JPH10506339A - レーザーアドレス可能な熱転写要素 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
本発明は、非感光性有機銀塩;銀イオン用還元剤;バインダー;トーナー;および約750〜1100nmの波長範囲の放射線を吸収する染料を含有する少なくとも1つの層を有する熱転写画像形成系で少なくとも1つの表面上を塗布した基材を含んで成る熱転写画像形成要素に関する。好ましくは、バインダーと、約750〜1100nmの波長範囲の放射線を吸収する付加的な染料を含有する非感光性有機銀塩等を含有する層と隣接する層がある。熱転写画像形成要素を、0.10〜2.0ジュール/cm2の750〜1100nmの放射線で0.20〜200マイクロ秒間露光すると、約1.0以上の画像濃度となる。熱転写画像形成要素を放射線吸収染料を用いて、隣接する両方の層またはバインダーと染料を含有する層のみに画像形成する場合、放射線は、放射線吸収染料とバインダーを含有する隣接する層に当たる前に、非感光性有機銀塩等を含有する層を貫通する。
Description
【発明の詳細な説明】
レーザーアドレス可能な熱転写要素
発明の分野
本発明は、新規の熱転写画像形成要素に関し、特に赤外線半導体レーザーを用
いて直接画像形成できる熱転写画像形成要素に関する。さらに、本発明は、赤外
線半導体レーザーを用いた、本発明の熱転写画像形成要素の画像形成方法にも関
する。
発明の背景
画像形成技術において、光または熱を用いて画像態様で露光できる画像形成要
素は、周知である。ハロゲン化銀の常套の写真および光熱写真要素は、感光性材
料の種類の中で最も代表的な要素である。通常の写真用(「湿潤銀」)および光
熱写真用(「乾燥銀」)要素の両者において、感光性エマルション中のハロゲン
化銀を光で露光すると、銀原子(Ag°)の小さなクラスターが生成される。こ
のクラスターの画像態様の分布は、当該分野では潜像として知られている。一般
に、形成された潜像は、通常の手段では目に見えず、感光性エマルションをさら
に適切に現像して可視像を生成しなければならない。乾燥および湿潤銀系の両者
において、可視像は、銀原子のクラスターを有するハロゲン化粒子(すなわち、
潜像)に触媒的に接近する銀イオンの還元によって生成される。このことは、白
黒画像を生成する。
常套の写真ハロゲン化銀要素は、潜像を目に見えるようにするために、ウエッ
ト現像プロセスを必要とする。このプロセスで使用する湿潤化学薬品は、特別な
取り扱いと、使用済み化学薬品の廃棄を要する。現像装置は大きく、かつ特別な
配管が必要である。
光熱写真要素において、写真用ハロゲン化銀は、非感光性の還元性銀発生源(
例えば、ベヘン酸銀)と触媒的に接近しているので、ハロゲン化銀の露光により
銀核が発生すると、この核は、還元性銀発生源の還元を触媒作用し得る。潜像は
、要素に均一に熱を加えることによって、目に見えるようになる。光熱写真要素
を
現像するのに用いられる熱転写素子は、ドライプロセスを用いることで、常套の
写真要素内で問題を解決する。しかしながら、この素子を用いて現像した光熱写
真要素は、不規則または不均一な画像濃度、画像歪み、およびまたは表面アブレ
ーション欠陥を有することがある。不均一な画像濃度の欠陥は、例えば、加熱部
材上での表面変化、光熱写真要素もしくは加熱部材の上での無関係な物質の存在
、および現像中に生じた揮発性物質のガス発生を十分に考慮しなかったことによ
って、現像プロセス中に生じ得る。画像歪みは、光熱写真要素の加熱および/ま
たは冷却中に、光熱写真要素の基材の未制御の寸法変化によって生じ得る。表面
アブレーションまたは擦傷は、加熱装置内の据え付け部品に光熱写真要素を引き
ずることで生じ得る。多くの利用(例えば、テキストおよび線引き)では、上記
の欠陥を容認することができる。しかしながら、医療上の診断技術、工業用、グ
ラフィックアート、プリント回路基板、および他の画像形成応用における利用者
は、均一な高画質を望んでいる。
米国特許第5,041,369号公報には、加熱装置との表面接触を必要としな
いドライ現像型光熱写真要素の利点を利用する方法が記載されている。光熱写真
要素を、第2次高調波発生装置を用いてビームを分離させるレーザーを用いて、
画像態様で露光する。この方法では、要素を、ある波長の光で露光すると同時に
、光熱変換型近赤外(NIR)染料の第2波長の光の吸収によって熱活性化する
。このプロセスは、露光と画像の熱現像を同時に行う利点を有するにもかかわら
ず、必要な装置が、複雑で、かつ2つの有用な別々の波長を発生させ得るレーザ
ー出力によって限定される。さらに、感光性エマルションは、画像を発現させる
ために光と熱の両方による活性化が必要である。
ハロゲン化銀を含む感光性エマルションは、スペクトルの可視光および紫外線
(UV)部分の両者において高い最小濃度(Dmin)を発生できることが、当業
者には周知である。高いUV Dminは、ハロゲン化銀(特に臭化銀およびヨウ化
銀)の近UVでの固有吸光度、およびハロゲン化銀と有機銀塩が共に存在する場
合は高い曇り度に依存する。高いUV Dminは、他の媒体(UV感応性印刷プレ
ート、プルーフィングフィルムおよび紙)とのコンタクト露光中に要する露光時
間を増加させることから、グラフィックアートスキャナーや画像定着用フィルム
には望ましくない。高い曇り度は、画像形成した光熱写真要素をコンタクトフィ
ルムとして用いると、画像の解像度の損失を引き起こすこともある。光熱写真要
素中のハロゲン化銀が、曇りをもたらす背景画像濃度の乏しい光安定性を導くこ
とも良く知られている。
ハロゲン化銀系化学に関与しない画像形成要素の一種は、熱転写要素である。
この材料は、ファックス、ラベル、チケット、医療用または科学用のモニター装
置の出力を記録するためのチャート等に広く使用されている。最も汎用の形状で
は、熱転写要素は、カラー形成体(通常、実質上無色の電子供与性染料前駆体)
とカラー現像剤(通常、電子受容性化合物)を含む感熱性組成物のコーティング
を保持する支持体をから構成される。熱は、サーマルヘッド、サーマルペンまた
はレーザービームを用いて要素に画像態様で与えられ、画像態様に加熱すると、
カラー形成体が、即座にカラー現像剤と反応して画像を形成する。米国特許第4
,904,572号公報には、ロイコ染料を用いて現像された画像を向上させる熱
転写要素が記載されている。ロイコ染料は、色保有染料の還元形である。それは
一般に、無色または非常に淡く着色している。この応用において、ベヘン酸銀は
、画像態様で熱を加えると、ルイス酸としてロイコ染料と反応して、着色画像を
形成する。黒色画像は、減色(シアン、黄色およびマゼンタ)の組み合わせによ
って達成される。減色を用いて高濃度の自然な色調の黒色を得るのは、非常に困
難であることが当業者には周知である。着色した染料の形成によって画像を発現
するため、紫外線域での画像の吸収は弱く、それ故にUVマスキングフィルムと
しての利用性をほとんど提供しない。
常套の熱転写フィルムは、典型的に、画像形成滞留時間1〜5秒を要する。こ
の程度の処理時間は、レーザー画像形成応用では実用的ではない。レーザーアド
レス可能な装置に適した画像形成滞留時間を提供するためには、マイクロ秒でin
-situ画像を形成し得る熱転写フィルム構造物が必要である。
上記の種類の画像形成要素には、それぞれ、いくつかの欠点がある。例えば、
常套のハロゲン化銀写真材料は、ウエット現像化学によって高い環境上の衝撃を
与え;光熱写真材料は、より低い画像速度、限定された光学濃度、および乏しい
寸法安定性を有し;ハロゲン化銀系エマルションは、典型的に、漂白または除去
する必要があり、かつ暗色光または柔らかな光の下で取り扱う必要がある可視光
増感剤を使用しており;常套の写真および光熱写真要素は共に、2工程のプロセ
ス(露光および現像)を要し;並びに常套の熱転写要素は、高い画像形成エネル
ギー、比較的長い熱的画像形成滞留時間が必要で、またより低い画像速度と限定
されたUV光学濃度を有している。
産業上必要なものは、上記の課題を克服するのに有用な画像形成要素および方
法である。このような背景から、本発明を開発した。
発明の要旨
一態様において、本発明は、非感光性有機銀塩;銀イオン用還元剤;バインダ
ー;トーナー;および約750〜1100nmの波長範囲の放射線を吸収する染
料を含む少なくとも1つの層から成る熱転写画像形成系を少なくとも1つの表面
上に塗布した基材を含んでなる熱転写画像形成要素であって、非感光性有機銀塩
を含む前記の少なくとも1つの層が、(約750〜1100nmの波長範囲の)
0.10〜2.0ジュール/cm2の放射線で0.2〜200秒露光すると、画像濃
度約1.0以上となる熱転写画像形成要素を提供する。
もう一つの態様では、本発明は、少なくとも2つの隣接する層を含む熱転写画
像形成系を塗布した基材を含んで成る熱転写画像形成要素であって、隣接する層
の一つが、非感光性有機銀塩;銀イオン用還元剤;バインダー;トーナー;およ
び、場合により、約750〜1100nmの波長範囲の放射線を吸収する染料を
含み、並びに他の隣接する層が、(約750〜1100nmの波長範囲の)0.
