JPH105945A - 連続鋳造鋳型内の溶鋼流動制御方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 移動磁場による連続鋳造鋳型内溶鋼の流動制
御方法において、電磁制動された吐出流と鋳型サイズと
に起因する共振現象による流動や、磁場強度と吐出流速
のバランスのくずれた場合の付随流れにより、脱酸生成
物及びモールドパウダーが鋳片に捕捉される。 【解決手段】 磁場の移動方向が鋳型幅方向であるリニ
ア移動磁場発生装置８、１０にて、磁束密度と移動磁場
の周波数とを鋳造中に独立に変更して磁場を印加する、
又は、鋳型幅方向左右２つに分割されたリニア移動磁場
発生装置に印加する交流電流の位相を鋳造中に相対的に
変化させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、鋳型に設置したリ
ニア移動磁場発生装置により鋼の連続鋳造鋳型内の溶鋼
流動を制御する方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】鋼の連続鋳造法においては、タンディッ
シュから浸漬ノズルを介し、鋳型短辺に向け注入された
溶鋼の吐出流は、短辺凝固シェルに衝突して下降流と上
昇流とに分かれ、そして、下降流は鋳片未凝固層深部に
進入し、又、上昇流は鋳型内溶鋼表面（以下、「メニス
カス」と記す）で鋳型短辺から浸漬ノズルに向かう流れ
となり、メニスカスに「渦」、「盛り上がり」等の流れ
の乱れを生成させる。

【０００３】脱酸生成物であるアルミナを主体とする酸
化物は、下降流により鋳片未凝固層深くまで侵入して凝
固シェルに捕捉され、又、メニスカス上に添加されたモ
ールドパウダーは、メニスカスの渦や盛り上がりにより
溶鋼中に巻き込まれ、凝固シェルに補捉される。そし
て、これらに起因する非金属介在物が鋳片の品質欠陥の
主原因であり、この現象は鋳造速度の増速に伴う吐出流
速度の高速度化や、浸漬ノズル内又は浸漬ノズル吐出孔
にアルミナが付着して左右の吐出流速が不均一となる、
所謂、偏流が発生した場合に顕著となっている。

【０００４】この対策として、電磁力（Electro-magnet
ic force）を用いて溶鋼流動を制動しようとする試みが
数多く提案されている。

【０００５】特開平３−１４２０４９号公報（以下、
「先行技術１」と記す）には、対向する鋳型長辺各背面
の上下に設置した上下各一対の磁極の間で、鋳片の幅全
体にわたり静磁場を印加させ、吐出流を磁場で減速させ
る方法が開示されている。

【０００６】特開平１−１５０４５０号公報（以下、
「先行技術２」と記す）には、メニスカスの下１．５ｍ
から４．０ｍの鋳造方向下方の範囲に、直流磁場もしく
は低周波交流磁場を印加させ、磁場を通過する溶鋼流動
を減速・分散させる技術が開示されている。

【０００７】又、先行技術１、２は磁場が移動しない静
止型磁場であるに対し、特開平５−２３８０４号公報
（以下、「先行技術３」と記す）には、低周波の交流電
源による移動磁場を用いる技術が開示されている。先行
技術３では鋳型長辺背面にリニア移動磁場発生装置を配
置し、浸漬ノズルからの溶鋼の吐出流方向と反対方向に
磁場を移動させることで溶鋼を磁場の移動方向に移動さ
せ、溶鋼の吐出流速度を減速させる技術であり、その
際、吐出する溶鋼流の断片が移動磁場の周波数周期の１
周期以上の期間を磁場内に滞在するように、リニア移動
磁場発生装置に印加する電流の周波数の下限値を定めて
いる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】先行技術１は、鋳片の
全幅にわたって磁場を配置し、吐出流の局所に磁場を配
置した場合に発生する溶鋼流の局部的な回り込みを防止
している。しかし、先行技術１においても磁場が強過ぎ
る場合には、上下の磁場の谷間に沿って水平方向に溶鋼
流が走り、この溶鋼流は短辺凝固シェルに衝突した時点
で流れ方向を変え、下降流となる。更に、鋳片の端部で
ある短辺近傍では、鋳片と鋳型壁とが電気的に絶縁状態
にあるため、誘導電流が逆向きに流れて下降流を加速す
る方向に電磁力が作用するので、下降流は未凝固層深く
まで侵入する。その結果、鋳片の幅方向中央部の品質は
向上するものの、短辺近傍部は品質が劣化する。

