JPH10291269A - 低反射シート - Google Patents
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- JPH10291269A JPH10291269A JP9116478A JP11647897A JPH10291269A JP H10291269 A JPH10291269 A JP H10291269A JP 9116478 A JP9116478 A JP 9116478A JP 11647897 A JP11647897 A JP 11647897A JP H10291269 A JPH10291269 A JP H10291269A
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Landscapes
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】反射防止効果、耐スクラッチ性、筆記内容の消
去性に優れた、低反射ホワイトボード用シート等に使用
される低反射シートを提供する。 【手段】全光線透過率が低い非透過性基材に、少なくと
も二層の屈折率の互いに異なるハードコート層を設け
る。
去性に優れた、低反射ホワイトボード用シート等に使用
される低反射シートを提供する。 【手段】全光線透過率が低い非透過性基材に、少なくと
も二層の屈折率の互いに異なるハードコート層を設け
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、低反射シートに関
するものである。さらに詳しくは、ホワイトボードなど
に使用されるシートに関する。
するものである。さらに詳しくは、ホワイトボードなど
に使用されるシートに関する。
【0002】
【従来の技術】白色板よりなるホワイトボードは、合成
樹脂の表面を有し、水性のフェルトペン等により文字等
を書き、これを布等で拭くことにより、簡単に消し去る
ことができるので、黒板に変わり用いられている。近
年、ホワイトボード上に筆記された内容を光学的に読み
とって、感熱記録方式や電子写真方式等により複写をと
ることが可能な複写用ホワイトボードが使用されるよう
になった。このような複写用ホワイトボードにおいては
筆記面は従来の板状のものにかえてシート状とし、シー
トをホワイトボード背面に移送させつつ光を当てて筆記
内容を読みとる必要があるので、移送時には可撓性が要
求される。さらに筆記や移送時には剛性を有していて、
かつ筆記性と、筆記内容の消去性、耐摩耗性が要求され
る。そのため、単層又は多層の可撓性シート上に、電離
放射線塗料からなるハードコート性樹脂層を形成し、こ
れを表面とするものが一般的である。
樹脂の表面を有し、水性のフェルトペン等により文字等
を書き、これを布等で拭くことにより、簡単に消し去る
ことができるので、黒板に変わり用いられている。近
年、ホワイトボード上に筆記された内容を光学的に読み
とって、感熱記録方式や電子写真方式等により複写をと
ることが可能な複写用ホワイトボードが使用されるよう
になった。このような複写用ホワイトボードにおいては
筆記面は従来の板状のものにかえてシート状とし、シー
トをホワイトボード背面に移送させつつ光を当てて筆記
内容を読みとる必要があるので、移送時には可撓性が要
求される。さらに筆記や移送時には剛性を有していて、
かつ筆記性と、筆記内容の消去性、耐摩耗性が要求され
る。そのため、単層又は多層の可撓性シート上に、電離
放射線塗料からなるハードコート性樹脂層を形成し、こ
れを表面とするものが一般的である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記した従来
のホワイトボードは黒板に比べ、表面の光沢により、外
光や蛍光灯を反射し、ホワイトボード表面の文字などが
非常に見難くなるという問題点のため、黒板の完全な代
替とはなりえていない。このため、表面の反射防止のた
めに、(1)シリカなどの微粒子を添加した塗料をコー
ティングし表面を粗面化する方法、(2)表面を熱プレ
スなどで粗面化する方法、(3)マットフィルム上に塗
料をコーティングする方法、(4)塗料をコーティング
し未硬化の状態でマットフィルムを張り合わせ、それを