10〜2.0ジュール/cm2の放射線で0.2〜200秒露光すると、非感光性
有機銀塩を含む層が画像濃度約1.0以上となるように、約750〜1100n
mの範囲の波長の放射線を吸収する染料とバインダーから本質的に構成される、
熱転写画像形成要素を提供する。
別の態様では、本発明は、非感光性有機銀塩;銀イオン用還元剤;約750〜
1100nmの波長範囲の放射線を吸収する染料;トーナー;およびバインダー
を含む少なくとも1つの層を包含する熱転写画像形成系で塗布した基材を含む熱
転写画像形成要素を、非感光性有機銀塩を含む少なくとも一つの層が、0.10
〜2.0ジュール/cm2の放射線で0.2〜200秒露光すると、画像濃度約1.
0以上となるように、約750〜1100nmの波長範囲の放射線で露光する工
程を含んで成る画像形成方法を提供する。
更に別の態様では、本発明は、少なくとも2つの隣接する層を包含する熱転写
画像形成系で塗布した基材を含む熱転写画像形成要素を露光する工程を含んで成
る画像形成方法であって、隣接する層の一つが、非感光性有機銀塩;銀イオン用
還元剤;バインダー;トーナー;および、場合により、約750〜1100nm
の波長範囲の放射線を吸収する染料を含み、並びに他の隣接する層が、バインダ
ーと約750〜1100nmの波長範囲の放射線を吸収する染料から本質的に構
成され、非感光性有機銀塩を含む層が、(約750〜1100nmの範囲の波長
を有する)0.10〜2.0ジュール/cm2の放射線で0.2〜200秒露光する
と、非感光性有機銀塩を含む層が画像濃度約1.0以上となるように、バインダ
ーと染料から本質的に構成される隣接する層に当たる前に、非感光性有機銀塩を
含む層を通して熱転写画像形成要素に向けた約750〜1100nmの波長範囲
の放射線で露光する工程を含んで成る画像形成方法を提供する。
上記の本発明に好ましい態様において、(約750〜1100nmの範囲の波
長を有する)0.10〜2.0ジュール/cm2の放射線で0.2〜200秒露光す
ると、非感光性有機銀塩、還元剤等を含んで成る層内では、金属銀を含有する画
像濃度が、約2.00以上、特に約2.50以上、最も好ましくは約2.75以上
となる。
本発明の上記態様全てにおいて、非感光性有機銀塩、銀イオン用還元剤等を含
んで成る層(「熱転写銀エマルション層」)は、層の合計重量に対して、ハロゲ
ン化銀約1.0重量%を組み込むことができる。
銀系熱転写画像形成要素、および該熱転写画像形成要素を、本発明によって提
供されるレーザーアドレス可能な直接書き込みフィルムとして使用する方法は、
従来の系で観られた多数の課題を解決する。熱転写画像形成要素は、感光性とい
うよりも熱感応性であるため、白色光での取り扱いが容易であり、または可視光
増感剤の除去を要しない。湿潤銀および光熱写真要素のように、画像を現像する
ために、後処理工程を要しない。高出力の半導体レーザーを熱転写画像形成要素
に走査させると、熱転写銀エマルション中にin-situ黒色画像が印字され、それ
によって、プリント回路基板フォトマスク製造用のオンライン検査装置のような
多数の有用な利用が可能となる。さらに、エマルションの露光部のみを加熱して
、基板の温度を比較的変えないことから、フィルムの熱収縮が最小限となる。こ
れは、位置合わせが重要な応用(例えば、色再生用画像固定フィルムおよび印刷
回路基板光用具)には、特に重要である。さらに、熱転写画像形成要素は、カラ
ー再生プロセスに有用な高解像度のハーフトーン画像の製造が可能である。
本発明の他の観点、長所および利点は、詳細な説明、実施例、図面、および請
求の範囲から明白である。
図面の簡単な説明
図1は、レーザーデンシトメーターの模式図を示す。
図2は、フィルム面上の頂点が平坦な円錐形のレーザースポットについての理
論上のデータと実際のプロファイルデータのプロットを比較する、距離に対する
半導体レーザー相対強度のグラフを示す。
図3aは、横断/スキャン方向におけるレーザービームまでの距離に対してプ
ロットした合計入射露光エネルギーのグラフを示す。
図3bは、熱転写要素上に図3aに示したエネルギープロファイルで画像形成
したラインのマイクロデンシトメータープロファイルを示す(実施例16の試料
Nは図示せず。)。
図4は、図3aに示したデータを用いた、露光量の対数に対する濃度のグラフ
を示す。
図5は、熱転写画像形成要素の画像形成部と未画像形成部を比較した、波長に
対する吸光度のグラフを示す(実施例16の試料Nは図示せず。)。
発明の詳細な説明
ここで、「熱転写画像形成要素」とは、少なくとも1つの表面上に「熱転写画
像形成系」を塗布した基材をいう。熱転写画像形成系は、非感光性有機銀塩;銀
イオン用還元剤;バインダー;トーナー;および約750〜1100nmの波長
範囲の放射線を吸収する染料を含有する少なくとも1つの熱転写銀エマルション
層を含んで成る。さらに、熱転写画像形成系は、放射線吸収染料とバインダーも
含有する熱転写銀エマルション層と隣接する層を含んでよい。
本発明において、利用する熱転写銀エマルションは、非感光性銀塩;銀イオン
用還元剤;約750〜1100nmの波長範囲の放射線を吸収する染料;トーナ
ー、バインダー;および、場合により現像促進剤を含んで成る。
非感光性銀塩は、還元剤の存在下において、高温(例えば、60〜225℃)
で還元を行って金属銀を形成する材料である。好ましくは、この材料は、炭素原
子4〜30個、より好ましくは炭素原子8〜28個、最も好ましくは炭素原子1
0〜22個を含有する長鎖アルカン酸(長鎖脂肪族カルボン酸または脂肪酸とし
ても知られている。)の銀塩である。後者は、「銀石けん」としても当業者に既
知である。
脂肪族カルボン酸の銀塩の非限定的な例としては、ベヘン酸銀、ステアリン酸
銀、オレイン酸銀、エルカ酸銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀
、パルミチン酸銀、マレイン酸銀、フマル酸銀、酒石酸銀、リノール酸銀、しょ
うのう酸銀、およびそれらの混合物が挙げられる。配位子のグロス安定定数が4
.0〜10.0の間の有機または無機の銀塩の錯体も使用できる。芳香族カルボン
酸および他のカルボキシル基含有化合物の銀塩としては、米国特許第3,785,
830号公報に記載されているような安息香酸銀、置換安息香酸銀(例えば、3
,5-ジヒドロキ安息香酸銀、o-メチル安息香酸銀、m-メチル安息香酸銀、p-
メチル安息香酸銀、2,4-ジクロロ安息香酸銀、アセトアミド安息香酸銀、p-
フェニル安息香酸銀等)、ガレ酸銀、タンニン酸銀、フタル酸銀、テレフタル酸
銀、サリチル酸銀、フェニル酢酸銀、ピロメリット酸銀、3-カルボキシメチル-
4-メチル-4-チアゾリン-2-チオン等の銀塩;並びに米国特許第3,330,6
63号公報に開示されているようなチオエーテル基を含有する脂肪族カルボン酸
の銀塩が挙げられる。メルカプト基またはチオン基を含有する化合物およびその
誘導
体の銀塩も使用できる。この化合物の好ましい例としては、銀3-メルカプト-4
-フェニル-1,2,4-トリアゾレート、銀2-メルカプトベンズイミダゾレート、
銀2-メルカプト-5-アミノチアジアゾレート、銀2-(S-エチルグリコールアミ
ド)ベンゾチアゾレート;S-アルキルチオグリコール酸(ただし、アルキル基は
、炭素数12〜22である。)の銀塩のようなチオグリコール酸の銀塩;ジチオ
カルボン酸の銀塩(例えば、ジチオ酢酸銀、銀チオアミドエート、銀1-メチル-
2-フェニル-4-チオピリジン-5-カルボキシレート、銀トリアジンチオールエ
ート、銀2-スルフィドベンズオキサゾール);および米国特許第4,123,2
74号公報に開示されている銀塩が挙げられる。さらに、アミノ基を含有する化
合物の銀塩も使用できる。この化合物の好ましい例としては、ベンズトリアゾー
ル類の銀塩(例えば、銀ベンゾトリアゾレート);アルキル置換ベンゾトリアゾ
ール類の銀塩(例えば、銀メチルベンゾトリアゾレート等);ハロゲン置換ベン
ゾトリアゾール類の銀塩(例えば、銀5-クロロベンゾトリアゾレート等);カ
ルボイミドベンゾトリアゾール類の銀塩等;米国特許第4,220,709号公報
に記載の1,2,4-トリアゾールおよび1-H-テトラゾールの銀塩;イミダゾー
ル類の銀塩等が挙げられる。好ましくは、非感光性銀塩材料は、熱転写銀エマル
ション層の合計重量に対して、約5〜60重量%、より好ましくは約30〜50
重量%を占めるべきである。
銀イオン用還元剤を、本発明では使用できる。そのような還元剤は、当業者に
周知である。そのような還元剤の例としては、ガレ酸メチル;立体障害性フェノ
ール;カテコール;ピロガロール;ヒドロキノン;置換ヒドロキノン;アスコル
ビン酸;アスコルビン酸誘導体;ロイコ染料等が挙げられるが、それらに限定さ
れるものではない。最も好ましい還元剤は、ガレ酸メチル、ガレ酸ブチル、およ
びガレ酸プロピルである。本発明で用いられる還元剤はいずれも、熱転写銀エマ
ルション層の合計重量に対して、好ましくは約5.0〜25.0重量%、より好ま
しくは約10.0〜20.0重量%の量で使用される。
トーナーは、熱転写銀エマルション層中でも使用される。トーナーの例として
は、フタラジノン、フタラジン、バルビツール酸、スクシンイミド、およびフタ
ルイミドが挙げられる。トーナーの組み合わせは、特に有用であることが分かっ
ており、好ましい組み合わせは、バルビツール酸とフタラジノン、およびバルビ
ツール酸とフタルイミド、最も好ましくは、バルビツール酸とスクシンイミドで
