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JPH10308521A - Protective sheet for solar cell module - Google Patents

Protective sheet for solar cell module

Info

Publication number
JPH10308521A
JPH10308521A JP9116888A JP11688897A JPH10308521A JP H10308521 A JPH10308521 A JP H10308521A JP 9116888 A JP9116888 A JP 9116888A JP 11688897 A JP11688897 A JP 11688897A JP H10308521 A JPH10308521 A JP H10308521A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solar cell
cell module
film
sheet
silicon oxide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9116888A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Megumi Kojima
めぐみ 小島
Kunio Takeda
邦夫 武田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
Priority to JP9116888A priority Critical patent/JPH10308521A/en
Publication of JPH10308521A publication Critical patent/JPH10308521A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Landscapes

  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 温度や湿度などの変動の大きい環境下でも長
期間に安定に性能を発揮できる太陽電池モジュール用の
保護シートを提供する。 【解決手段】 太陽電池モジュールの保護層として用い
る、表面に珪素酸化物薄膜が形成されたフッ素樹脂フィ
ルム層を含むシートであって、該シートの酸素透過率が
5cc/m2・day・atm以下、水蒸気透過率が5g/m2・day
以下、光線透過率が80%以上であり、且つ、珪素酸化
物薄膜の厚みが150〜500Åであり、該膜の密着強
度が200g/15mm以上であることを特徴とする太陽電
池モジュール用保護シート。
(57) [Summary] [PROBLEMS] To provide a protection sheet for a solar cell module that can exhibit performance stably for a long period of time even in an environment where temperature and humidity fluctuate greatly. SOLUTION: This sheet is used as a protective layer of a solar cell module and includes a fluororesin film layer having a silicon oxide thin film formed on its surface, and the sheet has an oxygen permeability of 5 cc / m 2 · day · atm or less. water vapor transmission rate of 5g / m 2 · day
Hereinafter, a protective sheet for a solar cell module, wherein the light transmittance is 80% or more, the thickness of the silicon oxide thin film is 150 to 500 °, and the adhesion strength of the film is 200 g / 15 mm or more. .

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は太陽電池モジュール
用保護シートに関する。
The present invention relates to a protective sheet for a solar cell module.

【0002】[0002]

【従来の技術】太陽電池は、将来期待されている新たな
エネルギーの中でも、そのクリーンさと安全性と取扱い
易さから特に期待が大きい。この太陽電池の中でも、耐
候性、耐衝撃性、可とう性に優れていることから、基材
にステンレス等の金属基板を用いることが多い。光起電
力素子は、一般にこの金属基板上に裏面電極層、光電変
換層としての半導体層、透明導電層、集電電極が形成さ
れた構成である。
2. Description of the Related Art Solar cells are particularly expected from new energy expected in the future because of their cleanliness, safety and ease of handling. Among these solar cells, a metal substrate such as stainless steel is often used as a base material because of excellent weather resistance, impact resistance, and flexibility. The photovoltaic element generally has a configuration in which a back electrode layer, a semiconductor layer as a photoelectric conversion layer, a transparent conductive layer, and a collecting electrode are formed on the metal substrate.

【0003】太陽電池モジュールは、通常、以上の金属
基板に形成した光起電力素子の表裏に保護シートを積層
したような構造を採るものであるが、この太陽電池モジ
ュールは、温度や湿度などの変動の大きい環境下でも長
期間に安定に性能を発揮できることが必要である以上、
汎用の保護シートよりも、その透明性、軽量性、防湿
性、耐熱性、耐候性、ガスバリア性などにおいてより優
れた保護シートが望まれる。
A solar cell module usually has a structure in which protective sheets are laminated on the front and back of a photovoltaic element formed on the above-mentioned metal substrate. Since it is necessary to be able to exhibit performance stably for a long time even in an environment with large fluctuations,
A protective sheet that is more excellent in transparency, light weight, moisture resistance, heat resistance, weather resistance, gas barrier properties, and the like than a general-purpose protective sheet is desired.

【0004】この太陽電池モジュール用保護シートとし
ては、表面に金属酸化物薄膜を形成したフッ素樹脂フィ
ルム層を含むシートが特に好ましいとされている(特公
平4−33146、特公平4−76231、特公平4−
81869、特開平5−283727、特開平7−20
2236等)。
As this protective sheet for a solar cell module, a sheet containing a fluororesin film layer having a metal oxide thin film formed on the surface is particularly preferable (Japanese Patent Publication No. 4-33146, Japanese Patent Publication No. 4-76231, Japanese Patent Publication No. Fairness 4-
81869, JP-A-5-283727, JP-A-7-20
2236).

