JPH10332928A - Production of color filter - Google Patents
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Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル（ＰＤＰ）、液晶ディスプレイなどの表示装
置に設けられ、カラー表示やコントラスト、画質向上の
ために用いられるカラーフィルタの製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a color filter provided in a display device such as a plasma display panel (PDP) or a liquid crystal display and used for improving color display, contrast, and image quality.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、例えば、液晶ディスプレイでは、
カラー表示のために、また、ＰＤＰでは、コントラス
ト、画質向上のためにカラーフィルタが不可欠となって
いる。そして、このカラーフィルタに対して、次のよう
な形成方法が提案されている。 （１）低融点ガラス及び無機顔料を適当なバインダ樹脂
及び溶剤と練り合わせたペーストを基板にスクリーン印
刷等の方法でパターンニングし、焼成することによりバ
インダ樹脂及び溶剤を除去し、低融点ガラス中に無機顔
料が分散したフィルタを得る。 （２）基板上に無機顔料をスクリーン印刷等の方法で所
定の形状にパターンニングし、その上に透明なオーバコ
ート層をスクリーン印刷法で形成し、基板上に無機顔料
を固着してフィルタを得る。2. Description of the Related Art Conventionally, for example, in a liquid crystal display,
Color filters are indispensable for color display and for PDP to improve contrast and image quality. The following forming method has been proposed for this color filter. (1) A paste obtained by kneading a low-melting glass and an inorganic pigment with an appropriate binder resin and a solvent is patterned on a substrate by a method such as screen printing and the like, and the binder resin and the solvent are removed by baking. A filter in which the inorganic pigment is dispersed is obtained. (2) An inorganic pigment is patterned into a predetermined shape on a substrate by a method such as screen printing, a transparent overcoat layer is formed thereon by a screen printing method, and the inorganic pigment is fixed on the substrate to form a filter. obtain.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】ところで、ＰＤＰで
は、フィルタ上に電極や誘電体層が形成される場合、そ
の断線やピンホールを防ぐことが表示品質上肝要であ
り、そのためにはフィルタ層による基板上の凹凸が小さ
くできるだけ平坦であることが望ましい。In PDPs, when electrodes or dielectric layers are formed on a filter, it is important for display quality to prevent disconnection or pinholes. It is desirable that the unevenness on the substrate is as small as possible and as flat as possible.
【０００４】しかしながら、（１）の形成方法では、フ
ィルタの必要な光学濃度を確保するために比較的厚いフ
ィルタ層を形成する必要があり、基板上にその分凹凸が
形成される。一方、（２）の形成方法では、必要な光学
濃度を持つフィルタ層を比較的薄い膜厚（数ミクロン程
度）で形成することが可能であるが、無機顔料自体では
基板に付着しているに過ぎないので無機顔料層上に行電
極をフォトリソグラフィ法でパターンニングして形成す
る工程で剥離してしまう。そこで、無機顔料層を透明な
オーバコート層で覆って基板に固着している。However, in the formation method (1), it is necessary to form a relatively thick filter layer in order to secure a necessary optical density of the filter, and accordingly, unevenness is formed on the substrate. On the other hand, in the formation method (2), it is possible to form a filter layer having a required optical density with a relatively small film thickness (about several microns), but the inorganic pigment itself adheres to the substrate. Therefore, the row electrodes are peeled off in the step of patterning and forming the row electrodes on the inorganic pigment layer by the photolithography method. Therefore, the inorganic pigment layer is fixed to the substrate by covering it with a transparent overcoat layer.
【０００５】このオーバコート層をスクリーン印刷法に
よって形成する場合、層厚コントロールが難しいこと、
ピンホール欠陥が生じやすいこと、メッシュ痕が残るこ
とといった問題が生じる。本発明は、上述の問題に鑑
み、カラーフィルタ層による凹凸を減少させ、品質を向
上したカラーフィルタを効率良く製造することができる
カラーフィルタの製造方法を提供することを目的とす
る。When the overcoat layer is formed by a screen printing method, it is difficult to control the thickness of the overcoat layer,
There are problems that pinhole defects easily occur and mesh marks remain. The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to provide a method of manufacturing a color filter capable of efficiently manufacturing a color filter having improved quality by reducing unevenness due to a color filter layer.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、カラーフィルタの製造方法であって、基板上に無機
顔料層を所定形状にパターンニングした後、無機顔料層
及びその周辺部を覆うように透明なドライガラスペース
トフィルムを積層し、焼成して無機顔料層を基板上に固
着することを特徴とする。請求項２に記載の発明は、カ
ラーフィルタの製造方法であって、所定形状にパターン
ニングされた電極層が形成された基板上に無機顔料層を
所定形状にパターンニングした後、無機顔料層及びその
周辺部を覆うように透明なドライガラスペーストフィル
ムを積層し、焼成して無機顔料層を基板上に固着するこ
とを特徴とする。請求項３に記載の発明は、カラーフィ
ルタの製造方法であって、基板上に無機顔料を混入した
ガラスペーストを所定形状にパターンニングし、焼成し
てフィルタ層を形成した後、透明なドライガラスペース
トフィルムを積層し、焼成してオーバコート層を形成す
ることを特徴とする。According to the first aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a color filter, comprising: patterning an inorganic pigment layer on a substrate into a predetermined shape; It is characterized by laminating a transparent dry glass paste film so as to cover and baking it to fix the inorganic pigment layer on the substrate. The invention according to claim 2 is a method for manufacturing a color filter, wherein after patterning an inorganic pigment layer in a predetermined shape on a substrate on which an electrode layer patterned in a predetermined shape is formed, an inorganic pigment layer and It is characterized in that a transparent dry glass paste film is laminated so as to cover the peripheral portion, and is fired to fix the inorganic pigment layer on the substrate. The invention according to claim 3 is a method for manufacturing a color filter, wherein a glass paste mixed with an inorganic pigment is patterned into a predetermined shape on a substrate and fired to form a filter layer. A paste film is laminated and fired to form an overcoat layer.
