JPH1093119A - Method of manufacturing substrate for photovoltaic device and photovoltaic device - Google Patents
Method of manufacturing substrate for photovoltaic device and photovoltaic deviceInfo
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 131
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 35
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 32
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 19
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 19
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 13
- 239000012943 hotmelt Substances 0.000 claims description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 9
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 claims description 8
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 7
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 3
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 2
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 claims 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000006358 imidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000012768 molten material Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
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Landscapes
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、基板に形成される
光起電力装置において、出力を基板の裏面側に取り出す
ための光起電力装置用基板の製造方法、光起電力装置の
構造に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a substrate for a photovoltaic device for extracting an output to the back side of the substrate, and a structure of the photovoltaic device.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、基板に形成された光起電力装置に
おいて、出力を裏面側に取り出す構造が、特開昭60−
123073号公報に開示されている。この光起電力装
置は、基板に設けられた開穴と、基板の表面側に設けら
れた表面側出力端子と、裏面側に設けられた裏面側出力
端子とを有し、開穴内を通して設けられた導電性接着剤
にて表面側出力端子と裏面側出力端子とを電気的に接続
している。2. Description of the Related Art Conventionally, in a photovoltaic device formed on a substrate, a structure in which output is taken out to the back side is disclosed in
No. 123073. This photovoltaic device has an opening provided in the substrate, a front-side output terminal provided on the front side of the substrate, and a back-side output terminal provided on the back side, and is provided through the opening. The front side output terminal and the back side output terminal are electrically connected by the conductive adhesive.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
従来とは異なる基板裏面側へ出力を取り出す構造、製造
方法を提供するものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a structure for extracting output to the back side of a substrate different from the conventional one, and a manufacturing method.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明の第1の光起電力
装置用基板の製造方法の特徴は、導電性基板内に位置す
る出力取出領域を、前記導電性基板から電気的に分離す
るための光起電力用基板の製造方法であって、前記導電
性基板において、前記出力取出領域を囲む切断溝を、こ
の出力取出領域の外側の一部を除いて形成する工程と、
前記切断溝に絶縁部材を埋め込む工程と、前記一部を除
去する工程と、を有することである。A feature of the first method of manufacturing a substrate for a photovoltaic device according to the present invention is that an output extraction region located in a conductive substrate is electrically separated from the conductive substrate. A method for manufacturing a photovoltaic substrate for, in the conductive substrate, a step of forming a cutting groove surrounding the output extraction region, except for a part outside the output extraction region,
A step of embedding an insulating member in the cut groove; and a step of removing the part.
【0005】本発明の第2の光起電力装置用基板の製造
方法の特徴は、基板有効部とこれに隣接する基板無効部
とを有する光起電力用基板において、前記基板有効部内
に位置する出力取出領域を、これ以外の前記基板有効部
から電気的に分離するための光起電力用基板の製造方法
であって、前記出力取出領域を囲む切断溝を、この出力
取出領域の外側の一部を除いて、前記切断溝が前記基板
有効部に、前記一部が前記基板無効部に位置するよう
に、形成する工程と、前記切断溝に絶縁部材を埋め込む
工程と、前記基板無効部を前記基板有効部より切り離す
工程と、を有することである。A feature of the second method of manufacturing a substrate for a photovoltaic device of the present invention is that a photovoltaic substrate having a substrate effective portion and a substrate invalid portion adjacent thereto is located within the substrate effective portion. A method for manufacturing a photovoltaic substrate for electrically separating an output extraction region from other effective portions of the substrate, wherein a cutting groove surrounding the output extraction region is formed outside of the output extraction region. Excluding the portion, the cutting groove is formed in the substrate effective portion, such that the part is located in the substrate invalid portion, a step of forming, a step of embedding an insulating member in the cutting groove, the substrate invalid portion Separating from the substrate effective portion.
【0006】本発明の第3の光起電力装置用基板の製造
方法の特徴は、金属基板にプレス加工法により穴又は切
欠状の抜き部を設ける工程と、前記基板の表面側から、
前記抜き部の側壁を通って、前記基板の裏面側に至る絶
縁部材を配置する工程と、前記基板の表面側から、前記
抜き部の側壁を通って、前記基板の裏面側に至る導電膜
を前記絶縁部材上に配置する工程と、を有することであ
る。The third method of manufacturing a substrate for a photovoltaic device according to the present invention is characterized in that a metal substrate is provided with a hole or a notch-shaped cutout by a press working method.
Arranging an insulating member reaching the back surface of the substrate through the side wall of the cutout, and forming a conductive film from the front surface side of the substrate through the side wall of the cutout to the back surface of the substrate. Arranging on the insulating member.
【0007】本発明の光起電力装置の特徴は、金属基板
表面上に形成された光起電力素子と、この光起電力素子
からの出力を導出する前記基板上に形成された出力端子
とを有する光起電力装置であって、前記金属基板にプレ
ス加工法により形成された穴又は切欠状の抜き部と、前
記出力端子と電気的に接続し、前記抜き部を通って前記
基板の裏面側に至る電気接続手段とを有し、前記電気接
続手段は、高分子フィルム、導電層及びホットメルト樹
脂層の積層体からなり、ホットメルト樹脂層と出力端子
部とが固着されていると共に、前記抜き部を通過する部
分の前記ホットメルト樹脂層上に絶縁層を配置したこと
である。A feature of the photovoltaic device of the present invention is that a photovoltaic element formed on the surface of a metal substrate and an output terminal formed on the substrate for outputting an output from the photovoltaic element are provided. A photovoltaic device having a hole or a notch-shaped cutout formed in the metal substrate by a press working method, and electrically connected to the output terminal, and passing through the cutout to the back side of the substrate. The electrical connection means, comprising a polymer film, a laminate of a conductive layer and a hot-melt resin layer, the hot-melt resin layer and the output terminal portion is fixed, and the An insulating layer is disposed on a portion of the hot melt resin layer that passes through the cutout.
【0008】[0008]
【実施例】以下に、本発明の第1実施例である光起電力
装置の製造方法を、図1〜6を用いて、詳細に説明す
る。第1実施例は、金属基板内に位置し基板から電気的
に分離された出力取出領域を形成し、この出力取出領域
と光起電力装置の出力端子とを接続することによって、
基板の裏面より出力を取り出す構造を製造する方法であ
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a method for manufacturing a photovoltaic device according to a first embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. The first embodiment forms an output extraction area located in a metal substrate and electrically separated from the substrate, and connects the output extraction area to an output terminal of the photovoltaic device.
This is a method of manufacturing a structure for taking out output from the back surface of the substrate.
