JPH11114664A - 鋳型加熱真空鋳造炉システムと鋳物の製造法 - Google Patents
鋳型加熱真空鋳造炉システムと鋳物の製造法Info
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- JPH11114664A JPH11114664A JP10232350A JP23235098A JPH11114664A JP H11114664 A JPH11114664 A JP H11114664A JP 10232350 A JP10232350 A JP 10232350A JP 23235098 A JP23235098 A JP 23235098A JP H11114664 A JPH11114664 A JP H11114664A
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Abstract
熱が失われることを防止し得て、高い鋳型温度を維持す
ることにある。 【構成】 このため、この発明は、鋳型予熱チャンバ
と、前記鋳型予熱チャンバの下に設けて前記鋳型予熱チ
ャンバに連通した鋳造チャンバと、前記鋳造チャンバに
内設するとともに中央開口部を区画する環状回転チル部
材と、前記鋳型予熱チャンバ中で加熱した鋳型を前記鋳
造チャンバに降下させて鋳型外周領域が前記チル部材と
協働する状態で前記チル部材に当接させるように移動可
能であり、且つ、前記チル部材の開口部中を移動可能で
ある鋳型エレベータと、前記鋳造チャンバ中の前記予熱
済み鋳型に融解物を導入する手段と、前記鋳型の外周を
前記チル部材に協働的に係合させた状態で前記チル部材
を回転させる手段と、を具備することを特徴とする。
Description
物、特に、等軸ハブと前記ハブから延出する柱状晶のエ
ーロフォイルとを有する一体ガスタービンホイール等、
鋳物の各領域毎に異なる結晶組織を有する鋳物、を生成
する鋳型加熱真空鋳造炉システムと鋳物の製造法に関す
る。
のエーロフォイルと、を有する一体ガスタービンホイー
ルの鋳物が米国特許第4 813 470号に、記載さ
れている。この特許は、セラミックインベストメントモ
ールドと協働して柱状晶のエーロフォイルを形成する環
状チルを有する鋳造炉を記述している。鋳造タービンホ
イールのハブ領域に等軸晶組織が形成するように前記イ
ンベストメントモールドを振動させるために、バイブレ
ータを融解物充填インベストメントモールドの中央のハ
ブ形成領域近傍に配設している。
の鋳造における従来の作業には、鋳型加熱炉の中にセラ
ミックインベストメントモールドを予熱させる必要があ
った。次に、この予熱済み鋳型を鋳型操縦機構によって
(手動又は補助式方法によって)外気の中で鋳造炉に移
動させる。この鋳造炉は、真空下で前記予熱済み鋳型中
に鋳込む溶湯を提供する坩堝と、前記予熱済み鋳型と協
働するチルと、を有し、こうして、このセラミックイン
ベストメントモールド中に最初に凝固する柱状晶エーロ
フォイルを形成し、この後に続いて等軸晶ハブを形成す
る。この作業は、鋳型加熱炉から鋳造炉まで搬送する間
に相当な熱が予熱済み鋳型から失われるということが不
利である。また、このため、鋳型の取り扱いが、通常利
用される高い鋳型温度と、前記鋳型を前記チルに正確に
載置する必要性と、によって困難になる。
加熱真空鋳造炉システムと鋳物の製造法を提供すること
にある。
に、この発明は、鋳型予熱チャンバと、前記鋳型予熱チ
ャンバの下に設けて前記鋳型予熱チャンバに連通した鋳
造チャンバと、前記鋳造チャンバに内設するとともに中
央開口部を区画する環状回転チル部材と、前記鋳造チャ
ンバに内設した鋳型エレベータであって、前記鋳型予熱
チャンバ中で加熱した鋳型を前記鋳造チャンバに降下さ
せて鋳型外周領域が前記チル部材と協働する状態で前記
チル部材に当接させるように移動可能であり、且つ、前
記チル部材の開口部中を移動可能である前記鋳型エレベ
