[go: up one dir, main page]

JPH10291989A - Production of hexaazaisowurtzitane having acyl group - Google Patents

Production of hexaazaisowurtzitane having acyl group

Info

Publication number
JPH10291989A
JPH10291989A JP11421497A JP11421497A JPH10291989A JP H10291989 A JPH10291989 A JP H10291989A JP 11421497 A JP11421497 A JP 11421497A JP 11421497 A JP11421497 A JP 11421497A JP H10291989 A JPH10291989 A JP H10291989A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reaction
formula
group
acyl group
arylmethyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11421497A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2926482B2 (en
Inventor
Tamotsu Kodama
保 児玉
Haruyuki Minoura
春行 三ノ浦
Setsuo Yamamatsu
節男 山松
Nobutoshi Miyake
信寿 三宅
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP11421497A priority Critical patent/JP2926482B2/en
Publication of JPH10291989A publication Critical patent/JPH10291989A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2926482B2 publication Critical patent/JP2926482B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To profitably obtain the subject compound useful for enhancing the performance of gunpowder, etc., by subjecting hexaazalsowurtzitane to a reductive arylmethyl-removing reaction in the presence of an acylating agent and subsequently subjecting the product to a reductive arylmethylatin reaction in the presence of an acylating agent. SOLUTION: This method for producing hexaazaiowurtzitane having acyl groups comprises subjecting a compound of the formula: WB6 s hexavalent hexaazaiowurtziane group of the formula; B is a 7-21C arylmethyl group) (e.g. hexabenzylhexaazaisowurtzitane) in the presence of an acylating agent (e.g. acetic anhydride) and 10% Pd-C catalyst and subsequently subjecting the synthesized compound of the formula: WA2 B4 (A is a 1-10C acyl group) (e.g. diacetyltetrabenzylhexaazaisowurtzitane) to a reductive arylmethylation reaction in the presence of an acylating agent, thereby profitably obtaining the objective hexaazaisowurtzitane of the formula: WAn B(6-n) [(n) is an integer of 4-6] used as a nitration precursor for hexanitrohexaazaisowurtzitane useful for enhancing the performance of gunpowder, etc.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、従来の火薬組成物
の高性能化をはかるために利用されるヘキサニトロヘキ
サアザイソウルチタンのニトロ化前駆体であるアシル基
を有するヘキサアザイソウルチタン誘導体類の製造方法
に関する。
The present invention relates to a hexaazaisowurtzitane having an acyl group, which is a nitrating precursor of hexanitrohexaazaisowurtzitane used for improving the performance of conventional explosive compositions. The present invention relates to a method for producing derivatives.

【0002】[0002]

【従来の技術】アシル基を有するヘキサアザイソウルチ
タンの製造方法としては、ヘキサキス(アリールメチ
ル)ヘキサアザイソウルチタンをアシル化剤存在下で還
元的脱アリールメチルし、テトラアシルビス(アリール
メチル)ヘキサアザイソウルチタン、ペンタアシルアリ
ールメチルヘキサアザイソウルチタン、ヘキサアシルヘ
キサアザイソウルチタン、テトラアシルジアルキルヘキ
サアザイソウルチタン等のアシル基とアリールメチル
基、アルキル基、水素原子等とを有するヘキサアザイソ
ウルチタン誘導体類を製造する方法が知られている[T
etrahedronVol. 51,No16、471
1ー4722(1995)、PCT−JP96−001
89)。これらの文献、特許に記載されている製造方法
では、ヘキサキス(アリールメチル)ヘキサアザイソウ
ルチタンを直接テトラアシルビス(アリールメチル)ヘ
キサアザイソウルチタンに誘導している。
2. Description of the Related Art As a method for producing hexaazaisowurtzitane having an acyl group, hexakis (arylmethyl) hexaazaisowurtzitane is subjected to reductive dearylmethylation in the presence of an acylating agent to give tetraacylbis (arylmethyl). ) An acyl group such as hexaazaisowurtzitane, pentaacylarylmethylhexaazaisowurtzitane, hexaacylhexaazaisowurtzitane, tetraacyldialkylhexaazaisowurtzitanium and an arylmethyl group, an alkyl group, a hydrogen atom, etc. There is known a method for producing hexaazaisowurtzitane derivatives having
etrahedronVol. 51, No16, 471
1-4722 (1995), PCT-JP96-001
89). In the production methods described in these documents and patents, hexakis (arylmethyl) hexaazaisowurtzitane is directly derived into tetraacylbis (arylmethyl) hexaazaisowurtzitane.

【0003】ヘキサキス(アリールメチル)ヘキサアザ
イソウルチタンは酸や熱に対して不安定であり、生成物
であるテトラアシルビス(アリールメチル)ヘキサアザ
イソウルチタンを高濃度に溶かすためには、高温条件を
採用しなければいけない。すなわち、ヘキサキス(アリ
ールメチル)ヘキサアザイソウルチタンを高濃度な条件
で生成物を溶媒に溶かしたまま反応を進行させるには、
ヘキサキス(アリールメチル)ヘキサアザイソウルチタ
ンの分解反応が活性化される高温条件で実施する必要が
あり、これは、骨格分解を誘発する原因となる。
Hexakis (arylmethyl) hexaazaisowurtzitane is unstable to acids and heat, and in order to dissolve the product tetraacylbis (arylmethyl) hexaazaisowurtzitanium in a high concentration, High temperature conditions must be employed. That is, in order to allow the reaction to proceed while dissolving hexakis (arylmethyl) hexaazaisowurtzitanium in a solvent under a high concentration condition,
It is necessary to carry out under high temperature conditions in which the decomposition reaction of hexakis (arylmethyl) hexaazaisowurtzitanium is activated, which causes skeletal decomposition.

【0004】また、これらの文献、特許に用いられてい
る溶媒は、無水酢酸等のカルボン酸無水物、酢酸等のカ
ルボン酸、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族化
合物、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル化
合物、メタノール、エタノール等のアルコール化合物等
が使用されている。これらの溶媒中では、N−H基のア
シル化剤によるアシル化後副生する酸性プロトンにより
溶液の酸性度を上げ、プロトンで骨格分解を生じやすい
反応初期のアリールメチル基を多く含むヘキサアザイソ
ウルチタン誘導体類の骨格分解誘発しやすい。
The solvents used in these documents and patents include carboxylic anhydrides such as acetic anhydride, carboxylic acids such as acetic acid, aromatic compounds such as benzene, toluene and xylene, and ethers such as tetrahydrofuran and dioxane. Compounds and alcohol compounds such as methanol and ethanol are used. In these solvents, an acidic proton produced as a by-product after acylation of the NH group with an acylating agent increases the acidity of the solution, and the proton-produced hexaazide containing many arylmethyl groups in the initial stage of the reaction, which is liable to cause skeletal decomposition by protons. It is easy to induce skeletal decomposition of soul titanium derivatives.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ヘキ
サキス(アリールメチル)ヘキサアザイソウルチタンを
アシル化剤存在下で還元的脱アリールメチルし、アシル
基を有するヘキサアザイソウルチタン誘導体を製造する
に際し、溶媒の酸性度と反応温度を変化させ骨格分解を
抑制し、高収率でアシル基を有するヘキサアザイソウル
チタン誘導体を製造する方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a hexaazaisowurtzitanium derivative having an acyl group by subjecting hexakis (arylmethyl) hexaazaisowurtitanium to reductive dearylmethylation in the presence of an acylating agent. An object of the present invention is to provide a method for producing a hexaazaisowurtzitane derivative having an acyl group in a high yield by changing the acidity and reaction temperature of a solvent to suppress skeletal decomposition.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、熱に対し
て不安定なヘキサキス(アリールメチル)ヘキサアザイ
ソウルチタンを低温で熱に対して安定なジアシルテトラ
キス(アリールメチル)ヘキサアザイソウルチタンに変
換し、その後比較的高温条件で反応させることでアシル
基を有するヘキサアザイソウルチタンを高収率で合成す
ることに成功し、また、反応溶媒としてアミド基を有す
る化合物を用いることで高収率でアシル基を有するヘキ
サアザイソウルチタンを製造することに成功し、本発明
を完成した。
Means for Solving the Problems The present inventors have developed a heat-labile hexakis (arylmethyl) hexaazaisowurtzitane at a low temperature and a heat-stable diacyltetrakis (arylmethyl) hexaazide. Conversion to soul-titanium and subsequent reaction under relatively high temperature conditions succeeded in synthesizing hexaazaisoulitanium having an acyl group in high yield, and using a compound having an amide group as a reaction solvent The present invention succeeded in producing hexaazaisowurtzitane having an acyl group at a high yield, and completed the present invention.