【０００７】[0007]
【作用】本発明によれば、オーバコート層を設ける方法
としてフィルムコート法を用いることにより、印刷法に
比してオーバコート層の面内ばらつきが抑制され、透過
率の面内ばらつきが抑制されることになる。また、フィ
ルムコート前にピンホールなどの欠陥を発見しやすく、
表面荒さも軽減できる。According to the present invention, the in-plane variation of the overcoat layer and the in-plane variation of the transmittance are suppressed by using the film coating method as the method of providing the overcoat layer, as compared with the printing method. Will be. In addition, it is easy to find defects such as pinholes before film coating,
Surface roughness can also be reduced.
【０００８】[0008]
（第１の実施形態）図１は、本発明の第１の実施形態の
製造方法にて作製されたカラーフィルタを有するＰＤＰ
の要部の構成を示す断面図である。ＰＤＰは、マトリク
ス表示の画素（放電セル）に一対の行電極（維持電極）
Ｘ、Ｙと列電極（アドレス電極）Ａとが対応する３電極
構造を有し、蛍光体の配置関係による分類上で反射型と
呼称される面放電型のＡＣＰＤＰである。(First Embodiment) FIG. 1 shows a PDP having a color filter manufactured by a manufacturing method according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a configuration of a main part of FIG. PDPs have a pair of row electrodes (sustain electrodes) in pixels (discharge cells) for matrix display.
This is a surface-discharge type ACDP having a three-electrode structure in which X and Y correspond to column electrodes (address electrodes) A, and which is called a reflection type in terms of the arrangement of phosphors.
【０００９】図１において、ガラス基板からなる前面板
１の内面上には、カラーフィルタを構成する無機顔料層
３ａと、無機顔料層３ａを前面板１に固着する透明なガ
ラス層からなるオーバコート層４と、酸化インジウムと
酸化錫の混合物で構成されるＩＴＯ又は酸化錫からなる
透明電極５とそれに積層されたアルミニウム又はアルミ
ニウム合金からなるバス電極６から構成される行電極対
Ｘ，Ｙと、行電極対Ｘ，Ｙを被覆する誘電体層７と、誘
電体層７を放電空間９に対して保護する酸化マグネシウ
ム（ＭｇＯ）からなる保護層８が順に形成されている。In FIG. 1, an inorganic pigment layer 3a constituting a color filter and an overcoat comprising a transparent glass layer for fixing the inorganic pigment layer 3a to the front panel 1 are provided on the inner surface of a front panel 1 composed of a glass substrate. A row electrode pair X, Y composed of a layer 4, a transparent electrode 5 composed of ITO or tin oxide composed of a mixture of indium oxide and tin oxide, and a bus electrode 6 composed of aluminum or an aluminum alloy laminated thereon; A dielectric layer 7 covering the pair of row electrodes X and Y and a protective layer 8 made of magnesium oxide (MgO) for protecting the dielectric layer 7 against the discharge space 9 are formed in this order.
【００１０】一方、ガラス基板からなる背面板２上に
は、行電極対Ｘ，Ｙと直交する方向に形成され、アルミ
ニウム又はアルミニウム合金からなる列（アドレス）電
極Ａと、列電極Ａを覆うように形成された蛍光体層１０
が形成されている。尚、放電空間９内には、Ｎｅ、Ｘ
ｅ、Ｈｅ等の少なくとも２種類の希ガスを含む混合ガス
が封入されている。On the other hand, on a rear plate 2 made of a glass substrate, a column (address) electrode A made of aluminum or an aluminum alloy and a column (address) electrode A made of aluminum or an aluminum alloy are formed in a direction perpendicular to the row electrode pairs X and Y. Phosphor layer 10 formed on
Are formed. In the discharge space 9, Ne, X
A mixed gas containing at least two types of rare gases such as e and He is sealed.
【００１１】本発明の無機顔料層３ａに用いる無機顔料
としては、例えば赤色顔料としてＦｅ2 Ｏ3 、緑色顔料
としてＴｉＯ2 −ＣｏＯ−ＮＩＯ−ＺｎＯ、青色顔料と
してＣｏＯ−Ａｌ2 Ｏ3 等が使用可能である。As the inorganic pigment used in the inorganic pigment layer 3a of the present invention, for example, Fe 2 O 3 as a red pigment, TiO 2 -CoO-NIO-ZnO as a green pigment, CoO-Al 2 O 3 as a blue pigment and the like are used. It is possible.
