JPH10274486A - Burning apparatus for ceramic - Google Patents
Burning apparatus for ceramicInfo
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- JPH10274486A JPH10274486A JP9080449A JP8044997A JPH10274486A JP H10274486 A JPH10274486 A JP H10274486A JP 9080449 A JP9080449 A JP 9080449A JP 8044997 A JP8044997 A JP 8044997A JP H10274486 A JPH10274486 A JP H10274486A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、各種のセラミックス、
例えば、酸素含有量が特性に影響を及ぼす機能性セラミ
ックスの焼成装置および方法に関するものである。The present invention relates to various ceramics,
For example, the present invention relates to an apparatus and a method for firing functional ceramics in which the oxygen content affects properties.
【0002】[0002]
【従来の技術】現在、各種のセラミックスを焼成するた
めの焼成炉としては、水素炉、窒素炉、アルゴン炉、ア
ンモニア/窒素炉、水素/水蒸気炉が知られている。例
えば、「熱測定」17(1)1990年、第41頁〜5
4頁においては、超伝導体の一つであるYBa2 Cu3
O7-x やMn−Znフェライトにおいて、雰囲気中の酸
素分圧を測定するために酸素センサーを使用している。
また、常圧下で、雰囲気中の酸素分圧を制御する方法と
して、いわゆる単純気体混合法と緩衝気体混合法とが記
載されている。2. Description of the Related Art At present, as a firing furnace for firing various ceramics, a hydrogen furnace, a nitrogen furnace, an argon furnace, an ammonia / nitrogen furnace, and a hydrogen / steam furnace are known. For example, "Heat measurement" 17 (1) 1990, pp. 41-5
On page 4, one of the superconductors, YBa 2 Cu 3
For O 7-x and Mn—Zn ferrite, an oxygen sensor is used to measure the oxygen partial pressure in the atmosphere.
Further, as a method of controlling the oxygen partial pressure in the atmosphere under normal pressure, a so-called simple gas mixing method and a buffer gas mixing method are described.
【0003】単純気体混合法においては、102 〜10
5 Paという比較的高い雰囲気圧力の下で純酸素とアル
ゴン、ヘリウム等の不活性ガスとを機械的に混合する。
また、安定化ジルコニア酸素ポンプを使用することによ
って、不活性ガス中の酸素を除去したり、あるいは不活
性ガスに酸素を添加したりすることも記載されている。
緩衝気体混合法においては、CO−CO2 、H2 −H2
O、H2 −CO2 などの緩衝混合気体の高温における気
体平衡を利用し、一定の酸素分圧を得る。この際、安定
化ジルコニア酸素ポンプを使用して、精製水素ガス中に
酸素を供給することによって、極低圧での酸素分圧の制
御を試みている。また、特にアルゴンガスと酸素ガスと
を混合した雰囲気を使用するのに際して、安定化ジルコ
ニアからなる一本の管状体に酸素センサーと酸素ポンプ
とを設け、この管状体にアルゴンと酸素との混合ガスの
雰囲気を流している。そして、目的とする酸素分圧に対
応する酸素ポンプの駆動電圧を設定し、酸素センサーに
おける起電力を測定し、前記駆動電圧の値と起電力との
差が0となるように、電気的フィードバックを酸素ポン
プに作用させることを試みている。In the simple gas mixing method, 10 2 to 10
Pure oxygen and an inert gas such as argon or helium are mechanically mixed under a relatively high atmospheric pressure of 5 Pa.
It also describes that a stabilized zirconia oxygen pump is used to remove oxygen from an inert gas or to add oxygen to an inert gas.
In the buffer gas mixing method, CO-CO 2, H 2 -H 2
A constant oxygen partial pressure is obtained by utilizing the gas equilibrium of a buffered gas mixture such as O, H 2 -CO 2 at a high temperature. At this time, an attempt has been made to control the oxygen partial pressure at an extremely low pressure by supplying oxygen to the purified hydrogen gas using a stabilized zirconia oxygen pump. In particular, when using an atmosphere in which an argon gas and an oxygen gas are mixed, an oxygen sensor and an oxygen pump are provided in a single tubular body made of stabilized zirconia, and a mixed gas of argon and oxygen is provided in the tubular body. The atmosphere is flowing. Then, the driving voltage of the oxygen pump corresponding to the target oxygen partial pressure is set, the electromotive force in the oxygen sensor is measured, and the electric feedback is performed so that the difference between the driving voltage value and the electromotive force becomes zero. Trying to act on the oxygen pump.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかし、本発明者が、
現実の雰囲気焼成炉に前記のような技術を適用してみる
と、雰囲気焼成炉中への酸素分圧を一定に保持しても、
焼成体、特に機能性の複合酸化物からなるセラミックス
焼成体の特性を厳密には制御できない場合があった。ま
た、特に最近は、セラミックス焼成体の粒径、気孔率、
気孔径、粒形状、粒子の間のネック部分の太さ等の各種
の微構造を精密に制御するための研究が進展してきてい
るが、これを実現するためには雰囲気焼成炉の改良が必
要であると考えられる。However, the present inventor has
When applying the above technology to an actual atmosphere furnace, even if the oxygen partial pressure in the atmosphere furnace is kept constant,
In some cases, the characteristics of a fired body, particularly a ceramic fired body made of a functional composite oxide, cannot be strictly controlled. In particular, recently, the particle size, porosity,
Research has been advanced to precisely control various microstructures such as pore diameter, grain shape, and thickness of the neck between particles. It is considered to be.
【0005】本発明の課題は、セラミックスの被焼成体
を収容し、焼成するための焼成炉を備えている焼成装置
であって、焼成体の特性や微構造を厳密に制御し、ある
いは焼成体に対して特定の特性や微構造を付与するのに
適している新たな焼成装置を提供することである。An object of the present invention is to provide a sintering apparatus provided with a sintering furnace for accommodating and sintering an object to be sintered of ceramics, wherein the characteristics and microstructure of the sintered body are strictly controlled. It is an object of the present invention to provide a new sintering apparatus suitable for imparting specific characteristics and microstructures to sintering.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は、セラミックス
の被焼成体を収容し、焼成するための焼成炉を備えてい
る焼成装置であって、焼成炉に対して所定の雰囲気を供
給するための雰囲気供給源、焼成炉からの排気ガスを分
析して所定の情報を得るためのガス分析器および前記の
情報に基づいて焼成炉の稼働条件をフィードバック制御
するための制御機構を備えていることを特徴とする、セ
ラミックスの焼成装置に係るものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a firing apparatus provided with a firing furnace for housing and firing a ceramic body to be fired, for supplying a predetermined atmosphere to the firing furnace. An atmosphere supply source, a gas analyzer for analyzing exhaust gas from the firing furnace to obtain predetermined information, and a control mechanism for performing feedback control of operating conditions of the firing furnace based on the information. The present invention relates to an apparatus for firing ceramics.
