JPH10504566A

JPH10504566A - 中間体の単離を伴わない精製４−スルホフェニル−〔（１−オキシアルカノイル）アミノ〕アルカノアートのアルカリ金属塩の製造方法

Info

Publication number: JPH10504566A
Application number: JP8508105A
Authority: JP
Inventors: ポールルッツ，ゲリー; チェスタージマ，ジョージ; ベルナード，レックス
Original assignee: Eastman Chemical Co
Current assignee: Eastman Chemical Co
Priority date: 1994-08-22
Filing date: 1995-08-07
Publication date: 1998-05-06
Also published as: FI970753L; EP0777648A1; AU3361295A; FI970753A0; DE69512793D1; DE69512793T2; US5466840A; AU688576B2; WO1996006075A1; ES2136873T3; ATE185556T1; EP0777648B1

Abstract

(57)【要約】本発明は、中間体の単離を伴わない１個の反応容器内での精製４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩の五工程製造方法に関し、第一工程では、４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸のアルカリ金属塩を、溶媒中でＣ₂〜Ｃ₄カルボン酸無水物と反応させて、４−アシルオキシベンゼンスルホン酸のアルカリ金属塩及びＣ₂〜Ｃ₄カルボン酸を生成させ、第二工程では、［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカン酸及びエステル交換反応触媒を、工程（Ａ）の反応生成物に添加し、溶媒の還流を維持し且つ反応容器からＣ₂〜Ｃ₄カルボン酸を除去するのに十分な温度及び圧力で加熱して、４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩を含有する反応混合物を生成せしめ、第三工程では、工程（Ｂ）で生成した反応混合物から溶媒を除去し、第四工程では、工程（Ｃ）の４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩生成物を酢酸と混合し、第五工程では、酢酸から生成物を分離し、このようにして得られる精製４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩生成物は、洗剤中の漂白活性剤として有用である。

Description

【発明の詳細な説明】中間体の単離を伴わない精製４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩の製造方法発明の分野本発明は、精製４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩の５工程製造方法に関する。発明の背景アシルオキシベンゼンスルホン酸塩は、洗剤において漂白活性剤として使用されている。ヨーロッパ特許出願公開第0 355 384号には、４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸塩を無水物及びカルボン酸と反応させることによって４−アシルオキシベンゼンスルホン酸塩を製造する方法が開示されている。アシルオキシベンゼンスルホン酸塩は反応混合物から単離されている。反応が終結した後、アシルオキシベンゼンスルホン酸塩は、アルコールのような親水性溶媒で洗浄される。中間体［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカン酸は環化して、漂白活性剤として有用ではなく、生成物から除去しなくてはならないアシルラクタムを生成するので、４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩を製造するためには使用してはならない。追加の精製工程はまた生成物の収率を低下させるであろう。ヨーロッパ特許出願公開第0 105 672号には、４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウムを、無水酢酸及びカルボン酸と同時に反応させるアシルオキシベンゼンスルホン酸塩の１ポット製造方法が開示されている。過剰のカルボン酸の分離及び再利用は、エーテル又はヘキサンのような疎水性溶媒で洗浄することによって行われる。この方法の欠点は、中間体である４ −ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム塩が疎水性溶媒に不溶性であり、従って反応が完結しないとき生成物中に残留することである。ヨーロッパ特許出願公開第0 105 672号により製造されたアシルオキシベンゼンスルホン酸塩は、高い収率パーセント及び高い純度の要件を満たさない。別の欠点は、４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム塩を微細に粉砕しなくてはならず、これはアシルオキシベンゼンスルホン酸塩を得るために完全な反応を行うためには冗長で費用の高い方法である。そうしないと、中間生成物である４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸塩の一部が最終生成物中に残留する。更に、エーテル又はヘキサンのような疎水性溶媒は、中間体である［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカン酸が疎水性溶媒に溶解性ではなく、それで生成物中に残留するので、４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩の粗製調製物を精製するために使用してはならない。従って、要求されるものは、精製４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩を、中間体を単離することなく、１個の反応容器内で高収率で製造するための方法である。更に、４−アセトキシベンゼンスルホン酸ナトリウム及び［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカン酸のような中間生成物は、最終生成物中に残留してはならない。