【0009】図1に示す工程において、まず、略矩形状
の金属基板1(厚さ0.1〜0.5mm)上に、酸化シ
リコン又はポリイミド樹脂等の絶縁膜2(厚さ1〜50
μm)を形成する。次に、基板1の左下コーナーにおい
て、後述する一方の出力端子が形成される領域に、出力
取出領域3を囲む切断溝4、4を、この出力取出領域3
の外側の接続領域5、5を残して形成する。ここで、切
断溝4の幅は約0.05〜0.5mmであり、例えば、
CO2レーザ光を絶縁膜2上から金属基板1に照射する
ことにより、照射部分の絶縁膜及び金属基板を蒸発させ
て形成される。In the process shown in FIG. 1, first, an insulating film 2 (thickness 1 to 50) of silicon oxide or polyimide resin is formed on a substantially rectangular metal substrate 1 (thickness 0.1 to 0.5 mm).
μm). Next, in the lower left corner of the substrate 1, the cutout grooves 4, 4 surrounding the output extraction area 3 are formed in the area where one output terminal described later is formed.
Are formed except for the connection regions 5 and 5 outside the above. Here, the width of the cutting groove 4 is about 0.05 to 0.5 mm.
By irradiating the metal substrate 1 with CO 2 laser light from above the insulating film 2, the irradiated portion of the insulating film and the metal substrate is evaporated to form the substrate.
【0010】次に、図2に示す工程においては、前記切
断溝4、4に絶縁ペースト6、6を充填する。絶縁ペー
スト6の材料として、ポリイミド又はフェノール系のバ
インダーに二酸化シリコン等の無機材料の粉末(粒径約
1.5〜7.0μm)を含むものが利用でき、基板1上
からのスクリーン印刷によりパターン配置された後、2
50〜300℃で乾燥され形成される。Next, in the step shown in FIG. 2, the cut grooves 4, 4 are filled with insulating pastes 6, 6. As a material of the insulating paste 6, a polyimide or phenol-based binder containing a powder of inorganic material such as silicon dioxide (particle size: about 1.5 to 7.0 μm) can be used. After being placed, 2
It is formed by drying at 50 to 300 ° C.
【0011】次に、図3に示す工程においては、接続領
域5、5の回りに円状にレーザ光を走査して円状溝7、
7を形成し、この円状溝7により囲まれた基板部分を取
り除くことにより、図4に示す抜き部7a、7aを形成
する。この工程により、出力取出領域3を金属基板1に
絶縁ペースト6により機械的に支持し、かつ電気的に分
離することができる。Next, in the step shown in FIG. 3, laser light is scanned in a circle around the connection regions 5 and 5 to form circular grooves 7 and
7 are formed, and the substrate portion surrounded by the circular groove 7 is removed to form cutouts 7a, 7a shown in FIG. By this step, the output extraction region 3 can be mechanically supported on the metal substrate 1 by the insulating paste 6 and can be electrically separated.
【0012】図5に示す工程においては、基板1側から
順番に金属電極層、半導体光活性層、透明電極層からな
る略矩形状の光起電力素子A〜Dが形成される。これら
光起電力素子A〜Dは、基板1の長手方向に沿って隣接
して配置され、図示されていないが、例えば、特公昭5
8−21827号公報に開示される構造にて、各々が光
起電力素子A〜Dの順に直列接続されている。In the step shown in FIG. 5, substantially rectangular photovoltaic elements A to D comprising a metal electrode layer, a semiconductor photoactive layer, and a transparent electrode layer are formed in this order from the substrate 1 side. These photovoltaic elements A to D are arranged adjacent to each other along the longitudinal direction of the substrate 1 and are not shown.
In the structure disclosed in JP-A-8-21827, each is connected in series in the order of the photovoltaic elements A to D.
【0013】加えて、直列接続された光起電力素子から
の出力を導出するための出力端子8a、8dが、光起電
力素子A、Dに電気的に接続され、これらの外側に各々
形成される。これら出力端子8a、8dは、導電性ペー
ストからなり、ポリイミド又はフェノール系のバインダ
ーに銀、ニッケル又はアルミニウム等の粉末(粒径約3
〜7μm)を含むもので、スクリーン印刷によりパタ−
ニングされた後、250〜300℃で焼成され、高さ約
10〜50μmに形成される。In addition, output terminals 8a and 8d for deriving an output from the photovoltaic elements connected in series are electrically connected to the photovoltaic elements A and D, respectively, and formed outside these. You. These output terminals 8a and 8d are made of a conductive paste, and a powder of silver, nickel, aluminum or the like (particle size of about 3
77 μm), which is patterned by screen printing.
After being baked, it is baked at 250 to 300 ° C. to form a height of about 10 to 50 μm.
【0014】また、出力端子8aは、出力取出領域3上
に延出する延出部を有している。そして、この延出部上
からレーザ光を照射することにより、照射した部分の出
力端子8aの材料及び絶縁膜2の材料が蒸発すると共
に、この回りから溶融した出力端子8aの材料が流れ込
んで基板1と接触し、電気的に接続される。この出力端
子8aが基板1と電気接続される部分を、溶着部分9a
として、図5に示す。The output terminal 8a has an extension that extends above the output extraction area 3. By irradiating the laser beam from above the extending portion, the material of the output terminal 8a and the material of the insulating film 2 in the irradiated portion evaporate, and the molten material of the output terminal 8a flows from around the portion, and 1 and is electrically connected. A portion where the output terminal 8a is electrically connected to the substrate 1 is referred to as a welded portion 9a.
As shown in FIG.
【0015】一方、出力端子8dにおいては、この上か
らレーザ光を照射することにより、同様に、出力端子8
dと金属基板1とが電気的に接続され、この電気接続さ
れる部分を、溶着部分9dとして図6に示す。On the other hand, by irradiating a laser beam from above the output terminal 8d, the output terminal
d and the metal substrate 1 are electrically connected, and the electrically connected portion is shown in FIG. 6 as a welded portion 9d.
【0016】また、本実施例においては、金属基板1上
に絶縁膜2を形成した後、切断溝4、4を形成し、絶縁
ペースト6、6を充填している。これに代わって、金属
基板1に切断溝4、4を形成した後、金属基板1上及び
切断溝4、4内に絶縁膜を形成してもよい。In this embodiment, after the insulating film 2 is formed on the metal substrate 1, the cut grooves 4, 4 are formed, and the insulating paste 6, 6 is filled. Alternatively, after forming the cut grooves 4 in the metal substrate 1, an insulating film may be formed on the metal substrate 1 and in the cut grooves 4.