ータと、前記鋳造チャンバ中の前記予熱済み鋳型に融解
物を導入する手段と、前記鋳型の外周を前記チル部材に
協働的に係合させた状態で前記チル部材を回転させる手
段と、を具備することを特徴とする。
造チャンバ中に降下させながら前記鋳型外周領域と協働
的に係合する上方に向かって拡開した鋳型係合面を含む
ことを特徴とする。
ル部材が載置される環状ターンテーブルと、前記ターン
テーブルを停止/始動方式で回転させる手段と、を具備
することを特徴とする。
は、前記鋳造チャンバ中の坩堝を具備することを特徴と
する。
熱済み鋳型が載置されるテーブルと、を含むことを特徴
とする。
の間に遮断弁を含むことを特徴とする。
置した鋳込型を加熱し、前記エレベータが前記鋳造チャ
ンバ中の環状チル部材中の開口部を通過しながら前記エ
レベータ上の前記予熱済み鋳型を前記鋳型予熱チャンバ
から鋳造チャンバ中に降下させて前記予熱済み鋳型の外
周領域を前記チル部材に対して協働的に位置決めし、前
記予熱済み鋳型に融解物を導入し、前記鋳型外周領域で
柱状晶組織を形成すべく前記鋳型外周領域中の前記融解
物を指向性凝固させ、等軸晶組織を備えた前記鋳型の中
央領域に前記融解物を凝固させるように前記チル部材を
回転させることから成ることを特徴とする。
記外周領域で前記チル部材によって支持されるまで前記
エレベータを降下させることを含むことを特徴とする。
前記チル部材に接触させることを含むことを特徴とす
る。
た後に前記融解物を前記予熱済み鋳型に導入することを
含むことを特徴とする。
た後に前記鋳型を回転させることを含むことを特徴とす
る。
空鋳造チャンバの上方に設けるとともにオプションの遮
断弁を介して前記鋳型予熱チャンバを前記真空鋳造チャ
ンバに連結させた鋳型加熱真空鋳造炉システムと鋳物の
製造法を提供する。前記真空鋳造チャンバに鋳型エレベ
ータを内設するとともに、前記鋳型エレベータは、鋳型
を前記鋳型予熱チャンバから降下させて前記真空鋳造チ
ャンバ中に常駐する環状回転チルリング部材に当接させ
るように作動する。このため、前記鋳型エレベータは、
前記エレベータを前記真空鋳造チャンバ中に降下させな
がら予熱済み鋳型が前記チル部材に載置又はセットされ
るように前記真空鋳造チャンバ中の前記環状チル部材の
開口部を通過する直立エレベータ軸を含む。
せながら予熱済み鋳型が前記エレベータによって載置さ
れる鋳型係合面を含む。前記エレベータは、鋳型が真空
鋳造チャンバ中の前記環状チル部材のみによって支持さ
れるとともに鋳型の中央領域において断熱されるまで降
下させることが望ましい。
ており、融解物を十分に攪拌するとともにこうして柱状
晶エーロフォイルの凝固後に鋳物のハブ領域中に等軸晶
組織を形成させる停止/開始の方式で前記ターンテーブ
ルとこのターンテーブル上に留まる溶融物充填鋳型とを
回転させることができるようになっている。
ベル、プロセスサイクル時間、鋳型シーリング、鋳型の
位置合わせ等、鋳造パラメータの制御を向上できること
によって有利である。さらに、本発明は、前記環状回転
チルリング部材を使用することによって鋳物の中央のハ
ブ領域における融解物の凝固制御を向上させることがで
きる。
いて検討する際に以下の詳細な説明を参照することによ
って更によく理解できるようになるであろう。
型加熱真空鋳造炉システムが概略的に図示されており、
指向性凝固した複数の柱状晶エーロフォイル12を中央
の等軸晶ディスク又はハブ14から一体になって半径方
向に延出させた図2の一体ガスタービンホイール10を
生成するものである。前記エーロフォイル12は前記デ
ィスク又はハブ14を中心に周方向に離間させている。
このハブ14は、周知のように回転エンジン軸(図示せ
ず)に取り付けるようにできている。
鋳造チャンバ22の上方に設けた鋳型予熱チャンバ20
から成ることが図示されている。このため、前記鋳型予
熱チャンバ20を上部ハウジング30内に区画し、前記
真空鋳造チャンバ22を下部ハウジング32内に区画し
ている。前記鋳型予熱チャンバ20は、この鋳型予熱チ
