JPH10340584A - Semiconductor memory device - Google Patents
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- JPH10340584A JPH10340584A JP15126597A JP15126597A JPH10340584A JP H10340584 A JPH10340584 A JP H10340584A JP 15126597 A JP15126597 A JP 15126597A JP 15126597 A JP15126597 A JP 15126597A JP H10340584 A JPH10340584 A JP H10340584A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は半導体記憶装置に関
し、特にCMOSおよびBiCMOSによって構成され
るSRAMに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to an SRAM constituted by CMOS and BiCMOS.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来の半導体記憶装置は、図10に示す
ように、MOSトランジスタM1、M2、M3、M4で
構成されるデータ記憶部分と、データの入出力を制御す
るMOSトランジスタM7、M9と、MOSトランジス
タM7、M9のオン/オフを制御するワード線WLと、
データの伝達を行うデジット線D、DBと、データ読み
出し時の負荷となるMOSトランジスタM15、M16
と、読み出し時に、デジット線D、DBの電位差を増幅
するセンスアンプSAと、書き込み時に、デジット線
D、DBをドライブする書き込み回路WCを有してい
る。2. Description of the Related Art As shown in FIG. 10, a conventional semiconductor memory device has a data storage portion composed of MOS transistors M1, M2, M3 and M4, and MOS transistors M7 and M9 for controlling data input / output. A word line WL for controlling ON / OFF of the MOS transistors M7 and M9;
Digit lines D and DB for transmitting data, and MOS transistors M15 and M16 serving as loads when reading data
And a sense amplifier SA for amplifying the potential difference between the digit lines D and DB at the time of reading, and a write circuit WC for driving the digit lines D and DB at the time of writing.
【0003】次に、本従来例の動作について説明する。
読み出し状態では、ワード線WLが高電位になり、MO
SトランジスタM7、M9がオンとなる。メモリセルの
情報に応じてデジット線D、DBいずれか一方に読み出
し電流I1(MOSトランジスタM2がオンの場合)ま
たはI2(MOSトランジスタM4がオンの場合)が流
れ、負荷MOSトランジスタM14、M15によって、
電流の流れているデジット線は電源電位Vccより0.
1V程度低い電位に、電流の流れていないもう一方のデ
ジット線はVccと同電位となり、その電位差はセンス
アンプSAによって増幅される。Next, the operation of the conventional example will be described.
In the read state, the word line WL becomes high potential,
The S transistors M7 and M9 are turned on. The read current I 1 (when the MOS transistor M2 is on) or I 2 (when the MOS transistor M4 is on) flows through one of the digit lines D and DB according to the information of the memory cell, and the load MOS transistors M14 and M15 By
The digit line where the current is flowing is set at 0.
The other digit line through which no current flows at a potential lower by about 1 V has the same potential as Vcc, and the potential difference is amplified by the sense amplifier SA.
【0004】書き込み動作では、ワード線WLが高電位
の状態で、書き込み回路WCによりデジット線D、DB
の一方を接地電位に、もう一方をVccにし、MOSト
ランジスタM7、M9を通してメモリセルにデータを書
き込む。In a write operation, when the word line WL is at a high potential, digit lines D and DB are written by a write circuit WC.
Is set to the ground potential and the other to Vcc, and data is written to the memory cell through the MOS transistors M7 and M9.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の半導体
記憶装置は下記のような問題点があった。The above-described conventional semiconductor memory device has the following problems.
【0006】第1の問題点は、読み出し動作において、
メモリセルとセンスアンプ部でDC電流を消費すること
である。その理由は、読み出し動作において、メモリセ
ル内のデータ保持をしているMOSトランジスタM3、
M4に電流が流れるのと、デジット線D、DBの電位差
が小さいために、電位増幅用のセンスアンプを必要とす
るからである。The first problem is that in the read operation,
DC current is consumed by the memory cell and the sense amplifier. The reason is that in the read operation, the MOS transistor M3 holding data in the memory cell,
This is because a current flows through M4 and the potential difference between digit lines D and DB is small, so that a sense amplifier for potential amplification is required.