【0007】本発明者は、例えば雰囲気焼成炉の入口側
の雰囲気の組成、例えば酸素分圧を一定に保持し、焼成
実験を行ってきたが、焼成体の特性や微構造を厳密に制
御することは困難であった。この理由を検討する過程
で、焼成体から、酸素や他の成分が雰囲気中に発散した
り、あるいは雰囲気中の酸素等の成分が雰囲気から焼成
体の内部に取り込まれたりすることに着目した。このよ
うな焼成体と焼成炉内の雰囲気との間の、成分の発散や
取り込みといった相互作用によって、焼成炉内の雰囲気
が厳密に制御されない。この結果、焼成体の特性や微構
造を厳密に制御できないことが判明してきた。The inventor of the present invention has conducted firing experiments while keeping the composition of the atmosphere on the inlet side of the atmosphere firing furnace, for example, the oxygen partial pressure constant, but strictly controls the characteristics and microstructure of the fired body. It was difficult. In the course of examining the reason, attention was paid to the fact that oxygen and other components diffuse into the atmosphere from the fired body, or that components such as oxygen in the atmosphere are taken into the fired body from the atmosphere. Due to the interaction between the fired body and the atmosphere in the firing furnace, such as divergence and incorporation of components, the atmosphere in the firing furnace is not strictly controlled. As a result, it has been found that the characteristics and microstructure of the fired body cannot be strictly controlled.
【0008】例えば、焼成炉内の雰囲気中の酸素分圧を
10- 6 atm以下、更には10- 1 8 atm以下とい
った極めて低圧に保持し、これによって焼成体中の組成
や微構造を厳密に制御することを試みた場合、焼成炉中
へ供給する雰囲気中の酸素分圧を厳密に一定に保持して
も、焼成体から発散する酸素の影響によって焼成炉内の
雰囲気中の酸素分圧が上昇し、目的とする制御が不能に
なる。[0008] For example, the oxygen partial pressure in the atmosphere in the firing furnace 10 - 6 atm or less, more 10 - 1 8 atm very held to a low pressure such as below, thereby exactly the composition and microstructure in the sintered body When the control is attempted, even if the oxygen partial pressure in the atmosphere supplied to the firing furnace is kept strictly constant, the oxygen partial pressure in the atmosphere in the firing furnace is affected by the oxygen radiating from the fired body. As a result, the intended control becomes impossible.
【0009】また、セラミックス粉末の成形体を脱脂す
る過程で、成形体から発生する炭化水素や水分、一酸化
炭素や二酸化炭素などのガスの発生量の変化によって、
酸素濃度を一定にすることができず、脱脂時の成形体の
挙動が変動することがある。また、この炭化水素や水分
が焼成炉内に残留し、焼成時の焼成炉内の雰囲気に影響
を及ぼすことがある。In the process of degreasing a ceramic powder compact, a change in the amount of hydrocarbons, moisture, carbon monoxide, carbon dioxide, and other gases generated from the compact results in
The oxygen concentration cannot be kept constant, and the behavior of the molded body during degreasing may fluctuate. In addition, the hydrocarbons and moisture may remain in the firing furnace and affect the atmosphere in the firing furnace during firing.
【0010】このため、本発明者は、雰囲気焼成炉の出
口側ないし下流側の排気ガスを分析し、この分析情報に
基づいて焼成炉の稼働条件をフィードバック制御するこ
とを想到した。これによって、焼成体、特に機能性の複
合酸化物からなるセラミックス焼成体の特性を厳密に制
御できるようになった。また、セラミックス焼成体の粒
径、気孔率、気孔径、粒形状、気孔形状、粒子の間のネ
ック部分の太さ等の各種の微構造を精密に制御するのに
適した焼成装置を、初めて提供できる。また、本発明の
焼成装置を利用することによって、従来は製造が不可能
であった粒径、気孔率、気孔径、粒形状、気孔形状、粒
子の間のネック部分の太さ等の各種の特異な微構造を有
する焼成体を、製造できると思われる。For this reason, the present inventor has conceived of analyzing exhaust gas on the outlet side or downstream side of the atmosphere firing furnace and performing feedback control of the operating conditions of the firing furnace based on the analysis information. This makes it possible to strictly control the characteristics of a fired body, particularly a fired ceramic body made of a functional composite oxide. In addition, for the first time, a firing device suitable for precisely controlling various microstructures such as the particle size, porosity, pore size, particle shape, pore shape, and neck thickness between particles of a ceramic fired body has been developed. Can be provided. In addition, by utilizing the firing apparatus of the present invention, various types such as particle diameter, porosity, pore diameter, particle shape, pore shape, and neck thickness between particles, which could not be produced conventionally, were used. It seems that a fired body having a unique microstructure can be produced.
【0011】セラミックスの被焼成体としては、セラミ
ックスの原料粉末、セラミックスの原料粉末の成形体、
この成形体の脱脂体、この成形体の仮焼体がある。Examples of the ceramic body to be fired include a ceramic raw material powder, a molded body of the ceramic raw material powder,
There are a degreased body of this molded body and a calcined body of this molded body.
【0012】セラミックスの被焼成体を収容し、焼成す
るための焼成炉は、特に外部に対して気密性が保たれた
炉心管を備えている焼成炉が好ましく、電気炉が特に好
ましい。A firing furnace for housing and firing a ceramic body to be fired is preferably a firing furnace provided with a furnace core tube which is kept airtight to the outside, and an electric furnace is particularly preferable.
