JPH1049051A - Film for label sheet and label sheet - Google Patents
Film for label sheet and label sheetInfo
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- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、オートバイ等の各
種の物品に貼着される文字や模様が印刷されたラベルに
使用するラベルシート用フィルムおよびラベルシートに
関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a label sheet film and a label sheet used for labels on which characters and patterns are printed which are attached to various articles such as motorcycles.
【0002】[0002]
【従来の技術】オートバイ、自動車、看板、電化製品等
に貼着されるラベルやステッカーには、基材として塩化
ビニルシート等の樹脂シートが一般的に用いられ、少な
くとも、この塩化ビニルシートの裏面には、粘着剤を介
して離型紙が設けられる一方、シート表面には印刷が施
されたものである。しかしながら、塩化ビニルシートを
基材とした場合、特にオートバイ等の用途においては、
屋外で使用されるため汚れが付着しやすく、またラベル
にガソリン等が付着する場合もあり、これにより変質す
る場合も考えられる。2. Description of the Related Art A resin sheet such as a vinyl chloride sheet is generally used as a base material for a label or a sticker attached to a motorcycle, an automobile, a signboard, an electric appliance, etc. Is provided with release paper via an adhesive, while the surface of the sheet is printed. However, when a vinyl chloride sheet is used as a base material, particularly in applications such as motorcycles,
Since it is used outdoors, dirt easily adheres, and gasoline or the like may adhere to the label, which may cause deterioration.
【0003】このような問題に対し、最近では、汚れが
付着しにくいという防汚性およびガソリン等により変質
しないという耐薬品性に優れる等の観点から、フッ素樹
脂フィルムが基材として用いられるようになってきた。
しかしその反面、印刷を施した場合のインクとの接着
性、密着性(いわゆるインクののり)までも低下してし
まい、鮮明な印刷が困難であるという問題点がある。[0003] In response to such problems, in recent years, fluororesin films have been used as a base material from the viewpoints of, for example, excellent antifouling properties such that dirt hardly adheres and chemical resistance such that they are not deteriorated by gasoline or the like. It has become.
However, on the other hand, there is a problem that the adhesion and the adhesion (so-called ink paste) with the ink when printing are reduced, and it is difficult to print clearly.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記実情に
鑑みてなされたものであり、鮮明な印刷ができ、かつ、
防汚性および耐薬品性等に優れたラベルシート用フィル
ムおよびラベルシートを提供することを目的とする。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and enables clear printing and
It is an object of the present invention to provide a label sheet film and a label sheet having excellent antifouling properties and chemical resistance.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、含フッ素樹脂フィルムの上面に、Si、
Zr、Ti、Ta、Hf、Mo、W、Nb、Sn、I
n、Al、CrおよびZnからなる群から選ばれる一種
以上の金属の酸化物からなる薄膜が乾式法により形成さ
れてなることを特徴とする印刷可能なラベルシート用フ
ィルムを提供する。Means for Solving the Problems To achieve the above object, the present invention provides a method for manufacturing a semiconductor device comprising the steps of:
Zr, Ti, Ta, Hf, Mo, W, Nb, Sn, I
Provided is a printable label sheet film, characterized in that a thin film made of an oxide of one or more metals selected from the group consisting of n, Al, Cr and Zn is formed by a dry method.
【0006】また、本発明は、離型紙、粘着剤層、Cr
蒸着層、含フッ素樹脂フィルム、Si、Zr、Ti、T
a、Hf、Mo、W、Nb、Sn、In、Al、Crお
よびZnからなる群から選ばれる一種以上の金属の酸化
物からなる薄膜が順次積層されてなるラベルシートであ
って、前記薄膜が乾式法により前記含フッ素樹脂フィル
ム上に形成されてなることを特徴とする印刷可能なラベ
ルシートを提供する。Further, the present invention relates to a release paper, an adhesive layer,
Deposition layer, Fluorine-containing resin film, Si, Zr, Ti, T
a, Hf, Mo, W, Nb, Sn, In, Al, Cr, and a label sheet in which thin films made of at least one metal oxide selected from the group consisting of Zn are sequentially laminated, wherein the thin film is A printable label sheet formed on the fluororesin film by a dry method is provided.
【0007】ここで、前記乾式法がスパッタリング法で
あるのが好ましい。Here, the dry method is preferably a sputtering method.
【0008】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明のラベルシート用フィルムは、少なくとも、含フッ
素樹脂フィルム(樹脂層)の上面(印刷される側の面)
に、Si、Zr、Ti、Ta、Hf、Mo、W、Nb、
Sn、In、Al、CrおよびZnからなる群から選ば
れる一種以上の金属の酸化物からなる薄膜(酸化物層)
が乾式法により形成されてなるもの(以下、酸化物層付
き樹脂層という)である。Hereinafter, the present invention will be described in detail. The label sheet film of the present invention comprises at least the upper surface (the surface on the side to be printed) of the fluororesin film (resin layer)
, Si, Zr, Ti, Ta, Hf, Mo, W, Nb,
Thin film (oxide layer) made of oxide of one or more metals selected from the group consisting of Sn, In, Al, Cr and Zn
Is formed by a dry method (hereinafter referred to as a resin layer with an oxide layer).