ある。トーナーは、好ましくは、熱転写銀エマルション層の合計重量に対して、
約0.2〜10.0重量%の範囲;より好ましくは約1.0〜8.0重量%;および
最も好ましくは約2.0〜6.0重量%の量で含まれているべきである。
補助還元剤または現像促進剤は、場合により、使用する銀発生源に依存して、
熱転写銀エマルション促進剤中に含まれてよい。好ましくは、補助還元剤は、現
像促進剤として、3-インダゾリノンまたは尿素化合物を含んで成る。
本発明で使用される3-インダゾリノン化合物は、好ましくは、以下の構造:
[式中、Rは、水素;炭素数1〜4のアルキル基;ハロゲン;−COOHおよび
−R1COOH(式中、R1は、炭素数1〜4のアルキル基である。)からなる群
より選ばれる。]
を有している。好ましくは、Rは、水素、または炭素数1〜4のアルキル基であ
り、最も好ましくは、Rは、水素である。
そのような3-インダゾリノン化合物は、有機合成化学の分野に熟練した者に
良く知られた手順に従って合成できる。あるいは、そのような材料は、例えば、
アルドリッチ・ケミカル・カンパニー・オブ・ミルウォーキー(Aldrich Chemic
al Company of Milwaukee、ウィスコンシン州);ランカスター・ケミカル・カ
ンパニー・オブ・ウィンダム(Lancaster Chemical Company of Windham、ニュ
ーハンプシャー州);およびK&Kラボラトリーズ・オブ・クリーヴランド(La
boratories of Cleveland、オハイオ州)から市販されている。
この分野では熟知のように、大部分の置換は、容認されないが、しばしば望ま
しいことがある。すなわち、ここで「基」とは、純粋な炭化水素置換基(メチル
、エチル等)のみならず、当該分野において常套の置換基(水酸基、アルコキシ
、フェニル、ハロ(F、Cl、Br、I)、シアノ、ニトロ、アミノ等を有する
炭化水素置換基をも包含するものとする。
本発明で使用される尿素化合物は、好ましくは以下の式:
(式中、R2およびR3は、独立して、水素;炭素数1〜10のアルキル基もしく
シクロアルキル基;またはフェニルを表すか、あるいはR2およびR3は、合わせ
て、環員原子6個までを含有する複素環式基を形成する。)
で表される。好ましくは、R2およびR3は、水素;炭素数1〜5のアルキル基も
しくはシクロアルキル基;またはフェニルを表すか、あるいはR2およびR3は、
合わせて、環員原子5個までを含有する複素環式基を形成する。そのような尿素
化合物は、容易に合成することができ、また市販もされている。そのような尿素
化合物の非限定的な例としては、尿素;1,3-ジフェニル尿素;1,3-ジエチル
尿素;ブチル尿素;および2-イミダゾリドンが挙げられる。最も好ましい現像
促進剤は、2-イミダゾリドンである。
本発明の熱転写画像形成要素は、通常、非感光性であるため、増感剤(例えば
、ハロゲン化銀;光開始剤;または感光発生した漂白剤)を含む必要がない。熱
転写銀エマルション層は、熱転写銀エマルションの合計重量に対して、1%重量
未満、0.75重量%未満、0.5重量%未満、または0重量%を有しており、十
分に機能し得る。ハロゲン化銀は、潜像の形成を触媒作用しないと、効果がない
と考えられる。
光安定剤(例えば、ベンゾトリアゾール、フェニルメルカプトテトラゾール、
および当該分野で既知の他の光安定剤)を、熱転写銀エマルションに加えてよい
。好ましい光安定剤は、ベンゾトリアゾールである。光安定剤は、好ましくは、
熱転写銀エマルション層の約0.1〜3.0重量%の範囲、より好ましくは0.3
〜2.0重量%の量で含まれるべきである。
本発明で利用される熱転写銀エマルション層は、バインダーも用いる。当業者
に既知の常套のポリマーバインダーを使用することができる。例えば、バインダ
ーは、周知の天然および合成樹脂(例えば、ゼラチン、ポリビニルアセタール、
ポリ塩化ビニル、酢酸セルロース、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリスチレ
ン、ポリアクリロニトリル、ポリカーボネート等)から選ばれてよい。コポリマ
ーおよびターポリマーは、当然、この定義に含まれており、その例としては、ポ
リビニルアルデヒド(例えば、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール、
ポリビニルホルマール)、およびビニルコポリマーが挙げられるが、それらに限
定されるものではない。好ましくは、バインダーは、熱転写銀エマルション層の
合計重量に対して、10〜60重量%の範囲、特に15〜50重量%の量で含ま
れるべきである。
本発明の熱転写要素は、約750〜1100nmの範囲、好ましくは約750
〜900nmの範囲、最も好ましくは約750〜870nmの範囲の波長の電磁
放射線を吸収する染料を用いる。
染料は、コーティング溶媒、好ましくはケトン類または芳香族溶媒(例えば、
メチルエチルケトンまたはトルエン)に可溶であるべきである。染料は、バイン
ダーとも混和し、かつエマルション中に使用される銀塩、活性化剤および現像剤
とも相溶しなければならない。UV(紫外線)コンタクトフィルムまたはマスク
利用での用途において、染料の光学濃度は、好ましくは、材料をマスクとして使
用する露光装置の波長(250〜450nm)に対応するUV領域において、光
学濃度0.2単位未満の付随する弱い吸収を含む光学濃度1.0単位以上である。
光学濃度は、固定18Aフィルターを装備したマクベスTD523型デンシトメ
ーターを用いて測定する。染料は、低い可視光背景吸収を有することも望ましい
が、必要ではない。
放射線吸収染料は、非感光性有機銀塩;銀イオン用還元剤;トーナー;および
バインダーと同一の層内で用いることができる。あるいは、染料は、前記の層内
、および隣接する層内で、または主に隣接する層内で使用することができる。放
射線吸収染料は、熱転写銀エマルション層へ、直接、または熱転写画像形成要素
の
製造プロセス中に染料を隣接する層から熱転写銀エマルション層中へ移行させる
ことによって非直接的に添加され得る。
適した染料としては、オキソノール、スクエアリウム、カルコゲノピリルアリ
ーリデン、ビス(カルコゲノピリロ)ポリメチン、ビス(アミノアリール)ポリ
メチン、メロシアニン、3核シアニン、インデン橋架けポリメチン、オキシイン
ドリジン、第一鉄錯体、キノイド、ニッケルジチオレン錯体、およびシアニン染
料(例えば、カルボシアニン、アザカルボシアニン、ヘミシアニン、スチリル、
ジアザカルボシアニン、トリアザカルボシアニン、ジアザヘミシアニン、ポリメ
チンシアニン、アザポリメチンシアニン、ホロポーラー、インドシアニン、およ
びジアザヘミシアニン染料)が挙げられるが、それらに限定されるものではない
。
熱転写画像形成要素中に含まれる染料の量は、染料が、熱転写銀エマルション
層にのみに組み込まれるか、または隣接する層にも同様に組み込まれるかに依存
する。染料が熱転写銀エマルション層中にのみ存在する場合、染料は、熱転写銀
エマルション層の合計重量に対して、0.10〜5.0重量%、好ましくは0.2
〜3.0重量%の量で含まれている。
隣接する層中に存在する場合、染料は、熱転写銀エマルション層の合計重量に
対して、0〜5.0重量%、好ましくは約0〜1.0重量%の量で、熱転写銀エマ
ルション層中に含まれている。染料とバインダーを含有する隣接する層中では、
染料は、隣接する層の合計重量に対して、1〜25重量%、好ましくは5〜20
重量%の量で含まれる。
当業者に既知の適した基剤または基材材料はいずれも、本発明では使用できる
。そのような材料は、不透明、半透明または透明であり得る。熱転写技術に利用
される、通常用いられる基剤または基材材料としては、紙;不透明または透明の
ポリエステルおよびポリカーボネートフィルム;並びに反射鏡的に光反射する金
属基材(例えば、銀、金およびアルミニウム)が挙げられるが、それらに限定さ
れるものではない。ここで、「反射鏡的に光反射する金属基材」とは、光が当た
ると、光をある範囲の角度に亙って光を反射することと対抗して、特定の角度で
反射する金属基材をいう。
場合により、熱転写画像形成要素の一番上に配置される保護層または非粘着層
を使用してよい。本発明では、常套の非粘着性材料を用いてよい。そのような非
粘着性材料の例としては、ワックス、シリカ粒子、スチレン含有粘弾性ブロック
コポリマー(例えば、スチレン−ブタジエン−スチレン、スチレン−イソプレン
−スチレン)、およびそれらと酢酸セルロース、酢酸セルロースブチレート、酢
酸セルロースプロピオネートおよびポリ(ビニルブチラール)のような材料との
ブレンドが挙げられるが、それらに限定されるものではない。
別の層(例えば、プライマー層または帯電防止層)を、本発明の熱転写要素中
に組み込んでもよい。さらに、帯電防止層または非粘着層を、場合により、支持
体の裏に貼付してよい。そのような目的のための材料は、当業者に周知である。
本発明で用いられる熱転写画像形成系、非粘着層、赤外線もしくは近赤外染料
吸収層、および帯電防止層は、常套の方法(ナイフ塗布、ロール塗布、ディップ
塗布、カーテン塗布、ホッパー塗布等)で塗布され得る。所望により、2つまた
は3つの層を、米国特許第2,761,791号公報、および英国特許第837,
095号公報に記載の手順により、同時に塗布することができる。
本発明の熱転写画像形成要素は、典型的に赤外または近赤外半導体レーザーか