更に、反応溶媒の直接蒸発によって生成物の単離を行うことが有利であろう。発明の要約本発明は、（Ａ）４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸のアルカリ金属塩を、溶媒中で、４− アシルオキシベンゼンスルホン酸のアルカリ金属塩及びＣ₂〜Ｃ₄カルボン酸を生成せしめるのに十分な温度及び時間で、Ｃ₂〜Ｃ₄カルボン酸無水物とを、４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸のアルカリ金属塩とＣ₂〜Ｃ₄カルボン酸無水物とのモル比が１：１〜１：40で、溶媒と４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸のアルカリ金属塩との重量比が２：１〜50：１で反応させる工程、（Ｂ）工程（Ａ）で使用した４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸のアルカリ金属塩のモル数の0.7〜５倍のモル数の［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカン酸及び少なくとも１種のエステル交換反応触媒を、工程（Ａ）の反応生成物に添加し、150℃〜250℃の温度で0.5〜10時間及び溶媒の還流を維持し且つ反応容器からＣ₂〜Ｃ₄カルボン酸を除去するのに十分な圧力で加熱して、４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩を含有する反応混合物を生成せしめる工程、（Ｃ）工程（Ｂ）で生成した４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩を含有する反応混合物から溶媒を除去する工程、（Ｄ）工程（Ｃ）の４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩生成物を、酢酸と混合する工程、並びに（Ｅ）工程（Ｄ）の４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩を酢酸から分離して、一般式：（式中、Ｒは、Ｃ₅〜Ｃ₂₁アルキル、Ｃ₅〜Ｃ₂₁アルケニル、塩素化Ｃ₅〜Ｃ₂₁アルキル及びフェニルからなる群から選択され、Ｒ¹は、水素及びＣ₁〜Ｃ₃アルキルからなる群から選択され、Ｍは水素、アンモニウム及びアルカリ金属原子からなる群から選択され、ｎは１〜８の整数である）を有する精製４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩及び酢酸濾液を得る工程の各工程を含んでなる、中間体の単離を伴わない１個の容器内での精製４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩の製造方法に関する。発明の説明精製４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩を製造する本発明方法には５個の工程が含まれる。第一工程である工程（Ａ）に於いては、４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸のアルカリ金属塩を、好ましくは溶媒中で100℃〜250℃の温度で0.5〜５時間Ｃ₂〜Ｃ₄カルボン酸無水物と反応させて、４−アシルオキシベンゼンスルホン酸のアルカリ金属塩及びＣ₂〜Ｃ₄カルボン酸を生成させる。好ましくは、この反応は、140℃〜1 70℃の温度で１〜２時間行う。250℃より高い温度は、スルホン酸塩の代わりにフェノールエステルを生成する脱スルホン化反応が一層起こると思われるので、推奨されない。好ましくは、この温度は200℃より低く維持される。４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸のアルカリ金属塩は、ナトリウム、カリウム、カルシウム又はマグネシウムのようなどのようなアルカリ金属塩であってもよい。しかしながら、ナトリウムが好ましいアルカリ金属塩である。Ｃ₂〜Ｃ₄カルボン酸無水物は、４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸のアルカリ金属塩の１モル当たり１〜40モル、好ましくは１〜５モルの量で存在する。最も好ましくは、Ｃ₂〜Ｃ₄カルボン酸無水物は、４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸のアルカリ金属塩の１モル当たり１〜1.5モルの量で存在する。適当なＣ₂〜Ｃ₄ カルボン酸無水物の例は、無水酢酸、プロピオン酸無水物、酪酸無水物及びイソ酪酸無水物である。好ましくは、Ｃ₂〜Ｃ₄カルボン酸無水物は無水酢酸である。工程（Ａ）で使用する溶媒には、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドのような極性非プロトン性溶媒；ジメチルスルホキシドのようなジアルキルスルホキシド（但し、アルキル基は炭素数１〜６である）；トリグリムのようなジエチレングリコールのジメチルエーテル；テトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシドのような環式又は非環式アルキルスルホン（但し、アルキル基は炭素数１〜６である）；ジクロロベンゼン及びトリクロロベンゼンのようなハロゲン化芳香族溶媒並びにトリイソプロピルベンゼンのようなアルキル置換芳香族溶媒（但し、アルキル基は炭素数１〜６である）が含まれる。好ましくは、この溶媒はテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシドである。この溶媒は、４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸のアルカリ金属塩の重量基準で２：１〜50：１の重量比、好ましくは４：１〜６：１の重量比で存在する。不十分な溶媒は、出発物質の不完全な溶解になり、不完全な反応に至り、より長い反応時間及び処理することが困難である濃厚なペースト状の反応混合物になる。溶媒の量の臨界的な上限は存在しないが、４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸のアルカリ金属塩の50倍より多い重量の使用は、過剰の溶媒の除去の間に加熱及び冷却のためにエネルギーを供給する観点から、この方法を不必要に費用のかかるものにする。本発明の方法で有用でない溶媒には、水、アルコール及び酢酸のような炭素数１〜20のカルボン酸のようなプロトン性溶媒が含まれる。