【0007】すなわち、本発明は、下記反応式(1)で
表されるように、ヘキサキス(アリールメチル)ヘキサ
アザイソウルチタン(WB6 )をアシル化剤存在下で還
元的脱アリールメチルしジアシルテトラキス(アリール
メチル)ヘキサアザイソウルチタン(WA2 4 )を合
成し[ステップ1]、それをさらにアシル化剤存在下で
還元的アリールメチルしWAn (6-n) を合成する[ス
テップ2]ことを特徴とするアシル基を有するヘキサア
ザイソウルタンの製造方法を提供するものである。 [式中、nは4〜6の整数、Bは炭素数7〜21のアリ
ールメチル基、Aは炭素数1〜10のアシル基、Hは水
素原子、Wは次式(2)で表される6価のヘキサアザイ
ソウルチタン残基を表す。]
That is, the present invention relates to a process for reducing a hexakis (arylmethyl) hexaazaisowurtzitane (WB 6 ) in the presence of an acylating agent to give a diacyl as shown in the following reaction formula (1). Synthesis of tetrakis (arylmethyl) hexaazaisowurtzitane (WA 2 B 4 ) [Step 1], and further reductive arylmethylation in the presence of an acylating agent to synthesize WA n B (6-n) [ Step 2] is to provide a method for producing hexaazaisowurtane having an acyl group. [In the formula, n is an integer of 4 to 6, B is an arylmethyl group having 7 to 21 carbon atoms, A is an acyl group having 1 to 10 carbon atoms, H is a hydrogen atom, and W is represented by the following formula (2). And represents a hexavalent aza soulitol titanium residue. ]

【0008】[0008]

【化4】 Embedded image

【0009】反応式(1)のステップ1の反応に用いら
れる溶媒としては、WB6 を溶かし、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば、どのようなものを使用してもよ
いが、弱塩基性を有するアミド基を有する化合物を使用
することが好ましい。さらに好ましくは、N,N−ジメ
チルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、
1,3−ジメチル−2−イミダゾリドン、N−メチル−
2−ピロリドン、N,N−ジエチルニペコタミド等が挙
げられる。もっとも好ましくは、N,N−ジメチルアセ
トアミド、N,N−ジメチルホルムアミドが挙げられ
る。これらのアミド基を有する溶媒は、単独または2種
以上混合して用いてもよい。反応式(1)の反応のWB
6 の濃度は、溶媒に対する重量比で表現して、通常0.
001〜1、好ましくは、0.005〜0.3、さらに
好ましくは、0.01〜0.2の範囲である。
As the solvent used in the reaction in step 1 of the reaction formula (1), any solvent may be used as long as it dissolves WB 6 and does not adversely affect the reaction. It is preferable to use a compound having an amide group having a property. More preferably, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide,
1,3-dimethyl-2-imidazolidone, N-methyl-
2-pyrrolidone, N, N-diethylnipecotamide and the like. Most preferably, N, N-dimethylacetamide and N, N-dimethylformamide are mentioned. These solvents having an amide group may be used alone or in combination of two or more. WB of reaction of reaction formula (1)
The concentration of 6 is usually expressed as a weight ratio to the solvent, and is usually 0.1.
001 to 1, preferably 0.005 to 0.3, and more preferably 0.01 to 0.2.

【0010】反応式(1)のステップ1の反応で使用さ
れ還元剤は、通常、水素、ギ酸が用いられる。好ましく
は、水素が用いられる。前記還元剤の用いられる量は、
WB6 のアリールメチル基に対するモル比で表現して
0.1〜10000、好ましくは0.67〜1000、
さらに好ましくは、2〜50の範囲で使用される。還元
剤として水素を使用する場合は、水素の分圧で表現して
0.01〜100、好ましくは、0.1〜30、さらに
好ましくは、0.1〜15kgf/cm2 の範囲で使用
される。水素以外に、窒素、アルゴン、ヘリウムなどの
不活性ガスが存在してもよい。
As the reducing agent used in the reaction of Step 1 of the reaction formula (1), hydrogen and formic acid are usually used. Preferably, hydrogen is used. The amount of the reducing agent used is
0.1 to 10,000, preferably 0.67 to 1000, expressed as a molar ratio of WB 6 to arylmethyl group,
More preferably, it is used in the range of 2 to 50. When hydrogen is used as the reducing agent, it is used in the range of 0.01 to 100, preferably 0.1 to 30, and more preferably 0.1 to 15 kgf / cm 2 in terms of the partial pressure of hydrogen. You. In addition to hydrogen, an inert gas such as nitrogen, argon, and helium may be present.

【0011】反応式(1)のステップ1の反応で使用さ
れる還元触媒は、WB6 のアリールメチル基を還元的脱
アリールメチルする触媒であればどのようなものでも使
用できるが、通常、白金族に属する金属、または、その
誘導体が用いられ、好ましくは、Pd(OAc)2 、P
dCl2 、Pd(NO3 2 、PdO、Pd(O
H)2 、Pd3 Pb1 、Pd3 Te1 などのPd化合
物、Pd合金およびPd金属;RuCl3 などのRu化
合物、Ru合金およびRu金属などが用いられ、さらに
好ましくは、Pd(OAc)2 、PdCl2 などのPd
化合物、Pd合金およびPd金属が使用される。
As the reduction catalyst used in the reaction of step 1 of the reaction formula (1), any catalyst can be used as long as it can reductively remove the arylmethyl group of WB 6. A metal belonging to the group or a derivative thereof is used, and preferably Pd (OAc) 2 , P
dCl 2 , Pd (NO 3 ) 2 , PdO, Pd (O
H) 2 , Pd compounds such as Pd 3 Pb 1 and Pd 3 Te 1 , Pd alloys and Pd metals; Ru compounds such as RuCl 3 , Ru alloys and Ru metals and the like are used, and more preferably Pd (OAc) 2 And Pd such as PdCl 2
Compounds, Pd alloys and Pd metals are used.

【0012】これらの触媒は、そのまま使用する、ある
いは、活性炭、シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、
ゼオライト、活性白土、ジルコニア、チタニアなどの各
種担体に担持させて使用することもできる。反応に供す
る前に触媒を還元処理してもよい。触媒を担体に担持さ
せて使用する場合には、こらの担体をシリル化やアシル
化などの処理を行うことで、表面酸点を不活性化しても
よいし、逆に表面酸点を増やす活性化処理をしてもよい
し、あるいは、NaOHなどのアルカリ性の物質を吸着
させることによって担体表面の酸性度を変化させること
もできる。これらの触媒の内、活性炭上にPd2+を担
持させ、それを還元処理してつくったPd−Cは非常に
活性が高いので、本発明の触媒としては最も好ましい。
不均一系還元触媒を使用する場合は、固定床として使用
してもよいし、流動床として使用してもよい。
These catalysts may be used as they are, or may be activated carbon, silica, alumina, silica-alumina,
It can be used by being supported on various carriers such as zeolite, activated clay, zirconia, and titania. Before the reaction, the catalyst may be subjected to a reduction treatment. When the catalyst is used by being supported on a carrier, these carriers may be subjected to a treatment such as silylation or acylation to deactivate the surface acid sites or to increase the surface acid sites. Alternatively, the acidity of the surface of the carrier can be changed by adsorbing an alkaline substance such as NaOH. Among these catalysts, Pd 2+ supported on activated carbon and subjected to a reduction treatment to form Pd—C has a very high activity, and is therefore most preferable as the catalyst of the present invention.
When a heterogeneous reduction catalyst is used, it may be used as a fixed bed or as a fluidized bed.

【0013】反応式(1)のステップ1の反応で使用さ
れるアシル化剤は、2級アミンをアシル化しN−アシル
結合を生成するものであればどのようなものでも使用で
きるが、通常、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水ギ
酸、無水酪酸、酢酸−ギ酸混合酸の無水物などのカルボ
ン酸無水物;N−アセトキシコハク酸イミド、N−プロ
ピオニルオキシコハク酸イミド、N−(2−フェニルア
セトキシ)コハク酸イミドなどのN−ヒドロキシコハク
酸イミドのカルボン酸エステル;アセチルイミダゾー
ル、プロピオニルイミダゾールなどのアシルイミダゾー
ルなどが挙げられる。これらのアシル化剤の内、好まし
くは、無水酢酸、無水プロピオン酸、酢酸−ギ酸混合酸
の無水物などのカルボン酸無水物が使用される。さらに
好ましくは、無水酢酸である。
The acylating agent used in the reaction of step 1 of the reaction formula (1) can be any one which can acylate a secondary amine to form an N-acyl bond. Carboxylic anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, formic anhydride, butyric anhydride, and acetic acid-formic acid mixed acid anhydride; N-acetoxysuccinimide, N-propionyloxysuccinimide, N- (2-phenylacetoxy) ) N-hydroxysuccinimide carboxylic acid esters such as succinimide; and acylimidazoles such as acetylimidazole and propionylimidazole. Of these acylating agents, carboxylic anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride and acetic acid-formic acid mixed acid anhydride are preferably used. More preferably, it is acetic anhydride.

【0014】前記アシル化剤の量は、その反応性、反応
方法によっても異なるが、WB6 のアリールメチル基に
対するモル比で表現して、通常、0.67〜100、好
ましくは0.67〜10、さらに好ましくは0.67〜
3の範囲で使用される。反応式(1)のステップ1の反
応温度は、20〜60℃の範囲である。この反応は、2
0〜60℃の比較的低温で反応を行うことでWB6 が長
時間溶媒中残存しても骨格分解が比較的抑制できるの
で、低温で反応することが好ましい。反応式(1)のス
テップ2の反応で使用される溶媒は、WA2 4 を溶か
し、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、どのよう
なものを使用してよいが、弱塩基性を有するアミド基を
有する化合物を使用することが好ましい。さらに好まし
くは、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチ
ルホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリド
ン、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジエチルニ
ペコタミド等が挙げられる。もっとも好ましくは、N,
N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムア
ミドが挙げられる。これらのアミド基を有する溶媒は、
単独または2種以上混合して用いてもよい。
The amount of the acylating agent, the reactivity, also differ depending on the reaction method, expressed by a molar ratio to the arylmethyl groups of WB 6, usually, from 0.67 to 100, preferably 0.67 to 10, more preferably 0.67 to
3 is used. The reaction temperature in step 1 of the reaction formula (1) is in the range of 20 to 60 ° C. This reaction is 2
By performing the reaction at a relatively low temperature of 0 to 60 ° C., even if WB 6 remains in the solvent for a long time, the skeleton decomposition can be relatively suppressed, so that the reaction is preferably performed at a low temperature. As the solvent used in the reaction of Step 2 of the reaction formula (1), any solvent may be used as long as it dissolves WA 2 B 4 and does not adversely affect the reaction. It is preferable to use a compound having an amide group. More preferably, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-diethylnipecotamide and the like can be mentioned. Most preferably, N,
N-dimethylacetamide and N, N-dimethylformamide are exemplified. Solvents having these amide groups are
You may use individually or in mixture of 2 or more types.