【0013】ガス分析器による分析の対象となるガスと
しては、酸素、窒素、アルゴン、炭化水素、一酸化炭
素、二酸化炭素、一酸化窒素、二酸化窒素、水蒸気を例
示できる。これらの個々の気体に関しては、それぞれ測
定装置が知られている。このうち、酸素分圧測定装置と
しては、固体電解質酸素センサーや酸化物半導体酸素セ
ンサーを使用できるが、ジルコニア酸素センサーが特に
好ましい。また、一般的な気体濃度測定装置として、ガ
スクロマトグラフィーや質量分析器を使用できる。Examples of the gas to be analyzed by the gas analyzer include oxygen, nitrogen, argon, hydrocarbon, carbon monoxide, carbon dioxide, nitrogen monoxide, nitrogen dioxide, and water vapor. For these individual gases, measuring devices are respectively known. Among them, as the oxygen partial pressure measuring device, a solid electrolyte oxygen sensor or an oxide semiconductor oxygen sensor can be used, but a zirconia oxygen sensor is particularly preferable. Further, as a general gas concentration measuring device, a gas chromatography or a mass analyzer can be used.
【0014】焼成されるべきセラミックスは特に限定さ
れないが、酸素含有量が特性に影響を及ぼす酸素含有機
能性セラミックスが特に好ましい。また、アルミナ、マ
グネシア、ムライト、シリカ、スピネル、チタニア、ジ
ルコニア、イットリア安定化ジルコニア等の安定化ジル
コニア、イットリア部分安定化ジルコニア等の部分安定
化ジルコニアが好ましい。また、ペロブスカイト型複合
酸化物が特に好ましく、この中でも、ランタンを含有す
るペロブスカイト型複合酸化物が好ましく、ランタンマ
ンガナイト、ランタンコバルタイト、ランタンクロマイ
トが特に好ましい。ランタンを含有するペロブスカイト
型複合酸化物は、アルカリ土類金属、希土類金属、例え
ば、マグネシウム、ストロンチウム、カルシウム、クロ
ム、コバルト、鉄、ニッケル、アルミニウム等をドープ
したものであってよい。更に、窒化珪素、窒化アルミニ
ウムなどの窒化物、炭化珪素、炭化ホウ素などの炭化物
も例示できる。The ceramics to be fired are not particularly limited, but oxygen-containing functional ceramics whose oxygen content affects the properties are particularly preferred. Also, stabilized zirconia such as alumina, magnesia, mullite, silica, spinel, titania, zirconia, yttria-stabilized zirconia, and partially stabilized zirconia such as yttria partially stabilized zirconia are preferred. Further, a perovskite-type composite oxide is particularly preferable, and among them, a lanthanum-containing perovskite-type composite oxide is preferable, and lanthanum manganite, lanthanum cobaltite, and lanthanum chromite are particularly preferable. The perovskite-type composite oxide containing lanthanum may be doped with an alkaline earth metal or a rare earth metal, for example, magnesium, strontium, calcium, chromium, cobalt, iron, nickel, aluminum, or the like. Furthermore, nitrides such as silicon nitride and aluminum nitride, and carbides such as silicon carbide and boron carbide can also be exemplified.
【0015】制御機構においては、ガス分析器による情
報に基づいて、焼成炉の温度をフィードバック制御する
ことができる。また、雰囲気の組成や流量をフィードバ
ック制御できる。In the control mechanism, the temperature of the firing furnace can be feedback-controlled based on information from the gas analyzer. Further, the composition and flow rate of the atmosphere can be feedback controlled.
【0016】本発明の一態様においては、ガス分析器と
して酸素分圧測定装置を使用し、焼成炉から排出される
排気ガス中の酸素分圧を測定し、焼成炉の上流側に酸素
ポンプを設け、排気ガス中の酸素分圧の測定値に基づい
て酸素ポンプの駆動をフィードバック制御できる。これ
によって、焼成体と雰囲気との酸素の授受に伴う焼成炉
雰囲気の酸素分圧の変動を、補償できる。In one embodiment of the present invention, an oxygen partial pressure measuring device is used as a gas analyzer, the oxygen partial pressure in the exhaust gas discharged from the firing furnace is measured, and an oxygen pump is provided upstream of the firing furnace. The driving of the oxygen pump can be feedback-controlled based on the measured value of the oxygen partial pressure in the exhaust gas. This makes it possible to compensate for a change in the oxygen partial pressure of the firing furnace atmosphere due to the transfer of oxygen between the fired body and the atmosphere.
【0017】また、本発明の他の態様においては、所定
の分圧の水素を含有している水素含有ガスに対して水分
を添加し、次いでこの水素含有ガスを焼成炉に供給でき
る。この場合には、酸素分圧測定装置によって、焼成炉
から排出される排気ガス中の酸素分圧を測定し、酸素分
圧の測定値に基づいて、水分添加装置の駆動をフィード
バック制御できる。これによって、焼成体と雰囲気との
酸素の授受に伴う焼成炉雰囲気の酸素分圧の変動を、補
償できる。In another embodiment of the present invention, moisture can be added to a hydrogen-containing gas containing hydrogen at a predetermined partial pressure, and then this hydrogen-containing gas can be supplied to a firing furnace. In this case, the oxygen partial pressure in the exhaust gas discharged from the firing furnace is measured by the oxygen partial pressure measuring device, and the driving of the water adding device can be feedback-controlled based on the measured value of the oxygen partial pressure. This makes it possible to compensate for a change in the oxygen partial pressure of the firing furnace atmosphere due to the transfer of oxygen between the fired body and the atmosphere.
【0018】また、本発明の更に他の態様においては、
雰囲気を分析して所定の情報を得るための上流側ガス分
析器を備え、雰囲気の情報と排気ガスの情報とを制御装
置において対比する。これによって、特定の情報に関し
て、雰囲気と成形体や焼成体との相互作用の有無やその
度合いを知ることができる。[0018] In still another embodiment of the present invention,
An upstream gas analyzer for analyzing the atmosphere to obtain predetermined information is provided, and information on the atmosphere and information on the exhaust gas are compared in the control device. This makes it possible to know the presence or absence of the interaction between the atmosphere and the molded body or the fired body and the degree of the interaction with the specific information.
【0019】以下、適宜図面を参照しつつ、本発明によ
るセラミックスの焼成装置および焼成方法の実施例を説
明する。図1、図2は、それぞれ本発明の一実施形態に
係る焼成装置を示す模式図であり、図3は、焼成炉中に
供給される各雰囲気によって制御できる酸素分圧の範囲
を例示するグラフである。Hereinafter, an embodiment of an apparatus and method for firing ceramics according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIGS. 1 and 2 are schematic diagrams each showing a firing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a graph illustrating a range of an oxygen partial pressure which can be controlled by each atmosphere supplied into a firing furnace. It is.
