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JPH1064296A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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Publication number
JPH1064296A
JPH1064296A JP8235811A JP23581196A JPH1064296A JP H1064296 A JPH1064296 A JP H1064296A JP 8235811 A JP8235811 A JP 8235811A JP 23581196 A JP23581196 A JP 23581196A JP H1064296 A JPH1064296 A JP H1064296A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
memory cell
bit
bit line
type
arrangement
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP8235811A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3864353B2 (en
Inventor
Kiyotaka Okuzawa
清隆 奥沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Texas Instruments Japan Ltd
Original Assignee
Texas Instruments Japan Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Texas Instruments Japan Ltd filed Critical Texas Instruments Japan Ltd
Priority to JP23581196A priority Critical patent/JP3864353B2/en
Publication of JPH1064296A publication Critical patent/JPH1064296A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3864353B2 publication Critical patent/JP3864353B2/en
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  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Dram (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体メモリ装置において、データトポロジ
ーを簡単化し、かつ正規メモリセルの一部が冗長メモリ
セルで置換されても所期のメモリ試験を正しく行えるよ
うにする。 【解決手段】 このDRAMは、データトポロジー、1
/4ピッチ・ビットライン・コンタクト方式および冗長
回路を採用している。このDRAMにおいて、正規メモ
リセルアレイのツイスト部TWで区分される複数のブロ
ックA,B,C,Dの間では、それぞれの基本単位KA
,KB ,KC ,KD における反転型メモリセル●/非
反転型メモリセル○の配置分布のパターンが互いに独立
または相違していて、基本単位KA ,KB ,KC ,KD
内のデータトポロジーが互いに同一であるという関係が
成立している。
(57) Abstract: In a semiconductor memory device, a data topology is simplified, and an intended memory test can be correctly performed even when a part of a normal memory cell is replaced with a redundant memory cell. SOLUTION: This DRAM has a data topology, 1
A / 4 pitch bit line contact method and a redundant circuit are employed. In this DRAM, among a plurality of blocks A, B, C, and D divided by a twist portion TW of a normal memory cell array, each basic unit KA
, KB, KC, and KD, the pattern of the arrangement distribution of the inverting memory cell ● / non-inverting memory cell ○ is independent or different from each other, and the basic units KA, KB, KC, KD
A relationship is established that the data topologies within are the same.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0010】[0010]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体メモリ装置
に係り、特にランダムアクセスメモリ(RAM)のメモ
リセルアレイ構造に関する。
The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to a memory cell array structure of a random access memory (RAM).

【0020】[0020]

【従来の技術】一般に、ダイナミックRAM(DRA
M)のメモリセルアレイの内部は、複数本のワード線と
複数本のビット線対とがマトリクス状に交差し、各々の
ワード線と各々のビット線対のビット線もしくはビット
補線のいずれかとの交差位置にメモリセルが配置(接
続)される構成になっている。
2. Description of the Related Art Generally, a dynamic RAM (DRA)
In the memory cell array of M), a plurality of word lines and a plurality of bit line pairs intersect in a matrix, and each of the word lines and one of the bit lines of each of the bit line pairs or the bit complementary line. The memory cells are arranged (connected) at the intersection positions.

【0030】たとえば、図20に示す例では、各奇数番
目のワード線WL1 ,WL3 ,WL5 ,…と各ビット線
対のビット補線BLi-との交差位置付近に奇数列のメモ
リセルMCi,1 ,MCi,3 ,MCi,5 …が配置(接続)
され、各偶数番目のワード線WL0 ,WL2 ,WL4 …
と各ビット線対のビット線BLi との交差位置付近に偶
数列のメモリセルMCi,0 ,MCi,2 ,MCi,4 ,…が
配置(接続)される。
[0030] For example, in the example shown in FIG. 20, each odd-numbered word lines WL1, WL3, WL5, ... and the bits of each bit line pair Hosen BLi - and odd columns in the vicinity of intersections of the memory cell MCi, 1 , MCi, 3, MCi, 5… arranged (connected)
And the even-numbered word lines WL0, WL2, WL4,.
Are arranged (connected) in the vicinity of the intersection of the bit lines BLi of each bit line pair with the memory cells MCi, 0, MCi, 2, MCi, 4,.

【0040】各ビット線対BLi /BLi-は、各行(ま
たは各列)毎に設けられた1個の差動形センスアンプS
Ai に接続されている。各メモリセルMCi,j は1個の
トランジスタQi,j と1個のキャパシタCi,j とからな
る。このメモリセルMCi,jに接続されているワード線
WLj が活性化されると、トランジスタQi,j がオン
し、書込み時にはセンスアンプSAi よりビット線BL
i もしくはビット補線BLi-を介してキャパシタCi,j
に電位情報が書き込まれ、読出し時にはキャパシタCi,
j の電位情報(記憶情報)がビット線BLi もしくはビ
ット補線BLi-を介してセンスアンプSAi に入力され
るようになっている。
Each bit line pair BLi / BLi- is connected to one differential sense amplifier S provided for each row (or each column).
Ai. Each memory cell MCi, j is composed of one transistor Qi, j and one capacitor Ci, j. When the word line WLj connected to the memory cell MCi, j is activated, the transistor Qi, j turns on, and at the time of writing, the bit line BL is supplied from the sense amplifier SAi.
i or the capacitor Ci, j via the bit supplementary line BLi-
Potential information is written to the capacitor, and at the time of reading, the capacitor Ci,
The potential information (storage information) of j is input to the sense amplifier SAi via the bit line BLi or the bit auxiliary line BLi-.

【0050】ここで、ビット線BLi 側に接続されてい
る各メモリセルMCi+(図20の場合は偶数列のメモリ
セルMCi,2n)には、DRAMの外部からみた入出力デ
ータと同じ論理値でデータが格納される。
Here, each memory cell MCi + (the memory cell MCi, 2n in the even column in FIG. 20) connected to the bit line BLi side has the same logical value as the input / output data as viewed from outside the DRAM. Data is stored.

【0060】つまり、図21の(A)に模式的に示すよ
うに、DRAMの外部より入力された論理値“1”のデ
ータをビット線BLi 側に接続されている任意のメモリ
セルMCi+に格納する場合、該メモリセルMCi+には同
じ論理値“1”(Vccレベル)の電位情報が書き込まれ
る。そして、該メモリセルMCi+より読み出された論理
値“1”の記憶情報は、そのまま論理値“1”の読出し
データとしてDRAMの外部へ出力される。また、外部
より入力された論理値“0”のデータを該メモリセルM
Ci+に格納するときは、該メモリセルMCi+には同じ論
理値“0”(Vssレベル)の電位情報が書き込まれる。
そして、該メモリセルMCi+より読み出された論理値
“0”の記憶情報は、そのまま論理値“0”の読出しデ
ータとして外部へ出力される。
That is, as schematically shown in FIG. 21A, data of a logical value "1" input from outside the DRAM is stored in an arbitrary memory cell MCi + connected to the bit line BLi. In this case, the same logic value "1" (Vcc level) potential information is written to the memory cell MCi +. Then, the storage information of the logical value “1” read from the memory cell MCi + is directly output as read data of the logical value “1” to the outside of the DRAM. Further, data of a logical value “0” input from the outside is stored in the memory cell M
When stored in Ci +, the same logical value "0" (Vss level) potential information is written in the memory cell MCi +.
Then, the storage information of the logical value “0” read from the memory cell MCi + is directly output to the outside as read data of the logical value “0”.

【0070】一方、ビット補線BLi-側に接続されてい
る各メモリセルMCi-(図20の場合は奇数列のメモリ
セルMCi,2n+1)には、DRAMの外部からみた入出力
データとは逆(反転)の論理値でデータが格納される。
On the other hand, each memory cell MCi- (the memory cell MCi, 2n + 1 in the odd column in FIG. 20) connected to the bit auxiliary line BLi- side has input / output data as viewed from outside the DRAM. Is stored as an inverted (inverted) logical value.

【0080】つまり、図21の(B)に模式的に示すよ
うに、外部より入力された論理値“1”のデータをビッ
ト補線BLi-側に接続されている任意のメモリセルMC
i-に格納する場合、該メモリセルMCi-には入力データ
の論理値“1”を反転して論理値“0”(Vssレベル)
の電位情報が書き込まれる。この場合、該メモリセルM
Ci-より読み出された論理値“0”の記憶情報はDRA
M内で論理値“1”に戻してから、論理値“1”の読出
しデータとして外部へ出力される。同様に、外部からみ
て論理値“0”の入出力データを該メモリセルMCi-に
格納する場合、DRAM内部では反転した論理値“1”
のデータが該メモリセルMCi-に書き込まれる。
That is, as schematically shown in FIG. 21B, externally input data of logical value "1" is transferred to an arbitrary memory cell MC connected to the bit auxiliary line BLi-.
When the data is stored in i-, the memory cell MCi- inverts the logical value "1" of the input data to the logical value "0" (Vss level).
Is written. In this case, the memory cell M
The storage information of the logical value "0" read from Ci- is DRA
After returning to the logical value "1" in M, it is output to the outside as read data of the logical value "1". Similarly, when the input / output data of the logical value “0” is stored in the memory cell MCi− from the outside, the inverted logical value “1” is stored inside the DRAM.
Is written to the memory cell MCi-.

【0090】上記のように、DRAMでは、メモリセル
MCがビット線BLi 側に接続されているのかビット補
線BLi-側に接続されているのかによって、別な見方を
すれば個々のメモリアドレスの値によって、入出力デー
タの論理値と内部のメモリセルMCに格納されるデータ
の論理値とが同一であったり逆(反転)であったりす
る。このようにメモリアドレスの値に応じてデータの非
反転性/反転性が決まる仕組みは、データトポロジーと
かデータスクランブル等と称されている。
As described above, in the DRAM, from another viewpoint, depending on whether the memory cell MC is connected to the bit line BLi or the bit auxiliary line BLi-, the individual memory address of each memory address is different. Depending on the value, the logical value of the input / output data and the logical value of the data stored in the internal memory cell MC may be the same or opposite (inverted). The mechanism in which the non-inverting property / inverting property of data is determined according to the value of the memory address is called data topology or data scrambling.