【0017】以上の工程により、第1実施例の光起電力
装置が完成し、出力端子8aからの出力は出力取出領域
3の裏面側から、また、出力端子8dからの出力は金属
基板1の裏面側のどこからでも取り出すことができる。
次に、本発明の第2実施例である光起電力装置の製造方
法を、図7〜10を用いて詳細に説明する。Through the above steps, the photovoltaic device of the first embodiment is completed. The output from the output terminal 8a is from the back side of the output extraction region 3, and the output from the output terminal 8d is from the metal substrate 1. It can be taken out from anywhere on the back side.
Next, a method for manufacturing a photovoltaic device according to a second embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS.
【0018】図7に示されるように、略矩形状の金属基
板11(厚さ0.1〜0.5mm)上において、二点鎖
線で区分された上側の領域は、基板有効部12であり、
後述する出力端子を含む光起電力装置が形成される領域
である。また、この基板有効部12の下側には、基板無
効部13が配置されており、光起電力装置が完成する時
には、切断され切り離される領域である。As shown in FIG. 7, on a substantially rectangular metal substrate 11 (thickness: 0.1 to 0.5 mm), an upper region divided by a two-dot chain line is a substrate effective portion 12. ,
This is a region where a photovoltaic device including an output terminal described later is formed. Further, a substrate invalid portion 13 is disposed below the substrate valid portion 12, and is an area that is cut and separated when the photovoltaic device is completed.
【0019】図7に示す工程において、出力取出領域1
4を囲む切断溝15を、基板無効部13に接続領域13
aを残して形成する。ここで、切断溝15の幅は約0.
05〜0.5mmであり、レーザ光を金属基板11に照
射することにより、金属材料を蒸発させ形成する。In the step shown in FIG.
4 is cut into the connection region 13
It is formed leaving a. Here, the width of the cutting groove 15 is about 0.5.
When the metal substrate 11 is irradiated with a laser beam, the metal material is evaporated and formed.
【0020】次に、図8に示す工程においては、出力取
出領域14の中心部及び後述する他方の出力端子が形成
される部分を除いて、金属基板1上の略全面にスクリー
ン印刷にて、ポリイミド膜の母材料であるワニスを塗布
する。この工程により、切断溝15にもワニスが回り込
ませることができる。よって、出力取出領域14の中心
部には開穴部16、他方の出力端子が形成される部分に
は開穴部17ができあがる。その後、基板1全体を10
0〜300℃まで段階的に昇温加熱することによりイミ
ド化させ、ポリイミド膜からなる耐熱性絶縁膜18を形
成する。Next, in the step shown in FIG. 8, the entire surface of the metal substrate 1 is screen-printed except for the central portion of the output extraction region 14 and the portion where the other output terminal to be described later is formed. A varnish, which is a base material of the polyimide film, is applied. By this step, the varnish can also flow around the cutting groove 15. Therefore, a hole 16 is formed at the center of the output extraction region 14, and a hole 17 is formed at a portion where the other output terminal is formed. Thereafter, the entire substrate 1 is
The temperature is increased stepwise to 0 to 300 ° C. to perform imidation to form a heat-resistant insulating film 18 made of a polyimide film.
【0021】図9に示す工程においては、基板11側か
ら順番に金属電極層、半導体光活性層、透明電極層から
なる略矩形状の光起電力素子A〜Dが形成される。これ
ら光起電力素子A〜Dは、基板11の長手方向に沿って
隣接して配置され、図示されていないが、例えば、特公
昭58−21827号公報に開示される構造にて、各々
が光起電力素子A〜Dの順に直列接続されている。In the step shown in FIG. 9, substantially rectangular photovoltaic elements A to D comprising a metal electrode layer, a semiconductor photoactive layer and a transparent electrode layer are formed in this order from the substrate 11 side. These photovoltaic elements A to D are arranged adjacent to each other along the longitudinal direction of the substrate 11 and are not shown. For example, each of the photovoltaic elements has a structure disclosed in Japanese Patent Publication No. 58-21827. The electromotive elements A to D are connected in series in this order.
【0022】加えて、直列接続された光起電力素子から
の出力を導出するための出力端子19a、19dが、光
起電力素子A、Dに電気的に接続されると共に、これら
の下側で開穴部16、17上を含んで形成される。従っ
て、出力端子19aは、開穴部16を介して、出力取出
領域14の金属材料と電気接続される。一方、出力端子
19dは、開穴部17を介して、金属基板11に電気接
続される。ここで、これら出力端子19a、19dは、
導電性ペーストからなり、ポリイミド又はフェノール系
のバインダーに銀、ニッケル又はアルミニウム等の粉末
(粒径約3〜7μm)を含むもので、スクリーン印刷に
よりパタ−ニングされた後、250〜300℃で焼成さ
れ、高さ約10〜50μmに形成される。In addition, output terminals 19a and 19d for deriving an output from the photovoltaic elements connected in series are electrically connected to the photovoltaic elements A and D, respectively. It is formed so as to include the openings 16 and 17. Therefore, the output terminal 19 a is electrically connected to the metal material of the output extraction area 14 through the opening 16. On the other hand, the output terminal 19 d is electrically connected to the metal substrate 11 through the opening 17. Here, these output terminals 19a and 19d are:
It is made of a conductive paste and contains a powder of silver, nickel or aluminum (particle diameter: about 3 to 7 μm) in a polyimide or phenolic binder. After being patterned by screen printing, it is fired at 250 to 300 ° C. And a height of about 10 to 50 μm.
【0023】次に、基板無効部13を、プレス工程によ
り、基板有効部11より切断、分離して、図10に示す
光起電力装置を完成する。以上の構造を有する光起電力
装置は、出力端子19aからの出力は出力取出領域14
の裏面側から、また、出力端子19dからの出力は金属
基板11の裏面側のどこからでも取り出すことができ
る。次に、本発明の第3実施例である光起電力装置の製
造方法を、図11〜17を用いて詳細に説明する。Next, the substrate invalid portion 13 is cut and separated from the substrate effective portion 11 by a pressing process to complete the photovoltaic device shown in FIG. In the photovoltaic device having the above structure, the output from the output terminal 19a is
And the output from the output terminal 19d can be taken out from anywhere on the back side of the metal substrate 11. Next, a method for manufacturing a photovoltaic device according to a third embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS.
【0024】図11に示す工程において、まず、略矩形
状の金属基板21(厚さ0.1〜0.5mm)上に、酸
化シリコン又はポリイミド樹脂等の絶縁膜22を形成す
る。次に、プレス加工法を用いて、金属基板21の右下
及び左下コーナー近傍に、円形の抜き部23a、23d
を設ける。ここで、図11(b)及び(c)に示すよう
に、基板21の切断箇所には、基板21裏面より約10
μm程度突起したバリ21aが形成されてしまう。ま
た、ここでは円形の抜き部23a、23dを設けている
が、基板21の外周端に設けられた切欠状の抜き部であ
ってもよい。In the step shown in FIG. 11, first, an insulating film 22 such as silicon oxide or polyimide resin is formed on a substantially rectangular metal substrate 21 (0.1 to 0.5 mm in thickness). Next, using the press working method, circular cut portions 23a and 23d are formed near the lower right and lower left corners of the metal substrate 21.