ャンバ20と真空鋳造チャンバ22の間に介設した可動
遮断弁24によって真空鋳造チャンバ22に連通させる
ことができる。前記遮断弁24は、鋳型予熱チャンバ2
0と真空鋳造チャンバ22を隔離させる閉位置と、鋳型
予熱チャンバ20と真空鋳造チャンバ22を連通させる
開位置と、の間を通常の流体(例えば、空気圧又は水
圧)シリンダ又は電気ソレノイド(図示せず)によって
移動することが可能なスライディングゲート又はバタフ
ライタイプのバルブから成る。
ャンバ22を鋳型M中の融解物の鋳造中に真空にするこ
とができるように真空ポンプP1の導管又は連結部26
を含む。例えば、鋳型M中にニッケル又はコバルトの超
合金を鋳造している間に真空鋳造チャンバ22を1ミク
ロン未満まで減圧することができる。
20は、鋳型Mの加熱中にこの鋳型予熱チャンバ20を
独自に真空にすることができるように真空ポンプP2の
導管又は接続部29を含むことができる。例えば、この
鋳型予熱チャンバ20は、鋳型Mが前記鋳型加熱チャン
バから前記真空鋳造チャンバまで移動する前に、この鋳
型Mの予熱中に1ミクロン未満まで減圧することができ
る。
した一般的なセラミックインベストメントシェルモール
ドで構成することができるとともに、このロストワック
ス法においては、受口や湯道又は湯口及びガスタービン
ホイールのワックスパターンをセラミックスラリー中に
インベストするとともに、一括してシェルモールドを形
成する複数のセラミック層が前記パターン上に積重する
ようにセラミックスタッコを振り掛ける。次に、このパ
ターンを、融解や溶解又はその他既知のパターン除去法
によって生のシェルモールドから取り除くとともに、こ
のパターンの無い鋳型を適切な鋳型焼成高温度で焼成し
て鋳造に十分な強度をこの鋳型にもたせるようにする。
この鋳型Mは、湯道又は湯口SRによってタービンホイ
ールモールドキャビティMCに連結した通常の受口MP
を含む。このモールドキャビティは、中央のハブ形成モ
ールドキャビティ領域MHと、半径方向に延出するとと
もに周方向に離間した外側の複数のエーロフォイル形成
モールドキャビティ領域MAと、を含む。
ンベストメントシェルモールドMを、この鋳造チャンバ
22中で上下移動するエレベータ40の上端プレート4
2上の断熱部材42a(例えば、セラミックプレート部
材)に載置する。下部ハウジング32は、前記焼成済み
鋳型をこのエレベータテーブル42に載置できるように
開くことができる適切な密封型ドア(図示せず)を含
む。したがってこのドアは下部ハウジング32に対して
真空耐密である。
44の前記上端プレート42に載設した前記断熱部材4
2aを含むとともに、前記エレベータ軸44は、下部ハ
ウジング32の下端壁32a中に設けたシール43を貫
通してエレベータアクチュエータ45まで延出してい
る。このアクチュエータ45は、前記エレベータ軸44
と、したがってこのエレベータ軸44上の前記焼成済み
鋳型Mと、を昇降させる通常の流体(例えば、空気圧又
は水圧)アクチュエータやスクリュータイプのアクチュ
エータ又はその他のアクチュエータから成ることができ
る。
留まる前記焼成済み鋳型Mを、遮断弁24が開弁した状
態で、図1に破線で示すように鋳型予熱チャンバ20に
内設した鋳型加熱炉50の中まで上方に向かって持ち上
げる。一旦この鋳型Mを鋳型加熱炉50中に配置する
と、この加熱炉50中の鋳型Mの周りに配設した誘導コ
イル52と黒鉛蓄熱器54を活かすことによってこの鋳
型Mを適切な鋳込温度まで予熱する。あるいはその代わ
りに、この鋳型加熱炉50に、鋳型Mを加熱するために
電気抵抗加熱コイル(図示せず)を含むことができる。
ニッケル又はコバルトの超合金を鋳造する場合の通常の
鋳型予熱温度は華氏1200度乃至2500度(摂氏6
48.88度乃至1371.11度)の範囲内でよい。
この鋳型温度をモニタするためにサーモカップルTを、
図示する如く鋳型Mの中まで達するように鋳型予熱チャ