【0015】反応式(1)のステップ2の反応のWA2
4 の濃度は、溶媒に対する重量比表現して、通常0.
001〜1、好ましくは、0.005〜0.3、さらに
好ましくは、0.01〜0.2の範囲である。反応式
(1)のステップ2の反応で使用され還元剤は、通常、
水素、ギ酸が用いられる。好ましくは、水素が用いられ
る。前記還元剤の用いられる量は、WA2 4 のアリー
ルメチル基に対するモル比で表現して0.1〜1000
0、好ましくは0.50〜1000、さらに好ましく
は、2〜50の範囲で使用される。還元剤として水素を
使用する場合は、水素の分圧で表現して0.01〜10
0、好ましくは、0.1〜30、さらに好ましくは、
0.1〜15kgf/cm2 の範囲で使用される。水素
以外に、窒素、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガスが
存在してもよい。
WA 2 of the reaction in step 2 of reaction formula (1)
The concentration of B 4 is usually expressed as a weight ratio to the solvent, and is usually 0.1%.
001 to 1, preferably 0.005 to 0.3, and more preferably 0.01 to 0.2. The reducing agent used in the reaction of Step 2 of the reaction formula (1) is usually
Hydrogen and formic acid are used. Preferably, hydrogen is used. The amount of the reducing agent used is 0.1 to 1000 in terms of a molar ratio to the arylmethyl group of WA 2 B 4.
0, preferably 0.50 to 1000, and more preferably 2 to 50. When hydrogen is used as the reducing agent, the partial pressure of hydrogen is expressed as 0.01 to 10
0, preferably 0.1 to 30, more preferably
It is used in a range of 0.1 to 15 kgf / cm 2 . In addition to hydrogen, an inert gas such as nitrogen, argon, and helium may be present.

【0016】反応式(1)のステップ2の反応で使用さ
れる還元触媒は、WA2 4 のアリールメチル基を還元
的脱アリールメチルする触媒であればどのようなもので
も使用できるが、通常、白金族に属する金属、または、
その誘導体が用いられ、好ましくは、Pd(OA
c)2 、PdCl2 、Pd(NO3 2 、PdO、Pd
(OH)2 、Pd3 Pb1 、Pd3 Te1 などのPd化
合物、Pd合金およびPd金属;RuCl3 などのRu
化合物、Ru合金およびRu金属などが用いられ、さら
に好ましくは、Pd(OAc)2 、PdCl2 などのP
d化合物、Pd合金およびPd金属が使用される。
As the reduction catalyst used in the reaction of step 2 of the reaction formula (1), any catalyst can be used as long as it can reductively remove the arylmethyl group of WA 2 B 4. , A metal belonging to the platinum group, or
Its derivative is used, and preferably, Pd (OA
c) 2 , PdCl 2 , Pd (NO 3 ) 2 , PdO, Pd
Pd compounds such as (OH) 2 , Pd 3 Pb 1 and Pd 3 Te 1 , Pd alloys and Pd metals; Ru such as RuCl 3
Compounds, Ru alloys and Ru metals are used, and more preferably, Pd such as Pd (OAc) 2 and PdCl 2
d compounds, Pd alloys and Pd metals are used.

【0017】これらの触媒は、そのまま使用する、ある
いは、活性炭、シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、
ゼオライト、活性白土、ジルコニア、チタニアなどの各
種担体に担持させて使用することもできる。反応に供す
る前に触媒を還元処理してもよい。触媒を担体に担持さ
せて使用する場合には、こらの担体をシリル化やアシル
化などの処理を行うことで、表面酸点を不活性化しても
よいし、逆に表面酸点を増やす活性化処理をしてもよい
し、あるいは、NaOHなどのアルカリ性の物質を吸着
させることによって担体表面の酸性度を変化させること
もできる。これらの触媒の内、活性炭上にPd2+を担
持させ、それを還元処理してつくったPd−Cは非常に
活性が高いので、本発明の触媒としては最も好ましい。
不均一系還元触媒を使用する場合は、固定床として使用
してもよいし、流動床として使用してもよい。
These catalysts may be used as they are, or may be activated carbon, silica, alumina, silica-alumina,
It can be used by being supported on various carriers such as zeolite, activated clay, zirconia, and titania. Before the reaction, the catalyst may be subjected to a reduction treatment. When the catalyst is used by being supported on a carrier, these carriers may be subjected to a treatment such as silylation or acylation to deactivate the surface acid sites or to increase the surface acid sites. Alternatively, the acidity of the surface of the carrier can be changed by adsorbing an alkaline substance such as NaOH. Among these catalysts, Pd 2+ supported on activated carbon and subjected to a reduction treatment to form Pd—C has a very high activity, and is therefore most preferable as the catalyst of the present invention.
When a heterogeneous reduction catalyst is used, it may be used as a fixed bed or as a fluidized bed.

【0018】反応式(1)のステップ2の反応で使用さ
れるアシル化剤は、2級アミンをアシル化しN−アシル
結合を生成するものであればどのようなものでも使用で
きるが、通常、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水ギ
酸、無水酪酸、酢酸−ギ酸混合酸の無水物などのカルボ
ン酸無水物;N−アセトキシコハク酸イミド、N−プロ
ピオニルオキシコハク酸イミド、N−(2−フェニルア
セトキシ)コハク酸イミドなどのN−ヒドロキシコハク
酸イミドのカルボン酸エステル;アセチルイミダゾー
ル、プロピオニルイミダゾールなどのアシルイミダゾー
ルなどが挙げられる。これらのアシル化剤の内、好まし
くは、無水酢酸、無水プロピオン酸、酢酸−ギ酸混合酸
の無水物などのカルボン酸無水物が使用される。さらに
好ましくは、無水酢酸である。
As the acylating agent used in the reaction of step 2 of the reaction formula (1), any one can be used as long as it can acylate a secondary amine to form an N-acyl bond. Carboxylic anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, formic anhydride, butyric anhydride, and acetic acid-formic acid mixed acid anhydride; N-acetoxysuccinimide, N-propionyloxysuccinimide, N- (2-phenylacetoxy) ) N-hydroxysuccinimide carboxylic acid esters such as succinimide; and acylimidazoles such as acetylimidazole and propionylimidazole. Of these acylating agents, carboxylic anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride and acetic acid-formic acid mixed acid anhydride are preferably used. More preferably, it is acetic anhydride.

【0019】前記アシル化剤の量は、その反応性、反応
方法によっても異なるがWA2 4のアリールメチル基
に対するモル比で表現して、通常、0.50〜100、
好ましくは0.50〜10、さらに好ましくは0.50
〜3の範囲で使用される。反応式(1)のステップ2の
反応温度は、40〜165℃の範囲である。WA2 4
はWB6 に比べ熱安定性に勝るので、このステップ2の
反応は、比較的高温条件を採用することができる。この
ことにより生成物のWA4 2 を高濃度に溶解した条件
で反応を進行させることができる。反応式(1)のステ
ップ1の反応溶液中より触媒を除去した後、ステップ2
用の触媒を加え、そのまま反応を進行させることは非常
に好ましい方法である。
The amount of the acylating agent varies depending on its reactivity and reaction method, but is usually expressed as a molar ratio to the arylmethyl group of WA 2 B 4 , usually 0.50 to 100,
Preferably 0.50 to 10, more preferably 0.50
Used in the range of ~ 3. The reaction temperature in Step 2 of the reaction formula (1) is in the range of 40 to 165 ° C. WA 2 B 4
Is superior to WB 6 in thermal stability, so that the reaction in step 2 can employ relatively high temperature conditions. This allows the reaction to proceed under conditions in which the product WA 4 B 2 is dissolved at a high concentration. After removing the catalyst from the reaction solution of Step 1 of Reaction Formula (1), Step 2
It is a very preferable method to add a catalyst for the reaction and allow the reaction to proceed as it is.

【0020】また、本発明は、下記反応式(3)で表さ
れるように、WB6 をアシル化剤存在下で還元的脱アリ
ールメチルしWA2 4 を合成し[ステップ1]、それ
をさらにアシル化剤存在下で還元的アリールメチルしW
n (6-n) を合成し[ステップ2]、それをさらに還
元的脱アリールメチルしWAn (6-n) を合成する[ス
テップ3]ことを特徴とするアシル基を有するヘキサア
ザイソウルタンの製造方法を提供するものである。 [式中、nは4〜6の整数、Bは炭素数7〜21のアリ
ールメチル基、Aは炭素数1〜10のアシル基、Hは水
素原子、Wは次式(2)で表される6価のヘキサアザイ
ソウルチタン残基を表す。]
In the present invention, as shown in the following reaction formula (3), WB 6 is subjected to reductive dearylmethylation in the presence of an acylating agent to synthesize WA 2 B 4 [Step 1]. Is further subjected to reductive arylmethylation in the presence of an acylating agent to give W
Hex with A n B (6-n) to synthesize [Step 2], which was further reductive de-arylmethyl by synthesizing WA n H (6-n) [ Step 3] acyl group, wherein the The present invention provides a method for producing Azai Soul Tan. [In the formula, n is an integer of 4 to 6, B is an arylmethyl group having 7 to 21 carbon atoms, A is an acyl group having 1 to 10 carbon atoms, H is a hydrogen atom, and W is represented by the following formula (2). And represents a hexavalent aza soulitol titanium residue. ]

【0021】[0021]

【化5】 Embedded image

【0022】反応式(3)のステップ1の反応条件等
は、反応式(1)のステップ1の反応条件等と同じもの
が使用できる。反応式(3)のステップ2の反応条件等
は、反応式(1)のステップ2の反応条件等と同じもの
が使用できる。反応式(3)のステップ1の反応溶液中
より触媒を除去した後、ステップ2用の触媒を加え、そ
のまま反応を進行させることは非常に好ましい方法であ
る。反応式(3)のステップ3の反応で使用される還元
剤は、通常、水素、ギ酸が用いられる。好ましくは、水
素が用いられる。
The reaction conditions and the like in step 1 of the reaction formula (3) can be the same as the reaction conditions and the like in step 1 of the reaction formula (1). As the reaction conditions and the like in Step 2 of Reaction Formula (3), the same conditions as those in Step 2 of Reaction Formula (1) can be used. It is a very preferable method to remove the catalyst from the reaction solution in step 1 of the reaction formula (3), add the catalyst for step 2 and allow the reaction to proceed as it is. As the reducing agent used in the reaction in Step 3 of the reaction formula (3), hydrogen and formic acid are usually used. Preferably, hydrogen is used.