【0007】第2の問題点は、メモリセル内のデータ保
持をしているMOSトランジスタM3、M4に電流を流
しているため、あまり大きな読み出し電流をとることが
できず、デジット線D、DBの応答速度を高めるために
は、MOSトランジスタM14、M15のインピーダン
スを小さくするため、デジット線D、DBの電位差が
0.1Vしか得られないことである。その理由は、メモ
リセル内のデータ保持部分にあまり大きな電流を流す
と、その電流により、データ保持部に電位変動が生じ、
データ保持の安定性が低下してしまうためである。The second problem is that since a current flows through the MOS transistors M3 and M4 which hold data in the memory cells, a very large read current cannot be obtained, and the digit lines D and DB are not connected. In order to increase the response speed, the impedance of the MOS transistors M14 and M15 is reduced, so that the potential difference between the digit lines D and DB is only 0.1 V. The reason is that if an excessively large current flows through the data holding portion in the memory cell, the current causes a potential change in the data holding portion,
This is because the stability of data retention is reduced.
【0008】本発明の目的は、メモリセルのデータ保持
の安定性を低下させることなく、読み出し電流の増加を
実現し、読み出し時のデジット線電位の振幅を増大さ
せ、センスアンプが不要な回路構成の半導体記憶装置を
提供することにある。An object of the present invention is to realize an increase in read current without deteriorating the stability of data retention in a memory cell, to increase the amplitude of a digit line potential at the time of read, and to provide a circuit configuration that does not require a sense amplifier. Another object of the present invention is to provide a semiconductor memory device.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、1本の読み出し用デジット線と、デジット線を電源
電位に引き上げるMOSトランジスタと、メモリセル内
に、データ安定性を低下させることなくデジット線を接
地電位に引き下げるMOSトランジスタを有している。According to the present invention, there is provided a semiconductor memory device comprising: one read digit line; a MOS transistor for raising the digit line to a power supply potential; and a memory cell without deteriorating data stability. It has a MOS transistor that pulls down the digit line to the ground potential.
【0010】メモリセルの読み出し電流を流すMOSト
ランジスタは、データ保持部分のMOSトランジスタに
ゲートが接続されているため、保持部分に読み出し電流
が流れることはない。そのため、メモリセルの安定度を
問題にすることなく、読み出し電流を大きくすることが
可能になる。リード動作用デジット線に大きな電流が流
せるので、短時間でリード動作用デジット線を引き下げ
ることが可能になる。ただしメモリセル自身には、リー
ド動作用デジット線を引き上げる作用がないので、リー
ド動作用デジット線の引き上げはデジット線制御用MO
Sトランジスタによって行われる。Since the gate of the MOS transistor for passing the read current of the memory cell is connected to the MOS transistor of the data holding portion, the read current does not flow to the holding portion. Therefore, the read current can be increased without considering the stability of the memory cell. Since a large current can flow through the read operation digit line, the read operation digit line can be pulled down in a short time. However, since the memory cell itself does not have the function of raising the digit line for read operation, raising the digit line for read operation must be performed by the MO for controlling the digit line.
This is performed by an S transistor.
【0011】その結果、従来例のようにデジット線の応
答速度を改善するための負荷MOSトランジスタが不要
になり、読み出し動作時にメモリセルを流れるDC電流
を削減できる。また、センスアンプが消費していたDC
電流も削減される。As a result, the load MOS transistor for improving the response speed of the digit line as in the conventional example is not required, and the DC current flowing through the memory cell during the read operation can be reduced. Also, the DC consumed by the sense amplifier
The current is also reduced.
【0012】本発明の実施態様によれば、デジット線
は、リード動作用1本とライト動作用の2本を有し、該
メモリセルに、データ保持部に電流を流入させることな
く、リード動作用デジット線に読み出し電流を流せる電
流経路を有する。According to an embodiment of the present invention, the digit line has one digit line for a read operation and two digit lines for a write operation. A current path through which a read current can flow through the digit line for use.
【0013】本発明の実施態様によれば、ワード線は、
リード動作用とライト動作用の2系統を有し、ライト動
作用デジット線2本のうち1本がリード動作用デジット
線と共用化されている。According to an embodiment of the present invention, the word line comprises:
It has two systems for read operation and write operation, and one of the two digit lines for write operation is shared with the digit line for read operation.
【0014】本発明の実施態様によれば、ワード線は、
リード動作用とライト動作用の2系統を有し、デジット
線は、リード動作用1本とライト動作用1本を有する。According to an embodiment of the present invention, the word line comprises:
There are two systems for read operation and write operation, and the digit line has one for read operation and one for write operation.
