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JPH11132956A - Method and apparatus for optical visual inspection - Google Patents

Method and apparatus for optical visual inspection

Info

Publication number
JPH11132956A
JPH11132956A JP29924297A JP29924297A JPH11132956A JP H11132956 A JPH11132956 A JP H11132956A JP 29924297 A JP29924297 A JP 29924297A JP 29924297 A JP29924297 A JP 29924297A JP H11132956 A JPH11132956 A JP H11132956A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
work
image
work surface
parallel light
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP29924297A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Seiji Mizutani
誠二 水谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KAZAMA ENGINEERING KK
Original Assignee
KAZAMA ENGINEERING KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by KAZAMA ENGINEERING KK filed Critical KAZAMA ENGINEERING KK
Priority to JP29924297A priority Critical patent/JPH11132956A/en
Publication of JPH11132956A publication Critical patent/JPH11132956A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical visual inspection apparatus by which a protruding defect such as a polished surface or the like can be discriminated from a recessed defect. SOLUTION: In an optical visual inspection apparatus, a work surface W1 as an object to be inspected is irradiated with first parallel light from its vertical direction, and a work surface image in which a protruding and recessed defect on the work surface is imaged as a black part from a gray part is obtained. In this state, the work surface W1 is irradiated with linear parallel light L4 along the work surface W1 from a direction parallel to the work surface W1. Then, a work surface image in which a recessed defect W2 on the work surface is as it is and in which only the part of a protruding defect W3 shines to be white is obtained. Thereby, when the work surface image is inspected, the protruding defect W3 which shines to be white can be discriminated simply from the recessed defect W2 in which the black part from the gray part exists.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ガラスディスク等
の平面研磨品の研磨表面における凹状欠陥、凸状欠陥を
検査するための光学式外観検査方法および装置に関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical appearance inspection method and apparatus for inspecting concave and convex defects on a polished surface of a flat polished product such as a glass disk.

【0002】詳しくは、本発明は、凸状欠陥を凹状欠陥
とは目視により識別可能な状態で検出できる光学式外観
検査方法および装置に関するものである。また、本発明
は、研磨表面の研磨状態を目視により識別可能な状態で
検出できる光学式外観検査方法および装置に関するもの
である。さらに、本発明は、研磨表面の面取り加工部分
等の状態を目視により識別可能な状態で検出できる光学
式外観検査方法および装置に関するものである。
More specifically, the present invention relates to an optical appearance inspection method and apparatus capable of detecting a convex defect from a concave defect in a state that can be visually identified. Further, the present invention relates to an optical appearance inspection method and apparatus capable of detecting a polished state of a polished surface in a visually identifiable state. Furthermore, the present invention relates to an optical appearance inspection method and apparatus capable of detecting a state of a chamfered portion on a polished surface in a visually identifiable state.

【0003】[0003]

【従来の技術】非常に高精度に研磨された平面基板面の
欠陥等を検査するための方法としては、光学式顕微鏡等
を用いた微小スポット観察が採用されている。この方法
は、光学式顕微鏡のレンズ光学系と検査対象のワーク表
面を照明する照明光学系とを同軸状態に配置し、ワーク
表面を垂直方向から照明し、ワーク表面からの反射光を
光学式顕微鏡により観察するものである。この方法によ
り観察されるワーク表面の画像では、凹凸状の欠陥のな
い表面部分は均一な明るさの状態となる。しかるに、凹
状欠陥および凸状欠陥の部分では、照明光がその部分で
乱反射するので、他の部分に比べて反射光量が低下す
る。この結果、これらの部分は、他の部分に比べて暗い
部分として表示される。一般に、これらの部分が暗い
程、その凹凸の程度が高い。研磨面の凹状欠陥は、傷、
ピット、泡、ボイド等であり、凸状欠陥は、表面に付着
した異物、パーティクル等である。
2. Description of the Related Art As a method for inspecting defects or the like on a flat substrate surface which has been polished with very high precision, a minute spot observation using an optical microscope or the like is employed. In this method, a lens optical system of an optical microscope and an illumination optical system for illuminating the work surface to be inspected are coaxially arranged, the work surface is illuminated from a vertical direction, and reflected light from the work surface is reflected by the optical microscope. Observed by In the image of the work surface observed by this method, the surface portion having no uneven defects has a uniform brightness. However, in the concave defect and the convex defect, the illumination light is irregularly reflected at the portion, so that the amount of reflected light is lower than at other portions. As a result, these parts are displayed as darker parts than other parts. In general, the darker these parts are, the higher the degree of unevenness is. Concave defects on the polished surface
Pits, bubbles, voids, etc., and the convex defects are foreign substances, particles, etc. attached to the surface.

【0004】[0004]

【発明が解決しよとする課題】しかしながら、この方法
は次のような問題がある。第1に、研磨面表面に観察さ
れる欠陥を表す斑点が、凹状欠陥であるのか凸状欠陥で
あるのかを判別することができない。第2に、研磨面の
表面粗さ等を観察することができない。第3に、ガラス
ディスク等ではその外周縁等の部分に面取り加工された
部分があるが、このような面取り部分の表面状態を観察
することができない。第4に、光学式顕微鏡による1回
の観察エリアは狭いので、研磨面全体について検査を行
うためには時間が掛かってしまう。
However, this method has the following problems. First, it is not possible to determine whether a spot representing a defect observed on the polished surface is a concave defect or a convex defect. Second, the surface roughness of the polished surface cannot be observed. Third, in a glass disk or the like, a portion such as an outer peripheral edge is chamfered, but the surface state of such a chamfered portion cannot be observed. Fourthly, since the observation area for one observation by the optical microscope is small, it takes time to inspect the entire polished surface.

【0005】なお、微細な異物やパーティクル等の凸状
欠陥は、非接触三次元測定器や、レーザー方式の測定機
を利用すれば解消可能であるが、このような装置は高価
で大がかりであるという弊害がある。
It is to be noted that a convex defect such as a minute foreign substance or a particle can be eliminated by using a non-contact three-dimensional measuring device or a laser type measuring device. However, such a device is expensive and large-scale. There is a negative effect.