【0023】前記還元剤の用いられる量は、WAn
(6-n) のアリールメチル基に対するモル比で表現して、
1.0〜1000、さらに好ましくは、1.0〜100
の範囲で用いられる。還元剤として水素を使用する場合
は、水素の分圧で表現して、0.01〜100、好まし
くは、0.1〜30、さらに好ましくは、0.1〜20
kgf/cm2 の範囲で使用される。水素以外に、窒
素、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガスが存在しても
よい。
The amount of the reducing agent used is WA n B
Expressed in a molar ratio to the arylmethyl group of (6-n) ,
1.0 to 1000, more preferably 1.0 to 100
Used in the range. When hydrogen is used as the reducing agent, it is expressed as a partial pressure of hydrogen, which is 0.01 to 100, preferably 0.1 to 30, and more preferably 0.1 to 20.
It is used in the range of kgf / cm 2 . In addition to hydrogen, an inert gas such as nitrogen, argon, and helium may be present.

【0024】反応式(1)のステップ3の反応に使用さ
れる溶媒は、アミド基を有する溶媒と水の混合物で、反
応に悪影響を及ぼさないものであれば、どのようなもの
でも使用できる。アミド基を有する溶媒としては、通
常、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチル
ホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリド
ン、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジエチルニ
ペコタミド等が挙げられる。好ましくは、N,N−ジメ
チルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミドが挙
げられる。これらのアミド基を有する溶媒は、単独また
は二種以上混合して用いてよい。アミド基を有する溶媒
と水の混合割合は、水のアミド基を有する溶媒に対する
重量比で表現して、通常0.1〜10、好ましくは、
0.2〜5、さらに好ましくは、0.5〜2の範囲であ
る。溶媒として、アミド基を有する溶媒と水の他に、ギ
酸、酢酸、プロピオン酸等のカルボン酸が含まれること
があるが、この場合のカルボン酸の混合割合は、カルボ
ン酸のアミド基を有する溶媒に対する重量比で表現し
て、0.001〜1、好ましくは、0.01〜0.8、
さらに好ましくは、0.1〜0.5の範囲である。溶媒
に含まれるカルボン酸として好ましいカルボン酸は、酢
酸である。
The solvent used for the reaction in step 3 of the reaction formula (1) can be any mixture of a solvent having an amide group and water, as long as it does not adversely affect the reaction. Examples of the solvent having an amide group include N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, and N, N-diethylnipecotamide. And the like. Preferably, N, N-dimethylacetamide and N, N-dimethylformamide are mentioned. These solvents having an amide group may be used alone or in combination of two or more. The mixing ratio of the solvent having an amide group and water is represented by a weight ratio of water to the solvent having an amide group, and is usually 0.1 to 10, preferably,
The range is from 0.2 to 5, more preferably from 0.5 to 2. As the solvent, in addition to the solvent having an amide group and water, a carboxylic acid such as formic acid, acetic acid, or propionic acid may be contained. Expressed as a weight ratio with respect to 0.001 to 1, preferably 0.01 to 0.8,
More preferably, it is in the range of 0.1 to 0.5. A preferred carboxylic acid as the carboxylic acid contained in the solvent is acetic acid.

【0025】反応式(3)のステップ3の反応で使用さ
れる還元触媒の種類、反応温度等の反応条件は、 反応
式(1)のステップ2の反応と同様のものおよび条件が
使用できる。反応式(3)のステップ3で表される反応
の特徴は、反応溶媒として、アミド基を有する溶媒と水
を混合して使用することである。この2種類の溶媒の役
割および効果を以下で簡単に説明する。
The reaction conditions such as the type of the reduction catalyst and the reaction temperature used in the reaction in step 3 of the reaction formula (3) can be the same as those in the reaction in step 2 of the reaction formula (1). The feature of the reaction represented by step 3 of the reaction formula (3) is that a solvent having an amide group and water are mixed and used as a reaction solvent. The role and effect of these two solvents will be briefly described below.

【0026】アミド基を有する溶媒は、WAn (6-n)
を溶解し、かつ、生成物WAn (6-n) を溶解する水と
の親和性が高い溶媒であるため水と混合して使用でき
る。このことにより、アミド基を有する溶媒と水を混合
した溶媒を反応式(3)のステップ3の反応に使用する
と、原料と生成物を高濃度で溶媒中に溶解させたまま反
応を進行させることができ、生成物析出後の触媒表面付
着に触媒の活性低下を防止し、反応を高活性に進行させ
ることできる。それと同時に、不均一系触媒と生成物の
分離も容易にしている。
The solvent having an amide group is WA n B (6-n)
Can be used in combination with water since it is a solvent having a high affinity for water that dissolves the product WA n H (6-n) . Thus, when a solvent obtained by mixing a solvent having an amide group and water is used in the reaction of Step 3 of the reaction formula (3), the reaction proceeds while the raw materials and products are dissolved in the solvent at a high concentration. The catalyst activity can be prevented from lowering on the catalyst surface after the product is deposited, and the reaction can proceed with high activity. At the same time, it facilitates the separation of the heterogeneous catalyst and product.

【0027】また、水とアミド基を有する溶媒の混合溶
媒を使用すると、反応終了後の反応溶液中の水およびア
ミド基を有する溶媒より低沸点な成分を蒸留または減圧
蒸留で除去し、釜に残ったアミド基を有する溶媒と生成
物WAn (6-n) が主である溶液を冷却しWAn
(6-n) を結晶化させ濾過または遠心分離で取り出すこと
ができる。この晶析方法は、反応溶液に対し蒸留操作、
冷却操作、分離操作(濾過または遠心分離)を行うだけ
で純度の高いWAn (6-n) を得ることができるので、
好ましい方法である。
When a mixed solvent of water and a solvent having an amide group is used, a component having a lower boiling point than water and a solvent having an amide group in the reaction solution after the reaction is removed by distillation or distillation under reduced pressure, and the mixture is placed in a kettle. product and solvent with the remaining amide groups WA n H (6-n) is cooled to a primary solution WA n H
(6-n) can be crystallized and removed by filtration or centrifugation. In this crystallization method, a distillation operation is performed on the reaction solution,
Since high purity WA n H (6-n) can be obtained only by performing a cooling operation and a separation operation (filtration or centrifugation),
This is the preferred method.

【0028】反応式(3)のステップ1の反応終了後、
ステップ1用の触媒を除去し、ステップ2用の触媒を加
え、ステップ2を実施し、ステップ2終了後ステップ2
用の触媒を除去し、ステップ3用触媒と水を追加し、ス
テップ3の反応を実施する方法は、個々の中間体の単離
操作が省略できるので工業的に有利な方法である。ま
た、単離操作中での中間体のロスがなくなくなるのでW
6 からWAn (6-n)を高収率で製造できる方法であ
る。反応式(3)のステップ2の反応とステップ3の反
応の間に加える水の量は、反応式(3)のステップ3の
溶媒成分で記したアミド基を有する溶媒と水の混合割合
になる量である。
After completion of the reaction in step 1 of the reaction formula (3),
The catalyst for Step 1 is removed, the catalyst for Step 2 is added, and Step 2 is performed.
The method of removing the catalyst for the step 3, adding the catalyst for the step 3 and water, and carrying out the reaction of the step 3 is an industrially advantageous method because the operation of isolating individual intermediates can be omitted. Further, since there is no loss of the intermediate during the isolation operation, W
This is a method for producing WA n H (6-n) from B 6 in high yield. The amount of water added between the reaction in step 2 and the reaction in step 3 of the reaction formula (3) is the mixing ratio of the solvent having an amide group and the water described in the solvent component in step 3 of the reaction formula (3). Quantity.

【0029】さらにまた、本発明は、下記反応式(4)
で表されるように、WB6 をアシル化剤存在下で還元的
脱アリールメチルしWA2 4 を合成し[ステップ
1]、それをさらにアシル化剤存在下で還元的アリール
メチルしWAn (6-n) を合成する[ステップ2’]こ
とを特徴とするアシル基を有するヘキサアザイソウルタ
ンの製造方法を提供するものである。 [式中、nは4〜6の整数、Bは炭素数7〜21のアリ
ールメチル基、Aは炭素数1〜10のアシル基、Hは水
素原子、Wは次式(2)で表される6価のヘキサアザイ
ソウルチタン残基を表す。]
Furthermore, the present invention provides the following reaction formula (4)
WB 6 is reductively dearylmethylated in the presence of an acylating agent to synthesize WA 2 B 4 [Step 1], which is further reductively methylated in the presence of an acylating agent to obtain WA n. It is intended to provide a method for producing hexaazaisowurtane having an acyl group, which is characterized by synthesizing H (6-n) [Step 2 ′]. [In the formula, n is an integer of 4 to 6, B is an arylmethyl group having 7 to 21 carbon atoms, A is an acyl group having 1 to 10 carbon atoms, H is a hydrogen atom, and W is represented by the following formula (2). And represents a hexavalent aza soulitol titanium residue. ]

【0030】[0030]

【化6】 Embedded image

【0031】反応式(4)のステップ1の反応条件等
は、反応式(1)のステップ1の反応条件等と同じもの
が使用できる。反応式(4)のステップ2’の反応条件
等は、反応式(1)のステップ2の反応条件等と同じも
のが使用できる。また、ステップ2’の反応溶媒とし
て、水を一成分として含まれる混合溶媒を使用すること
も可能である。ステップ2’の反応に水を追加する時期
はステップ2’の1)反応前、2)反応途中、3)反応
終了後のいずれの時期でもよい。
The reaction conditions and the like in step 1 of reaction formula (4) can be the same as those in step 1 of reaction formula (1). As the reaction conditions and the like in Step 2 ′ of Reaction Formula (4), the same conditions as those in Step 2 of Reaction Formula (1) can be used. It is also possible to use a mixed solvent containing water as one component as the reaction solvent in step 2 ′. The time for adding water to the reaction in step 2 'may be any of 1) before the reaction, 2) during the reaction, and 3) after the reaction in step 2'.