【0009】(A)酸化物層付き樹脂層 本発明のラベルシート用フィルムの基材(樹脂層)とし
て用いられる含フッ素樹脂フィルムは、防汚性、耐薬品
性、透明性、耐久性、耐候性等に優れ、酸素含有雰囲気
中での成膜においても変性しないという特性を有する。
含フッ素系樹脂フィルムとしては、樹脂の分子構造式中
にフッ素を含む熱可塑性樹脂であれば特に限定されず、
従来公知の各種の含フッ素系樹脂が使用可能である。具
体的には、テトラフルオロエチレン系樹脂、クロロトリ
フルオロエチレン系樹脂、フッ化ビニリデン系樹脂、フ
ッ化ビニル系樹脂、またはこれら樹脂の複合物等が挙げ
られる。特に疎水性の点から、テトラフルオロエチレン
系樹脂が好ましい。 (A) Resin Layer with Oxide Layer The fluorine-containing resin film used as the base material (resin layer) of the label sheet film of the present invention has antifouling properties, chemical resistance, transparency, durability, and weather resistance. It is excellent in properties and the like, and has a property that it is not denatured even in film formation in an oxygen-containing atmosphere.
The fluorine-containing resin film is not particularly limited as long as it is a thermoplastic resin containing fluorine in the molecular structural formula of the resin,
Conventionally known various fluorine-containing resins can be used. Specific examples include a tetrafluoroethylene resin, a chlorotrifluoroethylene resin, a vinylidene fluoride resin, a vinyl fluoride resin, and a composite of these resins. Particularly, a tetrafluoroethylene-based resin is preferable from the viewpoint of hydrophobicity.
【0010】テトラフルオロエチレン系樹脂としては、
具体的には、テトラフルオロエチレン樹脂(PTF
E)、テトラフルオロエチレン・パーフルオロ(アルコ
キシエチレン)共重合体(PFA)、テトラフルオロエ
チレン・ヘキサフルオロプロピレン・パーフルオロ(ア
ルコキシエチレン)共重合体(EPE)、テトラフルオ
ロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FE
P)、またはテトラフルオロエチレン・エチレン共重合
体(ETFE)、エチレン・トリクロロフルオロエチレ
ン共重合体(ETCFE)などが挙げられる。これらの
うち、PFA、FEP、ETFE、ETCFEが耐薬品
性、防汚性等の点から好ましく、特に、コスト、機械的
強度、スパッタ成膜性等の点からETFEが好ましい。
ETFEは、エチレンおよびテトラフルオロエチレンを
主体とするものであって、必要に応じ、少量のコモノマ
ー成分を共重合させたものであってもよい。As the tetrafluoroethylene resin,
Specifically, tetrafluoroethylene resin (PTF
E), tetrafluoroethylene / perfluoro (alkoxyethylene) copolymer (PFA), tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene / perfluoro (alkoxyethylene) copolymer (EPE), tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene copolymer Merging (FE
P), tetrafluoroethylene / ethylene copolymer (ETFE), ethylene / trichlorofluoroethylene copolymer (ETCFE), and the like. Among them, PFA, FEP, ETFE, and ETCFE are preferable from the viewpoint of chemical resistance, antifouling property, and the like, and ETFE is particularly preferable from the viewpoint of cost, mechanical strength, sputter film forming property, and the like.
ETFE is mainly composed of ethylene and tetrafluoroethylene, and may be one obtained by copolymerizing a small amount of a comonomer component, if necessary.
【0011】コモノマー成分としては、テトラフルオロ
エチレンおよびエチレンと共重合可能なモノマー、例え
ば、次記の化合物が挙げられる。CF2 =CFCl、C
F2 =CH2 などの含フッ素エチレン類、CF2 =CF
CF3 、CF2 =CHCF3 などの含フッ素プロピレン
類、CH2 =CHC2 F5 、CH2 =CHC4 F9 、C
H2 =CFC4 F9 、CH 2 =CF(CF2 )3 Hなど
のフルオロアルキル基の炭素数が2〜10の含フッ素ア
ルキルエチレン類、CF2 =CFO(CF2 CFXO)
m Rf (式中Rf は炭素数1〜6のパーフルオロアルキ
ル基、Xはフッ素原子またはトリフルオロメチル基、m
は1〜5の整数を示す)などのパーフルオロ(アルキル
ビニルエーテル)類、CF2 =CFOCF2 CF2 CF
2 COOCH3 やCF2 =CFOCF2 CF(CF3 )
OCF2 CF2 SO2 Fなどの容易にカルボン酸基やス
ルホン酸基に変換可能な基を有するビニルエーテル類な
どが挙げられる。ETFE中のエチレン/テトラフルオ
ロエチレンのモル比は、40/60〜70/30、特に
40/60〜60/40、が好ましい。また、コモノマ
ー成分の含有量は、全モノマーに対して0.3〜10モ
ル%、特に0.3〜5モル%、が好ましい。クロロトリ
フルオロエチレン系樹脂としては、具体的には、例えば
クロロトリフルオロエチレンホモポリマー(CTF
E)、またはエチレン・クロロトリフルオロエチレン共
重合体(ECTFE)などが挙げられる。As the comonomer component, tetrafluoro
Ethylene and monomers copolymerizable with ethylene, such as
For example, the following compounds may be mentioned. CFTwo= CFCl, C
FTwo= CHTwoFluorinated ethylenes such as CFTwo= CF
CFThree, CFTwo= CHCFThreeSuch as fluorinated propylene
Kind, CHTwo= CHCTwoFFive, CHTwo= CHCFourF9, C
HTwo= CFCFourF9, CH Two= CF (CFTwo)ThreeH etc.