【0100】ところで、最近のDRAMでは、メモリセ
ルアレイの集積度を高めるためのビット線配置構造とし
て、図22に示すように、各ビット線対を構成するビッ
ト線BLi とビット補線BLi-とのほぼ中間位置に隣の
ビット線対を構成するビット線およびビット補線のいず
れか片方(たとえばBLi+1)が配置され、図23に示す
ように、各ビット線またはビット補線上で隣り合うビッ
ト線コンタクト位置(たとえばBCi,c とBCi,c+1 )
のピッチをPとするとき、ビット線およびビット補線配
列方向(Y方向)において隣り合うビット線コンタクト
(たとえばBCi,c+1 とBCi+1,c+1 )の位置がビット
線またはビット補線と平行な方向でP/4だけずれるよ
うな、いわゆる1/4ピッチ・ビットライン・コンタク
ト方式が知られている。この方式のビット線配置構造で
は、通常の1/2ピッチ・ビットライン・コンタクト方
式よりも高密度で配線できるという利点がある。図23
において、MAi,c ,MAi,c+1,…は素子領域であり、
MCi,j-2 ,MCi,j …はメモリセルである。
By the way, in a recent DRAM, as shown in FIG. 22, as a bit line arrangement structure for increasing the degree of integration of a memory cell array, a bit line BLi and a bit auxiliary line BLi- forming each bit line pair are arranged as shown in FIG. Either one of the bit line and the bit supplementary line (for example, BLi + 1) constituting the adjacent bit line pair is arranged at a substantially intermediate position, and as shown in FIG. Line contact locations (eg BCi, c and BCi, c + 1)
Is P, the positions of bit line contacts (for example, BCi, c + 1 and BCi + 1, c + 1) adjacent in the bit line and bit complementary line arrangement direction (Y direction) are bit line or bit complementary. A so-called 1/4 pitch bit line contact method is known in which a shift is made by P / 4 in a direction parallel to the line. The bit line arrangement structure of this system has an advantage that wiring can be performed at a higher density than the normal 1/2 pitch bit line contact system. FIG.
, MAi, c, MAi, c + 1,... Are element regions,
MCi, j-2, MCi, j... Are memory cells.

【0110】しかし、DRAMのメモリセル・アレイに
おいては、互いに近接するビット線同士、ビット補線同
士またはビット線とビット補線は、寄生容量を介して互
いにカップリングされている。このため、ビット線また
はビット補線のセンシングの最中に、寄生容量を介して
近隣の他のビット線またはビット補線上の電位変化の影
響を受けると、センス不良(誤読み出し)を起こすおそ
れがある。
However, in a memory cell array of a DRAM, bit lines adjacent to each other, bit auxiliary lines, or bit lines and bit auxiliary lines are coupled to each other via a parasitic capacitance. For this reason, during the sensing of the bit line or the bit supplementary line, if it is affected by a potential change on another neighboring bit line or the bit supplementary line via the parasitic capacitance, a sense failure (erroneous read) may occur. is there.

【0120】そこで、上記した1/4ピッチ・ビットラ
イン・コンタクト方式では、図22に示すように、奇数
番目もしくは偶数番目(図22では偶数番目)の各ビッ
ト線対を構成するビット線(たとえばBL0 )とビット
補線(たとえばBL0-)とが線の長さ方向のほぼ中間位
置にて1回捻って互いに位置を替えるようなツイスト構
造を採るのが通例になっている。このツイスト構造によ
れば、任意のビット線対(ビット線/ビット補線)に対
して、付近の他のビット線またはビット補線の間隔がツ
イスト部TWの両側で対称になるため、寄生容量が平衡
する。したがって、この付近の他のビット線またはビッ
ト補線上で電位が変化した時に寄生容量を介して当該ビ
ット線対のビット線とビット補線に与えられる影響は互
いに等しく、キャンセルされる。
Therefore, in the above-described 1/4 pitch bit line contact method, as shown in FIG. 22, bit lines (for example, odd-numbered or even-numbered (even-numbered in FIG. 22)) constituting each bit line pair (for example, as shown in FIG. 22). It is customary to adopt a twist structure in which the bit line BL0) and the bit supplementary line (for example, BL0-) are twisted once at a substantially middle position in the length direction of the line to change their positions. According to this twisted structure, the spacing between other bit lines or bit supplementary lines in the vicinity is symmetrical on an arbitrary bit line pair (bit line / bit supplementary line) on both sides of the twisted portion TW, so that the parasitic capacitance Are balanced. Therefore, when the potential changes on another bit line or bit supplementary line in the vicinity, the effects on the bit line and the bit supplementary line of the bit line pair via the parasitic capacitance are equal to each other and canceled.

【0130】また、殆どのDRAMでは、正規のメモリ
セルアレイに数本の冗長行または列(冗長メモリセルア
レイ)を加えて、正規メモリセルアレイ内の欠陥(不
良)メモリセルまたは欠陥ワード線等を含む1単位の行
または列を冗長メモリセルアレイで置き換える冗長回路
を備えている。
In most DRAMs, several redundant rows or columns (redundant memory cell arrays) are added to a normal memory cell array to include defective (defective) memory cells or defective word lines in the normal memory cell array. A redundant circuit for replacing a unit row or column with a redundant memory cell array is provided.

【0140】図24に、上記のようなデータトポロジ
ー、1/4ピッチ・ビットライン・コンタクト方式およ
び冗長回路を採用する従来のDRAMの要部の構成を示
す。
FIG. 24 shows a configuration of a main part of a conventional DRAM employing the above data topology, 1/4 pitch bit line contact system and redundant circuit.

【0150】このDRAMでは、メモリセルアレイの中
心部に多数のセンスアンプSA0 ,SA1 ,SA2 ,…
がY方向一列に配置され、その両側にメモリセルアレイ
が展開されている。
In this DRAM, a large number of sense amplifiers SA0, SA1, SA2,...
Are arranged in a line in the Y direction, and memory cell arrays are developed on both sides thereof.

【0160】各センスアンプSAi (i=0,1,2,
…)から左右両側にそれぞれ一対のビット線対BLi /
BLi-が延びている。そして、多数(この例では512
本)のワード線WL0 〜WL511 が各ビット線対BLi
/BLi-と直交して交差し、各ワード線WLj (j=
0,1,…511)と各ビット線対BLi /BLi-のビ
ット線BLi もしくはビット補線BLi-のいずれかとの
交差位置付近にメモリセルMCi,j が配置(接続)され
ている。
Each sense amplifier SAi (i = 0, 1, 2, 2)
...), a pair of bit lines BLi /
BLi- is extended. And a large number (512 in this example)
) Are connected to each bit line pair BLi.
/ BLi- and intersect orthogonally, and each word line WLj (j =
511) and a memory cell MCi, j is arranged (connected) near the intersection of each bit line pair BLi / BLi- with either the bit line BLi or the bit auxiliary line BLi-.

【0170】センスアンプ・バンクの左側のメモリセル
アレイ領域では、偶数番目の各ビット線対BL0 /BL
0-,BL2 /BL2-,…においてビット線BL0 ,BL
2 ,…とビット補線BL0-,BL2-,…とがビット線中
間部付近に設定されたツイスト箇所TWで捻って互いに
位置を替えており、このツイスト箇所TWによって左側
の正規メモリアレイ部はメモリセル配置のレイアウトに
関して2つのブロックA,Bに区分されている。
In the memory cell array area on the left side of the sense amplifier bank, each even-numbered bit line pair BL0 / BL
0-, BL2 / BL2-, ..., bit lines BL0, BL
,... And the bit supplementary lines BL0-, BL2-,... Are twisted at the twisted point TW set near the bit line intermediate part to change their positions. The memory cell layout is divided into two blocks A and B.

【0180】また、センスアンプ・バンクの右側のメモ
リセルアレイ領域でも、同様に偶数番目の各ビット線対
BL0 /BL0-,BL2 /BL2-,…においてビット線
BL0 ,BL2 ,…とビット補線BL0-,BL2-,…と
がビット線中間部付近に設定されたツイスト箇所TWで
捻って互いに位置を替えており、このツイスト箇所TW
によって右側の正規メモリアレイ部はメモリセル配置の
レイアウトに関して2つのブロックC,Dに区分されて
いる。
Similarly, in the memory cell array area on the right side of the sense amplifier bank, bit lines BL0, BL2,... And bit auxiliary lines BL0 in even-numbered bit line pairs BL0 / BL0-, BL2 / BL2-,. , BL2-,... Are twisted at a twisted portion TW set near the bit line intermediate portion to exchange positions with each other.
The right normal memory array section is divided into two blocks C and D with respect to the layout of the memory cell arrangement.

【0190】なお、奇数番目の各ビット線対BL1 /B
L1-,BL3 /BL3-,…においてビット線BL1 ,B
L3 ,…とビット補線BL1-,BL3-,…とが各対応セ
ンスアンプSA1 ,SA3 ,…の内部に設定されたツイ
スト箇所TWで捻って互いに位置を替えている。また、
偶数番目の各ビット線対BL0 /BL0-,BL2 /BL
2-,…の内のビット補線BL0-,BL2-,…と次隣の奇
数番目の各ビット線対BL1 /BL1-,BL3 /BL3
-,…の内のビット線BL1 ,BL3 ,…とが各対応セ
ンスアンプ(SA0 ,SA1 ),(SA2 ,SA3 ),
…と内側ブロックB,Cとの間に設定されたツイスト箇
所TWで捻って互いに位置を替えている。
The odd-numbered bit line pairs BL1 / B
In L1-, BL3 / BL3-, ..., bit lines BL1, B
L3,... And bit supplementary lines BL1-, BL3-,... Are twisted at twist locations TW set inside corresponding sense amplifiers SA1, SA3,. Also,
Even-numbered bit line pairs BL0 / BL0-, BL2 / BL
, And the next odd-numbered bit line pairs BL1 / BL1-, BL3 / BL3.
Among the corresponding sense amplifiers (SA0, SA1), (SA2, SA3),
And twist positions TW set between the inner blocks B and C to change the positions.

【0200】このように、このDRAMでは、正規メモ
リアレイが4つのブロックA,B,C,Dに区分されて
いる。そして、右端ブロックDの隣(延長上)に冗長メ
モリセルアレイのブロックRが設けられている。
As described above, in this DRAM, the normal memory array is divided into four blocks A, B, C, and D. A block R of the redundant memory cell array is provided next to (on an extension of) the right end block D.

【0210】正規メモリセルアレイにおいて、ブロック
Aでは、升形の枠KA で示すようなメモリセル配置の基
本単位がX,Y方向に繰り返し(升目に)配置されてい
る。同様に、他のブロックB,C,Dでは、それぞれ升
形の枠KB ,KC ,KD で示すようなメモリセル配置の
基本単位がX,Y方向に繰り返し(升目に)配置されて
いる。冗長メモリセルアレイのブロックRでは、升形の
枠KR で示すようなメモリセル配置の基本単位がY方向
に繰り返し配置されている。
In the normal memory cell array, in the block A, the basic unit of the memory cell arrangement as shown by the square frame KA is repeatedly arranged in the X and Y directions (squares). Similarly, in the other blocks B, C, and D, the basic units of the memory cell arrangement as shown by the square frames KB, KC, and KD are repeatedly arranged in the X and Y directions (squares). In the block R of the redundant memory cell array, the basic unit of the memory cell arrangement as shown by a square frame KR is repeatedly arranged in the Y direction.