剥がし表面を粗面化する方法等が知られている。しか
し、表面を粗面化して、反射を防止しようとする場合、
新しいうちは、書いた文字をきれいに拭き取ることがで
きるが、使用するにつれて表面の凹凸の間に入ったイン
クが拭き取れずに、拭いた後でもインクの跡が残るよう
になるという問題点がある。従って本発明は、反射防止
効果、耐スクラッチ性、筆記内容の消去性に優れた低反
射ホワイトボード等に使用される低反射シートを提供す
ることを目的とするものである。または、これに類した
用途に使用される非透過性(半透過性)の有色シートで
あって低反射性に優れ、耐スクラッチ性や表面硬度、表
面平滑性にも優れたシートを提供することを目的とする
ものである。
のホワイトボードは黒板に比べ、表面の光沢により、外
光や蛍光灯を反射し、ホワイトボード表面の文字などが
非常に見難くなるという問題点のため、黒板の完全な代
替とはなりえていない。このため、表面の反射防止のた
めに、(1)シリカなどの微粒子を添加した塗料をコー
ティングし表面を粗面化する方法、(2)表面を熱プレ
スなどで粗面化する方法、(3)マットフィルム上に塗
料をコーティングする方法、(4)塗料をコーティング
し未硬化の状態でマットフィルムを張り合わせ、それを
剥がし表面を粗面化する方法等が知られている。しか
し、表面を粗面化して、反射を防止しようとする場合、
新しいうちは、書いた文字をきれいに拭き取ることがで
きるが、使用するにつれて表面の凹凸の間に入ったイン
クが拭き取れずに、拭いた後でもインクの跡が残るよう
になるという問題点がある。従って本発明は、反射防止
効果、耐スクラッチ性、筆記内容の消去性に優れた低反
射ホワイトボード等に使用される低反射シートを提供す
ることを目的とするものである。または、これに類した
用途に使用される非透過性(半透過性)の有色シートで
あって低反射性に優れ、耐スクラッチ性や表面硬度、表
面平滑性にも優れたシートを提供することを目的とする
ものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】従来技術の問題を解決せ
んとする本発明は、全光線透過率が80%以下の基材上
に、少なくとも2層以上の樹脂層を形成したシートであ
って、該樹脂層のうち、少なくとも隣接する2層の樹脂
層の屈折率が少なくとも0.010以上異なり、かつ該
樹脂層のうち、少なくとも1層は熱硬化性樹脂、あるい
は電離放射線硬化性樹脂から形成されたハードコート性
樹脂層であることを特徴とする低反射シートであり、基
材が、有機高分子フィルムである前記の低反射シートで
ある。本発明はかかる構成にすることで、表面を粗面化
することなく、反射防止性、筆記内容の消去性、耐スク
ラッチ性に優れた非透過性の低反射シート、なかでも低
反射性ホワイトボード用のシートが得られる。
んとする本発明は、全光線透過率が80%以下の基材上
に、少なくとも2層以上の樹脂層を形成したシートであ
って、該樹脂層のうち、少なくとも隣接する2層の樹脂
層の屈折率が少なくとも0.010以上異なり、かつ該
樹脂層のうち、少なくとも1層は熱硬化性樹脂、あるい
は電離放射線硬化性樹脂から形成されたハードコート性
樹脂層であることを特徴とする低反射シートであり、基
材が、有機高分子フィルムである前記の低反射シートで
ある。本発明はかかる構成にすることで、表面を粗面化
することなく、反射防止性、筆記内容の消去性、耐スク
ラッチ性に優れた非透過性の低反射シート、なかでも低
反射性ホワイトボード用のシートが得られる。
【0005】
【発明の実施態様】本発明に用いる基材としては、特に
は制限はないが、加工適性や用途的に考えれば、例えば
三酢酸セルロース、アセテート等のセルロース系樹脂
や、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタ
レート等のポリエステル系樹脂や、ポリメチルメタクレ
ート等のアクリル系樹脂や、ポリカーボネート樹脂等を
用いた、全光線透過率が80%以下の有機高分子フィル
ムやシートを使用することが好ましい。
は制限はないが、加工適性や用途的に考えれば、例えば
三酢酸セルロース、アセテート等のセルロース系樹脂
や、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタ
レート等のポリエステル系樹脂や、ポリメチルメタクレ
ート等のアクリル系樹脂や、ポリカーボネート樹脂等を
用いた、全光線透過率が80%以下の有機高分子フィル
ムやシートを使用することが好ましい。
【0006】これらの本発明に使用される基材は、例え
ば白色の場合には、所謂白色フイルムと称されているシ
ート状物であって全光線透過率が80%以下のものであ
ればよく、白色顔料を添加したり、微小気泡や微小異質
ポリマーを添加分散せしめた前記の有機高分子をフイル
ムやシートに成形したものが挙げられる。本発明におい
ては、前記したような白色に限定されるものではなく、
緑色系や黒色等用途に応じて適宜選定しうるものであ
る。本発明の基材の全光線透過率は80%以下であるこ
とが好ましく、より好ましくは50%以下であり、さら
に好ましくは20%以下である。基材の全光線透過率が
80%を越えるものでは、背光の影響が強く出てホワイ
トボードなどに使用したときには表面の文字などが見難
い等の難点が生じる。以下、白色のシートについて、即
ちホワイトボード等に使用される低反射シートについて
主に開示する。基材上に形成される樹脂層を、基材側か
ら順に樹脂層(A)樹脂層(B)樹脂層(C)樹脂層
(D)とすると、樹脂層(B)は樹脂層(A)より屈折
率が低く、樹脂層(C)は樹脂層(B)より屈折率が高
く、樹脂層(D)は樹脂層(C)より屈折率が低くする
と、効率的に反射をおさえることが出来る。これらの屈
折率の高い、低いの表現で、屈折率が0.01以上の差
がある場合において本発明の効果が顕著となる。
ば白色の場合には、所謂白色フイルムと称されているシ
ート状物であって全光線透過率が80%以下のものであ
ればよく、白色顔料を添加したり、微小気泡や微小異質
ポリマーを添加分散せしめた前記の有機高分子をフイル
ムやシートに成形したものが挙げられる。本発明におい
ては、前記したような白色に限定されるものではなく、
緑色系や黒色等用途に応じて適宜選定しうるものであ
る。本発明の基材の全光線透過率は80%以下であるこ
とが好ましく、より好ましくは50%以下であり、さら
に好ましくは20%以下である。基材の全光線透過率が
80%を越えるものでは、背光の影響が強く出てホワイ
トボードなどに使用したときには表面の文字などが見難
い等の難点が生じる。以下、白色のシートについて、即
ちホワイトボード等に使用される低反射シートについて
主に開示する。基材上に形成される樹脂層を、基材側か
ら順に樹脂層(A)樹脂層(B)樹脂層(C)樹脂層
(D)とすると、樹脂層(B)は樹脂層(A)より屈折
率が低く、樹脂層(C)は樹脂層(B)より屈折率が高
く、樹脂層(D)は樹脂層(C)より屈折率が低くする
と、効率的に反射をおさえることが出来る。これらの屈
折率の高い、低いの表現で、屈折率が0.01以上の差
がある場合において本発明の効果が顕著となる。
【0007】基材(フィルム)上に形成される樹脂層
は、用途的に考えれば、ガラス基板上で硬化した場合
に、鉛筆硬度がH以上のハードコート樹脂層であること
が望ましい。このようなハードコート樹脂層を形成する
ハードコート樹脂としては、主として熱硬化型樹脂、若
しくは電離放射線型樹脂が考えられる。中でも作業環境
性、生産性の点で電離放射線型樹脂の使用が好ましい。
電離放射線硬化型樹脂は、少なくとも電子線若しくは電
子線あるいは紫外線照射により硬化される樹脂を含有す
る塗料から形成される。具体的には、光重合性プレポリ
マー、光重合性モノマー、光重合開始剤を含有し、さら
に必要に応じて増感剤、非反応性樹脂、レベリング剤等
の添加剤、溶剤を含有するものである。光重合性プレポ
リマーは、その構造、分子量が、電離放射線型硬化型塗
料の硬化に関係し、硬度、屈折率、耐クラック性等の特
性を定めるものである。光重合性ポリマーは骨格中に導
入されたアクリロイル基が電離放射線照射されることに
より、ラジカル重合するタイプが一般的である。ラジカ
ル重合により硬化するものは硬化速度が速く、樹脂設計
の自由度も大きいため、特に好ましい。
は、用途的に考えれば、ガラス基板上で硬化した場合
に、鉛筆硬度がH以上のハードコート樹脂層であること
が望ましい。このようなハードコート樹脂層を形成する