らの、赤外または近赤外レーザー放射線で露光して画像形成される。熱画像形成
技術において周知の如く、赤外または近赤外半導体レーザーを、有利には、画像
形成速度を高めるように並べて配置してよい。赤外または近赤外放射線を提供す
るために使用できるレーザーは、電磁波スペクトルの赤外および近赤外領域:約
750〜1100nmの光を発生し得るレーザー(染料レーザーを含む);78
0〜870nmの領域で発光するアルミニウムガリウムヒ素半導体レーザーのよ
うな固相半導体レーザー;および半導体−ポンプド(pumped)固相レーザー(例
えば、Nd:YAG、Nd:YLF、またはNd:ガラス)を実質上包含する。
以下の非限定的な実施例によって、本発明をさらに説明する。
実施例
以下の実施例で用いる材料は、特に断りのない限り、アルドリッチ・ケミカル
・カンパニー(ミルウォーキー、ウィスコンシン州)のような標準的な製造元か
ら
入手した。
ベヘン酸銀とラウリン酸銀のホモジネートは、米国特許第4,210,717号
公報(第2欄、55〜57行)または同第3,457,075号公報(第4欄、2
3〜45行、および第6欄、37〜44行)の開示と同様にして調製してよい。
以下の染料を、様々な実施例において使用した。
染料1の調製:米国特許第4,062,682号公報に記載の方法に従って、5-
スルファモイル-2,3,3-トリメチルインドレニンを調製した。5-スルファモ
イル-2,3,3-トリメチルインドレニン37.0g、2-クロロエタンスルホニル
クロライド16.7mL、およびアセトニトリル200mLの混合物を6時間還
流した。水18.5mLを添加した後、混合物を一晩撹拌した。分離した固体を
濾過し、アセトニトリルで洗浄し、乾燥して、1-スルホアルキル化4級塩中間
体11.0gを得た。
クロロシクロペンテンジアルデヒド6.5g、上記で調製した4級塩中間体2
6g、無水酢酸108mL、および酢酸72mLの混合物を、室温で10分間撹
拌した。ジイソプロピルエチルアミン12.8mLを添加した後、混合物を一晩
撹拌した。分離した固体を濾過し、溶媒混合液で洗浄し、乾燥して、染料1 2
0.0gを得た。
染料2の調製:3Lフラスコに、ブチロニトリル250mLと共にトリメチルス
ルホンアミドインドレニン385gを加えた。この混合物に、発熱させずに、ヨ
ウ化ブチル225mL(364g)を添加した後、さらにブチロニトリル750
mLを加えた。混合物を加熱して、効率的なオーバーヘッドスターラーで撹拌し
ながら22.5時間還流した。熱を除去し、混合物を約40℃まで冷却させた。
1時間撹拌を続けた後、酢酸エチル1Lを添加した。固体を濾過し、酢酸エチル
で洗浄し、乾燥して、N-ブチル-2,3,3-トリメチル-5-スルホンアミドイン
ドレニウムヨーダイド595.6gを得た。
5℃以下に冷却した塩化メチレン370mLとジメチルホルムアミド558m
Lの溶液に、1時間かけて、オキシ塩化リン277mLを、温度が5℃を超えな
いような速度で滴下した。添加完了後、外部冷却を取り外して、混合物を1時間
撹拌した。30分かけて、シクロペンタノン75mLを2回に分けて添加した。
最初の添加後に、温度がゆっくりと上昇し、約35℃まで色が観られ、その時点
で、2回目を添加した結果、非常に発熱した。発熱が納まった後、混合物を加熱
して4時間還流した。酢酸エチル1Lを添加した後、混合物を、僅かに真空引き
して蒸留した。液体約250mLを回収し、沈殿が形成し始めたときに、酢酸エ
チル700mLを添加した。混合物を一晩撹拌した。固体を濾過し、酢酸エチル
1L、次にヘプタン1Lで洗浄した後、35℃において真空下で4時間乾燥して
、粗クロロシクロペンテンジアルデヒド115.8gを得た。
粗クロロシクロペンテンジアルデヒドを水1250mLに溶解した。約1時間
後、結晶が現れ始めた。混合物を週末中、放置した。褐色がかった固体を濾過し
、水で洗浄し、35℃において真空下で7時間乾燥して、クロロシクロペンテン
ジアルデヒド61.0gを得た。
酢酸450mLと無水酢酸450mLの溶液に、N-ブチル-2,3,3-トリメ
チル-5-スルホンアミドインドレニウムヨーダイド278.7gとシクロペンテ
ンジアルデヒド47.6gを加えた。撹拌した混合物に、60〜65℃において
5分かけて、トリエチルアミン90mLを滴下した。発熱はほとんど観察されな
かった。混合物をさらに30分間加熱した後、熱を除去して、反応混合物を15
℃に冷却した。得られた金褐色固体を濾過し、洗浄液が紫よりも緑がかるまで、
酢酸:無水酢酸=1:1混合液で洗浄した。残留している酢酸および無水酢酸は
、酢酸エチル1L中に固体を懸濁することによって、除去し、その後90分間撹
拌した。固体を濾過し、酢酸エチルで洗浄した。濾液は、ピンク色であった。固
体を45℃において真空下で一晩乾燥させて、染料2 250.0gを得た。
染料3の調製:上記で調製した染料2 0.1モル、テトラフェニルホウ酸ナトリ
ウム0.1モルおよびメタノール500mLの混合物を、撹拌しながら10分間
還流した。固体を濾過し、メタノールで洗浄し、次に水で洗浄した後、乾燥して
、染料3 0.97モルを得た。
染料4の調製:1,8-ジアミノナフタレン26.05g、2-トリデカノン32.
66g、p-トルエンスルホン酸1水和物55mgおよびトルエン250mLの
撹拌した混合物を、ディーン-スタークトラップを用いて窒素雰囲気下で加熱し
て還流し、反応物から放出された水を5時間除去した。次に、混合物を飽和炭酸
水素ナトリウムで洗浄し、無水炭酸カリウムで乾燥し、濾過して、減圧下で溶媒
を除去した。生成物を蒸留して、ジヒドロペリミジン中間物48.86gを得た
;沸点192〜213℃/0.3〜0.4torr。
上記で調製したジヒドロペリミジン中間物8.0g、スクエア酸1.48g、n
-ブタノール64mLおよびトルエン64mLの撹拌した混合物を、ディーン−
スタークトラップを用いて窒素雰囲気下で加熱して還流し、反応物から放出され
た水を3時間除去した。混合物を濾過し、石油エーテル(沸点35〜60℃)6
00mL中に流し出し、18時間5℃に保持した。生成物を濾別し、石油エーテ
ルで洗浄し、自然乾燥させて、染料4 6.45gを得た。
染料5の調製:撹拌しながら、2,3,3-トリメチル-5-メトキシインドレニン
28gを、発煙硫酸(SO310%)80mLに添加した。混合物を、室温で一
晩撹拌した後、クラッシュ氷500g上に流し出した。水溶液を30%水酸化ナ
トリウム溶液で中和して、真空下で乾固するまで蒸発させた。残渣をメタノール
で抽出して、溶液を蒸発させた。固体をエタノール中で精選し、濾過し、エタノ
ールで洗浄し、真空下で乾燥して、黄色がかった角柱のインドレニン硫酸塩中間
物20gを得た。
上記で調製したインドレニン硫酸塩中間物20g、2,4-ブタンスルホン20
gおよびベンゾニトリル80mLの混合物を、撹拌しながら5時間還流した。形
成した固体を濾過し、酢酸エチルで洗浄し、乾燥し、真空下で乾燥して、淡褐色
角柱としてスルホンアルキル化4級塩中間物を得た。
上記で調製したスルホンアルキル化4級塩中間物14.2g、N-(2-クロロ-
3-(ジメチルアミノ)メチレン)-1-シクロヘキセン-1-イル)メチレン)-N-メチ
ルメタンアミニウムクロライド(欧州特許第0288261号の記載と同様にし
て調製した。)7.5g、ジシクロヘキシルエチルアミン5.4mLおよびベンゾ
ニトリル75mLの混合物を室温で一晩撹拌した。混合物を濾過し、濾液を酢酸
エチルに加えた。固体を濾過して乾燥した。固体をエタノール50mLに溶解し
て、ヨウ化ナトリウム3gを加えた。沈殿物を濾過し、アセトニトリルで洗浄し
、乾燥して、緑がかった角柱として染料5 3gを得た。
染料6は、イーストマン・コダック・カンパニー[Eastman Kodak Co.、ロチ
ェスター(Rochester)、ニューヨーク]から市販されている。
実施例1〜3
以下のコーティング溶液を、実施例1〜3の調製に使用した。銀エマルション
:
ベヘン酸銀ホモジネート 160g
(メチルエチルケトン中10重量%)
ブトヴァー(Butvar、登録商標)B76 20g
ポリビニルブチラール、モンサント・カンパニー(Monsanto Co.)製熱転写コーティング溶液
:
以下の成分を、上記の銀エマルション20gと混合することにより、実施例1
〜3についての熱転写コーティング溶液を調製した。
0.08mm(3miL)のポリエステル基材上に、湿潤厚さ0.1mm(4m
iL)で各溶液を塗布し、60℃で3分間風乾した。
染料1 0.08g、CA 398-6酢酸セルロース樹脂1.0gおよびMEK 20.
0gを混合することにより、赤外線吸収トップコート溶液を調製した。熱転写層
上に湿潤厚さ0.05mm(2miL)でトップコート溶液を塗布し、60℃で
3分間風乾した。
実施例4〜6
以下のコーティング溶液を実施例4〜6の調製に使用した。銀エマルション
:
ラウリン酸銀フル石けんホモジネート 160g
(メチルエチルケトン中10重量%)
BX-1ポリビニルブチラール、 10g
積水化学(Sekisui Chemical Co.)製熱転写コーティング溶液
:
以下の成分を、上記の銀エマルション20gと混合することにより、実施例4
〜6についての熱転写コーティング溶液を調製した。
0.08mm(3miL)のポリエステル基材上に、湿潤厚さ0.1mm(4m
iL)で各溶液を塗布し、60℃で3分間風乾した。
染料1 0.08g、CA 398-6酢酸セルロース樹脂1.0gおよびMEK 20.