【0032】追加する水の量は、水のアミド基を有する
溶媒に対する重量比で表現して、通常0.1〜10、好
ましくは、0.2〜5、さらに好ましくは、0.5〜2
の範囲である。溶媒として、アミド基を有する溶媒と水
の他に、ギ酸、酢酸、プロピオン酸等のカルボン酸が含
まれることがあるが、この場合のカルボン酸の混合割合
は、カルボン酸のアミド基を有する溶媒に対する重量比
で表現して、0.001〜1、好ましくは、0.01〜
0.8、さらに好ましくは、0.1〜0.5の範囲であ
る。溶媒に含まれるカルボン酸として好ましいカルボン
酸は、酢酸である。
The amount of water to be added is usually 0.1 to 10, preferably 0.2 to 5, more preferably 0.5 to 2, expressed as a weight ratio of water to the solvent having an amide group.
Range. As the solvent, in addition to the solvent having an amide group and water, a carboxylic acid such as formic acid, acetic acid, or propionic acid may be contained. 0.001 to 1, preferably 0.01 to
0.8, more preferably in the range of 0.1 to 0.5. A preferred carboxylic acid as the carboxylic acid contained in the solvent is acetic acid.

【0033】反応式(4)のステップ2’の溶媒として
水を一成分として含む混合溶媒使用することで、生成物
の一つであるテトラアシルヘキサアザイソウルチタンが
溶媒に対し可溶になり、触媒との分離が容易になるので
好ましい方法である。また、テトラアシルヘキサアザイ
ソウルチタンは、アミド基を有する溶媒に対する溶解度
が低いので、その反応溶液中より水を留去することで晶
析させることができる。この晶析時に、その他の副生成
物はアミド基を有する溶媒中に可溶のまま残存するする
ため、晶析後のテトラアシルヘキサアザイソウルチタン
は高純度のものである。反応式(4)のステップ1の反
応終了後、ステップ1用の触媒を除去し、ステップ2’
用の触媒を加え、ステップ2’を実施する方法は、WA
2 4 の単離操作が省略できるので、工業的に有利な方
法である。また、単離操作中での中間体のロスがなくな
くなるので、WB6 からWAn (6-n) を高収率で製造
できる方法である。
By using a mixed solvent containing water as one component as a solvent in step 2 ′ of the reaction formula (4), tetraacylhexaazaisowurtzitanium, one of the products, becomes soluble in the solvent. This is a preferred method because the separation from the catalyst becomes easy. Further, tetraacylhexaazaisowurtzitane has low solubility in a solvent having an amide group, and can be crystallized by distilling water from the reaction solution. During this crystallization, other by-products remain soluble in the solvent having an amide group, so that the tetraacylhexaazaisowurtzitane after crystallization is of high purity. After the completion of the reaction in Step 1 of Reaction Formula (4), the catalyst for Step 1 is removed, and Step 2 ′
The method for adding the catalyst for the process and performing step 2 ′ is described in WA
Since isolation procedure 2 B 4 can be omitted, it is industrially advantageous method. In addition, this method is capable of producing WA n H (6-n) from WB 6 in high yield because the loss of the intermediate during the isolation operation is eliminated.

【0034】以下で本発明に使用される原料WB6 およ
び生成物WAn (6-n) 、WAn (6-n) の構造につい
て説明する。式(1)、(3)、(4)中のBとして表
されるアリールメチル基とは、アリール基(Ar)によ
り置換されたメチル基を示し、通常は、炭素数7〜21
のものが使用される。アリールメチル基Bの代表的な構
造としては、次の一般式(5)で表される置換基であ
る。 −CH2 Ar (5) [Arは炭素数6〜20の芳香族基を表す。]Ar中の
炭素数としては、通常は、6〜20、好ましくは、6〜
10、特に好ましくは、6である。Arとしては、例え
ば、フェニル;トリル(o−、m−、p−各置換体)、
エチルフェニル(o−、m−、p−各置換体)、キシリ
ルなどの各種アルキルフェニル基類;メトキシフェニル
(o−、m−、p−各置換体)、エトキシフェニル(o
−、m−、p−各置換体)、ブトキシフェニル(o−、
m−、p−各置換体)などの各種アルコキシフェニル基
類;ナフチル基および各種置換ナフチル基などが挙げら
れ、好ましくは、フェニル基および各種アルコキシフェ
ニル基類が用いられる。WB6 中の6個のアリールメチ
ル基はそれぞれ同一のものでも、異なったものでもよ
い。
The structures of the raw material WB 6 and the products WA n B (6-n) and WA n H (6-n) used in the present invention will be described below. The arylmethyl group represented by B in the formulas (1), (3) and (4) represents a methyl group substituted by an aryl group (Ar), and usually has 7 to 21 carbon atoms.
Is used. A typical structure of the arylmethyl group B is a substituent represented by the following general formula (5). —CH 2 Ar (5) [Ar represents an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms. The number of carbon atoms in Ar is usually from 6 to 20, preferably from 6 to
10, particularly preferably 6. Ar is, for example, phenyl; tolyl (o-, m-, p-substituted);
Various alkylphenyl groups such as ethylphenyl (o-, m-, p-substituted) and xylyl; methoxyphenyl (o-, m-, p-substituted), ethoxyphenyl (o
-, M-, p-substituted), butoxyphenyl (o-,
m-, p-substituted products), etc .; naphthyl group and various substituted naphthyl groups; and phenyl group and various alkoxyphenyl groups are preferably used. The six arylmethyl groups in WB6 may be the same or different.

【0035】式(1)、(3)、(4)中のアシル基は
炭素数1〜10のアシル基であればどのようなものでも
用いることができる。通常、ホルミル、アセチル、プロ
ピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ヘキサ
ノイル、2−フェニルアセチルなどが用いられ、好まし
くは炭素数1〜5のアシル基、例えば、ホルミル、アセ
チル、プロピオニル、ブチリル、バレリルなどが用いら
れ、さらに好ましくは炭素数1〜3のアシル基、例え
ば、ホルミル、アセチル、プロピオニルなどが用いられ
る。
As the acyl group in formulas (1), (3) and (4), any acyl group having 1 to 10 carbon atoms can be used. Usually, formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, hexanoyl, 2-phenylacetyl and the like are used, preferably an acyl group having 1 to 5 carbon atoms, for example, formyl, acetyl, propionyl, butyryl, valeryl and the like are used. And more preferably an acyl group having 1 to 3 carbon atoms, for example, formyl, acetyl, propionyl and the like.

【0036】式(1)、(3)中のWAn (6-n) で表
わされるヘキサアザイソウルチタン誘導体は、アシル
基、アリールメチル基の置換する位置の違いにより複数
の異性体をとることができるが、本発明の製造方法に用
いられるWAn (6-n) はこれらのいずれの構造であっ
てもよい。次式(6−1)〜(6−6)および式(7−
1)〜(7−2)に立体構造を示す異性体およびこれら
の鏡像異性体構造をとり得る。
The hexaazaisowurtzitanium derivative represented by WA n B (6-n) in the formulas (1) and (3) has a plurality of isomers depending on the substitution position of the acyl group and the arylmethyl group. The WA n B (6-n) used in the production method of the present invention may have any of these structures. The following equations (6-1) to (6-6) and equation (7-
The isomers having the three-dimensional structures shown in 1) to (7-2) and their enantiomeric structures can be taken.

【0037】[0037]

【化7】 Embedded image

【0038】[0038]

【化8】 [式中、Aは前記アシル基、Bは前記アリールメチル
基、Wは前記ヘキサアザイソウルチタン残基を表わ
す。]
Embedded image [In the formula, A represents the acyl group, B represents the arylmethyl group, and W represents the hexaazaisowurtzitanium residue. ]

【0039】また、式(3)、(4)中のWAn
(6-n) で表されるヘキサアザイソウルチタン誘導体は、
アシル基、水素原子の置換する位置の違いにより複数の
異性体をとることができるが、本発明の製造方法で製造
されるWAn (6-n) はこれらいずれのものでもよい。
それらの具体的な構造は、式(6−1)〜(6−6)お
よび式(7−1)〜(7−2)で表されるヘキサアザイ
ソウルチタン誘導体のアリールメチル基を水素原子に置
き換えた構造である。
Further, WA n H in the equations (3) and (4)
The hexaazaisowurtzitane derivative represented by (6-n) is
A plurality of isomers can be obtained depending on the substitution position of the acyl group and the hydrogen atom, and WA n H (6-n) produced by the production method of the present invention may be any of these.
The specific structure is such that the arylmethyl group of the hexaazaisowurtzitane derivative represented by the formulas (6-1) to (6-6) and the formulas (7-1) to (7-2) is a hydrogen atom. The structure is replaced with

【0040】次に、反応式(1)、(3)、(4)で表
される反応について、簡単に説明する。この反応は、W
6 をアシル化剤存在下で還元的脱アリールメチルする
ことにより、1)アリールメチル基の還元的脱離による
N−H結合の生成と2)そのアシル化によるN−アシル
基の形成を逐次的に進行させる反応である。また、反応
条件によっては、生成したN−アシル基の還元によるN
−アルキル基の形成が副反応として生じる。この反応に
おいて生成が確認された物質から推定した反応経路を式
(8)に示す。
Next, the reactions represented by the reaction formulas (1), (3) and (4) will be briefly described. This reaction is
By reductive dearylmethylation of B 6 in the presence of an acylating agent, 1) formation of an N—H bond by reductive elimination of an arylmethyl group and 2) formation of an N-acyl group by its acylation sequentially This is a reaction that is allowed to proceed. In addition, depending on the reaction conditions, N-
The formation of an alkyl group occurs as a side reaction. Equation (8) shows a reaction route estimated from a substance confirmed to be formed in this reaction.

【0041】[0041]

【化9】 [式中、Bは炭素数7〜21のアリールメチル基、Hは
水素原子、Aは炭素数1〜10のアシル基、Rは炭素数
1〜10アルキル基、Wは前記式(2)に示す6価のヘ
キサアザイソウルチタン残基を表す。] したがって、式(8)中に示された物質が、本発明の反
応式(1)、(3)、(4)で表される反応生成物中に
含まれることがある。
Embedded image [Wherein, B is an arylmethyl group having 7 to 21 carbon atoms, H is a hydrogen atom, A is an acyl group having 1 to 10 carbon atoms, R is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and W is a group represented by the formula (2). Represents the hexavalent hexaazaisowurtzitane residue shown. Therefore, the substance shown in the formula (8) may be included in the reaction products represented by the reaction formulas (1), (3), and (4) of the present invention.