ハードコート樹脂としては、主として熱硬化型樹脂、若
しくは電離放射線型樹脂が考えられる。中でも作業環境
性、生産性の点で電離放射線型樹脂の使用が好ましい。
電離放射線硬化型樹脂は、少なくとも電子線若しくは電
子線あるいは紫外線照射により硬化される樹脂を含有す
る塗料から形成される。具体的には、光重合性プレポリ
マー、光重合性モノマー、光重合開始剤を含有し、さら
に必要に応じて増感剤、非反応性樹脂、レベリング剤等
の添加剤、溶剤を含有するものである。光重合性プレポ
リマーは、その構造、分子量が、電離放射線型硬化型塗
料の硬化に関係し、硬度、屈折率、耐クラック性等の特
性を定めるものである。光重合性ポリマーは骨格中に導
入されたアクリロイル基が電離放射線照射されることに
より、ラジカル重合するタイプが一般的である。ラジカ
ル重合により硬化するものは硬化速度が速く、樹脂設計
の自由度も大きいため、特に好ましい。
【0008】光重合性プレポリマーとしては、アクリロ
イル基を有するアクリル系プレポリマーが、特に好まし
く、1分子中に2個以上のアクリロイル基を有し、3次
元網目構造となるものである。アクリル系プレポリマー
としては、ウレタンアクリレート、メラミンアクリレー
ト、ポリエステルアクリレート等が使用できる。光重合
性モノマーは、高粘度の光重合性プレポリマーを希釈
し、粘度を低下させ、作業性を向上させるため、また、
架橋剤として塗膜強度を付与するために使用される。ま
た、光重合性モノマーの混合量が多くなると塗膜は必要
以上に硬くなるため、所望の硬度、あるいは所望の可撓
性が得られるよう、混合割合は選択するとよい。例え
ば、本発明の反射防止フィルムを曲げる用途に使用する
場合は、可撓性に優れた、熱硬化性、熱可塑性アクリル
樹脂、エポキシ樹脂等の非反応性樹脂を混合することに
より、硬度を調節することが出来る。
イル基を有するアクリル系プレポリマーが、特に好まし
く、1分子中に2個以上のアクリロイル基を有し、3次
元網目構造となるものである。アクリル系プレポリマー
としては、ウレタンアクリレート、メラミンアクリレー
ト、ポリエステルアクリレート等が使用できる。光重合
性モノマーは、高粘度の光重合性プレポリマーを希釈
し、粘度を低下させ、作業性を向上させるため、また、
架橋剤として塗膜強度を付与するために使用される。ま
た、光重合性モノマーの混合量が多くなると塗膜は必要
以上に硬くなるため、所望の硬度、あるいは所望の可撓
性が得られるよう、混合割合は選択するとよい。例え
ば、本発明の反射防止フィルムを曲げる用途に使用する
場合は、可撓性に優れた、熱硬化性、熱可塑性アクリル
樹脂、エポキシ樹脂等の非反応性樹脂を混合することに
より、硬度を調節することが出来る。
【0009】このようなハードコート樹脂から形成され
るハードコート層の屈折率を調整するにはいくつかの方
法が考えられる。高屈折率に調製する場合には、(1)
一般的な光重合性ポリマー、光重合性モノマーの中か
ら、分子中に環状構造を持つなど、構造的に比較的屈折
率の高いものを使用する(2)硫黄化合物等の高屈折化
合物を共重合、付加重合等により光重合性プレポリマー
や、光重合性モノマーに導入、またはアクリル化したも
のを使用する(3)硫黄化合物等の高屈折材料を、非反
応性樹脂として使用する、等の方法がある。低屈折率に
調製する場合には、(4)一般的な光重合性ポリマー、
光重合性モノマーの中から、構造的に比較的低屈折率の
ものを使用する(5)フッ素化合物や珪素化合物、硼素
系化合物等の低屈折材料を、共重合、付加重合等によ
り、光重合性プレポリマー、光重合性モノマーに導入し
たもの、またはアクリル化したものを使用する(6)フ
ッ素化合物や珪素化合物、硼素化合物等の低屈折材料
を、非反応性樹脂として使用する、等の方法がある。ま
た、樹脂層の屈折率にもよるが、隣接する2層の樹脂層
の屈折率の差が、0.010より少なければ、反射率が
0.5%程度以下しか低下せず、実質的に反射防止効果
が期待できない。これらの方法により、硬度、屈折率等
を考慮しながら、ハードコート樹脂を設計する。
るハードコート層の屈折率を調整するにはいくつかの方
法が考えられる。高屈折率に調製する場合には、(1)
一般的な光重合性ポリマー、光重合性モノマーの中か
ら、分子中に環状構造を持つなど、構造的に比較的屈折