【０００９】先行技術２では、溶鋼への制動力の発生手
段として、直流磁場に代わって、低周波の交流磁場を用
いる方法も開示している。交流磁場の場合は、準静的な
誘導電流が存在しないため、先行技術１で発生する鋳片
短辺近傍での下降流を助長する現象はない。

【００１０】交流磁場の場合、印加する電流の周波数に
応じて磁界の方向と誘導電流の方向とは１８０度変化す
るものの、磁気による制動力の方向は変わらないため流
動制御が可能である。しかし、この制動力は、印加する
電流値に応じ、最大から零まで周期的に変化することに
なる。

【００１１】先行技術２では印加する電流の周波数が一
定で且つ１Ｈｚ未満の低周波であるので、磁気制動され
た溶鋼流は溶鋼流の慣性力のために印加される電流の周
波数で変動する。その結果、その変動がメニスカス部ま
で及ぶ高速鋳造の場合、電磁力の制御によって逆にメニ
スカスが乱れ、パウダーの巻き込みを助長する。

【００１２】先行技術３は、磁場の移動方向への吐出流
の制動を目的としたもので、この場合、周波数が低く且
つ磁束密度が大きい条件の下で、吐出流の速度制動に主
眼をおいた制御を行うと、浸漬ノズルを中心としてメニ
スカスが大きく上下振動することがある。これは、電磁
力による吐出流の速度変動周期と鋳型サイズに起因する
湯面変動との共振現象により発生するものである。更
に、移動磁場の周波数を上げて磁場移動方向の制動力を
優先させると、移動磁場による付随流れが発生し、浸漬
ノズルからの吐出流速と磁場強度とのバランスがくずれ
た場合には、パウダー巻き込みを助長するような状況も
起こり得る。

【００１３】以上のように、電磁力を利用した鋳型内溶
鋼の流動制御方法に関して、いずれの方法も改善の余地
が大きいのが現状である。

【００１４】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、その目的とするところは移動磁場における流動制御
方法を改善し、未凝固層深奥までの吐出流の侵入による
脱酸生成物の混入と、メニスカスにおける湯面変動に起
因するモールドパウダーの巻き込みとを共に防止して、
鋳片全幅にわたって非金属介在物のない高品質の鋳片を
製造するための連続鋳造鋳型内の溶鋼流動制御方法を提
供するものである。

【００１５】

【課題を解決するための手段】請求項１に係る本発明の
連続鋳造鋳型内の溶鋼流動制御方法は、磁場の移動方向
が鋳型幅方向であるリニア移動磁場発生装置にて磁場を
印加して鋳型内の溶鋼流動を制御する方法において、磁
束密度と移動磁場の周波数とを鋳造中に独立に変更する
ことを特徴とするものである。

【００１６】交流移動磁場により溶鋼吐出流に作用する
制動力は、以下の２種類の制動力に区別することができ
る。

【００１７】１つは、磁場が移動することにより、溶鋼
中に誘導電流を発生させ、この誘導電流と磁場とによる
電磁力により、磁場の移動方向に溶鋼を強制的に流動さ
せ、この強制的な溶鋼流動と浸漬ノズルからの吐出流と
を干渉させて、吐出流速度を減速又は加速させるもの
で、以下この制動力を本願では「駆動力」と呼ぶ。

【００１８】他の１つは、電磁ブレーキとも呼ばれるも
ので、磁場中を吐出流が流動することで、吐出流に誘導
電流が発生し、この誘導電流と磁場とで生じる電磁力に
より、吐出流速度を減速させるもので、以下この制動力
を本願では「ブレーキ力」と呼ぶ。交流磁場によるブレ
ーキ力は、電流値に比例して周期的に変動する。