0gを混合することにより、赤外線吸収トップコート溶液を調製した。熱転写層
上に湿潤厚さ0.05mm(2miL)でトップコート溶液を塗布し、60℃で
3分間風乾した。
フィルム平面上に(スポット径7μで)集光した1.75J/cm2の810n
m半導体レーザー[スペクトラ・ダイオード・ラボズ・オブ・サンノゼ(Spectra
Diode Labs of San Jose、カリフォルニア州)製]を用いて実施例1〜6の材料
を露光した結果を、表1にまとめる。パーキン・エルマー(Perkin Elmer)製マイ
クロデンシトメーターPDS 1010Mを用いて、可視領域の光学濃度を測定し、また
、固定18Aフィルターを装備したマクベスTD523デンシトメーターを用いて、UV
光学濃度を測定した。蛍光灯(1,000フートキャンドル、90°F)ボック
ス内に試料を24時間静置して、UV光安定性を測定した。
実施例3および6は、熱転写銀エマルションにベンゾトリアゾールを添加する
と、UV Dmin光安定性がかなりの向上することを明白に示している。
実施例7
以下のコーティング溶液を実施例7の調製に使用した。銀エマルション
:
ベヘン酸銀ホモジネート 160g
(メチルエチルケトン中10重量%)
BX-1ポリビニルブチラール、積水化学製 10g熱転写コーティング溶液
:
銀エマルション20gを、ガレ酸メチル0.6g、スクシンイミド0.1g、フ
タルイミド0.1g、無水テトラクロロフタル酸0.1g、ベンゾトリアゾール0
.02g、メタノール1mLを含むバルビツール酸0.05g、およびMEK1m
Lへ添加することにより、熱転写コーティング溶液を調製した。0.08mm(
3miL)のポリエステル基材上に、湿潤厚さ0.08mm(3miL)で溶液
を塗布し、60℃で3分間風乾した。
染料1 0.08g、積水化学BX-1ポリビニルブチラール0.5gおよびMEK
20.0gを混合することにより、赤外線吸収トップコート溶液を調製した。熱
転写層上に湿潤厚さ0.05mm(2miL)でトップコート溶液を塗布し、6
0℃で3分間風乾した。
フィルム平面上に(スポット径7μで)集光した1.75J/cm2の810n
m半導体レーザー[スペクトラ・ダイオード・ラボズ・オブ・サンノゼ(カリフ
ォルニア州)製]を用いて実施例7を露光した。画像形成したフィルムでは、可
視
光Dmax3.4、可視光Dmin0.08、UV Dmax3.6、およびUV Dmin0.1
7が得られた。パーキン・エルマー製マイクロデンシトメーターPDS 1010Mを用
いて、可視領域の光学濃度を測定した。固定18Aフィルターを装備したマクベスT
D523デンシトメーターを用いて、UV光学濃度を測定した。
実施例8
以下のコーティング溶液を実施例8の調製に使用した。銀エマルション
:
ベヘン酸銀ホモジネート 160g
(メチルエチルケトン中10重量%)
BX-1ポリビニルブチラール、積水化学製 15g
アクリロイド(登録商標)A-21アクリル樹脂、 6g
ローム・アンド・ハース(Rohm and Haas)製
メチルエチルケトン(MEK) 50g熱転写コーティング溶液
:
銀エマルション15gを、メタノール4mL、MEK1mLおよびテトラヒド
ロフラン1mLと共に、ガレ酸メチル0.6g、フタラジノン0.1g、2-イミ
ダゾリドン0.1g、無水テトラクロロフタル酸0.1g、バルビツール酸0.0
5gへ添加することにより、熱転写コーティング溶液を調製した。塗布する前に
、染料1 0.13gを溶液に添加した。0.08mm(3miL)のポリエステ
ル基材上に、湿潤厚さ0.08mm(3miL)で溶液を塗布し、50℃で3分
間風乾した。
BX-1ポリビニルブチラールの2.4重量%溶液を含有するトップコート溶液を
、熱転写層上に湿潤厚さ0.05mm(2miL)でオーバーコートして、50
℃で3分間風乾した。
実施例9〜10
以下のコーティング溶液を実施例9〜10の調製に使用した。銀エマルション
:
ベヘン酸銀ホモジネート 160g
(メチルエチルケトン中10重量%)
BX-1ポリビニルブチラール、積水化学製 5g熱転写コーティング溶液
:
銀エマルション15gを、メタノール4mLおよびMEK1mLと共に、ガレ
酸メチル0.6g、スクシンイミド0.1g、2-イミダゾリドン0.1g、無水テ
トラクロロフタル酸0.1g、バルビツール酸0.05gへ添加することにより、
熱転写コーティング溶液を調製した。塗布する前に、染料2 0.08gを実施例
9の溶液に添加し、また染料3 0.08gを実施例10の溶液に添加した。0.
08mm(3miL)のポリエステル基材上に、湿潤厚さ0.08mm(3mi
L)で溶液を塗布し、50℃で3分間風乾した。
BX-1ポリビニルブチラールの2.4重量%溶液を含有するトップコート溶液を
、熱転写層上に湿潤厚さ0.05mm(2miL)でオーバーコートして、50
℃で3分間風乾した。
実施例11〜12
以下のコーティング溶液を実施例11〜12の調製に使用した。銀エマルション
:
ベヘン酸銀ホモジネート 160g
(メチルエチルケトン中10重量%)
ブトヴァー(登録商標)B-76ポリビニルブチラール 20g熱転写コーティング溶液
:
銀エマルション15gを、メタノール4mLおよびメチルエチルケトン1mL
中のガレ酸メチル0.8g、スクシンイミド0.2g、フタラジノン0.1g、2-
イミダゾリドン0.1gへ添加することにより、熱転写コーティング溶液を調製
した。塗布する前に、染料4 0.05gを実施例11の溶液に添加し、また染料
5 0.08gを実施例12の溶液に添加した。0.08mm(3miL)のポリ
エステル基材上に、湿潤厚さ0.1mm(4miL)で溶液を塗布し、21℃で
10分間自然乾燥した。
CA398-6酢酸セルロース(イーストマン・コダック・カンパニー製)の2.4重
量%溶液を含有するトップコート溶液を、熱転写層上に湿潤厚さ0.05mm(
2miL)でオーバーコートして、21℃で20分間風乾した。
フィルム平面上に(スポット径7μで)集光した1.75J/cm2の810n
m半導体レーザー[スペクトラ・ダイオード・ラボズ・オブ・サンノゼ(カリフ
ォルニア州)製]を用いて実施例8〜12の材料を露光した結果を、表2にまと
める。光学濃度の最大値(Dmax)と最小値(Dmin)は、固定18Aフィルターを
装備したマクベスTD523デンシトメーターを用いて測定した。
実施例13
熱転写銀エマルション中にハロゲン化物イオンを含むことの影響を示すために
、臭化カルシウム0.2gを、実施例9の熱転写コーティング溶液に添加した。
21℃で3分間自然乾燥させると、熱転写層は、全体的に黒色に変わった。
実施例14
以下のコーティング溶液を実施例14の調製に使用した。銀エマルション
:
ベヘン酸銀ホモジネート 160g
(メチルエチルケトン中10重量%)
ブトヴァー(登録商標)B-76ポリビニルブチラール 20g熱転写コーティング溶液
:
銀エマルション20gに、ガレ酸メチル0.6g、フタラジノン0.2g、スク
シンイミド0.1g、2-イミダゾリドン0.1gおよびピロガロール0.2gを添
加することにより、熱転写コーティング溶液を調製した。0.08mm(3mi
L)のポリエステル基材上に、湿潤厚さ0.1mm(4miL)で溶液を塗布し
、21℃で10分間自然乾燥した。
染料6 0.03g、CA398-6酢酸セルロース樹脂1.0g、およびMEK 20.
0gを混合して、赤外線吸収トップコート溶液を調製した。トップコート溶液を
熱転写層上に湿潤厚さ0.05mm(2miL)で塗布し、60℃で3分間風乾
した。
実施例15
以下のコーティング溶液を実施例15の調製に使用した。銀エマルション
:
ベヘン酸銀ホモジネート 160g
(メチルエチルケトン中10重量%)
ブトヴァー(登録商標)B-76ポリビニルブチラール 20g熱転写コーティング溶液
:
銀エマルション20gに、ガレ酸メチル0.6g、スクシンイミド0.1g、2
-イミダゾリドン0.1gおよびL-アスコルビン酸パルミテート0.2gを添加す
ることにより、熱転写コーティング溶液を調製した。0.08mm(3miL)
のポリエステル基材上に、湿潤厚さ0.1mm(4miL)で溶液を塗布し、6
0℃で3分間風乾した。
染料6 0.03g、CA398-6酢酸セルロース樹脂1.0g、およびMEK 21.