ンバ20に内設している。
を比較的均一に加熱する上部ヒートバッフル51と下部
環状バッフル53を含むとともに、この二つのバッフル
は、黒鉛やアルミナやジルコニア又はその他の絶縁性材
料で作られている。この下部バッフル53の内径は、鋳
型Mの最大外径よりも僅かに大きく、この加熱炉50か
らの熱の損失を軽減すべく前記鋳型がほんの僅かな隙間
(例えば1/2〜2インチ)(12.7〜50.8ミリ
メートル)で下部バッフル53を通過できるようになっ
ている。
を真空ポンプP1で減圧し、開弁した遮断弁24を介し
てこの真空鋳造チャンバ22に連通した鋳型予熱チャン
バ20も同じ程度まで減圧するようになっている。
をテーブル42上に設けたままエレベータ40を降下さ
せて、この予熱鋳型を鋳型加熱炉50から真っ直ぐ図1
の真空鋳造チャンバ22まで搬送する。
搬入した後、遮断弁24を閉弁して鋳型予熱チャンバ2
0を真空鋳造チャンバ22から隔離するとともに、その
一方で、前記真空鋳造チャンバに内設した坩堝60中
に、例えばニッケル基又はコバルト基の超合金装入物
等、金属又は合金の装入物を融解させる。この坩堝60
は、この坩堝中の装入物を融解すべく活かされる誘導コ
イル62を含む。この坩堝は、鋳造するために選ばれた
融解物に反発したりしないセラミック材料で作られる、
あるいは、セラミック坩堝ライニングを含む。例えば、
ニッケル基又はコバルト基の超合金装入物を融解させて
鋳型Mに鋳込む場合、前記坩堝は、ジルコニウム含有セ
ラミックで構成することができる。
の手動又は自動の傾斜機構(図示せず)によって傾斜さ
せるために、例えば坩堝トラニオン60aに載設してお
り、図1でエレベータ40を真空鋳造チャンバ22中に
降下させながらこの真空鋳造チャンバ22中の環状回転
チルリング又は部材70上にセットした前記予熱済み鋳
型Mの受口MPに融解物を前記坩堝から注湯するように
なっている。
回転チル部材70は、エレベータ軸44の長手方向軸線
に対して同心である中央のチル開口部70aを区画して
いる。図1から明瞭なように、このチル開口部70aを
エレベータ軸44が上下に貫通移動する。
熱伝導率材料から成る。このチル部材70は、後述する
ようにエーロフォイル形成モールドキャビティ領域MA
から一方方向に除熱するに足るだけの大冷却容量を備え
た、水又は位相変化によって冷却化する位相変換材料等
の冷却流体の貯槽を保持する中空内部を有することがで
きる。あるいはその代わりに、このチル部材中に周方向
の水冷通路又はその他の水冷通路(図示せず)を含むこ
とができる。水源に連結した適切な回転アダプタ又は急
速脱着取付具(図示せず)によって冷却水をチル部材7
0の前記水冷通路を経由して循環させることができる。
鋳型Mを下降させるべく前記チル部材のチル開口部70
aを通過することができ、エーロフォイル形成モールド
キャビティ領域MAの外周面MSを図1のチル部材70
の内周面70bと協働係合させた状態で位置決めするよ
うになっている。特に、この鋳型エレベータ40は下方
に向かって移動し、上方に向かって拡開又は先細りした
チル内面70bに前記外周面MSを載置するようになっ
ている。また図1に示すように、この鋳型エレベータ4
0は、鋳型Mの中央ハブ形成領域MHから離脱するまで
下方に向かって移動させて、このハブ形成モールドキャ
ビティ領域MHを断熱させるようにし、これによって鋳
型Mを前記上方に向かって拡開したチル内面70bのみ
に支持されたままにしておくことが望ましい。
ィ領域MAの外周面MSは、各々、開口端部を含むとと
もに、この開口端部は、隣接するチル内面70bと協働
して当該エーロフォイル形成モールドキャビティ領域M
Aを閉鎖するものであり、前記エーロフォイル形成モー
ルドキャビティ領域MA中の融解物が隣接するチル内面
70bに接触して各々のエーロフォイル形成モールドキ
ャビティ領域MA中の融解物から熱を一方方向に除去
し、これによって、柱状晶組織を有する凝固エーロフォ
イルを形成するようになっている。