【００１９】移動磁場の磁束密度をＢ、移動磁場の周波
数をｆ、浸漬ノズル吐出孔からの溶鋼吐出流の流速をＶ
とすると、駆動力はＢ² ｆに比例して磁場の移動方向に
作用し、又、ブレーキ力はＢ² Ｖに比例する。

【００２０】そのため、磁束密度Ｂと移動磁場の周波数
ｆを鋳造中に独立に変更することにより、吐出流に対し
て様々の磁気制動制御を行うことができ、又、磁束密度
を変更せずに周波数のみ変更することで、駆動力を増減
しつつブレーキ力を保持することができるので、浸漬ノ
ズルからの吐出流速に応じた制動力で制御することが可
能となり、移動磁場による付随流れを抑えることができ
る。

【００２１】請求項２に係る本発明の連続鋳造鋳型内の
溶鋼流動制御方法は、磁場の移動方向が鋳型幅方向であ
るリニア移動磁場発生装置にて磁場を印加して鋳型内の
溶鋼流動を制御する方法において、磁場の磁束密度の２
乗と移動磁場の周波数との積が一定の条件で、磁束密度
と移動磁場の周波数とを鋳造中に連続的に変更すること
を特徴とするものである。

【００２２】リニア移動磁場発生装置に印加する電流の
周波数を鋳造中に連続的に変更するので、電磁力による
吐出流の速度変動周期と鋳型サイズに起因する湯面変動
との共振現象が完成する以前に周波数が変化するため、
共振現象の防止が可能となり、浸漬ノズルを中心とした
メニスカスの上下振動現象を防止できる。又、磁場の磁
束密度の２乗と移動磁場の周波数との積が一定の条件で
変更するので、駆動力を減じることがない。

【００２３】請求項３に係る本発明の連続鋳造鋳型内の
溶鋼流動制御方法は、浸漬ノズルを中心として鋳型幅方
向左右に２分割され、磁場の移動方向が鋳型幅方向であ
るリニア移動磁場発生装置にて左右独立に磁場を印加し
て鋳型内の溶鋼流動を制御する方法において、２分割さ
れた左右のリニア移動磁場発生装置に印加する交流電流
の位相を鋳造中に相対的に変化させることを特徴とする
ものである。

【００２４】鋳型幅方向左右に２分割されているリニア
移動磁場発生装置に供給する交流電流の位相を相対的に
変化させることにより、電磁力による吐出流の速度変動
周期と鋳型サイズに起因する湯面変動との共振現象に外
乱を加えることができるので、共振の発生がなく、浸漬
ノズルを中心としたメニスカスの上下振動現象を防止で
きる。

【００２５】請求項４に係る本発明の連続鋳造鋳型内の
溶鋼流動制御方法は、浸漬ノズルを中心として鋳型幅方
向左右に２分割され、磁場の移動方向が鋳型幅方向であ
るリニア移動磁場発生装置にて左右独立に磁場を印加し
て鋳型内の溶鋼流動を制御する方法において、２分割さ
れた左右のリニア移動磁場発生装置に印加する交流電流
の位相を鋳造中に相対的に変化させると共に、磁束密度
と移動磁場の周波数とを鋳造中に独立に変更することを
特徴とするものである。

【００２６】印加する交流電流の位相を鋳造中に相対的
に変化させると共に、磁束密度と移動磁場の周波数とを
鋳造中に独立に変更するので、共振現象による浸漬ノズ
ルを中心としたメニスカスの上下振動現象を防止しつ
つ、吐出流に対して様々の制動制御を左右独立に行うこ
とができる。

【００２７】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図１を参照
して説明する。図１は、本発明に係る鋳型内溶鋼の流動
制御方法を適用した連続鋳造機の鋳型部の概要を示す図
であり、（ａ）は側断面図、（ｂ）は平面図である。

