JPH11147905A - Production of ethylene polymer and ethylene polymer - Google Patents
Production of ethylene polymer and ethylene polymerInfo
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- JPH11147905A JPH11147905A JP31310497A JP31310497A JPH11147905A JP H11147905 A JPH11147905 A JP H11147905A JP 31310497 A JP31310497 A JP 31310497A JP 31310497 A JP31310497 A JP 31310497A JP H11147905 A JPH11147905 A JP H11147905A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、エチレン重合体の
製造方法およびその重合体に関する。さらに詳しくは気
相重合条件下に、粉体性状に優れたエチレン重合体を安
定して製造する方法およびそれによって得られたポリエ
チレンに関する。[0001] The present invention relates to a method for producing an ethylene polymer and the polymer. More specifically, the present invention relates to a method for stably producing an ethylene polymer having excellent powder properties under gas-phase polymerization conditions, and a polyethylene obtained by the method.
【0002】[0002]
【従来の技術】オレフィンを重合してオレフィン重合体
を製造するにあたり、(1)メタロセン化合物および
(2)アルミノキサンからなる触媒を用いる方法が提案
されている(特開昭58−019309号公報、特開平
2−167307号公報等)。これらの触媒を用いた重
合方法は、チタニウム化合物あるいはバナジウム化合物
と有機アルミニウム化合物からなる従来のチーグラー・
ナッタ触媒を用いる方法と比較して、遷移金属当たりの
重合活性が非常に高く、また、分子量分布、組成分布の
シャープな重合体が得られる。2. Description of the Related Art In producing an olefin polymer by polymerizing an olefin, a method using a catalyst comprising (1) a metallocene compound and (2) an aluminoxane has been proposed (Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-119309, JP-A-2-167307). A polymerization method using these catalysts is based on a conventional Ziegler-based compound comprising a titanium compound or a vanadium compound and an organoaluminum compound.
As compared with the method using a Natta catalyst, a polymer having a very high polymerization activity per transition metal and a sharp molecular weight distribution and a sharp composition distribution can be obtained.
【0003】しかしながら、これらの触媒を用いて工業
的に十分な重合活性を得るには多量のアルミノキサンを
必要とするため、アルミニウム当たりの重合活性は低
く、不経済であるばかりでなく、生成した重合体から触
媒残査を除去する必要があった。一方、上記メタロセン
錯体およびアルミノキサンの一方、あるいは両方をシリ
カ、アルミナ等の無機酸化物に担持させた触媒でオレフ
ィンの重合を行う方法が提案されている(特開昭61−
108610号公報、同60−135408号公報、同
61−296008号公報、特開平3−74412号公
報、同3−74415号公報等)。また、メタロセン化
合物およびアルミニウム化合物の一方あるいは両方をシ
リカ、アルミナ等の無機酸化物もしくは有機物に担持さ
せた触媒でオレフィンの重合を行う方法も提案されてい
る(特開平1−101303号公報、同1−20730
3号公報、同3−234709号公報、特表平3−50
1869号公報)。さらに、これらの担持触媒を予備重
合する方法も提案されている(特開平3−234710
号公報等)。However, a large amount of aluminoxane is required in order to industrially obtain sufficient polymerization activity using these catalysts. Therefore, the polymerization activity per aluminum is low, which is not only uneconomical, but also produces a heavy polymer. It was necessary to remove the catalyst residue from the coalescence. On the other hand, a method has been proposed in which olefin polymerization is carried out using a catalyst in which one or both of the above metallocene complex and aluminoxane are supported on an inorganic oxide such as silica or alumina (Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-1986).
Nos. 108610, 60-135408, 61-296008, JP-A-3-74412, and 3-74415. Further, a method of polymerizing an olefin using a catalyst in which one or both of a metallocene compound and an aluminum compound are supported on an inorganic oxide or an organic substance such as silica or alumina has been proposed (JP-A-1-101303, JP-A-1-101303). −20730
No. 3, JP-A-3-234709 and JP-T-Hei 3-50.
No. 1869). Furthermore, a method of pre-polymerizing these supported catalysts has also been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 3-234710).
No.).
【0004】しかしながら、これらに提案された方法に
おいても、アルミニウム当たりの重合活性はなお十分と
はいえず、生成物中の触媒残査の量は無視し得ないもの
であった。またこれらの問題点を解決する方法として、
イオン交換性層状珪酸塩あるいは無機珪酸塩、有機アル
ミニウムおよびメタロセン化合物からなる触媒およびこ
れを予備重合した触媒が提案されている(特開平5−2
95022号公報等)。[0004] However, even in these proposed methods, the polymerization activity per aluminum was still not sufficient, and the amount of catalyst residue in the product was not negligible. As a solution to these problems,
A catalyst comprising an ion-exchange layered silicate or inorganic silicate, an organoaluminum and a metallocene compound and a catalyst obtained by prepolymerizing the same have been proposed (JP-A-5-252).
No. 95022).
【0005】これらの触媒では、遷移金属あるいはアル
ミニウム当たりの重合活性は十分であるものの、実際の
重合反応の場では重合条件によっては粒子の破砕や微粉
の生成等を起こし、重合粉体の嵩密度が低下したり、気
相重合での流動性の悪化をきたす。あるいは場合によっ
ては微粉生成により反応器内への付着、シーティング等
の原因になったり、配管や熱交換器の閉塞等のトラブル
の原因となり、安定運転の障害となるなど必ずしも十分
なものではなかった。[0005] Although these catalysts have sufficient polymerization activity per transition metal or aluminum, in the actual polymerization reaction, depending on the polymerization conditions, crushing of particles or generation of fine powder may occur, resulting in a bulk density of the polymerized powder. , And the flowability is deteriorated in the gas phase polymerization. Alternatively, in some cases, the generation of fine powder may cause adhesion to the reactor, sheeting, etc., or may cause troubles such as blockage of pipes and heat exchangers. .
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、粒子破砕、
微粉の生成がなく、嵩密度の高いエチレン重合体を得る
ことのできる触媒およびエチレン重合体を提供すること
にある。また、触媒供給ラインへの付着、閉塞や重合反
応器内壁や配管、熱交換等での付着、閉塞がなく、エチ
レンの重合を安定に行うことができる触媒を提供するこ
とにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a method for crushing particles,
An object of the present invention is to provide a catalyst and an ethylene polymer capable of obtaining an ethylene polymer having a high bulk density without generating fine powder. It is another object of the present invention to provide a catalyst capable of stably polymerizing ethylene without adhesion or blockage to a catalyst supply line or adhesion or blockage in an inner wall or piping of a polymerization reactor or heat exchange.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、メタロセ
ン系遷移金属化合物および層状珪酸塩粒子からなるエチ
レン重合用触媒およびこれを用いたエチレン重合体の製
造に関し種種検討した結果、特定の層状珪酸塩粒子を用
いることにより、重合工程での粒子破砕、微粉生成がな
く、粒子形状に優れた重合体を得ることができることを
見いだし本発明に到達した。The present inventors have conducted various studies on an ethylene polymerization catalyst comprising a metallocene-based transition metal compound and layered silicate particles and on the production of an ethylene polymer using the same. By using silicate particles, it has been found that a polymer excellent in particle shape can be obtained without particle crushing and fine powder generation in the polymerization step, and the present invention has been achieved.
【0008】すなわち、本発明は、下記成分(A)およ
び成分(B)からなる触媒の存在下にエチレンの重合ま
たはエチレンとα−オレフィンとの共重合を実質的に溶
媒の不存在下に行うことを特徴とするエチレン重合体の
製造方法およびそれを用いて得られたエチレン重合体を
提供するものである。 成分(A):メタロセン系遷移金属化合物 成分(B):スメクタイト族の層状珪酸塩および雲母族
の層状珪酸塩からなり、スメクタイト族の層状珪酸塩を
0.1〜50重量%含有する層状珪酸塩粒子That is, in the present invention, the polymerization of ethylene or the copolymerization of ethylene and an α-olefin is carried out in the substantially absence of a solvent in the presence of a catalyst comprising the following components (A) and (B). It is intended to provide a method for producing an ethylene polymer characterized by the above, and an ethylene polymer obtained by using the method. Component (A): Metallocene-based transition metal compound Component (B): Layered silicate composed of smectite group silicate and mica group silicate, containing 0.1 to 50% by weight of smectite group silicate particle
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】[エチレン重合用触媒]本発明に
よる重合用触媒は、成分(A)および成分(B)からな
るものである。 <成分(A)>この成分(A)は、メタロセン系遷移金
属化合物である。このメタロセン系遷移金属化合物は、
好ましくは置換されていてもよい1個もしくは2個のシ
クロペンタジエニル系配位子、すなわち置換基が結合し
て縮合環を形成していてもよい1から2個のシクロペン
タジエニル環含有配位子、と長周期表の3、4、5また
は6族の遷移金属とからなる有機金属化合物、あるいは
それらのカチオン型錯体である。(ここで、原子の周期
律は、1989年にIUPACにより推奨された18族
方式に基づくものである。) このようなメタロセン系遷移金属化合物として好ましい
ものは、下記一般式[1]もしくは[2]で表される化
合物である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION [Ethylene Polymerization Catalyst] The polymerization catalyst according to the present invention comprises component (A) and component (B). <Component (A)> This component (A) is a metallocene transition metal compound. This metallocene transition metal compound is
Preferably, one or two cyclopentadienyl-based ligands which may be substituted, that is, one or two cyclopentadienyl ring-containing ligands which may combine with each other to form a condensed ring An organometallic compound comprising a ligand and a transition metal belonging to Group 3, 4, 5, or 6 of the long period table, or a cationic complex thereof. (Here, the periodicity of atoms is based on the group 18 system recommended by IUPAC in 1989.) Preferred examples of such a metallocene transition metal compound include the following general formula [1] or [2] ] It is a compound represented by these.
【0010】[0010]
【化1】 (CpR1 a H5-a )p (CpR2 b H5-b )q MR3 r …[1] [(CpR1 a H5-a )p (CpR2 b H5-b )q MR3 rLm ]n+[R 4]n- …[2]## STR1 ## (CpR 1 a H 5-a ) p (CpR 2 b H 5-b) q MR 3 r ... [1] [(CpR 1 a H 5-a) p (CpR 2 b H 5-b ) q MR 3 r L m] n + [R 4] n- ... [2]
【0011】(ここで、CpR1 a H5-a およびCpR
2 b H5-b は、シクロペンタジエニル(Cp)基または
その誘導体、すなわち、シクロペンタジエニルのR1 ま
たはR2 置換体、を示す。R1 およびR2 は、それぞ
れ、炭素数1から30の置換されていてもよい、炭化水
素基、ケイ素含有炭化水素基、リン含有炭化水素基、窒
素含有炭化水素基、または酸素含有炭化水素基であっ
て、各々同一でも異なっていてもよい。)(Where CpR 1 a H 5-a and CpR
2 b H 5-b represents a cyclopentadienyl (Cp) group or a derivative thereof, that is, an R 1 or R 2 substituent of cyclopentadienyl. R 1 and R 2 each may be a hydrocarbon group, a silicon-containing hydrocarbon group, a phosphorus-containing hydrocarbon group, a nitrogen-containing hydrocarbon group, or an oxygen-containing hydrocarbon group which may have 1 to 30 carbon atoms and may be substituted; And each may be the same or different. )
【0012】aおよびbは、それぞれ0〜5の整数であ
る。また、p、qおよびrは、それぞれMの価数をVと
した時に、メタロセン系遷移金属化合物が式[1]の場
合には、p+q+r=Vを満たす0または正の整数であ
り、メタロセン系遷移金属化合物が式[2]の場合に
は、p+q+r=V−nを満たす0または正の整数であ
る。通常pおよびqは0〜3の整数で、好ましくは0ま
たは1である。rは0〜3の整数で、好ましくは1また
は2である。nは0≦n≦Vを満たす整数である。R1
および(または)R2 が置換されたものである場合、そ
の置換基としては、炭素数1〜30のアルキル基、炭素
数6〜30のアリール基、ハロゲンが好ましい。A and b are each an integer of 0-5. P, q and r are each 0 or a positive integer satisfying p + q + r = V when the valence of M is V and the metallocene-based transition metal compound is represented by the formula [1]; When the transition metal compound has the formula [2], p + q + r = 0 or a positive integer satisfying Vn. Usually, p and q are integers of 0 to 3, preferably 0 or 1. r is an integer of 0 to 3, preferably 1 or 2. n is an integer satisfying 0 ≦ n ≦ V. R 1
When and / or R 2 is substituted, the substituent is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or halogen.
【0013】R1 およびR2 の具体例としては、(イ)
炭化水素基、例えば(i)炭素数1〜30、好ましくは
炭素数1〜10、のアルキル基、例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブ
チル基、t−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、
ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシ
ル基等、(ii)炭素数6〜30、好ましくは炭素数6〜
20、のアリール基、例えばフェニル基、p−トリル
基、o−トリル基、m−トリル基等、(ロ)上記炭化水
素のハロ置換体、例えばフルオロメチル基、フルオロエ
チル基、フルオロフェニル基、クロロメチル基、クロロ
エチル基、クロロフェニル基、ブロモメチル基、ブロモ
エチル基、ブロモフェニル基、ヨードメチル基、ヨード
エチル基、ヨードフェニル基等、(ハ)炭素数1〜3
0、好ましくは炭素数1〜10、のケイ素含有炭化水素
基、例えばトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、
トリフェニルシリル基等、(ニ)炭素数1〜30、好ま
しくは炭素数1〜12、のリン含有炭化水素基、例えば
ジメチルフォスフィノ基、ジエチルフォスフィノ基、ジ
フェニルフォスフィノ基等、(ホ)炭素数1〜30、好
ましくは炭素数1〜10、の窒素含有炭化水素基、例え
ばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピ
ルアミノ基等、(ヘ)炭素数1〜30、好ましくは炭素
数1〜20、の酸素含有炭化水素基、例えば(i)アル
コキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、
t−ブトキシ基等、(ii)アリールオキシ基、例えばフ
ェノキシ、メチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキ
シ基、p−トリルオキシ基、m−トリルオキシ基、o−
トリルオキシ基等が挙げられる。Specific examples of R 1 and R 2 include (a)
A hydrocarbon group, for example, (i) an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group; Pentyl group, isopentyl group,
(Ii) C6-C30, preferably C6-C3, such as hexyl, heptyl, octyl, nonyl, and decyl groups.
20, halo substituents of the above hydrocarbons such as phenyl, p-tolyl, o-tolyl, m-tolyl, etc., for example, fluoromethyl, fluoroethyl, fluorophenyl, Chloromethyl group, chloroethyl group, chlorophenyl group, bromomethyl group, bromoethyl group, bromophenyl group, iodomethyl group, iodoethyl group, iodophenyl group, etc .;
0, preferably a silicon-containing hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, for example, a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group,
(D) phosphorus-containing hydrocarbon groups having 1 to 30 carbon atoms, preferably 1 to 12 carbon atoms, such as triphenylsilyl group, for example, dimethylphosphino group, diethylphosphino group, diphenylphosphino group, etc .; A nitrogen-containing hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms, such as a dimethylamino group, a diethylamino group, and a diisopropylamino group; , An oxygen-containing hydrocarbon group such as (i) an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, an isobutoxy group,
(ii) aryloxy groups such as tert-butoxy group and the like, for example, phenoxy, methylphenoxy group, pentamethylphenoxy group, p-tolyloxy group, m-tolyloxy group, o-
And a tolyloxy group.