アルコールのようなプロトン性溶媒は、工程（Ａ）で使用されるＣ₂〜Ｃ₄カルボン酸無水物と反応し、工程（Ｂ）のエステル交換反応を妨害する。酢酸のようなカルボン酸を工程（Ａ）で使用することができるが、反応を完結まで進行させるために工程（Ｂ）で除去しなくてはならない。第二工程である工程（Ｂ）はエステル交換反応工程であり、これには、［（１ −オキシアルカノイル）アミノ］アルカン酸及びエステル交換反応触媒を、工程（Ａ）の反応生成物に添加し、150℃〜250℃の温度で0.5〜10時間及び溶媒の還流を維持し且つ反応容器からＣ₂〜Ｃ₄カルボン酸を除去するのに十分な圧力で加熱して、４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩を含有する反応混合物を生成することが含まれる。好ましくは、エステル交換反応は160℃〜180℃の温度で２〜６時間行われる。共生成物であるカルボン酸の除去は、蒸留により又は窒素のような不活性ガスを散布させることにより行うことができる。それが工程（Ａ）で使用されるものと同じ溶媒である限り、液体反応混合物を維持するために、追加の溶媒を工程（Ｂ）に添加してもよい。添加される［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカン酸のモル数は、工程（Ａ）で使用された４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸のアルカリ金属塩のモル数の0.7〜５倍である。［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカン酸は、ラクタム及びアミノ酸から選択された窒素含有化合物をカルボン酸又はエステルと反応させることを含む、当該技術分野で公知のアミド化反応により製造される。好ましくは、［（１ −オキシアルカノイル）アミノ］アルカン酸は、６−［（１−オキシオクチル）アミノ］ヘキサン酸、６−［（１−オキシノニル）アミノ］ヘキサン酸又は６− ［（１−オキシデシル）アミノ］ヘキサン酸である。［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカン酸の混合物を使用することもできる。適当なラクタムモノマーには、分子当たり少なくとも３個の炭素原子、好ましくは分子当たり４〜７個の炭素原子を含有する。適当なラクタムモノマーには、ブチロラクタム、パレロラクタム、ε−カプロラクタム、β−プロピオラクタム、δ−バレロラクタム及び同様なラクタムが含まれる。これらのラクタムは、炭素数１〜３の炭化水素基によって窒素原子で置換されていてもよい。例えば、メチルカプロラクタムを使用することができる。ε−カプロラクタム及びその置換誘導体が好ましいラクタムモノマーである。アミノ酸は一般式NH₂(CR′Ｒ″)_m COOHを有し、塩基性アミノ基(NH₂)及び酸性カルボキシル基（COOH）によって特徴付けられる。式中の文字ｍは１〜26、好ましくは１〜10である。Ｒ′基及びＲ″基は、独立に、水素、非置換又は置換の直鎖又は分枝鎖のＣ₁〜Ｃ₂₀アルキル、非置換又は置換Ｃ₃〜Ｃ₈シクロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルキニル及びＣ₆〜Ｃ₁₄アリールから選択される。上記の非置換及び置換Ｃ₃〜Ｃ₈シクロアルキル基は、環中に３〜８個、好ましくは５個又は６個の炭素を含有する環式脂肪族炭化水素基及び１個又は２個のＣ₁ 〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、ヒドロキシ又はＣ₁〜Ｃ₄アルカノイルオキシで置換されたこれらのシクロアルキル基を指す。Ｃ₃〜Ｃ₈アルケニル及びＣ₃〜Ｃ₈アルキニル基は、鎖中に３〜８個の炭素を含有し、それぞれ炭素−炭素二重結合又は炭素−炭素三重結合を含有する、直鎖又は分枝鎖炭化水素基を表す。用語「アリール」は、炭素数14以下の炭素環アリール基、例えば、フェニル及びナフチル並びにＣ₁〜Ｃ₄−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄−アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄−アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄−アルカノイルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄−アルカノイルアミノ、ハロゲン、シアノ、Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキレン−（OH）_n、Ｏ−Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキレン−（OH）_n、−Ｓ−Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキレン−（OH）_n、−SO₂−Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキレン−（OH）_n、−CO₂−Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキレン−（OH）_n、SO₂N（Ｒ₁₇）Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキレン−（OH）_n、−SO₂N(Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキレン−OH)₂、−CON(Ｒ₁₇)Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキレン−（OH）_n、−CON( Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキレン−OH)₂、−Ｎ（SO₂Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキル）−アルキレン− （OH）_n又は−Ｎ（SO₂フェニル）−Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキレン−（OH）_n（但し、ｎは１又は２である）から選択された１個又は２個の基で置換されたものを含めるために使用される。