【００２８】各１対の鋳型長辺２と鋳型短辺３とを組み
合わせた矩形型鋳型１の上部にタンディッシュ４が設け
られ、タンディッシュ４は図示しない取鍋から溶鋼５の
供給を受ける。溶鋼流量調整用のスライディングノズル
１４がタンディッシュ４の底部に設けられ、スライディ
ングノズル１４の下面に浸漬ノズル６が取り付けられて
いる。タンディッシュ４内の溶鋼５はスライディングノ
ズル１４と浸漬ノズル６を介して鋳型１内に注入され
る。浸漬ノズル６の下端部は鋳型１内の溶鋼５に浸漬さ
れ、浸漬ノズル６の左右一対の吐出孔７から、溶鋼５が
鋳型短辺３に向けて吐出される。鋳型１内に吐出された
溶鋼５は冷却され、凝固シェル１６を生成し、図示しな
いピンチロールにて、鋳型１から下方に連続的に引き抜
かれる。鋳型内溶鋼５のメニスカス１７上にはモールド
パウダー１５が添加されている。

【００２９】両鋳型長辺２の背面には、鋳型長辺２を挟
んで対向する位置にリニア移動磁場発生装置８、８、及
び１０、１０が、浸漬ノズル６を中心として鋳型幅方向
に分割され、配置されている。左側のリニア移動磁場発
生装置８、８は左側の電磁場制御装置９に接続され、
又、右側のリニア移動磁場発生装置１０、１０は右側の
電磁場制御装置１１に接続され、浸漬ノズル６の左右で
独立に磁場を制御できるようになっている。磁場の移動
方向は、浸漬ノズル６から鋳型短辺３に向かう方向と、
その逆の方向に切り替えることができる。リニア移動磁
場発生装置８、８、及び１０、１０の鋳造方向の中心位
置は浸漬ノズル６の吐出孔７下端付近とする。ここで示
す電磁場制御装置９、１１は、電源装置を兼ね備えたも
ので、リニア移動磁場発生装置８、８、及び１０、１０
に印加する電源の電圧値、電流値、周波数値、及び交流
電流の位相を変えることができるもので、周波数は、
０．０５Ｈｚから６０Ｈｚ程度まで変更可能であること
が望ましい。

【００３０】リニア移動磁場発生装置８、８、及び１
０、１０の鋳型長辺２を挟んで対向する磁極は、その移
動磁場による期待する駆動力の形態に応じ、Ｎ極とＳ極
の異極対向のケースと、Ｎ極、若しくはＳ極の同極対向
のケースにすることができる。即ち、鋳型１厚み全体に
駆動力を作用させる場合には、異極対向が望ましく、且
つこの場合には、大きなブレーキ力が期待できる。他
方、鋳型１の壁近傍のみに駆動力を作用させる場合は、
同極対向とすれば良い。しかし、この場合には、磁束密
度は鋳型１の壁近傍では大きいが、鋳型１厚み中心では
ゼロになるため、ブレーキ力は鋳型１の壁近傍のみしか
期待できない。従って目的に応じて、対向する磁極の特
性を決めれば良い。対向する磁極の特性は、例えば電磁
場制御装置９、１１により印加する電流の位相を切り替
えて行うことができる。

【００３１】このような構成からなる溶鋼流動制御装置
において、移動磁場の磁束密度はリニア移動磁場発生装
置８、８、及び１０、１０に印加する電流又は電圧を鋳
造中に増減することで制御し、リニア移動磁場の周波数
ｆは印加する交流電流の周波数を鋳造中に変更して制御
し、又、左右のリニア移動磁場発生装置８、８、及び１
０、１０に印加する交流電流の位相は０〜１８０度の範
囲で鋳造中に相対的に変更して印加する。

【００３２】

【実施例】

〔実施例１〕ＤＩ缶用素材として使用され、鋼板の高清
浄性が要求される炭素濃度が０．０３ｗｔ％程度の低炭
素Ａｌキルド鋼に本発明を適用した。

【００３３】本実施例では、前述した図１の溶鋼流動制
御装置に、更に湯面レベル計１２、１２と演算装置１３
とを加えた装置にて実施した。即ち、図１に示すよう
に、鋳型内溶鋼５の上には湯面レベル計１２、１２が浸
漬ノズル６を挟んで鋳型幅方向の左右対称な位置に１個
ずつ設置され、鋳型内湯面変動を測定している。湯面レ
ベル計１２、１２の測定信号は演算器１３に入力され、
鋳型内の湯面変動に応じ、電磁場制御装置９、１１に信
号を出力することができるようになっている。