【0220】図24において、○は図10の(A)のメ
モリセルMCi+に相当する非反転型メモリセルであり、
●は図10の(B)のメモリセルMCi-に相当する反転
型メモリセルである。
In FIG. 24, .largecircle. Indicates a non-inverted memory cell corresponding to the memory cell MCi + in FIG.
● is an inverted memory cell corresponding to the memory cell MCi- in FIG. 10B.

【0230】図25〜29に、各ブロックA,B,C,
D,Rにおけるメモリセル配置の基本単位KA ,KB ,
KC ,KD ,KR 内のメモリセル配置分布を示す。図示
のように、正規メモリセルアレイ内のブロックA,B,
C,D間では、メモリセル配置の基本単位KA ,KB ,
KC ,KD 内のメモリセル配置分布のパターンまたはレ
イアウトが相違している。冗長ブロックRのメモリセル
配置の基本単位KR はブロックDのメモリセル配置の基
本単位KD と同一のパターンである。
FIGS. 25 to 29 show the respective blocks A, B, C,
Basic units KA, KB,
The distribution of the memory cells in KC, KD and KR is shown. As shown, blocks A, B,
Between C and D, basic units KA, KB,
The patterns or layouts of the memory cell arrangement distributions in KC and KD are different. The basic unit KR of the memory cell arrangement of the redundant block R has the same pattern as the basic unit KD of the memory cell arrangement of the block D.

【0240】図30に、全ブロックにおける反転条件の
データトポロジーを示す。このDRAMにおいて、個々
の反転型メモリセル(●)の配置されている場所(メモ
リアドレス)は、各ブロックA,B,C,Dを識別する
Xアドレス信号の最上位2ビット(X8 ,X7 )と、各
メモリセル配置の基本単位K内の4本のワード線WLの
個々(順位)を識別するXアドレス信号の最下位2ビッ
ト(X1 ,X0 )と、各メモリセル配置の基本単位K内
の偶数番目のビット線対BL2n/BL2n- と奇数番目の
ビット線対BL2n+1/BL(2n+1)- とを識別するYアド
レス信号の最下位ビット(Y0 )とで規定または特定さ
れる。すなわち、反転条件は次の式(1)で表される。
FIG. 30 shows the data topology of the inversion condition in all blocks. In this DRAM, the location (memory address) where each inversion type memory cell (●) is located is the most significant two bits (X8, X7) of the X address signal for identifying each of the blocks A, B, C, D. And the least significant two bits (X1, X0) of the X address signal for identifying each (order) of the four word lines WL in the basic unit K of each memory cell arrangement, and in the basic unit K of each memory cell arrangement. Is defined or specified by the least significant bit (Y0) of the Y address signal for identifying the even-numbered bit line pair BL2n / BL2n- and the odd-numbered bit line pair BL2n + 1 / BL (2n + 1)-. . That is, the inversion condition is expressed by the following equation (1).

【0250】 反転条件=[(X1 ◆X7 )◆X8 ]- ※Y0- +[(X0 ◆X1)- ◆X8 ]※Y0 ………(1) ここで、- は否定(反転)、+は論理和、※は論理積、
◆は排他的論理和を表す。
[0250] inversion conditions = [(X1 ◆ X7) ◆ X8] - ※ Y0 - + [(X0 ◆ X1) - ◆ X8] ※ Y0 ......... (1) where, - is negative (inverted), + is Logical sum, * is logical product,
◆ represents exclusive OR.

【0260】メモリセルアレイ内の任意のメモリセルに
ついて書込み/読出しのアクセスが行われるときは、上
記データトポロジーを参照して、そのメモリセルが非反
転型メモリセルなのか反転型メモリセルなのかを判別
し、図21に示すようなデータ性(非反転/反転)の制
御を行うことができる。
When write / read access is performed for an arbitrary memory cell in the memory cell array, it is determined whether the memory cell is a non-inverted memory cell or an inverted memory cell by referring to the data topology. However, control of data characteristics (non-inversion / inversion) as shown in FIG. 21 can be performed.

【0270】また、正規メモリセルアレイ内の任意のブ
ロックたとえばブロックAに欠陥セルまたはワード線が
存在し、その欠陥部を含むワード線4本分の領域が冗長
メモリセルアレイのブロックRで置換されたときでも、
冗長ブロックRへのアクセスがある度毎に上記データト
ポロジーを参照することで、図21に示すようなデータ
性(非反転/反転)の制御を行うことができる。
When a defective cell or word line exists in an arbitrary block in the normal memory cell array, for example, block A, and a region corresponding to four word lines including the defective portion is replaced by block R in the redundant memory cell array. But
The data property (non-inverted / inverted) as shown in FIG. 21 can be controlled by referring to the data topology every time the redundant block R is accessed.

【0280】[0280]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
たような従来のDRAMでは、正規メモリセルアレイ内
のブロックA,B,C,D間でデータトポロジーが相違
し、反転条件(1)も複雑であり、それだけデータ性制
御のための回路も大規模化する。
However, in the conventional DRAM as described above, the data topology differs between the blocks A, B, C, and D in the normal memory cell array, and the inversion condition (1) is complicated. Accordingly, the scale of the circuit for controlling the data characteristics also increases.

【0290】また、冗長ブロックRがそれとデータトポ
ロジーの異なるブロックA,BまたはCの一部領域と置
き換わった場合、有用なメモリ試験が事実上行えなくな
るという不具合がある。
Further, when the redundant block R is replaced with a partial area of the block A, B or C having a different data topology from that of the redundant block R, a useful memory test cannot be performed effectively.

【0300】すなわち、或るメモリ試験では、個々のメ
モリセルの物理的特性を検査するため、非反転型メモリ
セルだけでなく反転型メモリセルに対しても一律に物理
的かつ論理的に同じ値のデータを格納することがある。
この場合、試験装置(メモリテスタ)は、上記のような
データトポロジーを参照して個々のメモリセルにアクセ
スし、反転型メモリセルに対しては通常のメモリアクセ
スとは逆のデータ性制御を行う。つまり、外部からみて
たとえば論理値“1”のデータを反転型メモリセルに格
納する場合には、論理値“0”のデータを書き込むこと
になる。
That is, in a certain memory test, in order to inspect the physical characteristics of each memory cell, not only the non-inverted memory cells but also the inverted memory cells have the same physical and logical values. May be stored.
In this case, the test apparatus (memory tester) accesses each memory cell with reference to the data topology as described above, and performs data property control on the inverted memory cell, which is opposite to the normal memory access. . That is, when, for example, data having a logical value “1” is stored in an inversion type memory cell from the outside, data having a logical value “0” is written.

【0310】しかし、たとえばブロックAの一部領域が
冗長ブロックRで置換されている場合、試験装置にはそ
のことが判らない。したがって、ブロックAの該領域内
のメモリセルにアクセスする場合でも、ブロックAに対
するデータトポロジーを参照して上記のようなテスト用
のデータ性制御を行う。ところが、実際にはデータトポ
ロジーの異なる冗長ブロックRに置き換わっているの
で、間違ったデータ性制御が行われる結果となる。この
ため、所期のメモリ試験が実施不能となる。
However, when a partial area of block A is replaced with redundant block R, for example, the test apparatus does not know that. Therefore, even when a memory cell in the area of the block A is accessed, the data property control for the test as described above is performed with reference to the data topology for the block A. However, since the data is actually replaced with a redundant block R having a different data topology, erroneous data property control is performed. Therefore, the intended memory test cannot be performed.

【0320】本発明は、かかる問題点に鑑みてなされた
もので、データトポロジーを簡単化し、かつ正規メモリ
セルの一部が冗長メモリセルで置換されても所期のメモ
リ試験を正しく行えるようにした半導体メモリ装置を提
供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and simplifies the data topology, and enables a desired memory test to be correctly performed even when a part of normal memory cells is replaced with a redundant memory cell. It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device according to the above.

【0330】[0330]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の第1の半導体メモリ装置は、複数本のワ
ード線と複数本のビット線対とがマトリクス状に交差
し、各々の前記ワード線と各々の前記ビット線対のビッ
ト線もしくはビット補線のいずれかとの交差位置付近に
メモリセルが配置され、前記ビット線に接続される第1
型のメモリセルには第1の論理でデータが格納され、前
記ビット補線に接続される第2型のメモリセルには前記
第1の論理とは逆の第2の論理でデータが格納され、全
部または一部の前記ビット線対のビット線とビット補線
とが所定のツイスト箇所で捻って互いに位置を替え、メ
モリセル配置の基本単位において各々の前記ワード線の
アドレス順位からみた前記第1型および第2型のメモリ
セルの配置分布が前記ツイスト箇所で区分される複数の
ブロック間で同一であるメモリセルアレイを有する構成
とした。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device comprising: a plurality of word lines and a plurality of bit line pairs intersecting in a matrix; A memory cell is arranged near the intersection of the word line and either the bit line or the bit complement of each of the bit line pairs, and a first cell connected to the bit line is provided.
Type memory cells store data with a first logic, and second type memory cells connected to the bit complements store data with a second logic opposite to the first logic. The bit lines and bit auxiliary lines of all or some of the bit line pairs are twisted at predetermined twist locations to change positions with each other, and in the basic unit of the memory cell arrangement, the bit line and the bit auxiliary line are viewed from the address order of each of the word lines. The configuration has a memory cell array in which the arrangement distribution of the type 1 and type 2 memory cells is the same among a plurality of blocks divided at the twist location.