2に内設した環状回転ターンテーブル80に支持されて
いる。このターンテーブルは、銅や鋼鉄等の熱伝導性材
料から成る。このターンテーブルは、一般的な電気又は
流体(例えば空気圧又は水圧)駆動モータMTで回転
し、ハブ形成モールドキャビティ領域MHに等軸晶組織
を形成するぐらい充分にこの領域MH中の融解物を攪拌
する停止/始動の方式で鋳型Mを回転させることができ
るようになっている。
レベータテーブル42に載置した鋳型Mを鋳型予熱チャ
ンバ20中の鋳型加熱炉50中で加熱する。この鋳型
を、選定した鋳型予熱温度まで加熱した後、この予熱済
み鋳型Mをエレベータ40で鋳型加熱炉50から真っ直
ぐ真空鋳造チャンバ22中まで、前記エレベータがチル
部材70の開口部70aを通過しながら、降下させる。
2中に降下させ、チル内面70bに協働的に係合させた
エーロフォイル形成モールドキャビティ領域MAの外周
面MSを位置決めする。次に、遮断弁24を閉弁する。
た金属又は合金の装入物を坩堝60中で融解させるとと
もに、鋳型受口MP中に融解物を注湯することによっ
て、前記選定の金属又は合金装入物を、チル部材70に
載置した予熱済み鋳型Mに前記融解物として導入する。
前記エーロフォイル形成モールドキャビティ領域MA中
の融解物は、チル部材70による一方方向の除熱によっ
て指向性凝固し、当該エーロフォイル形成モールドキャ
ビティ領域MAに柱状晶の凝固エーロフォイルを形成す
る。前記柱状晶エーロフォイルが凝固した後、前記ハブ
形成領域MH中の融解物を等軸晶ハブ構造として凝固す
るぐらい充分に攪拌する停止/始動の方式でターンテー
ブル80を回転させ、これによって等軸晶ハブと柱状晶
エーロフォイルを有する一体タービンが生成されるよう
になっている。
ベル、プロセスサイクル時間、鋳型/チルのシーリン
グ、及び鋳型/チルの位置合わせ等、鋳造パラメータの
制御を向上させることが有利である。さらに、本発明
は、回転チル部材によって鋳物の中央ハブ領域の融解物
の凝固制御を向上させることができる。
明したが、これに限定するものではなく、むしろ、次の
特許請求の範囲において後述する範囲のみに限定され
る。
造炉システムと鋳物の製造法は、予熱済みの鋳型から相
当な熱が失われることを防止し得て、高い鋳型温度を維
持し得て、鋳型の取り扱いを容易にし得て、融解物の凝
固制御性を向上することができる。
まで下降させてこの鋳造チャンバにおいて予熱済み鋳型
を環状チルリング部材上にセットした、この発明の具体
的な実施例による鋳型加熱真空鋳造炉システムの概略図
である。
ハブから半径方向に延出させた代表的なガスタービンエ
ンジンホイールの平面図である。
Claims (11)
- 【請求項1】 鋳型予熱チャンバと、前記鋳型予熱チャ
ンバの下に設けて前記鋳型予熱チャンバに連通した鋳造
チャンバと、前記鋳造チャンバに内設するとともに中央
開口部を区画する環状回転チル部材と、前記鋳造チャン
バに内設した鋳型エレベータであって、前記鋳型予熱チ
ャンバ中で加熱した鋳型を前記鋳造チャンバに降下させ
て鋳型外周領域が前記チル部材と協働する状態で前記チ
ル部材に当接させるように移動可能であり、且つ、前記
チル部材の開口部中を移動可能である前記鋳型エレベー
タと、前記鋳造チャンバ中の前記予熱済み鋳型に融解物
を導入する手段と、前記鋳型の外周を前記チル部材に協
働的に係合させた状態で前記チル部材を回転させる手段
と、を具備することを特徴とする、鋳型加熱真空鋳造炉
システム。 - 【請求項2】 前記チル部材は、前記エレベータを前記
鋳造チャンバ中に降下させながら前記鋳型外周領域と協
働的に係合する上方に向かって拡開した鋳型係合面を含
むことを特徴とする、請求項1に記載の鋳型加熱真空鋳
造炉システム。 - 【請求項3】 前記鋳型を回転させる前記手段は、前記
チル部材が載置される環状ターンテーブルと、前記ター
ンテーブルを停止/始動方式で回転させる手段と、を具
備することを特徴とする、請求項1に記載の鋳型加熱真