【0014】これらのうちで特に好ましいものは、炭素
数1〜4のアルキル基、就中メチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t
−ブチル基等、アルキル(好ましくは炭素数1〜4のも
の)置換のケイ素含有基、就中トリメチルシリル基、炭
素数1〜4のアルコキシ基、就中メトキシ基、アリール
オキシ基、就中フェノキシ基等である。Of these, particularly preferred are alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, especially methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, t
-Alkyl group (preferably having 1 to 4 carbon atoms) substituted silicon-containing group such as -butyl group, especially trimethylsilyl group, alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, particularly methoxy group, aryloxy group, especially phenoxy group And so on.
【0015】また、2つのシクロペンタジエニル(C
p)基は、架橋基を介して互いに結合してもよい。その
ような架橋基の具体例としては、(イ)炭素数1〜3
0、好ましくは1〜20、のアルキレン基、例えばメチ
レン基、エチレン基、(ロ)炭素数1〜20のアルキリ
デン基、例えばエチリデン基、プロピリデン基、イソプ
ロピリデン基、フェニルメチリデン基、ジフェニルメチ
リデン基、(ハ)炭素数1〜20のケイ素含有架橋基、
例えばジメチルシリレン基、ジエチルシリレン基、ジプ
ロピルシリレン基、ジイソプロピルシリレン基、ジフェ
ニルシリレン基、メチルエチルシリレン基、メチルフェ
ニルシリレン基、メチルイソプロピルシリレン基、メチ
ル−t−ブチルシリレン基、(ニ)炭素数1〜20のゲ
ルマニウム含有架橋基、例えばジメチルゲルミレン基、
ジエチルゲルミレン基、ジプロピルゲルミレン基、ジイ
ソプロピルゲルミレン基、ジフェニルゲルミレン基、メ
チルエチルゲルミレン基、メチルフェニルゲルミレン
基、メチルイソプロピルゲルミレン基、メチル−t−ブ
チルゲルミレン基等、(ホ)窒素含有基、例えばアミノ
基等、(ヘ)ホウ素含有基、例えばホスフィニル基等が
あげられる。Further, two cyclopentadienyl (C
The p) groups may be linked to each other via a bridging group. Specific examples of such a cross-linking group include (a) carbon numbers 1 to 3.
0, preferably 1 to 20, alkylene groups such as methylene group, ethylene group, (ii) alkylidene group having 1 to 20 carbon atoms, such as ethylidene group, propylidene group, isopropylidene group, phenylmethylidene group, diphenylmethylidene Groups, (c) a silicon-containing crosslinking group having 1 to 20 carbon atoms,
For example, dimethylsilylene group, diethylsilylene group, dipropylsilylene group, diisopropylsilylene group, diphenylsilylene group, methylethylsilylene group, methylphenylsilylene group, methylisopropylsilylene group, methyl-t-butylsilylene group, (d) carbon number 1-20 germanium-containing cross-linking groups, such as dimethylgermylene groups,
Such as diethylgermylene group, dipropylgermylene group, diisopropylgermylene group, diphenylgermylene group, methylethylgermylene group, methylphenylgermylene group, methylisopropylgermylene group, methyl-t-butylgermylene group, and the like ( E) Nitrogen-containing groups such as amino groups and (f) boron-containing groups such as phosphinyl groups.
【0016】同一のシクロペンタジエニル(Cp)基に
複数のR1 が存在する場合、あるいは複数のR2 が存在
する場合には、R1 どうし、またはR2 どうしがそのω
一端で互いに結合して環を形成してもよい。具体的に
は、インデニル基、テトラヒドロインデニル基、フルオ
レニル基、オクタヒドロフルオレニル基等が好ましくあ
げられ、これらは置換されていてもよい。この場合の置
換基としては、例えばメチル基、エチル基およびインデ
ニル基が好ましい。When a plurality of R 1 are present in the same cyclopentadienyl (Cp) group, or when a plurality of R 2 are present, R 1 or R 2 may have the same ω.
One end may be bonded to each other to form a ring. Specifically, an indenyl group, a tetrahydroindenyl group, a fluorenyl group, an octahydrofluorenyl group and the like are preferable, and these may be substituted. As the substituent in this case, for example, a methyl group, an ethyl group and an indenyl group are preferable.
【0017】R3 は、炭素数1から20の置換されても
よい炭化水素基、水素、ハロゲン、ケイ素含有置換基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アミド基、またはチ
オアルコキシ基である。具体的には、(イ)アルキル
基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペン
チル基、イソペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オ
クチル基、ノニル基、デシル基等、(ロ)アリール基、
例えばフェニル基、p−トリル基、o−トリル基、m−
トリル基等、(ハ)ハロ置換炭化水素、例えばフルオロ
メチル基、フルオロエチル基、フルオロフェニル基、ク
ロロメチル基、クロロエチル基、クロロフェニル基、ブ
ロモメチル基、ブロモエチル基、ブロモフェニル基、ヨ
ードメチル基、ヨードエチル基、ヨードフェニル基等、
(ニ)ハロゲン、例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素
等、(ホ)ケイ素含有基、例えばトリメチルシリル基、
トリエチルシリル基、トリフェニルシリル基等、(ヘ)
アルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポ
キシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ
基、t−ブトキシ基等、(ト)アリールオキシ基、例え
ばフェノキシ、メチルフェノキシ、ペンタメチルフェノ
キシ基、p−トリルオキシ基、m−トリルオキシ基、o
−トリルオキシ基等、(チ)アミド基、例えばジメチル
アミド基、ジエチルアミド基、ジプロピルアミド基、ジ
イソプロピルアミド基、エチル−t−ブチルアミド基、
ビス(トリメチルシリル)アミド基等、(リ)チオアル
コキシ基、例えばメチルチオアルコキシ基、エチルチオ
アルコキシ基、プロピルチオアルコキシ基、ブチルチオ
アルコキシ基、t−ブチルチオアルコキシ基、フェニル
チオアルコキシ基等、および(ヌ)水素があげられる。
これらのうちで好ましいものは、水素、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、フェニ
ル基、塩素等のハロゲン、メトキシ基、エトキシ基、プ
ロポキシ基、イソプロポキシ基、ジメチルアミド基、メ
チルチオアルコキシ基があげられ、水素、メチル基およ
び塩素が特に好ましい。R 3 is an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, hydrogen, halogen, a silicon-containing substituent,
It is an alkoxy group, an aryloxy group, an amide group, or a thioalkoxy group. Specifically, (a) alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, t-butyl, pentyl, isopentyl, hexyl, heptyl, octyl, (Ii) aryl group such as nonyl group and decyl group,
For example, phenyl, p-tolyl, o-tolyl, m-
(C) halo-substituted hydrocarbons such as tolyl group, for example, fluoromethyl group, fluoroethyl group, fluorophenyl group, chloromethyl group, chloroethyl group, chlorophenyl group, bromomethyl group, bromoethyl group, bromophenyl group, iodomethyl group, iodoethyl group , Iodophenyl group, etc.
(D) halogen, for example, fluorine, chlorine, bromine, iodine, etc., (e) silicon-containing group, for example, trimethylsilyl group,
(E) triethylsilyl group, triphenylsilyl group, etc.
(G) aryloxy groups such as alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, butoxy group, isobutoxy group, and t-butoxy group, such as phenoxy, methylphenoxy, pentamethylphenoxy group, and p-tolyloxy Group, m-tolyloxy group, o
A (thi) amide group such as a tolyloxy group, for example, a dimethylamide group, a diethylamide group, a dipropylamide group, a diisopropylamide group, an ethyl-t-butylamide group,
(Ri) thioalkoxy groups such as bis (trimethylsilyl) amide group, for example, methylthioalkoxy group, ethylthioalkoxy group, propylthioalkoxy group, butylthioalkoxy group, t-butylthioalkoxy group, phenylthioalkoxy group, and ( G) Hydrogen.
Among these, hydrogen, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, phenyl, halogen such as chlorine, methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, dimethylamide, A methylthioalkoxy group is mentioned, and hydrogen, a methyl group and chlorine are particularly preferred.
【0018】また、このR3 は、R1 もしくはR2 もし
くはCpと結合していてもよく、このような配位子の具
体例として、CpH4 (CH2 )n O−(1≦n≦
5)、CpMe4 (CH2 )n O−(1≦n≦5)、C
pH4 (Me2 Si)(t−Bu)N−、CpMe
4 (Me2 Si)(t−Bu)N−等(Cpはシクロペ
ンタジエニル基、Meメチル、Buはブチル基を示す)
があげられる。さらに、R3 が複数存在する場合には、
このうちの2つが相互に結合して二座配位子を形成して
もよい。このようなR3 の具体例としては、−OCH2
O−、−OCH2 CH2 O−、−O(o−C6 H4 )O
−等があげられる。This R 3 may be bonded to R 1, R 2 or Cp. As a specific example of such a ligand, CpH 4 (CH 2 ) n O- (1 ≦ n ≦
5), CpMe 4 (CH 2 ) n O- (1 ≦ n ≦ 5), C
pH 4 (Me 2 Si) (t-Bu) N-, CpMe
4 (Me 2 Si) (t-Bu) N—, etc. (Cp indicates cyclopentadienyl group, Me methyl, Bu indicates butyl group)
Is raised. Further, when there are a plurality of R 3 ,
Two of them may combine with each other to form a bidentate ligand. Specific examples of such R 3 include —OCH 2
O -, - OCH 2 CH 2 O -, - O (o-C 6 H 4) O
-And the like.
【0019】Mは、周期率表第3、4、5または6族の
遷移金属原子であり、具体的には、スカンジウム、イッ
トリウム、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジ
ム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビ
ウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリ
ウム、イッテルビウム、ルテチウム、アクチニウム、ト
リウム、プロトアクチニウム、ウラン、チタニウム、ジ
ルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタ
ル、クロム、モリブデン、タングステンがあげられる。
これらのうち、4族のチタニウム、ジルコニウム、ハフ
ニウムが好ましく用いられる。また、これらは混合して
用いてもよい。M is a transition metal atom belonging to Group 3, 4, 5, or 6 of the periodic table, and specifically, scandium, yttrium, lanthanum, cerium, praseodymium, neodymium, samarium, europium, gadolinium, terbium, Dysprosium, holmium, erbium, thulium, ytterbium, lutetium, actinium, thorium, protactinium, uranium, titanium, zirconium, hafnium, vanadium, niobium, tantalum, chromium, molybdenum, and tungsten.
Of these, titanium, zirconium, and hafnium of Group 4 are preferably used. These may be used as a mixture.
【0020】Lは、電気的に中性な配位子を、mはその
個数で0以上の整数を示し、具体的にはジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル
類、アセトニトリルのようなニトリル類、ジメチルホル
ムアミドのようなアミド類、トリメチルホスフィンのよ
うなホスフィン類、トリメチルアミンのようなアミン類
をあげることができる。好ましくはテトラヒドロフラ
ン、トリメチルホスフィン、トリメチルアミンである。L is an electrically neutral ligand, and m is an integer of 0 or more by the number of the ligand. Specifically, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, and nitriles such as acetonitrile Amides such as dimethylformamide, phosphines such as trimethylphosphine, and amines such as trimethylamine. Preferred are tetrahydrofuran, trimethylphosphine and trimethylamine.
【0021】[R4 ]n-は、カチオンを中和する1個ま
たは2個以上のアニオンであり、具体的には、テトラフ
ェニルボレート、テトラ(p−トリル)ボレート、カル
バドデカボレート、ジカルバウンデカボレート、テトラ
キス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、テトラフル
オロボレート、ヘキサフルオロフォスフェート等をあげ
ることができる。好ましくは、テトラフェニルボレー
ト、テトラ(p−トリル)ボレート、テトラフルオロボ
レート、ヘキサフルオロフォスフェートである。[R 4 ] n- is one or more anions that neutralize the cation, and specifically, tetraphenyl borate, tetra (p-tolyl) borate, carbadodecaborate, dicarbaun Examples include decaborate, tetrakis (pentafluorophenyl) borate, tetrafluoroborate, hexafluorophosphate, and the like. Preferred are tetraphenylborate, tetra (p-tolyl) borate, tetrafluoroborate and hexafluorophosphate.