A fluoroalkyl group having 2 to 10 carbon atoms
Alkyl ethylenes, CFTwo= CFO (CFTwoCFXO)
mRf(Where RfIs a perfluoroalkyl having 1 to 6 carbon atoms
X is a fluorine atom or a trifluoromethyl group, m
Represents an integer of 1 to 5) and the like.
Vinyl ethers), CFTwo= CFOCFTwoCFTwoCF
TwoCOOCHThreeAnd CFTwo= CFOCFTwoCF (CFThree)
OCFTwoCFTwoSOTwoF and other carboxylic acid groups
Vinyl ethers having a group that can be converted to a sulfonic acid group
And so on. Ethylene / tetrafluoro in ETFE
The molar ratio of polyethylene is 40 / 60-70 / 30, especially
40/60 to 60/40 is preferred. In addition,
-The content of the component is 0.3 to 10
%, Especially 0.3 to 5 mol% is preferred. Chlorotri
As the fluoroethylene resin, specifically, for example,
Chlorotrifluoroethylene homopolymer (CTF
E) or ethylene / chlorotrifluoroethylene
Polymer (ECTFE) and the like.
【0012】本発明のラベルシート用フィルムの基材に
おいては、上記の含フッ素樹脂を主成分とし、他の熱可
塑性樹脂を含有した混合系の樹脂も好ましく用いられ
る。熱硬化性合成樹脂としては、例えば、メラミン樹
脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、フラン樹脂、アルキ
ッド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジアリルフタレー
ト樹脂、エポキシ樹脂、ケイ素樹脂、ポリウレタン樹
脂、ポリイミド樹脂、またはポリパラバン酸樹脂などが
挙げられる。In the base material of the label sheet film of the present invention, a mixed resin containing the above-mentioned fluorine-containing resin as a main component and other thermoplastic resin is also preferably used. As the thermosetting synthetic resin, for example, melamine resin, phenol resin, urea resin, furan resin, alkyd resin, unsaturated polyester resin, diallyl phthalate resin, epoxy resin, silicon resin, polyurethane resin, polyimide resin, or polyparabanic acid resin And the like.
【0013】本発明において用いられる含フッ素樹脂フ
ィルムの厚みは、美観、剥がれにくさ等の観点からは薄
くする程好ましい一方、強度、扱い易さ等の観点からは
厚くする程好ましいことから、10〜200μm、特に
20〜100μmの厚みとすることが好ましい。The thickness of the fluorine-containing resin film used in the present invention is preferably as small as possible from the viewpoints of aesthetics and difficulty in peeling, while it is preferable to increase the thickness from the viewpoints of strength and ease of handling. The thickness is preferably from 200 to 200 μm, particularly preferably from 20 to 100 μm.
【0014】本発明のラベルシート用フィルムでは、こ
のような含フッ素樹脂フィルムの上面(印刷される側の
面)に、Si、Zr、Ti、Ta、Hf、Mo、W、N
b、Sn、In、Al、CrおよびZnからなる群から
選ばれる一種以上の金属の酸化物からなる薄膜が乾式法
により形成される。本発明における酸化物薄膜の膜厚
は、印刷した場合のインクとの密着性確保の観点から、
0.5nm以上であることが好ましい。また、透明性の
維持、合成樹脂基体の可撓性の維持および含フッ素樹脂
フィルムとの密着性の観点から、30nm以下、特に、
10nm以下であることが好ましい。In the label sheet film of the present invention, Si, Zr, Ti, Ta, Hf, Mo, W, N
A thin film made of an oxide of one or more metals selected from the group consisting of b, Sn, In, Al, Cr and Zn is formed by a dry method. The thickness of the oxide thin film in the present invention, from the viewpoint of ensuring adhesion to the ink when printed,
It is preferably 0.5 nm or more. Further, from the viewpoint of maintaining transparency, maintaining the flexibility of the synthetic resin substrate, and adhesion to the fluorine-containing resin film, 30 nm or less, particularly,
Preferably it is 10 nm or less.