【0015】本発明の実施態様によれば、ライト動作用
デジット線がリード動作用デジット線と共用化されてい
る。According to the embodiment of the present invention, the digit line for the write operation is shared with the digit line for the read operation.
【0016】[0016]
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
【0017】図1は本発明の第1の実施の形態の半導体
記憶装置の回路図である。MOSトランジスタM1〜M
4はデータを保持するラッチ回路を形成している。MO
SトランジスタM5、M6がリード動作において、読み
出し電流を流す役目をする。MOSトランジスタM7〜
M10はライト動作において、MOSトランジスタM1
〜M4で形成されるラッチ回路の反転動作を行う。WL
はMOSトランジスタM5、M7、M9のオン/オフを
コントロールするワード線、DRはリード動作用のデジ
ット線、DW、DWBはライト動作用のデジット線であ
る。MOSトランジスタM11は、リード動作の初期に
おいて、デジット線DRを引き上げる役目をする。MO
SトランジスタM11はクロック信号を元に、ワンショ
ットのパルスを発生する回路PGでドライブされる。デ
ータ出力部において、MOSトランジスタM12、M1
3は、デジット線DRが高電位の時にラッチをかけ、デ
ジット線DRがフローティングになるのを防止する。Y
はデジット線の選択信号で、非選択時にMOSトランジ
スタM11の動作を停止するのと同時に、MOSトラン
ジスタM14によってデジット線DRを低電位に固定す
る役目をする。FIG. 1 is a circuit diagram of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention. MOS transistors M1 to M
4 forms a latch circuit for holding data. MO
The S transistors M5 and M6 serve to pass a read current in a read operation. MOS transistors M7-
M10 is the MOS transistor M1 in the write operation.
The inversion operation of the latch circuit formed by .about.M4 is performed. WL
Is a word line for controlling on / off of the MOS transistors M5, M7, M9, DR is a digit line for read operation, and DW and DWB are digit lines for write operation. MOS transistor M11 serves to pull up digit line DR at the beginning of the read operation. MO
The S transistor M11 is driven by a circuit PG that generates a one-shot pulse based on a clock signal. In the data output section, MOS transistors M12, M1
3 latches when the digit line DR is at a high potential to prevent the digit line DR from floating. Y
Is a digit line selection signal, which stops the operation of the MOS transistor M11 when it is not selected and, at the same time, serves to fix the digit line DR to a low potential by the MOS transistor M14.
【0018】また、本発明の第2の実施の形態の変形例
として、図2に示すように、メモリセルのデータ反転回
路をM7、M9のように構成してもよい。この場合は、
図1の実施形態と比較してメモリセルを構成するMOS
トランジスタの数を削減することが可能であるが、デー
タ保持部に電流が流れるので、安定性に留意した設計が
必要になる。As a modification of the second embodiment of the present invention, as shown in FIG. 2, the data inverting circuit of the memory cell may be configured as M7 and M9. in this case,
MOS constituting a memory cell as compared with the embodiment of FIG.
Although the number of transistors can be reduced, a current flows through the data holding unit, so that a design that pays attention to stability is required.
【0019】次に、本実施形態の動作について、図1〜
3を参照して詳細に説明する。Next, the operation of this embodiment will be described with reference to FIGS.
This will be described in detail with reference to FIG.
【0020】まず、ワード線WLおよび選択信号Yが高
電位になり、メモリセルおよびデジット線DRが選択状
態であるものとする。次に、パルス発生回路PGによ
り、リード動作の初期に、短時間MOSトランジスタM
11がオン状態になるよう、ワンショットのパルスが印
加され、デジット線DRは電源電位Vccまで引き上げ
られる。その後メモリセルのデータが、読み出し電流が
0となる(MOSトランジスタM6がオフ)の状態を記
憶している場合、デジット線DRの電位は図3で実線で
示すように高電位を保ったままになる。この時DOB、
YBは低電位になっているので、MOSトランジスタM
12、13がオン状態になり、デジット線DRを高電位
に保持しつづける。逆に、メモリセルのデータが、読み
出し電流を流す(MOSトランジスタM6がオン)の状
態を記憶している場合、デジット線DRの電位は図3に
点線で示されるように、高電位から低電位に引き下げら
れる。この時、データ出力DOBが低電位から高電位に
反転するまでの間、MOSトランジスタM12、M13
がオン状態になっているので、デジット線DRを引き上
げるように作用するが、MOSトランジスタM12、M
13の素子サイズを小さくしておけば、メモリセルによ
る引き下げを阻害することはない。First, it is assumed that the word line WL and the selection signal Y become high potential, and the memory cell and the digit line DR are in the selected state. Next, at the beginning of the read operation, the short-time MOS transistor M
A one-shot pulse is applied so that 11 is turned on, and digit line DR is pulled up to power supply potential Vcc. Thereafter, when the data of the memory cell stores the state where the read current becomes 0 (the MOS transistor M6 is turned off), the potential of the digit line DR is maintained at a high potential as shown by a solid line in FIG. Become. At this time DOB,
Since YB is at a low potential, the MOS transistor M
12 and 13 are turned on, and the digit line DR is kept at a high potential. Conversely, when the data in the memory cell stores a state in which a read current flows (the MOS transistor M6 is on), the potential of the digit line DR changes from a high potential to a low potential as shown by a dotted line in FIG. To be reduced to At this time, until the data output DOB is inverted from the low potential to the high potential, the MOS transistors M12, M13
Is turned on, it acts to pull up digit line DR. However, MOS transistors M12, M
If the element size of the element 13 is reduced, the reduction by the memory cell is not hindered.