0gを混合して、赤外線吸収トップコート溶液を調製した。トップコート溶液を
熱転写層上に湿潤厚さ0.05mm(2miL)で塗布し、60℃で3分間風乾
した。
各実施例についてのレーザー露光結果を、表3にまとめる。最大および最小光
学濃度は、固定18Aフィルターを装備したマクベスTD523デンシトメーターを用い
て測定した。
放射線吸収染料は、主として熱転写銀エマルション層に組み込まれ得る。熱転
写銀エマルション層は、そのガラス転移温度を超えて加熱されることにより、銀
イオン用還元剤を、層内の非感光性有機銀塩(例えば、ベヘン酸銀)へ移行させ
ると考えられる。ベヘン酸銀は、還元剤で元素銀に還元されて、褐色/黒色画像
を形成する。形成中にトーナーを組み込むと、より自然な黒色が得られる。画像
形成部の元素銀の形成は、最終要素中の画像のUV不透明性を与えるのみならず
、画像形成プロセスを促進する赤外線吸収剤でもある。赤外線レーザービームの
強度は、熱転写銀エマルション層中へ浸透するため、露光量的に減少する。熱転
写銀エマルション層の厚さと、赤外線染料の濃度は、層を通過する距離の関数と
してレーザービームの強度を低下させることにより、画像の鮮明性に影響を及ぼ
す。熱転写銀エマルション層の厚さは、好ましくは約1〜10μmの間、約2〜
6μmの間である。層のIR吸収が一般に、20〜99%の間;好ましくは50
〜90%の間;特に60〜85%の間であるように、赤外線染料の濃度と層の厚
さを調節する。
(ピクセル滞留時間が短く、かつレーザーピーク強度が高い)高解像度画像形
成条件では、赤外線染料を、構造物の熱転写エマルション層中にのみ組み込むと
、アブレーションが生じることがある。レーザービームが熱転写銀エマルション
層に入射する表面では、昇温速度が、より高い。元素銀が形成すると、レーザー
ビームの吸収が高まる。このことは、熱転写銀エマルション層を過熱させ、それ
によって発煙、損傷またはアブレーションが生じさせることがある。
熱転写銀エマルション層内の赤外線染料の濃度を排除または低下させて、熱転
写銀エマルション層と隣接する層に赤外線染料を添加することによって、熱転写
銀エマルション層へのレーザービームの浸透を高めることができる。熱転写画像
形成要素は、赤外線染料を含有する隣接する層に当たる前に、熱転写銀エマルシ
ョン層を通してレーザービームを向けて露光する。赤外線吸収層は、隣接する層
を上に配置した基材に対して、熱転写銀エマルション層の上または下に配置でき
る。赤外線吸収層中の赤外線染料の濃度は、最も高い昇温速度が、赤外線吸収層
と熱転写銀エマルション層の間の界面で生じるように選ばれる。赤外線染料の濃
度は、熱転写層の厚さと、染料の物理的特性に依存する。例えば、1μm厚の熱
転写層内の赤外線染料の濃度は、好ましくは約90%またはそれ以上の吸収を達
成する
ように調節される。
画像形成レーザーパルスの進路中、元素銀が、この界面で形成する。形成され
た元素銀は、熱転写銀エマルション層のこの領域で赤外線吸収を高め、かつ熱転
写銀エマルション層内の画像部用熱源として作用する。赤外線吸収層付近で元素
銀濃度を高めると、熱転写銀エマルション層の反対の表面付近の強度が減衰し、
それによって、この領域内で過熱を低減する。ピクセル画像のプロファイルは、
アワーガラス形状に近似しているため、より鮮明な画像となる。
実施例16
本実施例は、本発明の熱転写画像形成要素の画像形成特性に対する熱転写銀エ
マルション層の厚さ、樹脂/銀比、赤外線染料の濃度およびトップコートの種類
の影響を表している。
実施例A〜Pの調製には、以下のコーティング溶液を使用する。Xは、表4の
記載の如く変化させることができる。銀エマルション
:
ベヘン酸銀ホモジネート 160g
(メチルエチルケトン中10重量%)
ブトヴァー(登録商標)B-76ポリビニルブチラール Xg熱転写コーティング溶液
:
メタノール4mLおよびメチルエチルケトン1mL中のガレ酸メチル0.8g
、スクシンイミド0.2g、フタラジノン0.1g、2-イミダゾリドン0.1gに
銀エマルション15gを添加することにより、熱転写コーティング溶液を調製し
た。塗布する前に、染料2 Xgを溶液に添加した。0.08mm(3miL)の
ポリエステル基材上に、湿潤厚さXで溶液を塗布し、70℃で3分間風乾した。
CA398-6酢酸セルロース;モンサント・カンパニー製スクリプセット(Scripse
t、登録商標)540スチレン−無水マレイン酸コポリマー;、ダウ・ケミカル・カ
ンパニー(Dow Chemical Company)製ティリル(Tyril、登録商標)880Bスチレ
ン−アクリロニトリル樹脂、またはポリビニルアルコール(PVA)、エアー・
プロダクツ・アンド・ケミカルズ・インコーポレイテッド(Air Products and C
hemicals,Inc.、アレンタウン(Allentown)、ペンシルバニア州)製エアヴォル
(Airvol、登録商標)523の2.4重量%溶液、および染料2 X%から成るトッ
プコート溶液を、熱転写層上に湿潤厚さXで塗布し、50℃で3分間風乾した。
試料1A〜Pを、レーザー感度計により、20〜60cm/秒の範囲の幾つか
の異なる走査速度で走査した。パーキン−エルマー製マイクロデンシトメーター
PDS 1010Mを用いて、415nmでの上記のラインの濃度プロファイルを測定し
た。画像形成していない要素について、島津(Shimadzu)製分光光度計MPC-3100
/UV3101PCを用いて、826nm(半導体レーザー波長)および415nmにお
ける光学濃度測定を行った。
図1に示すレーザー感度計(1)を使用して、実施例16の熱転写画像形成要
素を評価した。2361-P2ファイバーカップルド(coupled)半導体レーザー(3)
[スペクトラ・ダイオード・ラボズ(Spectra Diode Labs)製]から発光した70
0mWビーム(2)を、回転ドラム(4)上に集光した。ファイバー(5)のコ
ア直径は100μmで、半導体レーザー(3)の波長は826nmであった。回
転ドラム(4)上での出力は210mWであり、スポット形状は、全幅の1/2
最大(FWHM)においてスポット径45μmの頂上が平坦な円錐形であった。
頂上が平坦な円錐形プロファイルは、r0(円錐形のピーク強度の半径)と、r1
(強度がほぼ0である円錐形の外径)で特徴付けられる。走査スリットビームプ
ロファイラーを用いて、レーザースポットの強度プロファイルを測定した。プロ
ファイラーは、スリット移動方向と垂直な方向の強度を積分するため、実際のス
ポットプロファイルを、プロファイラーデータから推測した。図2には、プロフ
ァイルデータ(6)と、r0=10μmおよびr1=36μmの頂上が平坦な円錐
形の強度プロファイルについて予想された計算上のプロファイルデータ(7)の
比較を示す。曲線は、モデルとしての頂上が平坦な円錐形の1方向の強度プロフ
ァイルを積分して、再度スケーリングして算出した。
強度プロファイルがフィルムを横断して走査すると、スポットプロファイルの
下にある点は、制限された露光エネルギーを受容する。この露光エネルギーは、
走査したスポットに関する点の配置、並びにスポット走査速度に依存する。図3
aは、横断/スキャン方向におけるビームまでの距離に対してプロットした合計
入射露光エネルギーを示す。曲線は、ファイバーカップルド感度計モデルビーム
形状について計算されたものであり、走査速度40cm/秒とした。図3bには
、図3aに示したエネルギープロファイルで熱転写要素上に画像形成したライン
のマイクロデンシトメータープロファイルを示す。(実施例16の試料Nは図示
せず。)濃度データは、415nmでの狭域バンドフィルターを用いて集めた。
図3bの濃度エッジは、図3aに示した入射露光プロファイルのエッジよりも大
きな傾斜を表しており、熱転写要素(実施例16の試料Nは図示せず。)が高い
コントラストを有することを示している。
熱転写要素のコントラストは、D−LogEを用いて、より定量的に評価でき
る。D−LogE曲線は、入射露光エネルギーの対数に対する画像形成したフィ
ルムの濃度のプロットである。この曲線の理論的な形状は、
D=γLog(EEF/E0)
(式中、γは、D−LogE曲線の勾配に等しく、Eは、入射露光エネルギーに
等しく、EFは、曇りまたは背景水準の有効エネルギーに等しく、E0は、画像の
現像を開始するのに必要な最小エネルギーに等しく、およびDは、露光エネルギ
−Eで露光したときの要素の光学濃度に等しい。)
で与えられる。背景濃度は、γLogEFに等しい。図3に示すデータを用いて
、D−LogE曲線を計算し、図4にプロットした。光学濃度の式で説明したモ
デル曲線から、要素のγまたはコントラストは、D−LogE曲線の勾配に相当
する。図4のD−LogE曲線におけるγ値は、34である。相対比較において
、典型的に迅速に入手できるウェット現像型のハロゲン化銀フィルムのγは、約
10である。高いコントラストのハーフトーンドットが、一定の色調曲線制御、
さらには新規の推計学的なスクリーニングプロセスには望ましいことから、より
高いコントラストは、グラフィックアート利用には有利である。同様の利点は、
プリント回路基板の光学用具応用にも当てはまる。
図4のD−LogE曲線は、濃度現像が、0.9J/cm2で始まることと、最
大濃度(Dmax)での濃度の飽和が、1.2J/cm2で生じることを示している
。最適な画像形成速度とスキャナー露光条件が、熱転写要素を画像形成するのに
使用する特定のスキャナーでは特有であることが分かる。
図4に記載した試料それぞれを、図1のレーザー感度計(1)を用いて、20
〜60cm/秒の範囲の幾つかの異なる走査速度で走査した。D−LogE曲線
は、パーキン−エルマー製マイクロデンシトメーターにより、415nmでの上