【0015】用いる酸化物薄膜は、Si、Zr、Ti、
Ta、Hf、Mo、W、Nb、Sn、In、Al、Cr
およびZnからなる群から選ばれる一種以上の金属酸化
物からなるものであれば特に限定されない。The oxide thin film used is Si, Zr, Ti,
Ta, Hf, Mo, W, Nb, Sn, In, Al, Cr
And any one of at least one metal oxide selected from the group consisting of Zn and Zn.
【0016】少なくともSiを含む金属の酸化物からな
る薄膜であることが、より密着性が向上するので好まし
い。少なくともSiを含む金属の酸化物の具体例として
は、SiO2 、SiとZrとの酸化物、SiとTiとの
酸化物、SiとTaとの酸化物、SiとNbとの酸化
物、SiとSnとの酸化物、SiとZnとの酸化物ある
いはSiとSnとTiとの酸化物、を主成分とする酸化
物などが挙げられる。It is preferable that the thin film is made of a metal oxide containing at least Si, since the adhesion is further improved. Specific examples of the metal oxide containing at least Si include SiO 2 , an oxide of Si and Zr, an oxide of Si and Ti, an oxide of Si and Ta, an oxide of Si and Nb, and an oxide of Si and Nb. And oxide of Sn, oxide of Si and Zn or oxide of Si, Sn and Ti as a main component.
【0017】印刷層のインクとの密着性、および生産性
の観点から、SiとSnとの酸化物、SiとZrとの酸
化物、SiとTiとの酸化物、を主成分とする酸化物が
好ましく、特に、SiとSnとの酸化物を主成分とする
酸化物が好ましい。From the viewpoint of the adhesion of the printing layer to the ink and the productivity, an oxide containing Si and Sn, an oxide of Si and Zr, and an oxide of Si and Ti as main components Is particularly preferable, and an oxide containing an oxide of Si and Sn as a main component is particularly preferable.
【0018】本発明における酸化物薄膜のSiの含有割
合は、全金属に対してSiが20〜80原子%であるこ
とが好ましく、特に、30〜70原子%であることが好
ましい。Siの含有割合をこのような範囲とすること
で、1)Si以外の金属成分の作用により、含フッ素樹
脂フィルム上での被覆率が向上するので、酸化物薄膜を
薄くしても印刷性をはじめとする各種性能が発現され
る、2)成膜法として直流スパッタリング法を用いた場
合に、酸化物膜と同様の前記組成範囲の合金ターゲット
を用いることで、アーキングが防止される、などの効果
が得られる。一方、合金ターゲットを用いる場合に、S
iの含有割合が大きくなると、成膜速度が低下する傾向
にあるので、生産性の観点からは、Siは70原子%以
下であることが好ましい。In the present invention, the content of Si in the oxide thin film is preferably 20 to 80 atomic%, and more preferably 30 to 70 atomic%, based on all metals. By setting the content of Si in such a range, 1) the coverage of the fluorine-containing resin film is improved by the action of a metal component other than Si. 2) When DC sputtering is used as the film forming method, arcing is prevented by using an alloy target having the same composition range as the oxide film. The effect is obtained. On the other hand, when an alloy target is used, S
When the content ratio of i increases, the film forming rate tends to decrease. Therefore, from the viewpoint of productivity, it is preferable that Si is 70 atomic% or less.
【0019】本発明において、酸化物薄膜を得る方法と
しては、乾式法であれば特に限定されない。乾式法は、
湿式法に比べ、膜が均一にでき、成膜された膜は含フッ
素樹脂フィルムとの密着性が高いので、本発明の目的達
成のための重要な構成要件のひとつである。乾式法とし
ては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD
法、イオンプレーティング法などが挙げられる。特に、
スパッタリング法は、生産性に優れ、工業的に幅広く使
われているとともに、非常に緻密で、かつ、含フッ素樹
脂フィルムとの密着性が高い膜が均一な膜厚で得られる
ので好ましい。In the present invention, the method for obtaining the oxide thin film is not particularly limited as long as it is a dry method. The dry method is
Compared with the wet method, the film can be made uniform, and the formed film has high adhesion to the fluorine-containing resin film, which is one of the important components for achieving the object of the present invention. Examples of the dry method include a vacuum deposition method, a sputtering method, and a CVD method.
And an ion plating method. Especially,
The sputtering method is preferable because it has excellent productivity, is widely used industrially, and can obtain a very dense film having high adhesion to the fluorine-containing resin film in a uniform film thickness.
【0020】スパッタリング法としては、直流スパッタ
リング法、高周波スパッタリング法のいずれでも使用で
きる。大面積の基体に、大きな成膜速度で、効率よく成
膜できることから、直流スパッタリング法が好ましい。As the sputtering method, any of a direct current sputtering method and a high frequency sputtering method can be used. The DC sputtering method is preferable because a film can be efficiently formed on a large-area substrate at a high film forming rate.