【0340】本発明の第2の半導体メモリ装置は、複数
本の正規ワード線と複数本のビット線対とがマトリクス
状に交差し、各々の前記正規ワード線と各々の前記ビッ
ト線対のビット線もしくはビット補線のいずれかとの交
差位置付近にメモリセルが配置され、前記ビット線に接
続される第1型のメモリセルには第1の論理でデータが
格納され、前記ビット補線に接続される第2型のメモリ
セルには前記第1の論理とは逆の第2の論理でデータが
格納され、全部または一部の前記ビット線対のビット線
とビット補線とが所定のツイスト箇所で捻って互いに位
置を替え、メモリセル配置の基本単位において各々の前
記正規ワード線のアドレス順位からみた前記第1型およ
び第2型のメモリセルの配置分布が前記ツイスト箇所で
区分される複数のブロック間で同一である正規メモリセ
ルアレイと、複数本の冗長ワード線と前記複数本のビッ
ト線対とがマトリクス状に交差し、各々の前記冗長ワー
ド線と各々の前記ビット線対のビット線もしくはビット
補線のいずれかとの交差位置付近に1つの冗長メモリセ
ルが接続され、前記ビット線に接続される第1型の冗長
メモリセルには前記第1の論理でデータが格納され、前
記ビット補線に接続される第2型の冗長メモリセルには
前記第2の論理でデータが格納され、メモリセル配置の
基本単位において各々の前記冗長ワード線のアドレス順
位からみた前記第1型および第2型の冗長メモリセルの
配置分布が前記正規メモリセルアレイの各ブロックのメ
モリセル配置の基本単位における前記メモリセルの配置
関係と同一である冗長メモリセルアレイとを有する構成
とした。
According to the second semiconductor memory device of the present invention, a plurality of normal word lines and a plurality of bit line pairs intersect in a matrix, and each of the normal word lines and the bit of each of the bit line pairs. A memory cell is arranged near an intersection with either a line or a bit auxiliary line, data is stored in a first type of memory cell connected to the bit line with a first logic, and connected to the bit auxiliary line. In the memory cell of the second type, data is stored in a second logic opposite to the first logic, and all or a part of the bit line pair and the bit complementary line have a predetermined twist. A plurality of locations where the layout distribution of the first and second type memory cells as viewed from the address order of each of the normal word lines in the basic unit of memory cell layout is divided by the twist location. of A normal memory cell array that is the same between locks, a plurality of redundant word lines and the plurality of bit line pairs intersect in a matrix, and each of the redundant word lines and the bit line of each of the bit line pairs or One redundant memory cell is connected near the intersection with any of the bit complement lines, and data of the first logic is stored in the first type of redundant memory cell connected to the bit line. Data is stored in the second type of redundant memory cell connected to the line by the second logic, and the first type and the second type are viewed from the address order of each of the redundant word lines in the basic unit of the memory cell arrangement. Memory cell array in which the arrangement distribution of redundant memory cells of the same type is the same as the arrangement relationship of the memory cells in the basic unit of the memory cell arrangement of each block of the normal memory cell array. It was configured to have and stomach.

【0350】本発明の第3の半導体メモリ装置は、上記
第1または第2の装置において、前記メモリセル配置の
基本単位において前記ワード線のアドレス順位からみた
各ワード線の配列順序は前記複数のブロック間で同一で
あり、前記メモリセル配置の基本単位における前記第1
型および第2型のメモリセルの配置分布が前記複数のブ
ロック間で独立している構成とした。
The third semiconductor memory device of the present invention is the first or second device, wherein the arrangement order of each word line in the basic unit of the memory cell arrangement is the plurality of word lines as viewed from the address order of the word lines. The first block in the basic unit of the memory cell arrangement
The arrangement distribution of the type and the second type of memory cells is independent among the plurality of blocks.

【0360】本発明の第4の半導体メモリ装置は、上記
第1または第2の装置において、前記メモリセル配置の
基本単位における前記第1型および第2型のメモリセル
の配置分布は前記複数のブロック間で同一であり、前記
メモリセル配置の基本単位において前記ワード線のアド
レス順位からみた各ワード線の配列順序が前記複数のブ
ロック間で独立している構成とした。
In a fourth semiconductor memory device according to the present invention, in the first or second device, the arrangement distribution of the first-type and second-type memory cells in a basic unit of the memory cell arrangement is the plurality of memory cells. The configuration is the same between the blocks, and the arrangement order of the word lines in the basic unit of the memory cell arrangement is independent among the plurality of blocks as viewed from the address order of the word lines.

【0370】本発明の第5の半導体メモリ装置は、複数
本のワード線と複数本のビット線対とがマトリクス状に
交差し、各々の前記ワード線と各々の前記ビット線対の
ビット線もしくはビット補線のいずれかとの交差位置付
近に1つのメモリセルが配置され、前記ビット線に接続
される第1型のメモリセルには第1の論理でデータが格
納され、前記ビット補線に接続される第2型のメモリセ
ルには前記第1の論理とは逆の第2の論理でデータが格
納され、前記第1型のメモリセルと前記第2型のメモリ
セルとの配置分布が同一であるメモリセル配置基本単位
が複数個繰り返して配置されているメモリアレイを有
し、各々の前記メモリセル配置基本単位における前記ワ
ード線のアドレス順位からみた各ワード線の配列順序が
同一である構成とした。
In the fifth semiconductor memory device of the present invention, a plurality of word lines and a plurality of bit line pairs intersect in a matrix, and each of the word lines and the bit line of each of the bit line pairs. One memory cell is arranged near an intersection with any of the bit auxiliary lines, data is stored in a first type of memory cell connected to the bit line by a first logic, and connected to the bit auxiliary line. In the second type memory cell, data is stored in a second logic opposite to the first logic, and the arrangement distribution of the first type memory cell and the second type memory cell is the same. A memory array in which a plurality of memory cell arrangement basic units are repeatedly arranged, and the arrangement order of each word line in each memory cell arrangement basic unit is the same as viewed from the address order of the word lines. age .

【0380】[0380]

【発明の実施の形態】以下、図1〜図19を参照して本
発明の実施例を説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

【0390】先ず、図1〜図12につき本発明の第1の
実施例を説明する。
First, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0400】図1〜図7に、本発明の一実施例によるD
RAMの構成を示す。図1は、このDRAMの要部の全
体構成を示す。図2は図1中の正規メモリセルアレイの
左半分のメモリセル配置分布を詳細に示し、図3は図1
中の正規メモリセルアレイの右半分のメモリセル配置分
布を詳細に示す。図4〜図7は正規メモリセル内の各ブ
ロックにおけるメモリルセル配置のレイアウトを示す。
図中、○は非反転型メモリセル(MC+)を示し、●は反
転型メモリセル(MC-)を示す。
FIGS. 1 to 7 show D according to an embodiment of the present invention.
2 shows a configuration of a RAM. FIG. 1 shows an entire configuration of a main part of the DRAM. FIG. 2 shows the memory cell arrangement distribution of the left half of the normal memory cell array in FIG. 1 in detail, and FIG.
The memory cell arrangement distribution in the right half of the normal memory cell array in the middle is shown in detail. 4 to 7 show layouts of memorial cell arrangement in each block in a normal memory cell.
In the figure, ○ indicates a non-inverted memory cell (MC +), and ● indicates an inverted memory cell (MC-).

【0410】この実施例のDRAMは、データトポロジ
ー、1/4ピッチ・ビットライン・コンタクト方式およ
び冗長回路を採用している。このDRAMにおいて、セ
ンスアンプSA0 ,SA1 ,SA2 ,…、ビット線対B
L0 /BL0-,BL1 /BL1-,BL2 /BL2-,…お
よびワード線(正規ワード線WL0 〜WL511 ,冗長ワ
ード線RW0 〜RW3 )のそれぞれの配列構成は、上記
した従来(図24)のDRAMと共通している。ビット
線対BL0 /BL0-,BL1 /BL1-,BL2/BL2
-,…におけるツイスト箇所TWの位置も、上記従来
(図24)のDRAMと同じである。
The DRAM of this embodiment employs a data topology, a 1/4 pitch bit line contact system, and a redundant circuit. In this DRAM, sense amplifiers SA0, SA1, SA2,...
.. And the word lines (normal word lines WL0 to WL511, redundant word lines RW0 to RW3) are arranged in the above-described conventional DRAM (FIG. 24), and the arrangement of L0 / BL0-, BL1 / BL1-, BL2 / BL2-,. And in common. Bit line pair BL0 / BL0-, BL1 / BL1-, BL2 / BL2
-,... Are the same as those of the conventional DRAM (FIG. 24).

【0420】Xアドレス・デコーダ10は、メモリアク
セス時に、次のようにして512本のワード線WL0 〜
WL511 のうちのいずれか1つを選択する。Xアドレス
・デコーダ10内の上位デコーダ部XDHは、Xアドレ
ス信号X0-8 の上位7ビットX2-8 に対応する上位プリ
・デコード信号XFH0-15に応じて、下位デコーダ部X
DL0 ,XDL1 ,…XDL127 のうちのいずれか1つ
にワード線駆動信号を与える。このワード線駆動信号
は、その選択された下位デコーダ部XDLn に含まれて
いる4個のアンドゲート(G0 ,G1 ,G2 ,G3 )の
うちのいずれか1つ、すなわちXアドレス信号X0-8 の
下位2ビットX0-1 に対応する4ビットの下位プリ・デ
コード信号XFL0-3 でイネーブル状態となるいずれか
1つのアンドゲート(たとえばG1)を介して、ワード線
WLj に供給される。
At the time of memory access, X address decoder 10 operates as follows for 512 word lines WL0 to WL0.
One of WL511 is selected. The upper decoder section XDH in the X address decoder 10 receives the lower predecode signal XFH0-15 corresponding to the upper 7 bits X2-8 of the X address signal X0-8 and outputs the lower decoder section XDH.
A word line drive signal is applied to one of DL0, XDL1,... XDL127. This word line drive signal is applied to one of the four AND gates (G0, G1, G2, G3) included in the selected lower decoder section XDLn, that is, the X address signal X0-8. It is supplied to the word line WLj via any one AND gate (for example, G1) which is enabled by the 4-bit lower pre-decode signal XFL0-3 corresponding to the lower 2 bits X0-1.

【0430】もっとも、正規メモリセルアレイ内の任意
のブロックたとえばブロックAに欠陥セルまたはワード
線が存在し、その欠陥部を含むワード線4本分の領域が
冗長メモリセルアレイのブロックRで置換された場合
で、メモリアドレスがブロックAの該被置換領域を指定
するときは、冗長回路のアドレスデコーダ(図示せず)
より一致信号DSが発生されることにより、上位デコー
ダ部XDHはワード線駆動信号の出力を中止する。代わ
って、冗長回路からのワード線駆動信号REDが冗長ブ
ロック用の下位デコーダ部XDRに供給され、4本の冗
長ワード線RW0〜RW3 のうちのいずれか1つが選択
される。
However, when a defective cell or word line exists in an arbitrary block in the normal memory cell array, for example, block A, and a region corresponding to four word lines including the defective portion is replaced by block R in the redundant memory cell array. When the memory address specifies the area to be replaced in the block A, an address decoder (not shown) of the redundant circuit
When the match signal DS is generated, the upper decoder unit XDH stops outputting the word line drive signal. Instead, the word line drive signal RED from the redundancy circuit is supplied to the lower order block XDR for the redundancy block, and one of the four redundancy word lines RW0 to RW3 is selected.

【0440】各センスアンプSA0 ,SA1 ,SA2 ,
…は、層間絶縁膜を介してビット線対の上にそれらと平
行に配線されているYセレクト線(図示せず)を介して
Yアドレス・デコーダ(図示せず)に接続されている。
Each sense amplifier SA0, SA1, SA2,
Are connected to a Y address decoder (not shown) via a Y select line (not shown) which is wired in parallel with the bit line pair via an interlayer insulating film.

【0450】このDRAMにおいて、個々のメモリセル
に対するデータの書き込み/読み出しの動作は通常の仕
方で行われる。
In this DRAM, the operation of writing / reading data to / from individual memory cells is performed in a usual manner.