【0006】本発明の課題は、このような従来の光学式
顕微鏡等を用いた外観検査装置の弊害を解消し、研磨面
等のワーク表面の凹状欠陥と凸状欠陥とを識別可能な状
態で検査できる光学式外観検査方法および装置を提案す
ることにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the problems of the conventional visual inspection apparatus using an optical microscope or the like, and to make it possible to distinguish between a concave defect and a convex defect on a work surface such as a polished surface. An object of the present invention is to propose an optical appearance inspection method and apparatus capable of inspection.

【0007】また、本発明の課題は、ワーク表面の状
態、例えば表面粗さを識別可能な光学式外観検査方法お
よび装置を提案することにある。
Another object of the present invention is to propose an optical appearance inspection method and apparatus capable of identifying the state of the work surface, for example, the surface roughness.

【0008】さらに、本発明の課題は、ワーク表面の面
取り加工部分等の状態を識別可能な光学式外観検査方法
および装置を提案することにある。
A further object of the present invention is to propose an optical appearance inspection method and apparatus capable of identifying the state of a chamfered portion on a work surface or the like.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明は、検査対象のワーク表面に対して、垂直
方向から第1の平行光を照射し、前記ワーク表面からの
第1の反射光像を、前記第1の平行光と同軸上の位置で
撮像し、撮像された第1のワーク表面画像に基づき前記
ワーク表面の凹凸状欠陥を判別する光学式外観検査方法
において、ワーク表面の凸状欠陥を凹状欠陥から識別す
るために次のようにしている。
In order to solve the above-mentioned problem, the present invention irradiates a first parallel light from a vertical direction to a work surface to be inspected, and a first parallel light from the work surface. An optical appearance inspection method for imaging a reflected light image of the workpiece at a position coaxial with the first parallel light and determining an uneven defect on the workpiece surface based on the captured first workpiece surface image. In order to distinguish a convex defect on the surface from a concave defect, the following is performed.

【0010】すなわち、本発明の光学式外観検査方法で
は、ワーク表面に対して、当該ワーク表面に平行な方向
から当該ワーク表面に沿って第2の平行光を照射し、当
該第2の平行光による前記ワーク表面からの第2の反射
光像を、前記第1の平行光と同軸上の位置で撮像し、撮
像された第2のワーク表面画像に基づき前記ワーク表面
の凸欠陥を判別するようにしている。
That is, in the optical appearance inspection method of the present invention, the work surface is irradiated with the second parallel light along the work surface in a direction parallel to the work surface, and the second parallel light is irradiated on the work surface. Imaging the second reflected light image from the work surface at a position coaxial with the first parallel light, and determining a convex defect on the work surface based on the imaged second work surface image. I have to.

【0011】第2の平行光をワーク表面に沿って平行に
照射すると、当該ワーク表面に付着している異物やパー
ティクル等の凸状欠陥を照射した光は当該部分で乱反射
して、撮像される。これに対して、ワーク表面における
欠陥の無い部分や凹状欠陥の部分で第2の平行光が反射
されることは無い。この結果、第2の反射光像を撮像し
て得られた第2のワーク表面画像において、ワーク表面
の凸状欠陥に対応する部分のみが白く光った状態で現れ
る。よって、ワーク表面の凸状欠陥を凹状欠陥から識別
できる。
When the second parallel light is radiated in parallel along the surface of the work, the light irradiated to the convex defect such as a foreign substance or a particle adhered to the surface of the work is irregularly reflected by the portion and is imaged. . On the other hand, the second parallel light is not reflected on the portion of the workpiece surface where there is no defect or the portion of the concave defect. As a result, in the second work surface image obtained by imaging the second reflected light image, only a portion corresponding to the convex defect on the work surface appears in a state of glowing white. Therefore, the convex defect on the work surface can be identified from the concave defect.

【0012】ここで、ライン状の第2の平行光を、ワー
ク表面の両側位置から照射することが望ましい。このよ
うにすれば、ワーク表面上の凸状欠陥の部分を確実に識
別できる。
Here, it is desirable to irradiate the line-shaped second parallel light from both sides of the work surface. In this way, the portion of the convex defect on the work surface can be reliably identified.

【0013】典型的な本発明の方法においては、前記第
1および第2の平行光を同時に前記ワーク表面に照射
し、撮像された前記第1および第2のワーク表面画像の
合成画像に基づき、前記ワーク表面の凸欠陥および凹欠
陥の識別を行う。この場合に得られる合成画像において
は、凹状欠陥は他の部分よりも暗い部分として現れ、逆
に、凸状欠陥は他の部分よりも白い部分となって現れる
ので、それらを簡単に識別できる。
In a typical method of the present invention, the first and second parallel lights are simultaneously irradiated on the work surface, and based on a composite image of the imaged first and second work surface images, The convex defect and the concave defect on the work surface are identified. In the composite image obtained in this case, the concave defects appear as darker portions than the other portions, and conversely, the convex defects appear as white portions than the other portions, so that they can be easily identified.

【0014】また、これらの凹状欠陥および凸状欠陥が
より明確に区別されたワーク表面画像を得るためには、
前記第1の反射光像を撮像する際の受光量を調節すれば
よい。例えば、第1の反射光像の受光量を大幅に少なく
すれば、凸状欠陥が一層際立ったワーク表面画像を得る
ことができる。
Further, in order to obtain a workpiece surface image in which these concave defects and convex defects are more clearly distinguished,
The amount of light received when capturing the first reflected light image may be adjusted. For example, if the amount of received light of the first reflected light image is significantly reduced, a work surface image with more prominent convex defects can be obtained.

【0015】次に、本発明の方法では、更に、前記第1
の平行光を前記ワーク表面に垂直な方向から所定の角度
だけ傾斜した方向から照射し、当該第1の平行光による
前記ワーク表面からの第3の反射光像を、前記第1の平
行光と同軸上の位置で撮像し、撮像された第3のワーク
表面画像に基づき前記ワーク表面の表面粗さを判別する
ようにしている。第1の平行光をワーク表面に対して傾
斜した方向から照射すると、その表面の表面粗さが立体
的に浮き出た状態のワーク表面画像を得ることができ
る。このワーク表面画像を見ることにより、直観的にそ
の表面研磨状態を認識できる。
Next, the method of the present invention further comprises the first
Is irradiated from a direction inclined by a predetermined angle from a direction perpendicular to the work surface, and a third reflected light image from the work surface by the first parallel light is defined as the first parallel light. An image is taken at a coaxial position, and the surface roughness of the work surface is determined based on the taken third work surface image. When the first parallel light is emitted from a direction inclined with respect to the work surface, a work surface image in a state where the surface roughness of the work surface is three-dimensionally raised can be obtained. By looking at the workpiece surface image, the surface polishing state can be intuitively recognized.