【００３４】又、左右のリニア移動磁場発生装置の鋳造
方向中心位置は浸漬ノズル吐出孔下端から１５０ｍｍの
位置として、磁場の移動方向は鋳型短辺から浸漬ノズル
の方向とし、異極が対向するように配置した。

【００３５】鋳造条件は、鋳片幅１５５０ｍｍ、鋳片厚
み２３０ｍｍ、鋳片引抜き速度は２．０ｍ／ｍｉｎであ
る。

【００３６】左右のリニア移動磁場発生装置共、鋳型中
心における磁束密度が実効値で３１００ガウスになるよ
うに電流値を設定し、電流周波数は０．１５Ｈｚとし、
又、左右のリニア移動磁場発生装置に印加する交流電流
の位相差は０度の条件で鋳造を開始した。

【００３７】鋳造中に、湯面レベル計の浸漬ノズル左右
の測定値を比較し、左右のメニスカスに３ｍｍ以上の差
が生じた場合に、湯面レベルの高い側のリニア移動磁場
発生装置の周波数を増加し、同時に低い側のリニア移動
磁場発生装置の周波数を減少した。このようにしてメニ
スカスの変動状況に応じて交流電流の周波数を０．０５
〜０．３Ｈｚの範囲内で最適値となるように制御した。

【００３８】同時に、湯面レベル計の信号で、浸漬ノズ
ルの左右でメニスカスが周期的に上下且つ交互に振動す
ることを確認すると、左右のリニア移動磁場発生装置に
印加する交流電流の位相差を相対的に徐々に増加した。
位相差の変更は０から１８０度まで相対的に変更した。

【００３９】本実施例では、印加した周波数が低いにも
かかわらず、周波数が低い場合に発生する鋳型左右の周
期的な湯面の上下振動変動は、左右のリニア移動磁場発
生装置に印加する電流の位相を相対的に変化させること
によって防止でき、且つ、湯面下近傍に適正な流れを形
成することができた。位相の相対的な変化は３０〜１５
０度の範囲で変更すると左右の周期的な湯面変動は回避
できた。

【００４０】鋳造された鋳片を薄鋼板に圧延し、薄鋼板
において超音波探傷試験にてモールドパウダー及び脱酸
生成物を起因とする非金属介在物の欠陥を調査した。非
金属介在物の欠陥発生率は、後述する比較例における欠
陥発生率を１．０として比較すると０．６となった。

【００４１】このように、鋳造中に印加する周波数を変
更することで吐出流速度を左右で均等にすることがで
き、且つ、位相を変更することで周期的な湯面変動を防
止することができるので、メニスカス直下近傍の流れの
最適化が得られ、又、磁束密度を高い状態に保持できる
ので、吐出流速の鋳型下方方向の制動効果が得られ、そ
の結果、アルミナを主体とする脱酸生成物や、モールド
パウダー等の凝固殻への補足防止と浮上促進が図られ、
内部及び表面ともに極めて清浄な鋳片を得ることができ
た。

【００４２】〔実施例２〕実施例１と同一な鋼種、及
び、装置にて本発明を適用した。

【００４３】鋳造条件は、鋳片幅１５５０ｍｍ、鋳片厚
み２３０ｍｍ、鋳片引抜き速度は１．５ｍ／ｍｉｎであ
る。

【００４４】左右のリニア移動磁場発生装置共、鋳型中
心における磁束密度が実効値で２２００ガウスになるよ
うに電流値を設定し、電流周波数は０．５Ｈｚとし、
又、左右のリニア移動磁場発生装置に印加する交流電流
の位相差は０度の条件で鋳造を開始した。

【００４５】鋳造中に、湯面レベル計の浸漬ノズル左右
の測定値を比較し、左右のメニスカスに３ｍｍ以上の差
が生じた場合に、湯面レベルの高い側のリニア移動磁場
発生装置の周波数を増加し、同時に低い側のリニア移動
磁場発生装置の周波数を減少した。このようにしてメニ
スカスの変動状況に応じて交流電流の周波数を０．１〜
０．８Ｈｚの範囲内で最適値となるように制御した。