【0022】上述のメタロセン系遷移金属化合物は、具
体的には、ジルコニウムを例にとれば、式[1]に相当
するものとしては、(1)ビス(メチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロライド、(2)ビス(エチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、
(3)ビス(メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジメチル、(4)ビス(エチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジメチル、(5)ビス(メチルシクロ
ペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、(6)ビス
(エチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化
物、(7)ビス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジル
コニウムジクロライド、(8)ビス(トリメチルシクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、(9)ビ
ス(テトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
ジクロライド、(10)ビス(エチルテトラメチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、(1
1)ビス(インデニル)ジルコニウムジクロライド、
(12)ビス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジメチル、(13)ビス(トリメチルシクロペン
タジエニル)ジルコニウムジメチル、(14)ビス(テ
トラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチ
ル、(15)ビス(エチルテトラメチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジメチル、(16)ビス(インデ
ニル)ジルコニウムジメチル、(17)ビス(ジメチル
シクロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、(1
8)ビス(トリメチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウム二水素化物、(19)ビス(エチルテトラメチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、(2
0)ビス(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジメチル、(21)ビス(トリメチルシリル
シクロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、(2
2)ビス(トリフルオロメチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロライド、(23)ビス(トリフルオ
ロメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチ
ル、(24)ビス(トリフルオロメチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウム二水素化物、(25)イソプロピ
リデン−ビス(インデニル)ジルコニウムジクロライ
ド、(26)イソプロピリデン−ビス(インデニル)ジ
ルコニウムジメチル、(27)イソプロピリデン−ビス
(インデニル)ジルコニウム二水素化物、(28)ペン
タメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロライド、(29)ペンタメチル
シクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジメチル、(30)ペンタメチルシクロペンタジ
エニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化
物、(31)エチルテトラメチルシクロペンタジエニル
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、
(32)イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)
(フルオレニル)ジルコニウムジクロライド、(33)
イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(フルオレ
ニル)ジルコニウムジメチル、(34)ジメチルシリル
(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウ
ムジメチル、(35)イソプロピリデン(シクロペンタ
ジエニル)(フルオレニル)ジルコニウム二水素化物、
(36)ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
クロライド、(37)ビス(シクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジメチル、(38)ビス(シクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジエチル、(39)ビス(シクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジプロピル、(40)ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジフェニル、
(41)メチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロライド、(42)エチルシ
クロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジクロライド、(43)メチルシクロペンタジエニ
ル(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、
(44)エチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジメチル、(45)メチルシクロ
ペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
二水素化物、(46)エチルシクロペンタジエニル(シ
クロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、(4
7)ジメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジクロライド、(48)トリメチル
シクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジクロライド、(49)テトラメチルシクロペン
タジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロライド、(50)ビス(ペンタメチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロライド、(51)テトラメ
チルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジクロライド、(52)インデニル(シクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、(53)
ジメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジメチル、(54)トリメチルシクロ
ペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
ジメチル、(55)テトラメチルシクロペンタジエニル
(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、(5
6)ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジメチル、(57)エチルテトラメチルシクロペ
ンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
メチル、(58)インデニル(シクロペンタジエニル)
ジルコニウムジメチル、(59)ジメチルシクロペンタ
ジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム二水素
化物、(60)トリメチルシクロペンタジエニル(シク
ロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、(61)
ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ム二水素化物、(62)インデニル(シクロペンタジエ
ニル)ジルコニウム二水素化物、(63)トリメチルシ
リルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジメチル、(64)トリメチルシリルシクロ
ペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
二水素化物、(65)トリフルオロメチルシクロペンタ
ジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロ
ライド、(66)トリフルオロメチルシクロペンタジエ
ニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、
(67)トリフルオロメチルシクロペンタジエニル(シ
クロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、(6
8)ビス(シクロペンタジエニル)(トリメチルシリ
ル)(メチル)ジルコニウム、(69)ビス(シクロペ
ンタジエニル)(トリフェニルシリル)(メチル)ジル
コニウム、(70)ビス(シクロペンタジエニル)[ト
リス(トリメチルシリル)シリル](メチル)ジルコニ
ウム、(71)ビス(シクロペンタジエニル)[ビス
(メチルシリル)シリル](メチル)ジルコニウム、
(72)ビス(シクロペンタジエニル)(トリメチルシ
リル)(トリメチルシリルメチル)ジルコニウム、(7
3)ビス(シクロペンタジエニル)(トリメチルシリ
ル)(ベンジル)ジルコニウム、(74)メチレン−ビ
ス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライ
ド、(75)エチレン−ビス(シクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロライド、(76)イソプロピリデン
−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロラ
イド、(77)ジメチルシリル−ビス(シクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロライド、(78)メチレン
−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチ
ル、(79)エチレン−ビス(シクロペンタジエニル)
ジルコニウムジメチル、(80)イソプロピリデン−ビ
ス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、
(81)ジメチルシリル−ビス(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジメチル、(82)メチレン−ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、
(83)エチレン−ビス(シクロペンタジエニル)ジル
コニウム二水素化物、(84)イソプロピリデン−ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、
(85)ジメチルシリル−ビス(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム二水素化物、(86)ビス(シクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムビス(メタンスルホナ
ト)、(87)ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムビス(p−トルエンスルホナト)、(88)ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウムビス(トリフル
オロメタンスルホナト)、(89)ビス(シクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムトリフルオロメタンスルホナト
クロライド、(90)ビス(シクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムビス(ベンゼンスルホナト)、(91)ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウムビス(ペンタフ
ルオロベンゼンスルホナト)、(92)ビス(シクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムベンゼンスルホナトクロラ
イド、(93)ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニ
ウム(エトキシ)トリフルオロメタンスルホナト、(9
4)ビス(テトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムビス(トリフルオロメタンスルホナト)、(9
5)ビス(インデニル)ジルコニウムビス(トリフルオ
ロメタンスルホナト)、(96)エチレンビス(インデ
ニル)ジルコニウムビス(トリフルオロメタンスルホナ
ト)、(97)イソプロピリデン−ビス(インデニル)
ジルコニウムビス(トリフルオロメタンスルホナト)、
(98)(第3級ブチルアミド)ジメチル(テトラメチ
ルシクロペンタジエニル)シランジベンジルジルコニウ
ム(第3級ブチルアミド)ジメチル(2,3,4,5−
テトラメチルシクロペンタジエニル)シランジベンジル
ジルコニウム、(99)インデニルジルコニウムトリス
(ジメチルアミド)、(100)インデニルジルコニウ
ムトリス(ジエチルアミド)、(101)インデニルジ
ルコニウムトリス(ジ−n−プロピルアミド)、(10
2)シクロペンタジエニルジルコニウムトリス(ジメチ
ルアミド)、(103)メチルシクロペンタジエニルジ
ルコニウムトリス(ジメチルアミド)、(104)(第
3級ブチルアミド)(テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)−1,2−エタンジイルジルコニウムジクロライ
ド、(105)(メチルアミド)−(テトラメチルシク
ロペンタジエニル)−1,2−エタンジイルジルコニウ
ムジクロライド、(106)(エチルアミド)(テトラ
メチルシクロペンタジエニル)メチレンジルコニウムジ
クロライド、(107)(第3級ブチルアミド)ジメチ
ル−(テトラメチルシクロペンタジエニル)シランジル
コニウムジクロライド、(108)(ベンジルアミド)
ジメチル(テトラメチルシクロペンタジエニル)シラン
ジルコニウムジクロライド、(109)(フェニルホス
フィド)ジメチル(テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)シランジルコニウムジベンジル、(110)(フェ
ニルアミド)ジメチル(テトラメチルシクロペンタジエ
ニル)シランジルコニウムジクロライド、(111)
(2−メトキシフェニルアミド)ジメチル(テトラメチ
ルシクロペンタジエニル)シランジルコニウムジクロラ
イド、(112)(4−フルオロフェニルアミド)ジメ
チル(テトラメチルシクロペンタジエニル)シランジル
コニウムジクロライド、(113)((2,6−ジ(1
−メチルエチル)フェニル)アミド)ジメチル(テトラ
メチルシクロペンタジエニル)アミドジルコニウムジク
ロライド、等がある。The above-mentioned metallocene transition metal compound, specifically, taking zirconium as an example, those corresponding to the formula [1] include (1) bis (methylcyclopentadienyl) zirconium dichloride and ( 2) bis (ethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride,
(3) bis (methylcyclopentadienyl) zirconium dimethyl, (4) bis (ethylcyclopentadienyl) zirconium dimethyl, (5) bis (methylcyclopentadienyl) zirconium dihydride, (6) bis (ethyl) (Cyclopentadienyl) zirconium dihydride, (7) bis (dimethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, (8) bis (trimethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, (9) bis (tetramethylcyclopentadienyl) Zirconium dichloride, (10) bis (ethyltetramethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, (1
1) bis (indenyl) zirconium dichloride,
(12) bis (dimethylcyclopentadienyl) zirconium dimethyl, (13) bis (trimethylcyclopentadienyl) zirconium dimethyl, (14) bis (tetramethylcyclopentadienyl) zirconium dimethyl, (15) bis (ethyltetra Methylcyclopentadienyl) zirconium dimethyl, (16) bis (indenyl) zirconium dimethyl, (17) bis (dimethylcyclopentadienyl) zirconium dihydride, (1
8) bis (trimethylcyclopentadienyl) zirconium dihydride, (19) bis (ethyltetramethylcyclopentadienyl) zirconium dihydride, (2
0) bis (trimethylsilylcyclopentadienyl) zirconium dimethyl, (21) bis (trimethylsilylcyclopentadienyl) zirconium dihydride, (2
2) Bis (trifluoromethylcyclopentadienyl)
Zirconium dichloride, (23) bis (trifluoromethylcyclopentadienyl) zirconium dimethyl, (24) bis (trifluoromethylcyclopentadienyl) zirconium dihydride, (25) isopropylidene-bis (indenyl) zirconium dichloride, (26) isopropylidene-bis (indenyl) zirconium dimethyl, (27) isopropylidene-bis (indenyl) zirconium dihydride, (28) pentamethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium dichloride, (29) penta Methylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium dimethyl, (30) pentamethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium dihydride, (31) ethyltet Cyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium dihydride,
(32) isopropylidene (cyclopentadienyl)
(Fluorenyl) zirconium dichloride, (33)
Isopropylidene (cyclopentadienyl) (fluorenyl) zirconium dimethyl, (34) dimethylsilyl (cyclopentadienyl) (fluorenyl) zirconium dimethyl, (35) isopropylidene (cyclopentadienyl) (fluorenyl) zirconium dihydride,
(36) bis (cyclopentadienyl) zirconium dichloride, (37) bis (cyclopentadienyl) zirconium dimethyl, (38) bis (cyclopentadienyl) zirconium diethyl, (39) bis (cyclopentadienyl) zirconium Dipropyl, (40) bis (cyclopentadienyl) zirconium diphenyl,
(41) methylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium dichloride, (42) ethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium dichloride, (43) methylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium dimethyl ,
(44) ethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium dimethyl, (45) methylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium dihydride, (46) ethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) Zirconium dihydride, (4
7) Dimethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium dichloride, (48) trimethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium dichloride, (49) tetramethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium dichloride (50) bis (pentamethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, (51) tetramethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium dichloride, (52) indenyl (cyclopentadienyl) zirconium dichloride, (53)
Dimethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium dimethyl, (54) trimethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium dimethyl, (55) tetramethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium dimethyl, ( 5
6) bis (pentamethylcyclopentadienyl) zirconium dimethyl, (57) ethyltetramethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium dimethyl, (58) indenyl (cyclopentadienyl)
Zirconium dimethyl, (59) dimethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium dihydride, (60) trimethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium dihydride, (61)
Bis (pentamethylcyclopentadienyl) zirconium dihydride, (62) indenyl (cyclopentadienyl) zirconium dihydride, (63) trimethylsilylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium dimethyl, (64) trimethylsilyl Cyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium dihydride, (65) trifluoromethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium dichloride, (66) trifluoromethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) Zirconium dimethyl,
(67) trifluoromethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium dihydride, (6
8) bis (cyclopentadienyl) (trimethylsilyl) (methyl) zirconium, (69) bis (cyclopentadienyl) (triphenylsilyl) (methyl) zirconium, (70) bis (cyclopentadienyl) [tris ( Trimethylsilyl) silyl] (methyl) zirconium, (71) bis (cyclopentadienyl) [bis (methylsilyl) silyl] (methyl) zirconium,
(72) bis (cyclopentadienyl) (trimethylsilyl) (trimethylsilylmethyl) zirconium, (7
3) bis (cyclopentadienyl) (trimethylsilyl) (benzyl) zirconium, (74) methylene-bis (cyclopentadienyl) zirconium dichloride, (75) ethylene-bis (cyclopentadienyl)
Zirconium dichloride, (76) isopropylidene-bis (cyclopentadienyl) zirconium dichloride, (77) dimethylsilyl-bis (cyclopentadienyl) zirconium dichloride, (78) methylene-bis (cyclopentadienyl) zirconium dimethyl, (79) Ethylene-bis (cyclopentadienyl)
Zirconium dimethyl, (80) isopropylidene-bis (cyclopentadienyl) zirconium dimethyl,
(81) dimethylsilyl-bis (cyclopentadienyl) zirconium dimethyl, (82) methylene-bis (cyclopentadienyl) zirconium dihydride,
(83) ethylene-bis (cyclopentadienyl) zirconium dihydride, (84) isopropylidene-bis (cyclopentadienyl) zirconium dihydride,
(85) dimethylsilyl-bis (cyclopentadienyl) zirconium dihydride, (86) bis (cyclopentadienyl) zirconiumbis (methanesulfonato), (87) bis (cyclopentadienyl) zirconiumbis (p -Toluenesulfonato), (88) bis (cyclopentadienyl) zirconium bis (trifluoromethanesulfonato), (89) bis (cyclopentadienyl) zirconium trifluoromethanesulfonatochloride, (90) bis (cyclopentadiene) (Enyl) zirconium bis (benzenesulfonato), (91) bis (cyclopentadienyl) zirconium bis (pentafluorobenzenesulfonato), (92) bis (cyclopentadienyl) zirconium benzenesulfonatochloride, (93) bis (Shiku Pentadienyl) zirconium (ethoxy) trifluoromethanesulfonate, (9
4) bis (tetramethylcyclopentadienyl) zirconium bis (trifluoromethanesulfonato), (9
5) Bis (indenyl) zirconium bis (trifluoromethanesulfonate), (96) ethylenebis (indenyl) zirconiumbis (trifluoromethanesulfonate), (97) isopropylidene-bis (indenyl)
Zirconium bis (trifluoromethanesulfonate),
(98) (Tertiary butylamido) dimethyl (tetramethylcyclopentadienyl) silane dibenzyl zirconium (tertiary butylamido) dimethyl (2,3,4,5-
Tetramethylcyclopentadienyl) silanedibenzyl zirconium, (99) indenyl zirconium tris (dimethylamide), (100) indenyl zirconium tris (diethylamide), (101) indenyl zirconium tris (di-n-propylamide) , (10
2) cyclopentadienyl zirconium tris (dimethylamide), (103) methylcyclopentadienyl zirconium tris (dimethylamide), (104) (tertiary butylamide) (tetramethylcyclopentadienyl) -1,2- Ethanediylzirconium dichloride, (105) (methylamido)-(tetramethylcyclopentadienyl) -1,2-ethanediylzirconium dichloride, (106) (ethylamido) (tetramethylcyclopentadienyl) methylenezirconium dichloride, (107) ) (Tertiary butylamido) dimethyl- (tetramethylcyclopentadienyl) silane zirconium dichloride, (108) (benzylamide)
Dimethyl (tetramethylcyclopentadienyl) silane zirconium dichloride, (109) (phenylphosphide) dimethyl (tetramethylcyclopentadienyl) silanezirconium dibenzyl, (110) (phenylamido) dimethyl (tetramethylcyclopentadienyl) ) Silane zirconium dichloride, (111)
(2-methoxyphenylamido) dimethyl (tetramethylcyclopentadienyl) silane zirconium dichloride, (112) (4-fluorophenylamido) dimethyl (tetramethylcyclopentadienyl) silane zirconium dichloride, (113) ((2, 6-di (1
-Methylethyl) phenyl) amido) dimethyl (tetramethylcyclopentadienyl) amido zirconium dichloride.