【0016】一方、本発明の方法を実現するために、ワ
ークステージ装置と第1の照明装置と撮像装置と映像処
理装置と画像表示装置とを有し、前記第1の照明装置
は、前記ワークステージ装置のワーク載置面に載置され
るワークの表面に対してその垂線方向から第1の平行光
を照射し、前記撮像装置は、前記第1の平行光の光軸と
同軸状態に配置された撮像素子により前記ワークの表面
からの反射光像を撮像し、前記映像処理装置は、前記撮
像素子で撮像された映像信号を処理して、前記画像表示
装置を介して可視表示させるようになっている光学式外
観検査装置において、本発明では次の構成を付加してい
る。
On the other hand, in order to realize the method of the present invention, a work stage device, a first illumination device, an imaging device, a video processing device, and an image display device are provided. The surface of a work placed on the work placement surface of the stage device is irradiated with first parallel light from a perpendicular direction thereof, and the imaging device is arranged coaxially with the optical axis of the first parallel light. An image of a reflected light from the surface of the work is captured by the captured image sensor, and the image processing device processes a video signal captured by the image sensor, and causes the image signal to be visually displayed via the image display device. In the optical appearance inspection apparatus, the following configuration is added in the present invention.

【0017】すなわち、前記ワーク載置面に載置される
板状ワークの表面に対して、当該表面に平行な方向から
当該表面に沿ってライン状の平行光を照射する第2の照
明装置を付加した構成を採用している。
That is, a second illuminating device for irradiating the surface of a plate-shaped work placed on the work placement surface with linear parallel light along the surface from a direction parallel to the surface is provided. The added configuration is adopted.

【0018】ここで、ワーク表面の凸状欠陥を確実に捕
捉するためには、前記第2の照明装置としては、前記ラ
イン状の平行光を照射する2台の照明ユニットを備えも
のを採用し、これらの照明ユニットを前記ワーク載置面
を挟み対向配置して、両側からライン状の平行光をワー
ク表面に沿って平行に照射することが望ましい。
Here, in order to reliably capture a convex defect on the surface of the work, the second illuminating device is provided with two illuminating units for irradiating the linear collimated light. It is desirable that these lighting units are arranged opposite to each other with the work mounting surface interposed therebetween, and linear collimated light is radiated from both sides in parallel along the work surface.

【0019】また、ワーク表面の研磨状態の分かるワー
ク表面画像を得るためには、前記ワークステージ装置と
して、前記ワーク載置面を前記第1の平行光の光軸に対
して所定の傾斜角度に設定可能なゴニオステージを備え
た構成とすることが望ましい。
Further, in order to obtain a work surface image in which the work surface is polished, the work stage device may be configured such that the work mounting surface is inclined at a predetermined inclination angle with respect to the optical axis of the first parallel light. It is desirable to have a configuration having a gonio stage that can be set.

【0020】この場合、ライン状の平行光が、常に、ワ
ーク載置面に載置されているワークの表面に平行で、且
つ当該表面に沿って照射される状態を保持するために
は、前記第2の照明装置の前記照射ユニットを、前記ワ
ーク載置面と一体となって移動するように前記ゴニオス
テージによって支持することが望ましい。
In this case, in order to maintain a state in which the linear parallel light is always parallel to the surface of the work placed on the work placement surface and irradiated along the surface, It is preferable that the irradiation unit of the second lighting device is supported by the gonio stage so as to move integrally with the work mounting surface.

【0021】さらに、ワーク表面画像における凸状欠陥
を表す白く光った斑点を際立たせるためには、前記撮像
素子に入射する前記第1の平行光による反射光の光量を
調節する光量絞り機構を配置し、当該第1の平行光によ
る反射光の光量を絞ることが望ましい。
Further, in order to highlight white spots representing convex defects in the work surface image, a light amount stop mechanism for adjusting the light amount of the reflected light by the first parallel light incident on the image pickup device is arranged. Then, it is desirable to reduce the amount of reflected light due to the first parallel light.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下に、図面を参照して本発明を
適用した光学式外観検査装置を説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an optical appearance inspection apparatus to which the present invention is applied will be described with reference to the drawings.

【0023】(全体構成)図1は本発明による光学式外
観検査装置の全体構成図であり、図2はその概略側面図
および概略平面図である。
(Overall Configuration) FIG. 1 is an overall configuration diagram of an optical appearance inspection apparatus according to the present invention, and FIG. 2 is a schematic side view and a schematic plan view thereof.

【0024】これらの図を参照して説明すると、光学式
外観検査装置1は、検査対象のワークをセットするため
のワークステージ装置2と、セットされたワーク表面の
欠陥を抽出するための光学系および照明系が組み込まれ
た光学系・照明系ユニット3と、ワーク表面の欠陥のう
ちの凸状欠陥のみを抽出する照明系ユニット4を有して
いる。また、光学系・照明系ユニット3を介して得られ
たワーク表面の反射光像を撮像して映像化するためのC
CDカメラ5が、光学系・照明系ユニット3の上端に取
り付けられている。さらには、CCDカメラ5によって
得られた映像信号を電気的に強調補正する映像処理ユニ
ット6と、当該ユニット6によって補正された映像信号
を視覚化するための表示モニター7を有している。
Referring to these drawings, an optical appearance inspection apparatus 1 includes a work stage apparatus 2 for setting a work to be inspected and an optical system for extracting a defect on the surface of the set work. And an optical system / illumination unit 3 in which an illumination system is incorporated, and an illumination system unit 4 for extracting only convex defects among the defects on the work surface. Also, a C for capturing a reflected light image of the work surface obtained through the optical system / illumination system unit 3 and imaging the reflected light image is provided.
A CD camera 5 is attached to the upper end of the optical / illumination unit 3. Further, it has a video processing unit 6 for electrically enhancing and correcting the video signal obtained by the CCD camera 5, and a display monitor 7 for visualizing the video signal corrected by the unit 6.