率の高いものを使用する(2)硫黄化合物等の高屈折化
合物を共重合、付加重合等により光重合性プレポリマー
や、光重合性モノマーに導入、またはアクリル化したも
のを使用する(3)硫黄化合物等の高屈折材料を、非反
応性樹脂として使用する、等の方法がある。低屈折率に
調製する場合には、(4)一般的な光重合性ポリマー、
光重合性モノマーの中から、構造的に比較的低屈折率の
ものを使用する(5)フッ素化合物や珪素化合物、硼素
系化合物等の低屈折材料を、共重合、付加重合等によ
り、光重合性プレポリマー、光重合性モノマーに導入し
たもの、またはアクリル化したものを使用する(6)フ
ッ素化合物や珪素化合物、硼素化合物等の低屈折材料
を、非反応性樹脂として使用する、等の方法がある。ま
た、樹脂層の屈折率にもよるが、隣接する2層の樹脂層
の屈折率の差が、0.010より少なければ、反射率が
0.5%程度以下しか低下せず、実質的に反射防止効果
が期待できない。これらの方法により、硬度、屈折率等
を考慮しながら、ハードコート樹脂を設計する。
【0010】形成される樹脂層の膜厚としては、特には
制限はないが、耐スクラッチ性から考えると、樹脂層の
うち1層は、好ましくは、1μm〜30μm、さらに好
ましくは2μm〜5μmに設定される。その他の樹脂層
は反射率の最低値が、λ=380nm〜780nmとな
る膜厚に設定することが好ましい。電離放射線型樹脂を
用いた場合の樹脂層の形成方法としては、電離放射線型
塗料を、通常の塗布方法、例えば、バー、ブレード、ス
ピン、スプレー等のコーティングで行うことができる。
電離放射線硬化塗料に電子線あるいは紫外線を照射して
硬化する場合、酸素の存在及び塗膜の厚さが、硬化と密
接に関係する。電離放射線が照射されて発生したラジカ
ルは酸素を補足するため、硬化を抑制してしまう。この
ため、塗膜の厚さが薄いと、塗膜体積に占める表面積が
大きくなり、空気中の酸素により硬化阻害を受けやす
い。このような硬化阻害を防止するため、N2ガス等の
不活性ガス下で照射を行うと良い。
制限はないが、耐スクラッチ性から考えると、樹脂層の
うち1層は、好ましくは、1μm〜30μm、さらに好
ましくは2μm〜5μmに設定される。その他の樹脂層
は反射率の最低値が、λ=380nm〜780nmとな
る膜厚に設定することが好ましい。電離放射線型樹脂を
用いた場合の樹脂層の形成方法としては、電離放射線型
塗料を、通常の塗布方法、例えば、バー、ブレード、ス
ピン、スプレー等のコーティングで行うことができる。
電離放射線硬化塗料に電子線あるいは紫外線を照射して
硬化する場合、酸素の存在及び塗膜の厚さが、硬化と密
接に関係する。電離放射線が照射されて発生したラジカ
ルは酸素を補足するため、硬化を抑制してしまう。この
ため、塗膜の厚さが薄いと、塗膜体積に占める表面積が
大きくなり、空気中の酸素により硬化阻害を受けやす
い。このような硬化阻害を防止するため、N2ガス等の
不活性ガス下で照射を行うと良い。
【0011】また、多層に電離放射線硬化樹脂層を積層
するには、各層間の密着がポイントとなる。そこで、本
発明では、電離放射線樹脂をメイヤーバーで塗布し、電
離放射線照射による硬化を、半硬化の状態で止め、次の
層を塗布し、この層も同様に半硬化で止め、最終的に電
離放射線照射により完全に硬化させる方法とった。この
方法で硬化させると、樹脂を各層間で強力に密着させる
ことができる。
するには、各層間の密着がポイントとなる。そこで、本
発明では、電離放射線樹脂をメイヤーバーで塗布し、電
離放射線照射による硬化を、半硬化の状態で止め、次の
層を塗布し、この層も同様に半硬化で止め、最終的に電
離放射線照射により完全に硬化させる方法とった。この
方法で硬化させると、樹脂を各層間で強力に密着させる
ことができる。
【0012】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳しく説明
するが、これら実施例に限定されるものではない。(以
下、実施例での部は重量部を示す。) **実施例1 厚さ50μmの全光線反射率が18%の白色ポリエステ
ルフィルム上に、グラビア印刷にて50mm間隔の縦横
の線からなる格子を印刷し、その印刷面にビスフェノー
ルA型アクリレート20部、硫黄含有アクリレート10