【0023】(114)ビス(1,3−ジメチルシクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、(115)
ビス(1−エチル−3−メチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロリド、(116)ビス(1−n−プ
ロピル−3−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロリド、(117)ビス(1−i−プロピル−3
−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリ
ド、(118)ビス(1−n−ブチル−3−メチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、(11
9)ビス(1−i−ブチル−3−メチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロリド、(120)ビス(1
−シクロヘキシル−3−メチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロリド、(121)ビス(1,3−ジ
メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、
(122)ビス(1−エチル−3−メチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジメチル、(123)ビス(1
−n−プロピル−3−メチルシクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジメチル、(124)ビス(1−n−ブチル
−3−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメ
チル、(125)ビス(1,3−ジメチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジビス(ジエチルアミド)、
(126)ビス(1−エチル−3−メチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムビス(ジエチルアミド)、(1
27)ビス(1−n−ブチル−3−メチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムビス(ジエチルアミド)(114) bis (1,3-dimethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, (115)
Bis (1-ethyl-3-methylcyclopentadienyl)
Zirconium dichloride, (116) bis (1-n-propyl-3-methylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, (117) bis (1-i-propyl-3)
-Methylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, (118) bis (1-n-butyl-3-methylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, (11
9) bis (1-i-butyl-3-methylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, (120) bis (1
-Cyclohexyl-3-methylcyclopentadienyl)
Zirconium dichloride, (121) bis (1,3-dimethylcyclopentadienyl) zirconium dimethyl,
(122) bis (1-ethyl-3-methylcyclopentadienyl) zirconium dimethyl, (123) bis (1
-N-propyl-3-methylcyclopentadienyl) zirconium dimethyl, (124) bis (1-n-butyl-3-methylcyclopentadienyl) zirconium dimethyl, (125) bis (1,3-dimethylcyclopenta Dienyl) zirconium dibis (diethylamide),
(126) bis (1-ethyl-3-methylcyclopentadienyl) zirconium bis (diethylamide), (1
27) bis (1-n-butyl-3-methylcyclopentadienyl) zirconium bis (diethylamide)
【0024】また、一般式[2]に相当するものとして
は、(1)ビス(メチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウム(クロライド)(テトラフェニルボレート)テト
ラヒドロフラン錯体、(2)ビス(エチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニ
ルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(3)ビス(メ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウム(メチル)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(4)ビス(エチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ム(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロ
フラン錯体、(5)ビス(メチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム(ヒドリド)(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、(6)ビス(エチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)(テトラ
フェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(7)ビ
ス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム(ク
ロライド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフ
ラン錯体、(8)ビス(トリメチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボレ
ート)テトラヒドロフラン錯体、(9)ビス(テトラメ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウム(クロライ
ド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、(10)ビス(エチルテトラメチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニル
ボレート)テトラヒドロフラン錯体、(11)ビス(イ
ンデニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニ
ルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(12)ビス
(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム(メチ
ル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、(13)ビス(トリメチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレート)テ
トラヒドロフラン錯体、(14)ビス(テトラメチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウム(メチル)(テトラ
フェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(15)
ビス(エチルテトラメチルシクロペンタジエニル)ジル
コニウム(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラ
ヒドロフラン錯体、(16)ビス(インデニル)ジルコ
ニウム(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラヒ
ドロフラン錯体、(17)ビス(ジメチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)(テトラフェニル
ボレート)テトラヒドロフラン錯体、(18)ビス(ト
リメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリ
ド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、(19)ビス(エチルテトラメチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウム(ヒドリド)(テトラフェニルボ
レート)テトラヒドロフラン錯体、(20)ビス(トリ
メチルシリルシクロペンタジエニル)ジルコニウム(メ
チル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン
錯体、(21)ビス(トリメチルシリルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウム(ヒドリド)(テトラフェニルボ
レート)テトラヒドロフラン錯体、(22)ビス(トリ
フルオロメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフ
ラン錯体、(23)ビス(トリフルオロメチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)(テトラフェ
ニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(24)イソ
プロピリデン−ビス(インデニル)ジルコニウム(クロ
ライド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラ
ン錯体、(25)イソプロピリデン−ビス(インデニ
ル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、(26)イソプロピリデ
ン−ビス(インデニル)ジルコニウム(ヒドリド)(テ
トラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(2
7)ペンタメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタ
ジエニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニ
ルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(28)エチル
テトラメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエ
ニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボ
レート)テトラヒドロフラン錯体、(29)ペンタメチ
ルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジル
コニウム(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラ
ヒドロフラン錯体、(30)エチルテトラメチルシクロ
ペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフ
ラン錯体、(31)ペンタメチルシクロペンタジエニル
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(32)エチルテトラメチルシクロペンタジエニル(シ
クロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)(テト
ラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(3
3)イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(フル
オレニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニ
ルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(34)イソプ
ロピリデン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)
ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレート)テ
トラヒドロフラン錯体、(35)イソプロピリデン(シ
クロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウム
(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロ
フラン錯体、(36)ビス(シクロペンタジエニル)ジ
ルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボレート)
テトラヒドロフラン錯体、(37)ビス(シクロペンタ
ジエニル)(メチル)ジルコニウム(テトラフェニルボ
レート)テトラヒドロフラン錯体、(38)ビス(シク
ロペンタジエニル)(エチル)ジルコニウム(テトラフ
ェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(39)ビ
ス(シクロペンタジエニル)(プロピル)ジルコニウム
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(40)ビス(シクロペンタジエニル)(フェニル)ジ
ルコニウム(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフ
ラン錯体、(41)メチルシクロペンタジエニル(シク
ロペンタジエニル)ジルコニウム(クロライド)(テト
ラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(4
2)エチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボレ
ート)テトラヒドロフラン錯体、(43)ビス(エチル
シクロペンタジエニル)ジルコニウム(クロライド)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(44)メチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジ
エニル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレ
ート)テトラヒドロフラン錯体、(45)エチルシクロ
ペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフ
ラン錯体、(46)メチルシクロペンタジエニル(シク
ロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)(テトラ
フェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(47)
エチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)
ジルコニウム(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)
テトラヒドロフラン錯体、(48)ジメチルシクロペン
タジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(ク
ロライド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフ
ラン錯体、(49)トリメチルシクロペンタジエニル
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(クロライド)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(50)テトラメチルシクロペンタジエニル(シクロペ
ンタジエニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフ
ェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(51)ビ
ス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
(クロライド)(テトラフェニルボレート)テトラヒド
ロフラン錯体、(52)インデニル(シクロペンタジエ
ニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボ
レート)テトラヒドロフラン錯体、(53)ジメチルシ
クロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニ
ウム(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラヒド
ロフラン錯体、(54)トリメチルシクロペンタジエニ
ル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(メチル)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(55)テトラメチルシクロペンタジエニル(シクロペ
ンタジエニル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニ
ルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(56)ビス
(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフ
ラン錯体、(57)シクロペンタジエニル(インデニ
ル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、(58)ジメチルシクロ
ペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロ
フラン錯体、(59)トリメチルシクロペンタジエニル
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(60)ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジ
ルコニウム(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テ
トラヒドロフラン錯体、(61)インデニル(シクロペ
ンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)(テトラフェ
ニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(62)トリ
メチルシリルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエ
ニル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、(63)トリメチルシリ
ルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジル
コニウム(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テト
ラヒドロフラン錯体、(64)トリフルオロメチルシク
ロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウ
ム(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テトラヒド
ロフラン錯体、(65)ビス(シクロペンタジエニル)
(トリメチルシリル)ジルコニウム(テトラフェニルボ
レート)テトラヒドロフラン錯体、(66)ビス(シク
ロペンタジエニル)(トリフェニルシリル)ジルコニウ
ム(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、(67)ビス(シクロペンタジエニル)[トリス
(トリメチルシリル)シリル]ジルコニウム(テトラフ
ェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(68)ビ
ス(シクロペンタジエニル)(トリメチルシリルメチ
ル)ジルコニウム(テトラフェニルボレート)テトラヒ
ドロフラン錯体、(69)ビス(シクロペンタジエニ
ル)(ベンジル)ジルコニウム(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、(70)メチレン−ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(クロライド)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(71)エチレン−ビス(シクロペンタジエニル)ジル
コニウム(クロライド)(テトラフェニルボレート)テ
トラヒドロフラン錯体、(72)イソプロピリデン−ビ
ス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(クロライ
ド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、(73)ジメチルシリル−ビス(シクロペンタジエ
ニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボ
レート)テトラヒドロフラン錯体、(74)メチレン−
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(メチル)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(75)エチレン−ビス(シクロペンタジエニル)ジル
コニウム(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラ
ヒドロフラン錯体、(76)イソプロピリデン−ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(メチル)(テ
トラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(7
7)ジメチルシリル−ビス(シクロペンタジエニル)ジ
ルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレート)テト
ラヒドロフラン錯体、(78)メチレン−ビス(シクロ
ペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)(テトラフ
ェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(79)エ
チレン−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロ
フラン錯体、(80)イソプロピリデン−ビス(シクロ
ペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)(テトラフ
ェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(81)ジ
メチルシリル−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニ
ウム(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テトラヒ
ドロフラン錯体、(82)ビス(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム(メタンスルホナト)(テトラフェニ
ルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(83)ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(p−トルエン
スルホナト)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロ
フラン錯体、(84)ビス(シクロペンタジエニル)ジ
ルコニウム(トリフルオロメタンスルホナト)(テトラ
フェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(85)
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(ベンゼン
スルホナト)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロ
フラン錯体、(86)ビス(シクロペンタジエニル)ジ
ルコニウム(ペンタフルオロベンゼンスルホナト)(テ
トラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(8
7)ビス(テトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウム(トリフルオロメタンスルホナト)(テトラフェ
ニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(88)ビス
(インデニル)ジルコニウム(トリフルオロメタンスル
ホナト)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラ
ン錯体、(89)エチレンビス(インデニル)ジルコニ
ウム(トリフルオロメタンスルホナト)(テトラフェニ
ルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(90)イソプ
ロピリデン−ビス(インデニル)ジルコニウム(トリフ
ルオロメタンスルホナト)(テトラフェニルボレート)
テトラヒドロフラン錯体、等がある。また、チタニウム
化合物、ハフニウム化合物等の他の第3、4、5、6族
金属化合物についても、上記と同様の化合物が挙げられ
る。更にこれらの化合物の混合物を用いてもよい。The compounds corresponding to the general formula [2] include (1) bis (methylcyclopentadienyl) zirconium (chloride) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, and (2) bis (ethylcyclopentadienyl). ) Zirconium (chloride) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (3) bis (methylcyclopentadienyl) zirconium (methyl)
(Tetraphenyl borate) tetrahydrofuran complex,
(4) bis (ethylcyclopentadienyl) zirconium (methyl) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (5) bis (methylcyclopentadienyl) zirconium (hydrido) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (6) bis (Ethylcyclopentadienyl) zirconium (hydride) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (7) bis (dimethylcyclopentadienyl) zirconium (chloride) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (8) bis (trimethylcyclopenta (Dienyl) zirconium (chloride) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (9) bis (tetramethylcyclopentadienyl) zirconium (chloride) (tetraphenyl Rate) tetrahydrofuran complex, (10) bis (ethyltetramethylcyclopentadienyl) zirconium (chloride) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (11) bis (indenyl) zirconium (chloride) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, 12) bis (dimethylcyclopentadienyl) zirconium (methyl) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (13) bis (trimethylcyclopentadienyl)
Zirconium (methyl) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (14) bis (tetramethylcyclopentadienyl) zirconium (methyl) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (15)
Bis (ethyltetramethylcyclopentadienyl) zirconium (methyl) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (16) bis (indenyl) zirconium (methyl) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (17) bis (dimethylcyclopentadiene) (Enyl) zirconium (hydrido) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (18) bis (trimethylcyclopentadienyl) zirconium (hydrido) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (19) bis (ethyltetramethylcyclopentadienyl) Zirconium (hydrido) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (20) bis (trimethylsilylcyclopentadienyl) zirconium (methyl) (tetraf Nylborate) tetrahydrofuran complex, (21) bis (trimethylsilylcyclopentadienyl) zirconium (hydrido) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (22) bis (trifluoromethylcyclopentadienyl) zirconium (methyl) (tetraphenylborate) Tetrahydrofuran complex, (23) bis (trifluoromethylcyclopentadienyl) zirconium (hydrido) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (24) isopropylidene-bis (indenyl) zirconium (chloride) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (25) isopropylidene-bis (indenyl) zirconium (methyl) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (26) Propylidene - bis (indenyl) zirconium (hydride) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (2
7) Pentamethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium (chloride) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (28) ethyltetramethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium (chloride) (tetraphenylborate) ) Tetrahydrofuran complex, (29) pentamethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium (methyl) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (30) ethyltetramethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium (methyl) ) (Tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (31) pentamethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium (hydride)
(Tetraphenyl borate) tetrahydrofuran complex,
(32) ethyltetramethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium (hydride) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (3
3) isopropylidene (cyclopentadienyl) (fluorenyl) zirconium (chloride) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (34) isopropylidene (cyclopentadienyl) (fluorenyl)
Zirconium (methyl) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (35) isopropylidene (cyclopentadienyl) (fluorenyl) zirconium (hydrido) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (36) bis (cyclopentadienyl) zirconium ( Chloride) (tetraphenyl borate)
Tetrahydrofuran complex, (37) bis (cyclopentadienyl) (methyl) zirconium (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (38) bis (cyclopentadienyl) (ethyl) zirconium (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (39) Bis (cyclopentadienyl) (propyl) zirconium (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex,
(40) bis (cyclopentadienyl) (phenyl) zirconium (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (41) methylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium (chloride) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (4)
2) Ethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium (chloride) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (43) bis (ethylcyclopentadienyl) zirconium (chloride)
(Tetraphenyl borate) tetrahydrofuran complex,
(44) methylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium (methyl) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (45) ethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium (methyl) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran Complex, (46) methylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium (hydride) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (47)
Ethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl)
Zirconium (hydride) (tetraphenylborate)
Tetrahydrofuran complex, (48) dimethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium (chloride) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (49) trimethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium (chloride)
(Tetraphenyl borate) tetrahydrofuran complex,
(50) tetramethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium (chloride) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (51) bis (pentamethylcyclopentadienyl) zirconium (chloride) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex (52) indenyl (cyclopentadienyl) zirconium (chloride) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (53) dimethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium (methyl) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, 54) Trimethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium (methyl)
(Tetraphenyl borate) tetrahydrofuran complex,
(55) tetramethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium (methyl) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex; (56) bis (pentamethylcyclopentadienyl) zirconium (methyl) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex (57) cyclopentadienyl (indenyl) zirconium (methyl) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (58) dimethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium (hydrido) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, 59) Trimethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium (hydride)
(Tetraphenyl borate) tetrahydrofuran complex,
(60) bis (pentamethylcyclopentadienyl) zirconium (hydride) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (61) indenyl (cyclopentadienyl) zirconium (hydrido) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (62) trimethylsilyl Cyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium (methyl) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (63) trimethylsilylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium (hydrido) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (64 ) Trifluoromethylcyclopentadienyl (cyclopentadienyl) zirconium (hydride) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, 5) bis (cyclopentadienyl)
(Trimethylsilyl) zirconium (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (66) bis (cyclopentadienyl) (triphenylsilyl) zirconium (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (67) bis (cyclopentadienyl) [tris (trimethylsilyl) ) Silyl] zirconium (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (68) bis (cyclopentadienyl) (trimethylsilylmethyl) zirconium (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (69) bis (cyclopentadienyl) (benzyl) zirconium ( Tetraphenyl borate) tetrahydrofuran complex, (70) methylene-bis (cyclopentadienyl) zirconium (chloride)
(Tetraphenyl borate) tetrahydrofuran complex,
(71) ethylene-bis (cyclopentadienyl) zirconium (chloride) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (72) isopropylidene-bis (cyclopentadienyl) zirconium (chloride) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, 73) dimethylsilyl-bis (cyclopentadienyl) zirconium (chloride) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (74) methylene-
Bis (cyclopentadienyl) zirconium (methyl)
(Tetraphenyl borate) tetrahydrofuran complex,
(75) ethylene-bis (cyclopentadienyl) zirconium (methyl) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (76) isopropylidene-bis (cyclopentadienyl) zirconium (methyl) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, 7
7) Dimethylsilyl-bis (cyclopentadienyl) zirconium (methyl) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (78) methylene-bis (cyclopentadienyl) zirconium (hydride) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (79) ) Ethylene-bis (cyclopentadienyl) zirconium (hydrido) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (80) isopropylidene-bis (cyclopentadienyl) zirconium (hydrido) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (81) Dimethylsilyl-bis (cyclopentadienyl) zirconium (hydride) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (82) bis (cyclopentadienyl) zirconium (meth (Sulfonato) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (83) bis (cyclopentadienyl) zirconium (p-toluenesulfonato) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (84) bis (cyclopentadienyl) zirconium (trifluoromethane) Sulfonato) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (85)
Bis (cyclopentadienyl) zirconium (benzenesulfonato) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (86) bis (cyclopentadienyl) zirconium (pentafluorobenzenesulfonato) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (8)
7) bis (tetramethylcyclopentadienyl) zirconium (trifluoromethanesulfonato) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (88) bis (indenyl) zirconium (trifluoromethanesulfonato) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (89) ) Ethylenebis (indenyl) zirconium (trifluoromethanesulfonato) (tetraphenylborate) tetrahydrofuran complex, (90) isopropylidene-bis (indenyl) zirconium (trifluoromethanesulfonato) (tetraphenylborate)
And tetrahydrofuran complexes. In addition, the same compounds as those described above for other Group 3, 4, 5, and 6 metal compounds such as titanium compounds and hafnium compounds can also be used. Further, a mixture of these compounds may be used.