【００１２】本発明における無機顔料のパターンニング
方法として、無機顔料を適当なバインダ樹脂及び溶剤と
練り合わせたペーストを基板上にスクリーン印刷等の方
法でパターンニングした後、焼成することによりバイン
ダ樹脂及び溶剤を除去してフィルタを得る方法、又は、
無機顔料を適当な感光性樹脂及び溶剤と練り合わせたペ
ーストを基板上に塗布し、これを所定のフォトマスクを
用い露光、現像してパターンニングした後、焼成するこ
とにより樹脂及び溶剤を除去してフィルタを得る方法、
又は、無機顔料を基板上に塗布し、この顔料上に感光性
樹脂を塗布し、これを所定のフォトマスクを用い露光、
現像、エッチングしてパターンニングした後、焼成する
ことによりフィルタを得る方法等を用いることができ
る。As a method for patterning an inorganic pigment in the present invention, a paste obtained by kneading an inorganic pigment with an appropriate binder resin and a solvent is patterned on a substrate by a method such as screen printing, and then baked to obtain a binder resin and a solvent. To obtain a filter by removing
A paste obtained by kneading an inorganic pigment with an appropriate photosensitive resin and a solvent is applied on a substrate, and the resin and the solvent are removed by baking after patterning by exposing, developing, and using a predetermined photomask. How to get a filter,
Or, apply an inorganic pigment on a substrate, apply a photosensitive resin on the pigment, and expose it using a predetermined photomask,
After patterning by development and etching, a method of obtaining a filter by firing and the like can be used.
【００１３】以下、図２に基づいて本発明の第１の実施
形態によるカラーフィルタの製造方法を用いたＰＤＰの
前面板の製造方法について説明する。まず、表示面側と
なるガラス基板からなる前面板１上に上述のいずれかの
方法を用いて所定形状に無機顔料層３ａをパターンニン
グする（図２（ａ））。そして、無機顔料層３ａ及びそ
の周辺部を覆うように非アルカリ系の低融点ガラスをを
含むドライガラスペーストフィルム２１をローラ２２に
より加熱・加圧して熱圧着した後、５００〜６００℃程
度の温度で焼成することにより、オーバコート層４を形
成して無機顔料層３ａを前面板１上に固着する（図２
（ｂ））。このようにしてカラーフィルタが基板上に形
成される。Hereinafter, a method of manufacturing a front panel of a PDP using the method of manufacturing a color filter according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. First, the inorganic pigment layer 3a is patterned into a predetermined shape on the front plate 1 made of a glass substrate on the display surface side by using any of the above methods (FIG. 2A). Then, a dry glass paste film 21 containing a non-alkali low-melting glass is heated and pressed by a roller 22 so as to cover the inorganic pigment layer 3a and its peripheral portion, and is thermocompressed. To form the overcoat layer 4 and fix the inorganic pigment layer 3a on the front plate 1 (FIG. 2).
(B)). Thus, a color filter is formed on the substrate.
【００１４】ここで、ドライガラスペーストフィルム２
１は、平均粒径が３ミクロン程度のガラス粒、アルミナ
などのセラミック粒、アクリル系などからなる樹脂バイ
ンダ及びトルエンなどの溶剤などからなる混合スリップ
をドクターブレイド法又はカレンダー法などにより、離
形剤を塗布したベースフィルム（ＰＥＴなどからなるフ
ィルム）上にフィルム状に形成したものであり、誘電体
層のガラス材料より高い軟化点（焼成温度）を有する。
また、無機顔料層３ａ及びドライガラスペーストフィル
ム２１の厚さはそれぞれ、１μｍ程度、数μｍ〜十数μ
ｍ程度である。Here, the dry glass paste film 2
1 is a mixture of glass particles having an average particle size of about 3 microns, ceramic particles such as alumina, a resin binder made of acrylic or the like, and a mixed slip made of a solvent such as toluene, etc., by a doctor blade method or a calendar method, etc. Is formed in a film shape on a base film (a film made of PET or the like) to which is applied, and has a higher softening point (firing temperature) than the glass material of the dielectric layer.
The thicknesses of the inorganic pigment layer 3a and the dry glass paste film 21 are each about 1 μm, several μm to several tens μm.
m.
【００１５】次に、オーバコート層４上に、酸化錫又Ｉ
ＴＯを蒸着又はスパッタリングして全面の透明導電膜を
形成した後、フォトリソグラフィ法により透明導電膜を
所定形状にパターンニングして透明電極５を形成する。
この透明電極５上にアルミニウム又はアルミニウム合金
を蒸着又はスパッタリングして全面の金属膜を形成した
後、フォトリソグラフィ法により金属膜を所定形状にパ
ターンニングしてバス電極６を形成する（図２
（ｃ））。Next, tin oxide or I
After vapor-depositing or sputtering TO to form a transparent conductive film on the entire surface, the transparent conductive film is patterned into a predetermined shape by a photolithography method to form a transparent electrode 5.
