ÅのITO膜をゾルゲル法
によって塗布・硬化させ、パターニングを行って透明電
極を形成した。As described above, by forming the photoconductive layer as a photoconductive layer having a maximum value in the differential coefficient (Δpotential / Δlight quantity) -light quantity characteristic of the light decay curve, the photoconductive layer is irradiated with light. In this case, a photocurrent flows, and the orientation state of the liquid crystal is changed by the photocurrent, so that high-resolution information can be written. This eliminates the need for a complicated optical system such as a reflection type, a light shielding film, a dielectric mirror, and the like, and can simplify the structure. High-resolution information writing with excellent reproducibility becomes possible. <Embodiment 7> In this embodiment, a transparent electrode was formed by applying and curing an ITO film having a thickness of 700 ° on the surface of 22 glass substrates by a sol-gel method, followed by patterning.
【0206】分散液としては、下記構造式の化合物2部
にポリカーボネート樹脂(商品名:Z−200、三菱瓦
斯化学(株)製)2部、及びテトラヒドロフラン20部
と、直径1mmのガラスビーズとをサンドミルで60時間
分散したものを用意した。As a dispersion, 2 parts of a compound having the following structural formula were mixed with 2 parts of a polycarbonate resin (trade name: Z-200, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.), 20 parts of tetrahydrofuran, and glass beads having a diameter of 1 mm. What was dispersed by a sand mill for 60 hours was prepared.
【0207】[0207]
【化10】 次に、基板の表面にこの分散液をスピンコートし、90
℃で15分間乾燥させて膜厚0.65μmの電荷発生層
を形成した。Embedded image Next, this dispersion was spin-coated on the surface of the substrate,
Drying was performed at 15 ° C. for 15 minutes to form a charge generation layer having a thickness of 0.65 μm.
【0208】次いで、下記構造式を有するトリアリール
アミン化合物5部Then, 5 parts of a triarylamine compound having the following structural formula
【0209】[0209]
【化11】 とポリカーボネート(商品名:Z−200、三菱瓦斯化
学(株)製)5部をクロロベンゼン70部に溶解した液
を電荷発生層の表面にスピンコート法でコーティングし
た後、120℃で60分乾燥させて膜厚0.025μm
の電荷輸送層を形成した。この光導電層を有する基板を
基板サンプルS21とした。Embedded image And a solution of 5 parts of polycarbonate (trade name: Z-200, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) in 70 parts of chlorobenzene, coated on the surface of the charge generation layer by spin coating, and then dried at 120 ° C. for 60 minutes. 0.025μm
Was formed. The substrate having the photoconductive layer was used as a substrate sample S21.
【0210】次に、電荷発生層(CGL)と電荷輸送層
(CTL)の膜厚及び電荷発生層中の電荷発生材料と結
着樹脂の比(P/B)を下記の表1のように変え、他は
基板サンプルS21と同様の方法で10種類の光導電層
22を作成し、それぞれ基板サンプルS22〜S27、
比較基板サンプルCS21、CS22、CS23とし
た。Next, the thickness of the charge generation layer (CGL) and the charge transport layer (CTL) and the ratio (P / B) of the charge generation material to the binder resin in the charge generation layer are shown in Table 1 below. Other than that, ten types of photoconductive layers 22 were formed in the same manner as the substrate sample S21, and the substrate samples S22 to S27,
Comparative substrate samples CS21, CS22, and CS23 were used.
【0211】[0211]
【表3】 なお、表3には、これら各基板サンプルにおける電荷発
生層と電荷輸送層の電気容量の比CCTL /CCGL を合せ
て示した。ここで、各サンプルに用いた層の電気容量を
求める為、4192A、LFインビーダンスアナライザ
(横河・ヒューレットパッカード(株)製)を用いて、
Al 基板/CGL(orCTL)膜(3〜6μm )/A
u(蒸着)という構造の誘電率測定用サンプルを作製
し、測定して求めた。[Table 3] Table 3 also shows the ratio C CTL / C CGL of the electric capacity of the charge generation layer and the electric capacity of the charge transport layer in each of the substrate samples. Here, in order to obtain the electric capacity of the layer used for each sample, 4192A, an LF impedance analyzer (manufactured by Yokogawa-Hewlett-Packard Co., Ltd.) was used.
Al substrate / CGL (or CTL) film (3-6 μm) / A
A dielectric constant measurement sample having a structure of u (evaporation) was prepared and measured.