【0025】本例の光学式外観検査装置1の本体8は、
ベース9と、この後側の部分から垂直に起立している支
柱10を備えており、ベース9にはワークステージ装置
2が搭載され、支柱10の途中位置には装置前方に水平
に延びる水平腕11が取り付けされ、この水平腕の先端
に、円柱状の上記の光学系・照明系ユニット3が垂直な
姿勢で支持されている。
The main body 8 of the optical appearance inspection apparatus 1 of this embodiment is
The work stage device 2 is mounted on the base 9, and a horizontal arm extending horizontally in front of the device is provided at an intermediate position of the support 9. The cylindrical optical system / illumination system unit 3 is supported on the tip of the horizontal arm in a vertical posture.

【0026】ベース9に設置されたワークステージ装置
2は、光学系・照明系ユニット3の光軸3aに垂直とな
るように検査対象の板状ワークWを載置可能なワーク載
置面21を備えている。また、本例のワークステージ装
置2は、ワーク載置面21をそれぞれ、装置前後方向X
に水平に移動可能なXステージ、上下方向に移動可能な
Zステージ、および光軸3aを含む垂直平面内で当該平
面上に位置する中心の回りに旋回可能なゴニオステージ
を備えている。
The work stage device 2 mounted on the base 9 has a work mounting surface 21 on which a plate-like work W to be inspected can be mounted so as to be perpendicular to the optical axis 3a of the optical / illumination system unit 3. Have. Further, the work stage device 2 of the present embodiment has the
An X stage that can be moved horizontally, a Z stage that can be moved up and down, and a gonio stage that can turn around a center located on a vertical plane including the optical axis 3a.

【0027】ワーク表面の凸状欠陥を抽出するための照
明系ユニット4は、本例では、ワーク載置面21を挟
み、2台が対向配置されている。これらの照明系ユニッ
ト4からは、それぞれライン状の平行光がワーク載置面
21に載置された板状ワークWの表面に平行で、且つ、
当該表面に沿って照射される。これら2台の照明系ユニ
ット4は同一構成であり、ワークステージ装置2のゴニ
オステージ面22に搭載されている。従って、これらの
照明系ユニット4から出射されるライン状の平行光が、
ワーク載置面21に載置されたワーク表面に対して平行
で、且つ、当該表面に沿って照射されるという関係が常
に保持される。
In the present embodiment, two illumination system units 4 for extracting a convex defect on the surface of a work are opposed to each other with the work mounting surface 21 interposed therebetween. From these illumination system units 4, linear parallel lights are respectively parallel to the surface of the plate-shaped work W placed on the work placement surface 21, and
Irradiated along the surface. These two illumination system units 4 have the same configuration, and are mounted on the gonio stage surface 22 of the work stage device 2. Therefore, the linear parallel light emitted from these illumination system units 4 is
The relationship of being irradiated parallel to the surface of the work placed on the work placement surface 21 and along the surface is always maintained.

【0028】(光学系・照明系ユニット3)図3(a)
を参照して、光学系・照明系ユニット3の概略構成を説
明する。このユニット3には、光ファイバ31を介し
て、ハロゲンランプ等の光源32から光が導かれる。こ
のユニット3の組み込まれているレンズ光学系は光軸3
aと同軸状態に配置したビームスプリッタ33を備えて
おり、光ファイバ31からの光はこのビームスプリッタ
33に入射し、その一部が、光軸3aの方向に反射分離
される。ビームスプリッタ32を介して光軸3aの方向
に反射した光成分は、1/4波長板34を介して円偏光
となって出射する。
(Optical system / illumination system unit 3) FIG. 3 (a)
The schematic configuration of the optical system / illumination system unit 3 will be described with reference to FIG. Light is guided to the unit 3 from a light source 32 such as a halogen lamp via an optical fiber 31. The lens optical system in which the unit 3 is incorporated has an optical axis 3
The beam splitter 33 is provided coaxially with a. Light from the optical fiber 31 enters the beam splitter 33, and a part of the light is reflected and separated in the direction of the optical axis 3a. The light component reflected in the direction of the optical axis 3 a via the beam splitter 32 is emitted as circularly polarized light via the 1 / wavelength plate 34.

【0029】当該ユニット3の出射光L3は、ワーク載
置面21に載置されている検査対象の板状ワークWの表
面を照射する。通常は、板状ワークWの表面法線が光軸
3aに一致するように設定される。この場合には、出射
光L3はワーク表面を垂直に照射する。ワーク表面から
の反射光は、再び、1/4波長板34を介して直線偏光
となり、ビームスプリッタ33をそのまま通過した反射
光成分は、当該ビームスプリッタ33の背面側に配置さ
れている偏光板35を通り、CCDカメラ5の受光面に
入射する。偏光板35を通過することにより、反射光成
分に含まれる異位相周波数成分が除去される。
The light L3 emitted from the unit 3 irradiates the surface of the inspection target plate-like work W placed on the work placement surface 21. Usually, the surface normal of the plate-shaped work W is set so as to coincide with the optical axis 3a. In this case, the outgoing light L3 irradiates the work surface vertically. The reflected light from the work surface again becomes linearly polarized light via the quarter-wave plate 34, and the reflected light component that has passed through the beam splitter 33 as it is becomes a polarizing plate 35 disposed on the back side of the beam splitter 33. And enters the light receiving surface of the CCD camera 5. By passing through the polarizing plate 35, the different phase frequency component contained in the reflected light component is removed.

【0030】本例では、1/4波長板34は回転機構3
6によって、光軸3aを中心として回転可能となってい
る。当該回転機構36により1/4波長板34を回転さ
せることにより、CCDカメラ5による反射光の受光量
を絞ることが可能である。
In this example, the quarter-wave plate 34 is a rotating mechanism 3
6 enables rotation about the optical axis 3a. By rotating the quarter-wave plate 34 by the rotation mechanism 36, the amount of light received by the CCD camera 5 can be reduced.

【0031】ここで、光ファイバ31は多成分ガラスフ
ァイバから形成されており、その先端部から出射する光
のNA角は60〜70度近くなり、このままでは、得ら
れたワーク表面からの反射光は均一な照度分布にはなっ
ても外乱角度を多く含む光成分があるために、ワーク表
面上の微細な欠陥を捕捉することができない。そこで、
本例では、図3(b)に示すように、光ファイバ31の
先端部にバンドル研磨面の陰影を除去するための拡散素
子37と、例えば直径0.5mmのピンホール素子38
を積層した複合板39を取り付けてある。この複合板3
9を介して、均一で鋭角な光をビームスプリッタ33に
照射するようにしている。
Here, the optical fiber 31 is formed of a multi-component glass fiber, and the NA angle of the light emitted from the tip of the optical fiber is close to 60 to 70 degrees. However, even if the illuminance distribution is uniform, there is a light component that includes a large disturbance angle, so that a fine defect on the work surface cannot be captured. Therefore,
In this example, as shown in FIG. 3B, a diffusing element 37 for removing the shadow of the polished surface of the bundle at the tip of the optical fiber 31 and a pinhole element 38 having a diameter of 0.5 mm, for example.
Are mounted on a composite plate 39 in which the components are laminated. This composite board 3
Through 9, uniform and sharp light is emitted to the beam splitter 33.