記ラインの濃度プロファイルからのデータを用いて計算された。上記の光学濃度
の式中のモデルパラメーターは、D−LogE曲線から決定した。結果を表5に
まとめる。
mD E0,50=D−LogE曲線からのE0値、走査速度20cm/秒(cm/秒)
mD Esat,50=D−LogE曲線からのEsat値、走査速度20cm/秒
mD Dmax,50=20cm/秒での最大濃度
mD Dmin,50=20cm/秒での最小濃度
γ,50=20cm/秒で走査したときのγ値
mD E0,100=D−LogE曲線からのE0値、走査速度40cm/秒
mD Esat,100=D−LogE曲線からのEsat値、走査速度40cm/秒
mD Dmax,100=40cm/秒での最大濃度
mD Dmin,100=40cm/秒での最小濃度
γ,100=40cm/秒で走査したときのγ値
γ100/γ50=(40cm/秒でのγ)を(20cm/秒でのγ)で除した値
試料A〜Lについての平均値E0は、走査速度20cm/秒では0.8±0.2
J/cm2、および走査速度40cm/秒では0.9±0.2J/cm2である。濃
度現像を開始するのに要する最小露光エネルギーは、走査速度に相対的に依存し
ている。Esat値も同様に、速度に依存している。Esatについての平均値は、
走査速度20cm/秒では1.3±0.2J/cm2、および走査速度40cm/
秒では1.2±0.1J/cm2である。γ値は、2つの速度での画像形成能の差
の証拠を示す。走査速度20cm/秒での試料A〜Lについての平均γ値は、1
2±4であり、同様に40cm/秒でのγ値は、24±6である。したがって、
γ値は、走査速度が高くなると、著しく向上するように見える。低い方の走査速
度での熱拡散は、エッジの鮮明性の損失をより顕著にもたらすため、画像のγを
低下させることが可能である。光熱写真銀媒体とは異なる熱転写銀要素は、露光
条件のより顕著な効果を表している。
試料C、IおよびKは、異なる赤外線染料濃度で塗布した。試料CおよびIは
、826nmの半導体レーザー波長において吸収80%を有した。試料Kは、同
じ厚さに塗布したが、826nmでの吸収が96%となるようにより多くの赤外
線染料を添加した。CとIについての平均Eo値およびEsat値はそれぞれ、走査
速度40cm/秒において0.93J/cm2および1.21J/cm2である。試
料KについてのEo値およびEsat値はそれぞれ、0.66J/cm2および1.0
J/cm2である。フィルム感度は、16%の層吸収の増加によって、わずかに
高まったように見える。
コーティングが薄いほど効果はより顕著となる。試料D、JおよびLは、C、
IおよびKの半分の厚さで塗布した。試料DおよびJは、入射レーザー放射線の
約50%だけを吸収し、40cm/秒では画像形成しない。試料Lは、入射レー
ザー放射線の約85%を吸収した。DとJについての平均Eo値およびEsat
値はそれぞれ、20cm/秒において1.0J/cm2および1.91J/cm2で
あるが、試料LについてのEo値およびEsat値はそれぞれ、0.35J/cm2お
よび1.0J/cm2である。Lについての露光エネルギー値は、DおよびJより
も低い。感度は、感熱銀エマルション層のレーザー吸収が高まるにつれて、また
は赤外線染料濃度が高まるにつれて向上する。試料KおよびLにおける40cm
/秒で走査して画像形成したラインのエッジは、他の単一赤外線層試料よりも平
滑であった。ラインエッジ鮮明性は、層内の赤外線染料濃度を増加させることに
よって高めることができる。
同様の吸収%であるが、厚さが異なる試料の比較は、より高い赤外線染料濃度
のより薄いコーティングは、より厚いコーティングよりも感度が高いことを示し
ている。KについてのEoおよびEsatはそれぞれ、20cm/秒では0.56J
/cm2および1.3J/cm2であるが、LについてのEoおよびEsatはそれぞ
れ、0.35J/cm2および1.0J/cm2である。試料Lの厚さは、Kの半分
であるが、レーザー放射線の85%を吸収し、Kに比べて粗い。赤外線濃度を増
加させることは、熱転写層内の上昇したピーク温度によって、アブレーションを
引き起こすことがある。赤外線染料を含有する単一感熱銀エマルション層の感度
は、最も高い可能な赤外線染料濃度を有する、出来る限り薄いの熱転写銀エマル
ション層を塗布することによって最大限にでき、同時に所望の最大濃度を保持し
得る。
画像形成されたラインの質は、樹脂と銀の比によって影響を受ける。表5に示
すように、試料A、CおよびEについての露光エネルギー値とγ値は、樹脂と銀
の比の変化によっては、ほとんど影響されない。しかしながら、これらの試料の
顕微鏡写真は、樹脂と銀の比が、ラインの画質に影響を及ぼすことを示している
。樹脂と銀の比が低下すると、ラインのエッジが、粗く、ぎざぎざになり、画像
形成されたラインの横方向およびラインに沿った濃度均一性が低下する。樹脂濃
度を減少させると、バルク材料の加熱をより少なくするために、材料の感度を上
げなければならない。すなわち、ぎざぎざになったエッジは、この利点を相殺し
結果であるように思われる。樹脂と銀の比は、好ましくは約25〜50重量%の
間である。
本発明のもう一つの態様は、熱転写銀エマルション層と隣接する層での赤外線
染料の添加を含んでなる。実施例16の試料N、O、G、HおよびPは、熱転写
要素のトップコート内での赤外線染料の添加を評価している。いくつかの未知の
理由から、試料M、GおよびHは、画像形成が不十分であったため、表4には含
まれていない。試料N、OおよびPは、熱転写層にのみ赤外線染料を含む試料に
比べて、高まったライン質を発現した。試料N、OおよびP中の熱転写銀層は、
高濃度の赤外線染料を含有するスクリプセット(登録商標)樹脂の0.05mm
厚コーティングでオーバーコートした。2層が混合しなかったことを確かめるた
めに、1片の感圧接着テープを用いて、トップコートを熱転写銀エマルション層
から剥離した。試料NおよびOはそれぞれ、走査速度40cm/秒において34
および30よりも高いγ値を有する。このγ値は、汎用のハロゲン化銀複製フィ
ルムに相当する。比較として、典型的に迅速に入手できるハロゲン化銀フィルム
は、γ値が約10である。試料Pの質は、NおよびOと同等であるが、この試料
についてのD−LogE曲線は、計算しなかった。NおよびOは共に、約1μm
のエッジ粗さの鮮明で平滑なラインエッジを表す。熱転写銀層中に赤外線染料を
含有する試料のみが、試料NおよびOよりも粗いエッジを有する。試料N、Oお
よびPの濃度均一性は、±15%以内であった。試料NおよびOの感度は、赤外
線染料を含むトップコートを有しない試料に相当する。試料N、OおよびPには
、アブレーションは観られなかった。向上したエッジコントラスト、エッジ鮮明
性、および濃度均一性は、熱転写銀層と隣接する層内での赤外線染料の添加によ
って達成できる。さらに、この構造では、アブレーションし易さも低減した。熱
転写銀層中の赤外線染料の濃度は、熱転写層中のレーザー放射線の吸収が、好ま
しくは40%以下、特に35%以下である程度の量である。
図5は、実施例16の試料Nについての画像形成したもの(8)および画像形
成していないもの(背景)(9)の透過スペクトルを示す。820nmでの向上
した赤外線染料吸収ピークは、明白な証拠である。半導体レーザー波長826n
mでの濃度は、0.84(透過率14.5%)から1.26(透過率5.5%)へ高
まり、同様に415nmでの濃度は、0.355(透過率44.2%)から5.0
(透過率ほぼ0%)へ高まる。露光中の熱転写層中で形成された元素銀は、紫外
線(UV)での向上した吸光度差を提供し、これはUVマスク適用の利点である
。表5において、マイクロデンシトメーターで測定したDmaxは、分光光度計か
ら得られた値よりも低く、3.7であった。一見して、マイクロデンシトメータ
ーで測定できる最大光学濃度は、約3.7が限度である。これは、表5において
算出されたγ値の多くが、真の値よりも低く、そのため、控えめな概算として処
理されなければならないことを包含している。
熱放散によってほとんどまたは全く影響を受けなていない熱転写要素の画像形
成特性を比較するために、811nmで発光する150mW(画像形成平面で1
10mW)の半導体レーザー[SDK-5422、スペクトラ・ダイオード・ラボズ(Spe
ctra Diode Labs)製]を用いて、実施例1、2、3、4、5、6および16(試
料N)を画像形成した。ビームは、8μmスポット径(1/e2レベルでの全幅
)に集光し、横断方向の走査ライン間隔4.5μmにおいて、213cm/秒で
走査した。表6に、この評価結果をまとめる。
データは、熱転写銀エマルション層中でラウリン酸銀をバルビツール酸と組み
合わせて用いたとき(実施例5および6)、またはベヘン酸銀組成物中でより高
い濃度のガレ酸メチルを使用したとき(実施例16、試料N)に、より高いコン
トラスト(Dmax−Dmin)のフィルムが、達成されることを示している。作業可
能なUVコントラスト適用を提供するために、コントラストは、好ましくは約2
50よりも大きい。データは、ベンゾトリアゾールの添加が、フィルムの速度を
抑制するが、銀石けんとしてラウリン酸銀を用いると、速度の低下は最小である
ことを示している。わずかな速度低下が観察されることがあるとしても、図1に
示すような向上した光安定性は、熱転写銀エマルション中にベンゾトリアゾール
を含むことに利点を提供する。
請求の範囲で定義するような本発明の精神または範囲を逸脱することなく、前