【0212】そして、表1から明らかなように、基板サ
ンプルS21〜S28の光導電層のCCTL /CCGL の値
は、少なくとも1.0以上であり、比較基板サンプルC
S21〜CS23のCCTL /CCGL の値は1.0以下で
あった。As is clear from Table 1, the values of C CTL / C CGL of the photoconductive layers of the substrate samples S21 to S28 are at least 1.0 or more, and the comparative substrate sample C
The values of C CTL / C CGL of S21 to CS23 were 1.0 or less.
【0213】次に、基板サンプルS21〜S28の光導
電層と、比較基板サンプルCS21〜CS23の光導電
層における光量と光電流との関係を求めた。図19は、
このうちの基板サンプルS21、S23、S25と、比
較基板サンプルCS22における光量と光電流との関係
を示すものであり、図19から明かなように、CCTL/
CCGL の値が少なくとも1.0以上のものについてはア
バランシェ効果があった。これに対してCCTL /CCGL
の値は1.0以下のものは、暗電流が大きく、光量−光
電流特性がリニアであり、アバランシェ効果は発生しな
かった。Next, the relationship between the amount of light and the photocurrent in the photoconductive layers of the substrate samples S21 to S28 and the photoconductive layers of the comparative substrate samples CS21 to CS23 was determined. FIG.
19 shows the relationship between the light amount and the photocurrent in the substrate samples S21, S23, and S25 and the comparative substrate sample CS22. As is clear from FIG. 19, C CTL /
Those having a C CGL value of at least 1.0 exhibited an avalanche effect. On the other hand, C CTL / C CGL
A value of 1.0 or less showed a large dark current, a linear light-current characteristic, and no avalanche effect.
【0214】このことから、電荷発生層と電荷輸送層の
膜厚及び電荷発生材料と結着樹脂の比(P/B)を変え
ることにより、光電流のインダクションポイントとγ
(光電流の傾き)のコントロールが可能であることが明
らかである。Therefore, by changing the thickness of the charge generation layer and the charge transport layer and the ratio (P / B) of the charge generation material to the binder resin, the induction point of the photocurrent and γ
It is clear that the control of (slope of photocurrent) is possible.
【0215】一方、11枚のITO付基板にはポリイミ
ド配向膜を200Åの厚さに印刷し、オーブンによって
220℃の温度で1hr焼成した。その後、ナイロン製
の布を用い、配向膜の表面にラビング処理を施した。On the other hand, a polyimide alignment film having a thickness of 200 ° was printed on 11 substrates with ITO, and baked in an oven at a temperature of 220 ° C. for 1 hour. Thereafter, a rubbing treatment was performed on the surface of the alignment film using a nylon cloth.
【0216】次に、粒径が2.0μmのスペーサービー
ズを分散させたIPA溶液を、配向膜付基板の表面にス
ピンナーにて塗布し、オーブンによって110℃の温度
に5分間のオーブン乾燥を行った。さらに、配向膜付基
板の周縁にエポキシ系シール材を塗布(印刷)し、レベ
リング乾燥の後、配向膜付基板と、基板サンプルS21
〜S28、CS21〜CS23とをそれぞれ貼り合わせ
た。Next, an IPA solution in which spacer beads having a particle size of 2.0 μm are dispersed is applied to the surface of the substrate with an alignment film by a spinner, and oven-dried in an oven at 110 ° C. for 5 minutes. Was. Furthermore, an epoxy-based sealing material is applied (printed) to the periphery of the substrate with an alignment film, and after leveling and drying, the substrate with an alignment film and a substrate sample S21
To S28 and CS21 to CS23, respectively.
【0217】その後、基板を貼り合わせたセルをオーブ
ンにて140℃の温度に1.5hr加熱し、実施例1と
同じ液晶を、注入の際は、温度を95℃に加熱して、注
入を行い、その後、冷却速度を1℃/minで徐冷し
た。Thereafter, the cell on which the substrates were bonded was heated in an oven at a temperature of 140 ° C. for 1.5 hours, and when the same liquid crystal as in Example 1 was injected, the temperature was raised to 95 ° C. After that, it was gradually cooled at a cooling rate of 1 ° C./min.
【0218】そして、再び、110℃に加熱し、0.1
℃/minの降温速度で90℃まで徐冷し、更に室温ま
で放冷し、SLMを製造した。Then, it was heated again to 110 ° C.,
The sample was gradually cooled to 90 ° C. at a temperature lowering rate of ° C./min, and further allowed to cool to room temperature, thereby producing an SLM.