部、ベンゾフェノン系光開始剤1部、アミン系増感剤1
部からなり、硬化後の屈折率が1.560となる電離放
射線硬化型樹脂塗料(A)に溶剤70部を添加したもの
をメイヤーバーにて塗布し、溶剤を乾燥除去後、電離放
射線を0.2〜0.5秒照射し、半硬化させタックをと
り、厚さが4μmの第1層目を形成する。その後、シリ
コン系アクリレート30部、ベンゾフェノン系光開始剤
1部、アミン系増感剤1部からなり、硬化後の屈折率が
1.470となる電離放射線硬化樹脂塗料(B)に溶剤
1000部を添加したものをメイヤーバーにて塗布し、
溶剤を乾燥除去後、電離放射線を1〜2秒照射し、完全
に硬化させ、0.09μmの第2層を形成した。
するが、これら実施例に限定されるものではない。(以
下、実施例での部は重量部を示す。) **実施例1 厚さ50μmの全光線反射率が18%の白色ポリエステ
ルフィルム上に、グラビア印刷にて50mm間隔の縦横
の線からなる格子を印刷し、その印刷面にビスフェノー
ルA型アクリレート20部、硫黄含有アクリレート10
部、ベンゾフェノン系光開始剤1部、アミン系増感剤1
部からなり、硬化後の屈折率が1.560となる電離放
射線硬化型樹脂塗料(A)に溶剤70部を添加したもの
をメイヤーバーにて塗布し、溶剤を乾燥除去後、電離放
射線を0.2〜0.5秒照射し、半硬化させタックをと
り、厚さが4μmの第1層目を形成する。その後、シリ
コン系アクリレート30部、ベンゾフェノン系光開始剤
1部、アミン系増感剤1部からなり、硬化後の屈折率が
1.470となる電離放射線硬化樹脂塗料(B)に溶剤
1000部を添加したものをメイヤーバーにて塗布し、
溶剤を乾燥除去後、電離放射線を1〜2秒照射し、完全
に硬化させ、0.09μmの第2層を形成した。
【0013】**実施例2 実施例1で使用の白色ポリエステルフィルム上に、グラ
ビア印刷にて50mm間隔の縦横の線からなる格子を印
刷し、その印刷面に電離放射線硬化型樹脂塗料(A;実
施例1でのAと同じである、以下同じ)に溶剤70部を
添加したものをメイヤーバーにて塗布し、溶剤を乾燥除
去後、電離放射線を0.2〜0.5秒照射し、半硬化さ
せタックをとり、厚さが4μmの第1層目を形成する。
その後、電離放射線硬化樹脂塗料(B)に溶剤1000
部を添加したものをメイヤーバーにて塗布し、溶剤を乾
燥除去後、電離放射線を0.2〜0.5秒照射し、半硬
化させタックをとり、0.09μmの第2層を形成す
る。その後、電離放射線硬化型樹脂塗料(A)に溶剤1
000部を添加したものをメイヤーバーにて塗布し、溶
剤を乾燥除去後、電離放射線を0.2〜0.5秒照射
し、半硬化させタックをとり、0.09μmの第3層目
を形成する。その後、シリコン系アクリレート20部、
フッ素系シリコンアクリレート10部、ベンゾフェノン
系光開始剤1部、アミン系増感剤1部からなり、硬化後
の屈折率が1.45となる電離放射線硬化樹脂塗料
(C)に溶剤1000部を添加したものをメイヤーバー
にて塗布し、溶剤を乾燥除去後、電離放射線を1〜2秒
照射し、完全に硬化させ、0.09μmの第4層目を形
成した。
ビア印刷にて50mm間隔の縦横の線からなる格子を印
刷し、その印刷面に電離放射線硬化型樹脂塗料(A;実
施例1でのAと同じである、以下同じ)に溶剤70部を
添加したものをメイヤーバーにて塗布し、溶剤を乾燥除
去後、電離放射線を0.2〜0.5秒照射し、半硬化さ
せタックをとり、厚さが4μmの第1層目を形成する。
その後、電離放射線硬化樹脂塗料(B)に溶剤1000
部を添加したものをメイヤーバーにて塗布し、溶剤を乾
燥除去後、電離放射線を0.2〜0.5秒照射し、半硬
化させタックをとり、0.09μmの第2層を形成す
る。その後、電離放射線硬化型樹脂塗料(A)に溶剤1
000部を添加したものをメイヤーバーにて塗布し、溶
剤を乾燥除去後、電離放射線を0.2〜0.5秒照射
し、半硬化させタックをとり、0.09μmの第3層目
を形成する。その後、シリコン系アクリレート20部、
フッ素系シリコンアクリレート10部、ベンゾフェノン
系光開始剤1部、アミン系増感剤1部からなり、硬化後
の屈折率が1.45となる電離放射線硬化樹脂塗料
(C)に溶剤1000部を添加したものをメイヤーバー
にて塗布し、溶剤を乾燥除去後、電離放射線を1〜2秒