記記載から適当な変更および改良が可能である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.非感光性有機銀塩;銀イオン用還元剤;バインダー;トーナー;および約 750〜1100nmの波長範囲の放射線を吸収する染料を含む少なくとも1つ の層から成る熱転写画像形成系を少なくとも1つの表面上に塗布した基材を含ん でなる熱転写画像形成要素であって、非感光性有機銀塩を含む前記の少なくとも 1つの層が、0.10〜2.0ジュール/cm2の放射線で0.20〜200秒露光 すると、画像濃度約1.0以上となる熱転写画像形成要素。 2.画像濃度が約2.00以上でかつ金属銀を含んで成る請求項1記載の要素 。 3.画像濃度が約2.50以上でかつ金属銀を含んで成る請求項1記載の要素 。 4.画像濃度が約2.75以上でかつ金属銀を含んで成る請求項1記載の要素 。 5.染料が、約750〜900nmの波長範囲の放射線を吸収する請求項1記 載の要素。 6.熱転写画像形成系が、現像促進剤も含んで成る請求項1記載の要素。 7.非感光性有機銀塩が、炭素原子10〜30個を含有するカルボン酸の銀塩 である請求項1記載の要素。 8.銀塩が、ベヘン酸銀またはラウリン酸銀である請求項7記載の要素。 9.現像促進剤が、 (i)式: [式中、Rは、水素;炭素数1〜4のアルキル基;ハロゲン;−COOH;およ び−R1COOH(式中、R1は、炭素数1〜4のアルキル基である。)からなる 群より選ばれる。] で表される3-インダゾリノン化合物;および (ii)式: (式中、R2およびR3は、独立して、水素;炭素数1〜10のアルキル基もしく はシクロアルキル基;またはフェニル基を表すか、あるいはR2およびR3は、合 わせて、環員原子数6までを含有する複素環式基を形成する。) 尿素化合物 からなる群より選ばれるものである請求項6記載の要素。 10.Rが、水素を表し;R2およびR3が、独立して、炭素数1〜5のアルキ ル基もしくはシクロアルキル基;またはフェニルを表すか、またはR2およびR3 が、合わせて、環員原子数5までを含有する複素環式基を形成する請求項9記載 の要素。 11.トーナーが、フタラジノン、フタラジン、バルビツール酸、スクシンイ ミド、およびフタルイミドからなる群より選ばれた少なくとも1つである請求項 1記載の要素。 12.少なくとも2つの隣接する層から構成される熱転写画像形成系で塗布し た基材を含んで成る熱転写用画像形成要素であって、熱転写画像形成系の隣接す る層の一つが非感光性有機銀塩;銀イオン用還元剤;トーナー;バインダー;お よび場合により、約750〜1100nmの波長範囲の放射線を吸収する染料を 含み;他方の層が、本質的にバインダーと約750〜1100nmの波長範囲の 放射線を吸収する前記染料から構成され、および前記の非感光性銀塩を含む層が 、0.10〜2.0ジュール/cm2の放射線で0.20〜200秒露光すると、約 1.0以上の画像濃度となる熱転写用画像形成要素。 13.非感光性有機銀塩が、炭素原子10〜30個を含有するカルボン酸の銀 塩である請求項12記載の要素。 14.カルボン酸の銀塩が、ベヘン酸酸銀またはラウリン酸銀である請求項1 2記載の要素。 15.熱転写画像形成系が、現像促進剤も含んで成る請求項12記載の要素。 16.現像促進剤が、(i)式: [式中、Rは、水素;炭素数1〜4のアルキル基;ハロゲン;−COOH;およ び−R1COOH(式中、R1は、炭素数1〜4のアルキル基である。)からなる 群より選ばれる。] で表される3-インダゾリノン化合物;および (ii)式: (式中、R2およびR3は、独立して、水素;炭素数1〜10のアルキル基もしく はシクロアルキル基;またはフェニル基を表すか、あるいはR2およびR3は、合 わせて、環員原子数6までを含有する複素環式基を形成する。) 尿素化合物 からなる群より選ばれる請求項15記載の要素。 17.Rが、水素を表し;R2およびR3が、独立して、炭素数1〜5のアルキ ル基もしくはシクロアルキル基;またはフェニル基を表すか、あるいはR2およ びR3が、合わせて、環員原子数5までを含有する複素環式基を形成する請求項 16記載の要素。 18.染料が、約750〜900nmの波長範囲の放射線を吸収する請求項1 2記載の要素。 19.画像濃度が約2.00以上でかつ金属銀を含んで成る請求項12記載の 要素。 20.画像濃度が約2.50以上でかつ金属銀を含んで成る請求項12記載の 要素。 21.画像濃度が約2.75以上でかつ金属銀を含んで成る請求項12記載の 要素。 22.トーナーが、フタラジノン、フタラジン、バルビツール酸、スクシンイ ミド、およびフタルイミドからなる群より選ばれた少なくとも1つである請求項 12記載の要素。 23.非感光性有機銀塩;銀イオン用還元剤;約750〜1100nmの波長 範囲の放射線を吸収する染料;トーナー;およびバインダーを含む少なくとも1 つの層を包含する熱転写画像形成系で塗布した基材を含む熱転写画像形成要素を 、非感光性有機銀塩を含む少なくとも一つの層が、0.10〜2.0ジュール/c m2の放射線で0.2〜200秒露光すると、画像濃度約1.0以上となるように 、約750〜1100nmの波長範囲の放射線で露光する工程を含んで成る画像 形成方法。 24.非感光性有機銀塩が、炭素原子10〜30個を含有するカルボン酸の銀 塩である請求項23記載の方法。 25.カルボン酸の銀塩が、ベヘン酸酸銀またはラウリン酸銀である請求項2 4記載の方法。 26.熱転写画像形成系が、現像促進剤も含んで成る請求項23記載の方法。 27.現像促進剤が、(i)式: [式中、Rは、水素;炭素数1〜4のアルキル基;ハロゲン;−COOH;およ び−R1COOH(式中、R1は、炭素数1〜4のアルキル基である。)からなる 群より選ばれる。] で表される3-インダゾリノン化合物;および (ii)式: (式中、R2およびR3は、独立して、水素;炭素数1〜10のアルキル基もしく はシクロアルキル基;またはフェニル基を表すか、あるいはR2およびR3は、合 わせて、環員原子数6までを含有する複素環式基を形成する。) 尿素化合物 からなる群より選ばれる請求項26記載の方法。 28.Rが、水素を表し;R2およびR3が、独立して、炭素数1〜5のアルキ ル基もしくはシクロアルキル基;またはフェニル基を表すか、あるいはR2およ びR3が、合わせて、環員原子数5までを含有する複素環式基を形成する請求項 27記載の方法。 29.染料が、約750〜900nmの波長範囲の放射線を吸収する請求項2 3記載の方法。 30.画像濃度が約2.0以上でかつ金属銀を含んで成る請求項23記載の方 法。 31.画像濃度が約2.50以上でかつ金属銀を含んで成る請求項23記載の 方法。 32.画像濃度が約2.75以上でかつ金属銀を含んで成る請求項23記載の 方法。 33.トーナーが、フタラジノン、フタラジン、バルビツール酸、スクシンイ ミド、およびフタルイミドからなる群より選ばれた少なくとも1つである請求項 1記載の方法。 34.少なくとも2つの隣接する層を包含する熱転写画像形成系で塗布した基 材を含んで成る熱転写画像形成要素を露光する工程を含んで成る画像形成方法で あって、隣接する層の一つが、非感光性有機銀塩;銀イオン用還元剤;トーナー ;バインダー;および、場合により、約750〜1100nmの波長範囲の放射 線を吸収する染料を含み、並びに他の隣接する層が、バインダーと約750〜1 100nmの波長範囲の放射線を吸収する染料から本質的に構成され、非感光性 有機銀塩を含む層が、0.10〜2.0ジュール/cm2の放射線で0.20〜20 0秒露光すると、非感光性有機銀塩を含む層が画像濃度約1.0以上となるよう に、バインダーと染料から本質的に構成される隣接する層に当たる前に、非感光 性有機銀塩を含む層を通して熱転写画像形成要素に向けた約750〜1100n mの波長範囲の放射線で露光する工程を含んで成る画像形成方法。 35.非感光性有機銀塩が、炭素原子10〜30個を含有するカルボン酸の銀 塩である請求項34記載の方法。 36.カルボン酸の銀塩が、ベヘン酸酸銀またはラウリン酸銀である請求項3 4記載の方法。 37.熱転写画像形成系が、現像促進剤も含んで成る請求項34記載の方法。 38.現像促進剤が、(i)式: [式中、Rは、水素;炭素数1〜4のアルキル基;ハロゲン;−COOH;およ び−R1COOH(式中、R1は、炭素数1〜4のアルキル基である。)からなる 群より選ばれる。] で表される3-インダゾリノン化合物;および (ii)式: (式中、R2およびR3は、独立して、水素;炭素数1〜10のアルキル基もしく はシクロアルキル基;またはフェニル基を表すか、あるいはR2およびR3は、合 わせて、環員原子数6までを含有する複素環式基を形成する。) 尿素化合物 からなる群より選ばれる請求項37記載の方法。 39.Rが、水素を表し;R2およびR3が、独立して、炭素数1〜5のアルキ ル基もしくはシクロアルキル基;またはフェニル基を表すか、あるいはR2およ びR3が、合わせて、環員原子数5までを含有する複素環式基を形成する請求項 38記載の方法。 40.染料が、約750〜900nmの波長範囲の放射線を吸収する請求項3 4記載の方法。 41.画像濃度が約2.00以上でかつ金属銀を含んで成る請求項34記載の 方法。 42.画像濃度が約2.50以上でかつ金属銀を含んで成る請求項34記載の 方法。 43.画像濃度が約2.75以上でかつ金属銀を含んで成る請求項34記載の 方法。 44.トーナーが、フタラジノン、フタラジン、バルビツール酸、スクシンイ ミド、およびフタルイミドからなる群より選ばれた少なくとも1つである請求項 34記載の方法。 45.約750〜1100nmの波長の放射線を吸収する染料が、隣接する層 両方に含まれる請求項34記載の方法。
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