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来か
らの提案では太陽電池モジュールにおける保護シートの
位置や層構成あるいは金属酸化物の特定等によるわずか
な改良に留まり、太陽電池モジュール用としての性能改
良という点ではなお満足のいくものまでには至っていな
い。
However, according to the conventional proposals, the improvement is limited to a slight improvement in the position and layer structure of the protective sheet in the solar cell module or the specification of the metal oxide. In terms of point, it is not yet satisfactory.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を解決すべく、太陽電池モジュール用保護シートのフィ
ルム層、金属酸化物薄膜の原料、製造方法、更には得ら
れる保護シートとしての物性について総合的な解析検討
を鋭意実施した結果、本発明に到達したものである。即
ち、本発明は、太陽電池モジュールの保護層として用い
る、表面に珪素酸化物薄膜が形成されたフッ素樹脂フィ
ルム層を含むシートであって、該シートの酸素透過率が
5cc/m2・day・atm以下、水蒸気透過率が5g/m2・day
以下、光線透過率が80%以上であり、且つ、珪素酸化
物薄膜の厚みが150〜500Åであり、該膜の密着強
度が200g/15mm以上であることを特徴とする太陽電
池モジュール用保護シートに存する。
Means for Solving the Problems In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have developed a film layer of a protective sheet for a solar cell module, a raw material of a metal oxide thin film, a production method, and a protective sheet to be obtained. As a result of earnestly conducting comprehensive analysis and study on physical properties, the present invention has been achieved. That is, the present invention relates to a sheet used as a protective layer of a solar cell module, the sheet including a fluororesin film layer having a silicon oxide thin film formed on the surface thereof, and having an oxygen permeability of 5 cc / m 2 · day · atm or less, water vapor transmission rate 5g / m 2・ day
Hereinafter, a protective sheet for a solar cell module, wherein the light transmittance is 80% or more, the thickness of the silicon oxide thin film is 150 to 500 °, and the adhesion strength of the film is 200 g / 15 mm or more. Exists.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下本発明について詳細に説明す
る。本発明の保護シートの基本構造は、珪素酸化物薄膜
とフッ素樹脂フィルム層を含むものある。本発明で用い
られるフッ素樹脂としては、ポリフッ化ビニル(PV
F)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、四フッ化エ
チレン−エチレン共重合体(ETFE)、四フッ化エチ
レン−六フッ化プロピレン共重合体(FEP)、四フッ
化エチレン−パールルオロアルキルビニルエーテル共重
合体(PFA)、四フッ化エチレンポリ塩化三フッ化エ
チレン(PCTFE)等が挙げられるが、好ましくはP
VF、PVDF及びETFEである。本発明の保護シー
トのフッ素樹脂フィルム層は、かかるフッ素樹脂のフィ
ルムが使用される。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail. The basic structure of the protective sheet of the present invention includes a silicon oxide thin film and a fluororesin film layer. As the fluororesin used in the present invention, polyvinyl fluoride (PV
F), polyvinylidene fluoride (PVDF), ethylene tetrafluoride-ethylene copolymer (ETFE), ethylene tetrafluoride-propylene hexafluoride copolymer (FEP), ethylene tetrafluoride-pearlfluoroalkyl vinyl ether copolymer Coalesced (PFA), ethylene tetrafluoride polychlorinated ethylene trifluoride (PCTFE) and the like.
VF, PVDF and ETFE. Such a fluororesin film is used for the fluororesin film layer of the protective sheet of the present invention.