【0042】[0042]

【実施例】以下に実施例などを用いて本発明を更に詳細
に説明するが、本発明はこれら実施例などにより何ら限
定されるものではない。 (実施例1) WB6 →WA2 4 100mlオートクレーブにヘキサベンジルヘキサアザ
イソウルチタンを2.1g、10%Pd−C(Pdを2
価の状態で活性炭素に担持させ、低温で乾燥処理した触
媒)3.15g、無水酢酸2.45g、N,N−ジメチ
ルアセトアミド30mlを入れ、オートクレーブの蓋を
する。オートクレーブ内を窒素置換した後、水素置換
し、水素圧力が1.1kgf/cm2 になるように調節
する。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples. (Example 1) WB 6 → WA 2 B 4 In a 100 ml autoclave, 2.1 g of hexabenzylhexaazaisowurtzitanium and 10% of Pd-C (2% of Pd-C) were added.
3.15 g of a catalyst supported on activated carbon in a valence state and dried at a low temperature), 3.15 g, acetic anhydride 2.45 g, and N, N-dimethylacetamide 30 ml are put therein, and the autoclave is covered. After the inside of the autoclave is replaced with nitrogen, the inside of the autoclave is replaced with hydrogen, and the hydrogen pressure is adjusted to be 1.1 kgf / cm 2 .

【0043】700rpm以上の攪拌速度で攪拌を開始
し、反応温度が40℃になる様に昇温を開始する。40
℃で1時間反応後、反応溶液をサンプリングしガスクロ
マトグラフィーと高速液体クロマトグラフィーで分析し
た結果、アセチルペンタベンジルヘキサアザイソウルチ
タンが収率8%、ジアセチルテトラベンジルヘキサアザ
イソウルチタンが収率65%、トリアセチルトリベンジ
ルヘキサアザイソウルチタンが収率8%で生成している
ことが確認された。
The stirring is started at a stirring speed of 700 rpm or more, and the temperature is raised so that the reaction temperature becomes 40 ° C. 40
After reacting at 1 ° C. for 1 hour, the reaction solution was sampled and analyzed by gas chromatography and high performance liquid chromatography. As a result, the yield of acetylpentabenzylhexaazaisowurtzitane was 8%, and the yield of diacetyltetrabenzylhexaazaisowurtzitane was 8%. It was confirmed that 65% of triacetyltribenzylhexaazaisowurtzitanium was produced at a yield of 8%.

【0044】(実施例2) WA2 4 →WA4 2 +WA5 1 (+WA4 2
WA5 1 ) 100mlオートクレーブにジアセチルテトラベンジル
ヘキサアザイソウルチタンを1.82g、10%Pd−
C3.15g、無水酢酸0.92g、N,N−ジメチル
アセトアミド30mlを入れ、オートクレーブの蓋をす
る。オートクレーブ内を窒素置換した後、水素置換し、
水素圧力が2.0kgf/cm2 になるように調節す
る。
Example 2 WA 2 B 4 → WA 4 B 2 + WA 5 B 1 (+ WA 4 H 2 +
WA 5 H 1) 100ml autoclave diacetyl tetrabenzyl hexamethylene A wood Seoul titanium 1.82 g, 10% Pd-
3.15 g of C, 0.92 g of acetic anhydride, and 30 ml of N, N-dimethylacetamide are added, and the autoclave is covered. After nitrogen substitution in the autoclave, hydrogen substitution,
The hydrogen pressure is adjusted to 2.0 kgf / cm 2 .

【0045】700rpm以上の攪拌速度で攪拌を開始
し、反応温度が130℃になるように昇温を開始する。
130℃での水素圧力が2kgf/cm2 になるように
連続的に水素を補給して反応行う。130℃で2時間攪
拌後、反応溶液をサンプリングし、ガスクロマトグラフ
ィーで分析した結果、テトラアセチルジベンジルヘキサ
アザイソウルチタンが収率60%、ペンタアセチルベン
ジルヘキサアザイソウルチタンが収率15%で生成して
いることが確認された。なお、反応溶液を高速液体クロ
マトグラフィーで分析を実施したところ、テトラアセチ
ルヘキサアザイソウルチタンが収率12%で、ペンタア
セチルヘキサアザイソウルチタンが収率9%で生成して
いることが確認された。
Stirring is started at a stirring speed of 700 rpm or more, and heating is started so that the reaction temperature becomes 130 ° C.
The reaction is carried out by continuously supplying hydrogen so that the hydrogen pressure at 130 ° C. becomes 2 kgf / cm 2 . After stirring at 130 ° C. for 2 hours, the reaction solution was sampled and analyzed by gas chromatography. As a result, the yield of tetraacetyldibenzylhexaazaisowurtzitanium was 60%, and the yield of pentaacetylbenzylhexaazaisowurtzitanium was 15%. It was confirmed that it was generated by. When the reaction solution was analyzed by high performance liquid chromatography, it was confirmed that tetraacetylhexaazaisowurtzitane was formed at a yield of 12% and pentaacetylhexaazaisowurtzitane at a yield of 9%. Was done.

【0046】(実施例3) WA4 2 →WA4 2 100mlオートクレーブにテトラアセチルジベンジル
ヘキサアザイソウルチタンを1.53g、10%Pd−
C3.15g、N,N−ジメチルアセトアミド30m
l、水30mlを入れ、オートクレーブの蓋をする。オ
ートクレーブ内を窒素置換した後、水素置換し、水素圧
力が3.3kgf/cm2 になるように調節する。70
0rpm以上の攪拌速度で攪拌を開始し、反応温度が1
30℃になるように昇温を開始する。攪拌中は、オート
クレーブ内の圧力が3.3kgf/cm2になるように
水素を連続的に補給する。130℃で1時間攪拌後、反
応溶液をサンプリングし、高速液体クロマトグラフィー
で分析した結果、テトラアセチルヘキサアザイソウルチ
タンが収率82%で生成していることが、確認された。
Example 3 1.54 g of tetraacetyldibenzylhexaazaisowurtzitane in a 100 ml autoclave of WA 4 B 2 → WA 4 H 2 was added to 10% Pd-
3.15 g of C, 30 m of N, N-dimethylacetamide
1) Add 30 ml of water and cover the autoclave. After the inside of the autoclave is replaced with nitrogen, the inside of the autoclave is replaced with hydrogen, and the hydrogen pressure is adjusted to 3.3 kgf / cm 2 . 70
Stirring was started at a stirring speed of 0 rpm or more, and the reaction temperature was 1
Start raising the temperature to 30 ° C. During the stirring, hydrogen is continuously supplied so that the pressure in the autoclave becomes 3.3 kgf / cm 2 . After stirring at 130 ° C. for 1 hour, the reaction solution was sampled and analyzed by high performance liquid chromatography. As a result, it was confirmed that tetraacetylhexaazaisowurtzitane was produced in a yield of 82%.

【0047】(実施例4) WB6 →WA2 4 →WA4 2 +WA5 1 →WA4
2 +WA5 1 100mlオートクレーブにヘキサベンジルヘキサアザ
イソウルチタンを2.1g、10%Pd−C3.15
g、無水酢酸1.84g、N,N−ジメチルアセトアミ
ド30mlを入れ、オートクレーブ内を窒素置換した
後、水素置換し、水素圧力が1.1kgf/cm2 にな
るように調節する。700rpm以上の攪拌速度で攪拌
を開始し、反応温度が40℃になるように昇温を開始す
る。40℃で1時間攪拌後(この時点で、ジアセチルテ
トラベンジルヘキサアザイソウルチタンが主生成物とし
て生成している。)、反応溶液を取り出し、触媒を濾別
し、濾液に10%Pd−C3.15gを加え、そのスラ
リー液を100mlオートクレーブに入れる。オートク
レーブに蓋をした後、オートクレーブ内を窒素置換した
後、水素置換し、オートクレーブ内が2.0kgf/c
2 になるように調節する。
(Embodiment 4) WB 6 → WA 2 B 4 → WA 4 B 2 + WA 5 B 1 → WA 4
H 2 + WA 5 H 1 100ml autoclave the hexamethylene benzyl hexa A wood Seoul titanium 2.1g, 10% Pd-C3.15
g, 1.84 g of acetic anhydride and 30 ml of N, N-dimethylacetamide, and the inside of the autoclave was replaced with nitrogen and then replaced with hydrogen to adjust the hydrogen pressure to 1.1 kgf / cm 2 . Stirring is started at a stirring speed of 700 rpm or more, and heating is started so that the reaction temperature becomes 40 ° C. After stirring at 40 ° C. for 1 hour (at this point, diacetyltetrabenzylhexaazaisowurtzitane is produced as a main product), the reaction solution is taken out, the catalyst is filtered off, and 10% Pd—C 3 is added to the filtrate. .15 g is added and the slurry is placed in a 100 ml autoclave. After the autoclave was covered, the inside of the autoclave was replaced with nitrogen and then with hydrogen, and the inside of the autoclave became 2.0 kgf / c.
Adjust to 2 m2.

【0048】700rpm以上の攪拌速度で攪拌を開始
し、反応温度が130℃になるように昇温を開始する。
反応中、130度で水素圧力か2.0kgf/cm2
維持するよう水素を連続的に補給する。130℃で1時
間攪拌後(この時点でテトラアセチルジベンジルヘキサ
アザイソウルチタンが主生成物として生成してい
る。)、反応溶液を取り出し、触媒を濾別し、濾液に1
0%Pd−C3.15g、水30mlを追加し、それを
オートクレーブに入れ、蓋をする。オートクレーブ内を
窒素置換した後、水素置換し、水素圧力が2.0kgf
/cm2 になるように調節する。
The stirring is started at a stirring speed of 700 rpm or more, and the temperature is raised so that the reaction temperature becomes 130 ° C.
During the reaction, hydrogen is continuously supplied at 130 ° C. so as to maintain the hydrogen pressure or 2.0 kgf / cm 2 . After stirring at 130 ° C. for 1 hour (at this point, tetraacetyldibenzylhexaazaisowurtzitane is formed as a main product), the reaction solution is taken out, the catalyst is filtered off, and 1% is added to the filtrate.
Add 3.15 g of 0% Pd-C, 30 ml of water, put it in an autoclave and cover it. After the inside of the autoclave was replaced with nitrogen, the inside of the autoclave was replaced with hydrogen.
/ Cm 2 .