【0025】<成分(B)> <一般的説明>本発明による成分(B)層状珪酸塩粒子
は、スメクタイト族の層状珪酸塩および雲母族の層状珪
酸塩からなる混合物であって、このスメクタイト族の層
状珪酸塩を0.1〜50重量%含有するものである。こ
こで、「からなる」とは、スメクタイト族の層状珪酸塩
および雲母族の層状珪酸塩のみからなるもの、即ち、ス
メクタイト族の層状珪酸塩0.1〜50重量%と雲母族
の層状珪酸塩50〜99.9重量%のものの外に、これ
らのスメクタイト族の層状珪酸塩および雲母族の層状珪
酸塩以外の合目的的もしくは不可避的に存在することに
なる成分を少量、例えば上記両族の層状珪酸塩の0.1
〜30重量%程度、含むものをも意味する。<Component (B)><GeneralDescription> The component (B) layered silicate particles according to the present invention are a mixture of a smectite group phyllosilicate and a mica group phyllosilicate. Is contained in an amount of 0.1 to 50% by weight. Here, the term “consisting of” means a layer consisting only of the smectite group silicate and the mica group silicate, that is, 0.1 to 50% by weight of the smectite group silicate and the mica group silicate. In addition to those of 50 to 99.9% by weight, other than the smectite group phyllosilicate and mica group phyllosilicate, a component which is purposely or inevitably present may be present in a small amount, for example, of the above-mentioned two groups. 0.1 of layered silicate
About 30% by weight.
【0026】そして、本発明による層状珪酸塩粒子は、
上記に加えて、下記の特定の条件(イ)〜(ハ)を同時
に充足することも好ましい。 条件 条件(イ):平均粒径が20μm以上、1000μm以
下であり、かつ粒径10μm以下の粒子の数が全粒子数
の20%以下であること、 条件(ロ):微小圧縮試験器で測定した粒子の圧壊強度
が0.5MPa以上であること、 条件(ハ):粒子の嵩密度が0.6g/cm3 以上であ
ること。And the layered silicate particles according to the present invention are:
In addition to the above, it is preferable that the following specific conditions (a) to (c) are simultaneously satisfied. Conditions Condition (a): The average particle size is 20 μm or more and 1000 μm or less, and the number of particles having a particle size of 10 μm or less is 20% or less of the total number of particles. Condition (B): Measured with a micro compression tester The crushing strength of the obtained particles is 0.5 MPa or more. Condition (c): The bulk density of the particles is 0.6 g / cm 3 or more.
【0027】ここで、条件(イ)とは、本発明による層
状珪酸塩粒子の平均粒径および粒径が10μm以下の存
在比率に関するものであって、具体的には、平均粒径が
20μm以上1000μm以下であり、かつ粒径10μ
m以下の粒子の数が全粒子の20%以下であること、と
いうものである。本発明では、平均粒径が20μm以上
500μm以下、特に20μm以上100μm以下、の
ものが好ましく、粒径10μm以下の粒子が全粒子の1
5%以下、特に10%未満、であるものが好ましい。従
って、条件(イ)は、平均粒径および粒子径10μm未
満の粒子の存在量に関する上記の好ましい条件の両方を
満たすものが本発明では好ましい。Here, the condition (a) relates to the average particle diameter and the existence ratio of the layered silicate particles according to the present invention of 10 μm or less, and specifically, the average particle diameter of 20 μm or more. 1000 μm or less and a particle size of 10 μm
m or less than 20% of all particles. In the present invention, those having an average particle diameter of 20 μm or more and 500 μm or less, particularly preferably 20 μm or more and 100 μm or less are preferable.
Those having 5% or less, particularly less than 10%, are preferred. Therefore, it is preferable in the present invention that the condition (a) satisfies both the above-mentioned preferable conditions regarding the average particle diameter and the abundance of particles having a particle diameter of less than 10 μm.
【0028】ここで、粒子の測定は、具体的には(株)
セイシン企業社のレーザー回折法による粒度分布測定装
置(「LMS−24」、光源:半導体レーザー(波長6
70nm))を用いて行ったときのものである。測定
は、エタノールを分散媒として用い、屈折率1.33、
形状係数1.0として粒径分布および平均粒径を算出し
た。Here, the measurement of the particles is specifically carried out by
Particle size distribution analyzer (“LMS-24”, laser diffraction method by Seishin Enterprise, light source: semiconductor laser (wavelength 6
70 nm)). The measurement was performed using ethanol as a dispersion medium, with a refractive index of 1.33,
The particle size distribution and the average particle size were calculated as the shape factor of 1.0.
【0029】条件(ロ)は、本発明による層状珪酸塩粒
子の強度に関するものであって、具体的には微小圧縮試
験器で測定した粒子の圧壊強度が0.5MPa以上であ
ること、というものである。本発明で好ましい条件
(ロ)は、圧壊強度が1.0MPa以上であること、と
いうものである。上限は40MPa程度である。ここ
で、圧壊強度は、具体的には、島津製作所社製微小圧縮
試験器「MCTM−500」を用いて、任意の10個以
上の粒子の圧縮強度を測定し、その平均値を圧壊強度と
して求めたときのものである。条件(ハ)は、本発明に
よる層状珪酸塩粒子の嵩密度に関するものであって、具
体的にはその値が0.6g/cm3 以上、好ましくは
0.7g/cm3 以上、であること、というものであ
る。上限は1.5g/cm3 程度である。The condition (b) relates to the strength of the layered silicate particles according to the present invention, and specifically, the condition that the crushing strength of the particles measured by a micro compression tester is 0.5 MPa or more. It is. A preferable condition (b) in the present invention is that the crushing strength is 1.0 MPa or more. The upper limit is about 40 MPa. Here, the crushing strength is, specifically, using a micro-compression tester “MCTM-500” manufactured by Shimadzu Corporation, the compressive strength of any 10 or more particles is measured, and the average value is used as the crushing strength. It is when I asked. The condition (c) relates to the bulk density of the layered silicate particles according to the present invention, and specifically, the value is 0.6 g / cm 3 or more, preferably 0.7 g / cm 3 or more. That is. The upper limit is about 1.5 g / cm 3 .
【0030】<スメクタイト族の層状珪酸塩>本発明に
よる層状珪酸塩粒子を得るために用いられるスメクタイ
ト族の層状珪酸塩とは、2:1型層構造をもつ層状珪酸
塩のうち、スメクタイト族に属する層状珪酸塩をいうも
のである。代表的なものとしては、一般にはモンモリロ
ナイト、バイデライト、サポナイト、ノントロナイト、
ヘクトライト、ソーコナイト等がある。本発明では、天
然品または合成品いずれも使用可能である。「クニピ
ア」、「スメクトン」(いずれもクニミネ工業社製)、
「モンモリロナイトK10」(アルドリッチ社製、ジュ
ートヘミー社製)、「K−Catalystsシリー
ズ」(ジュートヘミー社製)等の市販品を利用すること
もできる。本発明の実施にあたっては、これらを単独で
用いても、2個以上を任意に混合して用いることもでき
る。<Smectite Group Layered Silicate> The smectite group layered silicate used to obtain the layered silicate particles according to the present invention is defined as a smectite group silicate having a 2: 1 type layer structure. It refers to the layered silicate to which it belongs. The typical ones are generally montmorillonite, beidellite, saponite, nontronite,
Hectorite, sauconite and the like. In the present invention, either natural products or synthetic products can be used. "Kunipia", "Smecton" (all manufactured by Kunimine Industries),
Commercial products such as "Montmorillonite K10" (manufactured by Aldrich and Jute Chemie) and "K-Catalysts series" (manufactured by Jute Chemie) can also be used. In the practice of the present invention, these may be used alone, or two or more may be arbitrarily mixed and used.
【0031】このようなスメクタイト族の層状珪酸塩
は、必要に応じて、粉砕処理することができる。目的と
する本発明による層状珪酸塩粒子を、例えばスラリー状
態を経て製造する方法(詳細後記)によって得る場合に
は、このような粉砕処理に付すことによってスメクタイ
ト族の層状珪酸塩をスラリー分散媒に高分散させること
ができる。よって、上記の方法によって製造する場合に
は、スメクタイト族の層状珪酸塩は粉砕処理に付すこと
が好ましい。この際の粉砕方法は特に限定されるもので
はないが、高速の気流による粒子同士の衝突あるいは粒
子と粉砕装置壁との衝突により粉砕する方法は、工業的
規模で容易に実施可能な方法の一つである。使用可能な
具体的な装置としては、ジェットミルおよびシングルト
ラックミル等が挙げられる。粉砕後の粒子の大きさは、
好ましくは0.01〜50μm、特に好ましくは0.0
1〜30μm、である。なお、粉砕処理後のこのスメク
タイト族の層状珪酸塩粒子の直径および粒径分布は、そ
れを本発明による層状珪酸塩粒子としたときには、上記
の条件(イ)を満たすものであることは言うまでもな
い。Such a smectite group phyllosilicate can be pulverized if necessary. When the desired layered silicate particles according to the present invention are obtained, for example, by a method of producing a slurry state (details described later), the layered silicate of the smectite group is converted into a slurry dispersion medium by subjecting to such a pulverization treatment. It can be highly dispersed. Therefore, in the case of producing by the above method, it is preferable that the smectite group layered silicate is subjected to a pulverizing treatment. The pulverization method at this time is not particularly limited, but the method of pulverization by collision of particles by a high-speed air flow or collision of particles with the wall of a pulverizer is one of methods that can be easily performed on an industrial scale. One. Specific devices that can be used include a jet mill and a single track mill. The size of the particles after grinding is
Preferably 0.01 to 50 μm, particularly preferably 0.0
1 to 30 μm. Needless to say, the diameter and the particle size distribution of the smectite group phyllosilicate particles after the pulverization treatment satisfy the above-mentioned condition (a) when they are used as the phyllosilicate phyllosilicate particles according to the present invention. .
【0032】<雲母族の層状珪酸塩>本発明による層状
珪酸塩粒子を得るために用いられる雲母族の層状珪酸塩
とは、2:1型層構造をもつ雲母族に属する層状珪酸塩
をいうものである。代表的なものとしては、白雲母、パ
ラゴナイト、金雲母、黒雲母、レピドライト等がある。
本発明では、天然品または合成品いずれも使用可能であ
る。市販品の「合成雲母ソマシフ」(コープケミカル社
製)、「フッ素金雲母」、「フッ素四ケイ素雲母」、
「テニオライト」(いずれもトピー工業社製)等は、本
発明において特に好ましいものの代表例である。本発明
では、これらを単独で用いることも、2種以上を混合し
て用いることもできる。<Mica Group Layered Silicate> The mica group layered silicate used for obtaining the layered silicate particles according to the present invention is a layered silicate belonging to the mica group having a 2: 1 type layer structure. Things. Representative examples include muscovite, paragonite, phlogopite, biotite, and lepidolite.
In the present invention, either natural products or synthetic products can be used. Commercially available "synthetic mica somasif" (Corp Chemical Co., Ltd.), "fluorphlogopite mica", "fluorine tetrasilicon mica",
"Teniolite" (all manufactured by Topy Industries, Ltd.) and the like are typical examples of those particularly preferred in the present invention. In the present invention, these can be used alone or in combination of two or more.
【0033】<具体的説明>本発明による層状珪酸塩粒
子は、上記の雲母族の層状珪酸塩とスメクタイト族の層
状珪酸塩からなる混合物である。スメクタイト族層状珪
酸塩の含量は、0.1〜50重量%、好ましくは1〜3
0重量%、である。スメクタイト族層状珪酸塩の含量が
この範囲より少なすぎると圧壊強度または嵩密度が低下
するという問題が、また逆に多すぎると噴霧造粒法によ
り層状珪酸塩粒子を製造する際、水スラリーの粘度が高
過ぎノズルの目詰まり等を起こし、逆に適当なスラリー
粘度にするため濃度を下げると平均粒径が小さくなり、
条件(イ)を満たさなくなるという問題が生じる。<Specific Description> The layered silicate particles according to the present invention are a mixture of the above mica grouped silicate and smectite grouped silicate. The content of the smectite group layered silicate is 0.1 to 50% by weight, preferably 1 to 3%.
0% by weight. When the content of the smectite group layered silicate is too small, the crushing strength or bulk density is reduced.On the other hand, when the content is too large, the viscosity of the water slurry is reduced when the layered silicate particles are produced by spray granulation. Is too high, causing nozzle clogging, etc. Conversely, lowering the concentration to obtain an appropriate slurry viscosity reduces the average particle size,
There arises a problem that the condition (a) is not satisfied.
【0034】また、本発明では、スメクタイト族の層状
珪酸塩および雲母族の層状珪酸塩の両者とも、イオン交
換性(ないし膨潤性)であることが好ましい。ここで、
「イオン交換性」とは、層状珪酸塩の層間陽イオンが交
換可能なことを意味する。また、「膨潤性」とは、層状
珪酸塩が水と共存するとその層間域に水分子を取り込ん
で底面間隔が拡大することを意味する。底面間隔拡大の
割合は、少なくとも1.2倍、好ましくは1.5倍、以
上である。また「層状」というのは層構造を有すること
を意味する。In the present invention, both the smectite group silicate and the mica group silicate are preferably ion-exchangeable (or swellable). here,
"Ion exchangeability" means that interlayer cations of the layered silicate are exchangeable. The term "swelling" means that when the layered silicate coexists with water, water molecules are taken into the interlayer region to increase the distance between the bottom surfaces. The ratio of the bottom surface interval expansion is at least 1.2 times, preferably 1.5 times or more. The term “layered” means having a layered structure.