【0008】フッ素樹脂フィルムとしては、保護シート
の製造方法における種々の因子の影響があり限定的なも
のではないが、好ましくは、フィルム厚みが10〜10
0μm、厚み精度がフィルムの幅方向及び流れ方向にお
いて各々±20%以下、130℃での熱収縮率が5%以
下、80℃で50g/10mmでの引張伸び率が10%以下
の物性を有するものであり、特に好ましくは、フィルム
厚みが20〜70μm、厚み精度がフィルムの幅方向及
び流れ方向において各々±15%以下、130℃での熱
収縮率が3%以下、80℃で50g/10mmでの引張伸び
率が6%以下の物性を有するものである。なお、熱収縮
率は、長さ100mmのフィルムを130℃で5分処理
した際の値を採用し、引張伸び率の測定はJIS K7
127を採用する。所望のフィルム強度を得るためには
フィルム厚みを通常上記の範囲とする必要がある。ま
た、シート化した際の高いガスバアリア性や層間の高密
着性を発現するためには厚み精度に特に留意する必要が
あり、厚み精度低下はフィルムの巻じわ増加を意味し、
シート物性を顕著に低下させる。更に、熱収縮率や引張
伸び率が大きいと保護シートのしわや亀裂の原因となり
やすく、シート物性の低下を招く。
[0008] The fluororesin film is not limited because it is affected by various factors in the production method of the protective sheet, but preferably has a film thickness of 10-10.
0 μm, the thickness accuracy is ± 20% or less in the width direction and the flow direction of the film, the thermal shrinkage at 130 ° C. is 5% or less, and the tensile elongation at 50 g / 10 mm at 80 ° C. is 10% or less. It is particularly preferable that the film thickness is 20 to 70 μm, the thickness accuracy is ± 15% or less in the width direction and the flow direction of the film, the heat shrinkage at 130 ° C. is 3% or less, and 50 g / 10 mm at 80 ° C. Has a tensile elongation of 6% or less. The heat shrinkage is a value obtained by treating a film having a length of 100 mm at 130 ° C. for 5 minutes, and the tensile elongation is measured according to JIS K7.
127 is adopted. In order to obtain a desired film strength, the film thickness usually needs to be within the above range. In addition, it is necessary to pay special attention to thickness accuracy in order to express high gas barrier properties and high adhesion between layers when formed into a sheet, and a decrease in thickness accuracy means an increase in winding of the film,
The physical properties of the sheet are significantly reduced. Further, when the heat shrinkage and the tensile elongation are large, the protective sheet is likely to be wrinkled or cracked, and the physical properties of the sheet are reduced.

【0009】以上のフッ素樹脂フィルムには、珪素酸化
物薄膜を形成するに先立ち、コロナ放電処理、火炎処
理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理などの
表面処理を施すことが通常必要である。フッ素樹脂フィ
ルムは、一般的に表面が濡れ難く接着剤による他フィル
ムとの積層がしにくいとされているからである。また、
珪素酸化物薄膜とフッ素樹脂フィルムは直接積層しても
よいが、通常、両層の間に、アンカーコート層が介在さ
せることが好ましい。層間の密着性を向上させることが
でき、また、保護シートとしてのガスバリア性を更に向
上させること可能であるからである。アンカーコート層
の材質としてはポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アク
リル樹脂、ビニル変性樹脂、エポキシ樹脂、変性スチレ
ン樹脂、変性シリコン樹脂などの熱硬化性樹脂あるいは
アルキルチタネートなどが用いられる。これらは単独で
使用してもよいが、2種類以上を併用してもよい。ま
た、シランカップリング剤や紫外線吸収剤等の添加剤を
加えてもよい。アンカーコート層の厚みは、通常0.0
05〜5μm、好ましくは0.01〜1μmの範囲であ
る。アンカーコート層が薄すぎると塗布むらができてガ
スバリア性が向上しにくく、一方、厚すぎると密着性が
悪くなり、ガスバリア性もかえって低下する場合がある
ので好ましくない。アンカーコート層を形成する方法と
してはグラビアコート法、リバースコート法等の各種樹
脂塗布方法が挙げられる。
Prior to forming a silicon oxide thin film, it is usually necessary to apply a surface treatment such as a corona discharge treatment, a flame treatment, a plasma treatment, a glow discharge treatment and a surface roughening treatment to the above-mentioned fluororesin film. is there. This is because the fluororesin film is generally considered to be difficult to wet the surface and to be difficult to laminate with another film with an adhesive. Also,
Although the silicon oxide thin film and the fluororesin film may be directly laminated, it is usually preferable that an anchor coat layer is interposed between the two layers. This is because adhesion between layers can be improved, and gas barrier properties as a protective sheet can be further improved. As a material of the anchor coat layer, a thermosetting resin such as a polyester resin, a urethane resin, an acrylic resin, a vinyl modified resin, an epoxy resin, a modified styrene resin, a modified silicon resin, or an alkyl titanate is used. These may be used alone or in combination of two or more. Further, additives such as a silane coupling agent and an ultraviolet absorber may be added. The thickness of the anchor coat layer is usually 0.0
It is in the range of 0.5-5 μm, preferably 0.01-1 μm. If the anchor coat layer is too thin, coating unevenness occurs and the gas barrier property is hardly improved. On the other hand, if the anchor coat layer is too thick, the adhesiveness is deteriorated and the gas barrier property is rather lowered, which is not preferable. As a method for forming the anchor coat layer, various resin coating methods such as a gravure coating method and a reverse coating method are exemplified.