【0020】図1、図2のいずれにおいても、焼成炉1
0の上流側に雰囲気供給装置8が設置されている。雰囲
気供給装置8中には、常温で不活性なガスを供給するた
めの不活性ガス供給源1、所定の酸素分圧を有する酸素
含有ガスを供給するための酸素含有ガス供給源2、およ
び所定の水素分圧を有する水素含有ガスを供給するため
の水素含有ガス供給源3が設置されている。1 and 2, the firing furnace 1
Atmosphere supply device 8 is installed on the upstream side of zero. An inert gas supply source 1 for supplying an inert gas at normal temperature, an oxygen-containing gas supply source 2 for supplying an oxygen-containing gas having a predetermined oxygen partial pressure, and a predetermined A hydrogen-containing gas supply source 3 for supplying a hydrogen-containing gas having a partial pressure of hydrogen is provided.
【0021】常温で不活性な不活性ガスとしては、アル
ゴン、ヘリウム等の希ガスや窒素ガスが好ましい。所定
の酸素分圧を有する酸素含有ガスとしては、純酸素、空
気や、窒素または希ガスと酸素との混合ガスであって、
所定の酸素分圧を有する混合ガスが好ましい。水素含有
ガスとしては、純水素や、窒素または希ガスと水素との
混合ガスであって、所定の水素分圧を有する混合ガスが
好ましい。これらの各ガスの供給源としては、ボンベま
たはコンプレッサーが好ましい。As the inert gas which is inert at room temperature, a rare gas such as argon or helium or a nitrogen gas is preferable. As the oxygen-containing gas having a predetermined oxygen partial pressure, pure oxygen, air, or a mixed gas of nitrogen or a rare gas and oxygen,
A mixed gas having a predetermined oxygen partial pressure is preferred. As the hydrogen-containing gas, pure hydrogen, a mixed gas of nitrogen or a rare gas and hydrogen, and a mixed gas having a predetermined hydrogen partial pressure are preferable. A supply source of each of these gases is preferably a cylinder or a compressor.
【0022】各供給源1、2、3は、それぞれ各供給路
15A、15B、15Cに連結されている。各供給路1
5A、15B、15Cには、それぞれ気体の流通と遮断
とを選択するための弁6A、6B、6Cが設けられてい
る。Each supply source 1, 2, 3 is connected to each supply path 15A, 15B, 15C, respectively. Each supply path 1
The valves 5A, 15B, and 15C are provided with valves 6A, 6B, and 6C, respectively, for selecting between gas flow and cutoff.
【0023】各供給路15A、15B、15Cは、下流
側で一つの供給路15Dにまとまっており、供給路15
Dに酸素ポンプ7が設けられている。なお、4はガス精
製器であり、5は水分添加装置である。Each of the supply paths 15A, 15B, and 15C is integrated into one supply path 15D on the downstream side.
D is provided with an oxygen pump 7. In addition, 4 is a gas purifier and 5 is a water addition device.
【0024】焼成炉10中では、ヒーター11の内側に
炉心管12が固定されている。供給路15Dの下流側の
末端が炉心管12の供給口(図示せず)に接続されてお
り、炉心管12の排出口(図示せず)が排出路16に接
続されている。In the firing furnace 10, a furnace tube 12 is fixed inside a heater 11. The downstream end of the supply path 15 </ b> D is connected to a supply port (not shown) of the furnace tube 12, and an outlet (not shown) of the furnace tube 12 is connected to a discharge path 16.
【0025】こうした焼成装置を使用することによっ
て、次のような焼成炉内の雰囲気の制御が、初めて可能
となった。The use of such a sintering apparatus makes it possible for the first time to control the atmosphere in a sintering furnace as follows.
【0026】即ち、(i)不活性ガス供給源1からの不
活性ガスと酸素含有ガス供給源2からの酸素含有ガスと
を混合して混合ガスを得、この混合ガスを、雰囲気とし
て焼成炉10内に連続的に供給する。これによって、常
圧炉の場合には1〜10- 6 atmの範囲内で酸素分圧
を自由に制御できる。焼成炉内では、通常は室温から2
000℃、特には室温〜1700℃の温度範囲で温度を
制御し、被焼成体の乾燥、脱脂、焼成を行う。That is, (i) an inert gas from the inert gas supply source 1 and an oxygen-containing gas from the oxygen-containing gas supply source 2 are mixed to obtain a mixed gas. 10 continuously. Thus, in the case of normal pressure furnace 1 to 10 - 6 oxygen partial pressure can be freely controlled within the range of atm. In a firing furnace, the temperature is usually between room temperature and 2
The temperature is controlled in the temperature range of 000 ° C., particularly room temperature to 1700 ° C., and the object to be fired is dried, degreased, and fired.
【0027】この方法で精密に制御できる下限が10
- 6 atmであるのは、精度良く製造できる混合ガス中
の酸素分圧の下限が、通常は1ppm程度であるからで
ある。また、常圧焼成炉においては上限が1atmであ
るが、加圧炉の場合には一層高い酸素分圧を適用でき
る。The lower limit that can be precisely controlled by this method is 10
The reason why the pressure is −6 atm is that the lower limit of the oxygen partial pressure in the mixed gas that can be produced with high accuracy is usually about 1 ppm. Further, the upper limit is 1 atm in a normal pressure firing furnace, but a higher oxygen partial pressure can be applied in a pressure furnace.
【0028】混合ガスによる酸素分圧の制御は、図3の
領域Eに該当している。このように室温から焼成時の最
高温度に至る全温度範囲で利用できる。The control of the oxygen partial pressure by the mixed gas corresponds to the region E in FIG. Thus, it can be used in the entire temperature range from room temperature to the maximum temperature during firing.
【0029】また、図3に示すように、領域Eよりも低
い酸素分圧の領域F内で酸素分圧を精密に制御するため
には、(ii)不活性ガス中の酸素分圧を酸素ポンプに
よって変更して得られた雰囲気を焼成炉内に供給する。As shown in FIG. 3, in order to precisely control the oxygen partial pressure in the region F having a lower oxygen partial pressure than the region E, it is necessary to (ii) reduce the oxygen partial pressure in the inert gas by The atmosphere obtained by changing with the pump is supplied into the firing furnace.