【0049】700rpm以上の攪拌速度で攪拌を開始
し、反応温度が130℃になるように昇温を開始する。
反応中、オートクレーブ内の圧力が3.3kgf/cm
2 で維持されるように水素を連続的に補給する。130
℃で1時間攪拌後、反応溶液をサンプリングし、高速液
体クロマトグラフィーで分析した結果、テトラアセチル
ヘキサアザイソウルチタンが収率60%、ペンタアセチ
ルヘキサアザイソウルチタンが収率15%で生成してい
ることが確認された。
The stirring is started at a stirring speed of 700 rpm or more, and the temperature is raised so that the reaction temperature becomes 130 ° C.
During the reaction, the pressure in the autoclave is 3.3 kgf / cm
Continuously replenish hydrogen as maintained at 2 . 130
After stirring at 1 ° C. for 1 hour, the reaction solution was sampled and analyzed by high performance liquid chromatography. As a result, tetraacetylhexaazaisowurtzitane was formed at a yield of 60% and pentaacetylhexaazaisowurtzitane at a yield of 15%. It was confirmed that.

【0050】(実施例5) WB6 →WA2 4 →WA4 2 +WA5 1 100mlオートクレーブにヘキサベンジルヘキサアザ
イソウルチタンを2.1g、10%Pd−C3.15
g、無水酢酸1.84g、N,N−ジメチルアセトアミ
ド30mlを入れ、オートクレーブ内を窒素置換した
後、水素置換し、水素圧力が1.1kgf/cm2 にな
るように調節する。700rpm以上の攪拌速度で攪拌
を開始し、反応温度が40℃になるように昇温を開始す
る。40℃で1時間攪拌後(この時点で、ジアセチルテ
トラベンジルヘキサアザイソウルチタンが主生成物とし
て生成している。)、反応溶液を取り出し、触媒を濾別
し、濾液に10%Pd−C(Pdを2価の状態で活性炭
素に担持させ、低温で乾燥処理した触媒)3.15gを
加え、そのスラリー液を100mlオートクレーブに入
れる。オートクレーブに蓋をした後、オートクレーブ内
を窒素置換した後、水素置換し、オートクレーブ内が
1.1kgf/cm2 になるように調節する。
Example 5 WB 6 → WA 2 B 4 → WA 4 H 2 + WA 5 H 1 2.1 g of hexabenzylhexaazaisowurtzitane in a 100 ml autoclave, 10% Pd-C 3.15
g, 1.84 g of acetic anhydride and 30 ml of N, N-dimethylacetamide, and the inside of the autoclave was replaced with nitrogen and then replaced with hydrogen to adjust the hydrogen pressure to 1.1 kgf / cm 2 . Stirring is started at a stirring speed of 700 rpm or more, and heating is started so that the reaction temperature becomes 40 ° C. After stirring at 40 ° C. for 1 hour (at this point, diacetyltetrabenzylhexaazaisowurtzitane is produced as a main product), the reaction solution is taken out, the catalyst is filtered off, and 10% Pd-C is added to the filtrate. 3.15 g of (a catalyst in which Pd is supported on activated carbon in a divalent state and dried at a low temperature) is added, and the slurry is placed in a 100 ml autoclave. After closing the autoclave, the inside of the autoclave is replaced with nitrogen and then replaced with hydrogen, and the inside of the autoclave is adjusted to 1.1 kgf / cm 2 .

【0051】700rpm以上の攪拌速度で攪拌を開始
し、反応温度が60℃になるように昇温を開始する。反
応中、60℃で水素圧力か1.1kgf/cm2 を維持
するよう水素を連続的に補給する。60℃で3時間攪拌
後、反応溶液をサンプリングし、高速液体クロマトグラ
フィーで分析した結果、テトラアセチルヘキサアザイソ
ウルチタンが収率63%、ペンタアセチルヘキサアザイ
ソウルチタンが収率18%で生成していることが確認さ
れた。
The stirring is started at a stirring speed of 700 rpm or more, and the temperature is raised so that the reaction temperature becomes 60 ° C. During the reaction, hydrogen is continuously supplied at 60 ° C. so as to maintain the hydrogen pressure or 1.1 kgf / cm 2 . After stirring at 60 ° C. for 3 hours, the reaction solution was sampled and analyzed by high performance liquid chromatography. As a result, it was found that tetraacetylhexaazaisowurtzitane was formed at a yield of 63% and pentaacetylhexaazaisowurtzitane at a yield of 18%. It was confirmed that.

【0052】(実施例6) WB6 の反応溶液中での熱安定性 100mlナスフラスコにヘキサベンジルヘキサアザイ
ソウルチタンを2.1g、無水酢酸4.1ml、N,N
−ジメチルアセトアミド30mlを入れ、40、60、
80、110、130℃の各温度に1時間曝した時にヘ
キサベンジルヘキサアザイソウルチタン(以後6Bと略
す。)の残存量を高速液体クロマトグラフィーで分析し
た。その結果各温度での6B残存量は、40℃で100
%、60℃で98%、80℃92%、110℃で0%、
130℃で0%であった。この結果より、6Bは反応無
水酢酸存在下、DMAc中では、40℃を越える温度雰
囲気では、分解することが判る。すなわち、本反応にお
いて、6Bを出発原料とする反応は、40℃以下で実施
することが好ましいことが判る。
Example 6 Thermal Stability of WB 6 in Reaction Solution 2.1 g of hexabenzylhexaazaisowurtzitane, 4.1 ml of acetic anhydride, N, N
-30 ml of dimethylacetamide, 40, 60,
The remaining amount of hexabenzylhexaazaisowurtzitane (hereinafter abbreviated as 6B) was analyzed by high performance liquid chromatography when exposed to each temperature of 80, 110 and 130 ° C. for 1 hour. As a result, the residual amount of 6B at each temperature was 100
%, 98% at 60 ° C, 92% at 80 ° C, 0% at 110 ° C,
It was 0% at 130 ° C. These results indicate that 6B decomposes in DMAc in the presence of reactive acetic anhydride in a temperature atmosphere exceeding 40 ° C. That is, it is understood that in this reaction, the reaction using 6B as a starting material is preferably performed at 40 ° C. or lower.

【0053】(実施例7) WA2 4 の反応溶液中での熱安定性 ヘキサベンジルヘキサアザイソウルチタンをジアセチル
ヘキサアザイソウルチタンに変えた以外は、実施例6同
等の方法で、ジアセチルテトラベンジルヘキサアザイソ
ウルチタンの熱安定性を調べた結果、40〜130℃の
範囲ではジアセチルテトラベンジルヘキサアザイソウル
チタンの分解は確認できなかった。すなわち、ジアセチ
ルテトラベンジルヘキサアザイソウルチタンは、130
℃以下の温度では安定に存在することが判った。
Example 7 Thermal Stability of WA 2 B 4 in a Reaction Solution The procedure of Example 6 was repeated except that hexabenzylhexaazaisowurtzitane was changed to diacetylhexaazaisowurtzitane. As a result of examining the thermal stability of tetrabenzylhexaazaisowurtzitanium, decomposition of diacetyltetrabenzylhexaazaisowurtzitanium could not be confirmed in the range of 40 to 130 ° C. That is, diacetyltetrabenzylhexaazaisowurtzitane is 130
It was found that the compound was stably present at a temperature of not more than ° C.

【0054】(実施例8) WA4 2 の反応溶液中での熱安定性 ヘキサベンジルヘキサアザイソウルチタンをテトラアセ
チルジベンジルヘキサアザイソウルチタンに変えた以外
は、実施例6と同様の方法で、テトラアセチルジベンジ
ルヘキサアザイソウルチタンの熱安定性を調べた結果、
40〜130℃の範囲ではテトラアセチルジベンジルヘ
キサアザイソウルチタンの分解は確認されなかった。す
なわち、テトラアセチルジベンジルヘキサアザイソウル
チタンは、130℃までは熱的に安定であることが判っ
た。
Example 8 Thermal stability of WA 4 B 2 in a reaction solution Same as Example 6, except that hexabenzylhexaazaisowurtzitane was changed to tetraacetyldibenzylhexaazaisowurtzitane. As a result of examining the thermal stability of tetraacetyldibenzylhexaazaisowurtzitanium by the method,
No decomposition of tetraacetyldibenzylhexaazaisowurtzitanium was confirmed in the range of 40 to 130 ° C. That is, it was found that tetraacetyldibenzylhexaazaisowurtzitanium was thermally stable up to 130 ° C.