【0010】本発明の保護シートにおいて、珪素酸化物
薄膜は、フッ素樹脂フィルムの表面に、直接的にあるい
はアンカーコート層を介して間接的に形成する。珪素酸
化物薄膜としては、酸化珪素単独でもよいが、酸化アル
ミニウム、酸化マグネシウム、酸化スズなどのその他の
金属酸化物との混合物を用いることもできる。珪素酸化
物薄膜の厚みは、太陽電池モジュール用ということで高
度のガスバリア性が要求されるので、150〜500
Å、好ましくは200〜400Åの範囲とする。厚みが
150Å未満ではガスバリア性が概して不十分であり、
一方、厚みが500Åを超える場合はコスト高となるば
かりではなく、珪素酸化物薄膜は若干黄色を呈し光透過
性が低下し、更には耐候性が低下することがあるので好
ましくない。なお、珪素酸化物薄膜としてその他の金属
酸化物を併用した場合の薄膜の厚みは、金属酸化物混合
物としての薄膜の厚みを意味する。
In the protective sheet of the present invention, the silicon oxide thin film is formed directly on the surface of the fluororesin film or indirectly via an anchor coat layer. As the silicon oxide thin film, silicon oxide alone may be used, but a mixture with other metal oxides such as aluminum oxide, magnesium oxide, and tin oxide can also be used. Since the silicon oxide thin film is required to have a high gas barrier property for a solar cell module, the thickness of the silicon oxide thin film is 150 to 500.
Å, preferably in the range of 200 to 400Å. If the thickness is less than 150 mm, the gas barrier properties are generally insufficient,
On the other hand, when the thickness exceeds 500 °, not only the cost is increased, but also the silicon oxide thin film is slightly yellow, the light transmittance is reduced, and the weather resistance is further reduced, which is not preferable. The thickness of the thin film when other metal oxides are used in combination as the silicon oxide thin film means the thickness of the thin film as a metal oxide mixture.

【0011】以上の珪素酸化物薄膜の形成は、真空蒸着
法、スパッタリング法、CVD法など公知の任意の方法
で行うことができるが、ガスバリア性等に優れた高性能
の膜が安定に成膜され、且つ、成膜の生産性が高いとい
う点で真空蒸着法が好ましい。真空蒸着で珪素酸化物薄
膜を形成する場合には、雰囲気に酸素ガスや水蒸気を導
入すると、生成する薄膜の透明性を向上させることがで
きる。この場合には、雰囲気の圧力が1×10-5〜1×
10-3Torrの範囲にあるようにガスの導入を行なう
のが好ましい。圧力が1×10-3Torr以上となる
と、生成する薄膜のガスバリア性が低下し、また、圧力
を1×10-5Torr以下にしようとすると生産性が低
下するので好ましくない。
The above-mentioned silicon oxide thin film can be formed by any known method such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, and a CVD method. However, a high-performance film having excellent gas barrier properties and the like is stably formed. The vacuum deposition method is preferred in that the deposition is performed at a high productivity. In the case where a silicon oxide thin film is formed by vacuum deposition, the transparency of the resulting thin film can be improved by introducing oxygen gas or water vapor into the atmosphere. In this case, the pressure of the atmosphere is 1 × 10 −5 to 1 ×.
It is preferable to introduce the gas so as to be in the range of 10 -3 Torr. When the pressure is 1 × 10 −3 Torr or more, the gas barrier property of the formed thin film is reduced, and when the pressure is set to 1 × 10 −5 Torr or less, productivity is reduced, which is not preferable.

【0012】本発明の保護シートは、以上のような本発
明の保護シートは、以上のような、表面に珪素酸化物薄
膜が形成されたフッ素樹脂フィルム層を含むものであ
り、太陽電池モジュール用として特に好適な特定物性と
して、該シートの酸素透過率が5cc/m2・day・atm以
下、水蒸気透過率が5g/m2・day以下、光線透過率が8
0%以上であり、且つ、珪素酸化物薄膜の密着強度が2
00g/15mm以上であることを特徴とする。また、前記
の諸物性の特に好ましい範囲は、酸素透過率が2cc/m2
・day・atm以下、水蒸気透過率が2g/m2・day以下、光
線透過率が85%以上であり、且つ、珪素酸化物薄膜の
密着強度が250g/15mm以上である。かかる物性を有
するシートを得るためには、原料や製造条件を適宜選択
することが必要となる。
[0012] The protective sheet of the present invention comprises the above-mentioned protective sheet of the present invention comprising the above-mentioned fluororesin film layer having a silicon oxide thin film formed on the surface thereof. Particularly preferred specific physical properties are as follows: the sheet has an oxygen permeability of 5 cc / m 2 · day · atm or less, a water vapor permeability of 5 g / m 2 · day or less, and a light transmittance of 8
0% or more, and the adhesion strength of the silicon oxide thin film is 2
It is characterized by being at least 00 g / 15 mm. Further, a particularly preferable range of the above-mentioned various physical properties is that the oxygen permeability is 2 cc / m 2.
Day · atm or less, water vapor transmission rate of 2 g / m 2 · day or less, light transmittance of 85% or more, and adhesion strength of the silicon oxide thin film of 250 g / 15 mm or more. In order to obtain a sheet having such physical properties, it is necessary to appropriately select raw materials and manufacturing conditions.