【0219】次に、本発明者は、このようにして製造さ
れたSLMに対し、図14の(a)に示すように半導体
レーザー60とレーザー走査部61とを用い、レーザー
光(波長780nmの赤外線)を出射し、直流電圧40
〔V〕を印加して、(文字画像の)書き込みを行った。
なお、レーザー光のエネルギー密度は0.5μJ/cm2
とした。Next, the present inventor uses a semiconductor laser 60 and a laser scanning unit 61 as shown in FIG. 14A to apply laser light (wavelength of 780 nm) to the thus manufactured SLM. (Infrared ray) and direct current voltage 40
[V] was applied to perform writing (of a character image).
The energy density of the laser beam was 0.5 μJ / cm 2
And
【0220】そして、その後、同図の(b)に示すよう
に、クロスニコルにした偏光板30,31の間にSLM
21を配置し、読み出し光LR を照射した。その結果、
基板サンプルS21〜S28を有するSLMは、偏光板
30,31の向きによりポジネガの反転が見られ、ドッ
ト再現性は非常に鮮明であったが、基板サンプルCS2
1〜CS23を用いたSLMはドットの周囲が不鮮明で
あった。 〈実施例8〉本実施例においてはまず、2枚のガラス基
板の表面にITO膜をそれぞれスパッタ成膜し、パター
ニングを行って透明電極を形成した。Thereafter, as shown in (b) of the figure, the SLM is placed between the crossed Nicol polarizing plates 30 and 31.
21 was arranged, and the reading light LR was irradiated. as a result,
In the SLM having the substrate samples S21 to S28, the reversal of the positive / negative was observed depending on the orientation of the polarizing plates 30 and 31, and the dot reproducibility was very clear.
In the SLM using 1 to CS23, the periphery of the dot was unclear. <Embodiment 8> In the present embodiment, first, an ITO film was formed by sputtering on the surfaces of two glass substrates, and patterning was performed to form a transparent electrode.
【0221】分散液としては、4,10−ジブロムアン
トアントロン4部、ベンザール樹脂(重量平均分子量2
4000)2部、及びシクロヘキサノン34部と、直径
1mmのガラスビーズとを、サンドミル装置で20時間分
散させ、その後、ブタノール60部を加えたものを用意
した。As the dispersion, 4 parts of 4,10-dibromoanthanthrone and benzal resin (weight average molecular weight 2
4000), 34 parts of cyclohexanone, and glass beads having a diameter of 1 mm were dispersed in a sand mill for 20 hours, and then 60 parts of butanol was added.
【0222】次に、一方の基板の表面にこの分散液をス
ピンコートし、80℃で15分間乾燥させて膜厚0.6
5μm の電荷発生層を形成した。Next, this dispersion was spin-coated on the surface of one of the substrates and dried at 80 ° C. for 15 minutes to form a film having a thickness of 0.6.
A 5 μm charge generation layer was formed.
【0223】次に、下記構造式の化合物10部、及びビ
スフェノールZ型ポリカーボネート(重量平均分子量3
9000)10部を、ジクロロメタン80部及びモノク
ロルベンゼン80部からなる混合溶媒中に溶解して溶液
を作成し、この溶液を電荷発生層の表面にスピンコート
法でコーティングした後、120℃で10分乾燥させて
膜厚0.025μm の電荷輸送層25を形成し、このよ
うな構成の光導電層を有する基板を基板サンプルS29
とした。また、この基板サンプルS29の電気容量の比
(CCTL /CCGL )は17.75であった。Next, 10 parts of a compound having the following structural formula, and bisphenol Z-type polycarbonate (weight average molecular weight 3
9000) was dissolved in a mixed solvent consisting of 80 parts of dichloromethane and 80 parts of monochlorobenzene to prepare a solution. This solution was coated on the surface of the charge generation layer by spin coating, and then heated at 120 ° C. for 10 minutes. The substrate was dried to form the charge transport layer 25 having a thickness of 0.025 μm.
And The capacitance ratio (C CTL / C CGL ) of the substrate sample S29 was 17.75.
【0224】[0224]
【化12】 この後、既述した実施例7と同様にしてサンプルS29
を用いてSLMを製造した。Embedded image Thereafter, the sample S29 is made in the same manner as in the above-described embodiment 7.
Was used to produce an SLM.
【0225】次に、本発明者は、このようにして製造さ
れたSLMに対し、図14の(a)に示すように直流電
圧50(V)を印加して可視レ−ザー光(波長670n
m)による文字画像の書き込みを行なった。Next, the present inventor applied a DC voltage of 50 (V) to the SLM manufactured as described above as shown in FIG.
The writing of the character image according to m) was performed.
【0226】そして、その後、同図の(b)に示すよう
に、クロスニコルにした偏光板30,31の間にSLM
21を配置し、読み出し光LR を照射した。その結果、
本実施例のSLMは、偏光板30,31の向きにより、
ポジ,ネガの反転が見られ、ドット再現性も非常に鮮明
であった。Then, as shown in (b) of the figure, the SLM is placed between the crossed Nicol polarizing plates 30 and 31.