【0035】一般に、天然品は、非イオン交換性(非膨
潤性)であることが多く、その場合は、好ましいイオン
交換性(ないし膨潤性)を有するものとするために、イ
オン交換性(ないし膨潤性)を付与するための処理を行
うことが好ましい。そのような処理のうちで特に好まし
いものとしては、次のような化学処理が挙げられる。す
なわち、これらの両珪酸塩は、化学処理を施したもので
あることが好ましい。ここで、化学処理とは、表面に付
着している不純物を除去する表面処理と、層状珪酸塩の
結晶構造、化学組成に影響を与える処理のいずれをも用
いることができる。具体的には、(イ)酸処理、(ロ)
アルカリ処理、(ハ)塩類処理、(ニ)有機物処理等が
挙げられる。これらの処理は、表面の不純物を取り除
く、層間の陽イオンを交換する、結晶構造のAl、S
i、Mg等の陽イオンを溶出させ、その結果、イオン複
合体、分子複合体、有機複合体等を形成し、表面積や層
間距離、固体酸性度等をかえることができる。これらの
処理は単独で行ってもよいし、2つ以上の処理を組み合
わせてもよい。なお、この「化学処理」の結果として、
両珪酸塩の一方または両方のイオン交換性(ないし膨潤
性)の付与あるいは向上が見られる場合、この「化学処
理」は、前記の「イオン交換性(ないし膨潤性)の付与
するための処理」と捉えることもできる。これらの化学
処理は、スメクタイト族層状珪酸塩および雲母族層状珪
酸塩に対して、両者の混合前にどちらか一方にまたは両
方に行ってもよいし、混合の後に両者に対して同時に行
ってもよい。In general, natural products are often non-ion-exchangeable (non-swellable). In such a case, in order to have a favorable ion-exchangeability (or swellability), the ion-exchangeability (or swellability) is preferable. (Swelling property) is preferably performed. Among such treatments, particularly preferred are the following chemical treatments. That is, it is preferable that both of these silicates have been subjected to a chemical treatment. Here, the chemical treatment can be any of a surface treatment for removing impurities attached to the surface and a treatment that affects the crystal structure and chemical composition of the layered silicate. Specifically, (a) acid treatment, (b)
Alkali treatment, (c) salt treatment, and (d) organic substance treatment. These treatments remove surface impurities, exchange cations between layers, and have a crystalline structure of Al, S
Cations such as i and Mg are eluted, and as a result, an ion complex, a molecular complex, an organic complex and the like are formed, and the surface area, interlayer distance, solid acidity and the like can be changed. These processes may be performed independently, or two or more processes may be combined. In addition, as a result of this "chemical treatment",
When one or both of the silicates are given or improved in the ion exchange property (or swelling property), the “chemical treatment” is the “treatment for imparting the ion exchange property (or swelling property)”. It can also be considered as These chemical treatments may be performed on the smectite group phyllosilicate and the mica group phyllosilicate either before or after mixing them, or may be performed simultaneously on both after mixing. Good.
【0036】化学処理に用いられる(イ)酸としては、
合目的的な無機酸あるいは有機酸、好ましくは、例え
ば、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、シュウ酸等が挙げられ、
(ロ)アルカリとしては、NaOH、KOH、NH3 が
挙げられる。(ハ)塩類としては、2族から14族原子
からなる群より選ばれた少なくとも一種の原子を含む陽
イオンと、ハロゲン原子または無機酸もしくは有機酸由
来の陰イオンからなる群より選ばれた少なくとも一種の
陰イオン、とからなる化合物が好ましい。更に好ましい
ものは、Al、Mg、Ti、Zr、Hf、Cr、Zn、
Sn、Cu、Ni、Fe、NbまたはTa由来のイオン
を陽イオンとするもの、Cl、SO4 NO3 、OH、
C2 H4 およびPO4 由来のイオンを陰イオンとするも
の、である。(ニ)有機物としては、アルコール(炭素
数1〜4の脂肪族アルコール、好ましくは例えばメタノ
ール、エタノール、プロパノール、エチレングリコー
ル、グリセリン、炭素数6〜8の芳香族アルコール、好
ましくは例えばフェノール)、高級炭化水素(炭素数5
〜10、好ましくは5〜8、のもの、好ましくは例えば
ヘキサン、ヘプタン等が挙げられる。また、ホルムアミ
ド、ヒドラジン、ジメチルスルホキシド、N−メチルホ
ルムアミド、N,N−ジメチルアニリン等が好ましく挙
げられる。ここで、原子の周期律は、1989年にIU
PACにより推奨された18族方式に基づくものであ
る。As the (a) acid used in the chemical treatment,
Suitable inorganic or organic acids, preferably, for example, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, acetic acid, oxalic acid and the like,
(B) Examples of the alkali include NaOH, KOH, and NH 3 . (C) As the salts, at least one selected from the group consisting of a cation containing at least one atom selected from the group consisting of Group 2 to Group 14 atoms and a halogen atom or an anion derived from an inorganic acid or an organic acid. And a kind of anion are preferred. More preferred are Al, Mg, Ti, Zr, Hf, Cr, Zn,
Those having ions derived from Sn, Cu, Ni, Fe, Nb or Ta as cations, Cl, SO 4 NO 3 , OH,
Ions derived from C 2 H 4 and PO 4 as anions. (D) As organic substances, alcohols (aliphatic alcohols having 1 to 4 carbon atoms, preferably, for example, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol, glycerin, aromatic alcohols having 6 to 8 carbon atoms, preferably, for example, phenol), higher alcohols Hydrocarbons (carbon number 5
10 to 10, preferably 5 to 8, preferably hexane, heptane and the like. Preferred examples include formamide, hydrazine, dimethyl sulfoxide, N-methylformamide, N, N-dimethylaniline and the like. Here, the periodic rule of the atom was
It is based on the group 18 system recommended by the PAC.
【0037】層状珪酸塩粒子が、上記の条件(イ)〜
(ハ)を同時に充足していない場合、あるいは同時に充
足しているときであってもより好ましいものとするため
に、本発明では、例えば、造粒、分粒、分別等によって
粒子の性状を制御することができる。その方法は合目的
的な任意のものでありうる。特に、造粒法について示せ
ば、例えば噴霧造粒法、転動造粒法、圧縮造粒法、撹拌
造粒法、ブリケッティング法、コンパクティング法、押
し出し造粒法、流動層造粒法、乳化造粒法および液中造
粒法等が挙げられる。特に好ましい造粒法は、上記のう
ち、噴霧造粒法、転動造粒法および圧縮造粒法である。The layered silicate particles satisfy the above conditions (a) to (d).
In order to make it more preferable even when (c) is not simultaneously satisfied, or when it is simultaneously satisfied, in the present invention, the properties of the particles are controlled by, for example, granulation, sizing, and sorting. can do. The method can be of any suitable purpose. In particular, for the granulation method, for example, spray granulation method, tumbling granulation method, compression granulation method, stirring granulation method, briquetting method, compacting method, extrusion granulation method, fluidized bed granulation method , An emulsion granulation method and a submerged granulation method. Particularly preferred granulation methods are spray granulation, tumbling granulation and compression granulation among the above.
【0038】このような粒子性状の制御を行う場合に
は、スメクタイト族の層状珪酸塩粒子と雲母族の層状珪
酸塩からなる混合物を、その制御方法に適するような形
態にあらかじめしておくことが出来る。例えば粒子性状
の制御の方法として噴霧造粒法を採用する場合には、前
記混合物を分散媒に分散させてスラリー状としておくこ
とができ、かつ好ましい。When such particle properties are controlled, a mixture of smectite group phyllosilicate particles and mica group phyllosilicate is prepared in advance in a form suitable for the control method. I can do it. For example, when the spray granulation method is adopted as a method for controlling the particle properties, the mixture can be dispersed in a dispersion medium to be in a slurry state, which is preferable.
【0039】噴霧造粒で用いられる分散媒としては、水
あるいは有機物、(例えばメタノール、エタノール、ク
ロロホルム、塩化メチレン、ペンタン、ヘキサン、ヘプ
タン、トルエン、キシレン)の単独または混合溶液が好
ましい。これらの中で特に好ましいものは水である。ス
ラリー濃度は5〜70重量%、好ましくは10〜50重
量%、更に好ましくは20〜40重量%、である。最適
なスラリー濃度は、スラリー粘度を考慮して適宜選ばれ
る。具体的には6000cps以下、好ましくは10〜
5000cps、特に好ましくは1000〜3000c
ps、である。As a dispersion medium used in spray granulation, water or an organic substance (for example, methanol, ethanol, chloroform, methylene chloride, pentane, hexane, heptane, toluene, xylene) alone or in a mixed solution is preferable. Particularly preferred among these is water. The slurry concentration is 5 to 70% by weight, preferably 10 to 50% by weight, more preferably 20 to 40% by weight. The optimum slurry concentration is appropriately selected in consideration of the slurry viscosity. Specifically, 6000 cps or less, preferably 10 to
5000 cps, particularly preferably 1000 to 3000 c
ps.
【0040】本発明において、スラリー粘度とは、B型
粘度計で温度30℃、6rpmで測定した値を示す。こ
の粘度が6000cps超過であると噴霧ノズルへの液
の送りが難しく、また、ノズルの目詰まり等が生じる傾
向があり、逆に粘度を下げるためにスラリー濃度を下げ
ると粒子形の小さな造粒品しか得られない傾向がある。
造粒粒子の粒子径は噴霧速度にもよるが、スラリー濃度
が5%未満では10μm以上の粒子を得ることは難し
い。噴霧に際しては、ディスクタイプや加圧ノズル式、
2流体ノズル式などの一般的な噴霧乾燥方法が適用でき
る。いずれの場合も噴霧時の熱風の入口温度は150℃
から300℃程度の広い温度範囲で設定できる。また、
排気温度はノズルからの噴霧流量などによって規定され
るが、おおむね100℃前後がよい。In the present invention, the slurry viscosity means a value measured by a B-type viscometer at a temperature of 30 ° C. and 6 rpm. If the viscosity is more than 6000 cps, it is difficult to feed the liquid to the spray nozzle, and the nozzle tends to be clogged. Conversely, if the slurry concentration is reduced to lower the viscosity, a granulated product having a small particle shape is obtained. Tend to be obtained only.
Although the particle size of the granulated particles depends on the spraying speed, it is difficult to obtain particles of 10 μm or more when the slurry concentration is less than 5%. When spraying, disk type or pressure nozzle type,
A general spray drying method such as a two-fluid nozzle method can be applied. In any case, the inlet temperature of hot air during spraying is 150 ° C
It can be set in a wide temperature range from about 300 ° C to about 300 ° C. Also,
The exhaust temperature is defined by the spray flow rate from the nozzle and the like, but is preferably about 100 ° C.
【0041】したがって、本発明による層状珪酸塩粒子
の代表的かつ簡便で経済的な製造法の一つとしては、雲
母族の層状珪酸塩およびスメクタイト族の層状珪酸塩の
混合粉体を、イオン交換処理に付し、得られたイオン交
換体を分散媒に分散させてスラリーとし、次いで、この
スラリーを噴霧造粒処理に付すことからなる方法を挙げ
ることができる。この場合、スメクタイト族層状珪酸塩
の含量は、0.1〜50重量%、好ましくは0.5〜4
0重量%、特に好ましくは1〜30重量%添加、混合す
ることが好ましい。Therefore, as one of typical, simple and economical methods for producing the layered silicate particles according to the present invention, a mixed powder of a mica grouped silicate and a smectite grouped silicate is prepared by ion exchange. A method comprising subjecting the resultant to a treatment, dispersing the obtained ion exchanger in a dispersion medium to form a slurry, and then subjecting the slurry to a spray granulation treatment. In this case, the content of the smectite group layered silicate is 0.1 to 50% by weight, preferably 0.5 to 4% by weight.
It is preferable to add and mix 0% by weight, particularly preferably 1 to 30% by weight.
【0042】また、他の代表的かつ簡便で経済的な構造
法としては、イオン交換処理に付した雲母族の層状珪酸
塩を分散媒に分散させてスラリーとし、ここにイオン交
換処理を行わないスメクタイト族の層状珪酸塩のスラリ
ーを添加、混合したスラリーを噴霧造粒処理に付す方法
が挙げられる。成分(A)メタロセン系遷移金属化合
物、および成分(B)層状珪酸塩粒子とを組み合わせた
ものは、そのままでもオレフィンの重合活性を示すもの
であることが普通であるが、場合により、成分(C)と
して有機アルミニウム化合物をさらに組み合わせること
によって、より好適なオレフィン重合用触媒とすること
ができる。従って、本発明は、また、このようなメタロ
セン系遷移金属化合物および有機アルミニウム化合物と
前記の層状珪酸塩粒子とを組み合わせてなるエチレン重
合用触媒にも関するものである。ここで、「組み合わせ
てなる」とは、上記の三成分以外の合目的的な他との組
み合わせ物をも包含する。As another typical, simple and economical structural method, a layered silicate of mica group subjected to an ion exchange treatment is dispersed in a dispersion medium to form a slurry, and the ion exchange treatment is not performed here. A method of adding and mixing a slurry of a smectite group layered silicate and subjecting the mixed slurry to spray granulation treatment may be mentioned. The combination of the component (A) metallocene-based transition metal compound and the component (B) layered silicate particles generally shows olefin polymerization activity as it is. By further combining an organoaluminum compound as), a more suitable olefin polymerization catalyst can be obtained. Therefore, the present invention also relates to an ethylene polymerization catalyst obtained by combining such a metallocene transition metal compound and an organoaluminum compound with the above-mentioned layered silicate particles. Here, the term “combined” includes a combination with a suitable other than the above three components.
【0043】<成分(C)> 有機アルミニウム化合物 本発明において用いられる有機アルミニウム化合物は、
重合系に存在する水分等による触媒活性の低下を抑制
し、この添加により触媒活性の向上にも寄与しているも
のと思われる。従って、有機アルミニウム化合物の添加
は望ましい態様の一つである。本発明において用いられ
る有機アルミニウム化合物の例は、<Component (C)> Organoaluminum Compound The organoaluminum compound used in the present invention is:
It is considered that the decrease in the catalytic activity due to water and the like present in the polymerization system is suppressed, and this addition also contributes to the improvement in the catalytic activity. Therefore, the addition of the organoaluminum compound is one of the desirable embodiments. Examples of the organoaluminum compound used in the present invention include:
【0044】[0044]
【化2】AlR6 j X3-j Embedded image AlR 6 j X 3-j
【0045】(式中、R6 は炭素数1〜20、好ましく
は1〜10、の炭化水素基を示し、Xは水素、ハロゲン
またはアルコキシ基を示す、jは0<j≦3の数)で示
されるものである。具体的には、トリメチルアルミニウ
ム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニ
ウム、トリ−n−ブチルアルミニウム、トリ−n−ヘキ
シルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム、ジエ
チルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニ
ウムハイドライド等のアルキルアルミニウムハイドライ
ド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジイソブチルア
ルミニウムクロライド等のハロゲン含有アルキルアルミ
ニウム、ジエチルアルミニウムメトキシド、ジイソブチ
ルアルミニウムメトキシド等のアルキルアルミニウムア
ルコキシド、ジエチルアルミニウム(ジエチルアミ
ド)、ジイソブチルアルミニウム(ジエチルアミド)等
のアルキルアルミニウムアミドが挙げられる。これらの
中では、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアル
ミニウム、トリ−n−ブチルアルミニウム、トリ−n−
ヘキシルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウムが
好ましい。(Wherein, R 6 represents a hydrocarbon group having 1 to 20, preferably 1 to 10 carbon atoms, X represents hydrogen, a halogen or an alkoxy group, and j represents a number of 0 <j ≦ 3) It is shown by. Specifically, trialkylaluminums such as trimethylaluminum, triethylaluminum, triisobutylaluminum, tri-n-butylaluminum, tri-n-hexylaluminum, alkylaluminum hydrides such as diethylaluminum hydride and diisobutylaluminum hydride, and diethylaluminum chloride And alkylaluminum alkoxides such as diethyl aluminum methoxide and diisobutylaluminum methoxide, and alkylaluminum amides such as diethylaluminum (diethylamide) and diisobutylaluminum (diethylamide). Among them, triethylaluminum, triisobutylaluminum, tri-n-butylaluminum, tri-n-
Trialkyl aluminum such as hexyl aluminum is preferred.