【0013】太陽電池モジュール用保護シートとしては
高度なガスバリア性が要求され、例えば、水蒸気透過率
の上昇は防湿性低下を意味し、これにより太陽電池の出
力特性が大幅に低下することになるので好ましくない。
また、光線透過率の低下は太陽電池のエヘネルギー効率
を低下させることとなるのでこれも好ましくない。更
に、珪素酸化物薄膜の密着性が悪いと太陽電池を長期使
用した際のガスバリア性低下が生じ易かったり、シート
の剥離や亀裂を招き易いことになるので好ましくない。
As a protective sheet for a solar cell module, a high degree of gas barrier properties is required. For example, an increase in water vapor transmission rate means a decrease in moisture resistance, which significantly reduces the output characteristics of the solar cell. Not preferred.
Also, a decrease in the light transmittance reduces the energy efficiency of the solar cell, which is not preferable. Further, poor adhesion of the silicon oxide thin film is not preferable because the gas barrier property tends to be reduced when the solar cell is used for a long period of time, or the sheet tends to peel or crack.

【0014】実際の太陽電池モジュールでは、金属基板
に形成した光起電力素子の周りを接着層が覆い、その外
面として光照射側表面と裏面を被覆する保護層が存在す
るが、本発明の保護シートはこの表面と裏面のどちらの
面にも使用することができる。ここに、前記接着層とし
ては、特に制限はないが、酢酸ビニル−エチレン共重合
体、ポリビニルブチラール、シリコーン樹脂、アクリル
樹脂、エポキシ樹脂などの当面な樹脂を主成分とする接
着剤を使用するのが好ましい。
In an actual solar cell module, an adhesive layer covers the periphery of a photovoltaic element formed on a metal substrate, and a protective layer covering the light irradiation side surface and the back surface exists as its outer surface. The sheet can be used on either the front side or the back side. Here, as the adhesive layer, although not particularly limited, an adhesive mainly composed of an immediate resin such as vinyl acetate-ethylene copolymer, polyvinyl butyral, silicone resin, acrylic resin, and epoxy resin is used. Is preferred.

【0015】本発明の保護シートは、通常、珪素酸化物
薄膜を酸化珪素と積層を張り合わせるのが好ましく、ま
た、保護シートを多層使用してもよい。また、フッ素樹
脂フィルム層(A)と珪素酸化物薄膜(B)を基本構成
とすると、A/B/接着層/光起電力素子といった層構
成の他に、A/B/接着層/A/B/接着層/光起電力
素子のような層構成も可能である。
In the protective sheet of the present invention, it is usually preferable to laminate a silicon oxide thin film with silicon oxide, and a multilayer protective sheet may be used. Further, when the fluororesin film layer (A) and the silicon oxide thin film (B) have a basic structure, in addition to the layer structure of A / B / adhesive layer / photovoltaic element, A / B / adhesive layer / A / Layer configurations such as B / adhesive layer / photovoltaic element are also possible.

【0016】なお、場合によっては本発明の保護シート
には、本発明の保護シートの特徴を損なわない程度にお
いては、A、B以外の合成樹脂を更に積層してもよく、
かかるフィルムの基材であるプラスチックフィルムとし
ては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテンなど
のポリオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン−2,6−ナフタレートなどのポリエ
ステル系樹脂、ナイロン6、ナイロン12などのポリア
ミド系樹脂、ポリビニルアルコールやエチレン−ビニル
アルコール共重合体等のビニルアルコール系樹脂、さら
にはポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリサルホン、
ポリエーテルサルホン、ポリエーテルエーテルケトン、
ポリカーボネート、ポリビニルブチラール、ポリアリレ
ート、環状ポリオレフィンなどが例示される。
In some cases, a synthetic resin other than A and B may be further laminated on the protective sheet of the present invention to the extent that the characteristics of the protective sheet of the present invention are not impaired.
Examples of the plastic film as a base material of such a film include polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene and polybutene; polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene-2,6-naphthalate; polyamide resins such as nylon 6 and nylon 12; Vinyl alcohol-based resins such as polyvinyl alcohol and ethylene-vinyl alcohol copolymer, furthermore, polyimide, polyetherimide, polysulfone,
Polyether sulfone, polyether ether ketone,
Examples thereof include polycarbonate, polyvinyl butyral, polyarylate, and cyclic polyolefin.