【0032】このように、複合板37を取りつけて均一
で鋭角な光をビームスプリッタ33に照射すると共に、
ユニット内に1/4波長板34と偏光板35を配置する
ことにより、CCDカメラ5で受光される反射光成分
は、周波数特性が制約された非常に均一でパーシャルコ
ヒーレント化したシャープなコリメート光となる。
As described above, the beam splitter 33 is irradiated with uniform and sharp light by attaching the composite plate 37 to the beam splitter 33.
By arranging the quarter-wave plate 34 and the polarizing plate 35 in the unit, the reflected light component received by the CCD camera 5 becomes a very uniform and partially coherent sharp collimated light with limited frequency characteristics. Become.

【0033】(照明系ユニット4)次に、ワーク表面の
凸状欠陥を抽出するための照明系ニット4について説明
する。このユニット4には、光源32から光ファイバ4
1(図1参照)を介して光が導かれる。図4(a)に示
すように、ユニット4に導かれた光は、その内部に配置
されているライトガイド42によってガイドされて、そ
の先端側に配置したライン集光レンズ43に入射する。
このライン集光レンズ43から出射する光はスリット板
44および1/4波長板45を通過して、ライン状の平
行光となって出射する。スリット板44および1/4波
長板45を用いることにより、極めて細い幅のライン状
の平行光、例えば、2mm幅の平行光を得ることができ
る。また、ワーク端面エッジ部のハレーションを防ぐこ
とができる。
(Illumination System Unit 4) Next, the illumination system unit 4 for extracting a convex defect on the work surface will be described. The unit 4 includes a light source 32 and an optical fiber 4.
The light is guided through 1 (see FIG. 1). As shown in FIG. 4A, the light guided to the unit 4 is guided by a light guide 42 disposed therein, and is incident on a line condenser lens 43 disposed on the tip side thereof.
The light emitted from the line condenser lens 43 passes through the slit plate 44 and the 波長 wavelength plate 45, and is emitted as linear parallel light. By using the slit plate 44 and the quarter-wave plate 45, it is possible to obtain a parallel light beam having a very narrow width, for example, a parallel light beam having a width of 2 mm. In addition, halation at the edge of the work end surface can be prevented.

【0034】ここで、図4(b)に示すように、本例で
は、2台の照明系ユニット4が対向配置され、180度
相対方向から、ワーク表面に平行で、しかも当該表面に
沿ったライン状の平行光を照射するようになっている。
Here, as shown in FIG. 4B, in this example, two illumination system units 4 are arranged to face each other, and are parallel to the work surface from the relative direction of 180 degrees, and along the surface. It is designed to emit line-shaped parallel light.

【0035】このように構成した本例の光学式外観検査
装置1によるワーク表面の欠陥検出動作を説明する。
The operation of detecting defects on the work surface by the optical appearance inspection apparatus 1 according to the present embodiment will be described.

【0036】(凹凸状欠陥の検出)まず、ワーク表面の
凹凸状の欠陥を検査するためには、ワーク載置面21を
光軸3aに垂直となるように設定し、この上に、検査対
象のワークWを乗せる。この状態で、光学系・照明系ユ
ニット3を点灯すると、周波数特性が制約された非常に
均一でパーシャルコヒーレント化された平行光L3が出
射され、ワーク表面を垂直に照射する。ワーク表面の反
射光は、再び光学系・照明系ユニット3を通った後に、
CCDカメラ4によって受光される。CCDカメラ5に
よって得られたワーク表面の映像信号は映像処理ユニッ
ト6を介して、表示モニター7の画面上にワーク表面画
像として表示される。表示画像がモノクロ画像の場合に
は、ワーク表面における欠陥が無い部分は、明るいグレ
ー画像として表示される。これに対して、凹凸状欠陥の
部分は、暗いグレーから黒の画像として表示される。従
って、これらの陰影の差によって、凹凸状欠陥のある部
分をモニター画面上でただちに直観的に認識できる。
(Detection of Irregular Defects) First, in order to inspect for irregular defects on the work surface, the work mounting surface 21 is set so as to be perpendicular to the optical axis 3a. The work W is placed. When the optical system / illumination system unit 3 is turned on in this state, a very uniform and partially coherent parallel light L3 whose frequency characteristics are restricted is emitted, and the work surface is illuminated vertically. The reflected light on the work surface passes through the optical / illumination unit 3 again,
The light is received by the CCD camera 4. The image signal of the work surface obtained by the CCD camera 5 is displayed as a work surface image on the screen of the display monitor 7 via the image processing unit 6. When the display image is a monochrome image, a portion having no defect on the work surface is displayed as a bright gray image. On the other hand, the uneven defect portion is displayed as a dark gray to black image. Therefore, the portion having the uneven defect can be immediately and intuitively recognized on the monitor screen by the difference between these shadows.

【0037】(表面状態の検出)ここで、ワーク表面の
状態、研磨面の場合にはその研磨状態をモニター画面上
で立体的に認識できるようにするためには、ステージ装
置2のゴニオステージを調整して、ワーク載置面21上
のワーク表面の法線が光軸3aに対して僅かに傾斜した
状態に設定する。例えば、ワーク表面の法線が光軸3a
に対して0.5乃至1.5度程度傾斜した状態を形成す
る。このようにしてモニター画面上に得られるワーク表
面画像は、ワーク表面の研磨状態を含む欠陥部分の形状
が三次元的に強調表示される。このため、観察者は直ち
にワーク表面の研磨状態を認識することができる。
(Detection of Surface Condition) Here, in order to be able to three-dimensionally recognize the state of the work surface and, in the case of a polished surface, the polished state on a monitor screen, the gonio-stage of the stage device 2 must be mounted. After the adjustment, the normal line of the work surface on the work mounting surface 21 is set to be slightly inclined with respect to the optical axis 3a. For example, the normal of the work surface is the optical axis 3a.
Is formed at an angle of about 0.5 to 1.5 degrees. In the work surface image obtained on the monitor screen in this way, the shape of the defective portion including the polished state of the work surface is three-dimensionally highlighted. Therefore, the observer can immediately recognize the polishing state of the work surface.