After depositing or sputtering aluminum or an aluminum alloy on the transparent electrode 5 to form a metal film on the entire surface, the metal film is patterned into a predetermined shape by photolithography to form a bus electrode 6 (FIG. 2).
(C)).
【００１６】次に透明電極５及びバス電極６上に低融点
ガラスペーストを一様に塗布し、焼成することにより、
誘電体層７が形成され、誘電体層７上にＭｇＯを蒸着す
ることにより、保護層８が形成される（図２（ｄ））。Next, a low-melting glass paste is applied uniformly on the transparent electrode 5 and the bus electrode 6 and baked,
The dielectric layer 7 is formed, and the protective layer 8 is formed by depositing MgO on the dielectric layer 7 (FIG. 2D).
【００１７】このように、オーバコート層４を設ける方
法としてフィルムコート法を用いることにより、印刷法
に比してオーバコート層４の面内ばらつきが抑制され、
透過率の面内ばらつきが抑制されることになる。また、
フィルムコート前にピンホールなどの欠陥を発見しやす
く、表面荒さも軽減できる。従って、後工程で形成され
る電極、誘電体層の断線、ピンホールが発生しにくくな
り、信頼性が向上する。As described above, the in-plane variation of the overcoat layer 4 is suppressed by using the film coating method as a method of providing the overcoat layer 4 as compared with the printing method.
In-plane variation in transmittance is suppressed. Also,
Defects such as pinholes can be easily found before film coating, and surface roughness can be reduced. Therefore, disconnection and pinholes of electrodes and dielectric layers formed in a later step are less likely to occur, and reliability is improved.
【００１８】（第２の実施形態）図３は、本発明の第２
の実施形態の製造方法にて作製されたカラーフィルタを
有するＰＤＰの要部の構成を示す断面図である。第１の
実施形態の製造方法と異なる点は、行電極対形成工程後
にカラーフィルタを形成するようにしたことである。図
３に基づいてその構成を説明する。図３において、ガラ
ス基板からなる前面板１の内面上には、酸化インジウム
と酸化錫の混合物で構成されるＩＴＯ又は酸化錫からな
る透明電極５とそれに積層されたアルミニウム又はアル
ミニウム合金からなるバス電極６から構成される行電極
対Ｘ，Ｙと、カラーフィルタを構成する無機顔料層３ａ
と、無機顔料層３ａを前面板１に固着する透明なガラス
層からなるオーバコート層４と、誘電体層７と、誘電体
層７を放電空間９に対して保護する酸化マグネシウム
（ＭｇＯ）からなる保護層８が順に形成されている。(Second Embodiment) FIG. 3 shows a second embodiment of the present invention.
It is sectional drawing which shows the structure of the principal part of the PDP which has the color filter manufactured by the manufacturing method of 1st Embodiment. The difference from the manufacturing method of the first embodiment is that a color filter is formed after the row electrode pair forming step. The configuration will be described with reference to FIG. In FIG. 3, a transparent electrode 5 composed of ITO or tin oxide composed of a mixture of indium oxide and tin oxide and a bus electrode composed of aluminum or an aluminum alloy laminated thereon are provided on the inner surface of a front plate 1 composed of a glass substrate. 6 and the inorganic pigment layer 3a constituting the color filter
An overcoat layer 4 made of a transparent glass layer for fixing the inorganic pigment layer 3a to the front plate 1, a dielectric layer 7, and magnesium oxide (MgO) for protecting the dielectric layer 7 against the discharge space 9. Protective layers 8 are sequentially formed.
【００１９】一方、ガラス基板からなる背面板２上に
は、行電極対Ｘ，Ｙと直交する方向に形成され、アルミ
ニウム又はアルミニウム合金からなる列電極Ａと、列電
極Ａを覆うように形成された蛍光体層１０が形成されて
いる。尚、放電空間９内には、Ｎｅ、Ｘｅ、Ｈｅ等の少
なくとも２種類の希ガスを含む混合ガスが封入されてい
る。On the other hand, on the back plate 2 made of a glass substrate, a column electrode A made of aluminum or an aluminum alloy and a column electrode A made of aluminum or an aluminum alloy are formed so as to cover the column electrode A. Phosphor layer 10 is formed. The discharge space 9 is filled with a mixed gas containing at least two types of rare gases such as Ne, Xe, and He.
【００２０】本発明の無機顔料層３ａに用いる無機顔料
としては、前述した第１の実施形態と同様に、例えば赤
色顔料としてＦｅ2 Ｏ3 、緑色顔料としてＴｉＯ2 −Ｃ
ｏＯ−ＮＩＯ−ＺｎＯ、青色顔料としてＣｏＯ−Ａｌ2
Ｏ3 等が使用可能である。The inorganic pigment used in the inorganic pigment layer 3a of the present invention is, for example, Fe 2 O 3 as a red pigment and TiO 2 -C as a green pigment, as in the first embodiment.
oO-NIO-ZnO, CoO-Al 2 as a blue pigment
O 3 or the like can be used.