【0017】[0017]

【実施例】以下に実施例及び比較例により本発明を更に
具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定さ
れるものではない。なお、以下の例における測定方法を
以下に示す。 (1)珪素酸化物薄膜の膜厚 電子顕微鏡(日立製作所製;H−600型)により測定
した。 (2)酸素透過率 ASTM D3985に準拠して、酸素透過率測定装置
(モダンコントロール社製、OX−TRAN100)を
使用し、温度25℃、相対湿度75%の条件下で測定し
た。
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples. In addition, the measuring method in the following examples is shown below. (1) Thickness of Silicon Oxide Thin Film The thickness was measured by an electron microscope (H-600, manufactured by Hitachi, Ltd.). (2) Oxygen Permeability In accordance with ASTM D3985, the oxygen permeability was measured under the conditions of a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 75% using an oxygen permeability measuring device (OX-TRAN100 manufactured by Modern Control).

【0018】(3)水蒸気透過率 ASTM F1249に準拠して、 水蒸気透過率測定
装置(モダンコントロール社製、Permatran−
W1)を使用して、温度40℃、相対湿度90%の条件
下で測定した。 (4)全光線透過率 JIS K7105に準じて、分光光度計を用いて測定
した。
(3) Water Vapor Permeability According to ASTM F1249, a water vapor permeability measuring device (Permatran-, manufactured by Modern Control Co., Ltd.)
The measurement was carried out using W1) under the conditions of a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90%. (4) Total light transmittance Measured using a spectrophotometer according to JIS K7105.

【0019】(5)珪素酸化物薄膜の密着強度評価 蒸着フィルムの蒸着面に接着剤として、東洋モートン
(株)社製のウレタン系接着剤(ADー900:AD−
RT5=10:1.5の混合物)を塗布して、厚さ50
μmの低密度ポリエチレンフィルム(東京セロファン紙
(株)製、TUX−TC)をドライラミネートし、60
℃で3日間エージングした。次いで、この積層フィルム
を幅15mm、長さ100mmの短冊状に切りだして試験片
とした。
(5) Evaluation of adhesion strength of silicon oxide thin film A urethane-based adhesive (AD-900: AD-900) manufactured by Toyo Morton Co., Ltd.
RT5 = 10: 1.5 mixture) and a thickness of 50
Dry-laminated low-density polyethylene film (TUX-TC, manufactured by Tokyo Cellophane Paper Co., Ltd.)
Aged for 3 days. Next, the laminated film was cut into a strip having a width of 15 mm and a length of 100 mm to obtain a test piece.

【0020】試験片の蒸着フィルムと低密度ポリエチレ
ンフィルムとの界面の一端を予め50mm剥離させて、両
剥離面をそれぞれオートグラフ(JIS K7127に
準じる試験装置、島津製作所(株)製のDSSー10
0)の固定つかみ具と可動つかみ具とに、つかみ具間距
離100mmで取り付けて、可動つかみ具を引張り速度3
00mm/分で60mm移動させ、この間にひずみ計に記録
させた引張荷重の波状曲線の中心線の値を求め、試験片
3本における平均値を密着強度(単位:g/15mm)と
し、以下の判定を行った。 (判定)○:>200g、△:100〜200g、×:
<100g
One end of the interface between the vapor-deposited film of the test piece and the low-density polyethylene film was previously peeled off by 50 mm, and both peeled surfaces were respectively autographed (test apparatus according to JIS K7127, DSS-10 manufactured by Shimadzu Corporation).
0) Attach the fixed gripper and the movable gripper at a distance of 100 mm between the grippers, and pull the movable gripper at a pulling speed of 3 mm.
The specimen was moved by 60 mm at a rate of 00 mm / min. During this time, the value of the center line of the wavy curve of the tensile load recorded on the strain gauge was determined, and the average value of three test pieces was defined as the adhesion strength (unit: g / 15 mm). The judgment was made. (Judgment) ○:> 200 g, Δ: 100 to 200 g, ×:
<100g