用語「アリール」は、１個の酸素原子及び／又は１個の硫黄原子及び／又は３個以下の窒素原子を含有する５又は６員の複素環芳香族環であって、該複素環アリール環が任意に１個又は２個のフェニル環又は他の５若しくは６員環の複素アリール環と縮合しているような、複素環アリール基を含めるために使用される。このような環系の例には、チエニル、フリル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、テトラゾリル、チアトリアゾリル、オキサトリアゾリル、ピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル、チアジニル、オキサジニル、トリアジニル、チアジアジニル、オキサジアジニル、ジチアジニル、ジオキサジニル、オキサチアジニル、テトラジニル、チアトリアジニル、オキサトリアジニル、ジチアジアジニル、イミダゾリニル、ジヒドロピリミジル、テトラヒドロピリミジル、テトラゾロ−［１，５−ｂ］ピリダジニル及びプリニル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、インドリルなど並びに用語「アリール」の定義で上に記載した１個又はそれ以上の置換基で置換されたこれらの環が含まれる。更に、用語「アリール」にはアリーレン基が含まれる。用語「アリーレン基」は、炭素数14以下の二価炭素環アリール炭化水素単位、例えば、ｏ−、ｍ−及びｐ−フェニレン並びにＣ₁〜Ｃ₄−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄−アルコキシ又はハロゲンから選択された１個又は２個の基で置換されたものを表すのに使用される。カルボン酸化合物は、直鎖若しくは分枝鎖脂肪族基のような脂肪族基、シクロ脂肪族基又はヒドロ芳香族基を含有する、カルボン酸又はカルボン酸エステル又はこれらの組合せである。カルボン酸又はカルボン酸エステルは、６〜26個の炭素原子、好ましくは８〜20個の炭素原子、最も好ましくは８〜10個の炭素原子を有する。これらの基は芳香族基を介してカルボキシル基に結合していてもよい。カルボン酸及びカルボン酸エステルは、飽和又は不飽和性質のものであってよい、天然又は合成起源の直鎖又は分枝鎖脂肪酸であってよい。カルボン酸及びエステルには、２個以上のカルボン酸又はエステル基が含有されていてよい。カルボン酸のエステルには、カルボン酸のメチルエステル、エチルエステル、プロピルエステル及びブチルエステルが含まれるが、これらに限定されない。カルボン酸及びカルボン酸エステルは、純粋な形又は市販品のようなそれらの混合物の形の他の形で使用することができる。カルボン酸及びカルボン酸エステルの例は、カプリル酸、カプリル酸メチル、ペラルゴン酸、ペラルゴン酸メチル、カプリン酸、カプリン酸メチル、カプリン酸イソプロピル、ウンデシル酸、ラウリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノレン酸、ベヘン酸、テレフタル酸、テレフタル酸ジメチル、フタル酸、イソフタル酸、ナフタレン−２，６−ジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、シクロヘキサン二酢酸、ジフェニル−４，４′−ジカルボン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸等々である。好ましいカルボン酸はカプリン酸及びカプリル酸である。好ましいカルボン酸エステルはカプリン酸メチル及びカプリル酸メチルである。工程（Ｂ）で使用するためのエステル交換反応触媒は、当業者によく知られている。このようなエステル交換反応触媒には、第三級アミン触媒、アルカリ金属塩、金属触媒、酸性触媒及びこれらの組合せが含まれる。本発明の方法で使用するためのエステル交換反応触媒の特別の例は、ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、酢酸ナトリウム、水酸化ナトリウム及びチタンテトライソプロポキシドである。エステル交換反応触媒（群）は、工程（Ａ）で使用した４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸のアルカリ金属塩の１モル当たり0.01〜0.3モルの量で添加する。１種より多いエステル交換反応触媒を工程（Ｂ）で使用することができる。エステル交換反応工程である工程（Ｂ）の副生物は、［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカン酸として６−［（１−オキシオクチル）アミノ］ヘキサン酸を使用した場合には、ヘキサン酸、６−［［１−オキソ−６−［（１−オキソオクチル）アミノ］ヘキシル］アミノ］−，４−スルホフェニルエステル、モノナトリウム塩である。６−［（１−オキシノニル）アミノ］ヘキサン酸を使用した場合には、エステル交換反応の副生物は、ヘキサン酸、６−［［１−オキソ −６−［（１−オキソノニル）アミノ］ヘキシル］アミノ］−，４−スルホフェニルエステル、モノナトリウム塩である。６−［（１−オキシデシル）アミノ］ヘキサン酸を使用した場合には、エステル交換反応の副生物は、ヘキサン酸、６ −［［１−オキソ−６−［（１−オキソデシル）アミノ］ヘキシル］アミノ］− ，４−スルホフェニルエステル、モノナトリウム塩である。このような不純物は、一般式：を有する。上記の式に於いて、ＲはＣ₅〜Ｃ₂₁アルキル、Ｃ₅〜Ｃ₂₁アルケニル、塩素化Ｃ₅ 〜Ｃ₂₁アルキル又はＦ，Ｃｌ，SO₃M，COOM，Ｃ₁〜Ｃ₂₁アルキル若しくはＣ₂〜Ｃ₂₀アルケニルの基の中からの１〜３個の置換基によって置換されていてよいフェニルであり、Ｒ¹は独立に、水素及びＣ₁〜Ｃ₃アルキルを表し、Ｍは水素、アンモニウム又はナトリウム及びカリウムのようなアルカリ金属原子を表し、ｎは１〜８の整数である。第三工程である工程（Ｃ）には、工程（Ｂ）で生成した４−スルホフェニル− ［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩を含有する反応混合物から溶媒を除去することが含まれる。溶媒の除去は、蒸留若しくは乾燥のような蒸発方法により又は結晶化及びそれに続く濾過により行われる。溶媒の除去は、低真空で溶媒の蒸発が起こる温度で行われる。好ましくは、真空範囲は0.5絶対〜100mmHgであり、温度は140℃〜250℃である。好ましくは、溶媒の少なくとも90％を蒸発によって除去する。更に好ましくは、溶媒の少なくとも 95％を蒸発によって除去する。