【0021】SiとSnとの酸化物を主成分とする酸化
物の膜の例として、SiとSnとの酸化物からなる薄膜
が挙げられる。SiとSnとの酸化物からなる薄膜につ
いては、SiとSnとの混合物ターゲットを用い、酸素
含有雰囲気中での反応性スパッタリング法により成膜し
て得られる。SiとSnと混合物ターゲットを用いた場
合では、Siターゲットとは異なり、ターゲットの導電
性の向上等の理由から通常の直流スパッタリング法の使
用が可能となり、成膜速度を大きくすることができる。
この際、間欠的な負の直流電圧をターゲットに印加する
方法により、成膜時のアーキング発生を効果的に抑制
し、投入電力を増大させ、さらに大きな成膜速度を長時
間維持することが可能である。また、樹脂層表面上への
被覆率が向上する結果、印刷性を発現する最小膜厚が小
さくなることも生産性、経済性の面で有利である。スパ
ッタリング時のターゲットに対する電力密度は、0.5
〜10W/cm2程度で用いられ、ガス圧力は、1〜1
0mTorr、好ましくは、2〜6mTorr程度で用
いられる。As an example of an oxide film containing an oxide of Si and Sn as a main component, there is a thin film made of an oxide of Si and Sn. A thin film composed of an oxide of Si and Sn is obtained by forming a film by a reactive sputtering method in an oxygen-containing atmosphere using a mixture target of Si and Sn. When a mixture target of Si and Sn is used, unlike a Si target, a normal DC sputtering method can be used for reasons such as improvement in the conductivity of the target, and the film formation rate can be increased.
At this time, by applying an intermittent negative DC voltage to the target, it is possible to effectively suppress the occurrence of arcing during film formation, increase input power, and maintain a higher film formation rate for a long time. It is. In addition, as a result of an increase in the coverage on the resin layer surface, a reduction in the minimum film thickness for exhibiting printability is also advantageous in terms of productivity and economy. The power density on the target during sputtering is 0.5
It is used at about 10 to 10 W / cm 2 , and the gas pressure is 1 to 1
0 mTorr, preferably about 2 to 6 mTorr.
【0022】Sn以外でも、Zr、Ti、Ta、Hf、
Mo、W、Nb、In、Al、CrおよびZnからなる
群から選ばれる一種以上の金属とSiとからなるターゲ
ットを用いた場合でもSi−Sn系と同様の効果が得ら
れるが、Si−Sn系の金属ターゲットを用いた場合
は、成膜速度が最も大きく、最も生産性に優れる。Other than Sn, Zr, Ti, Ta, Hf,
Although the same effect as that of the Si—Sn system can be obtained by using a target composed of Si and one or more metals selected from the group consisting of Mo, W, Nb, In, Al, Cr, and Zn, Si—Sn When a metallic target is used, the deposition rate is the highest and the productivity is the highest.
【0023】前記SiとSnとからなるターゲットは、
混合物の状態のものでも、合金の状態のものでも用いう
る。例えば、SiとSnと混合物ターゲットは、Siと
Snとの混合物をCIP法(冷間等方プレス法)あるい
は温間プレス(Snの融点直下の温度で金型成形プレ
ス)で成形して得ることができる。The target composed of Si and Sn is as follows:
It may be in the form of a mixture or in the form of an alloy. For example, a mixture target of Si and Sn is obtained by molding a mixture of Si and Sn by a CIP method (cold isostatic pressing method) or a warm press (a mold forming press at a temperature just below the melting point of Sn). Can be.
【0024】(B)Cr蒸着層 本発明のラベルシート用フィルムは、酸化物層付き樹脂
層(A)に加え、その樹脂表面側の下層としてCr蒸着
層(B)を形成することができる。Cr蒸着層を形成す
ることで、ラベルに金属色を付与して、美観や質感を向
上させるとともに、印刷を施した際に印刷層の色彩を鮮
やかにするという効果が得られる。この場合、含フッ素
樹脂フィルムの表面(Crが蒸着される面)にコロナ放
電処理を施すと、含フッ素樹脂フィルムとCr蒸着層と
の接着性が確保される。また、別の態様としてCrが蒸
着される面にもCr蒸着層との接着性を上げるために、
コロナ放電処理に代えて上述の酸化物薄膜を形成しても
よい。Cr蒸着は、真空蒸着法、スパッタリング法また
はイオンプレーティング法等によって行えばよい。Cr
蒸着層としては、金属CrまたはCr系合金の薄膜であ
れば特に限定されない。 (B) Cr Vapor Deposition Layer In the label sheet film of the present invention, in addition to the resin layer with an oxide layer (A), a Cr vapor deposition layer (B) can be formed as a lower layer on the resin surface side. By forming the Cr vapor-deposited layer, it is possible to obtain an effect of imparting a metal color to the label to improve the appearance and texture, and to enhance the color of the printed layer when printing is performed. In this case, if the surface of the fluororesin film (the surface on which Cr is deposited) is subjected to corona discharge treatment, the adhesion between the fluororesin film and the Cr deposition layer is ensured. Further, as another aspect, in order to increase the adhesion with the Cr deposited layer also on the surface on which Cr is deposited,
The above-mentioned oxide thin film may be formed instead of the corona discharge treatment. Cr deposition may be performed by a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or the like. Cr
The deposition layer is not particularly limited as long as it is a thin film of metal Cr or a Cr-based alloy.