【0021】次に、ライト動作について説明する。ライ
ト動作は従来例と同じである。ワード線WLが高電位で
メモリセルが選択状態の時、デジット線DWが高電位、
デジット線DWBが低電位の場合、図1の実施形態では
MOSトランジスタM9、M10がオンになり、節点Q
Bの電位を引き下げる。図2の実施形態では、DWBが
低電位なので、オン状態のMOSトランジスタM9を通
して節点QBを引き下げる。デジット線DWが低電位、
デジット線DWBが高電位の場合、図1の実施形態では
MOSトランジスタM7、M8がオンになり、デジット
線Qの電位を引き下げる。図2の実施形態では、デジッ
ト線DWが低電位なので、オン状態のMOSトランジス
タM7を通して節点Qを引き下げる。Next, the write operation will be described. The write operation is the same as the conventional example. When the word line WL is at a high potential and the memory cell is in a selected state, the digit line DW is at a high potential,
When the digit line DWB is at a low potential, the MOS transistors M9 and M10 are turned on in the embodiment of FIG.
The potential of B is lowered. In the embodiment of FIG. 2, since DWB is at a low potential, the node QB is pulled down through the ON-state MOS transistor M9. Digit line DW is low potential,
When the digit line DWB is at a high potential, the MOS transistors M7 and M8 are turned on in the embodiment of FIG. 1 to lower the potential of the digit line Q. In the embodiment of FIG. 2, since the digit line DW has a low potential, the node Q is pulled down through the ON-state MOS transistor M7.
【0022】[0022]
【実施例】次に、本発明の実施例について、図面を参照
して詳細に説明する。Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
【0023】図4は図1の実施形態に相当する実施例で
ある。MOSトランジスタM1〜M14に付記されてい
る数値は、チャネル幅をμm単位で表わしている。ま
た、いずれのトランジスタM1〜M14もチャネル長は
0.5μmである。ライト動作は従来と変わらないの
で、リード動作を中心に説明する。本発明で特徴的なの
は、データ記憶部分のMOSトランジスタM4に対し
て、データの読み出しトランジスタM5、M6のチャネ
ル幅が4倍の大きさを持っていることである。従来の回
路では、データ保持の安定度の問題から、データ記憶部
分のトランジスタに対して読み出しトランジスタのチャ
ネル幅を1/3〜1/4に押さえる必要があった。本実
施例では、データ記憶部分のトランジスタサイズを同一
とした場合、従来に比例して約一桁大きい電流を流すこ
とができる。FIG. 4 is an example corresponding to the embodiment of FIG. The numerical values added to the MOS transistors M1 to M14 represent the channel width in μm. Each of the transistors M1 to M14 has a channel length of 0.5 μm. Since the write operation is not different from the conventional one, the explanation will be focused on the read operation. A feature of the present invention is that the channel width of the data read transistors M5 and M6 is four times as large as that of the MOS transistor M4 in the data storage portion. In the conventional circuit, the channel width of the read transistor needs to be reduced to 1/3 to 1/4 of the transistor in the data storage portion due to the problem of the stability of data retention. In the present embodiment, when the transistor size of the data storage portion is the same, a current approximately one order of magnitude larger than that of the related art can flow.
【0024】次に、本発明の実施例の動作について、図
5を参照して詳細に説明する。Next, the operation of the embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG.