溶媒は４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩と錯体化してゲルを作る傾向があるので、反応溶媒からの結晶化が生成物単離の形態として問題があることに注意することが重要である。第四工程である工程（Ｄ）には、工程（Ｃ）の４−スルホフェニル−［（１− オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩生成物に酢酸を添加することが含まれる。この酢酸には５％以上の水が含有されていてはならない。好ましくは、99％超の純度のカルボン酸である氷酢酸が使用される。劣った程度の性能で精製工程で酢酸の代わりに、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコール及び酸及びこれらの相当するエステルを使用することができる。４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩の精製は、再スラリー、洗浄、温浸及び再結晶のような当該技術分野で公知の方法によって行われる。酢酸によって、ヘキサン酸、６−［［１−オキソ−６−［（１−オキソオクチル）アミノ］ヘキシル］アミノ］−，４−スルホフェニルエステル、モノナトリウム塩、ヘキサン酸、６−［［１−オキソ−６−［（１−オキソノニル）アミノ］ヘキシル］アミノ］−，４−スルホフェニルエステル、モノナトリウム塩及びヘキサン酸、６−［［１−オキソ−６− ［（１−オキソデシル）アミノ］ヘキシル］アミノ］−，４−スルホフェニルエステル、モノナトリウム塩のような方法の間に生成した不純物、残留溶媒並びに未反応出発物質が、反応生成物から除去される。更に、酢酸によって、固体の形で回収される４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩生成物の色が減少する。第五工程である工程（Ｅ）には、固体の４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩生成物を酢酸溶液から分離して、精製４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩及び酢酸濾液を得ることが含まれる。分離は、遠心分離又は真空濾過のような当該技術分野で公知の方法により行われる。前の製造の工程（Ｅ）からの濾液は、生成物の損失を最小にするために、再循環させ酢酸の一部として工程（Ｄ）に添加することができる。生成物はリング乾燥器又は真空オーブン中でのような全ての標準的乾燥方法によって乾燥される。工程（Ｄ）及び工程（Ｅ）は、所望の純度の４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩が得られるまで繰り返すことができる。［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカン酸出発物質の純度に依存して、本発明の方法により生成物の80％より高い収率が得られる。精製４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩を製造するための本発明の方法は、回分式方法として又は連続的方法として段階的に行うことができる。精製４−スルホフェニル−［（１ −オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩生成物は、一般式：を有する。上記の式に於いて、Ｒは、Ｃ₅〜Ｃ₂₁アルキル、Ｃ₅〜Ｃ₂₁アルケニル、塩素化Ｃ₅〜Ｃ₂₁アルキル又はＦ，Ｃｌ，SO₃M，COOM，Ｃ₁〜Ｃ₂₁アルキル若しくはＣ₂ 〜Ｃ₂₀アルケニルの基の中からの１〜３個の置換基によって置換されていてよいフェニルを表し、Ｒ¹は、水素又はＣ₁〜Ｃ₃アルキルを表し、Ｍは水素、アンモニウム又はナトリウム及びカリウムのようなアルカリ金属原子を表し、ｎは１〜８の整数である。好ましくは、精製４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩生成物は、ナトリウム４− スルホフェニル−６−［（１−オキシオクチル）アミノ］ヘキサノアート（但し、ＲはＣ₇Ｈ₁₅であり、ｎは５であり、Ｍはナトリウムである）；ナトリウム４−スルホフェニル−６−［（１−オキシノニル）アミノ］ヘキサノアート（但し、ＲはＣ₈Ｈ₁₇であり、ｎは５であり、Ｍはナトリウムである）又はナトリウム４−スルホフェニル−６−［（１−オキシデシル）アミノ］ヘキサノアート（但し、ＲはＣ₉Ｈ₁₉であり、ｎは５であり、Ｍはナトリウムである）である。この生成物はまたこれらの化合物の混合物であってもよい。本明細書に示した結果についての使用した物質及び試験方法は下記の通りである。４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩生成物の純度を求めるための液体クロマトグラフィー方法：秤量した量の試料を希釈し、イオン対試薬を含有する水／アセトニトリル移動相を使用する逆相液体クロマトグラフィーカラムに注入する。成分溶離をモニターするために、205nmに設定した紫外（UV）検出器を使用する。試料成分のピーク面積を、既知標準物質の注入から得られたピーク面積と比較して、各成分の濃度を求める。本発明の方法を、本発明の単なる例示である下記の例を参照して更に示す。例の全ての部及びパーセントは、他に記載しない限り重量基準である。例１精製工程を伴わない、ナトリウム４−スルホフェニル−６−［（１−オキシオクチル）アミノ］ヘキサノアート及びナトリウム４−スルホフェニル−６−［（１−オキシデシル）アミノ］ヘキサノアートの一容器合成 140℃のテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド60ｇに、撹拌しながら、４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム8.3グラム、0.042モル及び無水酢酸6.4グラム、0.063モルを添加した。得られた混合物を140℃で２時間撹拌し、その後圧力を100〜160mmHgに45分間低下させた。次いで反応混合物の温度を17 0℃まで上昇させ、６−［（１−オキシオクチル）アミノ］ヘキサン酸と６−［（１−オキシデシル）アミノ］ヘキサン酸との混合物12グラム、約0.046モル、イミダゾール0.14グラム、0.0014モル及び酢酸ナトリウム0.17グラム、0.0020モルを添加した。得られた反応混合物を、100mmHgで約0.5立方フィート／時で窒素を流しながら約３時間撹拌した。反応の間、反応器から酢酸が自発的に蒸発し、捕集しなかった。