【0030】具体的には、弁6Bと6Cとを閉じ、弁6
Aを開き、不活性ガス供給源1から供給路15Aを通し
て不活性ガスを供給路15Dに供給する。この際、好ま
しくは、ガス精製器4に不活性ガスを通過させることに
よって、不活性ガス中に存在する微量の不純物、特に酸
素および水を除去する。Specifically, the valves 6B and 6C are closed, and the valve 6B is closed.
A is opened, and the inert gas is supplied from the inert gas supply source 1 to the supply path 15D through the supply path 15A. At this time, preferably, a trace amount of impurities, particularly oxygen and water, present in the inert gas are removed by passing the inert gas through the gas purifier 4.
【0031】ガス精製器4としては、白金触媒や銅触媒
を用い、酸素をこれらの触媒に吸着させるタイプの装置
や、ニッケル触媒やチタン触媒を使用し、これらの触媒
の酸化反応によって酸素を除去するタイプの装置があ
る。As the gas purifier 4, a platinum catalyst or a copper catalyst is used, and a device that adsorbs oxygen to these catalysts, a nickel catalyst or a titanium catalyst is used, and oxygen is removed by an oxidation reaction of these catalysts. There are types of devices that do this.
【0032】この精製された不活性ガスを酸素ポンプ7
に通過させ、酸素ポンプ7によって一定量の酸素を不活
性ガス中に添加するか、あるいは一定量の酸素を除去す
る。The purified inert gas is supplied to an oxygen pump 7
And a certain amount of oxygen is added to the inert gas by the oxygen pump 7 or a certain amount of oxygen is removed.
【0033】ジルコニア酸素ポンプの場合には、セル1
個当たり0〜2ボルトの直流電圧を印加して電流を流
し、電流値に比例した量の酸素を投入し、あるいは除去
できる。特にガス精製器4によって除去しきれなかった
微量の酸素を、酸素ポンプで除去することによって、1
0- 1 8 atm程度の低い圧力まで、酸素分圧を制御で
きる。In the case of a zirconia oxygen pump, the cell 1
A current is applied by applying a DC voltage of 0 to 2 volts per unit, and oxygen can be injected or removed in an amount proportional to the current value. In particular, by removing a trace amount of oxygen that could not be completely removed by the gas purifier 4 with an oxygen pump,
0 - 1 to 8 atm as low pressure, can control the oxygen partial pressure.
【0034】この方法によって、図3の領域Fに示すよ
うに、10- 1 8 atm〜10- 2 atmの範囲で酸素
分圧を制御することが好ましい。なお、本方法は全温度
範囲に適用できる。この方法によって雰囲気中の酸素分
圧を10- 2 atm以上とするためには、大きな電流が
必要であり、かつセルの本数も非常に多くする必要があ
るために、実用的ではない。また、10- 1 8 atm未
満の圧力の範囲内で酸素分圧を制御することは、ジルコ
ニア酸素ポンプ等の能力から見て困難であった。[0034] By this method, as shown in area F in FIG. 3, 10 - 1 8 atm~10 - it is preferable to control the oxygen partial pressure at 2 atm range. This method can be applied to the entire temperature range. 10 the oxygen partial pressure in the atmosphere by this method - to the 2 atm or more, it is necessary a large current, and because it is necessary to number of cells is also very often not practical. Further, 10 - controlling the oxygen partial pressure is 1 8 within the pressure below atm, it is difficult when viewed from the ability of such zirconia oxygen pump.
【0035】更に、(iii)例えば図3に示す領域G
のように、900℃以上の高温領域において、焼成炉内
の酸素分圧を精密に制御するために、水素含有ガスに所
定量の水分を添加して得られた雰囲気を焼成炉内に供給
できる。これによって、10- 1 9 〜10- 2 atmの
範囲内で、焼成炉内の雰囲気の酸素分圧を精密に制御で
きる。(Iii) For example, the area G shown in FIG.
As described above, in a high-temperature region of 900 ° C. or more, an atmosphere obtained by adding a predetermined amount of moisture to a hydrogen-containing gas can be supplied to the firing furnace in order to precisely control the oxygen partial pressure in the firing furnace. . Thus, 10 - 1 9-10 - 2 within the range of atm, it can be precisely controlled partial pressure of oxygen in the atmosphere in the firing furnace.
【0036】具体的には、水素や、水素と希ガスまたは
窒素との混合ガスを、水素含有ガス供給源3から供給路
15Cに通し、加湿器5を通過させ、弁6Cを開放して
供給路15Dへと流す。加湿器5においては、好ましく
は、温度を一定値に制御した水中に水素含有ガスを通し
てバブリングし、飽和させる。次いで、この水素含有ガ
スを炉心管12へと連続的に供給し、被焼成体を例えば
室温〜1700℃の範囲で脱脂し、焼成する。More specifically, hydrogen or a mixed gas of hydrogen and a rare gas or nitrogen is supplied from the hydrogen-containing gas supply source 3 to the supply path 15C, passes through the humidifier 5, and is supplied by opening the valve 6C. Flow to Road 15D. In the humidifier 5, the hydrogen-containing gas is preferably bubbled into water whose temperature is controlled to a constant value to saturate the water. Next, the hydrogen-containing gas is continuously supplied to the furnace tube 12, and the object to be fired is degreased and fired in the range of room temperature to 1700 ° C, for example.
【0037】この方法では化学平衡を利用しており、水
素濃度、加湿水温、炉心管の温度によって酸素分圧が決
定される。例えば、0.01%水素を、50℃の水に通
して加湿した場合、炉心管の温度が1000℃であると
10- 9 atmであり、1600℃では10- 2 atm
になる。また、1%水素を50℃の水に通して加湿した
場合、炉心管の温度が1000℃であると酸素分圧は1
0- 1 3 atmであり、炉心管の温度が1600℃であ
ると酸素分圧は10- 8 atmである。また、100%
水素を0℃の水に通して加湿した場合は、炉心管の温度
が1000℃であると酸素分圧は10- 1 9 atmとな
り、1600℃であると10 - 1 3 atmとなる。In this method, chemical equilibrium is used, and water is used.
Oxygen partial pressure is determined by element concentration, humidification water temperature, and core tube temperature.
Is determined. For example, pass 0.01% hydrogen through water at 50 ° C.
When the temperature of the furnace tube is 1000 ° C
10-9atm and 10 at 1600 ° C.-2atm
become. In addition, 1% hydrogen was passed through water at 50 ° C. and humidified.