【0021】(6)透湿性評価 JIS C0022の2に規定する装置を用い、温度8
5±2℃、相対湿度85±5%の条件下で1000時間
放置し、放置前後の電気的性能を測定し、以下の判定を
行った。 (判定)○:電気出力特性保持率>90% △:電気出力特性保持率=70〜90% ×:電気出力特性保持率<70%
(6) Evaluation of moisture permeability Using a device specified in JIS C0022-2, temperature 8
It was left for 1000 hours under the conditions of 5 ± 2 ° C. and 85 ± 5% of relative humidity, and the electrical performance before and after being left was measured, and the following judgment was made. (Judgment) :: Retention ratio of electric output characteristics> 90% Δ: Retention ratio of electric output characteristics = 70 to 90% X: Retention ratio of electric output characteristics <70%

【0022】実施例1〜2、比較例1〜3 フッ素樹脂フィルムとして厚みが25μmの表面処理済
のPVFフィルム(厚み精度がフィルムの幅方向及び流
れ方向において各々約10%、130℃での熱収縮率が
2%、80℃で50g/10mmでの引張伸び率が5%)を
用いた。表−1において、上記PVFフィルムにアンカ
ーコート層を有する場合は、イソシアネート化合物(日
本ポリウレタン工業社製、商品名;コロネートL)と、
飽和ポリエステル(東洋紡社製、商品名;バイロン30
0)とを1:1で配合した塗料をPVFフィルムにコー
ターで塗布して乾燥し、厚さ約0.1μmのアンカーコ
ート層を形成させた。
Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 3 A surface-treated PVF film having a thickness of 25 μm as a fluororesin film (thickness accuracy is about 10% each in the width direction and the flow direction of the film, and the heat at 130 ° C.) The shrinkage was 2%, and the tensile elongation at 50 g / 10 mm at 80 ° C. was 5%). In Table 1, when the PVF film has an anchor coat layer, the isocyanate compound (trade name: Coronate L, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.)
Saturated polyester (manufactured by Toyobo, trade name; Byron 30)
0) was applied to a PVF film with a coater and dried to form an anchor coat layer having a thickness of about 0.1 μm.

【0023】巻取り式真空蒸着装置を用いて、上記のフ
ッ素樹脂フィルム(アンカーコート層がある場合はアン
カーコート面)に、8×10-5Torrの真空下、酸化
珪素(SiO、住友シチックス社製)を高周波誘導加熱
方式により、成膜速度2000Å/secで蒸着させ、
表−1に示す厚みの珪素酸化物を成膜したシートを製造
した。該シートの物性評価結果を表−1に示す。
Using a roll-up type vacuum evaporation apparatus, silicon oxide (SiO, Sumitomo Sitix Co., Ltd.) was applied to the above-mentioned fluororesin film (anchor coat surface if an anchor coat layer is provided) under a vacuum of 8 × 10 −5 Torr. Is deposited at a film forming rate of 2000 ° / sec by a high frequency induction heating method.
A sheet on which a silicon oxide film having a thickness shown in Table 1 was formed was manufactured. Table 1 shows the physical property evaluation results of the sheet.

【0024】比較例4 前記実施例1においてプラズマCVD法(成膜速度40
0Å/sec)で珪素酸化物を成膜した以外は実施例1
と同様の方法でシートを製造した。該シートの物性評価
結果を表−1に示す。
COMPARATIVE EXAMPLE 4 A plasma CVD method (film forming speed 40
Example 1 except that a silicon oxide film was formed at 0 ° / sec).
A sheet was produced in the same manner as described above. Table 1 shows the physical property evaluation results of the sheet.

【0025】[0025]

【表1】 注)上記表−1において、酸素透過率の単位は(cc/m2・day・atm)、水蒸気透過率 の単位は(g/m2・day)である。[Table 1] Note) In Table 1 above, the unit of oxygen permeability is (cc / m 2 · day · atm) and the unit of water vapor permeability is (g / m 2 · day).

【0026】実施例3〜4、比較例5〜6 前記実施例1において、フッ素樹脂フィルムとして表−
2に示す厚みのETFEフィルム(厚み精度がフィルム
の幅方向及び流れ方向において各々約10%、130℃
での熱収縮率が2%、80℃で50g/10mmでの引張伸
び率が5%)を用いた以外は、同様の条件で各シートを
製造した。該シートの物性評価結果を表−2に示す。
Examples 3 to 4 and Comparative Examples 5 to 6
ETFE film having a thickness shown in FIG. 2 (thickness accuracy is about 10% in each of the width direction and the flow direction of the film, 130 ° C.
Each sheet was manufactured under the same conditions, except that the heat shrinkage in the above was 2% and the tensile elongation at 50 g / 10 mm at 80 ° C. was 5%). Table 2 shows the physical property evaluation results of the sheet.