【００２１】以下、図４に基づいて本発明の第２の実施
形態によるカラーフィルタの製造方法を用いたＰＤＰの
前面板の製造方法について説明する。まず、表示面側と
なるガラス基板からなる前面板１上に酸化錫又ＩＴＯを
蒸着又はスパッタリングして全面の透明導電膜を形成し
た後、フォトリソグラフィ法により透明導電膜を所定形
状にパターンニングして透明電極５を形成する。この透
明電極５上にアルミニウム又はアルミニウム合金を蒸着
又はスパッタリングして全面の金属膜を形成した後、フ
ォトリソグラフィ法により金属膜を所定形状にパターン
ニングしてバス電極６を形成する（図４（ａ））。Hereinafter, a method for manufacturing a front panel of a PDP using the method for manufacturing a color filter according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. First, tin oxide or ITO is deposited or sputtered on the front plate 1 made of a glass substrate on the display surface side to form a transparent conductive film over the entire surface, and then the transparent conductive film is patterned into a predetermined shape by photolithography. Thus, a transparent electrode 5 is formed. After depositing or sputtering aluminum or an aluminum alloy on the transparent electrode 5 to form a metal film on the entire surface, the metal film is patterned into a predetermined shape by photolithography to form a bus electrode 6 (FIG. 4A )).
【００２２】次に、上述した無機顔料のパターンニング
方法のいずれかの方法を用いて所定形状に無機顔料層３
ａをパターンニングする（図４（ｂ））。そして、無機
顔料層３ａ及びその周辺部を覆うように非アルカリ系の
低融点ガラスをを含むドライガラスペーストフィルム２
１をローラ２２により加熱・加圧して熱圧着した後、５
００〜６００℃程度の温度で焼成することにより、オー
バコート層４を形成して無機顔料層３ａを前面板１上に
固着する（図４（ｃ））。このようにしてカラーフィル
タが基板上に形成される。Next, the inorganic pigment layer 3 is formed into a predetermined shape by using any one of the above-mentioned inorganic pigment patterning methods.
a is patterned (FIG. 4B). A dry glass paste film 2 containing a non-alkali low-melting glass so as to cover the inorganic pigment layer 3a and its peripheral portion.
1 is heated and pressed by the roller 22 and thermocompressed.
By baking at a temperature of about 00 to 600 ° C., the overcoat layer 4 is formed, and the inorganic pigment layer 3a is fixed on the front plate 1 (FIG. 4C). Thus, a color filter is formed on the substrate.
【００２３】ここで、ドライガラスペーストフィルム２
１は、前述した第１の実施形態と同様に、平均粒径が３
ミクロン程度のガラス粒、アルミナなどのセラミック
粒、アクリル系などからなる樹脂バインダ及びトルエン
などの溶剤などからなる混合スリップをドクターブレイ
ド法又はカレンダー法などにより、離形剤を塗布したベ
ースフィルム上にフィルム状に形成したものである。ま
た、無機顔料層３ａ及びドライガラスペーストフィルム
２１の厚さはそれぞれ、１μｍ程度、数μｍ〜十数μｍ
程度である。Here, the dry glass paste film 2
1 has an average particle size of 3 as in the first embodiment.
A mixed slip made of glass particles of about micron, ceramic particles such as alumina, resin binder made of acrylic, etc. and solvent such as toluene, etc. is coated on a base film coated with a release agent by the doctor blade method or the calendar method. It is formed in a shape. The thickness of the inorganic pigment layer 3a and the thickness of the dry glass paste film 21 are each about 1 μm, several μm to several tens μm.
It is about.
【００２４】次に、オーバコート層４上に低融点ガラス
ペーストを一様に塗布し、焼成することにより、誘電体
層７が形成され、誘電体層７上にＭｇＯを蒸着すること
により、保護層８が形成される（図４（ｄ））。Next, a low-melting glass paste is uniformly applied on the overcoat layer 4 and baked to form a dielectric layer 7, and MgO is deposited on the dielectric layer 7 to protect the dielectric layer. The layer 8 is formed (FIG. 4D).
【００２５】このように、各層を形成しても第１の実施
形態と同様な作用及び効果を得ることができる。また、
フォトリソグラフィ工程（行電極対形成工程）終了後に
カラーフィルタを形成するようにしたのでオーバコート
層の材料の制約が軽減される。なお、第２の実施形態に
おいて、オーバコート層４と誘電体層７を別々な工程で
形成する例を示したが、誘電体層７の形成に上述のドラ
イガラスペーストフィルム２１を用いることにより、誘
電体層７がオーバコート層４を兼ねるようにしても良
い。As described above, even if each layer is formed, the same operation and effect as in the first embodiment can be obtained. Also,
Since the color filter is formed after the photolithography process (row electrode pair forming process) is completed, restrictions on the material of the overcoat layer are reduced. In the second embodiment, an example in which the overcoat layer 4 and the dielectric layer 7 are formed in separate steps has been described. However, by using the above-described dry glass paste film 21 to form the dielectric layer 7, The dielectric layer 7 may also serve as the overcoat layer 4.