【0038】(凸状欠陥の識別)次に、ワーク表面の凹
凸状欠陥のうちの凸状欠陥のみを識別する場合には、2
台の照明系ユニット4を点灯して、ワーク載置面上のワ
ーク表面に対して、両側からライン状の平行光L4を照
射する。このライン状の平行光L4は、ワーク表面に平
行であり、しかも、ワーク表面を舐めるように照射す
る。このライン状の平行光L4による凸状欠陥の識別原
理について説明する。
(Identification of Convex Defects) Next, in order to identify only the convex defects among the irregular defects on the work surface, 2
The illumination system unit 4 is turned on to irradiate a linear parallel light L4 from both sides to the work surface on the work mounting surface. The line-shaped parallel light L4 is irradiated parallel to the work surface and licking the work surface. The principle of identifying a convex defect using the linear parallel light L4 will be described.

【0039】図4(c)に示すように、このライン状の
平行光L4は、ワーク表面w1を照射しても、レンズ光
軸3aに直交する方向に進行する平行光であるので、ワ
ーク表面上の微細な凹状欠陥w2がCCDカメラ5の撮
像面に写ることは無い。同様に、ワーク表面に入り込ん
だ汚れや内部に発生している泡やボイドが検出されるこ
とも殆ど無い。これに対して、ワーク表面上に微細な凸
状欠陥w3がある場合には、ライン状の平行光L4は当
該凸状欠陥w3に当たり乱反射し、当該部分の反射光像
がCCDカメラ5の撮像面に確実に捕捉される。
As shown in FIG. 4 (c), even if this line-shaped parallel light L4 irradiates the work surface w1, it is a parallel light traveling in a direction perpendicular to the lens optical axis 3a. The upper minute concave defect w2 does not appear on the imaging surface of the CCD camera 5. Similarly, there is almost no detection of dirt that has entered the work surface or bubbles or voids generated inside. On the other hand, when there is a minute convex defect w3 on the work surface, the linear parallel light L4 hits the convex defect w3 and is irregularly reflected, and the reflected light image of the relevant portion is taken by the imaging surface of the CCD camera 5. Is reliably captured.

【0040】例えば、モノクロCCD素子が持つ分光特
性が最も高い周波数特性(6000K・ピーク550n
m)を放つ高出力メタルハライド光(光軸3aに平行な
同軸光L3の約50倍以上の出力)を用いることによ
り、凸状欠陥w3はほぼ100パーセント近く捕捉さ
れ、また、拡散反射による積分効果が発生するので、確
実に、CCDカメラの撮像面により捕捉される。
For example, the frequency characteristic of the monochrome CCD element having the highest spectral characteristic (6000K peak 550n)
m), the convex defect w3 is captured by nearly 100% by using high-power metal halide light (output of about 50 times or more the coaxial light L3 parallel to the optical axis 3a), and the integration effect due to diffuse reflection. Is generated, so that the image is reliably captured by the imaging surface of the CCD camera.

【0041】この結果、光軸3aに平行な平行光L3を
照射することによりモニター画面上に得られたワーク画
像におけるグレーから黒に変化していたワーク表面の全
ての微細な凹凸状欠陥部分のうち、ライン状の平行光L
4を照射することにより、白色に変化する欠陥部分が発
生する。このように白く光る部分が凸状欠陥であり、従
って、モニター画面上において、グレーから黒色をして
いる凹状欠陥と、白く光っている凸状欠陥とを直ちに識
別できる。
As a result, by irradiating the parallel light L3 parallel to the optical axis 3a, all the fine irregularities on the work surface which changed from gray to black in the work image obtained on the monitor screen were removed. Of which, a line-shaped parallel light L
Irradiation of No. 4 causes a defective portion to change to white. Thus, the white shining portion is a convex defect. Therefore, on the monitor screen, it is possible to immediately discriminate the concave defect, which is gray to black, and the convex defect, which shines white.

【0042】ここにおいて、光学系・照明系ユニット3
の側に装着されている1/4波長板34を回転すると、
ライン状の平行光L4よりも光エネルギーの弱い平行光
L3のビームスプリッタ33による入射光量分岐比を変
化させることができる。すなわち、CCDカメラ5を介
して得られる平行光L3の反射光によるワーク表面画像
と、ライン状の平行光L4の反射光によるワーク表面画
像からなる複合画像のバランスを調整できる。
Here, the optical system / illumination system unit 3
When the quarter-wave plate 34 mounted on the side of is rotated,
It is possible to change the incident light branching ratio of the parallel light L3 having a lower light energy than the linear light L4 by the beam splitter 33. That is, it is possible to adjust the balance between the work surface image obtained by the reflected light of the parallel light L3 obtained through the CCD camera 5 and the composite image formed by the work surface image obtained by the reflected light of the linear parallel light L4.

【0043】例えば、平行光L3の反射光の光量を絞る
ことにより、ワーク表面の凸状欠陥が際立ったワーク表
面画像を得ることができる。平行光L3を遮断すれば、
凸状欠陥のみをモニター表示することができる。
For example, by reducing the amount of reflected light of the parallel light L3, it is possible to obtain a work surface image in which convex defects on the work surface are conspicuous. If the parallel light L3 is blocked,
Only the convex defects can be displayed on the monitor.

【0044】なお、1/4波長板34を回転させる代わ
りに、ステージ装置2のZ軸ステージを移動させて、得
られるワーク表面画像をディフォーカス状態にすれば、
ピンホール化により焦点深度の浅い平行光L3の反射光
によるワーク表面画像だけがぼけた状態となる。従っ
て、これによって、凸状欠陥のみを認識可能なワーク表
面画像を得ることができる。
It is to be noted that, instead of rotating the quarter-wave plate 34, the Z-axis stage of the stage device 2 is moved to bring the obtained work surface image into a defocused state.
Due to the pinhole, only the work surface image is blurred due to the reflected light of the parallel light L3 having a small depth of focus. Therefore, this makes it possible to obtain a work surface image that can recognize only the convex defect.