21 was arranged, and the reading light LR was irradiated. as a result,
The SLM of this embodiment depends on the directions of the polarizing plates 30 and 31.
Positive and negative reversals were observed, and the dot reproducibility was very clear.
【0227】以上説明したように本実施例によると、機
能分離型のアバランシェ効果のある光導電層を用いるこ
とにより、光照射時、光導電層には光電流が流れ、この
光電流により液晶の配向状態が変化し、解像度の高い情
報の書き込みを行うことができる。これにより、特にデ
ジタル方式で画像処理する書き込み光照射装置と組み合
わせると、ドット再現性の優れた高解像な情報書き込み
が可能となる。As described above, according to this embodiment, a photocurrent flows through the photoconductive layer at the time of light irradiation by using a photoconductive layer having a function-separation type avalanche effect. The orientation state changes, and high-resolution information can be written. Thus, when combined with a writing light irradiation device that performs image processing in a digital manner, high-resolution information writing with excellent dot reproducibility becomes possible.
【0228】以上は、ストライプ状にパターニングされ
ていない透明導電膜を電極に用いた場合について述べた
が、本発明は、マルチブレキシング駆動されるべくスト
ライプ状に配された透明電極群からなる一対の基板表面
にそれぞれ一軸性配向膜と、ノンラビングの光電変換層
とを設けたセルに、液晶を注入した液晶素子にも好適に
用いられる。In the above, the case where a transparent conductive film that is not patterned in a stripe shape is used as an electrode has been described. However, the present invention relates to a pair of transparent electrodes that are arranged in a stripe shape so as to be driven by multi-braxing. It is also suitably used for a liquid crystal element in which liquid crystal is injected into a cell in which a uniaxial alignment film and a non-rubbing photoelectric conversion layer are respectively provided on the substrate surface.
【0229】[0229]
【発明の効果】本発明によれば、複雑な工程を用いるこ
となく欠陥の少ないブックシェルフ層構造を呈する液晶
素子となるので、表示品質に優れた素子を安価に提供で
きる。また、電荷発生物質や電荷輸送性物質の選択に自
由度がある分、温度変化による表示特性の劣化が抑制さ
れ、良好な配向状態により表示品質を良好にすることが
できる。また、感度を良好にすることができる。According to the present invention, a liquid crystal element having a bookshelf layer structure with few defects without using complicated steps can be provided at a low cost with an excellent display quality. In addition, since there is a degree of freedom in selecting a charge generating substance and a charge transporting substance, deterioration of display characteristics due to a change in temperature is suppressed, and display quality can be improved by a favorable alignment state. Further, the sensitivity can be improved.
【図1】従来の液晶素子の構造を示す模式図。FIG. 1 is a schematic view showing a structure of a conventional liquid crystal element.
【図2】本発明の液晶素子の構造を示す模式図。FIG. 2 is a schematic view illustrating a structure of a liquid crystal element of the present invention.
【図3】本発明の液晶素子の動作を示す模式図。FIG. 3 is a schematic view illustrating the operation of the liquid crystal element of the present invention.
【図4】本発明に用いられる有機半導体層の構成材料の
分光透過率特性を示す図。FIG. 4 is a view showing spectral transmittance characteristics of constituent materials of an organic semiconductor layer used in the present invention.
【図5】本発明に用いられる有機半導体層の構成材料の
分光透過率特性を示す図。FIG. 5 is a view showing spectral transmittance characteristics of constituent materials of an organic semiconductor layer used in the present invention.
【図6】本発明に用いられる別の有機半導体層の構成材
料の分光透過率特性を示す図。FIG. 6 is a view showing spectral transmittance characteristics of constituent materials of another organic semiconductor layer used in the present invention.
【図7】本発明に用いられる更に別の有機半導体層の構
成材料の分光透過率特性を示す図。FIG. 7 is a view showing spectral transmittance characteristics of a constituent material of still another organic semiconductor layer used in the present invention.
【図8】本発明に用いられる光電変換層の膜厚と解像力
との関係を示す図。FIG. 8 is a view showing the relationship between the thickness of a photoelectric conversion layer used in the present invention and the resolution.
【図9】本発明に用いられる光電変換層の評価結果を示
す図。FIG. 9 is a view showing evaluation results of a photoelectric conversion layer used in the present invention.
【図10】デジタル露光系における露光光量の分布特性
を示す図。FIG. 10 is a view showing distribution characteristics of an exposure light amount in a digital exposure system.