【0025】図4の例において、読み出し電流が1mA
流れるものとする。リード動作用のデジット線DRの容
量が0.5pFの場合、電位の降下速度は、 dV/dt=I/C=1mA/0.5pF=2V/nS になる。電源電位はVccを3Vとすると、Vcc/2
まで降下する時間tは t=(Vcc/2)/(dV/dt)=0.75nS である。In the example of FIG. 4, the read current is 1 mA.
Let it flow. When the capacitance of the digit line DR for the read operation is 0.5 pF, the potential decreasing speed is dV / dt = I / C = 1 mA / 0.5 pF = 2 V / nS. Assuming that the power supply potential is 3 V, Vcc / 2
The time t for falling is t = (Vcc / 2) / (dV / dt) = 0.75 nS.
【0026】[0026]
【発明の実施の形態】図6は、本発明の第2の実施形態
をに示す図である。本実施形態では、リード動作制御ト
ランジスタM5は、リード動作用ワード線WLRで、ラ
イト動作制御トランジスタM7、M9は、ライト動作用
ワード線WLWによって、それぞれ独立に制御されてい
る。本実施形態は2ポートのSRAMに応用できる。FIG. 6 is a diagram showing a second embodiment of the present invention. In this embodiment, the read operation control transistor M5 is independently controlled by the read operation word line WLR, and the write operation control transistors M7 and M9 are independently controlled by the write operation word line WLW. This embodiment can be applied to a two-port SRAM.
【0027】図7は第2の実施形態において、ライト動
作用デジット線2本のうち1本を、リード動作用デジッ
ト線と共用化したものである。本実施形態ではリード動
作用のワード線WLRかライト動作用ワード線WLWの
いずれか一方のみを高電位にして動作させる。ワード線
WLRが高電位の場合、デジット線Dはリード動作用デ
ジット線として、ワード線WLWが高電位の場合、デジ
ット線DおよびDWBがライト動作用デジット線として
動作する。FIG. 7 shows a second embodiment in which one of two write operation digit lines is shared with a read operation digit line. In this embodiment, only one of the read operation word line WLR and the write operation word line WLW is operated at a high potential. When word line WLR is at a high potential, digit line D operates as a digit line for read operation, and when word line WLW is at a high potential, digit lines D and DWB operate as digit lines for write operation.
【0028】図8はリード動作用デジット線1本と、ラ
イト動作用デジット線1本で構成した実施形態である。
ワード線はリード動作用のWLRとライト動作用のWL
Wの2系統を有する。本実施例は2ポートのSRAMに
応用できる。FIG. 8 shows an embodiment comprising one digit line for read operation and one digit line for write operation.
The word lines are a WLR for read operation and a WL for write operation.
W. This embodiment can be applied to a two-port SRAM.
【0029】図9は図8の実施例において、リード動作
用デジット線とライト動作用デジット線を共用化した実
施形態である。本実施形態ではリード動作用ワード線W
LRとライト動作用ワード線WLWのいずれか一方のみ
を高電位にして動作させる。FIG. 9 shows an embodiment in which the digit line for read operation and the digit line for write operation are shared in the embodiment of FIG. In the present embodiment, the read operation word line W
Only one of the LR and the write operation word line WLW is operated at a high potential.
【0030】[0030]
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、下記の
ような効果がある。 (1)メモリセルのデータ保持部の安定度を損うことな
く読み出し電流を大きくすることが可能である。その理
由は、データ保持部に読み出し電流が流れ込まないの
で、データ保持部に電位変動を生じさせることなく、読
み出し電流を大きくできるからである。 (2)リード動作用デジット線の電位を、電源電位から
接地電位まで引き下げることが可能になり、センスアン
プが不要になる。その理由は、メモリセルの読み出し電
流が大きいので短時間でデジット線電位を引き下げ可能
だからである。As described above, the present invention has the following effects. (1) The read current can be increased without deteriorating the stability of the data holding unit of the memory cell. The reason is that the read current does not flow into the data holding unit, so that the read current can be increased without causing a potential change in the data holding unit. (2) The potential of the read operation digit line can be reduced from the power supply potential to the ground potential, and a sense amplifier becomes unnecessary. The reason is that since the read current of the memory cell is large, the digit line potential can be reduced in a short time.