【0460】このDRAMの特徴とする点は、メモリセ
ルアレイの各ブロックA,B,C,D,Rにおける基本
単位KA ,KB ,KC ,KD ,KR 内のメモリセル配置
分布のパターンである。
The feature of this DRAM is the pattern of the memory cell arrangement distribution in the basic units KA, KB, KC, KD, and KR in each of the blocks A, B, C, D, and R of the memory cell array.

【0470】図8に、ブロックAにおける基本単位KA
内のメモリセル配置分布のパターンを模式的に示す。こ
の基本単位KA 内では、連続する2組(偶数番目および
奇数番目)のビット線対BL2n/BL2n- ,BL2n+1/
BL(2n+1)- がY方向にBL2n,BL2n+1,BL2n- ,
BL(2n+1)- の順で配置されるとともに、連続する4本
のワード線WLa ,WLa+1 ,WLa+2 ,WLa+3 (a
=0,4,8,…124)がX方向にこの順で配置されている。
FIG. 8 shows the basic unit KA in the block A.
1 schematically shows a pattern of a memory cell arrangement distribution in a cell. In this basic unit KA, two pairs (even and odd) of pairs of bit lines BL2n / BL2n- and BL2n + 1 /
BL (2n + 1)-in the Y direction is BL2n, BL2n + 1, BL2n-,
BL (2n + 1)-and four consecutive word lines WLa, WLa + 1, WLa + 2, WLa + 3 (a
.., 124) are arranged in this order in the X direction.

【0480】偶数番目のビット線対BL2n/BL2n- に
着目すると、ビット補線BL2n- と第1および第2順位
のワード線WLa ,WLa+1 との各交差位置に反転型メ
モリセル●が配置され、ビット線BL2nと第3および第
4順位のワード線WLa+2 ,WLa+3 との各交差位置に
非反転型メモリセル○が配置されている。
Focusing on even-numbered bit line pairs BL2n / BL2n-, inverted memory cells are arranged at the respective intersections between bit auxiliary lines BL2n- and first and second order word lines WLa, WLa + 1. A non-inverted memory cell O is arranged at each intersection between the bit line BL2n and the third and fourth word lines WLa + 2, WLa + 3.

【0490】また、奇数番目のビット線対BL2n+1/B
L(2n+1)- に着目すると、ビット補線BL(2n+1)- と第
1および第4順位のワード線WLa ,WLa+3 との各交
差位置に反転型メモリセル●が配置され、ビット線BL
2n+1と第2および第3順位のワード線WLa+1 ,WLa+
2 との各交差位置に非反転型メモリセル○が配置されて
いる。
The odd-numbered bit line pair BL2n + 1 / B
Focusing on L (2n + 1)-, an inverted memory cell ● is arranged at each intersection of the bit auxiliary line BL (2n + 1)-and the first and fourth order word lines WLa, WLa + 3. , Bit line BL
2n + 1 and the second and third order word lines WLa + 1, WLa +
2, a non-inverting type memory cell ○ is arranged.

【0500】図9に、ブロックBにおける基本単位KB
内のメモリセル配置分布のパターンを模式的に示す。こ
の基本単位KB 内では、連続する2組(偶数番目および
奇数番目)のビット線対BL2n/BL2n- ,BL2n+1/
BL(2n+1)- がY方向にBL2n- ,BL2n+1,BL2n,
BL(2n+1)- の順で配置されるとともに、連続する4本
のワード線WLb ,WLb+1 ,WLb+2 ,WLb+3 (b
=128,132,…252)がX方向にこの順で配置されている。
FIG. 9 shows the basic unit KB in the block B.
1 schematically shows a pattern of a memory cell arrangement distribution in a cell. In this basic unit KB, two consecutive (even and odd) bit line pairs BL2n / BL2n- and BL2n + 1 /
BL (2n + 1)-is BL2n-, BL2n + 1, BL2n,
BL (2n + 1)-and four consecutive word lines WLb, WLb + 1, WLb + 2, WLb + 3 (b
. = 252) are arranged in this order in the X direction.

【0510】この基本単位KB 内でも、偶数番目のビッ
ト線対BL2n/BL2n- に着目すると、ビット補線BL
2n- と第1および第2順位のワード線WLb ,WLb+1
との各交差位置に反転型メモリセル●が配置され、ビッ
ト線BL2nと第3および第4順位のワード線WLb+2 ,
WLb+3 との各交差位置に非反転型メモリセル○が配置
されている。
In this basic unit KB, if attention is paid to the even-numbered bit line pair BL2n / BL2n-, the bit complementary line BL2
2n− and first and second order word lines WLb, WLb + 1
Memory cell ● is arranged at each intersection with the bit line BL2n and the third and fourth order word lines WLb + 2,
A non-inverted memory cell O is arranged at each intersection with WLb + 3.

【0520】また、奇数番目のビット線対BL2n+1/B
L(2n+1)- に着目すると、ビット補線BL(2n+1)- と第
1および第4順位のワード線WLb ,WLb+3 との各交
差位置に反転型メモリセル●が配置され、ビット線BL
2n+1と第2および第3順位のワード線WLb+1 ,WLb+
2 との各交差位置に非反転型メモリセル○が配置されて
いる。
Also, the odd-numbered bit line pair BL2n + 1 / B
Focusing on L (2n + 1)-, an inverted memory cell ● is arranged at each intersection between the bit auxiliary line BL (2n + 1)-and the first and fourth order word lines WLb and WLb + 3. , Bit line BL
2n + 1 and second and third order word lines WLb + 1, WLb +
2, a non-inverting type memory cell ○ is arranged.

【0530】図10に、ブロックCにおける基本単位K
C 内のメモリセル配置分布のパターンを模式的に示す。
この基本単位KC 内では、連続する2組(偶数番目およ
び奇数番目)のビット線対BL2n/BL2n- ,BL2n+1
/BL(2n+1)- がY方向にBL2n- ,BL(2n+1)- ,B
L2n,BL2n+1の順で配置されるとともに、連続する4
本のワード線WLc ,WLc+1 ,WLc+2 ,WLc+3
(c=256,260,…380)がX方向にこの順で配置されてい
る。
FIG. 10 shows the basic unit K in the block C.
3 schematically shows a pattern of a memory cell arrangement distribution in C.
In this basic unit KC, two consecutive (even and odd) bit line pairs BL2n / BL2n-, BL2n + 1
/ BL (2n + 1)-in the Y direction are BL2n-, BL (2n + 1)-, B
L2n, BL2n + 1 and 4
Word lines WLc, WLc + 1, WLc + 2, WLc + 3
(C = 256, 260,... 380) are arranged in this order in the X direction.

【0540】この基本単位KC 内でも、偶数番目のビッ
ト線対BL2n/BL2n- に着目すると、ビット補線BL
2n- と第1および第2順位のワード線WLc ,WLc+1
との各交差位置に反転型メモリセル●が配置され、ビッ
ト線BL2nと第3および第4順位のワード線WLc+2 ,
WLc+3 との各交差位置に非反転型メモリセル○が配置
されている。
In this basic unit KC, if attention is paid to even-numbered bit line pairs BL2n / BL2n-, bit complementary lines BL2n / BL2n-
2n− and first and second order word lines WLc, WLc + 1
Memory cell ● is arranged at each intersection with the bit line BL2n and the third and fourth order word lines WLc + 2,
A non-inverted memory cell ○ is arranged at each intersection with WLc + 3.

【0550】また、奇数番目のビット線対BL2n+1/B
L(2n+1)- に着目すると、ビット補線BL(2n+1)- と第
1および第4順位のワード線WLc ,WLc+3 との各交
差位置に反転型メモリセル●が配置され、ビット線BL
2n+1と第2および第3順位のワード線WLc+1 ,WLc+
2 との各交差位置に非反転型メモリセル○が配置されて
いる。
The odd-numbered bit line pair BL2n + 1 / B
Focusing on L (2n + 1)-, an inverted memory cell ● is arranged at each intersection between the bit auxiliary line BL (2n + 1)-and the first and fourth order word lines WLc and WLc + 3. , Bit line BL
2n + 1 and the second and third order word lines WLc + 1, WLc +
2, a non-inverting type memory cell ○ is arranged.

【0560】図11に、ブロックDにおける基本単位K
D 内のメモリセル配置分布のパターンを模式的に示す。
この基本単位KD 内では、連続する2組(偶数番目およ
び奇数番目)のビット線対BL2n/BL2n- ,BL2n+1
/BL(2n+1)- がY方向にBL2n,BL(2n+1)- ,BL
2n- ,BL2n+1の順で配置されるとともに、連続する4
本のワード線WLd ,WLd+1 ,WLd+2 ,WLd+3
(d=384,388,…508)がX方向にその順で配置されてい
る。
FIG. 11 shows the basic unit K in the block D.
7 schematically shows a pattern of a memory cell arrangement distribution in D.
In this basic unit KD, two consecutive (even and odd) bit line pairs BL2n / BL2n-, BL2n + 1
/ BL (2n + 1)-in the Y direction is BL2n, BL (2n + 1)-, BL
2n-, BL2n + 1 and 4
Word lines WLd, WLd + 1, WLd + 2, WLd + 3
(D = 384,388,... 508) are arranged in that order in the X direction.

【0570】この基本単位KD 内でも、偶数番目のビッ
ト線対BL2n/BL2n- においてはビット補線BL2n-
と第1および第2順位のワード線WLd ,WLd+1 との
各交差位置に反転型メモリセル●が配置され、ビット線
BL2nと第3および第4順位のワード線WLd+2 ,WL
d+3 との各交差位置に非反転型メモリセル○が配置され
ている。
In this basic unit KD, even-numbered bit line pairs BL2n / BL2n- have bit complementary lines BL2n-
Memory cell ● is arranged at each intersection of the first and second order word lines WLd and WLd + 1, and the bit line BL2n and the third and fourth order word lines WLd + 2 and WL
A non-inverted memory cell ○ is arranged at each intersection with d + 3.

【0580】また、奇数番目のビット線対BL2n+1/B
L(2n+1)- においては、ビット補線BL(2n+1)- と第1
および第4順位のワード線WLd ,WLd+3 との各交差
位置に反転型メモリセル●が配置され、ビット線BL2n
+1と第2および第3順位のワード線WLd+1 ,WLd+2
との各交差位置に非反転型メモリセル○が配置されてい
る。
The odd-numbered bit line pair BL2n + 1 / B
In L (2n + 1)-, the bit complementary line BL (2n + 1)-
And an inversion type memory cell ● is arranged at each intersection with the fourth order word lines WLd and WLd + 3, and bit line BL2n
+1 and the second and third order word lines WLd + 1, WLd + 2
Non-inverting type memory cells に are arranged at the respective intersections with.