３時間の反応後に、圧力を20mmHgまで低下させ、テトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシドを反応器から留出させた。反応器からテトラヒドロチオフェン− １，１−ジオキシドが更に留出しなくなった後、反応塊、約20グラムを冷却すると硬い固体になった。この硬い固体16.7グラムを砂状稠度まで粉砕し、70℃の真空オーブン中に約70時間入れて、乾燥生成物13.7グラムを得た。この乾燥生成物のHPLCデータを表１に要約する。例２精製工程を伴わない、ナトリウム４−スルホフェニル−６−［（１−オキシオクチル）アミノ］ヘキサノアート及びナトリウム４−スルホフェニル−６−［（１−オキシデシル）アミノ］ヘキサノアートの一容器合成約35℃のテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド172グラムに、撹拌しながら、４−アセトキシベンゼンスルホン酸ナトリウム29グラム、0.12モル、６ −［（１−オキシオクチル）アミノ］ヘキサン酸51％と６−［（１−オキシデシル）アミノ］ヘキサン酸34％とを含有する混合物34グラム、イミダゾール0.40グラム、0.0060モル及び酢酸ナトリウム0.49グラム、0.0058モルを添加した。反応混合物を約170℃に加温し、圧力を約20mmHgに低下させた。［この圧力と温度との組合せは、ステンレススチール充填材料を12″充填した15″長さの蒸留塔の頂部で定常的な還流を与えた。］反応混合物を約１時間還流させ、その後圧力を下げて、溶媒を反応フラスコから留出させた。溶媒が反応フラスコから更に留出しなくなるまで（蒸留の間に約1.7時間が経過した）圧力を段階的に約５mmHgまで低下させた。得られたペースト状の固体を冷却すると硬い固体、約90グラムになった。この硬い固体84.4グラムを砂状稠度まで粉砕し、130℃及び29インチHgの真空オーブン中に約18時間入れて、乾燥生成物53.6グラムを得た。この乾燥生成物のHPLCデータを表Ｉに要約する。例３精製工程を伴わない、ナトリウム４−スルホフェニル−６−［（１−オキシオクチル）アミノ］ヘキサノアート及びナトリウム４−スルホフェニル−６−［（１−オキシデシル）アミノ］ヘキサノアートの一容器合成約35℃のテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド172グラムに、撹拌しながら、４−アセトキシベンゼンスルホン酸ナトリウム29グラム、0.12モル、６ −［（１−オキシオクチル）アミノ］ヘキサン酸51％と６−［（１−オキシデシル）アミノ］ヘキサン酸34％とを含有する混合物34グラム、イミダゾール0.40グラム、0.0060モル及び酢酸ナトリウム0.49グラム、0.0058モルを添加した。反応混合物を約170℃に加温し、圧力を約20mmHgに低下させた。［この圧力と温度との組合せは、ステンレススチール充填材料を12″充填した15″長さの蒸留塔の頂部で定常的な還流を与えた。］反応混合物を約１時間還流させ、その後圧力を下げて、溶媒を反応フラスコから留出させた。溶媒が反応フラスコから更に留出しなくなるまで（蒸留の間に約1.7時間が経過した）圧力を段階的に約５mmHgまで低下させた。得られたペースト状の固体を冷却すると硬い固体、約90グラムになった。この硬い固体82.6グラムを砂状稠度まで粉砕し、130℃及び29インチHgの真空オーブン中に約18時間入れて、乾燥生成物53.7グラムを得た。この乾燥生成物のHPLCデータを表Ｉに要約する。例４：例３で製造した生成物の精製酢酸215グラムに撹拌しながら、例３で製造した粗製固体生成物 53.5ｇを添加した。得られた混合物を70℃で20分間加温し、その後25℃に冷却させた。混合物を濾過して、酢酸湿潤固体59.6グラム及び褐色に着色した濾液191. 3グラムを得た。この湿潤固体を70℃及び20インチHgの真空オーブン中で約18時間乾燥させて、乾燥物質31.1グラムを得た。この乾燥生成物のHPLCデータを表Ｉに要約する。例５：例４で回収した濾液の再利用例４で回収した濾液189.4グラムに、氷酢酸192.6グラム及び例２に記載したものと類似の方法で製造した粗製反応生成物95.0グラムを添加した。得られた混合物を70℃で20分間加温し、その後25℃に冷却させた。混合物を濾過して、酢酸湿潤固体139.7グラム及び褐色に着色した濾液319.9グラムを得た。この湿潤固体を 70℃及び20インチHgの真空オーブン中で約18時間乾燥させて、乾燥物質65.8グラムを得た。この乾燥物質のHPLCデータを表Ｉに要約する。例６例５で回収した濾液316.4グラムに、氷酢酸105.6グラム及び例２に記載したものと類似の方法で製造した粗製反応生成物105.3グラムを添加した。得られた混合物を70℃で20分間加温し、その後25℃に冷却させた。混合物を濾過して、酢酸湿潤固体153.2グラム及び褐色に着色した濾液357.3グラムを得た。この湿潤固体を70℃及び20インチHgの真空オーブン中で約18時間乾燥させて、乾燥物質84.8グラムを得た。この乾燥物質のHPLCデータを表Ｉに要約する。表Ｉの結果を明らかに、ナトリウム４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアート生成物への精製工程の効果を示している。例４に於いて、90％純度のナトリウム４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアート生成物が、酢酸と混合することによって得られた。酢酸によって、不純物、残留溶媒及び未反応出発物質が生成物から除去された。更に、表Ｉの例１〜３についての結果は、この方法の再現性を際立たせている。例７〜９等重量の、反応溶媒を濾過によって除去した工程（Ｂ）の後で得られた粗製反応生成物と、表IIに示す精製溶媒とを一緒にした。得られた混合物を25℃で20分間撹拌し、濾過し、固体を乾燥した。乾燥した物質についてのHPLCデータを表II に要約する。例 10 反応溶媒を濾過によって除去した工程（Ｂ）の後で得られた粗製反応生成物を、酢酸と一緒にした（但し、酢酸の量は粗製反応生成物の重量の1.7倍であった）。反応生成物及び酢酸を70℃で10分間加熱し、混合し、25℃に冷却し、濾過した。固体を乾燥した。乾燥した物質についてのHPLCデータを表IIに要約する。表IIの結果は明らかに、酢酸によって、メタノール又は酢酸メチルよりも顕著に多くの不純物、残留溶媒及び未反応出発物質が、４−スルホフェニル−［（１ −オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩生成物から除去されることを示している。