【００２６】また、オーバコート層４と誘電体層７は同
時に焼成することが可能であり、また、別々に焼成する
場合も、オーバコート層４の焼成温度をバインダ樹脂の
分解温度まであげれば良く、ガラス基板の熱履歴を軽減
することができる。また、低軟化点（５００℃以下）の
ガラス材料を使用することができ、顔料の固定を確実に
することができる。The overcoat layer 4 and the dielectric layer 7 can be fired at the same time, and when firing separately, the firing temperature of the overcoat layer 4 may be raised to the decomposition temperature of the binder resin. The heat history of the glass substrate can be reduced. In addition, a glass material having a low softening point (500 ° C. or less) can be used, and the fixing of the pigment can be ensured.
【００２７】（第３の実施形態）図５は、本発明の第３
の実施形態の製造方法にて作製されたカラーフィルタを
有するＰＤＰの要部の構成を示す断面図である。第１の
実施形態の製造方法と異なる点は、前面板上に無機顔料
が分散した低融点ガラス層からなるカラーフィルタを形
成するようにしたことである。図５に基づいてその構成
を説明する。(Third Embodiment) FIG. 5 shows a third embodiment of the present invention.
It is sectional drawing which shows the structure of the principal part of the PDP which has the color filter manufactured by the manufacturing method of 1st Embodiment. The difference from the manufacturing method of the first embodiment is that a color filter composed of a low-melting glass layer in which an inorganic pigment is dispersed is formed on a front plate. The configuration will be described with reference to FIG.
【００２８】図５において、ガラス基板からなる前面板
１の内面上には、カラーフィルタを構成する無機顔料が
分散した低融点ガラス層からなる無機顔料分散ガラス層
３ｂと、無機顔料分散ガラス層３ｂを前面板１に固着す
る透明なガラス層からなるオーバコート層４と、酸化イ
ンジウムと酸化錫の混合物で構成されるＩＴＯ又は酸化
錫からなる透明電極５とそれに積層されたアルミニウム
又はアルミニウム合金からなるバス電極６から構成され
る行電極対Ｘ，Ｙと、行電極対Ｘ，Ｙを被覆する誘電体
層７と、誘電体層７を放電空間９に対して保護する酸化
マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護層８が順に形成さ
れている。In FIG. 5, an inorganic pigment-dispersed glass layer 3b composed of a low-melting glass layer in which an inorganic pigment constituting a color filter is dispersed, and an inorganic pigment-dispersed glass layer 3b are provided on the inner surface of a front plate 1 composed of a glass substrate. An overcoat layer 4 made of a transparent glass layer for fixing to the front plate 1, a transparent electrode 5 made of ITO or tin oxide composed of a mixture of indium oxide and tin oxide, and aluminum or an aluminum alloy laminated thereon. A row electrode pair X, Y composed of a bus electrode 6, a dielectric layer 7 covering the row electrode pair X, Y, and magnesium oxide (MgO) protecting the dielectric layer 7 against the discharge space 9. The protective layer 8 is formed in order.
【００２９】一方、ガラス基板からなる背面板２上に
は、行電極対Ｘ，Ｙと直交する方向に形成され、アルミ
ニウム又はアルミニウム合金からなる列電極Ａと、列電
極Ａを覆うように形成された蛍光体層１０が形成されて
いる。尚、放電空間９内には、Ｎｅ、Ｘｅ、Ｈｅ等の少
なくとも２種類の希ガスを含む混合ガスが封入されてい
る。On the other hand, on the back plate 2 made of a glass substrate, a column electrode A made of aluminum or an aluminum alloy and a column electrode A made of aluminum or an aluminum alloy are formed so as to cover the column electrode A. Phosphor layer 10 is formed. The discharge space 9 is filled with a mixed gas containing at least two types of rare gases such as Ne, Xe, and He.
【００３０】本発明の無機顔料層３ｂに用いる無機顔料
としては、前述した第１の実施形態と同様に、例えば赤
色顔料としてＦｅ2 Ｏ3 、緑色顔料としてＴｉＯ2 −Ｃ
ｏＯ−ＮＩＯ−ＺｎＯ、青色顔料としてＣｏＯ−Ａｌ2
Ｏ3 等が使用可能である。The inorganic pigment used in the inorganic pigment layer 3b of the present invention is, for example, Fe 2 O 3 as a red pigment and TiO 2 -C as a green pigment, as in the first embodiment.
oO-NIO-ZnO, CoO-Al 2 as a blue pigment
O 3 or the like can be used.
【００３１】次に、図６に基づいて本発明の第３の実施
形態によるカラーフィルタの製造方法を用いたＰＤＰの
前面板の製造方法について説明する。第１の実施形態の
製造方法と異なる点は、前面板１上に、低融点ガラス及
び無機顔料を適当なバインダ樹脂及び溶剤と練り合わせ
たペーストを基板にスクリーン印刷等の方法でパターン
ニングし、焼成することによりバインダ樹脂及び溶剤を
除去し、低融点ガラス中に無機顔料が分散したカラーフ
ィルタを形成するようにしたことである。また、カラー
フィルタ上にドライガラスペーストフィルムを積層し、
焼成することにより、オーバコート層を設けている。Next, a method of manufacturing a front panel of a PDP using a method of manufacturing a color filter according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The difference from the manufacturing method of the first embodiment is that a paste obtained by kneading a low-melting glass and an inorganic pigment with an appropriate binder resin and a solvent is patterned on a front plate 1 by screen printing or the like, and then fired. By doing so, the binder resin and the solvent are removed, and a color filter in which the inorganic pigment is dispersed in the low-melting glass is formed. Also, dry glass paste film is laminated on the color filter,
By firing, an overcoat layer is provided.