【0025】(C)粘着剤層、離型紙 本発明のラベルシート用フィルムは、さらに、Cr蒸着
層(B)の下層に粘着剤を介して離型紙(C)を設け
て、ラベルシートとしてもよい。粘着剤としては、特に
限定されず、ロジン等の粘着付与剤を添加した天然ゴ
ム、合成ゴム(スチレン−ブタジエン系、スチレン−イ
ソプレン系)、アクリル酸高級エステル系ビニル共重合
体等を有機溶剤に溶かしたもの、あるいはアクリル酸ブ
チル、アクリル酸2−エチルヘキシル等のアクリルモノ
マーと他のビニルモノマーとのエマルジョン共重合で得
られる水性エマルジョン系粘着剤等の従来公知の粘着剤
を用いればよい。また、これらの粘着剤には、必要に応
じて、架橋処理を行ってもよく、凝集剤、可塑剤、離型
剤等の他の成分を添加してもよい。 (C) Adhesive Layer, Release Paper The label sheet film of the present invention may be further provided with a release paper (C) below the Cr-deposited layer (B) via an adhesive to form a label sheet. Good. The pressure-sensitive adhesive is not particularly limited, and natural rubber to which a tackifier such as rosin is added, synthetic rubber (styrene-butadiene-based, styrene-isoprene-based), acrylic acid higher ester-based vinyl copolymer, or the like is used as an organic solvent. A conventionally known adhesive such as a dissolved one or an aqueous emulsion-based adhesive obtained by emulsion copolymerization of an acrylic monomer such as butyl acrylate or 2-ethylhexyl acrylate with another vinyl monomer may be used. Further, these adhesives may be subjected to a crosslinking treatment, if necessary, and other components such as a coagulant, a plasticizer, and a release agent may be added.
【0026】離型紙についても、特に限定されず、従来
公知の離型紙を用いればよく、例えば、グラシン紙や上
質紙等の離型原紙に架橋ポリジメチルシロキサン(PD
MSiO)等を離型層として塗布したものやプラスチッ
クフィルム等が挙げられる。このような構成とすれば、
作業現場で離型紙を剥がして所望の物品に貼着すること
ができるので、作業性に優れている。The release paper is not particularly limited, and any conventionally known release paper may be used. For example, a cross-linked polydimethylsiloxane (PD) may be used for release base paper such as glassine paper or woodfree paper.
(MSiO) or the like as a release layer, or a plastic film. With such a configuration,
Since the release paper can be peeled off at the work site and attached to a desired article, the workability is excellent.
【0027】(D)印刷層、保護フィルム層 本発明のラベルシートは、さらに、酸化物層付き樹脂層
(A)表面、すなわち、金属酸化物薄膜の表面に印刷層
を有してもよい。上述のように、このような金属酸化物
薄膜が含フッ素樹脂フィルム表面に乾式法により形成さ
れることで、印刷層のインクとの密着性に優れ、従っ
て、何ら特別な前処理をすることなく鮮明に印刷するこ
とができ、しかも、長期間印刷の鮮明さが保持される。
印刷層に用いるインクは特に限定されず、公知のものが
用いられる。さらに、このように形成した印刷層を保護
するために、印刷層の上面に保護フィルムを設けてもよ
い。この保護フィルムは、主に使用前におけるラベルの
印刷層を保護するためのものであり、ラベルを物品に貼
着した後に剥がしてしまうことも多いため、剥離可能に
構成されるのが好ましい。また、保護フィルムの材質は
特に限定されず、塩化ビニル等の従来公知のフィルム材
料が使用可能である。 (D) Print Layer, Protective Film Layer The label sheet of the present invention may further have a print layer on the surface of the resin layer with an oxide layer (A), ie, the surface of the metal oxide thin film. As described above, since such a metal oxide thin film is formed on the surface of the fluorine-containing resin film by a dry method, the adhesion between the printing layer and the ink is excellent, and therefore, without any special pretreatment. Printing can be performed sharply, and the printing clarity is maintained for a long time.
The ink used for the printing layer is not particularly limited, and a known ink is used. Further, a protective film may be provided on the upper surface of the printing layer to protect the printing layer thus formed. This protective film is mainly for protecting the printed layer of the label before use, and is often peeled off after the label is attached to the article. Therefore, the protective film is preferably configured to be releasable. The material of the protective film is not particularly limited, and a conventionally known film material such as vinyl chloride can be used.