更に酢酸は、４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩生成物を本質的に悪影響を受けないままにした。本発明の方法に付随する利点は、精製４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩が、４−アセトキシベンゼンスルホン酸塩の単離を伴わないで製造されることである。更に、この精製は、酢酸がエステル交換反応の副生物であり、逆反応を起こすと予想されるので、予想されない酢酸を使用して行われる。本発明は、酢酸によって、不純物、残留溶媒及び未反応出発物質が、４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩生成物から除去されることを決定した。更に、酢酸は精製された生成物の色を減少させる。更に、工程（Ｃ）での溶媒の直接蒸発によって、１より多くの［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカン酸を使用するとき、反応混合物を冷却する際に典型的に生じるゲル生成が避けられる。上記の詳細な記載に照らして、当業者に多くの変形が示唆されるであろう。全てのこのような自明の修正は、付属する特許請求の範囲の全意図範囲内である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＣ０７Ｃ 303/44 Ｃ０７Ｃ 303/44 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者ベルナード，レックスアメリカ合衆国，テネシー 37857，ロジャースビル，ビーチクリークロード 3482

Claims

【特許請求の範囲】１．（Ａ）４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸のアルカリ金属塩を、溶媒中で、４−アシルオキシベンゼンスルホン酸のアルカリ金属塩及びＣ₂〜Ｃ₄カルボン酸を生成せしめるのに十分な温度及び時間で、Ｃ₂〜Ｃ₄カルボン酸無水物とを、４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸のアルカリ金属塩とＣ₂〜Ｃ₄カルボン酸無水物とのモル比が１：１〜１：40で、溶媒と４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸のアルカリ金属塩との重量比がで２：１〜50：１で反応させる工程、（Ｂ）工程（Ａ）で使用した４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸のアルカリ金属塩のモル数の0.7〜５倍のモル数の［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカン酸及び少なくとも１種のエステル交換反応触媒を、工程（Ａ）の反応生成物に添加し、150℃〜250℃の温度で0.5〜10時間及び溶媒の還流を維持し且つ反応容器からＣ₂〜Ｃ₄カルボン酸を除去するのに十分な圧力で加熱して、４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩を含有する反応混合物を生成せしめる工程、（Ｃ）工程（Ｂ）で生成した４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩を含有する反応混合物から溶媒を除去する工程、（Ｄ）工程（Ｃ）の４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩生成物を、酢酸と混合する工程、並びに（Ｅ）工程（Ｄ）の４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩を酢酸から分離して、一般式：（式中、Ｒは、Ｃ₅〜Ｃ₂₁アルキル、Ｃ₅〜Ｃ₂₁アルケニル、塩素化Ｃ₅〜Ｃ₂₁アルキル及びフェニルからなる群から選択され、Ｒ¹は、水素及びＣ₁〜Ｃ₃アルキルからなる群から選択され、Ｍは水素、アンモニウム及びアルカリ金属原子からなる群から選択され、ｎは１〜８の整数である）を有する精製４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩及び酢酸濾液を得る工程の各工程を含んでなる、中間体の単離を伴わない１個の容器内での精製４−スルホフェニル−［（１−オキシアルカノイル）アミノ］アルカノアートのアルカリ金属塩の製造方法。２．（Ａ）４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウムを、テトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド中で、100℃〜200℃の温度で0.5〜５時間、無水酢酸と、４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウムと無水酢酸とのモル比が１：１〜１：５で、テトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシドと４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウムとの重量比が２：１〜50：１で、反応させて、４−アセトキシベンゼンスルホン酸ナトリウム及び酢酸を生成せしめる工程（Ｂ）工程（Ａ）で使用した４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウムのモル数の0.7〜５倍のモル数の６−［（１−オキシオクチル）アミノ］ヘキサン酸及び少なくとも１種のエステル交換反応触媒を、工程（Ａ）の反応生成物に添加し、150℃〜250℃の温度で0.5〜10時間及びテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシドの還流を維持し且つ反応容器から酢酸を除去するのに十分な圧力で加熱して、ナトリウム４−スルホフェニル−６−［（１−オキシオクチル）アミノ］ヘキサノアートを含有する反応混合物を生成せしめる工程、（Ｃ）工程（Ｂ）で生成したナトリウム４−スルホフェニル−６−［（１−オキシオクチル）アミノ］ヘキサノアートを含有する反応混合物からテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシドを蒸発させる工程、（Ｄ）工程（Ｃ）のナトリウム４−スルホフェニル−６−［（１−オキシオクチル）アミノ］ヘキサノアート生成物を、酢酸と混合する工程、並びに（Ｅ）工程（Ｄ）のナトリウム４−スルホフェニル−６−［（１−オキシオクチル）アミノ］ヘキサノアートを酢酸から分離する工程の各工程を含んでなる、中間体の単離を伴わない１個の容器内での精製ナトリウム４−スルホフェニル−６−［（１−オキシオクチル）アミノ］ヘキサノアートの製造方法。