照射し、完全に硬化させ、0.09μmの第4層目を形
成した。
【0014】**比較例1 実施例1で使用の白色ポリエステルフィルム上に、グラ
ビア印刷にて50mm間隔の縦横の線からなる格子を印
刷し、その印刷面に電離放射線硬化型樹脂塗料(A)に
溶剤70部を添加したものをメイヤーバーにて塗布し、
溶剤を乾燥除去後、電離放射線を1〜2秒照射し、完全
に硬化させ、厚さが4μmハードコート層を形成した。
ビア印刷にて50mm間隔の縦横の線からなる格子を印
刷し、その印刷面に電離放射線硬化型樹脂塗料(A)に
溶剤70部を添加したものをメイヤーバーにて塗布し、
溶剤を乾燥除去後、電離放射線を1〜2秒照射し、完全
に硬化させ、厚さが4μmハードコート層を形成した。
【0015】**比較例2 実施例1で使用の白色ポリエステルフィルム上に、グラ
ビア印刷にて50mm間隔の縦横の線からなる格子を印
刷し、その印刷面に電離放射線硬化型樹脂塗料(A)に
溶剤70部を添加したものをメイヤーバーにて塗布し、
溶剤を乾燥除去後、電離放射線を0.2〜0.5秒照射
し、半硬化させタックをとり、厚さが4μmの第1層目
を形成する。その後、電離放射線硬化型樹脂塗料(A)
に溶剤1000部を添加したものをメイヤーバーにて塗
布し、溶剤を乾燥除去後、電離放射線を、1〜2秒照射
し完全に硬化させ、0.09μmの第2層目を形成す
る。
ビア印刷にて50mm間隔の縦横の線からなる格子を印
刷し、その印刷面に電離放射線硬化型樹脂塗料(A)に
溶剤70部を添加したものをメイヤーバーにて塗布し、
溶剤を乾燥除去後、電離放射線を0.2〜0.5秒照射
し、半硬化させタックをとり、厚さが4μmの第1層目
を形成する。その後、電離放射線硬化型樹脂塗料(A)
に溶剤1000部を添加したものをメイヤーバーにて塗
布し、溶剤を乾燥除去後、電離放射線を、1〜2秒照射
し完全に硬化させ、0.09μmの第2層目を形成す
る。
【0016】**比較例3 実施例1で使用の白色ポリエステルフィルム上に、グラ
ビア印刷にて50mm間隔の縦横の線からなる格子を印
刷し、その印刷面に電離放射線硬化型樹脂塗料(A)に
平均粒径4.5μmのシリカ0.5部を添加してなる電
離放射線硬化型樹脂塗料(D)に溶剤70部を添加した
ものをメイヤーバーにて塗布し、溶剤を乾燥除去後、電
離放射線を1〜2秒照射し、完全に硬化させ、厚さが4
μmのハードコート層を形成する。
ビア印刷にて50mm間隔の縦横の線からなる格子を印
刷し、その印刷面に電離放射線硬化型樹脂塗料(A)に
平均粒径4.5μmのシリカ0.5部を添加してなる電
離放射線硬化型樹脂塗料(D)に溶剤70部を添加した
ものをメイヤーバーにて塗布し、溶剤を乾燥除去後、電
離放射線を1〜2秒照射し、完全に硬化させ、厚さが4
μmのハードコート層を形成する。
【0017】**比較例4 実施例1で使用の白色ポリエステルフィルム上に、グラ
ビア印刷にて50mm間隔の縦横の線からなる格子を印
刷し、その印刷面に電離放射線硬化型樹脂塗料(A)に
平均粒径4.5μmのシリカ2部を添加してなる電離放
射線硬化型樹脂塗料(E)に溶剤を70部添加したもの
をメイヤーバーにて塗布し、溶剤を乾燥除去後、電離放
射線を1〜2秒照射し、完全に硬化させ、厚さが4μm
のハードコート層を形成した。
ビア印刷にて50mm間隔の縦横の線からなる格子を印
刷し、その印刷面に電離放射線硬化型樹脂塗料(A)に
平均粒径4.5μmのシリカ2部を添加してなる電離放
射線硬化型樹脂塗料(E)に溶剤を70部添加したもの
をメイヤーバーにて塗布し、溶剤を乾燥除去後、電離放
射線を1〜2秒照射し、完全に硬化させ、厚さが4μm
のハードコート層を形成した。
【0018】実施例1、2、及び比較例1、2、3、4
で得られた低反射シート(ハードコートフィルム)につ
いて、以下の評価を行いその結果を表1に示した。 (1)反射率 分光光度計UV−3100PC(島津製作所)を用い5
50nmの光線反射率を測定した。単位は%である。 (2)鉛筆硬度 JIS k5400に準じて測定した。 (3)耐スチールウール性 スチールウール#0000にてコート面を擦り、傷の付
き具合を判定する A:傷が付かない B:やや傷が付く C:傷が付
く (4)文字消去性 ホワイトボード用マーカー(パイロット製)で、筆記、