【図11】本発明に用いられる液晶素子の製造工程を示
す模式図。FIG. 11 is a schematic view illustrating a manufacturing process of a liquid crystal element used in the present invention.
【図12】本発明の別の実施形態による液晶素子の構造
を示す模式図。FIG. 12 is a schematic diagram showing a structure of a liquid crystal element according to another embodiment of the present invention.
【図13】本発明の更に別の実施形態による液晶素子の
構造を示す模式図。FIG. 13 is a schematic view showing a structure of a liquid crystal element according to still another embodiment of the present invention.
【図14】本発明の液晶素子の情報書込み動作及び情報
読み出し動作を説明する為の模式図。FIG. 14 is a schematic diagram for explaining an information writing operation and an information reading operation of the liquid crystal element of the present invention.
【図15】光メモリ性の測定方法を説明する為の模式
図。FIG. 15 is a schematic diagram for explaining a method for measuring optical memory properties.
【図16】各種液晶素子の特性を説明する為の図。FIG. 16 is a diagram illustrating characteristics of various liquid crystal elements.
【図17】本発明の別の実施形態による液晶素子に用い
られる光電変換層の特性を示す図。FIG. 17 is a view showing characteristics of a photoelectric conversion layer used in a liquid crystal element according to another embodiment of the present invention.
【図18】本発明の更に別の実施形態による液晶素子の
光電変換層の特性を示す図。FIG. 18 is a view showing characteristics of a photoelectric conversion layer of a liquid crystal element according to still another embodiment of the present invention.
【図19】本発明に用いられる光電変換層の特性を示す
図。FIG. 19 is a graph showing characteristics of a photoelectric conversion layer used in the present invention.
2,3 ガラス基板(透明基板) 5,6 透明電極 12 一軸性配向膜 9、13 強誘電性液晶 21,41,51SLM(液晶素子) 22 光導電層(光導電性半導体層) 23 電荷発生層(電荷発生物質を含有する層) 25 電荷輸送層(電荷輸送性物質を含有する
層) 26 書き込み光照射装置2, 3 glass substrate (transparent substrate) 5, 6 transparent electrode 12 uniaxial alignment film 9, 13 ferroelectric liquid crystal 21, 41, 51 SLM (liquid crystal element) 22 photoconductive layer (photoconductive semiconductor layer) 23 charge generation layer (Layer containing charge generating substance) 25 Charge transporting layer (layer containing charge transporting substance) 26 Writing light irradiation device
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G09F 9/35 302 G02F 1/137 510 (31)優先権主張番号 特願平9−260472 (32)優先日 平9(1997)9月25日 (33)優先権主張国 日本(JP)──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI G09F 9/35 302 G02F 1/137 510 (31) Priority claim number Japanese Patent Application No. Hei 9-260472 (32) Priority Niigata 9 (1997 ) September 25 (33) Countries claiming priority Japan (JP)
Claims (41)
基板と、一対の透明電極と、光電変換半導体層と、配向
膜と、該配向膜と該光電変換半導体層間に挟持された液
晶と、を備えた液晶素子において、 前記配向膜にのみラビング処理を施し、前記光電変換半
導体層にはラビング処理を施さない、 ことを特徴とする液晶素子。A pair of transparent substrates, a pair of transparent electrodes, a photoelectric conversion semiconductor layer, an alignment film, and a liquid crystal sandwiched between the alignment film and the photoelectric conversion semiconductor layer. And a rubbing treatment is applied only to the alignment film, and the rubbing treatment is not applied to the photoelectric conversion semiconductor layer.
が、30dyn/cm2 以下である、 ことを特徴とする請求項1記載の液晶素子。2. The liquid crystal device according to claim 1, wherein a surface energy of the photoelectric conversion semiconductor layer is 30 dyn / cm 2 or less.
を含有する層と、電荷輸送性物質を含有する層との積層
構造である、 ことを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶素子。3. The liquid crystal according to claim 1, wherein the photoelectric conversion semiconductor layer has a laminated structure of a layer containing a charge generating substance and a layer containing a charge transporting substance. element.
り、前記電荷発生物質及び前記電荷輸送性物質を含有す
る、 ことを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶素子。4. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the photoelectric conversion semiconductor layer is a single layer and contains the charge generating substance and the charge transporting substance.
ある、 ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載
の液晶素子。5. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the liquid crystal is a chiral smectic liquid crystal.
相転移系列を有し、ブックシェルフ層構造を呈する液晶
である、 ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載
の液晶素子。6. The liquid crystal according to claim 1, wherein the liquid crystal has a phase transition sequence without a cholesteric phase and has a bookshelf layer structure. element.