【００４６】同時に、湯面レベル計の信号で、浸漬ノズ
ルの左右でメニスカスが周期的に上下且つ交互に振動す
ることを確認すると、左右のリニア移動磁場発生装置に
印加する交流電流の位相差を相対的に徐々に増加した。
位相差の変更は０から１８０度まで相対的に変更した。

【００４７】印加する電流が０．５Ｈｚ以下の低周波時
には、左右のリニア移動磁場発生装置に印加する位相に
変化のない場合は、メニスカスの上下振動が発生した
が、交流電流の位相を相対的に変化させることで防止す
ることができた。又、０．５Ｈｚ以上の周波数では、電
流の位相変化なしでも、メニスカスの上下振動は、ほと
んど発生しなかった。

【００４８】鋳造された鋳片を薄鋼板に圧延し、薄鋼板
において超音波探傷試験にてモールドパウダー及び脱酸
生成物を起因とする非金属介在物の欠陥を調査した。非
金属介在物の欠陥発生率は、後述する比較例における欠
陥発生率を１．０として比較すると、０．５５となっ
た。

【００４９】本実施例の適用効果は、実施例１と同様
に、浸漬ノズルからの吐出流の沈静化に威力を発揮し、
内部及び表面共に極めて高清浄な鋳片が得られた。た
だ、本実施例では、磁場の移動方向以外に向かう流れに
対する制動効果は、実施例１に比較して小さいため、浸
漬ノズルからの吐出速度の小さい、すなわち鋳造速度の
低いケースでその大きな効果が期待できる。

【００５０】〔実施例３〕実施例１と同一な鋼種、及
び、装置にて本発明を適用した。但し、本実施例では、
湯面レベル計は湯面変動を測定するのみであり、測定し
た信号は電磁場制御装置にフィードバックしていない。

【００５１】鋳造条件は、鋳片幅１５５０ｍｍ、鋳片厚
み２３０ｍｍ、鋳片引抜き速度は２．０ｍ／ｍｉｎであ
る。

【００５２】本実施例では、印加する電流の周波数を
０．２〜１．２Ｈｚの範囲内で連続的に変化させ、同時
に、磁場移動方向の駆動力が一定になるように、即ち、
磁束密度の２乗と周波数との積が一定になるように、周
波数の変化に応じて自動的に印加電流を変化させて磁束
密度を３１００ガウスから１２７０ガウスまで変更し
た。尚、交流電流の周波数の変更は、最低周波数の約１
周期に相当する時間（約５秒間）で０．２Ｈｚから１．
２Ｈｚまで連続的に変化させた。

【００５３】本実施例においては、メニスカスの上下振
動の共振現象が完成する時間以内に周波数が連続的に変
化するため、位相制御を取り入れるまでもなく鋳型内の
液面レベルは極めて平静であった。

【００５４】鋳造された鋳片を薄鋼板に圧延し、薄鋼板
において超音波探傷試験にてモールドパウダー及び脱酸
生成物を起因とする非金属介在物の欠陥を調査した。非
金属介在物の欠陥発生率は、後述する比較例における欠
陥発生率を１．０として比較すると０．７となった。

【００５５】本実施例でも、実施例１、２と同様に内部
及び表面共に、清浄な鋳片が得られた。

【００５６】尚、磁場の移動方向に対して更に大きな駆
動力を必要とする場合は、周波数を本実施例よりも高い
範囲で変動させれば良く、逆に、駆動力が大き過ぎる場
合は、本実施例より更に低い範囲で周波数を変動させれ
ば良い。

【００５７】〔比較例〕実施例１と同一な鋼種、及び、
装置にて実施した。鋳造条件は、鋳片幅１５５０ｍｍ、
鋳片厚み２３０ｍｍ、鋳片引抜き速度２．０ｍ／ｍｉｎ
である。

【００５８】左右のリニア移動磁場発生装置共、鋳型中
心における磁束密度が実効値で１０００ガウスになるよ
うに電流値を設定し、電流の周波数を１．０Ｈｚの一定
条件として、左右のリニア移動磁場発生装置に印加する
交流電流の位相は同一の条件で鋳造を開始した。