【００３２】まず、表示面側となるガラス基板からなる
前面板上に低融点ガラス及び無機顔料を適当なバインダ
樹脂及び溶剤と練り合わせたペーストを基板にスクリー
ン印刷等の方法でパターンニングし、焼成することによ
りバインダ樹脂及び溶剤を除去し、低融点ガラス中に無
機顔料が分散した無機顔料分散ガラス層３ｂを形成する
（図６（ａ））。この無機顔料分散ガラス層３ｂのカラ
ーフィルタ上にドライガラスペーストフィルム２１を積
層し、焼成することにより、オーバコート層４を設けて
いる（図６（ｂ））。First, a paste obtained by kneading a low-melting glass and an inorganic pigment with an appropriate binder resin and a solvent is patterned on a front plate made of a glass substrate on the display surface side by a method such as screen printing and baked. Thus, the binder resin and the solvent are removed, and the inorganic pigment-dispersed glass layer 3b in which the inorganic pigment is dispersed in the low-melting glass is formed (FIG. 6A). The overcoat layer 4 is provided by laminating and firing a dry glass paste film 21 on the color filter of the inorganic pigment-dispersed glass layer 3b (FIG. 6B).
【００３３】ここで、ドライガラスペーストフィルム２
１は、前述した第１の実施形態と同様に、平均粒径が３
ミクロン程度のガラス粒、アルミナなどのセラミック
粒、アクリル系などからなる樹脂バインダ及びトルエン
などの溶剤などからなる混合スリップをドクターブレイ
ド法又はカレンダー法などにより、離形剤を塗布したベ
ースフィルム上にフィルム状に形成したものであり、誘
電体層のガラス材料より高い軟化点（焼成温度）を有す
る。また、無機顔料分散ガラス層３ｂ及びドライガラス
ペーストフィルム２１の厚さはそれぞれ、１μｍ程度、
数μｍ〜十数μｍ程度である。Here, the dry glass paste film 2
1 has an average particle size of 3 as in the first embodiment.
A mixed slip made of glass particles of about micron, ceramic particles such as alumina, resin binder made of acrylic, etc. and solvent such as toluene, etc. is coated on a base film coated with a release agent by the doctor blade method or the calendar method. It has a higher softening point (firing temperature) than the glass material of the dielectric layer. Further, the thickness of the inorganic pigment-dispersed glass layer 3b and the dry glass paste film 21 are each about 1 μm,
It is about several μm to about several tens μm.
【００３４】次に、オーバコート層４上に、酸化錫又Ｉ
ＴＯを蒸着又はスパッタリングして全面の透明導電膜を
形成した後、フォトリソグラフィ法により透明導電膜を
所定形状にパターンニングして透明電極５を形成する。
この透明電極５上にアルミニウム又はアルミニウム合金
を蒸着又はスパッタリングして全面の金属膜を形成した
後、フォトリソグラフィ法により金属膜を所定形状にパ
ターンニングしてバス電極６を形成する（図６
（ｃ））。Next, tin oxide or I
After vapor-depositing or sputtering TO to form a transparent conductive film on the entire surface, the transparent conductive film is patterned into a predetermined shape by a photolithography method to form a transparent electrode 5.
After depositing or sputtering aluminum or an aluminum alloy on the transparent electrode 5 to form a metal film on the entire surface, the metal film is patterned into a predetermined shape by photolithography to form a bus electrode 6 (FIG. 6).
(C)).
【００３５】次に透明電極５及びバス電極６上に低融点
ガラスペーストを一様に塗布し、焼成することにより、
誘電体層７が形成され、誘電体層上にＭｇＯを蒸着する
ことにより、保護層８が形成される（図６（ｄ））。Next, a low-melting glass paste is uniformly applied on the transparent electrode 5 and the bus electrode 6 and baked,
A dielectric layer 7 is formed, and a protective layer 8 is formed by evaporating MgO on the dielectric layer (FIG. 6D).
【００３６】このように各層を形成しても第１の実施形
態と同様な作用及び効果を得ることができる。Even if each layer is formed in this manner, the same operation and effect as in the first embodiment can be obtained.
【００３７】[0037]
【発明の効果】本発明によれば、オーバコート層を設け
る方法としてフィルムコート法を用いることにより、印
刷法に比してオーバコート層の面内ばらつきが抑制さ
れ、透過率の面内ばらつきが抑制されることになる。ま
た、フィルムコート前にピンホールなどの欠陥を発見し
やすく、表面荒さも軽減できる。According to the present invention, the in-plane variation of the overcoat layer is suppressed and the in-plane variation of the transmittance is reduced by using the film coating method as the method of providing the overcoat layer, as compared with the printing method. Will be suppressed. Further, defects such as pinholes can be easily found before film coating, and the surface roughness can be reduced.