空鋳造炉システム。 - 【請求項4】 前記融解物を前記鋳型に導入する前記手
段は、前記鋳造チャンバ中の坩堝を具備することを特徴
とする、請求項1に記載の鋳型加熱真空鋳造炉システ
ム。 - 【請求項5】 前記鋳型エレベータは、直立軸と、前記
予熱済み鋳型が載置されるテーブルと、を含むことを特
徴とする、請求項1に記載の鋳型加熱真空鋳造炉システ
ム。 - 【請求項6】 前記鋳型予熱チャンバと前記鋳造チャン
バの間に遮断弁を含むことを特徴とする、請求項1に記
載の鋳型加熱真空鋳造炉システム。 - 【請求項7】 鋳型予熱チャンバ中の鋳型エレベータに
載置した鋳込型を加熱し、前記エレベータが前記鋳造チ
ャンバ中の環状チル部材中の開口部を通過しながら前記
エレベータ上の前記予熱済み鋳型を前記鋳型予熱チャン
バから鋳造チャンバ中に降下させて前記予熱済み鋳型の
外周領域を前記チル部材に対して協働的に位置決めし、
前記予熱済み鋳型に融解物を導入し、前記鋳型外周領域
で柱状晶組織を形成すべく前記鋳型外周領域中の前記融
解物を指向性凝固させ、等軸晶組織を備えた前記鋳型の
中央領域に前記融解物を凝固させるように前記チル部材
を回転させることから成ることを特徴とする、等軸晶の
中央領域と柱状晶の外周領域とを有する鋳物の製造法。 - 【請求項8】 前記鋳型が前記中央領域で支持されずに
前記外周領域で前記チル部材によって支持されるまで前
記エレベータを降下させることを含むことを特徴とす
る、請求項7に記載の等軸晶の中央領域と柱状晶の外周
領域とを有する鋳物の製造法。 - 【請求項9】 前記鋳型の前記外周領域中の前記融解物
を前記チル部材に接触させることを含むことを特徴とす
る、請求項7に記載の等軸晶の中央領域と柱状晶の外周
領域とを有する鋳物の製造法。 - 【請求項10】 前記鋳型外周領域が前記チル部材に係
合した後に前記融解物を前記予熱済み鋳型に導入するこ
とを含むことを特徴とする、請求項7に記載の等軸晶の
中央領域と柱状晶の外周領域とを有する鋳物の製造法。 - 【請求項11】 前記融解物が前記鋳型外周領域中で凝
固した後に前記鋳型を回転させることを含むことを特徴
とする、請求項7に記載の等軸晶の中央領域と柱状晶の
外周領域とを有する鋳物の製造法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/908446 | 1997-08-07 | ||
US08/908,446 US5931214A (en) | 1997-08-07 | 1997-08-07 | Mold heating vacuum casting furnace |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH11114664A true JPH11114664A (ja) | 1999-04-27 |
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JP10232350A Ceased JPH11114664A (ja) | 1997-08-07 | 1998-08-04 | 鋳型加熱真空鋳造炉システムと鋳物の製造法 |
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US (1) | US5931214A (ja) |
EP (1) | EP0897769B1 (ja) |
JP (1) | JPH11114664A (ja) |
DE (1) | DE69813968T2 (ja) |
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JP2008536687A (ja) * | 2005-04-08 | 2008-09-11 | ピーブイ/ティー インコーポレイテッド | 溶解炉 |
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