【0045】(面取り部分の検査)一方、本例の光学式
外観検査装置1によれば、ライン状の平行光L4を利用
して、ワークWの表面の縁等に形成される面取り部分の
研磨状態、表面粗さ等を認識可能なワーク表面画像を得
ることができる。
(Inspection of chamfered portion) On the other hand, according to the optical appearance inspection apparatus 1 of this example, the chamfered portion formed on the edge of the surface of the work W or the like is polished by using the linear parallel light L4. A work surface image that can recognize the state, surface roughness, and the like can be obtained.

【0046】すなわち、Z軸ステージによりワーク載置
面上のワークWの高さを調節すると共に、ライン状の平
行光L4の照度レベルを調整することにより、図4
(c)に示すように、ライン状の平行光L4が、30度
あるいは45度等の角度で面取りされている表面部分に
丁度照射するように設定する。これにより、面取り部分
w4に照射したライン状の平行光L4が反射して、CC
Dカメラ5によって捕捉され、当該面取り部分w4の研
磨状態が微妙な陰影像の形態でモニター表示される。
That is, the height of the work W on the work mounting surface is adjusted by the Z-axis stage, and the illuminance level of the linear parallel light L4 is adjusted.
As shown in (c), the linear parallel light L4 is set so as to irradiate just the surface portion chamfered at an angle such as 30 degrees or 45 degrees. As a result, the linear parallel light L4 applied to the chamfered portion w4 is reflected, and CC
The polished state of the chamfered portion w4 captured by the D camera 5 is displayed on the monitor in the form of a subtle shadow image.

【0047】なお、CCDカメラとしてモノクロCCD
を用いた場合について説明したが、例えば、3板式カラ
ーCCDと、高精細カラーモニターやハイビジョンカメ
ラ、ハイビジョンモニターとを用いることにより、1/
4波長板による入射条件の変化を微妙な色差画像となっ
て表示することができる。このようにすれば、検査を行
う作業者の認識度を更に高めることができるので好まし
い。
A monochrome CCD is used as the CCD camera.
Is described, for example, by using a three-plate color CCD, a high-definition color monitor, a high-definition camera, and a high-definition monitor,
The change of the incident condition by the four-wavelength plate can be displayed as a subtle color difference image. This is preferable because the degree of recognition of the operator performing the inspection can be further increased.

【0048】また、本発明の方法および装置により検査
可能なワークは、基本的には平面研磨されている基板状
のものであればよい。ワークの形状は、丸形状、ドーナ
ツ形状、四角形状、多角形状のいずれであってもよい。
また、厚みも高さ調整用のZステージを用いることによ
り、特に制約はない。
The work that can be inspected by the method and apparatus of the present invention may be basically a substrate that has been planarly polished. The shape of the work may be any of a round shape, a donut shape, a square shape, and a polygonal shape.
The thickness is not particularly limited by using the Z stage for height adjustment.

【0049】さらに、モニター画面上にワーク表面画像
を表示して、検査する作業者が目視によりワーク表面の
凹凸状欠陥を観察する場合について説明してきたが、こ
れを自動化してもよい。例えば、得られたワーク表面画
像を、画像処理ユニットにより、その欠陥部分の特徴量
(サイズ、面積、個数等)を自動解析すればよい。
Furthermore, a case has been described in which a workpiece surface image is displayed on a monitor screen, and the inspecting operator visually observes the unevenness defect on the workpiece surface, but this may be automated. For example, the obtained work surface image may be automatically analyzed by the image processing unit for the characteristic amount (size, area, number, etc.) of the defective portion.

【0050】[0050]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光学式外
観検査方法および装置では、ワーク表面に対して、当該
ワーク表面に平行な方向から当該ワーク表面に沿って平
行光を照射するようにしているので、ワーク表面の凸状
欠陥のみが白く光った部分として表示されるワーク表面
画像を得ることができ、ワーク表面の欠陥のうちから凸
状欠陥のみを簡単に識別することが可能になる。
As described above, in the optical appearance inspection method and apparatus according to the present invention, parallel light is irradiated on the work surface from a direction parallel to the work surface along the work surface. Therefore, it is possible to obtain a work surface image in which only the convex defects on the work surface are displayed as white shining portions, and it is possible to easily identify only the convex defects from among the defects on the work surface. .

【0051】また、本発明では、ワーク表面に対して、
その垂線方向に対して所定の角度だけ傾斜した方向から
平行光を照射してワーク表面画像を得るようにしている
ので、ワーク表面の表面状態が立体的に表示され、直観
的にその表面状態を識別できる。
In the present invention, the work surface is
Since the work surface image is obtained by irradiating parallel light from a direction inclined by a predetermined angle with respect to the perpendicular direction, the surface state of the work surface is displayed three-dimensionally, and the surface state is intuitively displayed. Can be identified.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明を適用した光学式外観検査装置の概略構
成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an optical appearance inspection apparatus to which the present invention is applied.

【図2】図1の装置の概略側面図および概略平面図であ
る。
2 is a schematic side view and a schematic plan view of the apparatus of FIG.

【図3】図1の装置の照明系・光学系ユニットの主要部
分の構成を示す説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing a configuration of a main part of an illumination system / optical system unit of the apparatus of FIG. 1;

【図4】図1の装置の照明系ユニットの主要部分の構成
を示す説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a configuration of a main part of an illumination system unit of the apparatus of FIG. 1;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光学式外観検査装置 2 ステージ装置 21 ワーク載置面 3 光学系・照明系ユニット 4 照明系ユニット 5 CCDカメラ 6 映像処理ユニット 7 表示モニター 34 1/4波長板 L3 平行光 L4 ライン状の平行光 W ワーク w1 ワーク表面 w2 凹状欠陥 w3 凸状欠陥 w4 ワーク表面の面取り部分 Reference Signs List 1 optical appearance inspection device 2 stage device 21 work mounting surface 3 optical system / illumination system unit 4 illumination system unit 5 CCD camera 6 video processing unit 7 display monitor 34 quarter-wave plate L3 parallel light L4 linear parallel light W Work w1 Work surface w2 Concave defect w3 Convex defect w4 Chamfered part of work surface