In this case, if the temperature of the core tube is 1000 ° C., the oxygen partial pressure becomes 1
0- 13atm and the core tube temperature is 1600 ° C.
Then the oxygen partial pressure is 10-8atm. Also, 100%
If hydrogen is passed through water at 0 ° C and humidified, the temperature of the furnace tube
Is 1000 ° C., the oxygen partial pressure is 10-1 9atm
At 1600 ° C - 13atm.
【0038】このように、加湿器5中の水の温度を正確
に制御するだけで、焼成炉中の酸素分圧を広範囲で正確
に制御できるという点で、極めて有効である。As described above, it is extremely effective that the oxygen partial pressure in the firing furnace can be accurately controlled over a wide range only by accurately controlling the temperature of the water in the humidifier 5.
【0039】また、焼成炉の昇温時や降温時のように、
焼成炉中の温度が変化するときには、温度変化と共に焼
成炉中の酸素分圧が変化する。この場合には、焼成炉中
の温度変化に応じて加湿器中の水の温度を変化させるこ
とによって、酸素分圧を一定に制御することが、ある程
度可能である。Also, like when the temperature of the firing furnace is raised or lowered,
When the temperature in the firing furnace changes, the oxygen partial pressure in the firing furnace changes with the temperature change. In this case, the oxygen partial pressure can be controlled to a certain degree by changing the temperature of the water in the humidifier according to the temperature change in the firing furnace.
【0040】一層酸素分圧が低い領域Hにおいては、
(iv)水素含有ガス中の酸素分圧を酸素ポンプによっ
て変更して得られた雰囲気を焼成炉中に供給することに
よって、酸素分圧を制御できる。制御可能な温度範囲は
例えば900℃〜1700℃であり、制御可能な酸素分
圧は例えば10- 2 2 〜10- 1 8 atmである。In the region H where the oxygen partial pressure is lower,
(Iv) The oxygen partial pressure can be controlled by supplying the atmosphere obtained by changing the oxygen partial pressure in the hydrogen-containing gas with an oxygen pump into a firing furnace. Controllable temperature range is, for example, 900 ° C. to 1700 ° C., controllable oxygen partial pressure, for example 10 - 2 2-10 - 1 8 is atm.
【0041】この場合には、水素含有ガスを加湿しない
で供給路15C、15Dへと流し、酸素ポンプ7におい
て水素含有ガス中に微量の酸素を添加することができ
る。しかし、酸素ポンプ7において水素含有ガス中から
更に微量の酸素を除去し、従来よりも一層低い圧力の範
囲内で酸素分圧を制御できた。例えば炉心管の温度が1
200℃であるときに、雰囲気中の酸素分圧を、10
- 2 2 atmに精密に制御することができた。In this case, a small amount of oxygen can be added to the hydrogen-containing gas by the oxygen pump 7 by flowing the hydrogen-containing gas to the supply paths 15C and 15D without humidification. However, in the oxygen pump 7, a trace amount of oxygen was further removed from the hydrogen-containing gas, and the oxygen partial pressure could be controlled within a lower pressure range than before. For example, if the temperature of the core tube is 1
When the temperature is 200 ° C., the oxygen partial pressure in the atmosphere is reduced to 10
- it could be precisely controlled to 2 2 atm.
【0042】ここで、本発明に従って、焼成炉10の下
流側の排出路16において、排気ガス中の酸素分圧を測
定する。図1においては、炉心管12の下流側の排出路
16に酸素分圧測定装置13が設けられている。図2に
おいては、炉心管12の上流側と下流側との双方に、そ
れぞれ酸素分圧測定装置9、13が設けられている。Here, according to the present invention, the oxygen partial pressure in the exhaust gas is measured in the discharge path 16 on the downstream side of the firing furnace 10. In FIG. 1, an oxygen partial pressure measuring device 13 is provided in a discharge path 16 on the downstream side of the furnace tube 12. In FIG. 2, oxygen partial pressure measuring devices 9 and 13 are provided on both the upstream side and the downstream side of the furnace core tube 12, respectively.
【0043】例えば焼成炉10中で被焼成体から酸素が
排出されると、この酸素によって酸素分圧測定装置13
における酸素分圧が上昇し、焼成炉10中で被焼成体に
酸素が取り込まれると、酸素分圧測定装置13における
酸素分圧が低下する。このように、酸素分圧測定装置1
3による測定値は、被焼成体と雰囲気との間の酸素の授
受を反映し、変動する。For example, when oxygen is exhausted from the object to be fired in the firing furnace 10, the oxygen is used as the oxygen partial pressure measuring device 13.
When the oxygen partial pressure increases in the firing furnace 10 and oxygen is taken into the object to be fired, the oxygen partial pressure in the oxygen partial pressure measuring device 13 decreases. Thus, the oxygen partial pressure measuring device 1
The value measured by 3 fluctuates, reflecting the transfer of oxygen between the object to be fired and the atmosphere.
【0044】そして、図1、図2に示すように、酸素分
圧測定装置13によって排気ガス中の酸素分圧を測定
し、測定装置13の出力信号を、矢印Aのように、制御
装置17(図1参照)または制御装置18(図2参照)
に送る。Then, as shown in FIGS. 1 and 2, the oxygen partial pressure in the exhaust gas is measured by the oxygen partial pressure measuring device 13, and the output signal of the measuring device 13 is supplied to the control device 17 as shown by the arrow A. (See FIG. 1) or control device 18 (see FIG. 2)
Send to
【0045】制御装置17、18においては、所要の計
算を行い、酸素ポンプ7に対して矢印Cのように制御信
号を送る。これによって、酸素ポンプ7から雰囲気中に
添加する酸素量を決定し、これによって焼成炉から排出
される排気ガス中の酸素分圧を一定にできる。または、
酸素ポンプ7によって雰囲気から除去する酸素量を決定
できる。The control devices 17 and 18 perform necessary calculations and send control signals to the oxygen pump 7 as shown by arrows C. As a result, the amount of oxygen added to the atmosphere from the oxygen pump 7 is determined, whereby the oxygen partial pressure in the exhaust gas discharged from the firing furnace can be kept constant. Or
The amount of oxygen removed from the atmosphere can be determined by the oxygen pump 7.