３．（Ａ）４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウムを、テトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド中で、100℃〜200℃の温度で0.5〜５時間、無水酢酸と反応させて、４−アセトキシベンゼンスルホン酸ナトリウム及び酢酸とを４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウムと無水酢酸とのモル比が１：１〜１：５で、テトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシドと４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウムとの重量比がで２：１〜50：１で反応させる工程、（Ｂ）工程（Ａ）で使用した４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウムのモル数の0.7〜５倍のモル数の６−［（１−オキシノニル）アミノ］ヘキサン酸及び少なくとも１種のエステル交換反応触媒を、工程（Ａ）の反応生成物に添加し、150℃〜250℃の温度で１〜６時間及びテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシドの還流を維持し且つ反応容器から酢酸を除去するために十分な圧力で加熱して、ナトリウム４−スルホフェニル−６−［（１−オキシノニル）アミノ］ヘキサノアートを含有する反応混合物を生成せしめる工程、（Ｃ）工程（Ｂ）で生成したナトリウム４−スルホフェニル−６−［（１−オキシノニル）アミノ］ヘキサノアートを含有する反応混合物からテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシドを蒸発させる工程、（Ｄ）工程（Ｃ）のナトリウム４−スルホフェニル−６−［（１−オキシノニル）アミノ］ヘキサノアート生成物を、酢酸と混合する工程、並びに（Ｅ）工程（Ｄ）のナトリウム４−スルホフェニル−６−［（１−オキシノニル）アミノ］ヘキサノアートを酢酸から分離する工程の各工程を含んでなる、中間体の単離を伴わない１個の容器内での精製ナトリウム４−スルホフェニル− ６−［（１−オキシノニル）アミノ］ヘキサノアートの製造方法。４．（Ａ）４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウムを、テトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド中で、100℃〜200℃の温度で0.5〜５時間、無水酢酸と、４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウムと無水酢酸とのモル比が１：１〜１：５で、テトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシドと４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウムとの重量比が２：１〜50：１で反応させて、４−アセトキシベンゼンスルホン酸ナトリウム及び酢酸を生成せしめる工程、（Ｂ）工程（Ａ）で使用した４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウムのモル数の0.7〜５倍のモル数の６−［（１−オキシデシル）アミノ］ヘキサン酸及び少なくとも１種のエステル交換反応触媒を、工程（Ａ）の反応生成物に添加し、150℃〜250℃の温度で１〜６時間及びテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシドの還流を維持し且つ反応容器から酢酸を除去するために十分な圧力で加熱して、ナトリウム４−スルホフェニル−６−［（１−オキシデシル）アミノ］ヘキサノアートを含有する反応混合物を生成せしめる工程、（Ｃ）工程（Ｂ）で生成したナトリウム４−スルホフェニル−６−［（１−オキシデシル）アミノ］ヘキサノアートを含有する反応混合物からテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシドを蒸発させる工程、（Ｄ）工程（Ｃ）のナトリウム４−スルホフェニル−６−［（１−オキシデシル）アミノ］ヘキサノアート生成物を、酢酸と混合する工程、並びに（Ｅ）工程（Ｄ）のナトリウム４−スルホフェニル−６−［（１−オキシデシル）アミノ］ヘキサノアートを酢酸から分離する工程の各工程を含んでなる、中間体の単離を伴わない１個の容器内での精製ナトリウム４−スルホフェニル− ６−［（１−オキシデシル）アミノ］ヘキサノアートの製造方法。５．工程（Ａ）でのカルボン酸無水物が、４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸のアルカリ金属塩の１モル当たり１〜５モルの量で存在する請求の範囲第１項に記載の方法。６．工程（Ａ）でのカルボン酸無水物が、無水酢酸、プロピオン酸無水物、酪酸無水物及びイソ酪酸無水物からなる群から選択される請求の範囲第１項に記載の方法。７．溶媒が、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、トリグリム、テトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン及びトリイソプロピルベンゼンからなる群から選択される請求の範囲第１項に記載の方法。８．工程（Ａ）の溶媒と、４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸のアルカリ金属塩とが重量基準で４：１〜６：１の重量比で存在する請求の範囲第１項に記載の方法。９．工程（Ｂ）でのエステル交換反応触媒が、ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、酢酸ナトリウム、水酸化ナトリウム及びチタンテトライソプロポキシドからなる群から選択される請求の範囲第１項に記載の方法。 10．溶媒の少なくとも90％が工程（Ｃ）で除去される請求の範囲第１項に記載の方法。