【0046】成分(A)メタロセン系遷移金属化合物、
成分(B)層状珪酸塩粒子および必要に応じて成分
(C)有機アルミニウム化合物から重合触媒を得るため
には、通常これらの成分を互いに接触させる。各成分の
接触方法は特に限定されないが、以下のような接触順序
で接触させることができる。 成分(A)と成分(B)とを接触させる。 成分(A)と成分(B)とを接触させた後、成分
(C)を添加する。 成分(A)と成分(C)とを接触させた後、成分
(B)を添加する。 成分(B)と成分(C)とを接触させた後、成分
(A)を添加する。 三成分を同時に接触させる。Component (A) a metallocene transition metal compound,
In order to obtain a polymerization catalyst from the component (B) layered silicate particles and, if necessary, the component (C) the organoaluminum compound, these components are usually brought into contact with each other. The method of contacting each component is not particularly limited, but the components can be contacted in the following contact order. The components (A) and (B) are brought into contact. After contacting the components (A) and (B), the component (C) is added. After contacting the component (A) with the component (C), the component (B) is added. After contacting the component (B) with the component (C), the component (A) is added. The three components are contacted simultaneously.
【0047】接触は、窒素等の不活性ガス中、ペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシレン等の不活
性炭化水素溶媒中で行ってもよい。接触温度は、−20
℃〜溶媒の沸点の間で行い、特に室温から溶媒の沸点の
間で行うのが好ましい。触媒成分の使用量は、成分
(B)層状珪酸塩粒子1gあたり成分(A)が0.00
01〜10mmol、好ましくは0.001〜5mmo
lであり、必要に応じて使用される成分(C)有機アル
ミニウム化合物が使用されるときは、その使用量は10
000mmol以下、好ましくは0.0001〜100
00mmol、更に好ましくは0.1〜100mmol
である。The contact may be carried out in an inert gas such as nitrogen or an inert hydrocarbon solvent such as pentane, hexane, heptane, toluene and xylene. The contact temperature is -20
C. to the boiling point of the solvent, preferably from room temperature to the boiling point of the solvent. The amount of the catalyst component used is such that the component (A) per 1 g of the layered silicate particles of the component (B) is
01 to 10 mmol, preferably 0.001 to 5 mmol
When the component (C) organoaluminum compound used as needed is used, its amount is 10
000 mmol or less, preferably 0.0001 to 100
00 mmol, more preferably 0.1-100 mmol
It is.
【0048】本発明においては、上記のようにして得ら
れた接触生成物をあらかじめα−オレフィンまたは芳香
族ビニルモノマーと接触させ、予備重合を施すことも好
適に採用される。予備重合は、通常、エチレンで行われ
るが、必要に応じて他のオレフィン、例えばプロピレ
ン、1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、3−メチ
ル−1−ペンテン等のα−オレフィン、スチレン、α−
メチルスチレン等の芳香族ビニルモノマー、あるいはこ
れらの混合物を使用することができる。予備重合によっ
て生成する重合体の量は成分(B)1gあたり0.00
1〜1000g、好ましくは0.01〜300g、より
好ましくは0.1〜300gの範囲である。In the present invention, it is also suitably employed that the contact product obtained as described above is brought into contact with an α-olefin or an aromatic vinyl monomer in advance and then subjected to preliminary polymerization. The prepolymerization is usually carried out with ethylene, but if necessary, other olefins, for example, propylene, 1-butene, 4-methyl-1-pentene, α-olefins such as 3-methyl-1-pentene, styrene, α-
An aromatic vinyl monomer such as methylstyrene or a mixture thereof can be used. The amount of the polymer produced by the prepolymerization is 0.00 per g of the component (B).
The range is 1 to 1000 g, preferably 0.01 to 300 g, and more preferably 0.1 to 300 g.
【0049】予備重合の方法は特に限定されないが、通
常不活性炭化水素溶媒中、スラリー重合にて行われる。
この際用いる不活性炭化水素溶媒としては、適宜選択さ
れるが、例えば前述した接触の際に使用された炭化水素
溶媒が好適に使用される。予備重合の温度は特に限定さ
れないが、−20℃から150℃の間で行うのが好まし
い。また、予備重合に際し、前記成分(C)有機アルミ
ニウム化合物の一部を添加することも望ましい方法であ
るThe prepolymerization method is not particularly limited, but is usually carried out by slurry polymerization in an inert hydrocarbon solvent.
The inert hydrocarbon solvent used at this time is appropriately selected. For example, the hydrocarbon solvent used at the time of the above-mentioned contact is suitably used. The temperature of the prepolymerization is not particularly limited, but it is preferable to carry out the temperature between -20 ° C and 150 ° C. It is also desirable to add a part of the component (C) organoaluminum compound during the prepolymerization.
【0050】予備重合をエチレンをもちいて実施する場
合、そのポリエチレンの重量平均分子量は30000以
上が好ましく、特に好ましくは50000以上である。
分子量が小さすぎる場合には粒子性状の改良効果、粒子
破砕防止効果が十分発揮されないことがある。予備重合
触媒は、予備重合終了後のスラリーのまま使用してもよ
いし、必要に応じて洗浄後使用する。また、乾燥して粉
体としたものを使用してもよい。この際、乾燥条件は特
に限定されないが、好ましくは減圧あるいは乾燥不活性
ガス流通下、0℃〜100℃の間で行われる。When the prepolymerization is carried out using ethylene, the weight average molecular weight of the polyethylene is preferably 30,000 or more, particularly preferably 50,000 or more.
If the molecular weight is too small, the effect of improving the particle properties and the effect of preventing particle crushing may not be sufficiently exhibited. The pre-polymerization catalyst may be used as it is after the completion of the pre-polymerization, or may be used after washing if necessary. Moreover, you may use what dried and made the powder. At this time, the drying conditions are not particularly limited, but preferably the drying is performed at 0 ° C. to 100 ° C. under reduced pressure or under a flow of a dry inert gas.
【0051】予備重合に際し、または乾燥後にポリエチ
エン、ポリプロピレン等の重合体、シリカ、アルミナ等
の無機酸化物の固体を共存させ、あるいは接触させても
よい。本発明は、特に気相重合に適用した場合に、嵩密
度が高く、粒子形状の良好な重合体が得られ、その特徴
を発揮できる。本発明の気相重合は実質的に溶媒等の存
在しないガス状の単量体中で行う。気相重合に用いる装
置は、特に限定されないが、当該技術分野においてよく
知られた流動床、撹拌床、撹拌・混合機を備えた撹拌流
動床等公知のものが使用できる。At the time of prepolymerization or after drying, a solid such as a polymer such as polyethylene or polypropylene or an inorganic oxide such as silica or alumina may coexist or be brought into contact. According to the present invention, particularly when applied to gas phase polymerization, a polymer having a high bulk density and a good particle shape can be obtained, and its characteristics can be exhibited. The gas phase polymerization of the present invention is carried out in a gaseous monomer substantially free of a solvent or the like. The apparatus used for the gas phase polymerization is not particularly limited, but a known apparatus such as a fluidized bed, a stirred bed, and a stirred fluidized bed equipped with a stirrer / mixer well known in the art can be used.
【0052】本発明ではエチレンの重合が行われるが、
エチレンの単独重合およびエチレンと他のα−オレフィ
ンとの共重合が含まれる。α−オレフィンを具体的に例
示すれば、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1
−ヘキセン、1−オクテン、3−メチル−1−ペンテ
ン、4−メチル−1−ペンテン等を挙げることができ
る。エチレンとα−オレフィンとの共重合の場合、α−
オレフィンはエチレンに対して50重量%、好ましくは
20重量%まで共重合を行うことができる。気相重合温
度は30℃〜150℃、好ましくは50℃〜100℃で
ある。また、重合圧力は通常1〜50kg/cm2 Gの
範囲である。重合にあたっては、単量体中の水素濃度
(H2 /エチレン)を10ppm〜10000ppmの
範囲で運転される。In the present invention, the polymerization of ethylene is carried out.
Includes homopolymerization of ethylene and copolymerization of ethylene with other α-olefins. Specific examples of α-olefins include propylene, 1-butene, 1-pentene, 1
-Hexene, 1-octene, 3-methyl-1-pentene, 4-methyl-1-pentene and the like. In the case of copolymerization of ethylene and α-olefin, α-olefin
The olefin can be copolymerized up to 50% by weight, preferably 20% by weight, based on ethylene. The gas phase polymerization temperature is from 30C to 150C, preferably from 50C to 100C. The polymerization pressure is usually in the range of 1 to 50 kg / cm 2 G. In the polymerization, the operation is carried out at a hydrogen concentration (H 2 / ethylene) in the monomer of 10 ppm to 10000 ppm.
【0053】[0053]
【発明の効果】本発明によれば、オレフィンを高い重合
活性で重合させることができ、粒子破砕や微粉の生成が
無く優れた粒子性状をもった重合体を気相重合で安定し
て生産することができる。According to the present invention, an olefin can be polymerized with high polymerization activity, and a polymer having excellent particle properties without particle crushing or generation of fine powder can be stably produced by gas phase polymerization. be able to.
【0054】[0054]
【実施例】次の実施例は本発明を具体的に説明するため
のものである。従って、本発明はその要旨を逸脱しない
限り、これらの実施例によって制約を受けるものではな
い。また本発明に含まれる技術内容の理解を助けるため
のフローチャート図を示したが、本発明はその要旨を逸
脱しない限り、このフローチャート図によって制約を受
けるものではない。なお、以下の触媒合成工程および重
合工程はすべて精製窒素雰囲気下で行った。また、使用
した溶媒はモレキュラーシーブ4Aで脱水精製したもの
を用いた。The following examples are provided to illustrate the present invention. Therefore, the present invention is not limited by these embodiments unless departing from the gist thereof. In addition, although a flowchart for assisting understanding of the technical contents included in the present invention has been described, the present invention is not limited by the flowchart unless departing from the gist thereof. The following catalyst synthesis step and polymerization step were all performed in a purified nitrogen atmosphere. The solvent used was dehydrated and purified with molecular sieve 4A.
【0055】<実施例1> (1)[層状珪酸塩粒子の調製] 市販の膨潤性合成雲母(「ソマシフME−100」、コ
ープケミカル社製、平均粒径7μm)400gと市販の
親水性スメクタイト(「SWN」、コープケミカル社
製、平均粒径5μm)100gとを混合し、これを2.
0重量%硝酸クロム水溶液2.8L中に分散させ、常温
で2時間撹拌した。これを脱塩水にて濾過・洗浄した。
得られた固体部に水を添加して20.0重量%スラリー
を調製し、噴霧乾燥処理を行った。平均粒径54μmの
球状粒子を450g得た。粒径10μm以下の粒子の数
は全粒子の4%であり、圧壊強度は2.0MPa、嵩密
度は0.75g/ccであった。Example 1 (1) [Preparation of Layered Silicate Particles] 400 g of commercially available swellable synthetic mica (“Somasif ME-100”, manufactured by Corp Chemical Co., average particle size 7 μm) and commercially available hydrophilic smectite (“SWN”, manufactured by Corp Chemical Co., average particle size: 5 μm) and mixed with 100 g.
The resultant was dispersed in 2.8 L of a 0 wt% chromium nitrate aqueous solution and stirred at room temperature for 2 hours. This was filtered and washed with deionized water.
Water was added to the obtained solid part to prepare a 20.0% by weight slurry, and spray drying was performed. 450 g of spherical particles having an average particle size of 54 μm were obtained. The number of particles having a particle size of 10 μm or less was 4% of all the particles, the crushing strength was 2.0 MPa, and the bulk density was 0.75 g / cc.
【0056】(2)[触媒の調製] 撹拌器を備えた容量10Lの反応器にノルマルヘプタン
4.4L、あらかじめ200℃、2時間減圧乾燥した上
記(1)で得られた層状珪酸塩粒子150g、さらに6
00mlに溶解したビス(ノルマルブチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジクロリド12.0mmolを
添加し、室温で10分間撹拌した。 (3)[予備重合] 上記撹拌物に、引き続きトリエチルアルミニウム24m
molを添加し、系の温度を60℃とした。ここでエチ
レンガスを導入し2時間反応を続けた。この間に生成し
たポリエチレンは、1050gであった。(2) [Preparation of Catalyst] In a 10 L reactor equipped with a stirrer, 4.4 L of normal heptane, 150 g of the layered silicate particles obtained in the above (1), which had been dried under reduced pressure at 200 ° C. for 2 hours in advance. And 6 more
12.0 mmol of bis (normalbutylcyclopentadienyl) zirconium dichloride dissolved in 00 ml was added, and the mixture was stirred at room temperature for 10 minutes. (3) [Preliminary polymerization] Triethyl aluminum 24 m
mol was added and the temperature of the system was brought to 60 ° C. Here, ethylene gas was introduced and the reaction was continued for 2 hours. The polyethylene produced during this period weighed 1050 g.
【0057】(4)[エチレン−ブテン気相共重合] 事前に窒素流通下、100℃で30分間乾燥した誘導撹
拌機を備えたステンレス製、1.0Lのオートクレーブ
に乾燥塩化ナトリウム100gを仕込み、乾燥窒素で十
分置換した。この系にトリエチルアルミニウム2.0m
molを仕込んだ後、エチレン−ブテンの混合ガス(ブ
テン/エチレン=6モル%)を全圧が20kg/cm2
Gになるように張り込んだ。次いで系を80℃に昇温
し、ここで上記(3)で得られた固体触媒50mg(ポ
リエチレン部分を含まない部分に換算して)を圧入し、
重合を開始した。重合温度を一定に保ちながら、エチレ
ン−ブテンの混合ガスを連続的に供給して1時間重合を
続けた。このとき気相中のH 2 濃度を50ppmに制限
した。この後、未反応ガスをパージし重合を停止した。
内容物は塩化ナトリウムと分離して、重合粉末42gを
得た。こうして得られた重合体粉末は球状で、嵩密度
0.34g/cc、106μm以下の微粉は0.1重量
%であった。重合体のMFRは1.2、密度は0.92
0g/ccであった。(4) [Ethylene-butene gas phase copolymerization] Induction stirring previously dried at 100 ° C for 30 minutes under a nitrogen flow.
Stainless steel, 1.0 L autoclave with stirrer
100 g of dry sodium chloride, and dry nitrogen
Minutes replaced. Triethyl aluminum 2.0m
mol of ethylene-butene mixed gas (butane).