【0046】また、測定装置13の出力信号に基づい
て、所要の計算を行い、矢印Bのように、焼成炉10内
の温度の制御信号として使用できる。これによって、被
焼成体から雰囲気中に発散する酸素量を制御することが
できる。また、脱脂時の温度スケジュールを微調整する
ことができる。Further, based on the output signal of the measuring device 13, a required calculation can be performed and used as a control signal for the temperature in the firing furnace 10 as shown by an arrow B. This makes it possible to control the amount of oxygen released from the fired body into the atmosphere. Further, the temperature schedule at the time of degreasing can be finely adjusted.
【0047】また、例えば、焼成炉内の雰囲気中の酸素
分圧を一層精密に制御するためには、図2に矢印Dで示
すように、焼成炉10の上流側に設置された酸素分圧測
定装置9の出力信号を制御装置18に送り、制御装置1
8で所要の計算を行い、矢印Eのように、酸素ポンプ7
の制御信号として使用できる。また、矢印Fのように、
焼成炉の温度の制御信号として使用できる。Further, for example, in order to more precisely control the oxygen partial pressure in the atmosphere in the firing furnace, as indicated by an arrow D in FIG. The output signal of the measuring device 9 is sent to the control device 18 and the control device 1
The required calculation is performed at 8 and the oxygen pump 7
Can be used as a control signal. Also, as indicated by arrow F,
It can be used as a control signal for the temperature of the firing furnace.
【0048】この場合には、酸素分圧測定装置9におけ
る酸素分圧の測定値と、酸素分圧測定装置13における
排気ガスの酸素分圧の測定値とを対比し、これによって
焼成炉内における焼成体と雰囲気との間の酸素の授受を
算出し、これに従って酸素ポンプ7の駆動電圧や焼成炉
の温度を制御できる。In this case, the measured value of the oxygen partial pressure in the oxygen partial pressure measuring device 9 and the measured value of the oxygen partial pressure of the exhaust gas in the oxygen partial pressure measuring device 13 are compared with each other. The transfer of oxygen between the fired body and the atmosphere is calculated, and the driving voltage of the oxygen pump 7 and the temperature of the firing furnace can be controlled accordingly.
【0049】ガス分析器で炭化水素、H2 O、CO、C
O2 を分析することによって、クラックの防止、微構造
制御、特性の向上などが可能となる。例えば、多孔質焼
結体を製造する場合、造孔材として多量のセルロースや
カーボンを含有するため、過剰な酸素があると、急激な
脱脂による成形体からの急激な気体の発散によって、ク
ラックが発生することがある。ガス分析値を成形体から
のガス発生速度に換算し、ガス発生速度を遅くすること
によって、脱脂を徐々に行い、それによって脱脂時のク
ラックを防止することができる。Hydrocarbon, H 2 O, CO, C
By analyzing O 2 , cracks can be prevented, microstructure can be controlled, characteristics can be improved, and the like. For example, when manufacturing a porous sintered body, since a large amount of cellulose or carbon is contained as a pore-forming material, if there is excessive oxygen, cracks are generated due to rapid release of gas from the molded body due to rapid degreasing. May occur. By converting the gas analysis value to a gas generation rate from the molded body and reducing the gas generation rate, degreasing is performed gradually, thereby preventing cracks during degreasing.
【0050】また、例えば、脱脂終了時期の検知が可能
で、これを焼成条件に反映させることができる。脱脂過
程、焼成過程に必要な酸素分圧は、それぞれ別に設定し
て供給することが好ましいが、例えば、昇温時にまず脱
脂に必要な酸素分圧を設定し、脱脂が終了するとCOや
CO2 濃度は低下するため、脱脂終了時期を検知でき、
そのタイミングで酸素分圧を焼成に必要な酸素分圧へ変
更してガスを供給することができる。これによって最適
な特性、微構造をもった焼成体を得ることが可能であ
る。Further, for example, it is possible to detect the end time of degreasing, and this can be reflected in the firing conditions. The oxygen partial pressure required for the degreasing step and the baking step is preferably set and supplied separately. For example, first, the oxygen partial pressure required for degreasing is set when the temperature is raised, and when degreasing is completed, CO or CO 2 Since the concentration decreases, the end of degreasing can be detected,
At that timing, the gas can be supplied by changing the oxygen partial pressure to the oxygen partial pressure necessary for firing. This makes it possible to obtain a fired body having optimal characteristics and a microstructure.
【0051】また、例えば、発生する炭化水素、H
2 O、CO、CO2 のガス組成を検知し、組成を一定に
制御するように供給ガスの酸素分圧や焼成炉の温度を制
御することによって、気孔形状などの微構造制御や、焼
成体の電気伝導度、強度などの特性を制御できる。Further, for example, hydrocarbons generated, H
By detecting the gas composition of 2 O, CO, and CO 2 and controlling the oxygen partial pressure of the supply gas and the temperature of the firing furnace so as to keep the composition constant, it is possible to control the microstructure such as the pore shape and the fired body. Properties such as electrical conductivity and strength of the sphere can be controlled.
【0052】また、制御装置17、18からの制御信号
によって、各電磁弁6A、6B、6Cの駆動を制御し、
各ガスの流量を制御することができる。The control signals from the control devices 17 and 18 control the operation of the solenoid valves 6A, 6B and 6C.
The flow rate of each gas can be controlled.
【0053】また、制御装置17、18からの制御信号
によって、加湿器5を制御して水素含有ガスへの水の添
加量を制御できる。The humidifier 5 can be controlled by the control signals from the control devices 17 and 18 to control the amount of water added to the hydrogen-containing gas.
【0054】[0054]
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、焼
成体の特性や微構造を厳密に制御し、あるいは焼成体に
対して特定の特性や微構造を付与するのに適している、
新たな焼成装置を提供できる。As described above, according to the present invention, the characteristics and microstructure of the fired body are strictly controlled, or the fired body is provided with specific characteristics and microstructure. ,
A new firing device can be provided.
【図1】本発明の一実施形態に係る焼成装置の模式的ブ
ロック図である。FIG. 1 is a schematic block diagram of a firing apparatus according to one embodiment of the present invention.
【図2】本発明の他の実施形態に係る焼成装置の模式的
ブロック図である。FIG. 2 is a schematic block diagram of a firing apparatus according to another embodiment of the present invention.
【図3】(i)〜(iv)の各方法によって制御可能な
酸素分圧の範囲と温度範囲との領域を示すグラフであ
る。FIG. 3 is a graph showing a range of an oxygen partial pressure range and a temperature range that can be controlled by each of the methods (i) to (iv).