【0028】本発明のラベルシート用フィルムおよびラ
ベルシートは以上のように構成されるが、酸化物層付き
樹脂層(A)のみからなるラベルシート用フィルムの場
合には、印刷が施された後、接着剤の塗布等の公知の方
法により目的物たる被着体に接着すればよく、接着方法
は特に限定されない。また、離型紙(C)を設けたラベ
ルシートの場合には、印刷がなされ、必要に応じて保護
フィルムが貼着された後、使用時に離型紙を剥がして、
粘着剤層を露出させて被着体に貼り付ければよい。ま
た、印刷が施されていないラベルシート用フィルムまた
はラベルシートを、あらかじめ印刷、ペインティング、
筆記等を行いたい箇所に貼着しておけば、本来印刷等が
困難な材質に対しても印刷、ペインティング、筆記等を
行うこともできる。The label sheet film and label sheet of the present invention are constituted as described above. In the case of a label sheet film consisting of only the resin layer (A) with an oxide layer, It is only necessary to adhere to the target adherend by a known method such as application of an adhesive, and the adhesion method is not particularly limited. In the case of a label sheet provided with release paper (C), printing is performed, a protective film is attached as necessary, and then the release paper is peeled off at the time of use.
The adhesive layer may be exposed and attached to the adherend. In addition, you can print, paint,
By sticking to a place where writing or the like is desired, printing, painting, writing, or the like can be performed even on a material that is originally difficult to print.
【0029】このような本発明のラベルシート用フィル
ムおよびラベルシートの用途は、広く装飾物、表示物等
として使用することができ、特に限定されるものではな
いが、防汚性および耐薬品性に優れることから、オート
バイ、自動車等の車輌、看板等の屋外において使用され
るもの、あるいは、台所用器具等の汚れの付着しやすい
場所で使用されるものに好適に使用できる。特に、オー
トバイ等の車輌のガソリンタンクに貼着する場合にはガ
ソリンの付着に対しても劣化が生じないことから本発明
のラベルシートの機能を最も発揮できるので好ましい。
また、その他の用途、例えば、電化製品等においても幅
広く使用することができる。The application of the label sheet film and label sheet of the present invention can be widely used as decorations and display materials, and is not particularly limited. Therefore, it can be suitably used for those used outdoors such as motorcycles, automobiles and other vehicles, signs and the like, or those used in places where dirt easily adheres such as kitchen appliances. In particular, it is preferable that the label sheet of the present invention can exert its function most, since it does not deteriorate even when gasoline adheres, when it is attached to a gasoline tank of a vehicle such as a motorcycle.
Further, it can be widely used in other applications, for example, in electric appliances and the like.
【0030】[0030]
【実施例】図1に示す構成で本発明のラベルシート2を
作製し、図2に示す模様20および形状のラベル18を
作製した。ラベルの表面基材としてETFEのフィルム
4(厚さ60μm)を用意した。直流スパッタリング装
置内で、10cm角のガラス板に10cm角の上記フィ
ルム片を固定した基板を陽極側にセットし、SiとSn
との混合物(原子比50:50)のターゲット(以下、
ターゲットAという)を陰極側にセットした。装置内を
10-5Torr台まで真空排気した後、アルゴンと酸素
を流量比1:4で装置内に導入し、スパッタリングガス
圧が5×10-3Torrになるように調節した。直流電
源を用いて電力密度2.75W/cm2 でスパッタリン
グを行い、SiとSnとの酸化物薄膜6(膜厚約6n
m)をフィルム4表面に形成し、ラベルシート用フィル
ムを得た。このようにして得られた酸化物層付き樹脂層
3の裏面(前記処理面と逆の面)にコロナ放電処理を施
した後、この面に、真空蒸着法によりCr蒸着層8を形
成した。さらに、Cr蒸着層8の表面に、粘着剤10を
塗布し、離型紙12を貼り付け、ラベルシートを得た。EXAMPLE A label sheet 2 of the present invention was produced with the structure shown in FIG. 1, and a label 20 having a pattern 20 and a shape shown in FIG. 2 was produced. An ETFE film 4 (thickness: 60 μm) was prepared as a surface substrate of the label. In a direct-current sputtering device, a substrate having the above-mentioned film piece of 10 cm square fixed to a glass plate of 10 cm square was set on the anode side, and Si and Sn were placed.
(Atomic ratio 50:50) of the target (hereinafter, referred to as
Target A) was set on the cathode side. After evacuating the inside of the apparatus to the order of 10 −5 Torr, argon and oxygen were introduced into the apparatus at a flow ratio of 1: 4, and the sputtering gas pressure was adjusted to 5 × 10 −3 Torr. Sputtering was performed at a power density of 2.75 W / cm 2 using a DC power supply, and an oxide thin film 6 of Si and Sn (thickness: about 6 n
m) was formed on the surface of the film 4 to obtain a film for a label sheet. After performing a corona discharge treatment on the back surface (the surface opposite to the treated surface) of the resin layer 3 with the oxide layer obtained in this way, a Cr vapor-deposited layer 8 was formed on this surface by a vacuum vapor deposition method. Further, an adhesive 10 was applied to the surface of the Cr vapor-deposited layer 8 and a release paper 12 was attached to obtain a label sheet.