成する工程と、 一方の透明基板に光電変換半導体層を形成する工程と、 他方の透明基板に配向膜を形成する工程と、 前記配向膜にラビング処理を施す工程と、 これら一対の透明基板を貼り合わせる工程と、 これら一対の透明基板の間隙に液晶を注入する工程と、 を備えた液晶素子の製造方法において、 前記光電変換半導体層にはラビング処理を施さない、 ことを特徴とする液晶素子の製造方法。7. a step of forming a transparent electrode on each of a pair of transparent substrates, a step of forming a photoelectric conversion semiconductor layer on one of the transparent substrates, a step of forming an alignment film on the other transparent substrate, and the alignment film A rubbing process, a step of bonding the pair of transparent substrates, and a step of injecting a liquid crystal into a gap between the pair of transparent substrates. A method for producing a liquid crystal element, wherein a rubbing treatment is not performed.
液晶素子において、 該液晶に接する一対の層のうち一方が電荷輸送性の光電
変換半導体層であり、 前記一対の層のうち他方のみが一軸性配向膜である、 ことを特徴とする液晶素子。8. A liquid crystal element including a liquid crystal sandwiched between a pair of substrates, wherein one of the pair of layers in contact with the liquid crystal is a charge-transporting photoelectric conversion semiconductor layer, and the other of the pair of layers is Only a uniaxial alignment film.
が30dyn/cm2 以下である、 ことを特徴とする請求項8記載の液晶素子。9. The liquid crystal device according to claim 8, wherein the surface energy of the photoelectric conversion semiconductor layer is 30 dyn / cm 2 or less.
ない相転移系列を有するカイラルスメクチック液晶であ
る、 ことを特徴とする請求項8及び9のいずれか1項に記載
の液晶素子。10. The liquid crystal device according to claim 8, wherein the liquid crystal is a chiral smectic liquid crystal having a phase transition series without a cholesteric phase.
するカイラルスメクチック層である、 ことを特徴とする請求項8又は9に記載の液晶素子。11. The liquid crystal device according to claim 8, wherein the liquid crystal is a chiral smectic layer having a bookshelf layer structure.
ラビング処理されていない、 ことを特徴とする請求項8又は9に記載の液晶素子。12. The liquid crystal element according to claim 8, wherein the charge-transporting photoelectric conversion semiconductor layer is not subjected to a rubbing treatment.
有機半導体である、 ことを特徴とする請求項8又は9に記載の液晶素子。13. The liquid crystal device according to claim 8, wherein the charge-transporting photoelectric conversion semiconductor layer is an organic semiconductor.
た膜である、 ことを特徴とする請求項8又は9に記載の液晶素子。14. The liquid crystal element according to claim 8, wherein the uniaxial alignment film is a rubbed film.
電荷発生層が設けられている、 ことを特徴とする請求項8又は9に記載の液晶素子。15. The liquid crystal device according to claim 8, wherein a charge generation layer is provided between the photoelectric conversion semiconductor layer and an electrode.
理された有機半導体であり、前記液晶はコレステリック
相をもたない相転移系列を有し、ブックシェルフ層構造
を呈するカイラルスメクチック液晶であり、前記一軸性
配向膜はラビング処理されたポリイミド膜である、 ことを特徴とする請求項8又は9に記載の液晶素子。16. The photoelectric conversion semiconductor layer is a non-rubbed organic semiconductor, the liquid crystal is a chiral smectic liquid crystal having a bookshelf layer structure, having a phase transition series without a cholesteric phase, The liquid crystal element according to claim 8, wherein the uniaxial alignment film is a rubbed polyimide film.
た液晶素子において、 該液晶に接する一対の層のうち一方が光電変換有機半導
体層であり、 一対の層のうち他方のみが一軸性配向膜であり、 前記液晶が、ブックシェルフ層構造を呈するカイラルス
メクチック液晶である、 ことを特徴とする液晶素子。17. A liquid crystal element including a liquid crystal sandwiched between a pair of substrates, wherein one of the pair of layers in contact with the liquid crystal is a photoelectric conversion organic semiconductor layer, and only the other of the pair of layers is uniaxial. A liquid crystal element, which is an alignment film, wherein the liquid crystal is a chiral smectic liquid crystal having a bookshelf layer structure.
ルギーが30dyn/cm2 以下である、 ことを特徴とする請求項17記載の液晶素子。18. The liquid crystal device according to claim 17, wherein the photoelectric conversion organic semiconductor layer has a surface energy of 30 dyn / cm 2 or less.