消去を繰り返しインクの跡が残るかを調べた。 ○ :インク跡無し ×:インク跡有り
で得られた低反射シート(ハードコートフィルム)につ
いて、以下の評価を行いその結果を表1に示した。 (1)反射率 分光光度計UV−3100PC(島津製作所)を用い5
50nmの光線反射率を測定した。単位は%である。 (2)鉛筆硬度 JIS k5400に準じて測定した。 (3)耐スチールウール性 スチールウール#0000にてコート面を擦り、傷の付
き具合を判定する A:傷が付かない B:やや傷が付く C:傷が付
く (4)文字消去性 ホワイトボード用マーカー(パイロット製)で、筆記、
消去を繰り返しインクの跡が残るかを調べた。 ○ :インク跡無し ×:インク跡有り
【0019】
【0020】
【発明の効果】以上の実施例からも明らかなように、本
発明により作製された低反射シートは、反射防止機能の
役目を果たし、かつ文字消去性、耐スクラッチ性に優れ
たものである。
発明により作製された低反射シートは、反射防止機能の
役目を果たし、かつ文字消去性、耐スクラッチ性に優れ
たものである。
Claims (2)
- 【請求項1】 全光線透過率が80%以下の基材上に、
少なくとも2層以上の樹脂層を形成したシートであっ
て、該樹脂層のうち、少なくとも隣接する2層の樹脂層
の屈折率が少なくとも0.010以上異なり、かつ該樹
脂層のうち、少なくとも1層は熱硬化性樹脂、あるいは
電離放射線硬化性樹脂から形成されたハードコート性樹
脂層であることを特徴とする低反射シート。 - 【請求項2】基材が、有機高分子フィルムである請求項
1記載の低反射シート。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9116478A JPH10291269A (ja) | 1997-04-18 | 1997-04-18 | 低反射シート |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9116478A JPH10291269A (ja) | 1997-04-18 | 1997-04-18 | 低反射シート |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10291269A true JPH10291269A (ja) | 1998-11-04 |
Family
ID=14688109
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9116478A Pending JPH10291269A (ja) | 1997-04-18 | 1997-04-18 | 低反射シート |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10291269A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003014776A1 (en) * | 2001-08-03 | 2003-02-20 | Sola International Holdings Limited | Scratch masking coatings for optical substrates |
-
1997
- 1997-04-18 JP JP9116478A patent/JPH10291269A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003014776A1 (en) * | 2001-08-03 | 2003-02-20 | Sola International Holdings Limited | Scratch masking coatings for optical substrates |
US7055954B2 (en) | 2001-08-03 | 2006-06-06 | Sola International Holdings Ltd. | Scratch masking coatings for optical substrates |
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