【００５９】鋳造中に、湯面レベル計の浸漬ノズル左右
の測定値を比較し、左右のメニスカスに３ｍｍ以上の差
が生じた場合に、湯面レベルの高い側のリニア移動磁場
発生装置の電流を増加し、同時に低い側のリニア移動磁
場発生装置の電流を減少した。このようにしてメニスカ
スの変動状況に応じて交流電源の電流値を変更して、鋳
型中心における磁束密度が実効値で３００〜１２００ガ
ウスの範囲内で制御した。

【００６０】鋳造された鋳片を薄鋼板に圧延し、薄鋼板
において超音波探傷試験にてモールドパウダー及び脱酸
生成物を起因とする非金属介在物の欠陥を調査した。そ
して、この欠陥発生率を１．０として、本発明の実施例
と比較した。比較例では、磁束密度が小さくなる時期に
該当する鋳片で、主に脱酸生成物であるアルミナによる
欠陥発生率が高い。これは、磁束密度が小さくなる時期
に鋳型下方方向の溶鋼の制動力が弱くなり、吐出流が未
凝固層深くにまで進入したものと考える。

【００６１】

【発明の効果】本発明によれば、浸漬ノズルからの吐出
流の沈静化に加え、リニア移動磁場による鋳型内流動の
最適化が図られ、モールドパウダーの巻き込み防止と脱
酸生成物の浮上促進が実現した結果、鋳片幅方向全体に
わたって内部及び表面共に極めて清浄な鋳片を得ること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した矩形型鋳型を用いた連続鋳造
機の鋳型部の概要を示した図で、（ａ）は側断面図、
（ｂ）は平面図である。

【符号の説明】

１：鋳型 ２：鋳型長辺 ３：鋳型短辺 ４：タンディッシュ ５：溶鋼 ６：浸漬ノズル ７：吐出孔 ８：左側のリニア移動磁場発生装置 ９：左側の電磁場制御装置 １０：右側のリニア移動磁場発生装置 １１：右側の電磁場制御装置 １２：湯面レベル計 １３：演算機 １４：スライディングノズル １５：モールドパウダー １６：凝固シェル １７；メニスカス

フロントページの続き (72)発明者 石井 俊夫 東京都千代田区丸の内一丁目１番２号 日 本鋼管株式会社内 (72)発明者 久保田 淳 東京都千代田区丸の内一丁目１番２号 日 本鋼管株式会社内

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 磁場の移動方向が鋳型幅方向であるリニ
   ア移動磁場発生装置にて磁場を印加して鋳型内の溶鋼流
   動を制御する方法において、磁束密度と移動磁場の周波
   数とを鋳造中に独立に変更することを特徴とする連続鋳
   造鋳型内の溶鋼流動制御方法。
2. 【請求項２】 磁場の移動方向が鋳型幅方向であるリニ
   ア移動磁場発生装置にて磁場を印加して鋳型内の溶鋼流
   動を制御する方法において、磁場の磁束密度の２乗と移
   動磁場の周波数との積が一定の条件で、磁束密度と移動
   磁場の周波数とを鋳造中に連続的に変更することを特徴
   とする連続鋳造鋳型内の溶鋼流動制御方法。
3. 【請求項３】 浸漬ノズルを中心として鋳型幅方向左右
   に２分割され、磁場の移動方向が鋳型幅方向であるリニ
   ア移動磁場発生装置にて左右独立に磁場を印加して鋳型
   内の溶鋼流動を制御する方法において、２分割された左
   右のリニア移動磁場発生装置に印加する交流電流の位相
   を鋳造中に相対的に変化させることを特徴とする連続鋳
   造鋳型内の溶鋼流動制御方法。
4. 【請求項４】 浸漬ノズルを中心として鋳型幅方向左右
   に２分割され、磁場の移動方向が鋳型幅方向であるリニ
   ア移動磁場発生装置にて左右独立に磁場を印加して鋳型
   内の溶鋼流動を制御する方法において、２分割された左
   右のリニア移動磁場発生装置に印加する交流電流の位相
   を鋳造中に相対的に変化させると共に、磁束密度と移動
   磁場の周波数とを鋳造中に独立に変更することを特徴と
   する連続鋳造鋳型内の溶鋼流動制御方法。