ー性を有しており、該光メモリー性が下記に示される条
件式で表されることを特徴とする請求項17記載の液晶
素子。 【数1】 A×T≧1×104 [lux.sec ]の時 0.1≦|VM /VD |≦1.0 A[lux ]:照射光強度 T[sec ]:光照射時間 VD [V]:光未照射部分の光電変換有機半導体層に分
担される電位 VM [V]:光未照射部分の光電変換有機半導体層に分
担される電位と光照射部分の光電変換有機半導体層に分
担される電位との差分19. The liquid crystal device according to claim 17, wherein the photoelectric conversion organic semiconductor layer has an optical memory property, and the optical memory property is represented by the following conditional expression. [Number 1] A × T ≧ 1 × 10 4 [lux.sec] 0.1 ≦ when | V M / V D | ≦ 1.0 A [lux]: irradiation light intensity T [sec]: irradiation time V D [V]: voltage V M which is shared by the photoelectric conversion organic semiconductor layer of the light unirradiated portion [V]: photoelectric conversion organic potential and light irradiation portion to be shared by the photoelectric conversion organic semiconductor layer of the light non-irradiated portion Difference from potential assigned to semiconductor layer
荷発生物質と電荷輸送性物質とを含有していることを特
徴とする請求項19記載の液晶素子。20. The liquid crystal device according to claim 19, wherein the photoelectric conversion organic semiconductor layer contains an organic charge generating substance and a charge transporting substance.
物質を含有する層と電荷輸送性物質を含有する層との積
層構造であることを特徴とする請求項19記載の液晶素
子。21. The liquid crystal device according to claim 19, wherein the photoelectric conversion organic semiconductor layer has a laminated structure of a layer containing a charge generating substance and a layer containing a charge transporting substance.
物質と電荷輸送性物質とを含有する単層構造であること
を特徴とする請求項19記載の液晶素子。22. The liquid crystal device according to claim 19, wherein the photoelectric conversion organic semiconductor layer has a single-layer structure containing a charge generating substance and a charge transporting substance.
有していることを特徴とする請求項19記載の液晶素
子。23. The liquid crystal device according to claim 19, wherein the photoelectric conversion organic semiconductor layer has an intermediate layer.
を備えたことを特徴とする請求項19記載の液晶素子。24. The liquid crystal device according to claim 19, further comprising a color filter between the pair of substrates.
特徴とする請求項19記載の液晶素子。25. The liquid crystal device according to claim 19, wherein the liquid crystal is a ferroelectric liquid crystal.
生層と電荷輸送層とを有し、前記電荷発生層の電気容量
(CCGL )と、前記電荷輸送層の電気容量(CCTL )の
比(CCTL )/(CCGL )が1.0以上であることを特
徴とする請求項17記載の液晶素子。26. The photoelectric conversion organic semiconductor layer has a charge generation layer and a charge transport layer, and has a capacitance (C CGL ) of the charge generation layer and a capacitance (C CTL ) of the charge transport layer. 18. The liquid crystal device according to claim 17, wherein the ratio (C CTL ) / (C CGL ) is 1.0 or more.
と前記電荷輸送層の電気容量(CCTL )の比(CCTL )
/(CCGL )が2.5以上であることを特徴とする請求
項26記載の液晶素子。27. The electric capacity (C CGL ) of the charge generation layer
And the ratio (C CTL ) of the electric charge (C CTL ) of the charge transport layer
27. The liquid crystal device according to claim 26, wherein / (C CGL ) is 2.5 or more.
と前記電荷輸送層の電気容量(CCTL )の比(CCTL )
/(CCGL )が5.0以上であることを特徴とする請求
項27記載の液晶素子。28. The electric capacity (C CGL ) of the charge generation layer
And the ratio (C CTL ) of the electric charge (C CTL ) of the charge transport layer
28. The liquid crystal device according to claim 27, wherein / (C CGL ) is 5.0 or more.
との間に中間層を有することを特徴とする請求項26記
載の液晶素子。29. The liquid crystal device according to claim 26, wherein said photoelectric conversion organic semiconductor layer has an intermediate layer between said photoelectric conversion organic semiconductor layer and said electrode.
記一般式[1]のアゾ顔料であることを特徴とする請求
項26記載の液晶素子。 【化1】 (式中、Xは水素原子、ハロゲン原子を示す。R1、R
2、R3、R4、R5は、水素原子、ハロゲン原子、ニ
トロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、
アルコキシ基、アラルキル基、アリール基、アルキルア
ミノ基を示し、同じであっても異なっていてもよい。m
及びnは1または2を示し、同じであっても異なってい
てもよい。)30. The liquid crystal device according to claim 26, wherein the charge generation material in the charge generation layer is an azo pigment represented by the following general formula [1]. Embedded image (Wherein, X represents a hydrogen atom or a halogen atom. R1, R
2, R3, R4, and R5 are a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an alkyl group which may have a substituent,
It represents an alkoxy group, an aralkyl group, an aryl group, or an alkylamino group, which may be the same or different. m
And n represent 1 or 2, and may be the same or different. )
する請求項26記載の液晶素子。31. The liquid crystal device according to claim 26, further comprising a color filter.