【0590】図12に、冗長ブロックRにおける基本単
位KR 内のメモリセル配置分布のパターンを模式的に示
す。この基本単位KR 内では、連続する2組(偶数番目
および奇数番目)のビット線対BL2n/BL2n- ,BL
2n+1/BL(2n+1)- がY方向にBL2n,BL(2n+1)- ,
BL2n- ,BL2n+1の順で配置されるとともに、連続す
る4本の冗長ワード線RW0 ,RW1 ,RW2 ,RW3
がX方向にこの順で配置されている。
FIG. 12 schematically shows the pattern of the memory cell arrangement distribution in the basic unit KR in the redundant block R. In this basic unit KR, two pairs (even and odd) of pairs of bit lines BL2n / BL2n-, BL
2n + 1 / BL (2n + 1)-in the Y direction are BL2n, BL (2n + 1)-,
BL2n-, BL2n + 1 and four consecutive redundant word lines RW0, RW1, RW2, RW3.
Are arranged in this order in the X direction.

【0600】この冗長部の基本単位KR 内で、偶数番目
のビット線対BL2n/BL2n- においては、ビット補線
BL2n- と第1および第2順位のワード線RW0 ,RW
1 との各交差位置に反転型メモリセル●が配置され、ビ
ット線BL2nと第3および第4順位のワード線RW2 ,
RW3 との各交差位置に非反転型メモリセル○が配置さ
れている。
In the basic unit KR of the redundant portion, in the even-numbered bit line pairs BL2n / BL2n-, the bit auxiliary line BL2n- and the first and second order word lines RW0, RW are used.
1 is disposed at each intersection with the bit line BL2n and the third and fourth word lines RW2,
A non-inverting type memory cell に is arranged at each intersection with RW3.

【0610】また、奇数番目のビット線対BL2n+1/B
L(2n+1)- においては、ビット補線BL(2n+1)- と第1
および第4順位のワード線RW0 ,RW3 との各交差位
置に反転型メモリセル●が配置され、ビット線BL2n+1
と第2および第3順位のワード線RW1 ,RW2 との各
交差位置に非反転型メモリセル○が配置されている。
Also, the odd-numbered bit line pair BL2n + 1 / B
In L (2n + 1)-, the bit complementary line BL (2n + 1)-
And an inversion type memory cell ● is arranged at each intersection with word lines RW0 and RW3 of the fourth order, and bit line BL2n + 1
A non-inverting type memory cell 配置 is arranged at each intersection of the word lines RW1 and RW2 of the second and third order.

【0620】このように、正規メモリセルアレイのブロ
ックA,B,C,Dの間では、それぞれの基本単位K
A ,KB ,KC ,KD における反転型メモリセル●/非
反転型メモリセル○の配置分布のパターンが互いに独立
または相違していて、基本単位KA ,KB ,KC ,K
D 内のデータトポロジーが互いに同一であるという関係
が成立している。
As described above, between the blocks A, B, C, and D of the normal memory cell array, each basic unit K
In A, KB, KC, and KD, the arrangement distribution patterns of the inverted memory cell ● / non-inverted memory cell ○ are independent or different from each other, and the basic units KA, KB, KC, K
The relationship is established that the data topologies in D are identical to each other.

【0630】また、冗長ブロックRの基本単位KR は、
メモリセル配置分布のパターンだけでなくデータトポロ
ジーに関しても正規メモリセルアレイのブロックDの基
本単位KD と同じであるから、正規メモリアレイの他の
いずれのブロックA,B,Cの基本単位KD ともデータ
トポロジーが同じである。
The basic unit KR of the redundant block R is:
Since the data topology as well as the pattern of the memory cell arrangement distribution is the same as the basic unit KD of the block D of the normal memory cell array, the basic unit KD of any of the other blocks A, B, and C of the normal memory array also has the data topology. Are the same.

【0640】このように、この実施例のDRAMでは、
全てのブロックA,B,C,D,R間で基本単位K内の
データトポロジーが同じであり、反転条件が次の式
(2)で表されるように簡単である。
As described above, in the DRAM of this embodiment,
The data topology in the basic unit K is the same among all blocks A, B, C, D, and R, and the inversion condition is simple as represented by the following equation (2).

【0650】 反転条件=X1-※Y0-+(X0 ◆X1 )- ※Y0 ………(2) ここで、- は否定(反転)、+は論理和、※は論理積、
◆は排他的論理和を表す。
[0650] inversion conditions = X1 - ※ Y0 - + ( X0 ◆ X1) - ※ Y0 ......... (2) where, - is negative (inverted), + is the logical sum, ※ is a logical product,
◆ represents exclusive OR.

【0660】すなわち、このDRAMにおいて、個々の
反転型メモリセル(●)の配置されている場所(メモリ
アドレス)は、各メモリセル配置の基本単位K内の4本
のワード線WLの個々(順位)を識別するXアドレス信
号の最下位2ビット(X1 ,X0 )と、各メモリセル配
置の基本単位K内の偶数番目のビット線対BL2n/BL
2n- と奇数番目のビット線対BL2n+1/BL(2n+1)- と
を識別するYアドレス信号の最下位ビット(Y0 )とで
規定または特定される。各ブロックを識別するためのX
アドレス信号の上位2ビット(X8 ,X7 )は不要とな
る。
[0660] In other words, in this DRAM, the location (memory address) where each inversion type memory cell (●) is located is the individual (order) of the four word lines WL in the basic unit K of each memory cell location. ) And the even-numbered bit line pair BL2n / BL in the basic unit K of each memory cell arrangement.
2n- and the least significant bit (Y0) of the Y address signal for identifying the odd-numbered bit line pair BL2n + 1 / BL (2n + 1)-. X to identify each block
The upper two bits (X8, X7) of the address signal become unnecessary.

【0670】このように、この実施例によれば、正規メ
モリセルアレイ内の全てのブロックA,B,C,D間で
データトポロジーが一致し、反転条件(2)が簡単であ
るため、データ性制御のための回路を簡略化できる。
As described above, according to this embodiment, since the data topologies match among all the blocks A, B, C, and D in the normal memory cell array and the inversion condition (2) is simple, the data property A control circuit can be simplified.

【0680】また、正規メモリセルアレイ内の任意のブ
ロックA,B,C,Dの一部領域が冗長ブロックRで置
換されても、ブロックA,B,C,Dと冗長ブロックR
とのデータトポロジーが共通であるため、上記したよう
な個々のメモリセルの物理的特性を検査するための有用
なメモリ試験、つまり非反転型メモリセルだけでなく反
転型メモリセルに対しても一律に物理的かつ論理的に同
じ値のデータを格納する試験を正しく行うことができ
る。
Even if a partial area of any of blocks A, B, C, and D in the normal memory cell array is replaced with redundant block R, blocks A, B, C, and D and redundant block R
Is useful for testing the physical characteristics of individual memory cells as described above, i.e., not only for non-inverted memory cells but also for inverted memory cells. A test for storing data of the same value physically and logically can be performed correctly.

【0690】図13に、本発明の第2の実施例によるD
RAMの要部の構成を示す。図中、上記第1の実施例
(図1)の対応するものと同様の構成および機能を有す
る部分には同一の符号を付している。
FIG. 13 is a view showing the structure of D according to the second embodiment of the present invention.
1 shows a configuration of a main part of a RAM. In the figure, parts having the same configuration and function as those of the first embodiment (FIG. 1) are denoted by the same reference numerals.

【0700】この実施例では、メモリセル配置分布のパ
ターンまたはレイアウトは全ブロックで共通または同一
であり、基本単位KA ,KB ,KC ,KD 内のワード線
WLの配列順序をブロック間で独立させることで、デー
タトポロジーを全ブロックで共通または同一にしてい
る。
In this embodiment, the pattern or layout of the memory cell arrangement distribution is common or the same in all blocks, and the arrangement order of the word lines WL in the basic units KA, KB, KC, and KD is made independent between the blocks. , The data topology is common or the same for all blocks.

【0710】図14〜図16に、ブロックB,C,Dに
おける基本単位KB ,KC ,KD 内のメモリセル配置分
布のパターンをそれぞれ模式的に示す。ブロックAにお
ける基本単位KA 内のメモリセル配置分布のパターン
は、図8に示すパターンと同じである。また、冗長ブロ
ックRにおける基本単位KR 内のメモリセル配置分布の
パターンは、ブロックDにおける基本単位KD 内のメモ
リセル配置分布のパターン(図16)と同じである。
FIGS. 14 to 16 schematically show the distribution patterns of the memory cells in the basic units KB, KC, and KD in the blocks B, C, and D, respectively. The pattern of the memory cell arrangement distribution in the basic unit KA in the block A is the same as the pattern shown in FIG. The pattern of the memory cell arrangement distribution in the basic unit KR in the redundant block R is the same as the pattern of the memory cell arrangement distribution in the basic unit KD in the block D (FIG. 16).

【0720】たとえば、図14において、ブロックBの
基本単位KB 内では、連続する2組(偶数番目および奇
数番目)のビット線対BL2n/BL2n- ,BL2n+1/B
L(2n+1)- がY方向にBL2n- ,BL(2n+1),BL2n,
BL(2n+1)- の順で配置されるとともに、連続する4本
のワード線WLb ,WLb+1 ,WLb+2 ,WLb+3 (b
=128,132,…252)がX方向にWLb+3 ,WLb+2 ,WL
b+1 ,WLd の順で配置されている。
For example, in FIG. 14, in the basic unit KB of the block B, two consecutive (even and odd) bit line pairs BL2n / BL2n- and BL2n + 1 / B
L (2n + 1)-is BL2n-, BL (2n + 1), BL2n,
BL (2n + 1)-and four consecutive word lines WLb, WLb + 1, WLb + 2, WLb + 3 (b
= 128,132, ... 252) in the X direction are WLb + 3, WLb + 2, WL
b + 1 and WLd are arranged in this order.

【0730】偶数番目のビット線対BL2n/BL2n- に
着目すると、ビット補線BL2n- と第1および第2順位
のワード線WLb ,WLb+1 との各交差位置に反転型メ
モリセル●が配置され、ビット線BL2nと第3および第
4順位のワード線WLb+2 ,WLb+3 との各交差位置に
非反転型メモリセル○が配置されている。
If attention is paid to even-numbered bit line pairs BL2n / BL2n-, inverted memory cells are arranged at intersections between bit auxiliary lines BL2n- and first and second order word lines WLb and WLb + 1. A non-inverted memory cell O is arranged at each intersection of the bit line BL2n and the third and fourth word lines WLb + 2, WLb + 3.

【0740】また、奇数番目のビット線対BL2n+1/B
L(2n+1)- に着目すると、ビット補線BL(2n+1)- と第
1および第4順位のワード線WLb ,WLb+3 との各交
差位置に反転型メモリセル●が配置され、ビット線BL
2n+1と第2および第3順位のワード線WLb+1 ,WLb+
2 との各交差位置に非反転型メモリセル○が配置されて
いる。
[0739] Also, the odd-numbered bit line pair BL2n + 1 / B
Focusing on L (2n + 1)-, an inverted memory cell ● is arranged at each intersection between the bit auxiliary line BL (2n + 1)-and the first and fourth order word lines WLb and WLb + 3. , Bit line BL
2n + 1 and second and third order word lines WLb + 1, WLb +
2, a non-inverting type memory cell ○ is arranged.