1 不活性ガス供給源 2 酸素含有ガス供給源
3 水素含有ガス供給源 4 ガス精製器 5 加
湿器 6A、6B、6C 弁 7 酸素ポンプ 8 不活性ガス供給装置 9 上
流側酸素分圧測定装置 10 焼成炉 11 ヒーター 12 炉心管
13 焼成炉の下流側の酸素分圧測定装置 15A、
15B、15C、15D 供給路 16排出路 1
7、18 制御装置 A 酸素分圧測定装置13から
の信号 B、F 焼成炉の温度の制御信号 C、E 酸素ポン
プ7の駆動電圧の制御信号 D 上流側酸素分圧測定
装置9からの信号1 inert gas supply source 2 oxygen-containing gas supply source
Reference Signs List 3 Hydrogen-containing gas supply source 4 Gas purifier 5 Humidifier 6A, 6B, 6C Valve 7 Oxygen pump 8 Inert gas supply device 9 Upstream oxygen partial pressure measurement device 10 Firing furnace 11 Heater 12 Furnace tube
13 Oxygen partial pressure measuring device downstream of the firing furnace 15A,
15B, 15C, 15D Supply path 16 discharge path 1
7, 18 Control device A Signal from oxygen partial pressure measuring device 13 B, F Control signal for firing furnace temperature C, E Control signal for driving voltage of oxygen pump 7 D Signal from upstream oxygen partial pressure measuring device 9
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 重則 愛知県名古屋市瑞穂区須田町2番56号 日 本碍子株式会社内 (72)発明者 村井 真 愛知県名古屋市瑞穂区須田町2番56号 日 本碍子株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Shigenori Ito 2-56, Sudacho, Mizuho-ku, Nagoya, Aichi Prefecture Inside Nihon Insulators Co., Ltd. (72) Inventor Makoto Murai 2-56, Sudacho, Mizuho-ku, Nagoya, Aichi Prefecture No. Japan Insulators Co., Ltd.
Claims (7)
るための焼成炉を備えている焼成装置であって、前記焼
成炉に対して所定の雰囲気を供給するための雰囲気供給
源、前記焼成炉からの排気ガスを分析して所定の情報を
得るためのガス分析器および前記の情報に基づいて前記
焼成炉の稼働条件をフィードバック制御するための制御
機構を備えていることを特徴とする、セラミックスの焼
成装置。1. A firing apparatus comprising a firing furnace for housing and firing a ceramic body to be fired, wherein an atmosphere supply source for supplying a predetermined atmosphere to said firing furnace; A gas analyzer for analyzing exhaust gas from the furnace to obtain predetermined information and a control mechanism for performing feedback control of operating conditions of the firing furnace based on the information, Ceramic firing equipment.
記焼成炉の温度をフィードバック制御するための制御機
構であることを特徴とする、請求項1記載のセラミック
スの焼成装置。2. A ceramic firing apparatus according to claim 1, wherein said control mechanism is a control mechanism for feedback-controlling the temperature of said firing furnace based on said information.
前記焼成炉中への前記雰囲気の流量をフィードバック制
御するための制御機構であることを特徴とする、請求項
1または2記載のセラミックスの焼成装置。3. The control mechanism according to claim 2, wherein:
3. The ceramic firing device according to claim 1, wherein the control device is a control mechanism for feedback-controlling a flow rate of the atmosphere into the firing furnace.
記雰囲気の組成をフィードバック制御するための制御機
構であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一
つの請求項に記載のセラミックスの焼成装置。4. The apparatus according to claim 1, wherein the control mechanism is a control mechanism for performing feedback control of the composition of the atmosphere based on the information. Ceramic firing equipment.
れる排気ガス中の酸素分圧を測定する酸素分圧測定装置
であり、前記焼成装置が、前記焼成炉の上流側に設けら
れている酸素ポンプを備えており、前記酸素分圧測定装
置における前記酸素分圧の測定値に基づいて前記酸素ポ
ンプの駆動電圧または電流をフィードバック制御するこ
とを特徴とする、請求項4記載のセラミックスの焼成装
置。5. The oxygen analyzer according to claim 1, wherein the gas analyzer is an oxygen partial pressure measuring device for measuring an oxygen partial pressure in exhaust gas discharged from the firing furnace, and the firing device is provided on an upstream side of the firing furnace. The ceramics according to claim 4, further comprising an oxygen pump, wherein the driving voltage or the current of the oxygen pump is feedback-controlled based on the measured value of the oxygen partial pressure in the oxygen partial pressure measuring device. Baking equipment.
ガスを前記焼成炉に供給するための水素含有ガス供給源
と、この水素含有ガスに対して水分を添加するための水
分添加装置とを備えており、前記ガス分析器が、前記焼
成炉から排出される排気ガス中の酸素分圧を測定する酸
素分圧測定装置であり、かつ前記酸素分圧測定装置にお
ける前記酸素分圧の測定値に基づいて前記水分添加装置
の駆動をフィードバック制御することを特徴とする、請
求項4記載のセラミックスの焼成装置。6. A hydrogen-containing gas supply source for supplying a hydrogen-containing gas containing hydrogen at a predetermined partial pressure to the calcining furnace, and a water addition for adding water to the hydrogen-containing gas. A gas analyzer, wherein the gas analyzer is an oxygen partial pressure measuring device that measures an oxygen partial pressure in exhaust gas discharged from the firing furnace, and the oxygen partial pressure in the oxygen partial pressure measuring device. 5. The ceramic sintering apparatus according to claim 4, wherein the driving of the water addition apparatus is feedback-controlled based on the measured value.
めの上流側ガス分析器を備えており、前記雰囲気の前記
情報と前記排気ガスの前記情報とを前記制御装置におい
て対比できるように前記制御装置が構成されていること
を特徴とする、請求項1〜6のいずれか一つの請求項に
記載のセラミックスの焼成装置。7. An upstream gas analyzer for analyzing the atmosphere to obtain predetermined information, so that the information of the atmosphere and the information of the exhaust gas can be compared in the control device. The ceramic firing device according to any one of claims 1 to 6, wherein the control device is configured.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP9080449A JPH10274486A (en) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | Burning apparatus for ceramic |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP9080449A JPH10274486A (en) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | Burning apparatus for ceramic |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10274486A true JPH10274486A (en) | 1998-10-13 |
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ID=13718579
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP (1) | JPH10274486A (en) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040601 |