【図１】本発明の第１の実施形態の製造方法にて作製さ
れたカラーフィルタを有するＰＤＰの要部の構成を示す
断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a main part of a PDP having a color filter manufactured by a manufacturing method according to a first embodiment of the present invention.
【図２】本発明の第１の実施形態によるカラーフィルタ
の製造方法を用いたＰＤＰの前面板の製造方法を示す図
である。FIG. 2 is a view illustrating a method of manufacturing a front panel of a PDP using the method of manufacturing a color filter according to the first embodiment of the present invention.
【図３】本発明の第２の実施形態の製造方法にて作製さ
れたカラーフィルタを有するＰＤＰの要部の構成を示す
断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a main part of a PDP having a color filter manufactured by a manufacturing method according to a second embodiment of the present invention.
【図４】本発明の第２の実施形態によるカラーフィルタ
の製造方法を用いたＰＤＰの前面板の製造方法を示す図
である。FIG. 4 is a view illustrating a method of manufacturing a front panel of a PDP using a method of manufacturing a color filter according to a second embodiment of the present invention.
【図５】本発明の第３の実施形態の製造方法にて作製さ
れたカラーフィルタを有するＰＤＰの要部の構成を示す
断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a main part of a PDP having a color filter manufactured by a manufacturing method according to a third embodiment of the present invention.
【図６】本発明の第３の実施形態によるカラーフィルタ
の製造方法を用いたＰＤＰの前面板の製造方法を示す図
である。FIG. 6 is a view illustrating a method of manufacturing a front panel of a PDP using a method of manufacturing a color filter according to a third embodiment of the present invention.
１ ・・・・・ 前面板 ２ ・・・・・ 背面板 ３ａ ・・・・・ 無機顔料層 ３ｂ ・・・・・ 無機顔料分散ガラス層 ４ ・・・・・ オーバコート層 ５ ・・・・・ 透明電極 ６ ・・・・・ バス電極 ７ ・・・・・ 誘電体層 ８ ・・・・・ 保護層 ９ ・・・・・ 放電空間 １０ ・・・・・ 蛍光体層 ２１ ・・・・・ ドライガラスペーストフィルム ２２ ・・・・・ ローラ Ａ ・・・・・ 列（アドレス）電極 Ｘ，Ｙ ・・・・・ 行電極対 1 front plate 2 back plate 3a inorganic pigment layer 3b inorganic pigment dispersed glass layer 4 overcoat layer 5 Transparent electrode 6 Bus electrode 7 Dielectric layer 8 Protective layer 9 Discharge space 10 Phosphor layer 21・ Dry glass paste film 22 ・ ・ ・ ・ ・ Roller A ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ Column (address) electrode X, Y ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ Row electrode pair
Claims (3)
ンニングした後、前記無機顔料層及びその周辺部を覆う
ように透明なドライガラスペーストフィルムを積層し、
焼成して無機顔料層を前記基板上に固着することを特徴
とするカラーフィルタの製造方法。1. After patterning an inorganic pigment layer in a predetermined shape on a substrate, a transparent dry glass paste film is laminated so as to cover the inorganic pigment layer and a peripheral portion thereof.
A method for producing a color filter, comprising sintering to fix an inorganic pigment layer on the substrate.
が形成された基板上に無機顔料層を所定形状にパターン
ニングした後、前記無機顔料層及びその周辺部を覆うよ
うに透明なドライガラスペーストフィルムを積層し、焼
成して無機顔料層を前記基板上に固着することを特徴と
するカラーフィルタの製造方法。2. An inorganic pigment layer is patterned in a predetermined shape on a substrate on which an electrode layer patterned in a predetermined shape is formed, and then a transparent dry glass paste is formed so as to cover the inorganic pigment layer and a peripheral portion thereof. A method for manufacturing a color filter, comprising laminating and firing a film to fix an inorganic pigment layer on the substrate.
ストを所定形状にパターンニングし、焼成してフィルタ
層を形成した後、透明なドライガラスペーストフィルム
を積層し、焼成してオーバコート層を形成することを特
徴とするカラーフィルタの製造方法。3. A glass paste mixed with an inorganic pigment is patterned on a substrate into a predetermined shape and fired to form a filter layer. Then, a transparent dry glass paste film is laminated and fired to form an overcoat layer. Forming a color filter.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15303597A JPH10332928A (en) | 1997-05-27 | 1997-05-27 | Production of color filter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15303597A JPH10332928A (en) | 1997-05-27 | 1997-05-27 | Production of color filter |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10332928A true JPH10332928A (en) | 1998-12-18 |
Family
ID=15553558
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15303597A Pending JPH10332928A (en) | 1997-05-27 | 1997-05-27 | Production of color filter |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10332928A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012216756A (en) * | 2010-10-14 | 2012-11-08 | Rohm Co Ltd | Photodetector and optical filter used for the same |
-
1997
- 1997-05-27 JP JP15303597A patent/JPH10332928A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012216756A (en) * | 2010-10-14 | 2012-11-08 | Rohm Co Ltd | Photodetector and optical filter used for the same |
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|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041012 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050222 |