【0750】したがって、ブロックBの基本単位KB 内
のデータトポロジーは、ブロックAにおける基本単位K
A 内のデータトポロジーと同一である。同様に、他のブ
ロックC,D,Rの基本単位KC ,KD ,KR において
も、4本のワード線の配列順序が各ブロックで独自的で
あり、結果としてデータトポロジーはブロックA,Bと
同一であることがわかる。
[0750] Therefore, the data topology in the basic unit KB of the block B is the same as that of the basic unit K in the block A.
Same as the data topology in A. Similarly, in the basic units KC, KD, and KR of the other blocks C, D, and R, the arrangement order of the four word lines is unique for each block. As a result, the data topology is the same as that of the blocks A and B. It can be seen that it is.

【0760】このように、この実施例でも、正規メモリ
セルアレイ内の全ブロックA,B,C,Dでデータトポ
ロジーが共通し、反転条件は上式(2)で表される。し
たがって、データ性制御やメモリ試験等において上記第
1実施例と同様の効果が得られる。
As described above, also in this embodiment, the data topology is common to all blocks A, B, C, and D in the normal memory cell array, and the inversion condition is expressed by the above equation (2). Therefore, the same effects as those in the first embodiment can be obtained in data property control, memory test, and the like.

【0770】上記した第1および第2実施例のいずれも
1/4ピッチ・ビットライン・コンタクト方式に係るも
のであったが、図17および図18に示すように本発明
は1/2ピッチ・ビットライン・コンタクト方式にも適
用可能である。
Although both the first and second embodiments relate to the に pitch bit line contact method, as shown in FIGS. 17 and 18, the present invention employs a ピ ッ チ pitch bit line contact method. It is also applicable to the bit line contact method.

【0780】図17に示す例は、上記第1実施例と同様
に、正規メモリアレイ内のブロックA,B間で、それ
ぞれの基本単位KA ,KB における反転型メモリセル●
/非反転型メモリセル○の配置分布のパターンが互いに
独立または相違していて、基本単位KA ,KB 内のデ
ータトポロジーが互いに同一であるという関係が成立し
ている。
[0780] The example shown in FIG. 17 is the same as that of the first embodiment described above, except that the inverted memory cells in the respective basic units KA and KB are provided between the blocks A and B in the normal memory array.
/ The pattern of arrangement distribution of the non-inverting type memory cells ○ is independent or different from each other, and the relationship is established that the data topologies in the basic units KA and KB are the same.

【0790】このDRAMにおいて、個々の反転型メモ
リセル(●)の配置されている場所(メモリアドレス)
は、各メモリセル配置の基本単位K内の4本のワード線
WLの個々(順位)を識別するXアドレス信号の最下位
2ビット(X1 ,X0 )だけで特定される。すなわち、
反転条件は、次の式(3)で表される。
In this DRAM, locations (memory addresses) where individual inversion type memory cells (●) are arranged
Is specified only by the least significant two bits (X1, X0) of the X address signal for identifying each (order) of the four word lines WL in the basic unit K of each memory cell arrangement. That is,
The inversion condition is represented by the following equation (3).

【0800】 反転条件=X0 ◆X1 ………(3) ここで、◆は排他的論理和を表す。Inversion condition = X0 ◆ X1 (3) Here, ◆ represents exclusive OR.

【0810】図18に示す例は、上記第2実施例と同様
に、正規メモリセルアレイ内のブロックA,B間で、メ
モリセル配置分布のパターンまたはレイアウトは共通ま
たは同一であり、基本単位KA ,KB 内のワード線WL
の配列順序をブロックA,B間で独立させることで、デ
ータトポロジーを両ブロックA,Bで共通または同一に
している。この例でも、反転条件は上記の式(3)で表
される。
In the example shown in FIG. 18, the pattern or layout of the memory cell arrangement distribution is the same or the same between the blocks A and B in the normal memory cell array as in the second embodiment, and the basic units KA, Word line WL in KB
Is independent between the blocks A and B, so that the data topology is common or identical between the blocks A and B. Also in this example, the inversion condition is represented by the above equation (3).

【0820】図19は、本発明の一応用例を示す。これ
は、ツイスト部TWを設けないメモリセルアレイにおい
て、上記第2実施例と同様にワード線の順序を入れ替え
る手法を用いて、冗長部のワード線RWを半減したもの
である。この例によれば、冗長部の一対のワード線RW
0(2),RW1(3)で正規メモリセルアレイ内の第1の一対
のワード線(WLa ,WLa+1 )または第2の一対のワ
ード線(WLa+2 ,WLa+3 )のいずれとも置換するこ
とができる。
FIG. 19 shows an application example of the present invention. In the memory cell array in which the twist portion TW is not provided, the word line RW of the redundant portion is halved by using the method of changing the order of the word lines as in the second embodiment. According to this example, the pair of word lines RW of the redundant portion
0 (2) and RW1 (3) replace either the first pair of word lines (WLa, WLa + 1) or the second pair of word lines (WLa + 2, WLa + 3) in the normal memory cell array. can do.

【0830】上記実施例では、センスアンプ・バンクの
両側にメモリセルアレイの領域が展開していたが、片側
だけに展開していてもよく、正規メモリセルアレイ内の
ブロックの個数も任意に選択可能である。冗長部の設置
位置、容量も任意に選択可能である。
In the above embodiment, the memory cell array area is developed on both sides of the sense amplifier bank. However, the memory cell array area may be developed on only one side, and the number of blocks in the normal memory cell array can be arbitrarily selected. is there. The position and capacity of the redundant section can be arbitrarily selected.

【0840】[0840]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
データトポロジーが簡単になるとともに、正規メモリセ
ルの一部が冗長メモリセルで置換されても所期のメモリ
試験を正しく行うことができる。
As described above, according to the present invention,
The data topology is simplified, and the intended memory test can be correctly performed even if a part of the normal memory cells is replaced with the redundant memory cells.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施例によるDRAMのメモリ
セルアレイの構成を模式的に示す図である。
FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of a memory cell array of a DRAM according to a first embodiment of the present invention.

【図2】第1の実施例において図1の正規メモリセルア
レイの左半分の領域をより詳細に示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing in more detail a left half region of the normal memory cell array of FIG. 1 in the first embodiment.

【図3】第1の実施例において図1の正規メモリセルア
レイの右半分の領域をより詳細に示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing in more detail a right half region of the normal memory cell array of FIG. 1 in the first embodiment.

【図4】第1の実施例において正規メモリセルアレイの
ブロックAのメモリセル配置のレイアウトを示す図であ
る。
FIG. 4 is a diagram showing a layout of a memory cell arrangement in a block A of a normal memory cell array in the first embodiment.

【図5】第1の実施例において正規メモリセルアレイの
ブロックBのメモリセル配置のレイアウトを示す図であ
る。
FIG. 5 is a diagram showing a layout of a memory cell arrangement in a block B of a normal memory cell array in the first embodiment.

【図6】第1の実施例において正規メモリセルアレイの
ブロックCのメモリセル配置のレイアウトを示す図であ
る。
FIG. 6 is a diagram showing a layout of a memory cell arrangement in a block C of a normal memory cell array in the first embodiment.

【図7】第1の実施例において正規メモリセルアレイの
ブロックDのメモリセル配置のレイアウトを示す図であ
る。
FIG. 7 is a diagram showing a layout of a memory cell arrangement in a block D of a normal memory cell array in the first embodiment.

【図8】第1の実施例において正規メモリセルアレイの
ブロックAの基本単位内のメモリセル配置分布のパター
ンを示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a pattern of a memory cell arrangement distribution in a basic unit of a block A of a normal memory cell array in the first embodiment.

【図9】第1の実施例において正規メモリセルアレイの
ブロックBの基本単位内のメモリセル配置分布のパター
ンを示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a pattern of a memory cell arrangement distribution in a basic unit of a block B of a normal memory cell array in the first embodiment.

【図10】第1の実施例において正規メモリセルアレイ
のブロックCの基本単位内のメモリセル配置分布のパタ
ーンを示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing a pattern of a memory cell arrangement distribution in a basic unit of a block C of a normal memory cell array in the first embodiment.

【図11】第1の実施例において正規メモリセルアレイ
のブロックDの基本単位内のメモリセル配置分布のパタ
ーンを示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing a pattern of a memory cell arrangement distribution in a basic unit of a block D of a normal memory cell array in the first embodiment.

【図12】第1の実施例において冗長メモリセルアレイ
のブロックRの基本単位内のメモリセル配置分布のパタ
ーンを示す図である。
FIG. 12 is a diagram showing a pattern of a memory cell arrangement distribution in a basic unit of a block R of a redundant memory cell array in the first embodiment.

【図13】本発明の第2の実施例によるDRAMのメモ
リセルアレイの構成を模式的に示す図である。
FIG. 13 is a diagram schematically showing a configuration of a memory cell array of a DRAM according to a second embodiment of the present invention.

【図14】第2の実施例において正規メモリセルアレイ
のブロックBの基本単位内のメモリセル配置分布のパタ
ーンを示す図である。
FIG. 14 is a diagram showing a pattern of a memory cell arrangement distribution in a basic unit of a block B of a normal memory cell array in the second embodiment.

【図15】第2の実施例において正規メモリセルアレイ
のブロックCの基本単位内のメモリセル配置分布のパタ
ーンを示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing a pattern of a memory cell arrangement distribution in a basic unit of a block C of a normal memory cell array in the second embodiment.

【図16】第2の実施例において冗長メモリセルアレイ
のブロックDの基本単位内のメモリセル配置分布のパタ
ーンを示す図である。
FIG. 16 is a diagram showing a pattern of a memory cell arrangement distribution in a basic unit of a block D of a redundant memory cell array in the second embodiment.

【図17】本発明の第3の実施例によるDRAMのメモ
リセルアレイの構成を模式的に示す図である。
FIG. 17 is a diagram schematically showing a configuration of a memory cell array of a DRAM according to a third embodiment of the present invention.

【図18】本発明の第4の実施例によるDRAMのメモ
リセルアレイの構成を模式的に示す図である。
FIG. 18 is a diagram schematically showing a configuration of a memory cell array of a DRAM according to a fourth embodiment of the present invention.

【図19】本発明の第5の実施例によるDRAMのメモ
リセルアレイの構成を模式的に示す図である。
FIG. 19 is a diagram schematically showing a configuration of a memory cell array of a DRAM according to a fifth embodiment of the present invention.