【0031】得られたラベルシートの酸化膜薄膜6の表
面に模様を印刷し、印刷層14を形成した。本発明のラ
ベルシートは印刷ののりが良好で、極めて鮮明に模様を
印刷することができた。さらに、印刷層14の表面に塩
化ビニルフィルムを保護フィルム層16として形成し
た。以上のようにして得られたラベルシートを所望の形
状に切断して、ラベルを得た。A pattern was printed on the surface of the oxide film thin film 6 of the obtained label sheet to form a printed layer 14. The label sheet of the present invention had good print paste and was able to print a pattern very sharply. Further, a vinyl chloride film was formed as a protective film layer 16 on the surface of the print layer 14. The label sheet obtained as described above was cut into a desired shape to obtain a label.
【0032】[0032]
【発明の効果】本発明のラベルシート用フィルムおよび
ラベルシートは、インクとの密着性に優れるので、鮮明
な印刷が可能であり、防汚性および耐薬品性等にも優れ
る。従って、長期に渡ってラベルの美観を維持すること
ができる。また、酸化物薄膜の形成をスパッタリング法
により行えば、大面積の基体に、高い成膜速度で、効率
よく成膜できることから、生産性も高い。さらに、本発
明のラベルシート用フィルムおよびラベルシートは、特
に耐ガソリン性に優れるので、オートバイ等のガソリン
タンクに貼着する用途に好適である。The film for label sheet and the label sheet of the present invention have excellent adhesiveness to ink, so that clear printing is possible, and the antifouling property and chemical resistance are also excellent. Therefore, the beauty of the label can be maintained over a long period of time. In addition, when an oxide thin film is formed by a sputtering method, a film can be efficiently formed on a large-area substrate at a high film formation rate, and thus productivity is high. Furthermore, the label sheet film and label sheet of the present invention are particularly excellent in gasoline resistance, and thus are suitable for use in sticking to gasoline tanks such as motorcycles.
【図1】 本発明のラベルシートの一例の部分断面図で
ある。FIG. 1 is a partial cross-sectional view of an example of a label sheet of the present invention.
2 ラベルシート 3 酸化物層付き樹脂層 4 含フッ素樹脂フィルム 6 酸化物薄膜 8 Cr蒸着層 10 粘着剤層 12 離型紙 14 印刷層 16 保護フィルム 2 Label sheet 3 Resin layer with oxide layer 4 Fluorine-containing resin film 6 Oxide thin film 8 Cr vapor deposition layer 10 Adhesive layer 12 Release paper 14 Printing layer 16 Protective film
Claims (4)
r、Ti、Ta、Hf、Mo、W、Nb、Sn、In、
Al、CrおよびZnからなる群から選ばれる一種以上
の金属の酸化物からなる薄膜が乾式法により形成されて
なることを特徴とする印刷可能なラベルシート用フィル
ム。1. A method according to claim 1, wherein the fluorine-containing resin film has Si, Z
r, Ti, Ta, Hf, Mo, W, Nb, Sn, In,
A printable label sheet film, wherein a thin film made of one or more metal oxides selected from the group consisting of Al, Cr and Zn is formed by a dry method.
項1に記載のラベルシート用フィルム。2. The label sheet film according to claim 1, wherein the dry method is a sputtering method.
樹脂フィルム、Si、Zr、Ti、Ta、Hf、Mo、
W、Nb、Sn、In、Al、CrおよびZnからなる
群から選ばれる一種以上の金属の酸化物からなる薄膜が
順次積層されてなるラベルシートであって、 前記薄膜が乾式法により前記含フッ素樹脂フィルム上に
形成されてなることを特徴とする印刷可能なラベルシー
ト。3. Release paper, pressure-sensitive adhesive layer, Cr vapor deposited layer, fluororesin film, Si, Zr, Ti, Ta, Hf, Mo,
A label sheet in which thin films made of one or more metal oxides selected from the group consisting of W, Nb, Sn, In, Al, Cr, and Zn are sequentially laminated, wherein the thin film is formed by a dry method. A printable label sheet formed on a resin film.
項3に記載のラベルシート。4. The label sheet according to claim 3, wherein the dry method is a sputtering method.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20221696A JPH1049051A (en) | 1996-07-31 | 1996-07-31 | Film for label sheet and label sheet |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP20221696A JPH1049051A (en) | 1996-07-31 | 1996-07-31 | Film for label sheet and label sheet |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1049051A true JPH1049051A (en) | 1998-02-20 |
Family
ID=16453890
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP20221696A Withdrawn JPH1049051A (en) | 1996-07-31 | 1996-07-31 | Film for label sheet and label sheet |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH1049051A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013033955A (en) * | 2011-08-02 | 2013-02-14 | Korea Inst Of Machinery & Materials | Method for burying conductive mesh in transparent electrode |
-
1996
- 1996-07-31 JP JP20221696A patent/JPH1049051A/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2013033955A (en) * | 2011-08-02 | 2013-02-14 | Korea Inst Of Machinery & Materials | Method for burying conductive mesh in transparent electrode |
US9182858B2 (en) | 2011-08-02 | 2015-11-10 | Korea Institute Of Machinery & Materials | Method for burying conductive mesh in transparent electrode |
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