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 検査対象のワーク表面に対して、垂直方
向からから第1の平行光を照射し、前記ワーク表面から
の第1の反射光像を、前記第1の平行光と同軸上の位置
で撮像し、撮像された第1のワーク表面画像に基づき前
記ワーク表面の凹凸欠陥を判別する光学式外観検査方法
において、 前記ワーク表面に平行な方向から、当該ワーク表面に沿
って、第2の平行光を照射し、当該第2の平行光による
前記ワーク表面からの第2の反射光像を、前記第1の平
行光と同軸上の位置で撮像し、撮像された第2のワーク
表面画像に基づき前記ワーク表面の凸欠陥を判別するこ
とを特徴とする光学式外観検査方法。
1. A surface of a work to be inspected is irradiated with a first parallel light from a vertical direction, and a first reflected light image from the work surface is coaxially aligned with the first parallel light. In an optical appearance inspection method, an image is taken at a position, and an irregularity defect on the work surface is determined based on the taken first work surface image, a second direction is set along the work surface from a direction parallel to the work surface. Illuminated, and a second reflected light image from the work surface by the second parallel light is captured at a position coaxial with the first parallel light, and the captured second work surface is imaged. An optical appearance inspection method, wherein a convex defect on the work surface is determined based on an image.
【請求項2】 請求項1において、前記ワーク表面の両
側位置から前記第2の平行光を照射することを特徴とす
る光学式外観検査方法。
2. The optical appearance inspection method according to claim 1, wherein the second parallel light is emitted from both sides of the work surface.
【請求項3】 請求項1または2において、前記第1お
よび第2の平行光を同時に前記ワーク表面に照射し、撮
像された前記第1および第2のワーク表面画像の合成画
像に基づき、前記ワーク表面の凸欠陥および凹欠陥を判
別することを特徴とする光学式外観検査方法。
3. The method according to claim 1, wherein the first and second parallel lights are simultaneously radiated on the work surface, and the first and second parallel light beams are illuminated on the basis of the synthesized image of the first and second work surface images. An optical appearance inspection method, wherein a convex defect and a concave defect on a work surface are determined.
【請求項4】 請求項1ないし3のうちの何れかの項に
おいて、前記第1の平行光を前記ワーク表面に垂直な方
向に対して所定の角度だけ傾斜した方向から照射し、当
該第1の平行光による前記ワーク表面からの第3の反射
光像を、前記第1の平行光と同軸上の位置で撮像し、撮
像された第3のワーク表面画像に基づき前記ワーク表面
の表面粗さを判別することを特徴とする光学式外観検査
方法。
4. The method according to claim 1, wherein the first parallel light is emitted from a direction inclined by a predetermined angle with respect to a direction perpendicular to the surface of the work. Capturing a third reflected light image from the work surface by the parallel light at a position coaxial with the first parallel light, and surface roughness of the work surface based on the captured third work surface image An optical appearance inspection method characterized in that:
【請求項5】 請求項1ないし4のうちの何れかの項に
おいて、前記第1の反射光像または前記第3の反射光像
を撮像する際の受光量を調節することを特徴とする光学
式外観検査方法。
5. The optical device according to claim 1, wherein an amount of light received when capturing the first reflected light image or the third reflected light image is adjusted. Type visual inspection method.
【請求項6】 ワークステージ装置と第1の照明装置と
撮像装置と映像処理装置と画像表示装置とを有し、前記
第1の照明装置は、前記ワークステージ装置のワーク載
置面に載置されるワークの表面に対して垂直方向から第
1の平行光を照射し、前記撮像装置は、前記第1の平行
光の光軸と同軸状態に配置された撮像素子により前記ワ
ークの表面からの反射光像を撮像し、前記映像処理装置
は、前記撮像素子で撮像された映像信号を処理して、前
記画像表示装置を介して可視表示させるようになってい
る光学式外観検査装置において、 前記ワーク載置面に載置されるワークの表面に対して、
当該表面に平行な方向から当該表面に沿ってライン状の
平行光を照射する第2の照明装置を有していることを特
徴とする光学式外観検査装置。
6. A work stage device, a first lighting device, an imaging device, a video processing device, and an image display device, wherein the first lighting device is mounted on a work mounting surface of the work stage device. Irradiating the first parallel light from a vertical direction to the surface of the work to be performed, and the imaging device uses an image sensor arranged coaxially with the optical axis of the first parallel light to detect the first parallel light from the surface of the work. An optical appearance inspection device configured to capture a reflected light image, process the video signal captured by the imaging device, and visually display the image signal via the image display device; For the surface of the work placed on the work placement surface,
An optical visual inspection device comprising a second illumination device that irradiates linear parallel light along a surface from a direction parallel to the surface.
【請求項7】 請求項6において、前記第2の照明装置
は前記ライン状の平行光を照射する2台の照明ユニット
を備えており、これらは前記ワーク載置面を挟み対向配
置されていることを特徴とする光学式外観検査装置。
7. The illumination device according to claim 6, wherein the second illumination device includes two illumination units for irradiating the line-shaped parallel light, and these are arranged to face each other with the work mounting surface interposed therebetween. An optical visual inspection device characterized by the above-mentioned.
【請求項8】 請求項6または7において、前記ワーク
ステージ装置は、前記ワーク載置面を前記第1の平行光
の光軸に対して所定の傾斜角度に設定可能なゴニオステ
ージを備えていることを特徴とする光学式外観検査装
置。
8. The work stage device according to claim 6, wherein the work stage device includes a gonio stage capable of setting the work mounting surface at a predetermined inclination angle with respect to an optical axis of the first parallel light. An optical visual inspection device characterized by the above-mentioned.
【請求項9】 請求項6ないし8のうちの何れかの項に
おいて、前記第2の照明装置の前記照射ユニットは、前
記ワーク載置面と一体となって移動するように前記ゴニ
オステージによって支持されていることを特徴とする光
学式外観検査装置。
9. The goniostage according to claim 6, wherein the irradiation unit of the second illumination device is moved integrally with the work mounting surface. An optical visual inspection device characterized by being performed.
【請求項10】 請求項6ないし9のうちの何れかの項
において、前記撮像素子に入射する前記第1の平行光に
よる反射光の光量を調節する光量絞り機構を備えている
ことを特徴とする光学式外観検査装置。
10. A light amount stop mechanism according to claim 6, further comprising a light amount stop mechanism for adjusting a light amount of reflected light by said first parallel light incident on said image pickup device. Optical appearance inspection device.
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