【図1】本発明の第1の実施形態の半導体記憶装置の回
路図である。FIG. 1 is a circuit diagram of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】第1の実施形態の変形例を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a modification of the first embodiment.
【図3】第1の実施形態の動作波形図である。FIG. 3 is an operation waveform diagram of the first embodiment.
【図4】本発明の第1の実施例の半導体記憶装置の回路
図である。FIG. 4 is a circuit diagram of the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention.
【図5】第1の実施例の動作波形図である。FIG. 5 is an operation waveform diagram of the first embodiment.
【図6】本発明の第2の実施形態の半導体記憶装置の回
路図である。FIG. 6 is a circuit diagram of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.
【図7】本発明の第3の実施形態の半導体記憶装置の回
路図である。FIG. 7 is a circuit diagram of a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention.
【図8】本発明の第4の実施形態の半導体記憶装置の回
路図である。FIG. 8 is a circuit diagram of a semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention.
【図9】本発明の第5の実施形態の半導体記憶装置の回
路図である。FIG. 9 is a circuit diagram of a semiconductor memory device according to a fifth embodiment of the present invention.
【図10】半導体記憶装置の従来例の回路図である。FIG. 10 is a circuit diagram of a conventional example of a semiconductor memory device.
M1〜M14 MOSトランジスタ WL、WLR、WLW ワード線 D、DB、DR、DW、DWB デジット線 Y デジット線選択信号 I、I1、I2 読み出し電流 Q、QB データ保持部の節点 DOB データ出力 RP デジット線引き上げ用p形MOSトランジスタ
駆動信号 WC 書き込み回路 PG パルス発生回路 SA センスアンプM1~M14 MOS transistor WL, WLR, WLW word line D, DB, DR, DW, DWB digit line Y digit line selection signals I, I 1, I 2 read current Q, nodes QB data holding unit DOB data output RP digit Line pulling p-type MOS transistor drive signal WC write circuit PG pulse generation circuit SA sense amplifier
Claims (5)
クスで構成されるメモリセルアレイと、該デジット線を
制御するMOSトランジスタを有する半導体記憶装置に
おいて、 前記メモリセルは、リード動作用のデジット線を1本有
し、該デジット線の引き上げ動作は、前記MOSトラン
ジスタに、リード動作の初期に、ワンショットパルスを
印加することで行い、引き下げ動作は、前記メモリセル
で行うことを特徴とする半導体記憶装置。1. A semiconductor memory device having a memory cell array composed of a matrix of a plurality of word lines and digit lines and a MOS transistor controlling the digit lines, wherein the memory cell has one digit line for a read operation. A semiconductor memory device, wherein the operation of raising the digit line is performed by applying a one-shot pulse to the MOS transistor at the beginning of a read operation, and the operation of lowering the digit line is performed by the memory cell. .
ライト動作用の2本を有し、該メモリセルに、データ保
持部に電流を流入させることなく、リード動作用デジッ
ト線に読み出し電流を流せる電流経路を有する請求項1
記載の半導体記憶装置。2. The digit line has one for a read operation and two for a write operation. A read current is supplied to the read operation digit line without causing a current to flow into the data holding unit in the memory cell. 2. A current path through which current can flow.
13. The semiconductor memory device according to claim 1.
用の2系統を有し、ライト動作用デジット線2本のうち
1本がリード動作用デジット線と共用化されている請求
項2記載の半導体記憶装置。3. The word line has two systems for read operation and write operation, and one of the two digit lines for write operation is shared with the digit line for read operation. Semiconductor storage device.
用の2系統を有し、デジット線は、リード動作用1本と
ライト動作用1本を有する請求項2記載の半導体記憶装
置。4. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the word line has two systems for a read operation and a write operation, and the digit line has one for a read operation and one for a write operation.
ジット線と共用化されている請求項4記載の半導体記憶
装置5. The semiconductor memory device according to claim 4, wherein the digit line for write operation is shared with the digit line for read operation.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15126597A JPH10340584A (en) | 1997-06-09 | 1997-06-09 | Semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15126597A JPH10340584A (en) | 1997-06-09 | 1997-06-09 | Semiconductor memory device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10340584A true JPH10340584A (en) | 1998-12-22 |
Family
ID=15514892
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15126597A Pending JPH10340584A (en) | 1997-06-09 | 1997-06-09 | Semiconductor memory device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10340584A (en) |
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-
1997
- 1997-06-09 JP JP15126597A patent/JPH10340584A/en active Pending
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