Is provided. Here, as shown in FIGS. 11B and 11C, the cut portion of the substrate 21 is approximately 10
Burrs 21a protruding by about μm are formed. Although the circular cutouts 23a and 23d are provided here, a cutout cutout provided at the outer peripheral end of the substrate 21 may be used.
【0025】次に、図12に示す工程においては、基板
21裏面側における抜き部23aの外周部、及び、抜き
部23aの側壁に絶縁ペースト24rが配置される。こ
の絶縁ペースト24rの形成方法としては、図13に示
すように、所望のパターンを有するスクリーン版25を
用いて、基板21を裏向きにして、絶縁ペースト24r
の原材料を印刷することによりパターン形成される。こ
こでスクリーン版25のパターンは、絶縁ペースト24
rの原材料を塗布しない領域に対応して、スクリーン版
25のステンレスメッシュ25aに乳剤25b(斜線で
示す部分)を配置することにより形成されている。この
時、円形の抜き部23aに対応する乳剤25bの配置部
を、抜き部23aの直径に対して0.1〜0.2mm小
さくして小面積にする。このパターン寸法にて、スクリ
ーン印刷すると、図12(b)に示すように、絶縁ペー
スト24rの原材料が抜き部23aの側壁に周り込み、
形成される。Next, in the step shown in FIG. 12, the insulating paste 24r is disposed on the outer peripheral portion of the punched portion 23a on the back side of the substrate 21 and on the side wall of the punched portion 23a. As a method of forming the insulating paste 24r, as shown in FIG. 13, a screen plate 25 having a desired pattern is used, the substrate 21 is turned face down, and the insulating paste 24r is formed.
The pattern is formed by printing the raw material. Here, the pattern of the screen plate 25 is
It is formed by disposing an emulsion 25b (portion indicated by oblique lines) on the stainless mesh 25a of the screen plate 25 corresponding to the region where the raw material r is not applied. At this time, the arrangement portion of the emulsion 25b corresponding to the circular punched portion 23a is made smaller by 0.1 to 0.2 mm with respect to the diameter of the punched portion 23a to have a small area. When screen printing is performed with this pattern size, as shown in FIG. 12B, the raw material of the insulating paste 24r wraps around the side wall of the punched portion 23a,
It is formed.
【0026】絶縁ペースト24rの材料としては、ポリ
イミド又はフェノール系のバインダーに二酸化シリコン
等の絶縁材料の粉末(粒径約1.5〜7.0μm)を含
むものが利用でき、スクリーン印刷によりパターン配置
された後、250〜300℃で乾燥され、高さ約10〜
50μmに形成される。従って、突起状のバリ21a
を、絶縁ペースト24r中に埋没させることができる。As a material of the insulating paste 24r, a material containing a powder of an insulating material such as silicon dioxide (particle diameter: about 1.5 to 7.0 μm) in a polyimide or phenolic binder can be used. After drying, it is dried at 250-300 ° C.
It is formed to 50 μm. Therefore, the projection-like burrs 21a
Can be embedded in the insulating paste 24r.
【0027】次に、図14に示す工程においては、図1
2及び13と同様のスクリーン印刷法を用いて、基板2
1表面側の抜き部23aの外周部、及び、抜き部23a
の側壁に絶縁ペースト24sが配置される。これによ
り、抜き部23aの側壁全域に絶縁ペーストが配置され
ることになる。Next, in the step shown in FIG.
2 and 13 using the same screen printing method.
The outer peripheral portion of the cutout portion 23a on the front surface side and the cutout portion 23a
The insulating paste 24s is arranged on the side wall of the. As a result, the insulating paste is disposed on the entire side wall of the cutout 23a.
【0028】次に、図15に示す工程では、抜き部23
aにおいては、裏面側の絶縁ペースト24r上に導電ペ
ースト25arを、抜き部23dにおいては、基板21
の裏面側に導電ペースト25drを配置する。この形成
方法には、図12及び13と同様のスクリーン印刷法が
用いられ、抜き部23aの側壁に形成された絶縁ペース
ト上や、抜き部23dの側壁にも、導電ペースト25a
r、25drが形成される。この導電性ペースト25a
r、25drは、ポリイミド又はフェノール系のバイン
ダーに銀、ニッケル又はアルミニウム等の粉末(粒径約
3〜7μm)を含むもので、スクリーン印刷によりパタ
−ニングされた後、250〜300℃で焼成され、高さ
約10〜50μmに形成される。Next, in the step shown in FIG.
a, the conductive paste 25ar is placed on the insulating paste 24r on the back side, and the substrate 21 is placed in the cutout 23d.
Conductive paste 25dr is arranged on the back side of the substrate. The screen printing method similar to that shown in FIGS. 12 and 13 is used for this forming method. The conductive paste 25a is formed on the insulating paste formed on the side wall of the cutout 23a and also on the side wall of the cutout 23d.
r, 25dr are formed. This conductive paste 25a
r and 25dr are polyimide or phenol-based binders containing powders of silver, nickel or aluminum (particle diameter: about 3 to 7 μm), which are patterned by screen printing and then fired at 250 to 300 ° C. , And a height of about 10 to 50 μm.
【0029】図16に示す工程では、抜き部23aにお
いては、表面側の絶縁ペースト24s上に導電ペースト
25asを、抜き部23dにおいては、基板21の表面
側に導電ペースト25dsを配置する。この形成方法に
は、図12及び13と同様のスクリーン印刷法が用いら
れ、抜き部23の側壁に形成された絶縁ペースト上や、
抜き部23dの側壁にも、導電ペースト25as、25
dsが形成される。In the step shown in FIG. 16, the conductive paste 25as is disposed on the insulating paste 24s on the front surface side in the punched portion 23a, and the conductive paste 25ds is disposed on the front surface side of the substrate 21 in the punched portion 23d. For this forming method, the same screen printing method as that shown in FIGS. 12 and 13 is used.
The conductive pastes 25as and 25
ds is formed.
【0030】次に、図17に示す工程においては、基板
21側から順番に金属電極層、半導体光活性層、透明電
極層からなる略矩形状の光起電力素子A〜Dが形成され
る。これら光起電力素子A〜Dは、基板21の長手方向
に沿って隣接して配置され、図示されていないが、例え
ば、特公昭58−21827号公報に開示される構造に
て、各々が光起電力素子A〜Dの順に直列接続されてい
る。Next, in the step shown in FIG. 17, substantially rectangular photovoltaic elements A to D comprising a metal electrode layer, a semiconductor photoactive layer and a transparent electrode layer are formed in this order from the substrate 21 side. These photovoltaic elements A to D are arranged adjacent to each other along the longitudinal direction of the substrate 21, and each of them is not shown in the drawing, for example, in the structure disclosed in Japanese Patent Publication No. 58-21827. The electromotive elements A to D are connected in series in this order.
【0031】加えて、直列接続された光起電力素子から
の出力を導出するための導電性ペーストからなる出力端
子28a、28dが、光起電力素子A、Dに電気的に接
続されると共に、導電性ペースト25as、25ds上
に形成される。In addition, output terminals 28a and 28d made of a conductive paste for leading the output from the photovoltaic elements connected in series are electrically connected to the photovoltaic elements A and D, respectively. It is formed on the conductive pastes 25as and 25ds.
【0032】以上の工程により、第3実施例の光起電力
装置が完成し、出力端子28aからの出力は裏面側の導
電性ペースト25arから、また、出力端子28dから
の出力は金属基板21の裏面側のどこからでも取り出す
ことができる。また、突起状のバリ21aが絶縁ペース
ト中に埋没していることにより、この上に形成された導
電ペースト25arが、バリ21aと接触して電気的に
導通することがない。次に、本発明の第4実施例である
光起電力装置を、図18〜19を用いて詳細に説明す
る。By the above steps, the photovoltaic device of the third embodiment is completed. The output from the output terminal 28a is from the conductive paste 25ar on the back side, and the output from the output terminal 28d is from the metal substrate 21. It can be taken out from anywhere on the back side. Further, since the projection-like burrs 21a are buried in the insulating paste, the conductive paste 25ar formed thereon does not come into contact with the burrs 21a to be electrically conducted. Next, a photovoltaic device according to a fourth embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS.
【0033】図18は、本実施例の光起電力装置を示
し、31は略矩形状の金属基板(厚さ0.1〜0.5m
m)、32は基板31上に形成された酸化シリコン又は
ポリイミド樹脂等の絶縁膜(厚さ1〜50μm)であ
る。そして、基板31はその下辺に切欠状の抜き部31
a、31dを有している。また、この抜き部31a、3
1dの形状は、開穴であってもよい。FIG. 18 shows a photovoltaic device according to the present embodiment. Reference numeral 31 denotes a substantially rectangular metal substrate (having a thickness of 0.1 to 0.5 m).
m) and 32 are insulating films (1 to 50 μm thick) such as silicon oxide or polyimide resin formed on the substrate 31. The substrate 31 has a notched cutout 31 on its lower side.
a, 31d. In addition, the cutout portions 31a, 3
The shape of 1d may be an aperture.
【0034】A〜Dは、基板31側から順番に金属電極
層、半導体光活性層、透明電極層からなる光起電力素子
で、これら光起電力素子A〜Dは、基板31の長手方向
に沿って隣接して配置され、図示されていないが、例え
ば、特公昭58−21827号公報に開示される構造に
て、各々が光起電力素子A〜Dの順に直列接続されてい
る。A to D are photovoltaic elements composed of a metal electrode layer, a semiconductor photoactive layer and a transparent electrode layer in this order from the substrate 31 side. These photovoltaic elements A to D are arranged in the longitudinal direction of the substrate 31. Although not shown, they are connected in series in the order of photovoltaic elements A to D, for example, in a structure disclosed in Japanese Patent Publication No. 58-21827.
【0035】33a、33dは、直列接続された光起電
力素子からの出力を導出するための出力端子で、光起電
力素子A、Dに電気的に接続され、これらの外側に各々
形成されている。34a、34dは、略帯状の形状で可
撓性を有するヒ−トシール等からなる電気接続手段であ
り、出力端子33a、33dと、基板21表面側に位置
する一端部35、35にて、結着して電気接続されてい
る。そして、電気接続手段34a、34dは、抜き部3
1a、31dを通って、その他端部36、36が基板3
1の裏面側に至っている。Reference numerals 33a and 33d denote output terminals for deriving outputs from the photovoltaic elements connected in series. The output terminals are electrically connected to the photovoltaic elements A and D, and are formed outside these. I have. Reference numerals 34a and 34d denote electrical connection means formed of a heat-seal or the like having a substantially band shape and flexibility, and are connected to the output terminals 33a and 33d at one end portions 35 and 35 located on the surface side of the substrate 21. Wearing and being electrically connected. And the electric connection means 34a, 34d
1a, 31d, and the other ends 36, 36
1 to the back side.
【0036】ここで、電気接続手段34a、34dの構
造を、図19を用いて詳細に説明する。41は、略帯状
の形状を有しポリエステル等からなる高分子フィルム
(厚さ約20〜50μm)で、その横方向の中央部分に
は、抜き部31a、31dを通過するために幅が狭いく
びれ部41aを有している。42は、高分子フィルム4
1上に形成された略帯状のAg等の金属粉末を樹脂バイ
ンダー中に混入させた導電層からなる第1導電層(厚さ
約10〜30μm)である。この第1導電層42は、図
に示すように、高分子フィルム41より小面積であり、
また、高分子フィルム41のくびれ部41aに対応し
て、その横方向の中央部はくびれ形状になっている。4
3は、第1導電層42上を含んで、高分子フィルム41
裏面の全面に形成された黒鉛粉末等を樹脂バインダー中
に混入させた導電層からなる第2導電層(厚さ約10〜
30μm)であり、第1導電層42が大気に直接晒され
て酸化されることを防止している。Here, the structure of the electric connection means 34a, 34d will be described in detail with reference to FIG. Reference numeral 41 denotes a polymer film (thickness: about 20 to 50 μm) having a substantially belt-like shape and made of polyester or the like, and has a narrow constriction at the center in the lateral direction to pass through the cutouts 31a and 31d. It has a portion 41a. 42 is a polymer film 4
1 is a first conductive layer (about 10 to 30 μm in thickness) formed of a conductive layer in which a substantially band-shaped metal powder such as Ag is mixed in a resin binder. The first conductive layer 42 has a smaller area than the polymer film 41 as shown in FIG.
Further, corresponding to the constricted portion 41a of the polymer film 41, the central portion in the lateral direction has a constricted shape. 4
3 includes a polymer film 41 including on the first conductive layer 42.
A second conductive layer (having a thickness of about 10 to 10) made of a conductive layer in which graphite powder or the like formed on the entire back surface is mixed in a resin binder.
30 μm) to prevent the first conductive layer 42 from being directly exposed to the air and oxidized.
【0037】44は、第2導電層43の他端部36を除
いて、第2導電層43上に形成されたホットメルト樹脂
層(厚さ約10〜20μm)であり、これにより、他端
部36において、第2導電層43が露出することにな
る。45は、電気接続手段の横方向におけるほぼ中央部
で、ホットメルト樹脂層44上に形成された絶縁ペース
トからなる絶縁層である。Reference numeral 44 denotes a hot-melt resin layer (about 10 to 20 μm thick) formed on the second conductive layer 43 except for the other end 36 of the second conductive layer 43. In the portion 36, the second conductive layer 43 is exposed. Reference numeral 45 denotes an insulating layer made of an insulating paste formed on the hot melt resin layer 44 at a substantially central portion in the lateral direction of the electric connection means.
【0038】電気接続手段は、以上の構造であり、電気
接続手段の一端部35は、光起電力装置の出力端子(3
3a又は33d)に、ホットメルト樹脂層44を密着さ
せ、熱圧着される。これにより、第2導電層43が出力
端子(33a又は33d)と接触して電気接続されると
共に、溶融して固まったホットメルト樹脂層44が接着
材として働き、電気接続手段と出力端子とが固着され
る。なお、この固着部の電気導電性を高めるためにホッ
トメルト樹脂層44中に少量の金属粉又は黒鉛紛を混入
させても良い。これにより、ホットメルト樹脂層44が
熱圧着されない部分は絶縁材料として働き、熱圧着され
た部分は樹脂成分の多くが蒸発することにより金属紛又
は黒鉛紛の密度が高くなり、必要な導電性を得ることが
できる。The electric connection means has the above structure, and one end 35 of the electric connection means is connected to the output terminal (3) of the photovoltaic device.
3a or 33d), the hot-melt resin layer 44 is brought into close contact with it, and thermocompression-bonded. As a result, the second conductive layer 43 comes into contact with the output terminal (33a or 33d) to be electrically connected, and the melted and hardened hot melt resin layer 44 functions as an adhesive, so that the electric connection means and the output terminal are connected. It is fixed. Note that a small amount of metal powder or graphite powder may be mixed into the hot melt resin layer 44 in order to increase the electrical conductivity of the fixing portion. Thereby, the portion where the hot-melt resin layer 44 is not thermocompression-bonded acts as an insulating material, and in the thermocompression-bonded portion, a large amount of the resin component evaporates to increase the density of the metal powder or graphite powder, thereby increasing the required conductivity. Obtainable.
【0039】以上の説明の如く、第4実施例の光起電力
装置の裏面側において、電気出力手段34a、34dの
他端部36、36で第2導電層43が露出することにな
り、ここより出力を取り出すことができる。また、図1
8(b)及び(c)に示されるように、抜き部31a、
31dの近傍においては、電気接続手段34a、34d
の裏面側には、絶縁層45が配置されていることによ
り、ここに位置する基板31の表面側端部21pがホッ
トメルト樹脂層44を突き破り第1及び第2導電層4
2、43を断線させることを防止できる。また、電気接
続手段34a、34dの表面側においては、ここに位置
する基板31の裏面側端部21xにて、損傷を受けるこ
とになるが、電気接続手段の表面側は、比較的厚く、ホ
ットメルト樹脂層44に比べれば摩耗に強い高分子フィ
ルム41が配置されているので、ここに絶縁層を配置し
なくてもよいが、必要に応じて、絶縁層を配置してもよ
い。As described above, the second conductive layer 43 is exposed at the other end portions 36, 36 of the electric output means 34a, 34d on the back surface of the photovoltaic device of the fourth embodiment. More output can be obtained. FIG.
8 (b) and 8 (c), the cutout portions 31a,
In the vicinity of 31d, the electric connection means 34a, 34d
The insulating layer 45 is disposed on the back side of the substrate 31, so that the front end 21 p of the substrate 31 located here breaks through the hot melt resin layer 44 and the first and second conductive layers 4.
Disconnection of 2, 43 can be prevented. Further, on the front surface side of the electric connection means 34a and 34d, the rear side end portion 21x of the substrate 31 located here is damaged, but the front surface side of the electric connection means is relatively thick and hot. Since the polymer film 41, which is more resistant to abrasion than the melt resin layer 44, is provided, an insulating layer need not be provided here, but an insulating layer may be provided if necessary.
【0040】[0040]
【効果】請求項1に対応した本発明の第1の光起電力装
置用基板の製造方法においては、導電性基板内に位置す
る出力取出領域が電気的に分離されているので、光起電
力装置の出力端子をこの出力取出領域に電気的に接続す
るとき、基板の裏面側より出力を取り出すことができ
る。According to the first method of manufacturing a substrate for a photovoltaic device according to the present invention, the output extraction region located in the conductive substrate is electrically separated, so that the photovoltaic device is manufactured. When the output terminal of the device is electrically connected to the output extraction area, the output can be extracted from the back side of the substrate.
【0041】請求項2に対応した本発明の第2の光起電
力装置用基板の製造方法においては、基板無効部を切り
離した基板有効部の出力取出領域が電気的に分離されて
いるので、光起電力装置の出力端子をこの出力取出領域
に電気的に接続するとき、基板の裏面側より出力を取り
出すことができる。In the second method for manufacturing a substrate for a photovoltaic device according to the second aspect of the present invention, the output extraction region of the effective substrate portion separated from the invalid substrate portion is electrically separated. When the output terminal of the photovoltaic device is electrically connected to the output extraction region, the output can be extracted from the back surface side of the substrate.
【0042】請求項3に対応した本発明の第3の光起電
力装置用基板の製造方法においては、プレス加工法によ
り形成された抜き部のバリが、表面側から抜き部の側壁
を通って裏面側に至る絶縁部材に埋没されるので、この
絶縁部材の上に形成された導電膜とバリとが不所望に電
気的に導通することがない。従って、基板表面上に光起
電力装置の出力端子を形成しこの導電膜に電気的に接続
するとき、基板と出力端子が電気的に導通することがな
い。また、請求項4に対応した製造方法においては、ペ
ースト状材料が透過しない部分が抜き部より小面積であ
ることより、スクリーン版を用いた印刷法により、抜き
部の側壁にも絶縁部材を配置することができる。In the third method of manufacturing a substrate for a photovoltaic device according to the third aspect of the present invention, the burr of the punched portion formed by the press working method passes through the side wall of the punched portion from the surface side. Since it is buried in the insulating member reaching the back side, the conductive film formed on the insulating member and the burrs do not undesirably electrically conduct. Therefore, when the output terminal of the photovoltaic device is formed on the surface of the substrate and is electrically connected to the conductive film, the substrate and the output terminal are not electrically connected. In the manufacturing method according to the fourth aspect, since the portion through which the paste-like material does not pass is smaller in area than the punched portion, the insulating member is also arranged on the side wall of the punched portion by a printing method using a screen plate. can do.
【0043】請求項5に対応した本発明の光起電力装置
は、基板の抜き部を通過する部分の電気接続手段のホッ
トメルト樹脂層上に絶縁層が設けられているので、抜き
部の端部により電気接続手段の導電層が損傷を受けるこ
とがない。In the photovoltaic device according to the present invention, since the insulating layer is provided on the hot melt resin layer of the electric connection means in the portion passing through the cutout portion of the substrate, the end of the cutout portion is provided. The portion does not damage the conductive layer of the electrical connection means.
【図1】本発明の第1実施例の第1工程を示し、(a)
は平面図、(b)は(a)におけるA−A断面図、
(c)は出力取出領域の拡大平面図である。FIG. 1 shows a first step of a first embodiment of the present invention, in which (a)
Is a plan view, (b) is a sectional view taken along line AA in (a),
(C) is an enlarged plan view of an output extraction area.
【図2】本発明の第1実施例の第2工程を示し、(a)
は出力取出領域の拡大平面図、(b)は(a)における
A−A断面図である。FIG. 2 shows a second step of the first embodiment of the present invention, in which (a)
FIG. 2 is an enlarged plan view of an output extraction area, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG.
【図3】本発明の第1実施例の第3工程を示す出力取出
領域の拡大平面図である。FIG. 3 is an enlarged plan view of an output extraction area showing a third step of the first embodiment of the present invention.
【図4】本発明の第1実施例の第4工程を示す出力取出
領域の拡大平面図である。FIG. 4 is an enlarged plan view of an output extraction area showing a fourth step of the first embodiment of the present invention.
【図5】本発明の第1実施例の第5工程を示し、(a)
は平面図、(b)は出力取出領域の拡大平面図、(c)
は(b)におけるA−A断面図である。FIG. 5 shows a fifth step of the first embodiment of the present invention, wherein (a)
Is a plan view, (b) is an enlarged plan view of an output extraction area, (c)
FIG. 3 is a sectional view taken along line AA in FIG.
【図6】本発明の第1実施例の第6工程を示し、(a)
は出力端子8dの拡大平面図、(b)は(a)における
A−A断面図である。FIG. 6 shows a sixth step of the first embodiment of the present invention, in which (a)
Is an enlarged plan view of the output terminal 8d, and (b) is a cross-sectional view along AA in (a).
【図7】本発明の第2実施例の第1工程を示し、(a)
は平面図、(b)は出力取出領域の拡大平面図である。FIG. 7 shows a first step of the second embodiment of the present invention, and (a)
Is a plan view, and (b) is an enlarged plan view of an output extraction area.
【図8】本発明の第2実施例の第2工程を示し、(a)
は平面図、(b)は出力取出領域の拡大平面図、(c)
は(b)におけるA−A断面図である。FIG. 8 shows a second step of the second embodiment of the present invention, and (a).
Is a plan view, (b) is an enlarged plan view of an output extraction area, (c)
FIG. 3 is a sectional view taken along line AA in FIG.
【図9】本発明の第2実施例の第3工程を示し、(a)
は平面図、(b)は出力取出領域の拡大平面図、(c)
は(b)におけるA−A断面図である。FIG. 9 shows a third step of the second embodiment of the present invention, and (a).
Is a plan view, (b) is an enlarged plan view of an output extraction area, (c)
FIG. 3 is a sectional view taken along line AA in FIG.
【図10】本発明の第2実施例の第4工程を示し、
(a)は平面図、(b)は出力取出領域14の拡大平面
図である。FIG. 10 shows a fourth step of the second embodiment of the present invention,
FIG. 2A is a plan view, and FIG. 2B is an enlarged plan view of an output extraction area 14.
【図11】本発明の第3実施例の第1工程を示し、
(a)は平面図、(b)は(a)におけるA−A断面
図、(c)は(a)におけるB−B断面図である。FIG. 11 shows a first step of the third embodiment of the present invention,
(A) is a plan view, (b) is an AA sectional view in (a), and (c) is a BB sectional view in (a).
【図12】本発明の第3実施例の第2工程を示し、
(a)は抜き部23aの拡大平面図、(b)は(a)に
おけるA−A断面図、(c)は抜き部23aの拡大底面
図である。FIG. 12 shows a second step of the third embodiment of the present invention,
(A) is an enlarged plan view of the punched portion 23a, (b) is an AA cross-sectional view in (a), and (c) is an enlarged bottom view of the punched portion 23a.
【図13】本発明の第3実施例の上記第2工程における
形成方法を説明する図で、(a)は抜き部23aの拡大
底面図、(b)は(a)におけるA−A断面図である。13A and 13B are diagrams illustrating a forming method in the second step of the third embodiment of the present invention, wherein FIG. 13A is an enlarged bottom view of a punched portion 23a, and FIG. 13B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. It is.
【図14】本発明の第3実施例の第3工程を示し、
(a)は抜き部23aの拡大平面図、(b)は(a)に
おけるA−A断面図である。FIG. 14 shows a third step of the third embodiment of the present invention,
(A) is an enlarged plan view of the punched portion 23a, and (b) is a cross-sectional view taken along the line AA in (a).
【図15】本発明の第3実施例の第4工程を示し、
(a)は平面図、(b)は(a)におけるA−A断面
図、(c)は(a)におけるB−B断面図、(d)は底
面図である。FIG. 15 shows a fourth step of the third embodiment of the present invention,
(A) is a plan view, (b) is an AA sectional view in (a), (c) is a BB sectional view in (a), and (d) is a bottom view.
【図16】本発明の第3実施例の第5工程を示し、
(a)は平面図、(b)は(a)におけるA−A断面
図、(c)は(a)におけるB−B断面図、(d)は底
面図である。FIG. 16 shows a fifth step of the third embodiment of the present invention,
(A) is a plan view, (b) is an AA sectional view in (a), (c) is a BB sectional view in (a), and (d) is a bottom view.
【図17】本発明の第3実施例の第6工程を示し、
(a)は平面図、(b)は(a)におけるA−A断面
図、(c)は(a)におけるB−B断面図、(d)は底
面図である。FIG. 17 shows a sixth step of the third embodiment of the present invention,
(A) is a plan view, (b) is an AA sectional view in (a), (c) is a BB sectional view in (a), and (d) is a bottom view.
【図18】本発明の第4実施例の光起電力装置を示し、
(a)は平面図、(b)は(a)におけるA−A断面
図、(c)は(a)におけるB−B断面図、(d)は底
面図である。FIG. 18 shows a photovoltaic device according to a fourth embodiment of the present invention;
(A) is a plan view, (b) is an AA sectional view in (a), (c) is a BB sectional view in (a), and (d) is a bottom view.
【図19】本発明の第4実施例の電気接続手段を示し、
(a)は平面図、(b)は(a)におけるA−A断面
図、(c)は(a)におけるB−B断面図である。FIG. 19 shows an electric connection means according to a fourth embodiment of the present invention;
(A) is a plan view, (b) is an AA sectional view in (a), and (c) is a BB sectional view in (a).
1 基板 3 出力取出領域 4 切断溝 11 基板 12 基板有効部 13 基板無効部 14 出力取出領域 15 切断溝 21 基板 23a 抜き部 25 スクリーン版 31 基板 31a、31d 抜き部 34a、34d 電気接続手段 45 絶縁層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 3 Output extraction area 4 Cutting groove 11 Substrate 12 Substrate effective part 13 Substrate invalid part 14 Output extraction area 15 Cutting groove 21 Substrate 23a Cutout 25 Screen plate 31 Substrate 31a, 31d Cutout 34a, 34d Electrical connection means 45 Insulation layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 門目 信夫 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三 洋電機株式会社内 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Nobuo Kado 2-5-5 Keihanhondori, Moriguchi-shi, Osaka Sanyo Electric Co., Ltd.
Claims (5)
を、前記導電性基板から電気的に分離するための光起電
力用基板の製造方法であって、 前記導電性基板において、前記出力取出領域を囲む切断
溝を、この出力取出領域の外側の一部を除いて形成する
工程と、 前記切断溝に絶縁部材を埋め込む工程と、 前記一部を除去する工程と、を有することを特徴とする
光起電力用基板の製造方法。1. A method for manufacturing a photovoltaic substrate for electrically separating an output extraction region located in a conductive substrate from the conductive substrate, the method comprising: Forming a cutting groove surrounding the region except for a part outside the output extraction region; embedding an insulating member in the cutting groove; and removing the part. Of manufacturing a photovoltaic substrate.
とを有する光起電力用基板において、前記基板有効部内
に位置する出力取出領域を、これ以外の前記基板有効部
から電気的に分離するための光起電力用基板の製造方法
であって、 前記出力取出領域を囲む切断溝を、この出力取出領域の
外側の一部を除いて、前記切断溝が前記基板有効部に、
前記一部が前記基板無効部に位置するように、形成する
工程と、 前記切断溝に絶縁部材を埋め込む工程と、 前記基板無効部を前記基板有効部より切り離す工程と、
を有することを特徴とする光起電力用基板の製造方法。2. In a photovoltaic substrate having a substrate effective portion and a substrate invalid portion adjacent thereto, an output extraction region located in the substrate effective portion is electrically separated from other substrate effective portions. A manufacturing method of a photovoltaic substrate for performing, the cutting groove surrounding the output extraction region, except for a part outside the output extraction region, the cutting groove in the substrate effective portion,
Forming the part so that the part is located in the substrate invalid part, burying an insulating member in the cut groove, and separating the substrate invalid part from the substrate valid part;
A method for producing a photovoltaic substrate, comprising:
欠状の抜き部を設ける工程と、 前記基板の表面側から、前記抜き部の側壁を通って、前
記基板の裏面側に至る絶縁部材を配置する工程と、 前記基板の表面側から、前記抜き部の側壁を通って、前
記基板の裏面側に至る導電膜を前記絶縁部材上に配置す
る工程と、を有することを特徴とする光起電力装置用基
板の製造方法。A step of forming a hole or a cutout in the metal substrate by a press working method; and forming an insulating member extending from a front surface side of the substrate to a back surface side of the substrate through a side wall of the cutout portion. Arranging a conductive film extending from the front surface side of the substrate to the back surface side of the substrate through the side wall of the cutout portion, on the insulating member. A method for manufacturing a power device substrate.
は、前記基板の両面側において、絶縁材料の粉体を樹脂
バインダーに混ぜたペースト状材料を、パターンを有す
るスクリーン版を用いた印刷法にて塗布した後、熱硬化
させるものであり、 前記パターンは、前記ペースト状材料が透過しない部分
が前記抜き部より小面積であることを特徴とする請求項
3の光起電力装置用基板の製造方法。4. The step of arranging the insulating member according to claim 3, wherein the step of printing the paste-like material obtained by mixing a powder of an insulating material with a resin binder on both sides of the substrate using a screen plate having a pattern. 4. The substrate for photovoltaic device according to claim 3, wherein a portion through which the paste-like material does not pass is smaller in area than the cutout portion, after being applied by a thermal curing method. Manufacturing method.
子と、この光起電力素子からの出力を導出する前記基板
上に形成された出力端子とを有する光起電力装置であっ
て、 前記金属基板にプレス加工法により形成された穴又は切
欠状の抜き部と、 前記出力端子と電気的に接続し、前記抜き部を通って前
記基板の裏面側に至る電気接続手段とを有し、 前記電気接続手段は、高分子フィルム、導電層及びホッ
トメルト樹脂層の積層体からなり、ホットメルト樹脂層
と出力端子部とが固着されていると共に、前記抜き部を
通過する部分の前記ホットメルト樹脂層上に絶縁層を配
置したことを特徴とする光起電力装置。5. A photovoltaic device comprising: a photovoltaic element formed on a surface of a metal substrate; and an output terminal formed on the substrate for deriving an output from the photovoltaic element, A hole or a notch-shaped cutout formed in the metal substrate by a press working method; and an electrical connection unit electrically connected to the output terminal and reaching the back side of the substrate through the cutout. The electric connection means is composed of a laminate of a polymer film, a conductive layer and a hot melt resin layer, and the hot melt resin layer and the output terminal portion are fixed to each other, and the hot portion of the portion passing through the cutout portion is provided. A photovoltaic device comprising an insulating layer disposed on a melt resin layer.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8243309A JPH1093119A (en) | 1996-09-13 | 1996-09-13 | Method of manufacturing substrate for photovoltaic device and photovoltaic device |
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JP8243309A JPH1093119A (en) | 1996-09-13 | 1996-09-13 | Method of manufacturing substrate for photovoltaic device and photovoltaic device |
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Publication Number | Publication Date |
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JPH1093119A true JPH1093119A (en) | 1998-04-10 |
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ID=17101924
Family Applications (1)
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JP8243309A Pending JPH1093119A (en) | 1996-09-13 | 1996-09-13 | Method of manufacturing substrate for photovoltaic device and photovoltaic device |
Country Status (1)
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JP (1) | JPH1093119A (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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1996
- 1996-09-13 JP JP8243309A patent/JPH1093119A/en active Pending
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