徴とする請求項26記載の液晶素子。32. The liquid crystal device according to claim 26, wherein the liquid crystal is a ferroelectric liquid crystal.
線の微分係数(Δ電位/Δ光量)−光量特性に極大値を
有するものとすることを特徴とする請求項17記載の液
晶素子。33. The liquid crystal device according to claim 17, wherein the photoelectric conversion organic semiconductor layer has a maximum value in a differential coefficient (Δ potential / Δ light amount) -light amount characteristic of a light attenuation curve.
れた光減衰曲線より算出される微分係数の値が少なくと
も3以上であることを特徴とする請求項33記載の液晶
素子。34. The liquid crystal device according to claim 33, wherein a value of a differential coefficient calculated from a normalized light attenuation curve of the photoelectric conversion organic semiconductor layer is at least 3 or more.
荷発生物質と電荷輸送性物質を含有していることを特徴
とする請求項33記載の液晶素子。35. The liquid crystal device according to claim 33, wherein the photoelectric conversion organic semiconductor layer contains an organic charge generating substance and a charge transporting substance.
物質を含有する層と電荷輸送性物質を含有する層との積
層構造であることを特徴とする請求項33記載の液晶素
子。36. The liquid crystal device according to claim 33, wherein the photoelectric conversion organic semiconductor layer has a laminated structure of a layer containing a charge generating substance and a layer containing a charge transporting substance.
物質単独または前記電荷発生物質と電荷輸送性物質を含
有する単層構造であることを特徴とする請求項33記載
の液晶素子。37. The liquid crystal device according to claim 33, wherein the photoelectric conversion organic semiconductor layer has a single layer structure containing the charge generating substance alone or the charge generating substance and a charge transporting substance.
有していることを特徴とする請求項33記載の液晶素
子。38. The liquid crystal device according to claim 33, wherein the photoelectric conversion organic semiconductor layer has an intermediate layer.
する請求項33記載の液晶素子。39. The liquid crystal device according to claim 33, further comprising a color filter.
特徴とする請求項33記載の液晶素子。40. The liquid crystal device according to claim 33, wherein the liquid crystal is a ferroelectric liquid crystal.
体層を形成する工程と、 前記一対の透明基板の他方の表面上に配向膜を形成する
工程と、 前記光電変換有機半導体層と配向膜のうち配向膜にのみ
ラビング処理を施す工程と、 前記光電変換有機半導体層の表面にスぺーサーとなる硬
化性樹脂を配置する工程と、 前記各透明基板を貼り合わせる工程と、 前記硬化性樹脂を硬化させる工程と、 前記貼り合わされた一対の透明基板の間隙に液晶を注入
する工程と、 を備えたことを特徴とする液晶素子の製造方法。41. A method of manufacturing a liquid crystal element, comprising: forming a transparent electrode on each of a pair of transparent substrates; forming a photoelectric conversion organic semiconductor layer on one surface of the pair of transparent substrates; Forming an alignment film on the other surface of the transparent substrate, rubbing only the alignment film among the photoelectric conversion organic semiconductor layer and the alignment film, and forming a surface on the surface of the photoelectric conversion organic semiconductor layer. A step of disposing a curable resin to be a substrate, a step of bonding the respective transparent substrates, a step of curing the curable resin, and a step of injecting a liquid crystal into a gap between the pair of bonded transparent substrates. A method for manufacturing a liquid crystal element, comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP55698A JPH11160726A (en) | 1997-01-07 | 1998-01-05 | Liquid crystal element and its production |
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JP9-260471 | 1997-09-25 | ||
JP9-260470 | 1997-09-25 | ||
JP26047097 | 1997-09-25 | ||
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JP9-260472 | 1997-09-25 | ||
JP26047197 | 1997-09-25 | ||
JP26047297 | 1997-09-25 | ||
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2009015062A (en) * | 2007-07-05 | 2009-01-22 | Fuji Xerox Co Ltd | Optical switching element and optical writing type display medium |
JP2010070596A (en) * | 2008-09-16 | 2010-04-02 | Ricoh Co Ltd | Organic pigment dispersion, method for forming organic semiconductor layer, method for producing organic transistor and organic transistor |
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1998
- 1998-01-05 JP JP55698A patent/JPH11160726A/en active Pending
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