【0027】[0027]

【表2】 注)上記表−2において、酸素透過率の単位は(cc/m2・day・atm)、水蒸気透過率 の単位は(g/m2・day)である。[Table 2] Note) In Table 2 above, the unit of oxygen permeability is (cc / m 2 · day · atm) and the unit of water vapor permeability is (g / m 2 · day).

【0028】[0028]

【発明の効果】本発明の保護シートは透明性、軽量性、
防湿性、耐熱性、耐候性、ガスバリア性などの諸物性に
優れているので、該保護シートを用いた太陽電池モジュ
ールにおいては、温度や湿度などの変動の大きい環境下
でも長期間に安定に性能を発揮できる。
The protective sheet of the present invention is transparent, lightweight,
Excellent in various physical properties such as moisture resistance, heat resistance, weather resistance, gas barrier properties, etc., so that a solar cell module using this protective sheet can perform stably for a long time even in an environment where temperature and humidity fluctuate greatly. Can be demonstrated.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 太陽電池モジュールの保護層として用い
る、表面に珪素酸化物薄膜が形成されたフッ素樹脂フィ
ルム層を含むシートであって、該シートの酸素透過率が
5cc/m2・day・atm以下、水蒸気透過率が5g/m2・day
以下、光線透過率が80%以上であり、且つ、珪素酸化
物薄膜の厚みが150〜500Åであり、該膜の密着強
度が200g/15mm以上であることを特徴とする太陽電
池モジュール用保護シート。
1. A sheet for use as a protective layer of a solar cell module, comprising a fluororesin film layer having a silicon oxide thin film formed on its surface, wherein the sheet has an oxygen permeability of 5 cc / m 2 · day · atm. Below, the water vapor transmission rate is 5 g / m 2 · day
Hereinafter, a protective sheet for a solar cell module, wherein the light transmittance is 80% or more, the thickness of the silicon oxide thin film is 150 to 500 °, and the adhesion strength of the film is 200 g / 15 mm or more. .
【請求項2】 厚みが10〜100μm、厚み精度がフ
ィルムの幅方向及び流れ方向において各々±20%以
下、130℃での熱収縮率が5%以下、80℃で50g
/10mmでの引張伸び率が10%以下であるフッ素樹脂フ
ィルムを用いることを特徴とする請求項1の太陽電池モ
ジュール用保護シート。
2. The thickness is 10 to 100 μm, the thickness accuracy is ± 20% or less in the width direction and the flow direction of the film, the heat shrinkage at 130 ° C. is 5% or less, and 50 g at 80 ° C.
The protective sheet for a solar cell module according to claim 1, wherein a fluororesin film having a tensile elongation at / 10 mm of 10% or less is used.
【請求項3】 珪素酸化物薄膜とフッ素樹脂フィルムと
の間に、厚さ0.005〜5μmのアンカーコート層が
介在していることを特徴とする請求項1又は2の太陽電
池モジュール用保護シート。
3. The protection for a solar cell module according to claim 1, wherein an anchor coat layer having a thickness of 0.005 to 5 μm is interposed between the silicon oxide thin film and the fluororesin film. Sheet.
【請求項4】 珪素酸化物薄膜が真空蒸着法により形成
されたものであることを特徴とする請求項1ないし3の
いずれかの太陽電池モジュール用保護シート。
4. The protective sheet for a solar cell module according to claim 1, wherein the silicon oxide thin film is formed by a vacuum deposition method.
【請求項5】 請求項1ないし4のいずれかの太陽電池
モジュール用保護シートを光起電力素子の光照射側表面
を被覆する保護層として用いることを特徴とする太陽電
池モジュール。
5. A solar cell module, wherein the protective sheet for a solar cell module according to claim 1 is used as a protective layer covering a light irradiation side surface of a photovoltaic element.
【請求項6】 請求項1ないし4のいずれかの太陽電池
モジュール用保護シートを光起電力素子の光照射側裏面
を被覆する保護層として用いることを特徴とする太陽電
池モジュール。
6. A solar cell module, wherein the protective sheet for a solar cell module according to claim 1 is used as a protective layer for covering the back surface of the photovoltaic element on the light irradiation side.
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