Ten / ethylene = 6 mol%) with a total pressure of 20 kg / cmTwo
I stuck it to G. Then heat the system to 80 ° C
Then, 50 mg of the solid catalyst obtained in the above (3)
Press-fit)
The polymerization was started. While maintaining the polymerization temperature constant,
Polymerization for 1 hour by continuously supplying a mixed gas of n-butene
Continued. At this time, H TwoLimit concentration to 50ppm
did. Thereafter, unreacted gas was purged to stop the polymerization.
The content is separated from sodium chloride, and 42 g of polymerized powder is obtained.
Obtained. The polymer powder thus obtained is spherical and has a bulk density
0.34 g / cc, fine powder of 106 μm or less is 0.1 weight
%Met. The MFR of the polymer is 1.2 and the density is 0.92
It was 0 g / cc.
【0058】<実施例2> (1)[層状珪酸塩粒子の調製] 市販の膨潤性合成雲母(「Na−テニオライト」、トピ
ー工業社製)200gを4.0重量%硝酸クロム水溶液
1.0L中に分散させ、常温で2時間撹拌した。これを
脱塩水にて濾過・洗浄した。得られた固体部に水を添加
して30.0重量%水スラリーを調製した。そのスラリ
ーに市販の親水性スメクタイト(「SWN」、コープケ
ミカル社製)の1.5重量%水スラリーを400ml添
加し、噴霧乾燥を行った。このとき親水性スメクタイト
の含量は3重量%であった。この結果、平均粒径65μ
mの球状粒子が150g得られた。粒径10μm以下の
粒子の数は0.0%であり、圧壊強度は3.5MPa、
嵩密度は0.88g/ccであった。Example 2 (1) [Preparation of Layered Silicate Particles] 200 g of commercially available swellable synthetic mica (“Na-teniolite”, manufactured by Topy Industries Co., Ltd.) was added to 1.0 L of a 4.0% by weight aqueous solution of chromium nitrate. And stirred at room temperature for 2 hours. This was filtered and washed with deionized water. Water was added to the obtained solid part to prepare a 30.0% by weight water slurry. 400 ml of a 1.5% by weight water slurry of a commercially available hydrophilic smectite ("SWN", manufactured by Corp Chemical) was added to the slurry and spray-dried. At this time, the content of hydrophilic smectite was 3% by weight. As a result, the average particle size was 65 μm.
150 g of m spherical particles were obtained. The number of particles having a particle size of 10 μm or less is 0.0%, the crushing strength is 3.5 MPa,
The bulk density was 0.88 g / cc.
【0059】(2)[触媒調製]上記(1)で得られた
層状珪酸塩粒子を用いた以外は実施例1(2)と同様に
して触媒を調製した。 (3)[予備重合]上記(2)で得られた触媒成分を用
い、実施例1(3)と同様にして予備重合を実施した。 (4)[エチレン−ブテン共重合]上記(3)で得られ
た予備重合触媒を用いて実施例1(4)と同様にしてエ
チレン−ブテン共重合を実施し、重合体粉末33gを得
た。この重合体粉末の嵩密度は0.32g/cc、10
6μm以下の微粒子は0.6%であった。(2) [Preparation of catalyst] A catalyst was prepared in the same manner as in Example 1 (2) except that the layered silicate particles obtained in the above (1) were used. (3) [Preliminary polymerization] Preliminary polymerization was carried out in the same manner as in Example 1 (3) using the catalyst component obtained in the above (2). (4) [Ethylene-butene copolymerization] Using the prepolymerized catalyst obtained in (3) above, ethylene-butene copolymerization was carried out in the same manner as in Example 1 (4) to obtain 33 g of a polymer powder. . The bulk density of this polymer powder is 0.32 g / cc, 10
The percentage of fine particles having a size of 6 μm or less was 0.6%.
【0060】<実施例3> [エチレン−ブテン気相連続共重合]エチレン−ブテン
の混合ガス(1−ブテン/エチレン=6.0モル%)が
循環する連続式気相重合反応器に、固体触媒成分として
実施例1(3)で得られた予備重合触媒を1349mg
/h、トリエチルアルミニウムを628mg/hを間欠
的に供給した。重合反応の条件は88℃、エチレン圧力
18kg/cm2 G、平均滞留時間5.5時間であり、
生成ポリエチレンの平均重合レートは8.6kg/hで
あった。得られた重合体は全て球形で、嵩密度は0.3
4g/cc、106μm以下の微粒子は0.2%であっ
た。Example 3 [Ethylene-butene Gas Phase Continuous Copolymerization] A solid gas was fed into a continuous gas phase polymerization reactor in which a mixed gas of ethylene and butene (1-butene / ethylene = 6.0 mol%) was circulated. 1349 mg of the prepolymerized catalyst obtained in Example 1 (3) as a catalyst component
/ H, 628 mg / h of triethylaluminum was intermittently supplied. The conditions of the polymerization reaction were 88 ° C., ethylene pressure 18 kg / cm 2 G, average residence time 5.5 hours,
The average polymerization rate of the produced polyethylene was 8.6 kg / h. The resulting polymers are all spherical and have a bulk density of 0.3.
Fine particles having a particle size of 4 g / cc and 106 μm or less were 0.2%.
【0061】<比較例1> (1)[層状珪酸塩粒子の調製]市販の膨潤性合成雲母
(「ソマシフME−100」、コープケミカル社製、平
均粒径7μm)500gを2.0重量%硝酸クロム水溶
液2.5L中に分散させ、常温で2時間撹拌した。これ
を脱塩水にて濾過・洗浄した。得られた固体部に水を添
加し、20.0重量%水スラリーに調製し、噴霧乾燥処
理を行った。この結果、平均粒径60μmの粒子が40
0g得られた。粒径10μm以下の粒子の数は10%で
あり、圧壊強度は0.1MPa、嵩密度0.55g/c
cであった。Comparative Example 1 (1) [Preparation of Layered Silicate Particles] 2.0 g of 500 g of commercially available swellable synthetic mica (“Somasif ME-100”, manufactured by Corp Chemical Co., average particle size 7 μm) was used. It was dispersed in 2.5 L of chromium nitrate aqueous solution and stirred at room temperature for 2 hours. This was filtered and washed with deionized water. Water was added to the obtained solid portion to prepare a 20.0% by weight water slurry, and spray drying was performed. As a result, particles having an average particle size of 60 μm
0 g was obtained. The number of particles having a particle size of 10 μm or less is 10%, the crushing strength is 0.1 MPa, and the bulk density is 0.55 g / c.
c.
【0062】(2)[触媒調製]上記(1)で得られた
層状珪酸塩粒子を用いた以外は実施例1(2)と同様に
して触媒を調製した。 (3)[予備重合]上記(2)で得られた触媒成分を用
い、実施例1(3)と同様にして予備重合を実施した。 (4)[エチレン−ブテン共重合]上記(3)で得られ
た予備重合触媒を用いて実施例1(4)と同様にしてエ
チレン−ブテン共重合を実施した。その結果、重合体粉
末43gを得た。重合粉末は不定形粒子が多く、嵩密度
は0.13g/ccであり、106μm以下の微粉は
7.5%であった。(2) [Preparation of catalyst] A catalyst was prepared in the same manner as in Example 1 (2) except that the layered silicate particles obtained in the above (1) were used. (3) [Preliminary polymerization] Preliminary polymerization was carried out in the same manner as in Example 1 (3) using the catalyst component obtained in the above (2). (4) [Ethylene-butene copolymerization] Using the prepolymerized catalyst obtained in the above (3), ethylene-butene copolymerization was carried out in the same manner as in Example 1 (4). As a result, 43 g of a polymer powder was obtained. The polymer powder had many irregular shaped particles, the bulk density was 0.13 g / cc, and the fine powder having a particle size of 106 μm or less was 7.5%.
【0063】<比較例2> (1)[層状珪酸塩粒子の調製]市販の膨潤性合成雲母
(「Na−テニオライト」、トピー工業社製)200g
を4.0重量%硝酸クロム水溶液1.0L中に分散さ
せ、常温で2時間撹拌した。これを脱塩水にて濾過・洗
浄した。得られた固体部に水を添加し、30.0重量%
水スラリーに調製し、噴霧乾燥処理を行った。この結
果、平均粒径70μmの粒子が180g得られた。粒径
10μm以下の粒子の数は10%であり、圧壊強度は
0.2MPa、嵩密度0.40g/ccであった。Comparative Example 2 (1) [Preparation of Layered Silicate Particles] 200 g of commercially available swellable synthetic mica (“Na-teniolite”, manufactured by Topy Industries, Ltd.)
Was dispersed in 1.0 L of a 4.0% by weight aqueous solution of chromium nitrate and stirred at room temperature for 2 hours. This was filtered and washed with deionized water. Water was added to the obtained solid portion, and 30.0% by weight was added.
A water slurry was prepared and spray dried. As a result, 180 g of particles having an average particle size of 70 μm were obtained. The number of particles having a particle size of 10 μm or less was 10%, the crushing strength was 0.2 MPa, and the bulk density was 0.40 g / cc.
【0064】(2)[触媒調製]上記(1)で得られた
層状珪酸塩粒子を用いた以外は実施例1(2)と同様に
して触媒を調製した。 (3)[予備重合]上記(2)で得られた触媒成分を用
い、実施例1(3)と同様にして予備重合を実施した。 (4)[エチレン−ブテン共重合]上記(3)で得られ
た予備重合触媒を用いて実施例1(4)と同様にしてエ
チレン−ブテン共重合を実施した。その結果、重合体粉
末35gを得た。重合粉末は鱗片状あるいは不定形粒子
が多く、嵩密度は0.11g/ccであり、106μm
以下の微粉は5.0%であった。(2) [Preparation of catalyst] A catalyst was prepared in the same manner as in Example 1 (2) except that the layered silicate particles obtained in the above (1) were used. (3) [Preliminary polymerization] Preliminary polymerization was carried out in the same manner as in Example 1 (3) using the catalyst component obtained in the above (2). (4) [Ethylene-butene copolymerization] Using the prepolymerized catalyst obtained in the above (3), ethylene-butene copolymerization was carried out in the same manner as in Example 1 (4). As a result, 35 g of a polymer powder was obtained. The polymer powder has many scaly or irregular particles, bulk density is 0.11 g / cc, and 106 μm
The following fine powder was 5.0%.
【図1】本発明の理解を助けるためのフローチャート
図。FIG. 1 is a flowchart for helping an understanding of the present invention.
Claims (7)
る触媒の存在下にエチレンの重合またはエチレンとα−
オレフィンとの共重合を実質的に溶媒の不存在下に行う
ことを特徴とするエチレン重合体の製造方法。 成分(A):メタロセン系遷移金属化合物 成分(B):スメクタイト族の層状珪酸塩および雲母族
の層状珪酸塩からなり、スメクタイト族の層状珪酸塩を
0.1〜50重量%含有する層状珪酸塩粒子1. Polymerization of ethylene or ethylene and α-α in the presence of a catalyst comprising the following components (A) and (B):
A method for producing an ethylene polymer, wherein copolymerization with an olefin is carried out substantially in the absence of a solvent. Component (A): Metallocene-based transition metal compound Component (B): Layered silicate composed of smectite group silicate and mica group silicate, containing 0.1 to 50% by weight of smectite group silicate particle
記成分(C)を組合せてなる触媒を使用する請求項1記
載のエチレン重合体の製造方法。 成分(C):有機アルミニウム化合物2. The method for producing an ethylene polymer according to claim 1, wherein a catalyst obtained by further combining the following component (C) with the component (A) and the component (B) is used. Component (C): Organoaluminum compound
(イ)〜(ハ)を同時に充足することを特徴とする、請
求項1または2に記載のエチレン重合体の製造方法。 条件(イ):平均粒径が20μm以上、1000μm以
下であり、かつ粒径10μm以下の粒子の数が全粒子数
の20%以下であること、 条件(ロ):微小圧縮試験器で測定した粒子の圧壊強度
が0.5MPa以上であること、 条件(ハ):粒子の嵩密度が0.6g/cm3 以上であ
ること。3. The method for producing an ethylene polymer according to claim 1, wherein the layered silicate particles of the component (B) simultaneously satisfy the following conditions (a) to (c). Condition (A): Average particle diameter is 20 μm or more and 1000 μm or less, and the number of particles having a particle diameter of 10 μm or less is 20% or less of the total number of particles. Condition (B): Measured by a micro compression tester. The crushing strength of the particles is 0.5 MPa or more. Condition (c): The bulk density of the particles is 0.6 g / cm 3 or more.
の交換性陽イオンの30%以上を周期律表の第2族から
第14族の陽イオンまたはH+ に交換されたものである
請求項1〜3いずれかに記載のエチレン重合体の製造方
法。4. The layered silicate particles of the component (B) wherein at least 30% of mica group exchangeable cations are exchanged for cations of Group 2 to Group 14 of the periodic table or H +. The method for producing an ethylene polymer according to any one of claims 1 to 3, wherein
換性陽イオンの30%以上を周期律表の第2族から第1
4族の陽イオンまたはH+ に交換されたものである、請
求項1〜4いずれかに記載のエチレン重合体の製造方
法。5. The layered silicate particles of the component (B) contain at least 30% of their exchangeable cations from the second group of the periodic table.
The method for producing an ethylene polymer according to any one of claims 1 to 4, wherein the ethylene polymer has been exchanged for a Group 4 cation or H + .
得られたことを特徴とするエチレン重合体。6. An ethylene polymer obtained by the method according to claim 1.
レフィンの共重合を気相重合法によって行われた請求項
6記載のエチレン重合体。7. The ethylene polymer according to claim 6, wherein the polymerization of ethylene or the copolymerization of ethylene and α-olefin is carried out by a gas phase polymerization method.
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31310497A JPH11147905A (en) | 1997-11-14 | 1997-11-14 | Production of ethylene polymer and ethylene polymer |
US09/065,464 US6048817A (en) | 1997-04-25 | 1998-04-24 | Polymerization of olefins |
EP98107510A EP0874006B1 (en) | 1997-04-25 | 1998-04-24 | Phyllosilicate-supported catalyst for the polymerisation of olefins |
DE69801299T DE69801299T2 (en) | 1997-04-25 | 1998-04-24 | Phyllosilicate-supported catalyst for olefin polymerization |
CN98108756A CN1100798C (en) | 1997-04-25 | 1998-04-25 | Polymerization of olefins |
US09/517,457 US6444763B1 (en) | 1997-04-25 | 2000-03-02 | Polymerization of olefins |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31310497A JPH11147905A (en) | 1997-11-14 | 1997-11-14 | Production of ethylene polymer and ethylene polymer |
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Publication Number | Publication Date |
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JPH11147905A true JPH11147905A (en) | 1999-06-02 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country | Link |
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JP (1) | JPH11147905A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001192413A (en) * | 1999-11-05 | 2001-07-17 | Japan Polychem Corp | Ethylene-alfa-olefin copolymer and film thereof |
JP2001192414A (en) * | 1999-11-05 | 2001-07-17 | Japan Polychem Corp | Ethylene-alfa-olefin copolymer and film thereof |
-
1997
- 1997-11-14 JP JP31310497A patent/JPH11147905A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001192413A (en) * | 1999-11-05 | 2001-07-17 | Japan Polychem Corp | Ethylene-alfa-olefin copolymer and film thereof |
JP2001192414A (en) * | 1999-11-05 | 2001-07-17 | Japan Polychem Corp | Ethylene-alfa-olefin copolymer and film thereof |
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