【図20】一般的なDRAMのメモリセルアレイの構成
を模式的に示す図である。
FIG. 20 is a diagram schematically showing a configuration of a memory cell array of a general DRAM.

【図21】DRAMにおける反転/非反転のデータ性制
御を説明するための図である。
FIG. 21 is a diagram illustrating inversion / non-inversion data property control in a DRAM.

【図22】1/4ピッチ・ビットライン・コンタクト方
式によるメモリセルアレイにおけるビット線対の配置構
造を示す図である。
FIG. 22 is a diagram showing an arrangement structure of bit line pairs in a memory cell array according to a ピ ッ チ pitch bit line contact method.

【図23】1/4ピッチ・ビットライン・コンタクト方
式によるメモリセル配置のレイアウトを示す図である。
FIG. 23 is a diagram showing a layout of a memory cell arrangement by a ピ ッ チ pitch bit line contact method.

【図24】従来のメモリセルアレイの構成を模式的に示
す図である。
FIG. 24 is a diagram schematically showing a configuration of a conventional memory cell array.

【図25】図24の従来例において正規メモリセルアレ
イのブロックAの基本単位内のメモリセル配置分布のパ
ターンを示す図である。
25 is a diagram showing a pattern of a memory cell arrangement distribution within a basic unit of a block A of a normal memory cell array in the conventional example of FIG. 24;

【図26】図24の従来例において正規メモリセルアレ
イのブロックBの基本単位内のメモリセル配置分布のパ
ターンを示す図である。
26 is a diagram showing a pattern of a memory cell arrangement distribution in a basic unit of a block B of a normal memory cell array in the conventional example of FIG. 24;

【図27】図24の従来例において正規メモリセルアレ
イのブロックCの基本単位内のメモリセル配置分布のパ
ターンを示す図である。
FIG. 27 is a diagram showing a pattern of a memory cell arrangement distribution in a basic unit of a block C of a normal memory cell array in the conventional example of FIG. 24;

【図28】図24の従来例において正規メモリセルアレ
イのブロックDの基本単位内のメモリセル配置分布のパ
ターンを示す図である。
FIG. 28 is a diagram showing a pattern of a memory cell arrangement distribution in a basic unit of a block D of a normal memory cell array in the conventional example of FIG. 24;

【図29】図24の従来例において冗長メモリセルアレ
イのブロックRの基本単位内のメモリセル配置分布のパ
ターンを示す図である。
29 is a diagram showing a pattern of a memory cell arrangement distribution in a basic unit of a block R of a redundant memory cell array in the conventional example of FIG.

【図30】図24の従来例における全ブロックのデータ
トポロジーを示す図である。
FIG. 30 is a diagram showing a data topology of all blocks in the conventional example of FIG. 24;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 Xアドレス・デコーダ XDH 上位デコーダ部 XDL0 ,XDL1 ,…,XDL127 ,XDR 下位
デコーダ部 SA0 ,SA1 ,… センスアンプ BL0 /BL0-,BL1 /BL1-,… ビット線対 BL0 ,BL1 ,… ビット線 BL0-,BL1-,… ビット補線 WL0 ,WL1 ,WL2 ,WL3 … ワード線 KA ,KB ,KC ,KD ,KR メモリセル配置の基
本単位
, XDL0, XDL1,..., XDL127, XDR Lower decoder SA0, SA1,... Sense amplifier BL0 / BL0-, BL1 / BL1-,. -, BL1-,... Bit supplementary lines WL0, WL1, WL2, WL3... Word lines KA, KB, KC, KD, KR Basic unit of memory cell arrangement

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数本のワード線と複数本のビット線対
とがマトリクス状に交差し、各々の前記ワード線と各々
の前記ビット線対のビット線もしくはビット補線のいず
れかとの交差位置付近に1つのメモリセルが配置され、
前記ビット線に接続される第1型のメモリセルには第1
の論理でデータが格納され、前記ビット補線に接続され
る第2型のメモリセルには前記第1の論理とは逆の第2
の論理でデータが格納され、全部または一部の前記ビッ
ト線対のビット線とビット補線とが所定のツイスト箇所
で捻って互いに位置を替え、メモリセル配置の基本単位
において各々の前記ワード線のアドレス順位からみた前
記第1型および第2型のメモリセルの配置分布が前記ツ
イスト箇所で区分される複数のブロック間で同一である
メモリセルアレイを有する半導体メモリ装置。
1. A plurality of word lines and a plurality of bit line pairs intersect in a matrix, and an intersection position between each word line and any one of a bit line and a bit auxiliary line of each of the bit line pairs. One memory cell is placed in the vicinity,
The first type memory cell connected to the bit line has a first type.
Data is stored in the second type of memory cell connected to the bit auxiliary line.
The data is stored by the logic of, and bit lines and bit auxiliary lines of all or a part of the bit line pairs are twisted at predetermined twist locations to change positions with each other, and each of the word lines in a basic unit of memory cell arrangement. A semiconductor memory device having a memory cell array in which the arrangement distribution of the first and second type memory cells is the same among a plurality of blocks divided at the twisted portion, as viewed from the address order.
【請求項2】 複数本の正規ワード線と複数本のビット
線対とがマトリクス状に交差し、各々の前記正規ワード
線と各々の前記ビット線対のビット線もしくはビット補
線のいずれかとの交差位置付近に1つのメモリセルが配
置され、前記ビット線に接続される第1型のメモリセル
には第1の論理でデータが格納され、前記ビット補線に
接続される第2型のメモリセルには前記第1の論理とは
逆の第2の論理でデータが格納され、全部または一部の
前記ビット線対のビット線とビット補線とが所定のツイ
スト箇所で捻って互いに位置を替え、メモリセル配置の
基本単位において各々の前記正規ワード線のアドレス順
位からみた前記第1型および第2型のメモリセルの配置
分布が前記ツイスト箇所で区分される複数のブロック間
で同一である正規メモリセルアレイと、 複数本の冗長ワード線と前記複数本のビット線対とがマ
トリクス状に交差し、各々の前記冗長ワード線と各々の
前記ビット線対のビット線もしくはビット補線のいずれ
かとの交差位置付近に1つの冗長メモリセルが接続さ
れ、前記ビット線に接続される第1型の冗長メモリセル
には前記第1の論理でデータが格納され、前記ビット補
線に接続される第2型の冗長メモリセルには前記第2の
論理でデータが格納され、メモリセル配置の基本単位に
おいて各々の前記冗長ワード線のアドレス順位からみた
前記第1型および第2型の冗長メモリセルの配置分布が
前記正規メモリセルアレイの各ブロックのメモリセル配
置の基本単位における前記メモリセルの配置関係と同一
である冗長メモリセルアレイとを有する半導体メモリ装
置。
2. A plurality of normal word lines and a plurality of bit line pairs intersect in a matrix, and each of the normal word lines and one of the bit lines or the bit auxiliary lines of each of the bit line pairs intersects. One memory cell is arranged in the vicinity of the intersection, a first type memory cell connected to the bit line stores data with a first logic, and a second type memory connected to the bit auxiliary line. Data is stored in the cell by a second logic opposite to the first logic, and all or some of the bit lines and bit supplementary lines of the bit line pair are twisted at predetermined twist locations to position each other. In other words, in the basic unit of the memory cell arrangement, the arrangement distribution of the first and second type memory cells as viewed from the address order of each of the normal word lines is the same among a plurality of blocks divided at the twisted locations. Regular mail A memory cell array, a plurality of redundant word lines and the plurality of bit line pairs intersect in a matrix, and each of the redundant word lines and any one of the bit lines or the bit auxiliary lines of each of the bit line pairs. One redundant memory cell is connected in the vicinity of the crossing position, data is stored in the first type of redundant memory cell connected to the bit line by the first logic, and a second type is connected to the bit auxiliary line. Data is stored in the redundant memory cells of the first type and the second type, and the arrangement of the first and second type redundant memory cells in the basic unit of the memory cell arrangement as viewed from the address order of each of the redundant word lines A semiconductor memory device having a redundant memory cell array whose distribution is the same as the arrangement relationship of the memory cells in a basic unit of the memory cell arrangement of each block of the normal memory cell array; Place.
【請求項3】 前記メモリセル配置の基本単位において
前記ワード線のアドレス順位からみた各ワード線の配列
順序は前記複数のブロック間で同一であり、前記メモリ
セル配置の基本単位における前記第1型および第2型の
メモリセルの配置分布が前記複数のブロック間で独立し
ていることを特徴とする請求項1または2に記載の半導
体メモリ装置。
3. The arrangement order of each word line in the basic unit of the memory cell arrangement as viewed from the address order of the word lines is the same among the plurality of blocks, and the first type in the basic unit of the memory cell arrangement is 3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the arrangement distribution of the memory cells of the second type is independent among the plurality of blocks.
【請求項4】 前記メモリセル配置の基本単位における
前記第1型および第2型のメモリセルの配置分布は前記
複数のブロック間で同一であり、前記メモリセル配置の
基本単位において前記ワード線のアドレス順位からみた
各ワード線の配列順序が前記複数のブロック間で独立し
ていることを特徴とする請求項1または2に記載の半導
体メモリ装置。
4. The arrangement distribution of the first type and second type memory cells in the basic unit of the memory cell arrangement is the same among the plurality of blocks, and in the basic unit of the memory cell arrangement, 3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the arrangement order of each word line in terms of an address order is independent among the plurality of blocks.
【請求項5】 複数本のワード線と複数本のビット線対
とがマトリクス状に交差し、各々の前記ワード線と各々
の前記ビット線対のビット線もしくはビット補線のいず
れかとの交差位置付近に1つのメモリセルが配置され、
前記ビット線に接続される第1型のメモリセルには第1
の論理でデータが格納され、前記ビット補線に接続され
る第2型のメモリセルには前記第1の論理とは逆の第2
の論理でデータが格納され、前記第1型のメモリセルと
前記第2型のメモリセルとの配置分布が同一であるメモ
リセル配置基本単位が複数個繰り返して配置されている
メモリアレイを有し、各々の前記メモリセル配置基本単
位における前記ワード線のアドレス順位からみた各ワー
ド線の配列順序が同一であることを特徴とする半導体メ
モリ装置。
5. A plurality of word lines and a plurality of bit line pairs intersect in a matrix, and an intersection position between each word line and any one of a bit line and a bit auxiliary line of each of the bit line pairs. One memory cell is placed in the vicinity,
The first type memory cell connected to the bit line has a first type.
Data is stored in the second type of memory cell connected to the bit auxiliary line.
And a memory array in which a plurality of memory cell arrangement basic units having the same arrangement distribution of the first type memory cells and the second type memory cells are repeatedly arranged. Semiconductor memory device, wherein the arrangement order of each word line is the same as viewed from the address order of the word lines in each of the memory cell arrangement basic units.
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