【0055】[0055]

【発明の効果】本発明のアミド基を有する化合物を溶媒
として利用した一連の製造方法により、アシル基を含有
するヘキサアザイソウルチタン誘導体が高収率で工業的
に有利に製造できる。
Industrial Applicability According to the series of production methods of the present invention using a compound having an amide group as a solvent, an acyl group-containing hexaazaisowurtzitanium derivative can be industrially advantageously produced in high yield.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三宅 信寿 岡山県倉敷市潮通3丁目13番1 旭化成工 業株式会社内 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Nobuto Miyake 3-13-1 Utsudori, Kurashiki-shi, Okayama Prefecture Asahi Kasei Corporation

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記反応式(1)で表されるように、W
6 をアシル化剤存在下で還元的脱アリールメチルしW
2 4 を合成し[ステップ1]、それをさらにアシル
化剤存在下で還元的アリールメチルしWAn (6-n)
合成する[ステップ2]ことを特徴とするアシル基を有
するヘキサアザイソウルタンの製造方法。 [式中、nは4〜6の整数、Bは炭素数7〜21のアリ
ールメチル基、Aは炭素数1〜10のアシル基、Hは水
素原子、Wは次式(2)で表される6価のヘキサアザイ
ソウルチタン残基を表す。] 【化1】
Claims: 1. As represented by the following reaction formula (1),
Reductive dearylmethylation of B 6 in the presence of an acylating agent
To synthesize A 2 B 4 [Step 1], which was further synthesizing reductive arylmethyl and WA n B (6-n) in the presence of an acylating agent having the Step 2] acyl group, wherein the A method for producing hexaazaisoultan. [In the formula, n is an integer of 4 to 6, B is an arylmethyl group having 7 to 21 carbon atoms, A is an acyl group having 1 to 10 carbon atoms, H is a hydrogen atom, and W is represented by the following formula (2). And represents a hexavalent aza soulitol titanium residue. ]
【請求項2】 下記反応式(3)で表されるように、W
6 をアシル化剤存在下で還元的脱アリールメチルしW
2 4 を合成し[ステップ1]、それをさらにアシル
化剤存在下で還元的アリールメチルしWAn (6-n)
合成し[ステップ2]、それをさらに還元的脱アリール
メチルしWAn (6-n) を合成する[ステップ3]こと
を特徴とするアシル基を有するヘキサアザイソウルタン
の製造方法。 [式中、nは4〜6の整数、Bは炭素数7〜21のアリ
ールメチル基、Aは炭素数1〜10のアシル基、Hは水
素原子、Wは次式(2)で表される6価のヘキサアザイ
ソウルチタン残基を表す。] 【化2】
2. As represented by the following reaction formula (3), W
Reductive dearylmethylation of B 6 in the presence of an acylating agent
A 2 B 4 was synthesized [Step 1], which was further subjected to reductive arylmethylation in the presence of an acylating agent to synthesize WA n B (6-n) [Step 2], which was further subjected to reductive dearylmethylation. And synthesizing WA n H (6-n) [Step 3]. A method for producing hexaazaisowurtane having an acyl group. [In the formula, n is an integer of 4 to 6, B is an arylmethyl group having 7 to 21 carbon atoms, A is an acyl group having 1 to 10 carbon atoms, H is a hydrogen atom, and W is represented by the following formula (2). And represents a hexavalent aza soulitol titanium residue. ]
【請求項3】 下記反応式(4)で表されるように、W
6 をアシル化剤存在下で還元的脱アリールメチルしW
2 4 を合成し[ステップ1]、それをさらにアシル
化剤存在下で還元的アリールメチルしWAn (6-n)
合成する[ステップ2’]ことを特徴とするアシル基を
有するヘキサアザイソウルタンの製造方法。 [式中、nは4〜6の整数、Bは炭素数7〜21のアリ
ールメチル基、Aは炭素数1〜10のアシル基、Hは水
素原子、Wは次式(2)で表される6価のヘキサアザイ
ソウルチタン残基を表す。] 【化3】
3. As represented by the following reaction formula (4), W
Reductive dearylmethylation of B 6 in the presence of an acylating agent
A 2 B 4 is synthesized [Step 1], and further subjected to reductive arylmethyl in the presence of an acylating agent to synthesize WA n H (6-n) [Step 2 ′]. A method for producing hexaazaisoultan having the same. [In the formula, n is an integer of 4 to 6, B is an arylmethyl group having 7 to 21 carbon atoms, A is an acyl group having 1 to 10 carbon atoms, H is a hydrogen atom, and W is represented by the following formula (2). And represents a hexavalent aza soulitol titanium residue. ]
【請求項4】 WA2 4 を合成する反応[ステップ
1]を10〜60℃で行うことを特徴とする請求項1〜
3のいずれかに記載のアシル基を有するヘキサアザイソ
ウルタンの製造方法。
4. The reaction for synthesizing WA 2 B 4 [Step 1] is carried out at 10 to 60 ° C.
3. The method for producing hexaazaisowurtane having an acyl group according to any one of 3.
【請求項5】 WA2 4 を合成する反応[ステップ
1]に用いる溶媒およびWAn (6-n) を合成する反応
[ステップ2] に用いる溶媒が、アミド基を有する化合
物であることを特徴とする請求項1記載のアシル基を有
するヘキサアザイソウルタンの製造方法。
5. The solvent used for the reaction [Step 1] for synthesizing WA 2 B 4 and the solvent used for the reaction [Step 2] for synthesizing WA n B (6-n) are compounds having an amide group. The method for producing hexaazaisowurtane having an acyl group according to claim 1, wherein
【請求項6】 WA2 4 を合成する反応[ステップ
1]に用いる溶媒およびWAn (6-n) を合成する反応
[ステップ2] に用いる溶媒が、アミド基を有する化合
物であり、WAn (6-n) を合成する反応[ステップ
3]に用いる溶媒が、アミド基を有する化合物と水の混
合物であることを特徴とする請求項2記載のアシル基を
有するヘキサアザイソウルタンの製造方法。
6. The solvent used for the reaction [Step 1] for synthesizing WA 2 B 4 and the solvent used for the reaction [Step 2] for synthesizing WA n B (6-n) are compounds having an amide group, 3. The acyl aza-isomer having an acyl group according to claim 2, wherein the solvent used in the reaction for synthesizing WA n H (6-n) [Step 3] is a mixture of a compound having an amide group and water. Production method of tongue.
【請求項7】 WA2 4 を合成する反応[ステップ
1]に用いる溶媒がアミド基を有する化合物であり、W
n (6-n) を合成する反応[ステップ2’]に用いる
溶媒が、アミド基を有する化合物を一成分として含む溶
媒であることを特徴とする請求項3記載のアシル基を有
するヘキサアザイソウルタンの製造方法。
7. The solvent used in the reaction [Step 1] for synthesizing WA 2 B 4 is a compound having an amide group,
Hex with A n H solvent used in (6-n) a synthesizing reaction [step 2 '] is an acyl group of claim 3, wherein the compound is a solvent containing as one component having an amide group Asai soul tan manufacturing method.
JP11421497A 1997-04-17 1997-04-17 Method for producing hexaazaisowurtzitane having acyl group Expired - Fee Related JP2926482B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11421497A JP2926482B2 (en) 1997-04-17 1997-04-17 Method for producing hexaazaisowurtzitane having acyl group

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11421497A JP2926482B2 (en) 1997-04-17 1997-04-17 Method for producing hexaazaisowurtzitane having acyl group

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10291989A true JPH10291989A (en) 1998-11-04
JP2926482B2 JP2926482B2 (en) 1999-07-28

Family

ID=14632082

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11421497A Expired - Fee Related JP2926482B2 (en) 1997-04-17 1997-04-17 Method for producing hexaazaisowurtzitane having acyl group

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2926482B2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010011940A (en) * 1999-07-31 2001-02-15 최동환 Polyacylhexaazaisowurtzitanes, preparation methods therof and use of preparing hexanitrohexaazaisowurtzitane
KR100399200B1 (en) * 2001-07-05 2003-09-26 국방과학연구소 Purification of high purity hniw by recrystallization
JP2006519218A (en) * 2003-02-28 2006-08-24 イギリス国 Monoamine and diamine derivatives of CL-20

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010011940A (en) * 1999-07-31 2001-02-15 최동환 Polyacylhexaazaisowurtzitanes, preparation methods therof and use of preparing hexanitrohexaazaisowurtzitane
KR100399200B1 (en) * 2001-07-05 2003-09-26 국방과학연구소 Purification of high purity hniw by recrystallization
JP2006519218A (en) * 2003-02-28 2006-08-24 イギリス国 Monoamine and diamine derivatives of CL-20

Also Published As

Publication number Publication date
JP2926482B2 (en) 1999-07-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2388760C2 (en) METHOD FOR SYNTHESIS OF 2-METHYL-1-(2-METHYLPROPYL)-1H-IMIDAZO[4,5-c][1,5]NAPHTHYRIDINE-4-AMINE
CA2493227A1 (en) Preparation of 1h-imidazo[4,5-c]quinolin-4-amines via1h-imidazo [4,5-c]quinolin-4-phthalimide intermediates
US6472525B1 (en) Hexaazaisowurtzitane derivative and method for producing the same
KR20170098870A (en) Processes for the preparation of a diarylthiohydantoin compound
WO2004083212A1 (en) Process to beta-ketoamide intermediates to dipeptidyl peptidase inhibitors
JP2926482B2 (en) Method for producing hexaazaisowurtzitane having acyl group
EP1727797B1 (en) Process for cross coupling indoles
JP3199753B2 (en) Method for producing hexaazaisowurtzitane derivative having acyl group
JP5453003B2 (en) Catalyst for stereoselective asymmetric nitroaldol reaction
US5446166A (en) Preparation of pyrrol and oxazole compounds: formation of porphyrins and C-acyl-α-amino acid esters therefrom
JP2976018B2 (en) Method for producing hexaazaisowurtzitane having acyl group
JPH08208655A (en) Production of hexaazaisowurtzitane derivative
JP3135011B2 (en) Method for producing bisimide compound
JP4498923B2 (en) Method for preparing imidazo (1,2-A) pyridine-3-acetamides
GB1571742A (en) Process for the preparation of isoindolinone derivatives
JP2894525B2 (en) Crystalline tetrakis (triphenylphosphine) palladium and method for producing the same
CN113264931B (en) A kind of preparation method of 1,4,6,7-tetrahydro-5H-pyrazolo[4,3-c]pyridine derivative
EP0054892B1 (en) Synthesis of indolines
Kas’ yan et al. Reactions of 4-amino-4-azatricyclo [5.2. 1.02, 6-endo] dec-8-ene-3, 5-dione with dicarboxylic acid anhydrides
JPH01143878A (en) Production of silicon azide
JP4664903B2 (en) Process for producing 4,10β-diacetoxy-2α-benzoyloxy-5β, 20-epoxy-1,13α-dihydroxy-9-oxo-19-norcyclopropa [g] taxa-11-ene
KR20010011940A (en) Polyacylhexaazaisowurtzitanes, preparation methods therof and use of preparing hexanitrohexaazaisowurtzitane
JP2844125B2 (en) Hexaazaisoulitanium derivative and method for producing the same
JPH05286932A (en) Production of indoles
JPH08119894A (en) Production of hexahydroxytriphenylene

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19990413

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080514

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090514

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090514

Year of fee payment: 10

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090514

Year of fee payment: 10

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090514

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100514

Year of fee payment: 11

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees