JPH1069793A - Semiconductor memory device - Google Patents
Semiconductor memory deviceInfo
- Publication number
- JPH1069793A JPH1069793A JP22891896A JP22891896A JPH1069793A JP H1069793 A JPH1069793 A JP H1069793A JP 22891896 A JP22891896 A JP 22891896A JP 22891896 A JP22891896 A JP 22891896A JP H1069793 A JPH1069793 A JP H1069793A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- decoder
- address
- pulse
- memory cell
- memory device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 29
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 102100034004 Gamma-adducin Human genes 0.000 description 4
- 101000799011 Homo sapiens Gamma-adducin Proteins 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000002784 hot electron Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Static Random-Access Memory (AREA)
- Read Only Memory (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は半導体メモリ装置に
関し、特に半導体メモリセルに対する書き込み時におい
て、非選択メモリセルへの誤書き込みを防止する半導体
メモリ装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device for preventing erroneous writing to an unselected memory cell when writing to a semiconductor memory cell.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、このような半導体メモリ装置は、
マトリックス状に配置した半導体メモリセルに対し、ア
ドレス信号に基いてワード線を指定するXデコーダやデ
ィジット線を指定するYセレクタ等を用いてアクセスし
ている。2. Description of the Related Art Conventionally, such a semiconductor memory device has
The semiconductor memory cells arranged in a matrix are accessed using an X decoder that specifies a word line based on an address signal, a Y selector that specifies a digit line, or the like.
【0003】図6はかかる従来の一例を示す半導体メモ
リ装置の回路図である。図6に示すように、この半導体
メモリ装置は、メモリセルM11〜M33を備えた不揮
発性メモリセルアレイを示し、その周辺回路として、ア
ドレス信号ADD0〜ADD3をアドレスラッチ信号C
LKAにより取り込み、保持するとともに、下位のアド
レス信号A0,A1や上位のアドレス信号A2,A3を
出力するアドレスラッチ回路3と、下位のアドレス信号
A0,A1によりディジット線D1〜D3を指定するY
セレクタ4と、上位のアドレス信号A2,A3によりワ
ード線W1〜W3を指定するXデコーダ1aとを有す
る。なお、Xデコーダ1aは、通常プリデコーダを内蔵
している。FIG. 6 is a circuit diagram of a semiconductor memory device showing an example of such a prior art. As shown in FIG. 6, this semiconductor memory device shows a nonvolatile memory cell array including memory cells M11 to M33, and uses address signals ADD0 to ADD3 as address peripheral signals as address peripheral signals.
The address latch circuit 3 which captures and holds the data by the LKA and outputs the lower address signals A0 and A1 and the upper address signals A2 and A3, and Y which designates the digit lines D1 to D3 by the lower address signals A0 and A1.
It has a selector 4 and an X decoder 1a for specifying word lines W1 to W3 by upper address signals A2 and A3. Note that the X decoder 1a usually has a built-in predecoder.
【0004】このアドレスラッチ信号CLKAがHレベ
ル(ほぼVDD)の期間には、アドレスラッチ回路3は
開いており、Lレベル(ほぼGND)になると、ラッチ
回路3は閉じ、アドレス信号が保持される。また、Xデ
コーダ1aは、上位のアドレス信号A2,A3に基いて
ワード線W1〜W3のいずれか1つが選択される。さら
に、Yセレクタ4は、下位のアドレス信号A0,A1に
よりディジット線D1〜D3のいずれか1つが選択され
る。When the address latch signal CLKA is at the H level (substantially VDD), the address latch circuit 3 is open. When the address latch signal CLKA becomes L level (substantially GND), the latch circuit 3 is closed and the address signal is held. . In the X decoder 1a, one of the word lines W1 to W3 is selected based on the upper address signals A2 and A3. Further, the Y selector 4 selects one of the digit lines D1 to D3 by the lower address signals A0 and A1.
【0005】一方、メモリセルM11〜M33からなる
不揮発性メモリは、電源電圧として通常動作用の電源電
圧VDD(5V)、書込・消去時に用いる高電源電圧V
PP(10V)およびGNDの3つを用いる。ライトモ
ード時において、例えばメモリセルM11が選択される
と、このメモリセルM11のコントロールゲートに接続
されているワード線W1に高電源電圧VPPを印加さ
れ、メモリセルM11のドレインに接続されているディ
ジット線D1には、6V程度の電圧が印加される。ま
た、メモリセルM11が非選択になると、ワード線W1
がLレベル(ほぼGND)になるか、あるいはディジッ
ト線D1がオープンになるかのいずれかである。On the other hand, a nonvolatile memory composed of memory cells M11 to M33 has a power supply voltage VDD (5 V) for normal operation as a power supply voltage and a high power supply voltage V
Three of PP (10V) and GND are used. In the write mode, for example, when the memory cell M11 is selected, the high power supply voltage VPP is applied to the word line W1 connected to the control gate of the memory cell M11, and the digit connected to the drain of the memory cell M11 is A voltage of about 6 V is applied to the line D1. When the memory cell M11 is deselected, the word line W1
Either goes low (approximately GND) or the digit line D1 is open.
【0006】図7(a),(b)はそれぞれ図6におけ
るXデコーダ内部のプリデコーダの回路図およびXデコ
ーダの回路図である。まず、図7(a)に示すように、
従来の半導体メモリ装置におけるプリデコーダ20は、
上位のアドレス信号A2,A3を反転するインバータ2
1,22を備え、上位のアドレス信号A2,A3および
これらを反転した信号の組合せにより、以下に説明する
NAND回路5aのそれぞれに供給するアドレス選択信
号X0,X1を作成する機能を有している。FIGS. 7A and 7B are a circuit diagram of a predecoder and a circuit diagram of an X decoder in the X decoder in FIG. 6, respectively. First, as shown in FIG.
The predecoder 20 in the conventional semiconductor memory device is
Inverter 2 for inverting upper address signals A2 and A3
1 and 22, and has a function of generating address selection signals X0 and X1 to be supplied to each of the NAND circuits 5a to be described below by a combination of upper address signals A2 and A3 and a signal obtained by inverting them. .
【0007】次に、図7(b)に示すように、ワード線
Wiの電圧を出力するワード線駆動回路としてのXデコ
ーダ1aは、アドレス選択信号X0,X1のNAND論
理をとる複数個のNANDゲート5aと、その出力を反
転するインバータ6と、nMOS7と、pMOS8,9
とから構成されている。Next, as shown in FIG. 7B, an X decoder 1a as a word line driving circuit for outputting the voltage of the word line Wi includes a plurality of NANDs which take NAND logic of the address selection signals X0 and X1. A gate 5a, an inverter 6 for inverting its output, an nMOS 7, and pMOSs 8 and 9
It is composed of
【0008】このワード線駆動回路としてのXデコーダ
1aは、アドレス信号ADD0〜ADD3より変換され
たアドレス選択信号X0,X1に応じ、ワード線Wiの
電位を高電源電圧VPP、またはGNDに設定する。従
って、このXデコーダ1aにおいては、アドレス選択信
号X0,X1により切り換えられる2つの電圧供給経
路、すなわちワード線Wiに高電源電圧VPPを供給す
る経路と、GNDを供給する経路とがある。The X decoder 1a as the word line driving circuit sets the potential of the word line Wi to the high power supply voltage VPP or GND according to the address selection signals X0 and X1 converted from the address signals ADD0 to ADD3. Therefore, in the X decoder 1a, there are two voltage supply paths that are switched by the address selection signals X0 and X1, namely, a path for supplying the high power supply voltage VPP to the word line Wi and a path for supplying GND.
【0009】まず、ワード線Wiに高電源電圧VPPを
供給する経路は、pMOS9を経てpMOS8を通る経
路であり、一方GNDを供給する経路は、インバータ6
を経て、nMOS7を通る経路である。このとき、ワー
ド線WiにVPPを供給する経路を構成するpMOS9
のソースには、高電源電圧VPPが供給されるととも
に、そのゲートにはpMOS9が十分にオンできる程度
の電圧、例えば8.5V程度の電圧が供給される。ま
た、このpMOS9のドレインは、pMOS8のソース
に接続されるとともに、そのゲートには、NANDゲー
ト5aの出力Ki(i=1,2,3,・・・・)が供給
される。このNANDゲート5aのゲート入力端子X
0,X1には、上位アドレス信号A2,A3により決定
されるアドレス選択信号が供給される。First, a path for supplying the high power supply voltage VPP to the word line Wi is a path passing through the pMOS 8 via the pMOS 9, while a path for supplying GND is connected to the inverter 6.
Through the nMOS 7. At this time, the pMOS 9 forming the path for supplying VPP to the word line Wi
The source is supplied with the high power supply voltage VPP, and the gate thereof is supplied with a voltage enough to turn on the pMOS 9 sufficiently, for example, a voltage of about 8.5V. The drain of the pMOS 9 is connected to the source of the pMOS 8 and the gate thereof is supplied with the output Ki (i = 1, 2, 3,...) Of the NAND gate 5a. The gate input terminal X of the NAND gate 5a
Address selection signals determined by the upper address signals A2 and A3 are supplied to 0 and X1.
【0010】ついで、ワード線WiにGNDを供給する
経路においては、GNDを供給するインバータ6があ
り、そのゲート入力端子にはNANDゲート5aの出力
Ki(i=1,2,3,・・・)が供給されるととも
に、その出力はnMOS7のソースに供給される。しか
も、このnMOS7のゲートには、インバータ6の出力
がHレベル(ほぼVDD)のときにオフとなる程度の電
圧、例えば4.5V程度の電圧が供給されている。Then, in the path for supplying GND to the word line Wi, there is an inverter 6 for supplying GND, and the output Ki (i = 1, 2, 3,...) Of the NAND gate 5a is provided at the gate input terminal. ) Is supplied, and the output is supplied to the source of the nMOS 7. In addition, a voltage that turns off when the output of the inverter 6 is at the H level (almost VDD), for example, a voltage of about 4.5 V, is supplied to the gate of the nMOS 7.
【0011】次に、このXデコーダの具体的回路動作に
ついて説明する。まず、ライトモードにおいて選択状態
になると、NANDゲート5aの入力X0,X1の全て
がHレベル(ほぼVDD)となる。それに従って、NA
NDゲート5aの出力Ki(i=1,2,3・・・)が
Lレベル(ほぼGND)となり、インバータ6の出力が
Hレベル(ほぼVDD)となる。これにより、nMOS
7はオフとなる。また、pMOS9はオンしており、つ
いでpMOS8がオンするので、ワード線Wiには高電
源電圧VPPが供給される。このとき、このワード線W
iに接続しているメモリセルのディジット線Diに6V
が供給されていると、そのメモリセルのソースとドレイ
ン間に書き込み電流が流れてホットエレクトロンが発生
し、書き込みが行われる。Next, a specific circuit operation of the X decoder will be described. First, in the selected state in the write mode, all of the inputs X0 and X1 of the NAND gate 5a go to the H level (almost VDD). Accordingly, NA
The output Ki (i = 1, 2, 3,...) Of the ND gate 5a goes low (approximately GND), and the output of the inverter 6 goes high (approximately VDD). Thereby, the nMOS
7 is off. Since the pMOS 9 is on and then the pMOS 8 is on, the word line Wi is supplied with the high power supply voltage VPP. At this time, the word line W
6V is applied to the digit line Di of the memory cell connected to i.
Is supplied, a write current flows between the source and the drain of the memory cell to generate hot electrons and write is performed.
【0012】一方、ライトモード時において、非選択に
なると、NANDゲート5aの入力X0,X1の少なく
とも1つがLレベル(ほぼGND)となる。それに従っ
て、NANDゲート5aの出力Ki(i=1,2,3・
・・)がHレベル(ほぼVDD)となり、pMOS8の
相互コンダクタンスGmが低下する。このため、インバ
ータ6の出力はLレベル(ほぼGND)となり、nMO
S7はオンとなる。それ故、nMOS7の相互コンダク
タンスGmは、pMOS8の相互コンダクタンスGmに
比べて非常に大きくなるので、ワード線WiにほぼGN
Dに近い電圧が供給される。このとき、かかるワード線
Wiに接続しているメモリセルのディジット線Diに6
Vが供給されていても、そのメモリセルには書き込み電
流が流れず、書き込みが行われることはない。On the other hand, in the write mode, when it is not selected, at least one of the inputs X0 and X1 of the NAND gate 5a is at L level (substantially GND). Accordingly, the output Ki of the NAND gate 5a (i = 1, 2, 3,.
..) attains an H level (almost VDD), and the transconductance Gm of the pMOS 8 decreases. Therefore, the output of the inverter 6 becomes L level (almost GND), and nMO
S7 is turned on. Therefore, the transconductance Gm of the nMOS 7 is much larger than the transconductance Gm of the pMOS 8, so that the word line Wi is almost GN.
A voltage close to D is supplied. At this time, 6 is added to the digit line Di of the memory cell connected to the word line Wi.
Even if V is supplied, no write current flows through the memory cell, and no write is performed.
【0013】図8は図6における回路動作を説明するた
めのタイミング図である。図8に示すように、例えばラ
イトモード時にメモリセルM11についでメモリセルM
22が選択される場合、まずメモリセルM11を選択す
るためのアドレス信号A11が入力され、アドレスラッ
チ信号CLKAによりそのアドレス信号がアドレスラッ
チ回路3に取り込まれる。このアドレス信号A11がア
ドレスラッチ回路3を介して伝播される時間、すなわち
通過する所定の遅延時間後、NANDゲート5aの入力
信号がすべてHレベルとなり、NANDゲート5aの出
力K1がHレベルからLレベルとなる。それに伴なっ
て、ワード線W1に電荷が蓄積され、高電源電圧VPP
となる。FIG. 8 is a timing chart for explaining the circuit operation in FIG. As shown in FIG. 8, for example, in the write mode, the memory cell M11 is followed by the memory cell M11.
When 22 is selected, first, an address signal A11 for selecting the memory cell M11 is input, and the address signal is taken into the address latch circuit 3 by the address latch signal CLKA. After a predetermined delay time when the address signal A11 propagates through the address latch circuit 3, that is, after a predetermined delay time, the input signals of the NAND gate 5a are all at H level, and the output K1 of the NAND gate 5a is changed from H level to L level. Becomes As a result, charges are accumulated in the word line W1, and the high power supply voltage VPP
Becomes
【0014】次に、メモリセルM22を選択するための
アドレス信号A22が入力され、アドレスラッチ信号C
LKAによりアドレスラッチ回路3に取り込まれる。同
様に、このアドレスラッチ回路3を通るための遅延時間
後、NANDゲート5aの入力信号のうち少なくとも1
つがLレベルとなり、NANDゲート5aの出力K1が
LレベルからHレベルとなる。それに伴なって、ワード
線W1に蓄積されていた電荷が放電され、GNDレベル
となる。Next, an address signal A22 for selecting the memory cell M22 is inputted, and an address latch signal C22 is inputted.
The data is taken into the address latch circuit 3 by LKA. Similarly, after a delay time for passing through address latch circuit 3, at least one of the input signals of NAND gate 5a is output.
One goes to the L level, and the output K1 of the NAND gate 5a goes from the L level to the H level. Along with that, the electric charge stored in the word line W1 is discharged, and becomes the GND level.
【0015】一方、ワード線W2については、NAND
ゲート5aの入力信号がすべてHレベルとなり、NAN
Dゲート5aの出力K2がHレベルからLレベルとな
る。それに伴なって、ワード線W2に電荷が蓄積され、
高電源電圧VPPとなる。また、このときディジット線
D2にも電荷が蓄積され、電圧6Vが印加されてメモリ
セルM22に書き込みが行われる。On the other hand, for word line W2, NAND
All the input signals of the gate 5a become H level, and NAN
The output K2 of the D gate 5a changes from H level to L level. Along with that, charges are accumulated on the word line W2,
It becomes high power supply voltage VPP. At this time, charges are also accumulated in the digit line D2, and a voltage of 6 V is applied to write data to the memory cell M22.
【0016】[0016]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の半導体メモリ装置は、実際には、アドレス信号
ADD0〜ADD3が入力されてからワード線W1がG
NDレベルになるまでに、アドレスラッチ回路3および
Xデコーダ1aを通る遅延時間とワード線W1に蓄積さ
れた電荷を放電するための時間が必要である。したがっ
て、ワード線W2とディジット線D2に電荷が蓄積され
始める時から、ワード線W1に蓄積されていた電荷を放
電してしまうまでの期間T1において、ワード線W1,
ディジット線D2をそれぞれコントロールゲート,ドレ
インとするメモリセルM12に誤書き込みが行われてし
まうという問題がある。However, in the above-mentioned conventional semiconductor memory device, the word line W1 is actually set to G after the address signals ADD0 to ADD3 are input.
Until the ND level is reached, a delay time passing through the address latch circuit 3 and the X decoder 1a and a time for discharging the charges accumulated in the word line W1 are required. Therefore, in the period T1 from the time when the charge starts to be accumulated in the word line W2 and the digit line D2 to the time when the charge accumulated in the word line W1 is discharged, the word lines W1 and W1 are discharged.
There is a problem that erroneous writing is performed on the memory cell M12 using the digit line D2 as a control gate and a drain, respectively.
【0017】本発明の目的は、かかるライトモード時
に、つぎに選択されるメモリセルのディジット線に電荷
が蓄積される前に、選択されていたメモリセルのワード
線の電荷を放電し、非選択メモリセルへの誤書き込みを
防止するとともに、信頼性を向上させることのできる半
導体メモリ装置を提供することにある。An object of the present invention is to discharge the electric charge of the word line of the selected memory cell before the electric charge is stored in the digit line of the memory cell to be selected next in the write mode, and to perform the non-selection. An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of preventing erroneous writing to a memory cell and improving reliability.
【0018】[0018]
【課題を解決するための手段】本発明の半導体メモリ装
置は、メモリセルに接続される複数のワード線から1つ
を選択するXデコーダと、アドレス選択の切り換えタイ
ミングに同期してパルスを発生するパルス発生回路とを
有し、アドレス選択信号が前記Xデコーダに到達するよ
りも前に前記パルス発生回路の出力を前記Xデコーダへ
送出することにより、選択されていたメモリセルのワー
ド線の電荷を放電するように構成される。A semiconductor memory device according to the present invention generates an X decoder for selecting one from a plurality of word lines connected to a memory cell and a pulse in synchronization with a switching timing of address selection. A pulse generation circuit, and sending an output of the pulse generation circuit to the X decoder before the address selection signal reaches the X decoder, thereby charging the word line of the selected memory cell. It is configured to discharge.
【0019】また、本発明の半導体メモリ装置における
Xデコーダは、前記アドレス選択信号と前記パルス発生
回路の出力のNAND論理をとるNANDゲートを備え
て形成される。Further, the X decoder in the semiconductor memory device of the present invention is formed with a NAND gate which takes NAND logic of the address selection signal and the output of the pulse generation circuit.
【0020】さらに、本発明の半導体メモリ装置におけ
るパルス発生回路は、アドレスラッチ信号およびライト
イネーブル信号に基いて前記パルスを発生するNAND
ゲートを備えて形成される。Further, the pulse generation circuit in the semiconductor memory device according to the present invention may be configured such that the pulse generation circuit generates the pulse based on an address latch signal and a write enable signal.
It is formed with a gate.
【0021】また、本発明の半導体メモリ装置におい
て、Xデコーダに接続される前記ワード線の先端部は、
それぞれ放電用のMOS素子を接続するとともに、前記
放電用のMOS素子のゲートにアドレスラッチ信号を反
転して供給するように形成される。In the semiconductor memory device of the present invention, the tip of the word line connected to the X decoder is
Each is connected to a discharging MOS element, and is formed so as to invert and supply an address latch signal to the gate of the discharging MOS element.
【0022】[0022]
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態ついて
図面を参照して説明する。Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
【0023】図1は本発明の一実施の形態を説明するた
めの半導体メモリ装置の回路図である。図1に示すよう
に、本実施の形態における半導体メモリ装置は、メモリ
セルM11〜M33を備えた不揮発性メモリセルアレイ
を示し、その周辺回路として、アドレス信号ADD0〜
ADD3をアドレスラッチ信号CLKAにより取り込
み、保持するとともに、下位のアドレス信号A0,A1
や上位のアドレス信号A2,A3を出力するアドレスラ
ッチ回路3と、下位のアドレス信号A0,A1によりデ
ィジット線D1〜D3を指定するYセレクタ4と、アド
レスラッチ信号CLKAおよびライトイネーブルWEに
より、すなわちアドレス選択の切り換えタイミングに同
期して放電用パルスφAを発生させるパルス発生回路2
と、上位のアドレス信号A2,A3およびパルス発生回
路2からのパルスφAによりワード線W1〜W3を指定
するXデコーダ1とを有する。なお、Xデコーダ1は、
前述した従来例と同様、プリデコーダを内蔵している。FIG. 1 is a circuit diagram of a semiconductor memory device for explaining an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the semiconductor memory device according to the present embodiment shows a nonvolatile memory cell array including memory cells M11 to M33, and address signals ADD0 to ADD0 as peripheral circuits.
ADD3 is captured and held by the address latch signal CLKA, and the lower address signals A0, A1 are stored.
And an address latch circuit 3 for outputting upper address signals A2 and A3, a Y selector 4 for specifying digit lines D1 to D3 by lower address signals A0 and A1, and an address latch signal CLKA and a write enable WE. A pulse generation circuit 2 for generating a discharge pulse φA in synchronization with the selection switching timing
And an X decoder 1 for designating word lines W1 to W3 by upper address signals A2 and A3 and a pulse φA from pulse generation circuit 2. Note that the X decoder 1
As in the above-described conventional example, a predecoder is incorporated.
【0024】かかる半導体メモリ装置においては、、ア
ドレス選択信号X0,X1がXデコーダ1に到達するよ
りも前に、パルス発生回路2の出力φAをXデコーダ1
へ送出し、選択されていたメモリセルM11〜M33の
うちの1つに接続されたワード線W1〜W3のうちの1
つの電荷を放電することにある。In such a semiconductor memory device, before the address selection signals X0 and X1 reach the X decoder 1, the output φA of the pulse generation circuit 2 is output to the X decoder 1.
To one of the word lines W1 to W3 connected to one of the selected memory cells M11 to M33.
To discharge two charges.
【0025】ここで、パルス発生回路2とXデコーダ1
以外の回路構成、すなわちアドレスラッチ回路3,Yセ
レクタ4は、前述した従来例と同様の構成であるので、
詳細な説明は省略する。Here, the pulse generator 2 and the X decoder 1
Since the circuit configuration other than the above, that is, the address latch circuit 3 and the Y selector 4 have the same configuration as the above-described conventional example,
Detailed description is omitted.
【0026】図2は図1におけるXデコーダおよびパル
ス発生回路の回路図である。図2に示すように、半導体
メモリ装置のXデコーダ1は、アドレス選択信号X0,
X1およびパルスφAを入力してNAND論理をとるN
ANDゲート5と、前述した従来例と同様のインバータ
6,nMOS7,pMOS8および9とから構成され、
またパルス発生回路2は、アドレスラッチ信号CLKA
を入力して反転し、所定の遅延時間を作成するために直
列接続した奇数個のインバータ10〜12と、最終段イ
ンバータ12の出力とアドレスラッチ信号CLKAおよ
びHレベル(ほぼVDD)のときだけ書き込み可能にな
るライトイネーブル信号WEの3つの信号を入力し且つ
出力に前記パルスφAを出力するNANDゲート13と
から構成される。特に、パルス発生回路2は、アドレス
ラッチ信号CLKAの切り替わりで、インバータ10〜
12の3つのゲートの遅延時間分のパルス幅を有するパ
ルスφAを生成している。FIG. 2 is a circuit diagram of the X decoder and the pulse generation circuit in FIG. As shown in FIG. 2, the X decoder 1 of the semiconductor memory device includes an address selection signal X0,
X1 and pulse φA are input to take NAND logic.
An AND gate 5 and an inverter 6, nMOS 7, pMOS 8 and 9 similar to the above-described conventional example.
In addition, the pulse generation circuit 2 outputs the address latch signal CLKA
, And inverts it, and writes only when the odd number of inverters 10 to 12 connected in series to create a predetermined delay time, the output of the final-stage inverter 12, the address latch signal CLKA and the H level (almost VDD). And a NAND gate 13 for inputting three signals of a write enable signal WE to be enabled and outputting the pulse φA as an output. In particular, the pulse generation circuit 2 switches the address latch signal CLKA so that the inverter 10
A pulse φA having a pulse width corresponding to the delay time of twelve three gates is generated.
【0027】図3は図1および図2における回路動作を
説明するためのタイミング図である。図3に示すよう
に、ライトイネーブル信号WEはHレベル(VDD=5
V)とし、初めにアドレスA11が入力、すなわちメモ
リセルM11が選択されているものとする。このとき、
ワード線W1は電荷が蓄積され10Vになっており、デ
ィジット線D1は6Vになっている。FIG. 3 is a timing chart for explaining the circuit operation in FIGS. 1 and 2. As shown in FIG. 3, the write enable signal WE is at the H level (VDD = 5
V), it is assumed that the address A11 is input first, that is, the memory cell M11 is selected. At this time,
The word line W1 accumulates electric charge and has a voltage of 10V, and the digit line D1 has a voltage of 6V.
【0028】次に、アドレスA22が入力、すなわちメ
モリセルM22を選択しようとすると、アドレスラッチ
信号CLKAの立ち上がりで、アドレスラッチ回路3に
アドレスA22が供給される。このとき、パルス発生回
路2では、アドレスラッチ信号CLKAによりパルスφ
Aを生成し、このパルスφAをいち早くワード線W1の
電位を生成しているワード線駆動回路としてのXデコー
ダ1のNANDゲート5に出力する。これにより、アド
レス選択信号X0,X1がNANDゲート5の入力端子
X0,X1に到達する前に、ワード線W1に蓄積されて
いた電荷の放電を開始する。しかる後、これらアドレス
選択信号X0,X1がNANDゲート5に到達する時
刻、すなわちディジット線D2に電荷が蓄積され始める
時刻t0には、ワード線W1の電荷を放電してしまうこ
とができる。したがって、パルスφAに基く事前放電に
より、メモリセルM12への誤書き込みは、防止され
る。Next, when the address A22 is input, that is, when the memory cell M22 is to be selected, the address A22 is supplied to the address latch circuit 3 at the rise of the address latch signal CLKA. At this time, the pulse generation circuit 2 generates the pulse φ by the address latch signal CLKA.
A is generated, and this pulse φA is output to the NAND gate 5 of the X decoder 1 as a word line driving circuit that is generating the potential of the word line W1 as soon as possible. As a result, before the address selection signals X0 and X1 reach the input terminals X0 and X1 of the NAND gate 5, discharge of the charges stored in the word line W1 is started. Thereafter, at the time when the address selection signals X0 and X1 reach the NAND gate 5, that is, at the time t0 when the charge starts to be accumulated on the digit line D2, the charge on the word line W1 can be discharged. Therefore, erroneous writing to memory cell M12 is prevented by the pre-discharge based on pulse φA.
【0029】要するに、本実施の形態では、ワード線を
異にするメモリセルが順次選択されていく場合に、先に
選択されていたメモリセルのワード線の電荷を次のメモ
リセルのディジット線に電荷が蓄積される前に、早く放
電することにより、誤書き込みを防止している。In short, in this embodiment, when memory cells having different word lines are sequentially selected, the charge of the word line of the previously selected memory cell is transferred to the digit line of the next memory cell. An erroneous write is prevented by discharging quickly before the charge is accumulated.
【0030】図4は本発明の他の実施の形態を説明する
ための半導体メモリ装置の回路図である。図4に示すよ
うに、本実施の形態における半導体メモリ装置は、前述
した図1のメモリ装置に加え、Xデコーダ1から一番遠
いワード線W1〜W3の各先端部にnMOS15,1
6,17をそれぞれ接続し、これらnMOS15〜17
をGNDに接続するとともに、これらnMOS15〜1
7の各ゲートにパルス発生回路2からのパルスφAを反
転して供給するインバータ14を設けたことにある。そ
の他は、図1の回路と同様である。FIG. 4 is a circuit diagram of a semiconductor memory device for explaining another embodiment of the present invention. As shown in FIG. 4, the semiconductor memory device according to the present embodiment has, in addition to the memory device of FIG. 1 described above, nMOSs 15 and 1 at the tips of word lines W1 to W3 farthest from X decoder 1.
6 and 17, respectively, and these nMOSs 15 to 17 are connected.
Are connected to GND, and these nMOSs 15 to 1 are connected.
7 is provided with an inverter 14 for inverting and supplying the pulse φA from the pulse generation circuit 2 to each gate. The rest is the same as the circuit of FIG.
【0031】このようなnMOS15〜17およびイン
バータ14を付加することにより、Xデコーダ1だけで
ワード線に蓄積された電荷を放電するよりも、放電時間
が短縮される。例えば、ワード線W1に蓄積された電荷
を放電する際、Xデコーダ1の他に、nMOS15を介
して放電できる経路が増えることになり、放電時間をよ
り一層短縮することができる。By adding the nMOSs 15 to 17 and the inverter 14, the discharge time is shortened as compared with the case where only the X decoder 1 discharges the charges stored in the word lines. For example, when discharging the electric charge stored in the word line W1, in addition to the X decoder 1, the number of paths that can be discharged via the nMOS 15 increases, and the discharge time can be further reduced.
【0032】図5は図4における回路動作を説明するた
めのタイミング図である。図5に示すように、ワード線
W1の立ち下がりは、前述した図3のワード線W1の立
ち下がりよりも急峻、すなわちワード線W1に蓄積され
た電荷が放電される速度は速くなり、ディジット線D2
への電荷の蓄積開始時刻に対してのマージンT2を長く
とることができるので、メモリセルM12への誤書き込
みを確実に防止することができる。FIG. 5 is a timing chart for explaining the circuit operation in FIG. As shown in FIG. 5, the fall of the word line W1 is steeper than the fall of the word line W1 of FIG. 3, that is, the speed at which the charges stored in the word line W1 are discharged is faster, and the digit line W1 is discharged. D2
Since the margin T2 with respect to the time when the accumulation of electric charges into the memory cell M12 can be increased, it is possible to reliably prevent erroneous writing to the memory cell M12.
【0033】上述した2つの実施の形態では、アドレス
ラッチ信号CLKAを用いてパルスφAを生成する手段
として、インバータ10〜12を用いた例を説明した
が、その他の遅延回路、例えばCR積分回路等を用いて
も実現することができる。また、ワード線の電荷を放電
する信号として、アドレスラッチ信号CLKAに基いて
生成されたパルスを例にとったが、アドレスラッチ信号
CLKAに同期する他の信号、例えば、プリチャージ信
号を用いても同様に実現することができる。In the above-described two embodiments, the example in which the inverters 10 to 12 are used as means for generating the pulse φA using the address latch signal CLKA has been described. However, other delay circuits, for example, a CR integration circuit and the like are used. Can also be realized. Further, although a pulse generated based on the address latch signal CLKA is taken as an example of a signal for discharging the charge of the word line, another signal synchronized with the address latch signal CLKA, for example, a precharge signal may be used. It can be realized similarly.
【0034】[0034]
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体メ
モリ装置は、アドレス選択切り替えタイミングに同期し
て生成される放電用パルスを発生するパルス発生回路を
設け、そのパルスによりXデコーダを制御することによ
り、次に選択されるメモリセルのディジット線に電荷が
蓄積される前に、そのメモリセルのワード線の電荷を放
電することができるので、そのメモリセルへの誤書き込
みを防止することができるという効果がある。As described above, the semiconductor memory device of the present invention is provided with the pulse generation circuit for generating the discharge pulse generated in synchronization with the address selection switching timing, and controls the X decoder by the pulse. Thus, before the charge is accumulated in the digit line of the memory cell selected next, the charge of the word line of the memory cell can be discharged, so that erroneous writing to the memory cell can be prevented. There is an effect that can be.
【図1】本発明の一実施の形態を説明するための半導体
メモリ装置の回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram of a semiconductor memory device for describing an embodiment of the present invention.
【図2】図1におけるXデコーダおよびパルス発生回路
を表わす図である。FIG. 2 is a diagram illustrating an X decoder and a pulse generation circuit in FIG.
【図3】図1および図2における回路動作を説明するた
めのタイミング図である。FIG. 3 is a timing chart for explaining the circuit operation in FIGS. 1 and 2;
【図4】本発明の他の実施の形態を説明するための半導
体メモリ装置の回路図である。FIG. 4 is a circuit diagram of a semiconductor memory device for explaining another embodiment of the present invention.
【図5】図4における回路動作を説明するためのタイミ
ング図である。FIG. 5 is a timing chart for explaining a circuit operation in FIG. 4;
【図6】従来の一例を示す半導体メモリ装置の回路図で
ある。FIG. 6 is a circuit diagram of a semiconductor memory device showing an example of the related art.
【図7】図6におけるXデコーダ内部のプリデコーダの
回路およびXデコーダの回路を表わす図である。FIG. 7 is a diagram showing a predecoder circuit and an X decoder circuit inside the X decoder in FIG. 6;
【図8】図6における回路動作を説明するためのタイミ
ング図である。FIG. 8 is a timing chart for explaining a circuit operation in FIG. 6;
1 Xデコーダ 2 パルス発生回路 3 アドレスラッチ回路 4 Yセレクタ 5,13 NANDゲート 6,10〜12,14 インバータ 7 nMOS 8,9 pMOS 15〜17 nMOS M11〜M33 メモリセル W1〜W3 ワード線 D1〜D3 ディジット線 Reference Signs List 1 X decoder 2 pulse generation circuit 3 address latch circuit 4 Y selector 5, 13 NAND gate 6, 10 to 12, 14 inverter 7 nMOS 8, 9 pMOS 15 to 17 nMOS M11 to M33 memory cell W1 to W3 word line D1 to D3 Digit wire
Claims (4)
から1つを選択するXデコーダと、アドレス選択の切り
換えタイミングに同期してパルスを発生するパルス発生
回路とを有し、アドレス選択信号が前記Xデコーダに到
達するよりも前に前記パルス発生回路の出力を前記Xデ
コーダへ送出することにより、選択されていたメモリセ
ルのワード線の電荷を放電することを特徴とする半導体
メモリ装置。1. An X decoder for selecting one of a plurality of word lines connected to a memory cell, and a pulse generating circuit for generating a pulse in synchronization with a switching timing of address selection, wherein an address selection signal is generated. A semiconductor memory device, wherein an output of the pulse generation circuit is sent to the X decoder before reaching the X decoder, thereby discharging a word line of a selected memory cell.
号と前記パルス発生回路の出力のNAND論理をとるN
ANDゲートを備えた請求項1記載の半導体メモリ装
置。2. The X decoder according to claim 1, wherein said address selection signal and NAND of an output of said pulse generation circuit are NAND.
2. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising an AND gate.
信号およびライトイネーブル信号に基いて前記パルスを
発生するNANDゲートを備えた請求項1記載の半導体
メモリ装置。3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said pulse generation circuit includes a NAND gate which generates said pulse based on an address latch signal and a write enable signal.
線の先端部は、それぞれ放電用のMOS素子を接続する
とともに、前記放電用のMOS素子のゲートにアドレス
ラッチ信号を反転して供給する請求項1記載の半導体メ
モリ装置。4. A method according to claim 1, wherein each of the leading ends of the word lines connected to the X decoder is connected to a discharging MOS element, and an inverted address latch signal is supplied to the gate of the discharging MOS element. Item 2. The semiconductor memory device according to item 1.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22891896A JPH1069793A (en) | 1996-08-29 | 1996-08-29 | Semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22891896A JPH1069793A (en) | 1996-08-29 | 1996-08-29 | Semiconductor memory device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1069793A true JPH1069793A (en) | 1998-03-10 |
Family
ID=16883901
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22891896A Pending JPH1069793A (en) | 1996-08-29 | 1996-08-29 | Semiconductor memory device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1069793A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001026115A1 (en) * | 1999-10-04 | 2001-04-12 | Seiko Epson Corporation | Semiconductor integrated circuit, ink cartridge having this semiconductor integrated circuit, and ink jet recording device mounted with this ink cartridge |
-
1996
- 1996-08-29 JP JP22891896A patent/JPH1069793A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001026115A1 (en) * | 1999-10-04 | 2001-04-12 | Seiko Epson Corporation | Semiconductor integrated circuit, ink cartridge having this semiconductor integrated circuit, and ink jet recording device mounted with this ink cartridge |
EP1156490A4 (en) * | 1999-10-04 | 2002-10-31 | Seiko Epson Corp | INTEGRATED SEMICONDUCTOR CIRCUIT, INK CARTRIDGE COMPRISING THIS INTEGRATED SEMICONDUCTOR CIRCUIT, AND INK JET RECORDING DEVICE WITH THIS INK CARTRIDGE |
US6487123B1 (en) | 1999-10-04 | 2002-11-26 | Seiko Epson Corp | Semiconductor integrated circuit, ink cartridge having the semiconductor integrated circuit, and inkjet recording device having the ink cartridge attached |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5825205A (en) | Level-shift circuit for driving word lines of negative gate erasable type flash memory | |
US6002620A (en) | Method and apparatus of column redundancy for non-volatile analog and multilevel memory | |
US5995413A (en) | Trimbit circuit for flash memory integrated circuits | |
US5724284A (en) | Multiple bits-per-cell flash shift register page buffer | |
JPH07326199A (en) | Source Programmable Nonvolatile Programmable Bistable Multivibrator for Memory Redundancy Circuits | |
US5914903A (en) | Semiconductor memory device | |
KR100387970B1 (en) | non volatile semiconductor memory | |
JPH0856149A (en) | Programmable logic array structure for nonvolatile memory ofsemiconductor,especially flash eprom | |
JP6588116B2 (en) | Level shifter | |
JP2000100179A (en) | Semiconductor memory device | |
KR100551666B1 (en) | Fuse Configuration for Low-Voltage Flash Memory | |
US20050213371A1 (en) | Method of operating semiconductor integrated circuit including SRAM block and semiconductor integrated circuit including SRAM block | |
KR20140139265A (en) | Block selection circuit and semiconductor device having the same | |
JP2886472B2 (en) | Integrated circuit memory with improved access time | |
KR100186277B1 (en) | Semiconductor memory device with a decoding peropheral circuit for improving the operation frequency | |
JP2003233996A (en) | Semiconductor memory device | |
US6208564B1 (en) | High voltage comparator | |
KR100465068B1 (en) | Pumping circuit | |
US7710806B2 (en) | Memory device and method for improving speed at which data is read from non-volatile memory | |
EP0572027B1 (en) | Semiconductor memory device with spare columns | |
JP4324422B2 (en) | Boost circuit | |
JPH1069793A (en) | Semiconductor memory device | |
JP2000182380A (en) | Semiconductor memory device | |
US20190325975A1 (en) | Nonvolatile memory apparatus and an operating method of a nonvolatile memory apparatus | |
JPH08185698A (en) | Semiconductor storage |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20000829 |